JP2000281470A - セラミックスの表面改質剤 - Google Patents

セラミックスの表面改質剤

Info

Publication number
JP2000281470A
JP2000281470A JP9477599A JP9477599A JP2000281470A JP 2000281470 A JP2000281470 A JP 2000281470A JP 9477599 A JP9477599 A JP 9477599A JP 9477599 A JP9477599 A JP 9477599A JP 2000281470 A JP2000281470 A JP 2000281470A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etching
solution
ceramics
oxidizing agent
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9477599A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000281470A5 (ja
Inventor
Hiromitsu Fujii
博満 藤井
Katsuhiro Nakamura
克弘 中村
Takehiko Namekata
武彦 行方
Shin Yokouchi
伸 横内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Proterial Ltd
Original Assignee
Sumitomo Special Metals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Special Metals Co Ltd filed Critical Sumitomo Special Metals Co Ltd
Priority to JP9477599A priority Critical patent/JP2000281470A/ja
Priority to CN99801212A priority patent/CN1114901C/zh
Priority to KR10-2000-7003049A priority patent/KR100369872B1/ko
Priority to US09/508,639 priority patent/US6411464B1/en
Priority to TW088112525A priority patent/TW520490B/zh
Priority to EP99931503A priority patent/EP1018110A1/en
Priority to PCT/JP1999/003945 priority patent/WO2000005711A1/en
Priority to MYPI99003114A priority patent/MY121366A/en
Priority to IDW20000544D priority patent/ID30074A/id
Publication of JP2000281470A publication Critical patent/JP2000281470A/ja
Publication of JP2000281470A5 publication Critical patent/JP2000281470A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/53After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone involving the removal of at least part of the materials of the treated article, e.g. etching, drying of hardened concrete
    • C04B41/5338Etching
    • C04B41/5353Wet etching, e.g. with etchants dissolved in organic solvents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 セラミックス並びにセラミックスの複合材料
に施す表面改質のために選定したエッチング液の化学反
応速度を適正にでき、安定したエッチングを実現してエ
ネルギー資源の使用量の増大を抑制できる組成からなる
セラミックスの表面改質剤の提供。 【解決手段】 表面改質の目的に応じて選定される酸化
剤を含む溶液、酸化剤と酸を含む溶液、酸化剤とアルカ
リを含む溶液、酸化剤と酸とアルカリを含む溶液などか
