JP2000280367A - マイクロレンズの製造装置及び製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 マイクロレンズの製造において、従来行われ
ていたマスク形成、マスク除去、洗浄処理などを不要に
することによって製造時の工数を低減し、また、効率的
な製造方法を実現できる装置構成によって、生産性を向
上させるとともに製造コストを低減する。 【解決手段】 最初に基板２０に予め表面処理を施し
（表面処理工程ａ）、次に、基板２０の表面２０ａ上に
吐出ヘッド２１によって未硬化樹脂からなる液滴２２を
滴下させる（液滴付着工程ｂ）。このとき、基板２０の
表面２０ａ上には、表面２０ａに対する未硬化樹脂の濡
れ性や未硬化樹脂の表面張力によって凸曲面状に盛り上
がるように形成された表面を備えた液滴２２が付着す
る。そして、基板２０の表面２０ａ上に配列された液滴
２２を硬化させ、マイクロレンズ２３を形成する（樹脂
硬化工程ｃ）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はマイクロレンズの製
造装置及び製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、マイクロレンズアレイの製造方
法としては、特開昭６２−９６３２４号公報に開示され
ているように、ガラスや多孔質シリカなどからなる透明
基板の表面をマスクで被覆し、マスクに微小開口を設け
て、この微小開口から基板の屈折率を変えるためのイオ
ンなどを拡散させる第１の方法がある。

【０００３】また、上記方法とは別に基板のエッチング
処理を用いる図１０に示す第２の方法も用いられてい
る。まず、図１０（ａ）に示すように、透明基板１０の
表面上にマスク１１を被着した後にマスク１１に微小開
口１１ａを形成し、フッ酸などのエッチング液によって
半球状の凹部１０ａを形成する。次に、図１０（ｂ）に
示すようにマスク１１を除去する。そして、図１０
（ｃ）に示すように透明接着剤１２を介して透明基板１
３を基板１０に接着する。このとき、凹部１０ａには透
明接着剤１２が充填され、透明接着剤１２と透明基板１
０の屈折率の差によって光学面１０２を備えたマイクロ
レンズアレイが形成される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の方法においては、いずれもマスク形成工程、マス
ク除去工程、洗浄工程などが必要となる上に、第１の方
法においては透明基板にマスクを形成した後にイオンな
どを拡散させて屈折率を部分的に変えているため、上記
の第２の方法においてもエッチングによって光学面を形
成するために、工程管理が難しく製造コストの低減が困
難であるという問題点がある。

【０００５】また、いずれの方法においても拡散やエッ
チングに対するプロセス制御が困難であるため、プロセ
スの対象となる透明基板の材質が限定されてしまい、安
価な基板材料を用いることが難しいという問題点もあ
る。

【０００６】さらに、第１の方法では基板内へのイオン
拡散などを実施するため、また、第２の方法では基板を
エッチングする必要があるために、いずれも厚い基板を
用いなければならないことから、やはり製造コストの低
減が困難であるという問題点がある。

【０００７】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、マイクロレンズの製造において、
従来行われていたマスク形成、マスク除去、洗浄処理な
どを不要にすることによって製造時の工数を低減し、ま
た、効率的な製造方法を実現できる装置構成によって、
生産性を向上させるとともに製造コストを低減すること
にある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のマイクロレンズの製造装置は、未硬化樹脂の
液滴を基板上に付着させ、付着した前記樹脂を硬化させ
ることによりマイクロレンズを形成するための、少なく
とも前記液滴を前記基板上に付着させるマイクロレンズ
の製造装置であって、前記液滴を下方に向けて吐出可能
な吐出ヘッドと、該吐出ヘッドの下方に対向配置された
基板支持体と、前記基板支持体を略水平な第１方向に移
動可能に構成するとともに該第１方向に沿った複数の位
置に位置決め可能に構成する第１移動手段と、前記吐出
ヘッドを前記第１方向と交差する略水平な第２方向に移
動可能に構成するとともに該第２方向に沿った複数の位
置に位置決め可能に構成する第２移動手段とを備えてい
ることを特徴とする。

【０００９】この発明によれば、基板支持体上の基板を
第１移動手段によって第１方向に移動させ、位置決めす
ることができ、また、吐出ヘッドを第２移動手段によっ
て第２方向に移動させ、位置決めすることができること
により、未硬化樹脂の液滴を基板上の任意の複数の位置
に効率的に付着させることが可能になるから、当該液滴
を硬化させることによってマイクロレンズを容易に製造
することができる。特に、従来方法よりも、工程数が大
幅に削減でき、生産効率も高く、しかも基板に対する制
約が少ないため、著しい製造コストの低減や生産性の向
上を図ることができる。

【００１０】上記発明において、前記基板支持体上への
前記基板の給排位置が前記第２移動手段により規定され
る前記吐出ヘッドの移動経路の下方位置から外れた場所
に設定されていることが好ましい。

【００１１】この発明によれば、基板の給排位置が第２
移動手段による吐出ヘッドの移動経路の下方位置から外
れた場所に設定されていることにより、吐出ヘッドの動
作と基板の給排操作とを相互に独立して（並行して）行
うことが可能になるため、一方の動作によって他方の動
作が制約を受けることが少なくなり、効率的に処理を行
うことが可能になる。

【００１２】上記各発明において、前記吐出ヘッドは、
供給された前記樹脂を収容する樹脂収容部と、該樹脂収
容部に連通した吐出ノズルと、その変形により前記樹脂
収容部の容積を変化させて前記吐出ノズルを介して前記
液滴を吐出させるピエゾ素子とを備えていることが望ま
しい。

【００１３】この発明によれば、ピエゾ素子の変形によ
って樹脂収容部の容積を変化させて未硬化樹脂の液滴を
吐出させるように構成されているため、微量な未硬化樹
脂を精度よく吐出させることができ、微細なマイクロレ
ンズを高精度に形成することが可能になる。また、連続
的に、或いは、同時並行して多数の液滴を吐出すること
ができるため、生産性を向上させることができる。

【００１４】上記各発明において、前記吐出ヘッドから
吐出される前記液滴の重量を測定するための重量測定手
段を備えていることが好ましい。

【００１５】この発明によれば、吐出ヘッドから吐出さ
れる液滴の重量を測定することによって液滴の重量を精
度良く制御することが可能になる。例えば、液滴の重量
測定値に基づいて吐出ヘッドの吐出条件を制御すること
によって、吐出ヘッドの吐出量の精度を高めることがで
きる。

