JP2000281476A - 単結晶引き上げ装置 - Google Patents

単結晶引き上げ装置

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JP2000281476A
JP2000281476A JP11091180A JP9118099A JP2000281476A JP 2000281476 A JP2000281476 A JP 2000281476A JP 11091180 A JP11091180 A JP 11091180A JP 9118099 A JP9118099 A JP 9118099A JP 2000281476 A JP2000281476 A JP 2000281476A
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JP
Japan
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single crystal
pipe
crucible
crystal pulling
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JP11091180A
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English (en)
Inventor
Nobumitsu Takase
伸光 高瀬
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Super Silicon Crystal Research Institute Corp
Original Assignee
Super Silicon Crystal Research Institute Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 追加原料を追加的に供給する構成において不
要な反応ガスや酸化膜を簡単な構成で排出する。 【解決手段】 固体粒状原料がパイプ21を介して補助
ルツボ12内に供給されてヒータ13により加熱されて
溶融し、補助ルツボ12内の溶融原料がパイプ14を介
して単結晶引き上げ用ルツボ2内に供給される構成にお
いて、パイプ21を介して供給された固体粒状原料と補
助ルツボ12内の溶融原料が反応して発生したSiO2
ガスや、固体粒状原料の表面から剥離して浮遊した酸化
膜がパイプ21の排気口22aを介して外部に排気され
る。また、補助ルツボ12から溶融原料供給パイプ14
を介して供給された溶融原料と単結晶引き上げ用ルツボ
2内の溶融原料が反応して発生したガスなども、溶融原
料供給パイプ14とパイプ21を介して外部に排気され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、引上げCZ(Czoc
hralski)法によりSi(シリコン)の無転位の単結晶
を製造するための単結晶引き上げ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、引上げCZ法による単結晶製造
装置では、高耐圧気密チャンバ内を10torr程度に減圧
して新鮮なAr(アルゴン)ガスを流すとともに、チャ
ンバ内の下方に設けられた石英ルツボ内の多結晶を加熱
して溶融し、この融液の表面に種結晶を上から浸漬し、
種結晶と石英ルツボを回転、上下移動させながら種結晶
を引き上げることにより、種結晶の下に上端が突出した
円錐形の上部コーン部と、円筒形のボディ部と下端が突
出した円錐形の下部コーン部より成る単結晶(いわゆる
インゴット)を成長させるように構成されている。
【0003】ところで、近年では、単結晶が大口径化
し、その分、多結晶原料も多く必要として石英ルツボ、
ひいてはチャンバが大型化するが、これを防止するため
に、多結晶原料をチャンバ外の補助ルツボ内であらかじ
め溶融した原料や、融液ではなく粒状状態の原料をパイ
プを介してチャンバ内の石英ルツボ(単結晶引き上げ用
ルツボ)内に追加的に供給する方法が提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに追加原料をチャンバ外からチャンバ内に追加的に供
給すると、追加原料と単結晶引き上げ用ルツボ内の初期
溶融原料とが反応して好ましくないSiO2ガスが発生
するという問題点がある。また、追加原料として融液で
はなく粒状状態で供給する場合には、粒状原料の表面に
は好ましくない酸化膜(SiO2)が形成されているの
で、この酸化膜がチャンバ内で浮遊するという問題点が
ある。
【0005】そこで、この好ましくない反応ガスや酸化
膜をチャンバ外に強制的に排出する方法としては、Ar
ガスをより多く供給して、単結晶引き上げ用チャンバ内
の溶融原料上の雰囲気を希釈させる方法が考えられる
が、この方法では十分ではなく、このため反応ガスや酸
化膜が固化してチャンバ内の上部内壁に付着して堆積
し、この堆積物が落下したり、製造完了後の清掃が煩雑
になるという問題点がある。また、粒状原料を補助ルツ
