JP2000281485A - 単結晶引き上げ装置及び単結晶引き上げ方法 - Google Patents
単結晶引き上げ装置及び単結晶引き上げ方法Info
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- JP2000281485A JP2000281485A JP11094137A JP9413799A JP2000281485A JP 2000281485 A JP2000281485 A JP 2000281485A JP 11094137 A JP11094137 A JP 11094137A JP 9413799 A JP9413799 A JP 9413799A JP 2000281485 A JP2000281485 A JP 2000281485A
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ネック部から把持手段への単結晶の荷重移動
の際の速度制御を不要とし、かつ種結晶と径大部の下方
のくびれを共にワイヤ方式で引き上げる場合に引き上げ
装置の高さが大きくなることを防止する。 【解決手段】 主ドラム8は種結晶14が先端に取り付
けられる主ワイヤ7を昇降させるために主モータ9によ
り回転する。副ドラム27a,27bは主ドラム8と同
軸に配置され、単結晶2のくびれ2cを係止して支持す
るくびれ係止部30が先端に取り付けられる副ワイヤ2
0a、20bを昇降させるために主モータ9により主ド
ラム8と一体で、又は副モータ21により主ドラム8と
独立して選択的に回転する。
の際の速度制御を不要とし、かつ種結晶と径大部の下方
のくびれを共にワイヤ方式で引き上げる場合に引き上げ
装置の高さが大きくなることを防止する。 【解決手段】 主ドラム8は種結晶14が先端に取り付
けられる主ワイヤ7を昇降させるために主モータ9によ
り回転する。副ドラム27a,27bは主ドラム8と同
軸に配置され、単結晶2のくびれ2cを係止して支持す
るくびれ係止部30が先端に取り付けられる副ワイヤ2
0a、20bを昇降させるために主モータ9により主ド
ラム8と一体で、又は副モータ21により主ドラム8と
独立して選択的に回転する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、引き上げCZ(Cz
ochralski)法によりSi(シリコン)の無転位の単結
晶を製造するための単結晶引き上げ装置及び単結晶引き
上げ方法に関し、特に径大部を係止して単結晶を引き上
げる機構及びそれを用いた方法に関する。
ochralski)法によりSi(シリコン)の無転位の単結
晶を製造するための単結晶引き上げ装置及び単結晶引き
上げ方法に関し、特に径大部を係止して単結晶を引き上
げる機構及びそれを用いた方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、引き上げCZ法による単結晶製
造装置では、高耐圧気密チャンバ内を10torr程度に減
圧して新鮮なAr(アルゴン)ガスを流すとともに、チ
ャンバ内の下方に設けられた石英ルツボ内の多結晶を加
熱して溶融し、この融液の表面に種結晶を上から浸漬
し、種結晶と石英ルツボを回転、上下移動させながら種
結晶を引き上げることにより、種結晶の下に上端が突出
した円錐形の上部コーン部と、円筒形のボディ部と下端
が突出した円錐形の下部コーン部より成る単結晶(いわ
ゆるインゴット)を成長させるように構成されている。
造装置では、高耐圧気密チャンバ内を10torr程度に減
圧して新鮮なAr(アルゴン)ガスを流すとともに、チ
ャンバ内の下方に設けられた石英ルツボ内の多結晶を加
熱して溶融し、この融液の表面に種結晶を上から浸漬
し、種結晶と石英ルツボを回転、上下移動させながら種
結晶を引き上げることにより、種結晶の下に上端が突出
した円錐形の上部コーン部と、円筒形のボディ部と下端
が突出した円錐形の下部コーン部より成る単結晶(いわ
ゆるインゴット)を成長させるように構成されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような装置におい