【００１６】この発明において、前記重量測定手段は、
前記第２移動手段により規定される前記吐出ヘッドの移
動経路の下方位置であって、前記第１移動手段により規
定される前記基板支持体の移動経路から外れた位置に設
けられていることが望ましい。

【００１７】この発明によれば、重量測定手段は第２移
動手段による吐出ヘッドの移動経路の下方であって、第
１移動手段による基板支持体の移動経路から外れた位置
に設けられていることにより、基板の動作とは独立に吐
出ヘッドの吐出量の重量測定を行うことができるため、
重量測定が必要になる時点において随時、基板の処理状
況に拘わらずに重量測定を行うことができるため、生産
効率の低下を抑制しつつ、重量測定を適宜に実施して高
精度な液滴の付着処理を実施することができる。

【００１８】上記各発明において、前記吐出ヘッドを保
守するためのヘッド保守手段を備えていることが好まし
い。

【００１９】この発明によれば、吐出ヘッドを保守する
ヘッド保守手段を設けることによって吐出ヘッドの保
守、例えば、吐出ヘッドのクリーニングや状態の維持な
どを適宜に実施できる。特に、微細な吐出ノズルを備え
た吐出ヘッドの場合、吐出ヘッドの保守によって、吐出
精度を低下させずに、しかも安定した動作を確保するこ
とができる。

【００２０】この発明において、前記ヘッド保守手段
は、前記第２移動手段により規定される前記吐出ヘッド
の移動経路の下方位置であって、前記第１移動手段によ
り規定される前記基板支持体の移動経路から外れた位置
に設けられていることが望ましい。

【００２１】この発明によれば、第２移動手段による前
記吐出ヘッドの移動経路の下方位置であって、前記第１
移動手段による前記基板支持体の移動経路から外れた位
置にヘッド保守手段が設けられていることにより、基板
の動作とは独立に吐出ヘッドの保守作業を行うことがで
きるため、保守作業が必要になる時点において随時、基
板の処理状況に拘わらずに重量測定を行うことができる
ため、生産効率の低下を抑制しつつ、保守作業によって
吐出ヘッドの精度を維持し、故障を低減することができ
るため、高精度な液滴の付着処理を確実に実施すること
ができる。

【００２２】上記各発明において、前記吐出ヘッドを上
下方向に移動可能に構成するとともに上下方向の複数の
位置に位置決め可能に構成する第３移動手段を備えてい
ることが好ましい。

【００２３】この発明によれば、吐出ヘッドを上下方向
の複数の位置に位置決めする第３移動手段を設けること
により、吐出ヘッドと基板表面との間の距離を調整する
ことが可能になるため、液滴の落下距離を調整して液滴
の基板表面に対する着弾状態を変化させることができ
る。したがって、より精密な液滴の付着形状の制御が可
能になり、高精度なマイクロレンズを形成できる。

【００２４】上記各発明において、前記基板上に前記液
滴を所定間隔及び所定配列で付着させるように、前記第
１移動手段及び前記第２移動手段により位置決めしなが
ら前記吐出ヘッドを動作させる制御手段を備えているこ
とが好ましい。

【００２５】この発明によれば、制御手段によって多数
の液滴を所望の間隔及び配列で付着させることができる
ようになるため、種々のマイクロレンズ構造の製造に柔
軟に対処することが可能になる。

【００２６】上記各発明において、前記基板上の必要領
域のみに前記液滴を付着させるように、前記第１移動手
段及び前記第２移動手段により位置決めしながら前記吐
出ヘッドを動作させる制御手段を備えていることが好ま
しい。

【００２７】この発明によれば、制御手段により基板上
の必要領域のみに液滴を付着させることが可能になるた
め、無駄な液滴の付着を行なわずに済み、効率的にマイ
クロレンズの製造を行うことができる。

【００２８】上記各発明においては、上記の基板支持
体、吐出ヘッドの少なくとも一方を、直交する３つの回
転軸の少なくともいずれか一つの周りに回転可能に構成
するとともに複数の回転位置に位置決め可能に構成する
回転移動手段を設けることにより、さらに液滴の付着処
理における基板の位置決め、吐出方向の最適化などを図
ることができる。

【００２９】次に、本発明のマイクロレンズの製造方法
は、未硬化樹脂の液滴を基板上に付着させ、付着した前
記樹脂を硬化させることによりマイクロレンズを形成す
るマイクロレンズの製造方法であって、前記基板の表面
上に前記未硬化樹脂に対する濡れ性を調整する表面処理
を施す表面処理工程と、該表面処理を施した前記基板上
に複数の前記液滴を順次若しくは同時に滴下して付着さ
せる樹脂付着工程と、前記基板上に付着した前記液滴を
硬化させる樹脂硬化工程とを備えていることを特徴とす
る。

【００３０】この発明によれば、事前に基板の表面上に
未硬化樹脂に対する濡れ性を調整する表面処理を施すこ
とによって、液滴と基板表面との濡れ性をより自由に設
定することが可能になるので、基板材料や未硬化樹脂の
素材特性によって受ける制約を低減し、より良好なマイ
クロレンズを製造できる。ここで、表面処理としては、
単に基板表面の表面粗さ、表面自体の活性度合、イオン
その他の活性種、親水基その他の官能基の付着などに留
まらず、未硬化樹脂に対する濡れ性において基板材質と
は異なる特性を有する層を形成する場合も含まれる。

【００３１】上記各発明において、前記表面処理工程に
おいては、前記基板の表面上において前記液滴の付着領
域と、該付着領域間に配置される境界領域とを設定し、
前記境界領域の前記未硬化樹脂に対する濡れ性が前記付
着領域の前記未硬化樹脂に対する濡れ性よりも低下した
状態になるように、前記付着領域と前記境界領域の少な
くとも一方に前記表面処理を施すことが好ましい。

【００３２】この発明によれば、液滴の付着領域の間に
境界領域を設定し、付着領域と境界領域の少なくとも一
方に表面処理を施すことにより、境界領域の濡れ性が付
着領域の濡れ性よりも低下した状態になるようにするこ
とにより、液滴が境界領域に付着しにくくなるため、液
滴の位置ずれや隣接する液滴間の合体などの不良の発生
を抑制することができる。ここで、表面処理工程として
は、境界領域のみに濡れ性を低下させる表面処理を施す
場合と、付着領域のみに濡れ性を向上させる処理を施す
場合が含まれる。