らなるエッチング液とキレート試薬との溶液からなり、
エッチング時に発生する陽イオンをキレート試薬にて溶
液中に捕捉させてエッチングを行うことにより、目的の
表面改質の効率を向上させ、当該改質の種々制御を可能
にする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、各種のセラミッ
クスに対して表面改質を行うためのエッチング液の改良
に関し、所要のセラミックスに対する特定の表面改質の
ために選定したエッチング液にキレート試薬を所定量含
有させることにより、目的の表面改質の効率を向上さ
せ、当該改質の種々制御を可能にしたセラミックスの表
面改質剤とその表面改質方法に関する。
【0002】
【従来の技術】セラミックスには、圧電変換子用の所謂
PZTおよび複合PZT磁器、ZnO系磁器(Li・Na)(Nb・Ta)O3
系磁器、マイクロ波用誘電体磁器、電磁変換器用の所謂
(Mn・Ni)Znフェライト等スピネル磁器、ガーネット型フ
ェライト磁器、ZrO2等を主体とする酸化物半導体磁器、
各種素子を担持し保護等の機能をする構造材磁器、熱電
変換用磁器、燃料電池セパレータ用磁器等々の広汎な材
料が知られている。
【0003】上記の金属酸化物、窒化物、炭化物の材料単体
だけでなく、これらセラミックスとガラスおよび/又は
他の金属材、樹脂材との複合形態も知られており、極め
て広範囲の目的や用途に用いられている。
【0004】かかるセラミックス並びにセラミックスの複合
材料には、目的とする機能を果たすため、あるいはその
機能の向上を目的に種々の改良が施される。例えば、セ
ラミックスに対する電気信号の入出力に関しては、電極
付け性の向上であり、外力に対する密着強度等の向上で
ある。
【0005】また、電波又は赤外線の入力に関してみれば、
反射損失の低減であり、気体と電解質中のイオン・電子
の交換に関すれば交換効率の増大であり、セラミックス
とセラミックスもしくは他の材料の複合構築に関すれば
固着強度の向上であり、水分を含む化学物質との吸着を
含む化学反応に関すれば表面積の増大であり、他の材料
・部品との接触摺動に関すれば摺動特性の向上などと、
目的とする用途や機能の数だけその改良点がある。
【0006】これら目的に対して種々の解決策が既に採られ
ているが、そうした対策のうちで共通する解決策の1つ
としてセラミックスの表面改質という方法があり、表面
改質の一方法として、表面形状に注目した表面粗化とい
う方法、例えば化学薬品を用いてセラミックスの表面を
食刻するエッチング技術がある。
【0007】このエッチング技術を用いて表面粗化が実施さ
れると、電極付けに関すればアンカー効果が働いて電極
の密着強度の向上が計られ、電磁波の反射損失に関すれ
ば乱反射および黒体化効果が働いて吸収率の向上が計ら
れ、荷電粒子の交換効率に関すれば比表面積が増大する
ことによって効率の向上を図ることが可能である。
【0008】積層などの複合構築における固着強度に関すれ
ば、ガラス、接着剤、ろう剤等固着剤を用いる場合は固
着剤が材料表面と接する面積が増大することによって強
度の向上が得られ、あるいは固着剤を用いない一方材の
部分溶着の場合は他方材の面積が増大することによって
強度の向上を図ることが可能である。
【0009】さらに、化学反応に関すれば化学反応はあくま
で化学物質とセラミックスの界面で進行するため表面積
が増大することによって反応の進行度合の増大が図ら
れ、摺動特性に関すれば接触する2材料間の接触面積の
低減と気体流路の十分な確保によって摺動特性の向上、
摩擦抵抗の減少を図ることが可能である。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記エッチング技術
は、対象とするセラミックス材料とその改質目的に応じ
て、種々の酸および/又は種々のアルカリおよび/又は種
々の酸化剤等を選択、含有する種々の組成からなるエッ
チング液を用いる。
【0011】このセラミックスのエッチングにおいては、金
属とは異なり、エッチング能率、換言すればセラミック
ス材料とエッチング液の化学反応速度が小さかったり、
他の要因で反応のバラツキを生じて制御が不安定になる
場合があり、これら諸問題を解決するために、溶液の処
理温度を上げたり、溶液濃度を大きくしたり、溶液組成
を厳しく管理したり、あるいは撹拌、揺動に工夫を凝ら
すなどの多くの対策が採られてきた。
【0012】しかし、これらの対策は、エッチング装置を複
雑化し、作業や工程の管理を複雑化し、さらには薬液お
よびエネルギー資源の使用量の増大をもたらすことにな
り、種々の環境に対する問題となっている。
【0013】この発明は、前述したセラミックス並びにセラ
ミックスの複合材料に施す表面改質方法の改良を目的と
し、目的の表面改質のために選定したエッチング液の化
学反応速度を適正にでき、安定したエッチングを実現し