て、種結晶を支持して単結晶の垂直軸の回りを回転させ
ながら垂直方向に引き上げる機構としては、ワイヤによ
る方式とシャフトによる方式が知られている。シャフト
方式は単結晶を引き上げるにつれてシャフトが上方に移
動するので、装置の高さが大きくなるという問題点があ
り、また、そのためクリーンルームが大きくなり、コス
ト高となる。これに対し、ワイヤ方式は単結晶を引き上
げるにつれてワイヤをドラムにより巻き取ることができ
るので、装置の高さが大きくならない。
て、種結晶を支持して単結晶の垂直軸の回りを回転させ
ながら垂直方向に引き上げる機構としては、ワイヤによ
る方式とシャフトによる方式が知られている。シャフト
方式は単結晶を引き上げるにつれてシャフトが上方に移
動するので、装置の高さが大きくなるという問題点があ
り、また、そのためクリーンルームが大きくなり、コス
ト高となる。これに対し、ワイヤ方式は単結晶を引き上
げるにつれてワイヤをドラムにより巻き取ることができ
るので、装置の高さが大きくならない。
【0004】また、近年では、単結晶が大口径化してそ
の分、重量も重くなり、種結晶を引き上げるのみではダ
ッシュネック部がその重量に耐えきれないので、ダッシ
ュネック部の下に「径大部(径拡大部)」を形成してそ
の下に「径小部」を形成することにより「環状のくび
れ」を形成し、この「環状のくびれ」を別の係止部材
(以下、くびれ係止部材)で係止して引き上げる方式が
知られている。そして、くびれ係止部材を引き上げる機
構も同様に、ワイヤ方式の方が装置の高さが大きくなら
ない。
の分、重量も重くなり、種結晶を引き上げるのみではダ
ッシュネック部がその重量に耐えきれないので、ダッシ
ュネック部の下に「径大部(径拡大部)」を形成してそ
の下に「径小部」を形成することにより「環状のくび
れ」を形成し、この「環状のくびれ」を別の係止部材
(以下、くびれ係止部材)で係止して引き上げる方式が
知られている。そして、くびれ係止部材を引き上げる機
構も同様に、ワイヤ方式の方が装置の高さが大きくなら
ない。
【0005】しかしながら、種結晶と径大部の下方のく
びれを共にワイヤ方式で引き上げる機構において2つの
ドラムを上下方向に配置するとその分、装置の高さが大
きくなるという問題点がある。また、ワイヤを巻き取る
ドラムは、単結晶を引き上げ方向に相当する垂直軸を中
心に回転させるために同様に回転するので、ドラム表面
にワイヤを巻き付ける形でワイヤをその軸方向に巻き取
ると、鉛直方向につり下げられているワイヤの水平方向
の垂下位置が移動してしまい、引き上げ方向が鉛直方向
ではなくなってしまうので、これを防止しなければなな
らない。
びれを共にワイヤ方式で引き上げる機構において2つの
ドラムを上下方向に配置するとその分、装置の高さが大
きくなるという問題点がある。また、ワイヤを巻き取る
ドラムは、単結晶を引き上げ方向に相当する垂直軸を中
心に回転させるために同様に回転するので、ドラム表面
にワイヤを巻き付ける形でワイヤをその軸方向に巻き取
ると、鉛直方向につり下げられているワイヤの水平方向
の垂下位置が移動してしまい、引き上げ方向が鉛直方向
ではなくなってしまうので、これを防止しなければなな
らない。
【0006】なお、他の従来例として、特開平5−27
0974号公報、特開平5−270975号公報、特開
平5−301793号公報に示されるものがあるが、こ
れらの技術では、種結晶の引き上げ機構と把持装置の引
き上げ機構は異なる駆動源からなるが、これらをどのよ
うに同期運転するかの開示あるいは示唆がない。
0974号公報、特開平5−270975号公報、特開
平5−301793号公報に示されるものがあるが、こ
れらの技術では、種結晶の引き上げ機構と把持装置の引
き上げ機構は異なる駆動源からなるが、これらをどのよ
うに同期運転するかの開示あるいは示唆がない。
【0007】さらに、特開平9−2893号公報では、
種結晶の引き上げ機構と把持装置の引き上げ機構は異な
る駆動源からなり、これらは同期運転あるいは独立して