【００３３】

【発明の実施の形態】次に、本発明に係るマイクロレン
ズの製造装置及び製造方法の実施形態について詳細に説
明する。

【００３４】［基本工程］図１は本実施形態の製造装置
を用いるマイクロレンズの製造工程における基本的な工
程手順を示す概略工程説明図である。本実施形態では図
１（ａ）に示すように、ガラス基板、プラスチック基
板、半導体基板などからなる基板２０の表面２０ａに予
め表面処理を施す（表面処理工程）。次に、図１（ｂ）
に示すように、基板２０の表面２０ａ上に吐出ヘッド２
１によって未硬化樹脂からなる液滴２２を一つずつ若し
くは複数滴ずつ、順次に若しくは同時に滴下させる（液
滴付着工程）。このとき、基板２０の表面２０ａ上に
は、表面２０ａに対する未硬化樹脂の濡れ性や未硬化樹
脂の表面張力によって凸曲面状に盛り上がるように形成
された表面を備えた液滴２２が付着する。そして、図１
（ｃ）に示すように、基板２０の表面２０ａ上に配列さ
れた液滴２２を硬化させ、マイクロレンズ２３を形成す
る（樹脂硬化工程）。この場合、液滴２２の硬化処理と
しては、樹脂が熱硬化性樹脂であれば加熱を行い、樹脂
が紫外線硬化型などの光硬化性樹脂であれば光照射を行
う。

【００３５】上記工程において、図１（ａ）に示す表面
処理工程としては、基板２０の表面２０ａの濡れ性自体
を変える処理を行ってもよく、また、基板２０の表面２
０ａ上に、未硬化樹脂に対する適度な濡れ性を有する素
材からなる薄膜を形成してもよい。例えば、濡れ性を向
上させる表面処理としては、オゾンガス、酸素ガス、各
種イオン及びプラズマなどの種々の活性種を表面２０ａ
に接触させる方法がある。この中で、製造上最も簡易で
コスト低減を図ることができる方法として大気圧下にお
いて行う放電によって生じたプラズマや活性ガスを表面
２０ａに曝す大気圧プラズマ法が最も好ましい。また、
上記の薄膜としては、透明な各種樹脂を予めコーティン
グすればよい。薄膜素材としての樹脂は液滴として付着
させる未硬化樹脂に対する濡れ性を考慮して選定され
る。

【００３６】なお、上記表面処理工程は必ずしも必要な
工程ではない。例えば、基板２０の素材自体と未硬化樹
脂との濡れ性及び未硬化樹脂の表面張力のみによって所
望の凸曲面が得られるのであれば、基板２０の表面２０
ａを処理する必要はないからである。

【００３７】上記の液滴として付着させる樹脂及び予め
基板２０上にコーティングする樹脂としては、シリコー
ン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイ
ミド樹脂など、種々の透光性を有する樹脂を用いること
ができる。また、この製造方法の場合、基板と液滴の樹
脂がほぼ同じ素材であっても構わない。

【００３８】［製造装置］次に、図２乃至図６を参照し
て本発明に係るマイクロレンズの製造装置の実施形態に
ついて説明する。図２は本装置の全体構造を示す概略斜
視図である。なお、以下の説明においては図２の左上に
示すＸ、Ｙ、Ｚの直交座標系を方位指標として用いる。
本装置には、架台３０の支持盤３１上において前後方向
（Ｙ軸方向）に伸びるように構成された第１移動手段で
あるＹ軸移動機構４０と、支持盤３１に対して左右一対
の支柱３２を介して上方に設置され、左右方向（Ｘ軸方
向）に伸びるように構成された第２移動手段であるＸ軸
移動機構５０と、Ｘ軸移動機構５０によって左右方向に
移動可能に構成された吐出機構６０とが設けられてい
る。

【００３９】架台３０の内部には、支持盤３１上におい
て上記Ｘ軸移動機構５０の右側には重量測定手段である
電子天秤３３が設置され、また、Ｘ軸移動機構５０の左
側には吐出ヘッドの保守手段であるヘッド保守ユニット
３４が設置されている。支持盤３１の上方に設置された
上記構造は全体を安全カバー３５によって覆われてお
り、左右前後から適宜に作業者が安全カバー３５を部分
的に開閉できるように構成されている。架台３０の側方
には装置全体を管理する制御装置の一部を構成するコン
ピュータ３６、モニタ３６ａ、キーボード３６ｂが設置
されている。

【００４０】図３は上記装置構成における支持盤３１上
の主要構造をより詳細に示すものである。Ｙ軸移動機構
４０は、Ｙ軸方向に２本のガイドレールを備えたリニア
ガイド４１と、リニアガイド４１上に移動自在に構成さ
れたスライダ４２とを備えている。リニアガイド４１及
びスライダ４２には例えばリニアモータ構造を設け、こ
れによってＹ軸方向にスライダ４２を移動させ、任意の
位置において停止させ、位置決めすることができるよう
に構成される。

【００４１】スライダ４２には図示点線で示す回転機構
４３が搭載され、この回転機構４３上に支持体４４が固
定されている。回転機構４３は内部にθ角調整モータを
含み、スライダ４２に対する支持体４４の鉛直線周りの
回転角度を任意に調整できるように構成されている。支
持体４４上には基板支持板４５が取り付けられている。
基板支持板４５には表面に真空吸着用の小さな開口が設
けられ、この開口は支持体４４内に形成された吸引経路
を介して図示しない排気装置に接続されている。このた
め、基板支持板４５の表面上に基板２０を吸着保持でき
るように構成されている。支持体４４には、基板支持板
４５の一側部（図示の場合にはＹ軸方向奥側、すなわ
ち、支持体４４の後端部）にＸ軸方向に延長した形状の
捨て打ち板４６が取り付けられている。この捨て打ち板
４６は、吐出機構６０の後述する吐出ヘッドが液滴を捨
て打ち或いは試し打ちするための捨て打ちエリアを構成
するものである。捨て打ちエリアは、図示のように、吐
出機構６０の移動方向であるＸ軸方向に沿って形成され
ていることが好ましい。