てエネルギー資源の使用量の増大を抑制できる組成から
なるセラミックスの表面改質剤の提供を目的としてい
る。
【0014】
【課題を解決するための手段】発明者は、エッチングと
はセラミックスと各薬液の単純な反応でなく、いくつか
の並列反応からなっていることに着目し、有効な反応だ
け進行させ、不要であったり逆効果であったり系を乱す
ような反応を極力抑えることが、エッチングという化学
反応の速度を大きくし、反応のバラツキを減少させ安定
させることに不可欠であると考え、エッチング液の組成
について種々検討した結果、所要のセラミックスに対す
る特定の表面改質のために選定したエッチング液にキレ
ート試薬を所定量含有させ、エッチング時に発生する陽
イオンをキレート試薬にて溶液中に捕捉させてエッチン
グを行うことにより、目的の表面改質の効率を向上さ
せ、当該改質の種々制御が可能であることを知見し、こ
の発明を完成した。
【0015】すなわち、この発明は、表面改質の目的に応じ
て選定される酸化剤を含む溶液、酸化剤と酸を含む溶
液、酸化剤とアルカリを含む溶液、酸化剤と酸とアルカ
リを含む溶液などからなるエッチング液とキレート試薬
との溶液からなるセラミックスの表面改質剤を提案する
ものである。
【0016】
【発明の実施の形態】セラミックスとは、構成元素であ
る金属の酸化物又は窒化物あるいは炭化物又はこれらの
複合物であり、これらが水に溶けると仮定すれば、金属
は陽イオン(M n+と略す)であり、酸素、窒素、炭素はそ
れぞれ単独又は複合して陰イオンとなる。
【0017】一般的なエッチングとしてセラミックスと酸が
反応すると、酸の塩基とセラミックスの陽イオンが対イ
オンとなり、溶解限界まで分散溶解する。一方、この対
イオンは反応して塩を作るが、この際必ず、前記塩が元
のイオンに分解する逆反応が並行して進行する(以下、
これを(1)正逆並行反応という)。
【0018】また、前記塩の生成量が溶解度を超えた場合、
沈殿を生じる(以下、これを(2)沈殿という)。さらに反
応に供与されるべき表面を乱すことになる(以下、これ
を(3)表面荒れという)。セラミックスの酸素、窒素、炭
素は酸のH+と反応して可溶物を生成する。こうしたエッ
チングでは、前記の(1)正逆並行反応、(2)沈殿、(3)表
面荒れが不要であったり、逆効果であったり、当該反応
系を乱すような反応である。
【0019】セラミックスにアルカリを反応させると、アル
カリも溶液中では陽イオンになっているため反応は酸の
場合ほど進行せず、反応速度は遅い(以下、これを(4)低
反応速度という)。しかし、セラミックスの陽イオンと
アルカリの水酸イオンOH-が反応してM(OH)nなる両性化
合物を生成する場合がある。この場合は往々にして溶解
度が小さく沈殿を生じ(以下、これを(5)沈殿という)、
さらには反応に供与されるべき表面を乱すことになる
(以下、これを(6)表面荒れという)。この場合、もとも
と(4)低反応速度であり、(5)沈殿、(6)表面荒れが不要
であったり、逆効果であったり、当該反応系を乱すよう
な反応となる。
【0020】セラミックスに作用させる酸および/又はアル
カリに、酸化物を併用すると、酸化剤はセラミックス中
の金属原子の陽イオン化を促進する。金属原子の陽イオ
ン化を促進されたセラミックスと酸および/又はアルカ
リの反応は、酸化剤を使用しない場合と同様に、(1)〜
(6)の反応が起こる。
【0021】上記の(1)正逆並行反応、(2)沈殿、(4)低反応
速度、(5)沈殿の現象は、いずれもセラミックスから陽
イオンが生成することと関係がある。すなわち陽イオン
が生成し増えるため不要であったり、逆効果であった
り、当該反応系を乱すような反応を引き起こすことにな
る。また上記の(3)(6)表面荒れは各々(2)(5)沈殿の現象
が大きくなって引き起こされるものであるから、(2)(5)
沈殿の現象を解決すればよいことになる。
【0022】発明者は、増え続ける陽イオンはどうしたら減
らせるか、あるいは減少させたと同じ効果を持たせるこ
とが可能であるかを考え、エッチング液がセラミックス
に作用してセラミックスの表面でセラミックスの金属元
素をイオン化し、陽イオンが生成すると同時に陽イオン
を錯イオンに形成させて溶液中で安定化し、セラミック
スの表面を常に反応に供与することが不可欠であること
を知見した。
【0023】しかし、錯イオン形成のための所謂錯化剤で
は、溶液中の金属イオンだけでなくセラミックス表面の
金属原子とも錯を形成してしまい、逆にセラミックスの
表面から反応に供与させるべき表面を減じてしまう結果
となる。
【0024】そこで、発明者は、溶液中でのみ安定な錯イオ
ンの形成について種々検討の結果、セラミックスの表面
でイオン化された金属原子をキレートして安定化させる
ことが必要不可欠である、すなわち、エッチング液とキ