運転される旨の開示があるが、同期運転の場合その制御
工程が複雑であり、制御に要する装置も複雑かつ高コス
トである。さらに、特公平7−515号公報では、把持
装置を単結晶のくびれに係合させるための上下動機構が
種結晶の引き上げ機構を形成するシャフトに設けられ、
係合後は種結晶の引き上げ機構の制御のみで把持装置を
も種結晶と同期して引き上げる構成が開示されてはいる
が、係合部を停止させるための有効な手段についての開
示や示唆がなく、実現性に乏しいと言わざるを得ない。
また、特公平7−515号公報の技術では、単結晶の引
き上げ機構がシャフトを有するため、引き上げ装置の高
さが高くなってしまうという問題がある。さらに、同公
報の技術では把持装置の昇降機構、すなわち金属同士が
接触する機械駆動部が、高温の引き上げチャンバ内にあ
るため、耐熱対策が困難であったり、高温下において機
械的機構が十分に機能しないことがあるという不具合が
あり、また、昇降機構の機械的接触部分で発生したパー
ティクルの影響により単結晶の有転位化を招くおそれが
ある。
種結晶の引き上げ機構と把持装置の引き上げ機構は異な
る駆動源からなり、これらは同期運転あるいは独立して
運転される旨の開示があるが、同期運転の場合その制御
工程が複雑であり、制御に要する装置も複雑かつ高コス
トである。さらに、特公平7−515号公報では、把持
装置を単結晶のくびれに係合させるための上下動機構が
種結晶の引き上げ機構を形成するシャフトに設けられ、
係合後は種結晶の引き上げ機構の制御のみで把持装置を
も種結晶と同期して引き上げる構成が開示されてはいる
が、係合部を停止させるための有効な手段についての開
示や示唆がなく、実現性に乏しいと言わざるを得ない。
また、特公平7−515号公報の技術では、単結晶の引
き上げ機構がシャフトを有するため、引き上げ装置の高
さが高くなってしまうという問題がある。さらに、同公
報の技術では把持装置の昇降機構、すなわち金属同士が
接触する機械駆動部が、高温の引き上げチャンバ内にあ
るため、耐熱対策が困難であったり、高温下において機
械的機構が十分に機能しないことがあるという不具合が
あり、また、昇降機構の機械的接触部分で発生したパー
ティクルの影響により単結晶の有転位化を招くおそれが
ある。
【0008】上述の特開平9−2893号公報での種結
晶の引き上げ速度と把持機構の引き上げ速度の同期制御
は、種結晶の引き上げ用ワイヤを巻き取るワイヤドラム
と把持手段が連結された引き上げドライブの2つの引き
上げ速度を相互に調整することで実現しているものであ
り、制御機構と制御プロセスが複雑で装置の設計、製造
のコストが高くまた保守を容易に行うことが困難である
という問題がある。
晶の引き上げ速度と把持機構の引き上げ速度の同期制御
は、種結晶の引き上げ用ワイヤを巻き取るワイヤドラム
と把持手段が連結された引き上げドライブの2つの引き
上げ速度を相互に調整することで実現しているものであ
り、制御機構と制御プロセスが複雑で装置の設計、製造
のコストが高くまた保守を容易に行うことが困難である
という問題がある。
【0009】本発明は上記従来の問題点に鑑み、単結晶
の荷重がネック部から把持手段へ移行する際の速度制御
が不要で、単結晶の引き上げに際し、結晶の自重をネッ
ク部からくびれなどの把持位置にスムーズかつソフトに
移動させることができ、また、高温下の影響及びパーテ
ィクル混入の問題を回避し、かつ種結晶と径大部の下方
のくびれを共にワイヤ方式で引き上げる場合に装置の高
さが大きくなることを防止することができる単結晶引き
上げ装置を提供することを目的とする。
の荷重がネック部から把持手段へ移行する際の速度制御
が不要で、単結晶の引き上げに際し、結晶の自重をネッ
ク部からくびれなどの把持位置にスムーズかつソフトに
移動させることができ、また、高温下の影響及びパーテ
ィクル混入の問題を回避し、かつ種結晶と径大部の下方
のくびれを共にワイヤ方式で引き上げる場合に装置の高
さが大きくなることを防止することができる単結晶引き
上げ装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、種結晶を引き上げるためのドラムと径大部