【００４２】Ｙ軸移動機構４０は、基板を吸着保持する
基板支持板４５を、後述するＸ軸移動機構５０により移
動する吐出機構６０の移動経路から外れた位置に配置で
きるように構成されている。そして、吐出機構６０の移
動経路から外れた位置の一つに基板給排位置が設定され
ている。本実施形態では、Ｙ軸移動機構４０による基板
支持板４５の移動経路の最前端（図３において基板支持
板４５が配置されている部分）に基板給排位置が設定さ
れている。この基板給排位置においては、処理の完了し
た基板２０が基板支持板４５上から除去されるととも
に、処理を行うための新たな基板２０が基板支持板４５
上に載置される。基板の受け渡し作業は人手により行わ
れてもよいが、本実施形態では後述するように図示しな
い基板給排機構（例えばスカラー型ロボット）によって
自動的に行うことができるように構成されている。

【００４３】Ｘ軸移動機構５０においては、図２に示す
一対の支柱３２の上部に接続固定されたコラム５１が図
３に示すようにＹ軸移動機構４０の上方においてその移
動経路に対して交差するようにＸ軸方向に伸びている。
コラム５１にはリニアガイド５２がＸ軸方向に伸びるよ
うに取付固定されている。リニアガイド５２にはスライ
ダ５３がＸ軸方向に移動自在に取り付けられ、スライダ
５３はリニアガイド５２とスライダ５３に構成されたリ
ニアモータ構造によってＸ軸方向に移動し、任意の位置
で停止し、位置決めできるように構成されている。

【００４４】スライダ５３には吐出機構６０のヘッド調
整部６１が取り付けられ、このヘッド調整部６１に吐出
容器６２が取り付けられ、吐出容器６２の下部に吐出ヘ
ッド６３が装着されている。ヘッド調整部６１には上下
駆動用の小形モータ（Ｚ軸モータ）、Ｚ軸周りの回転用
の小形モータ（α角モータ）、Ｘ軸周りの回転用の小形
モータ（β角モータ）、Ｙ軸周りの回転用の小形モータ
（γ角モータ）の計４つの小形モータが搭載されてい
る。これらの小形モータと、それぞれＺ軸方向の上下動
作、Ｚ軸周りの回動動作、Ｘ軸周りの回動動作、Ｙ軸周
りの回動動作を可能にする案内機構とによって、吐出容
器６２は上下方向に移動できるとともに、Ｘ，Ｙ，Ｚ軸
周りにそれぞれ回動（揺動）できるように構成される。
吐出容器６２には未硬化樹脂が収容されている。吐出ヘ
ッド６３は吐出容器６２内に収容されている未硬化樹脂
をインクジェット方式により液滴として吐出するように
構成されている。

【００４５】なお、スライダ５３には上記ヘッド調整部
６１の側方位置に観察用カメラ６４が固定されており、
基板２０上の画像を取得し、吐出ヘッド６３の吐出位置
を定めるために使用される。また、Ｙ軸移動機構４０の
右側手前位置にはアライメント用カメラ４７が支持体４
４の上方から基板支持板４５上の基板２０を撮影できる
ように設置されている。このアライメント用カメラ４７
は基板２０のアライメントマークなどを撮影して基板２
０を位置決めするために用いられる。

【００４６】Ｘ軸移動機構５０による吐出ヘッド６０の
移動経路の直下位置であって、Ｙ軸移動機構４０の移動
経路から外れ、その右側側方の位置には、支持盤３１上
に電子天秤３３が固定されている。電子天秤３３は、上
部に受け容器３３ａを搭載し、図示点線で示すように配
置された吐出ヘッド６３から吐出される液滴を受け容器
３３ａにて受け、液滴の重量を測定できるように構成さ
れている。すなわち、吐出ヘッド６３から吐出される液
滴一滴分の重量を測定するために、受け容器３３ａ内に
例えば２０００滴分の液滴を吐出ヘッド６３から受け、
その２０００滴分の未硬化樹脂の重量を測定した後、コ
ンピュータ３６において一滴当たりの重量を算出するよ
うになっている。そして、この一滴当たりの算出重量値
に基づいて吐出ヘッド６３から吐出する未硬化樹脂の液
滴の量を最適値になるように、後述するヘッド駆動回路
を制御することによって精度良く液滴を基板２０上に付
着させることができるようになっている。

【００４７】また、Ｘ軸移動機構５０による吐出ヘッド
６０の移動経路の直下位置であって、Ｙ軸移動機構４０
の移動経路から外れた、その左側側方の位置には、ヘッ
ド保守手段であるヘッド保守ユニット３４が配置されて
いる。このヘッド保守ユニット３４は、吐出ヘッド６３
の後述する吐出ノズルなどを、液滴の付着工程中や待機
時に定期的に或いは随時にクリーニングすることができ
るように構成されたクリーニング部３４ａと、図示点線
で示すように吐出ヘッド６３の待機時に吐出ノズルが乾
かないようにするために、吐出ノズルの形成されたヘッ
ド表面にキャップをかぶせるキャッピング部３４ｂとを
有する。

【００４８】次に、本装置の制御系統の構成について図
４を参照して説明する。図２に示すコンピュータ３６は
架台３０における支持盤３１の下方位置に収容された制
御盤３８に接続されている。制御盤３８はＹ軸移動機構
４０のリニアモータ及び回転機構４３のθ角調整モータ
を制御駆動し、また、Ｘ軸移動機構５０のリニアモータ
を制御駆動するようになっている。また、制御盤３８は
ヘッド調整部６１内に設けられたＺ軸モータ、α角モー
タ、β角モータ、γ角モータの４つの小形モータにも接
続され、これらをそれぞれ制御駆動するように構成され
ている。

【００４９】吐出ヘッド６３は制御盤３８に接続された
ヘッド駆動回路３９から駆動信号を受け、適宜のタイミ
ングで液滴を吐出するように構成されている。吐出ヘッ
ド６３の構造の一部を拡大して示すものが図５（ａ）で
ある。吐出ヘッド６３にはヘッド表面に複数の吐出ノズ
ル９１が形成され、各吐出ノズル９１毎に樹脂収容部９
２が設けられ、この樹脂収容部９２における吐出ノズル
９１の反対側の壁面は可撓性を有する薄膜９３により構
成されている。樹脂収容部９２は吐出容器６２に接続さ
れた液供給路９４に繋がっている。また、薄膜９３の樹
脂収容部９２に臨む部分の外面にはピエゾ素子９５が接
着されている。