レート試薬をセラミックスに同時に作用させると、セラ
ミックスの表面でイオン化された金属原子がキレート試
薬という分子内で捕捉されて安定化、一種の錯イオン化
することを知見した。
【0025】この発明による表面改質剤において、キレート
試薬は、セラミックス表面から生成される陽イオンを常
に溶液中に安定化させているため、セラミックス表面は
常にエッチング液に作用されてエッチングされることに
なる。すなわち、エッチングの有効な反応だけが進行し
て化学反応の速度は大きく保たれた状態となる。
【0026】セラミックス表面に作用させたエッチング液が
消費されるまで、又はセラミックス表面から生成される
陽イオンとエッチング液中の塩基が化学量論的に等モル
になるまでエッチング反応が進むものとすれば、キレー
ト試薬はこの反応の進行中は常に陽イオンを捕捉して溶
液中で安定化させることになり、化学反応のバラツキを
抑制し、表面改質の制御を安定化させることになる。
【0027】よって、キレート試薬の量Q1は、エッチング液
中の塩基と化学量論的に等モルなセラミックス表面から
生成される陽イオンの量Q2と同モル量、Q1/Q2=1が適当
である。
【0028】しかし、Q1/Q2<1であっても、上述の作用が減
少するだけであって、Q1=0の場合よりも上記効果が発揮
されることに変わりなく、一方Q1/Q2>1の場合は、前記
化学反応の速度はさらに大きくなるため、いずれの場合
もこの発明の表面改質方法に適している。
【0029】尚、発明者らの実験によれば、エッチング液と
エッチング液中の酸化剤、酸、アルカリなどの薬品との
比は、薬品量/エッチング液=1×10-2〜1(重量比)、ま
た、キレート試薬とエッチング液との比は、キレート試
薬量/エッチング液=1×10- 5〜1×10-1(モル濃度M) の
範囲で選定することが好ましいことを確認した。
【0030】この発明によるエッチング液とキレート試薬か
らなる表面改質剤は、必要以上に処理温度を上げたり、
濃度を大きくしたりする必要はなく、薬液組成を適正に
管理するだけでよく、揺動や撹拌も適度の操作でよい。
【0031】この発明によるエッチング液に使用する薬品と
しては、例えば酸化剤としては過酸化水素(H2O2)、酸に
は酢酸(CH3COOH)、蟻酸(HCOOH)、硫酸(H2SO4)など、ア
ルカリにはアンモニア(NH3)、炭酸ソーダ(Na2CO3)、炭
酸カリウム(K2CO3)などが採用でき、他に公知のエッチ
ング用酸、アルカリ液を適宜組み合せて利用することが
できる。
【0032】この発明において、キレート試薬としては、対
象とするセラミックスの組成や表面改質の所要目的、表
面改質の状況と程度、使用するエッチング液および条件
等を種々勘案して、さまざまの化学物質の中から適宜選
定される。一例として、金属原子をキレート形成する薬
品には次のようなものがある。
【0033】アセチルアセトン、エチレンジアミン四酢酸(E
DTA)およびアルカリ金属塩、2,2',2"-テルピリジン、ネ
オトリン、ニトロソフェニルヒドロキシルアミンNH4
(クペロン)、ジエチルジチオカルバミン酸およびアルカ
リ金属塩、トリン(トロンとも呼ぶ)、4,7-ジフェニル-
1,10-フェナントロリン(バソフェナントロリン)、ビス
ムチオール(2)(但しローマ数字)、1,10-フェナントロリ
ン、ベリロン(2)(但しローマ数字)、オキシン、ニトリ
ロ三酢酸(NTA)およびアルカリ金属塩、1,2-ジアミノシ
クロヘキサン四酢酸(CyDTA)およびアルカリ金属塩、N-
オキシエチルエチレンジアミン三酢酸(HEDTA)およびア
ルカリ金属塩、エチレングリコールビス(β-アミノエチ
ルエーテル)四酢酸(GEDTA)およびアルカリ金属塩、エチ
レンジアミン四プロピオン酸(EDTP)およびアルカリ金属
【0034】
【実施例】実施例1 表1に示す鏡面仕上げ研磨を施したセラミックスに、表1
に示すエッチング液と表2に示すキレート試薬とからな
る表面改質剤を用いて、温度50℃で3分間保持する表面
改質を施した。表面改質の程度を評価するため、表面改
質処理前後における中心線平均粗さRa(nm)を測定し、表
1に示す。
【0035】中心線平均粗さRa(nm)は、摺動面表面の状態を
AFM(原子間力顕微鏡、Nano Scope3 デジタルインスツル
メント社製)を用いて調べ、その結果得られる粗さ曲線
からその中心線の方向に測定長さLの部分を抜取り、こ
の抜取り部分の中心線をX軸、その縦倍率の方向をY軸と
し、粗さ曲線を下記のy=f(x)の関数で表す。
【0036】
【数1】
【0037】比較例1 また、比較のために、キレート試薬を含まない以外は実
施例1同様に処理した場合のRa(nm)を測定し、表1に示
す。
【0038】但し、表1中に付した○印は表面改質処理前
を、●は比較例を表す。エッチング液は、各種薬品を含