の下方のくびれを引き上げるためのドラムを単結晶引き
上げチャンバの外部に同軸に配置して、一体又は独立し
て選択的に回転可能に構成したものである。
するために、種結晶を引き上げるためのドラムと径大部
の下方のくびれを引き上げるためのドラムを単結晶引き
上げチャンバの外部に同軸に配置して、一体又は独立し
て選択的に回転可能に構成したものである。
【0011】すなわち本発明によれば、種結晶が先端に
取り付けられる第1のワイヤをチャンバ内のルツボに対
して昇降させるために第1のモータにより回転可能な第
1のドラムと、前記第1のドラムと同軸に配置され、単
結晶の下方のくびれを係止して支持する係止部材が先端
に取り付けられる第2のワイヤを昇降させるために前記
第1のモータにより前記第1のドラムと一体で、さらに
第2のモータにより前記第1のドラムと独立して回転可
能な第2のドラムとを、有し、前記第1のドラムと前記
第2のドラムが前記ルツボ及び前記単結晶を格納するチ
ャンバの外部に位置するよう構成された単結晶引き上げ
装置が提供される。
取り付けられる第1のワイヤをチャンバ内のルツボに対
して昇降させるために第1のモータにより回転可能な第
1のドラムと、前記第1のドラムと同軸に配置され、単
結晶の下方のくびれを係止して支持する係止部材が先端
に取り付けられる第2のワイヤを昇降させるために前記
第1のモータにより前記第1のドラムと一体で、さらに
第2のモータにより前記第1のドラムと独立して回転可
能な第2のドラムとを、有し、前記第1のドラムと前記
第2のドラムが前記ルツボ及び前記単結晶を格納するチ
ャンバの外部に位置するよう構成された単結晶引き上げ
装置が提供される。
【0012】また、本発明によれば種結晶が先端に取り
付けられる第1のワイヤをチャンバ内のルツボに対して
昇降させるために第1のモータにより回転可能な第1の
ドラムと、前記第1のドラムと同軸に配置され、単結晶
の下方のくびれを係止して支持する係止部材が先端に取
り付けられる第2のワイヤを昇降させるために前記第1
のモータにより前記第1のドラムと一体で、さらに第2
のモータにより前記第1のドラムと独立して回転可能な
第2のドラムとを、有し、前記第1のドラムと前記第2
のドラムが前記ルツボ及び前記単結晶を格納するチャン
バの外部に位置するよう構成された単結晶引き上げ装置
による単結晶引き上げ方法であって、前記第1のモータ
により前記第1のドラムを回転させて種結晶を上昇させ
るとともに、前記種結晶に単結晶を成長させてくびれが
形成されるまで前記第2のモータを停止させた状態で前
記第1のモータにより前記第2のドラムを回転させて前
記係止部材を上昇させるステップと、次いで前記第2の
モータにより前記第2のドラムを回転させて前記係止部
材を前記径大部の下まで下降させるステップと、次いで
前記第2のモータにより前記第2のドラムを回転させて
前記係止部材を前記径大部に当接するまで上昇させるス
テップと、次いで前記第2のモータを停止させた状態で
前記第1のモータにより前記第2のドラムを回転させて
前記係止部材を上昇させるステップとを、有する単結晶
引き上げ方法が提供される。
付けられる第1のワイヤをチャンバ内のルツボに対して
昇降させるために第1のモータにより回転可能な第1の
ドラムと、前記第1のドラムと同軸に配置され、単結晶
の下方のくびれを係止して支持する係止部材が先端に取
り付けられる第2のワイヤを昇降させるために前記第1
のモータにより前記第1のドラムと一体で、さらに第2
のモータにより前記第1のドラムと独立して回転可能な
第2のドラムとを、有し、前記第1のドラムと前記第2
のドラムが前記ルツボ及び前記単結晶を格納するチャン
バの外部に位置するよう構成された単結晶引き上げ装置
による単結晶引き上げ方法であって、前記第1のモータ
により前記第1のドラムを回転させて種結晶を上昇させ
るとともに、前記種結晶に単結晶を成長させてくびれが
形成されるまで前記第2のモータを停止させた状態で前
記第1のモータにより前記第2のドラムを回転させて前