【００５０】上記ヘッド駆動回路３９から送出された駆
動信号は図５（ｂ）に示すようになっている。ここで、
電圧Ｖｈはピエゾ素子９５に対する最大印加電圧であ
り、周期Ｔは連続して吐出動作を行う場合の駆動信号の
周期である。印加電圧が基準電圧Ｖ０であるときに、駆
動信号による電圧を上昇させる電圧立ち上げ時には、
ピエゾ素子９５の変形によって樹脂収容部９２はやや拡
張し、液供給路９４から樹脂が樹脂収容部９２に引き込
まれる。次に、印加電圧を急激に低下させる電圧急降下
時には、ピエゾ素子９５が急激に変形して（例えば印
加電圧によって変形していた状態から初期状態に戻っ
て）樹脂収容部９２の容積を低下させるので、樹脂収容
部９２内に収容されている樹脂は吐出ノズル９１から急
激に押し出される。しかる後に、電圧を再び基準電圧Ｖ
０まで上昇させる電圧復帰時には、樹脂収容部９２の
容積が増大して樹脂の吐出が停止される。このような動
作サイクルを繰り返すことによって、吐出ヘッド６３の
各吐出ノズル９１からは微小な液滴が吐出される。液滴
の容積は最小５ナノリットル程度にまで精度良く制御で
きるため、液滴の樹脂量を直径数十μｍ程度のマイクロ
レンズを形成するに充分な量に制限することができる。
また、複数の液滴を同一箇所に吐出させて一つのマイク
ロレンズに対応する液滴を形成してもよい。液滴の吐出
量は上記最大印加電圧Ｖｈ、基準電圧Ｖ０、周期Ｔなど
によって制御することが可能である。

【００５１】再び図４を参照して本装置の制御系統の構
成を説明する。上記の吐出容器６２には温度計６２ａ及
び粘度計６２ｂが取り付けられ、これらの温度計６２ａ
及び粘度計６２ｂはそれぞれ吐出容器６２内の未硬化樹
脂の温度及び粘度を樹脂管理コントローラ６５に出力す
る。樹脂管理コントローラ６５は出力される温度及び粘
度に関する樹脂情報をコンピュータ３６に送る。コンピ
ュータ３６は樹脂管理コントローラ６５から受けた樹脂
情報に基づいて適宜の制御信号をヘッド駆動回路３９に
送り、ヘッド駆動回路３９は上記の樹脂の温度及び粘度
に応じた最適な条件で吐出ヘッド６３を駆動する駆動信
号を出力する。

【００５２】なお、図３に示す電子天秤３３は後述する
液滴の重量計測時において液滴の重量データをコンピュ
ータ３６に送出し、コンピュータ３６は測定条件に応じ
た計算を実行し、液滴の重量を算出する。また、コンピ
ュータ３６には基板給排機構７０もまた接続されてい
る。この基板給排機構７０は、例えば装置前方に配置さ
れた給排ロボットであり、コンピュータ３６からの指令
に基づいて、基板２０に対する処理が完了して基板２０
を排出する必要が生じたり、新規の基板２０を供給する
必要が生じた場合であって、図３に示す基板支持板４５
が基板給排位置に来たときに、基板２０を基板支持板４
５上から排除したり新たな基板２０を基板支持板４５上
に載せたりする。

【００５３】図６は本装置の標準的な基板２０の処理手
順を示す概略フローチャートである。基板２０として
は、アルカリガラス、石英、その他の各種ガラス類、或
いは、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂などの各種
プラスチックなどからなる透明基板、太陽電池構造やＣ
ＣＤ（電荷結合デバイス）などを作り込んだシリコンウ
エハなどの半導体基板、フォトダイオードなどの受光素
子や発光ダイオードなどの発光素子を実装したプリント
回路基板などが挙げられる。基板２０は予めカセットや
マガジンなどの基板格納部に収容されている。コンピュ
ータ３６内に格納された制御プログラムを起動し、スタ
ート入力を行うか、或いは既に基板支持板４５上に載置
された基板２０に対する処理が完了するなど、所定の開
始条件が成立すると、コンピュータ３６は上記の基板給
排機構７０（基板給排ロボット）に指令を出し、基板支
持板４５上に処理済みの基板２０があるときには基板２
０の排除動作を実行した後、基板支持板４５上に基板２
０がない場合には直接に、新たな基板２０を上記基板格
納部から取り出し、基板支持板４５上に配置する（ＳＴ
１）。

【００５４】次に、基板支持板４５上に載置された基板
２０に対して、図３に示す支持体４４に取り付けられた
一対の位置決めピン４４ａに基板２０の後端部（Ｙ軸の
正方向の端部）が突き当たるまで基板給排機構７０によ
り移動されることによって、基板２０が位置決めされる
（ＳＴ２）。その後、基板支持板４５は基板２０の存在
を確認すると基板２０を吸着保持する。

【００５５】次に、基板支持板４５上に保持された基板
２０の姿勢を正規のもの（例えば、基板２０の後端部が
Ｙ軸と直交する姿勢、或いは、基板２０の側端部（Ｙ軸
に沿った端部）がＹ軸と平行になる姿勢など）になるよ
うに、アライメント用カメラ４７を用いて基板のアライ
メントを行う（ＳＴ３）。

【００５６】さらに、コンピュータ３６は、アライメン
ト用カメラ４７による画像情報や観察カメラ６４からの
画像情報などに基づいて、未硬化樹脂の液滴を付着させ
る基板２０上の開始位置を計算する（ＳＴ４）。

【００５７】一方、上記のようにＳＴ１からＳＴ４まで
が行われている間に、吐出ヘッド６３は上記電子天秤３
３の受け容器３３ａの直上位置まで移動して停止する
（ＳＴ１１）。次に、吐出回数、吐出時の吐出ヘッドの
駆動条件、吐出ヘッドの吐出ノズルの識別データなどの
測定パラメータのロードを行い（ＳＴ１２）、指定され
た吐出ノズルを選択し（ＳＴ１３）、電子天秤３３のカ
ウンタをクリア（初期化）する（ＳＴ１４）。このよう
にして、測定準備ができると、指定された吐出ノズルに
おいて液滴の吐出動作を複数回（例えば２０００回）連
続して行い（ＳＴ１５）、電子天秤３３にて受け容器３
３ａ内に溜まった未硬化樹脂の重量を測定する（ＳＴ１
６）。そして、この測定重量はコンピュータ３６に転送
され、コンピュータ３６内にて液滴一滴当たりの重量値
が算出される（ＳＴ１７）。最後に、測定対象となって
いる全ての吐出ノズルについて測定が行われているか否
かを確認し（ＳＴ１８）、他に測定対象の吐出ノズルが
ある場合には上記の測定手順が繰り返し実施される。全
ての測定対象に対する測定が完了すると、基板２０に対
する液滴の付着作業が開始される。

