JP2000279869A - 基板の回転塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 角形基板などの非円形の基板においても
塗布液が全面で均一な膜厚を得ることができ、安定した
膜を形成することができる。 【解決手段】 非円形の基板２を保持して回転するター
ンテーブル３と、前記ターンテーブル３で保持された前
記基板２の表面に塗布液を供給する塗布液供給手段と、
前記基板２の外周表面の余分な塗布液を除去するパッド
１０を取り付けた塗布液除去アーム９を設け、前記パッ
ド１０が前記基板２上に任意のタイミングで接触するよ
うに前記塗布液除去アーム９を上下動させることで、前
記基板２の外周表面に供給された余分な塗布液が除去さ
れることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板の回転塗布装
置に関し、特に高速回転させた基板上に均一な薄膜を形
成させるための基板の回転塗布装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体基板のような基板を高速
回転させながら、この基板上に比較的低粘度ないし中粘
度の塗布液を塗布して、基板上に均一な膜厚を形成する
ための回転塗布装置としては、図５に示すようなものが
知られている。ターンテーブル１２は基板１１を保持し
て回転するためのものである。このターンテーブル１２
の上方には塗布液吐出ノズル１４が配置されている。こ
の塗布液吐出ノズル１４は、回転する基板１１に対して
塗布液１３を供給するものである。

【０００３】塗布液１３の飛散を防止するために飛散防
止カップ１６が設けられている。ターンテーブル１２で
保持された基板１１より上方には飛散防止カバー１７が
位置している。この飛散防止カバー１７は、塗布液１３
の飛沫の飛散を防止するものである。メカニズム１５
は、飛散防止カバー１７を支えている。ターンテーブル
１２で保持された基板１１より外側には、排気口１８が
設けられている。この排気口１８は、飛散防止カップ１
６内を排気するための外部装置の排気ファン１９に接続
配管されている。排液口２２は、外部の排液タンク２３
に接続配管されている。この排液口２２は、飛散等によ
る余剰の塗布液を排液するためのものである。

【０００４】このような回転塗布装置によって塗布液を
塗布された基板は、基板の回転による遠心力で塗布液が
基板の表面全体に塗布されるため、基板の端部に設けら
れたアライメントマーク（位置合わせマーク）や外部接
続電極などのような塗布液の塗布を必要としない部分に
も塗布液が塗布されてしまうと共に、塗布液の表面張力
によって基板の端部に塗布液が溜まり、盛り上がって形
成されてしまう。このため、従来では、塗布液の被膜を
溶解する溶解液を拭き取り部材に染み込ませて、拭き取
りを行っている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような基板の回転塗布装置によって塗布液の塗布され
た基板を、溶解液を染み込ませた拭き取り部材を用い
て、人手によって不要な被膜及び被膜液溜まりを拭き取
る方法では、その作業が非能率的で生産性が悪く、しか
も確実かつ良好に被膜を排除することが困難であるとい
う問題がある。また、このような手作業によらずに、基
板を回転させながら、被膜の所定個所に溶解液を吹き付
け、この溶解液により被膜の所定個所を溶解し、この溶
解した被膜を基板の遠心力によって飛散させる方法が特
開平５−１２１３０７号公報に記載されている。

【０００６】しかし、基板が円形の場合には、溶解液に
より被膜の所定個所を溶解し、遠心力によって溶解した
被膜を飛散させる特開平５−１２１３０７号に記載の方
法を使用しても基板の外周部分で膜厚の均一性は保てる
が、基板が角形などの非円形である場合には、基板の外
周部分で膜厚が厚くなる傾向になり、膜厚の均一性が損
なわれることがある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、非円形の基板２を保持して回転するターンテー
ブル３と、前記ターンテーブル３で保持された前記基板
２の表面に塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記基
板２の外側表面の余分な塗布液を除去するために、前記
基板２の外側表面に当接するパッド１０と、前記パッド
１０を先端に取り付け、前記パッド１０が前記基板２上
に任意のタイミングで当接するように上下動する塗布液
除去アーム９とを備え、前記基板２の外周表面に供給さ
れた余分な塗布液が除去される基板の回転塗布装置を提
供するものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板の回転塗
布装置について図面を参照して説明する。図１は本発明
に係る基板の回転塗布装置の一実施例を示す図であり、
（ａ）は密閉蓋体６を外した状態を示す上面図で、
（ｂ）は断面図である。同図において、基板回転塗布装
置回転体部１はいわゆる密閉型の装置であり、角形基板
２をセットするためのターンテーブル３と、このターン
テーブルを回転させるための駆動部４と、基板内を密閉
するリングカップ５と蓋体６とを備えている。