記係止部材を上昇させるステップと、次いで前記第2の
モータにより前記第2のドラムを回転させて前記係止部
材を前記径大部の下まで下降させるステップと、次いで
前記第2のモータにより前記第2のドラムを回転させて
前記係止部材を前記径大部に当接するまで上昇させるス
テップと、次いで前記第2のモータを停止させた状態で
前記第1のモータにより前記第2のドラムを回転させて
前記係止部材を上昇させるステップとを、有する単結晶
引き上げ方法が提供される。
【0013】
【発明の実施の形態】<第1の実施形態>以下、図面を
参照して本発明の実施の形態を説明する。図1は本発明
に係る単結晶引き上げ装置の第1の実施形態の要部を示
す構成図、図2は図1の線A−A’から見た副モータス
ライド機構を示す側面断面図、図3は図1の単結晶引き
上げ装置の引き上げ動作を示す説明図である。
参照して本発明の実施の形態を説明する。図1は本発明
に係る単結晶引き上げ装置の第1の実施形態の要部を示
す構成図、図2は図1の線A−A’から見た副モータス
ライド機構を示す側面断面図、図3は図1の単結晶引き
上げ装置の引き上げ動作を示す説明図である。
【0014】図1において、略円筒形の結晶格納チャン
バ1内には、図示省略されているが原料が収容された石
英ルツボが配置され、石英ルツボの回りにはヒータが配
置され、ヒータの回りには断熱材などが配置されてい
る。結晶格納チャンバ1の上方であり、かつ結晶格納チ
ャンバ1の外部には、半導体結晶(単結晶)2を引き上
げる機構を収納するためのハウジング3が配置され、こ
のハウジング3はその下方に形成されたプーリ室3aが
結晶回転テーブル4と、結晶回転用のモータ5とベルト
6により垂直軸のまわりを、すなわち引き上げ方向を中
心として回転可能に構成されている。
バ1内には、図示省略されているが原料が収容された石
英ルツボが配置され、石英ルツボの回りにはヒータが配
置され、ヒータの回りには断熱材などが配置されてい
る。結晶格納チャンバ1の上方であり、かつ結晶格納チ
ャンバ1の外部には、半導体結晶(単結晶)2を引き上
げる機構を収納するためのハウジング3が配置され、こ
のハウジング3はその下方に形成されたプーリ室3aが
結晶回転テーブル4と、結晶回転用のモータ5とベルト
6により垂直軸のまわりを、すなわち引き上げ方向を中
心として回転可能に構成されている。
【0015】ハウジング3内には、種結晶昇降用の主ワ
イヤ7を巻き取るための主ドラム8が水平な軸22の回
りを回転可能なように配置されている。この場合、主ド
ラム8は主モータ9、主モータ連結ロッド10、主モー
タ連結ギヤ11a、主ドラム回転ギヤ11bにより軸
(副ドラム連結ロッド)22を中心に回転可能に、ま
た、回転時に主ワイヤ7の水平方向の垂下位置が常に一
定になるように、主ドラム送り機構12により水平方向
に移動可能に支持されている。主ワイヤ7の先端は結晶
ホルダ13を介して種結晶14が取り付けられて結晶格
納チャンバ1内に吊り下げられている。
イヤ7を巻き取るための主ドラム8が水平な軸22の回
りを回転可能なように配置されている。この場合、主ド
ラム8は主モータ9、主モータ連結ロッド10、主モー
タ連結ギヤ11a、主ドラム回転ギヤ11bにより軸
(副ドラム連結ロッド)22を中心に回転可能に、ま
た、回転時に主ワイヤ7の水平方向の垂下位置が常に一
定になるように、主ドラム送り機構12により水平方向
に移動可能に支持されている。主ワイヤ7の先端は結晶
ホルダ13を介して種結晶14が取り付けられて結晶格
納チャンバ1内に吊り下げられている。
【0016】主ドラム8の内部は中空で形成され、その
内壁には後述するくびれ係止部30を昇降させるための
一対の副ワイヤ20a、20bを巻き取るための副モー
タ21が主ドラム8と共に回転可能に、また、図2に詳
しく示すように副モータケーシング21aと、ケーシン
グ支持台21bと、副モータスライドガイド21cと副
モータスライドレール21dにより水平方向(軸方向)
に移動可能に配置されている。すなわち、副モータ21
は主ドラム8の内部空間に設けられていて、水平方向に
は移動可能であるが、その回転方向については主ドラム