【００５８】上記の準備が終了すると、吐出機構６０は
基板２０上の吐出動作の開始位置に移動し（ＳＴ５）、
吐出ヘッド６３を駆動し、基板２０上に液滴を吐出す
る。このとき、複数の吐出ノズルを同時に動作させても
よい。吐出が完了すると、次に、Ｙ軸移動機構４０は基
板２０をＹ軸方向に送り、Ｘ軸移動機構５０は吐出ヘッ
ド６３をＹ軸方向に送りながら、基板２０の表面上の必
要部分に全て液滴を付着させていく（ＳＴ６）。Ｙ軸移
動機構４０及びＸ軸移動機構５０の送り手順は、例えば
Ｙ軸移動機構４０によって基板２０を所定のＹ軸方向の
位置に固定した状態で、Ｘ軸移動機構５０によって吐出
ヘッド６３をＸ軸方向にステップ送りしながらＸ軸方向
の複数箇所に液滴を吐出し、Ｘ軸方向の全ての所望箇所
に液滴が付着してから、Ｙ軸移動機構４０により１ステ
ップ送り、再びＸ軸方向の複数箇所に液滴を吐出し、と
いう動作を繰り返し行う。ここで、Ｘ軸移動機構５０と
Ｙ軸移動機構４０の送り関係を逆に構成してもよい。さ
らに、上記のような送り動作に限定されるものではな
く、いずれにしても、Ｙ軸移動機構４０により送られＹ
軸方向の所定位置での位置決めが行われ、また、Ｘ軸移
動機構５０により送られＸ軸方向の所定位置での位置決
めが行われることによって、基板２０の所定の平面上の
位置にて吐出ヘッド６３から液滴が吐出されればよい。
このようにして、未硬化樹脂の液滴は基板２０の表面上
に次々と落下し、付着する。

【００５９】基板２０の表面上の予め定められた液滴の
付着予定位置に全て液滴を付着させたことを確認すると
（ＳＴ７）、Ｙ軸移動機構４０によって基板２０は基板
給排位置に移動され、基板支持板４５上に吸着保持され
ていた基板２０の吸着が解除され、上記の基板給排機構
７０によって基板支持板４５上から排除される（ＳＴ
８）。

【００６０】上記装置においては、Ｘ軸移動機構５０に
よる吐出機構６０の移動経路はＹ軸移動機構４０による
基板２０の移動経路と交差しているため、基板２０の表
面上の任意の位置に吐出ヘッド６３から液滴を吐出さ
せ、付着させることができる。また、基板２０の動きと
は無関係に、Ｘ軸移動機構５０によって吐出機構６０を
単独で移動させることができ、しかも、Ｘ軸移動機構５
０による吐出機構６０の移動経路上であって、基板２０
の移動経路から外れた位置に重量測定手段である電子天
秤３３、ヘッド保守ユニット３４が配置されているの
で、液滴の付着工程の途中であっても随時に吐出ヘッド
６３の吐出重量の測定、クリーニング、キャッピングな
どを行うことができる。また、基板２０の給排位置は、
Ｙ軸移動機構４０による移動経路上であって、Ｘ軸移動
機構５０による吐出機構６０の移動経路から外れた位置
に設定されているので、吐出機構６０の状態如何に拘わ
らず、適宜に、しかもスムーズ且つ容易に基板の受け渡
し（給排）を行うことができる。

【００６１】なお、上記の基板２０上への液滴の付着工
程が完了すると、例えば加熱炉や光照射部に基板２０を
そのまま移動させ、液滴を硬化させる樹脂硬化工程に進
む。この場合、基板２０は液滴の付着状態や付着位置に
影響を与えないように略水平にした状態で移動させる必
要がある。そのため、樹脂硬化工程を上記の装置内、特
に、基板支持板４５上に吸着保持したままの状態で行う
ことが好ましい。例えば、上述のようにＹ軸移動機構４
０による基板の移動経路の前端部を基板給排位置に設定
している場合であれば、当該移動経路の後端部（当然の
ことながら、Ｘ軸移動機構５０による吐出機構６０の移
動経路から外れた位置である。）に加熱炉や光照射部を
設け、Ｙ軸移動機構４０の移動動作のみにて樹脂硬化工
程に移行することができるように構成することが好まし
い。

【００６２】次に、図７を参照して、基板２０上に付着
した未硬化樹脂の液滴２２及び当該液滴２２が硬化され
てなるマイクロレンズ２３の形状について説明する。基
板２０上の液滴２２の付着形状としては、図７（ａ）に
示すように、基板２０に対する接触角θと、液滴２２の
外径Ｄａと、液滴２２の高さ（厚さ）Ｈａとによってほ
ぼ把握することができる。これらの接触角θ、外径Ｄａ
及び高さＨａは、未硬化樹脂の重量、表面張力、比重、
基板２０の表面に対する濡れ性などによって決定され
る。また、吐出ノズルから吐出された液滴が基板２０に
対して付着形状の復元ができない程度に強い衝撃を以て
着弾する場合には、液滴の基板２０に対する衝突速度に
よっても上記の付着形状が変化する。この衝突速度は、
吐出ヘッド６３から吐出されたときの液滴２２の初速、
吐出ヘッド６３と基板２０の表面との距離などに影響さ
れる。したがって、上記のすべての要素について設定を
行うことによって、液滴２２の付着形状を制御すること
ができる。

【００６３】一方、液滴２２の付着形状はマイクロレン
ズ２３の形状、特に光学面の形状をそのまま表すもので
は必ずしもない。図７（ｂ）に示すように、液滴２２を
構成する未硬化樹脂の特性によって、硬化後のマイクロ
レンズ２３の形状は液滴２２の付着形状に対して変化す
る。多くの場合、硬化処理によって液滴２２の付着形状
は収縮し、マイクロレンズ２３の外径Ｄｂ及び高さＨｂ
は共に外径Ｄａ及び高さＨａよりもそれぞれ若干小さな
値になる。また、マイクロレンズ２３の外縁部と基板２
０の表面との角度φもまた、上記接触角θよりも大きく
なる場合がある。

【００６４】したがって、上記のように液滴２２の付着
形状に影響する複数の条件について、それぞれ硬化前後
の形状変化（ＤａとＤｂ、ＨａとＨｂ、θとφ）を考慮
して設定することによって、マイクロレンズ２３の形状
を制御することができる。