む水溶液であり、構成される薬品を( )内に示した純度
100%換算の組成比で調整した。キレート試薬もまた、使
用した薬品およびエッチング液基準の組成比を( )内に
示した。
【0039】尚、表2に示すキレート試薬において、略した
表示は以下のとおりである。NTA(ニトリロ三酢酸)、ビ
スムチオール(2)(但しローマ数字) (C8H5KN2S3)、クペ
ロン(ニトロソフェニルヒドロキシルアミンNH4塩、EDTP
(エチレンジアミン四プロピオン酸Na塩)、EDTA(エチレ
ンジアミン四酢酸Na塩)
【0040】
【表1】
【0041】
【表2】
【0042】
【発明の効果】この発明は、前記の表1及び表2より、エ
ッチング液のみによる表面改質程度、すなわち比較例の
Raに対して、キレート試薬を含むこの発明による表面改
質剤の場合はRaが大幅に向上していることが明らかであ
【0043】すなわちこの発明は、表面改質のために選定し
たエッチング液にキレート試薬を所定量含有させ、エッ
チング時に発生する陽イオンをキレート試薬にて溶液中
に捕捉させてエッチングを行うことにより、目的の表面
改質の効率を向上させ、当該改質の種々制御を可能にし
たもので、実施例に示すセラミックス以外のあらゆるセ
ラミックスに対して有効であり、表面改質の目的に応じ
て選定するあらゆるエッチング液に対しても、適宜キレ
ート試薬を選定することが可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 行方 武彦 大阪府三島郡島本町江川2丁目15番17号 住友特殊金属株式会社山崎製作所内 (72)発明者 横内 伸 大阪府三島郡島本町江川2丁目15番17号 住友特殊金属株式会社山崎製作所内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エッチング液とキレート試薬との溶液か
    らなるセラミックスの表面改質剤。
  2. 【請求項2】 請求項1において、エッチング液が酸化剤
    を含む溶液からなるセラミックスの表面改質剤。
  3. 【請求項3】 請求項1において、エッチング液が酸化剤
    と酸を含む溶液からなるセラミックスの表面改質剤。
  4. 【請求項4】 請求項1において、エッチング液が酸化剤
    とアルカリを含む溶液からなるセラミックスの表面改質
    剤。
  5. 【請求項5】 請求項1において、エッチング液が酸化剤
    と酸とアルカリを含む溶液からなるセラミックスの表面
    改質剤。
JP9477599A 1997-04-01 1999-04-01 セラミックスの表面改質剤 Withdrawn JP2000281470A (ja)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9477599A JP2000281470A (ja) 1999-04-01 1999-04-01 セラミックスの表面改質剤
CN99801212A CN1114901C (zh) 1998-07-24 1999-07-23 磁头及其制造方法
KR10-2000-7003049A KR100369872B1 (ko) 1998-07-24 1999-07-23 자기 헤드와 그 제조 방법
US09/508,639 US6411464B1 (en) 1997-04-01 1999-07-23 Magnetic head including sliding member having bearing surface formed of protrusions with almost flat tips
TW088112525A TW520490B (en) 1998-07-24 1999-07-23 Magnetic head and a method of its production
EP99931503A EP1018110A1 (en) 1998-07-24 1999-07-23 Magnetic head and a method of its production
PCT/JP1999/003945 WO2000005711A1 (en) 1998-07-24 1999-07-23 Magnetic head and a method of its production
MYPI99003114A MY121366A (en) 1998-07-24 1999-07-23 Magnetic head including sliding member having bearing surface formed of protrusions with almost flat tips.
IDW20000544D ID30074A (id) 1998-07-24 1999-07-23 Magnetic head dan metode produksinya