ボ用チャンバ内の補助ルツボに供給して溶融し、これを
単結晶引き上げ用ルツボ内に追加的に供給する構成にお
いても同様である。
【0006】本発明は上記従来例の問題点に鑑み、追加
原料を追加的に供給する構成において不要な反応ガスや
酸化膜を簡単な構成で排出することができる単結晶引き
上げ装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、原料投入パイプに排気機構を設けたもので
ある。すなわち本発明によれば、成長させる単結晶の原
料である個体状又は液体状原料を原料投入パイプを介し
て主チャンバ内の石英ルツボに供給する単結晶引き上げ
装置において、前記石英ルツボに前記原料を投入する際
に発生するガスを外部に排出するための排気機構を前記
原料投入パイプに設けたことを特徴とする単結晶引き上
げ装置が提供される。
【0008】また本発明によれば、成長させる単結晶の
固体原料を第1の原料投入パイプを介して補助ルツボに
供給して溶融し、前記補助ルツボ内の溶融原料を第2の
原料投入パイプを介して主チャンバ内の石英ルツボに供
給する単結晶引き上げ装置において、前記補助ルツボに
前記原料を投入する際に発生するガスを外部に排出する
ための排気機構を少なくとも前記第1の原料投入パイプ
に設けたことを特徴とする単結晶引き上げが提供され
る。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図1は本発明に係る単結晶引き上
げ装置の第1の実施形態を模式的に示す構成図、図2は
図1の補助溶解装置と固体粒状原料供給フィーダを詳し
く示す構成図、図3は図2の固体粒状原料供給パイプを
詳しく示す側面断面図、図4は実験結果を示す説明図で
ある。
【0010】図1及び図2において、主チャンバ1内に
は単結晶引き上げ用ルツボ2が配置され、単結晶引き上
げ用ルツボ2の回りには円筒形のヒータ3が配置されて
いる。そして、主チャンバ1の外側又は内側には、単結
晶引き上げ用ルツボ2内にSi原料を落下方式で供給可
能な位置に補助溶解装置10が配置され、補助溶解装置
10の上に固体粒状原料供給フィーダ20が配置されて
いる。補助溶解装置10は主チャンバ1の内部と同じ気
密性が維持される補助チャンバ11を有し、補助チャン
バ11内には補助ルツボ12が配置され、補助ルツボ1
2の回りには円筒形のヒータ13が配置されている。ま
た、図2に詳しく示すように補助ルツボ12には、補助
ルツボ12内の溶融原料を単結晶引き上げ用ルツボ2内
に落下させるための溶融原料供給パイプ14が取り付け
られている。
【0011】固体粒状原料供給フィーダ20は図3に詳
しく示すような固体粒状原料供給パイプ(単にパイプと
もいう)21を有する。このパイプ21は固体粒状原料
がパイプ21の上端開口から供給されて下端開口から落
下するように垂直方向に配置される。パイプ21は上部
の径が下部より大きな外壁部22と、外壁部22の上方
内に配置される円筒形の内壁部23を有し、外壁部22
の上方には排気口22aが形成されている。この排気口
22aは不図示の排気ポンプに連結される。
【0012】このような構成において、固体粒状原料が
パイプ21を介して補助ルツボ12内に供給されてヒー
タ13により加熱されて溶融し、補助ルツボ12内の溶
融原料がパイプ14を介して単結晶引き上げ用ルツボ2
内に供給される。そして、パイプ21を介して供給され
た固体粒状原料と補助ルツボ12内の溶融原料が反応し
て発生したSiO2ガスや、固体粒状原料の表面から剥
離して浮遊した酸化膜は、パイプ21の排気口22aを
介して外部に排気される。また、補助ルツボ12から溶
融原料供給パイプ14を介して供給された溶融原料と単
結晶引き上げ用ルツボ2内の溶融原料が反応して発生し
たガスなども、溶融原料供給パイプ14とパイプ21を
介して外部に排気される。
【0013】ここで、図示省略されているが、Arガス
が主チャンバ1の上方から供給されて下方から排気され
るが、上記のSiO2の排気能力がArガスの排気能力
より小さいと、上記の反応ガスなどが単結晶引き上げ用
ルツボ2内の融液表面近傍に滞留するので好ましくな
い。そこで、上記のSiO2の排気能力は主チャンバ1
内のArガスを排気する能力より大きく設定される。な
お、固体粒状原料供給パイプ21は2重管構造ではな
く、比較的大きな径の単管を介して原料供給と排気を行
うようにしてもよい。また、排気用の駆動装置は、既存
のものを使用することができ、例えば主チャンバ1内の
Arガスを排気するためのポンプを共用することができ
る。
【0014】図4は本発明のように「排気有り」と従来
のように「排気なし」の構成で6インチシリコン単結晶
を引き上げた結果を示している。図4において、単結晶
引き上げ用ルツボ2内の初期原料を40kgとし、追加
原料を20kgとして、「排気なし」の場合には実験数
=8本に対して有転位がない成功数は2本であったが、
「排気有り」の場合には実験数=12本に対して成功数
は7本であった。また、単結晶引き上げ用ルツボ2内の
初期原料を40kgとし、追加原料を30kgとして、
「排気なし」の場合には実験数=3本に対して成功数は