【００６５】次に、図８を参照して、上記製造装置によ
って液晶パネル用の透明基板２００上にマイクロレンズ
を形成する場合について説明する。図８に示す透明基板
２００には、液晶パネルを形成するためのパネル領域２
００ａが多数含まれている。この透明基板２００の各パ
ネル領域２００ａは、それぞれ液晶パネルのパネル基板
の一方を構成するようになっている。各パネル領域２０
０ａの中には、液晶パネルの駆動表示領域（画素が構成
される領域）に対応する表示面領域２００ｂが存在す
る。この表示面領域２００ｂにおいては、液晶パネルの
画素毎に対応させてマイクロレンズを形成することによ
って、液晶パネルの画素の開口部に光を集光させ、液晶
パネルの開口率を実質的に向上させることができる。一
方、表示面領域２００ｂの外側に広がる周囲領域２００
ｃにおいては、液晶パネルの駆動表示領域の外側に配置
されることとなるため、マイクロレンズを形成しても無
意味である。このため、図８に示すように、表示面領域
２００ｂの内側にのみ上記のように液滴を付着させ、硬
化させてマイクロレンズを形成する。ここで、マイクロ
レンズを形成するために液滴を付着させた表示面領域２
００ｂの部分を図に斜線を施して示す。

【００６６】上記のように液滴を透明基板２００の表面
上に選択的に付着させる場合、上記の製造装置では、予
め液滴の吐出位置をコンピュータ３６に記憶させてお
き、上記の周囲領域２００ｃには液滴を付着させず、表
示面領域２００ｂのみに液滴を付着させるようにするこ
とができる。したがって、効率的に液滴の付着作業を行
うことができる。なお、図８においては、基板２００の
図示上方から順次下方に向けて液滴を付着させていく途
中の状態を示してある。

【００６７】最後に、図９を参照して、ガラスなどから
なる透明基板２１０の表面上に液滴を付着させる場合の
基板２１０の表面処理の実施形態の一つについて説明す
る。この実施形態では、未硬化樹脂の液滴を付着させる
前に、透明基板２１０の表面上に図示右上に伸びる点線
で示した境界領域２１０ｂには表面処理を施さず、付着
領域２１０ａのみに未硬化樹脂に対する濡れ性を向上さ
せる表面処理を施したものである。境界領域２１０ｂ
は、透明基板２１０の表面のうち、液滴を付着させるた
めの付着領域２１０ａを設定したとき、この付着領域２
１０ａの間に液滴間隔を保持するために設定されたもの
である。境界領域２１０ｂを設定したのは、隣接する液
滴が互いに接触すると双方の液滴は合体してしまい、所
望の形状のマイクロレンズが得られないからである。

【００６８】上記付着領域２１０ａのみに施す表面処理
は、例えば、概略以下の手順にて実施される。まず、透
明基板２１０の表面上に感光性レジストを塗布し、露光
処理及び現像処理を行うことにより、レジストの表面上
の境界領域２１０ｂ上を覆う部分を残し、付着領域２１
０ａ上のみからレジストを除去する。次に、透明基板２
１０を大気圧プラズマ装置のチャンバー内に投入し、例
えば酸素ガスと不活性ガスの混合ガスを放電によって活
性化させた後に基板表面に流す。このようにすることに
よって、レジストに覆われず露出された付着領域２１０
ａの表面の濡れ性が向上し、同時に、シリコーン樹脂、
ポリイミド樹脂などの未硬化樹脂に対する濡れ性も向上
させることができる。最後に、透明基板２１０の表面上
から残ったレジスト層を剥離若しくは除去する。

【００６９】このようにして付着領域２１０ａのみに表
面処理を施した透明基板２１０の表面上に、上記製造装
置によって未硬化樹脂の液滴を付着させる。このとき、
液滴が上記の付着領域２１０ａに付着するように吐出さ
せる。この場合、液滴の着弾位置が付着領域２１０ａに
対して若干ずれていても、境界領域２１０ｂの表面は比
較的濡れ性が悪いために液滴は表面処理の施されていな
い付着領域２１０ａに付着する。また、隣接する液滴の
着弾位置が当初の設定よりも接近していても、間に境界
領域２１０ｂが形成されていることによって液滴が隣接
する液滴に接触することが抑制されるので、隣接する液
滴と合体して所望形状のマイクロレンズが得られないと
いう不良が発生することを防止できる。

【００７０】なお、上記実施形態では、未硬化樹脂に対
する濡れ性の悪い基板に対して付着領域２１０ａのみに
濡れ性を向上させる表面処理を施したが、逆に、未硬化
樹脂に対する濡れ性の良好な基板に対して、境界領域２
１０ｂのみに未硬化樹脂に対する濡れ性を低下させる表
面処理を施してもよい。

【００７１】尚、本発明のマイクロレンズの製造装置及
び製造方法は、上述の図示例にのみ限定されるものでは
なく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変
更を加え得ることは勿論である。

【００７２】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、基
板支持体上の基板を第１移動手段によって第１方向に移
動させ、位置決めすることができ、また、吐出ヘッドを
第２移動手段によって第２方向に移動させ、位置決めす
ることができることにより、未硬化樹脂の液滴を基板上
の任意の複数の位置に効率的に付着させることが可能に
なるから、当該液滴を硬化させることによってマイクロ
レンズを容易に製造することができる。特に、従来方法
よりも、工程数が大幅に削減でき、生産効率も高く、し
かも基板に対する制約が少ないため、著しい製造コスト
の低減や生産性の向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係るマイクロレンズの製造方法の一
実施形態の基本的手順を模式的に示す工程説明図（ａ）
〜（ｃ）である。