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9477599A JP2000281470A (ja) 1999-04-01 1999-04-01 セラミックスの表面改質剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000281470A true JP2000281470A (ja) 2000-10-10
JP2000281470A5 JP2000281470A5 (ja) 2005-09-29

Family

ID=14119482

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9477599A Withdrawn JP2000281470A (ja) 1997-04-01 1999-04-01 セラミックスの表面改質剤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000281470A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6861122B2 (en) 2001-01-31 2005-03-01 Toshiba Ceramics Co., Ltd. Ceramic member with fine protrusions on surface and method of producing the same
WO2016125579A1 (ja) * 2015-02-04 2016-08-11 住友化学株式会社 ニオブ酸系強誘電体薄膜素子の製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6861122B2 (en) 2001-01-31 2005-03-01 Toshiba Ceramics Co., Ltd. Ceramic member with fine protrusions on surface and method of producing the same
WO2016125579A1 (ja) * 2015-02-04 2016-08-11 住友化学株式会社 ニオブ酸系強誘電体薄膜素子の製造方法
JPWO2016125579A1 (ja) * 2015-02-04 2017-11-16 住友化学株式会社 ニオブ酸系強誘電体薄膜素子の製造方法
US10199564B2 (en) 2015-02-04 2019-02-05 Sumitomo Chemical Company, Limited Method for manufacturing niobate-system ferroelectric thin-film device
US10658569B2 (en) 2015-02-04 2020-05-19 Sumitomo Chemical Company, Limited Method for manufacturing niobate-system ferroelectric thin-film device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102528069B (zh) 一种银粉的制备方法
Verguts et al. Graphene delamination using ‘electrochemical methods’: An ion intercalation effect
CN101684554B (zh) 一种聚酰亚胺薄膜的化学镀铜液及其表面化学镀铜方法
EP0924164A2 (en) Methods for producing oxides or composites thereof
CN102040192B (zh) 有序排列的弯折硅纳米线阵列的制备方法
CN109607739B (zh) 一种压电材料钛酸钡超声激活过硫酸盐在处理废水中的应用
JP6774158B2 (ja) アルカリ金属安定型ニオブ酸ゾル
GB1589619A (en) Etching polycrystalline silicon
CN114678259B (zh) 一种抛光后的碳化硅晶片的清洗方法以及相应的清洗剂
CN103060810A (zh) 含有铜层和/或铜合金层的金属膜用蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法
CN108604480B (zh) 导电粒子、绝缘被覆导电粒子、各向异性导电性粘接剂、连接结构体和导电粒子的制造方法
CN108701508B (zh) 导电粒子、绝缘被覆导电粒子、各向异性导电性粘接剂、连接结构体和导电粒子的制造方法
CN114479676A (zh) 光学玻璃超精密加工用低磨料含量和弱酸性抛光液及其制备方法
CN117417695B (zh) 基于KMnO4-Al2O3体系的Mn氧化物增效的4H-SiC化学机械抛光液
JP2000281470A (ja) セラミックスの表面改質剤
JP2000129318A (ja) 銀粉およびその製造方法
JP4528164B2 (ja) エッチング液組成物
JP2002212463A (ja) チタン酸化物含有導電性被膜形成液、該形成液製造方法及びチタン酸化物含有膜を備える構造体
Myong et al. Development of a pH-independent post-CMP cleaning solution using phosphoric acid-based surfactants for removal of ceria nanoparticles
CN101314524B (zh) 一种α型三氧化二铁薄膜的制备方法
JP2001181631A (ja) セラミックスの表面改質剤とその製造方法
TWI858019B (zh) 銀鍍覆液組成物
CN107034472A (zh) 一种316l不锈钢镜面抛光液及其抛光工艺
JP4104454B2 (ja) エッチング液
CN112251817A (zh) 倒金字塔辅助制绒添加剂及其应用

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050425

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050425

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20050425

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20050715

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20070611

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080425

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20080519