0本であったが、「排気有り」の場合には実験数=7本
に対して成功数は4本であった。
【0015】次に図5を参照して第2の実施形態につい
て説明する。上記の第1の実施形態では、固体粒状原料
がパイプ21を介して補助ルツボ12内に供給されてヒ
ータ13により加熱されて溶融し、補助ルツボ12内の
溶融原料がパイプ14を介して単結晶引き上げ用ルツボ
2内に供給されるが、この第2の実施形態では、固体粒
状原料が直接、パイプ14’を介して単結晶引き上げ用
ルツボ2内に供給されるように構成されている。そし
て、パイプ14’は固体粒状原料が通過する内壁部14
aと排気用の外壁部14bを有する2重管構造で構成さ
れている。
【0016】ここで、固体原料を主チャンバ1内や補助
ルツボ12内の溶融原料上に直接落下させると反応ガス
が発生する確率が高くなる。そこで、図6に示す構成で
は、固体原料が2重パイプ21の外壁部22の下方22
bに当接した後に溶融原料上に間接的に落下するように
下方22bの径が小さく形成され、また、内壁部23に
は固体原料をこの小径部22bにガイドするためのガイ
ド(案内)部23aが形成されている。このような構成
によれば、固体原料が小径部22bに当接して発生した
ガスを上方に排出することができるので、反応ガスが下
方の溶融原料に侵入することを防止することができる。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、原
料投入パイプに排気機構を設けたので、追加原料を追加
的に供給する構成において不要な反応ガスや酸化膜を簡
単な構成で排出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る単結晶引き上げ装置の第1の実施
形態を模式的に示す構成図である。
【図2】図1の補助溶解装置と固体粒状原料供給フィー
ダを詳しく示す構成図である。
【図3】図2の固体粒状原料供給パイプを詳しく示す側
面断面図である。
【図4】実験結果を示す説明図である。
【図5】第2の実施形態の単結晶引き上げ装置の要部を
示す構成図である。
【図6】固体粒状原料供給パイプの変形例を示す構成図
である。
【符号の説明】
1 主チャンバ 2 石英ルツボ(単結晶引き上げ用ルツボ) 12 補助ルツボ 21 固体粒状原料供給パイプ 22a 排気口 22b 小径部 23a ガイド部

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 成長させる単結晶の原料である個体状
    又は液体状原料を原料投入パイプを介して主チャンバ内
    の石英ルツボに供給する単結晶引き上げ装置において、 前記石英ルツボに前記原料を投入する際に発生するガス
    を外部に排出するための排気機構を前記原料投入パイプ
    に設けたことを特徴とする単結晶引き上げ装置。
  2. 【請求項2】 成長させる単結晶の固体原料を第1の原
    料投入パイプを介して補助ルツボに供給して溶融し、前
    記補助ルツボ内の溶融原料を第2の原料投入パイプを介
    して主チャンバ内の石英ルツボに供給する単結晶引き上
    げ装置において、 前記補助ルツボに前記原料を投入する際に発生するガス
    を外部に排出するための排気機構を少なくとも前記第1
    の原料投入パイプに設けたことを特徴とする単結晶引き
    上げ装置。
  3. 【請求項3】 前記原料投入パイプは、原料供給と排気
    をそれぞれ行うために、2重管構造を有することを特徴
    とする請求項1又は2記載の単結晶引き上げ装置。
  4. 【請求項4】 前記原料投入パイプは、原料供給と排気
    を同時に行い得る単管構造を有することを特徴とする請
    求項1又は2記載の単結晶引き上げ装置。
  5. 【請求項5】 前記原料投入パイプは、投入された固体
    原料が直接前記石英ルツボ内又は補助ルツボ内の溶融原
    料上に落下しないように、内壁に当接した後に落下する
    ように前記内壁が構成されていることを特徴とする請求
    項1ないし4のいずれか1つに記載の単結晶引き上げ装
    置。
  6. 【請求項6】 前記原料投入パイプは、前記投入された
    前記個体原料が前記内壁に当接するよう案内手段を有し
    ていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1
    つに記載の単結晶引き上げ装置。
  7. 【請求項7】 前記排気能力は、主チャンバの上方から
    供給されて下方から排気されるArガスの排気能力より
    大きいことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1
    つに記載の単結晶引き上げ装置。
JP11091180A 1999-03-31 1999-03-31 単結晶引き上げ装置 Withdrawn JP2000281476A (ja)

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Effective date: 20060606