【図２】 本発明に係るマイクロレンズの製造装置の実
施形態の全体構成を示す概略斜視図である。

【図３】 同実施形態の製造装置の主要部分を示す概略
斜視図である。

【図４】 同実施形態の製造装置の制御系統の概略構成
を示す構成ブロック図である。

【図５】 同実施形態の製造装置の吐出ヘッドの部分構
造を示す断面斜視図（ａ）及び吐出ヘッドの駆動信号と
動作状態との関係を示す説明図（ｂ）である。

【図６】 同実施形態の製造装置の動作手順の概略を示
す概略フローチャートである。

【図７】 同実施形態において基板上に付着した液滴の
形状を模式的に示す拡大説明図（ａ）及び硬化後のマイ
クロレンズの形状を模式的に示す拡大説明図（ｂ）であ
る。

【図８】 本発明に係るマイクロレンズの製造方法の別
の実施形態において液晶パネル用の透明基板上に液滴を
付着させた状態を示す概略平面図である。

【図９】 本発明に係るマイクロレンズの製造方法のさ
らに別の実施形態における透明基板の表面の一部を拡大
して示す拡大部分平面図である。

【図１０】 従来のマイクロレンズアレイの製造方法の
一例を示す概略工程説明図（ａ）〜（ｃ）である。

【符号の説明】

２０ 基板 ２１ 吐出ヘッド ２２ 液滴 ２３ マイクロレンズ ３０ 架台 ３１ 支持盤 ３２ 支柱 ３３ 電子天秤 ３４ ヘッド保守ユニット ３５ 安全カバー ３６ コンピュータ ４０ Ｙ軸移動機構 ４１ リニアガイド ４２ スライダ ４３ 回転機構 ４４ 支持体 ４５ 基板支持板 ４６ 捨て打ち板 ４７ アライメント用カメラ ５０ Ｘ軸移動機構 ５１ コラム ５２ リニアガイド ５３ スライダ ６０ 吐出機構 ６１ ヘッド調整部 ６２ 吐出容器 ６３ 吐出ヘッド ６４ 観察用カメラ ７０ 基板給排機構 ９１ 吐出ノズル ９２ 樹脂収容部 ９３ 樹脂供給路 ９４ 薄膜 ９５ ピエゾ素子 ２００，２１０ 透明基板 ２００ａ パネル領域 ２００ｂ 表示面領域 ２００ｃ 周囲領域 ２１０ａ 付着領域 ２１０ｂ 境界領域

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 未硬化樹脂の液滴を基板上に付着させ、
   付着した前記樹脂を硬化させることによりマイクロレン
   ズを形成するための、少なくとも前記液滴を前記基板上
   に付着させるマイクロレンズの製造装置であって、 前記液滴を下方に向けて吐出可能な吐出ヘッドと、 該吐出ヘッドの下方に対向配置された基板支持体と、 前記基板支持体を略水平な第１方向に移動可能に構成す
   るとともに該第１方向に沿った複数の位置に位置決め可
   能に構成する第１移動手段と、 前記吐出ヘッドを前記第１方向と交差する略水平な第２
   方向に移動可能に構成するとともに該第２方向に沿った
   複数の位置に位置決め可能に構成する第２移動手段とを
   備えていることを特徴とするマイクロレンズの製造装
   置。
2. 【請求項２】 請求項１において、前記基板支持体上へ
   の前記基板の給排位置が前記第２移動手段により規定さ
   れる前記吐出ヘッドの移動経路の下方位置から外れた場
   所に設定されていることを特徴とするマイクロレンズの
   製造装置。
3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２において、前記吐
   出ヘッドは、供給された前記樹脂を収容する樹脂収容部
   と、該樹脂収容部に連通した吐出ノズルと、その変形に
   より前記樹脂収容部の容積を変化させて前記吐出ノズル
   を介して前記液滴を吐出させるピエゾ素子とを備えてい
   ることを特徴とするマイクロレンズの製造装置。
4. 【請求項４】 請求項１から請求項３までのいずれか１
   項において、前記吐出ヘッドから吐出される前記液滴の
   重量を測定するための重量測定手段を備えていることを
   特徴とするマイクロレンズの製造装置。
5. 【請求項５】 請求項４において、前記重量測定手段
   は、前記第２移動手段により規定される前記吐出ヘッド
   の移動経路の下方位置であって、前記第１移動手段によ
   り規定される前記基板支持体の移動経路から外れた位置
   に設けられていることを特徴とするマイクロレンズの製
   造装置。
6. 【請求項６】 請求項１から請求項４までのいずれか１
   項において、前記吐出ヘッドを保守するためのヘッド保
   守手段を備えていることを特徴とするマイクロレンズの
   製造装置。
7. 【請求項７】 請求項６において、前記ヘッド保守手段
   は、前記第２移動手段により規定される前記吐出ヘッド
   の移動経路の下方位置であって、前記第１移動手段によ
   り規定される前記基板支持体の移動経路から外れた位置
   に設けられていることを特徴とするマイクロレンズの製
   造装置。
8. 【請求項８】 請求項１から請求項７までのいずれか１
   項において、前記吐出ヘッドを上下方向に移動可能に構
   成するとともに上下方向の複数の位置に位置決め可能に
   構成する第３移動手段を備えていることを特徴とするマ
   イクロレンズの製造装置。
9. 【請求項９】 請求項１から請求項８までのいずれか１
   項において、前記基板上に前記液滴を所定間隔及び所定
   配列で付着させるように、前記第１移動手段及び前記第
   ２移動手段により位置決めしながら前記吐出ヘッドを動
   作させる制御手段を備えていることを特徴とするマイク
   ロレンズの製造装置。
10. 【請求項１０】 請求項１から請求項９までのいずれか
    １項において、前記基板上の必要領域のみに前記液滴を
    付着させるように、前記第１移動手段及び前記第２移動
    手段により位置決めしながら前記吐出ヘッドを動作させ
    る制御手段を備えていることを特徴とするマイクロレン
    ズの製造装置。
11. 【請求項１１】 未硬化樹脂の液滴を基板上に付着さ
    せ、付着した前記樹脂を硬化させることによりマイクロ
    レンズを形成するマイクロレンズの製造方法であって、 前記基板の表面上に前記未硬化樹脂に対する濡れ性を調
    整する表面処理を施す表面処理工程と、 該表面処理を施した前記基板上に複数の前記液滴を順次
    若しくは同時に滴下して付着させる樹脂付着工程と、 前記基板上に付着した前記液滴を硬化させる樹脂硬化工
    程とを備えていることを特徴とするマイクロレンズの製
    造方法。
12. 【請求項１２】 請求項１１において、前記表面処理工
    程においては、前記基板の表面上において前記液滴の付
    着領域と、該付着領域間に配置される境界領域とを設定
    し、前記境界領域の前記未硬化樹脂に対する濡れ性が前
    記付着領域の前記未硬化樹脂に対する濡れ性よりも低下
    した状態になるように、前記付着領域と前記境界領域の
    少なくとも一方に前記表面処理を施すことを特徴とする
    マイクロレンズの製造方法。