【０００９】駆動部４はモータなどにより回転軸４ａを
高速回転させるものである。図示しない塗布液射出ノズ
ルによって塗布液を予め角形基板２に供給しておき、高
速回転をさせ、均一な膜を基板上に形成するものであ
る。

【００１０】この際、角形基板２などでは、図２に示す
ように、同心円上の外側範囲（図面の斜線部）において
は、膜厚が不均一になる傾向があり、厚膜になっている
ことが多い。これは密閉構造での塗布装置で改善は見ら
れるが、角形基板２などでは改善が少なく、いわゆる風
切りなどによることが原因で所定の膜厚均一性の確保が
困難になっている。

【００１１】そこで、本発明では図３に示すように、角
形基板２の外周付近上部に塗布液除去アーム９が配置さ
れている。

【００１２】この塗布液除去アーム９の先端には基板２
の外周表面に対向するようにパッド１０が配置されてい
る。そして、基板２が回転しているときに、塗布液除去
アーム９を任意のタイミングで下方向に動かし、前述し
たパッド１０が基板２の外周表面に接触して塗布液を拭
き取るようになっている。そして、任意の時間が経過し
た後、塗布液除去アーム９を上方向に動かし、パッド１
０が基板２から離脱するようになっている。この塗布液
除去アーム９はターンテーブル３とは同時に回転しない
が、駆動モータ４に連動して基板２の回転のタイミング
に合わせて任意のタイミングで上下動するように設定す
ることが可能である。

【００１３】また、基板２の回転時には、基板２に付着
した余分な塗布液が遠心力によって飛散し、カップ５の
内側に当たって壁面を伝わり、ターンテーブル３の下部
に配置された塗布液排出口７から排出される構造となっ
ている。これにより、飛散した塗布液の二次的な基板２
への再付着がなくなり、角形基板２の全範囲において均
一な塗布液の膜が確保できる。

【００１４】図４は本発明に係る基板の回転塗布装置の
第二実施例を示す断面図である。同ズによれば、塗布液
除去アーム９の先端が円柱形状を呈しており、この先端
部分の基板２に対向する位置にパッド１０が全周に渡っ
て回転可能に取り付けられており、このため、基板の外
周表面の塗布液残差が改善される。

【００１５】なお、上述したパッド１０は取り外しが容
易であり、必要に応じて交換が可能であり、また、前述
した塗布液除去アーム９を基板２に接触しながら基板回
転の法線方向外側に移動するようにしても同様の効果が
得られる。

【００１６】

【発明の効果】以上、詳述したように、本発明に係る基
板の回転塗布装置によれば、角形基板などにおいても液
体が全面で均一な膜厚を得ることができ、しかも、安定
した膜を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板の回転塗布装置の一実施例を
示す図である。

【図２】本発明に係る基板の回転塗布装置に使用する角
形基板を示す上面図である。

【図３】本発明に係る基板の回転塗布装置の一実施例を
示す要部拡大断面図である。

【図４】本発明に係る基板の回転塗布装置の第二実施例
を示す断面図である。

【図５】従来の基板の回転塗布装置を示す図である。

【符号の説明】

１ 基板回転塗布装置 ２ 角形基板 ３ ターンテーブル ４ 駆動部 ５ リングカップ ６ 蓋体 ７ 塗布液排出口 ９ 塗布液除去アーム １０ パッド

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非円形の基板を保持して回転するターンテ
   ーブルと、 前記ターンテーブルで保持された前記基板の表面に塗布
   液を供給する塗布液供給手段と、 前記基板２の外側表面の余分な塗布液を除去するため
   に、前記基板２の外側表面に当接するパッド１０と、 前記パッド１０を先端に取り付け、前記パッド１０が前
   記基板２上に任意のタイミングで当接するように上下動
   する塗布液除去アーム９とを備え、 前記基板２の外周表面に供給された余分な塗布液が除去
   される基板の回転塗布装置。