8に固定されている。副モータ21の軸は後述する2つ
の副ドラム27a、27bを連結する副ドラム連結ロッ
ド22で構成され、また、副モータ21は非通電時には
ブレーキ機構により副ドラム連結ロッド22が副モータ
ケーシング21aに対して回転しないように構成されて
いる。また、副ドラム連結ロッド22はその両端が主ド
ラム8の外であってハウジング3内に突出するように構
成されている。
内壁には後述するくびれ係止部30を昇降させるための
一対の副ワイヤ20a、20bを巻き取るための副モー
タ21が主ドラム8と共に回転可能に、また、図2に詳
しく示すように副モータケーシング21aと、ケーシン
グ支持台21bと、副モータスライドガイド21cと副
モータスライドレール21dにより水平方向(軸方向)
に移動可能に配置されている。すなわち、副モータ21
は主ドラム8の内部空間に設けられていて、水平方向に
は移動可能であるが、その回転方向については主ドラム
8に固定されている。副モータ21の軸は後述する2つ
の副ドラム27a、27bを連結する副ドラム連結ロッ
ド22で構成され、また、副モータ21は非通電時には
ブレーキ機構により副ドラム連結ロッド22が副モータ
ケーシング21aに対して回転しないように構成されて
いる。また、副ドラム連結ロッド22はその両端が主ド
ラム8の外であってハウジング3内に突出するように構
成されている。
【0017】副ドラム連結ロッド22には主ドラム8内
において副ドラム送りギヤ23が固定(すなわち副ドラ
ム連結ロッド22と共に回転可能に配置)され、副ドラ
ム送りギヤ23は回転時に副ワイヤ20a、20bの水
平方向の垂下位置が常に一定になるように、主ドラム8
の内壁に設けられた副ドラム送り機構24により水平方
向に移動可能に支持されている。副モータ21の配線2
5は、回転時にねじれないようにスリップリング26を
介してハウジング3外に取り出される。
において副ドラム送りギヤ23が固定(すなわち副ドラ
ム連結ロッド22と共に回転可能に配置)され、副ドラ
ム送りギヤ23は回転時に副ワイヤ20a、20bの水
平方向の垂下位置が常に一定になるように、主ドラム8
の内壁に設けられた副ドラム送り機構24により水平方
向に移動可能に支持されている。副モータ21の配線2
5は、回転時にねじれないようにスリップリング26を
介してハウジング3外に取り出される。
【0018】副ドラム連結ロッド22の両端には、それ
ぞれ副ワイヤ20a、20bを巻き取るための副ドラム
27a、27bが取り付けられている。副ワイヤ20
a、20bの先端は、それぞれ副ワイヤ位置決めプーリ
28a、28b、結晶重量検出機構(ロードセルユニッ
ト)29a、29bを介して結晶格納チャンバ1内に吊
り下げられている。以上の構成により、副モータ21の
回転軸と副ドラム27a、27bの回転軸が回転力を伝
達可能な態様で、かつ副ドラム27a、27bの軸方向
に移動可能な態様で連結されていることになる。また、
副ドラム27a、27bの回転軸が回転力を伝達可能な
態様で、かつ副ドラム27a、27bの軸方向に移動可
能な態様で連結されていることになる。
ぞれ副ワイヤ20a、20bを巻き取るための副ドラム
27a、27bが取り付けられている。副ワイヤ20
a、20bの先端は、それぞれ副ワイヤ位置決めプーリ
28a、28b、結晶重量検出機構(ロードセルユニッ
ト)29a、29bを介して結晶格納チャンバ1内に吊
り下げられている。以上の構成により、副モータ21の
回転軸と副ドラム27a、27bの回転軸が回転力を伝
達可能な態様で、かつ副ドラム27a、27bの軸方向
に移動可能な態様で連結されていることになる。また、
副ドラム27a、27bの回転軸が回転力を伝達可能な
態様で、かつ副ドラム27a、27bの軸方向に移動可
能な態様で連結されていることになる。
【0019】また、主ドラム8と副ドラム27a、27
bのそれぞれのワイヤ溝が軸に対して同一方向に傾斜し
ていて、かつ主ドラム8と副ドラム27a、27bのワ
イヤの巻き取り方向が同一である。また、主ドラム8と
副ドラム27a、27bのそれぞれのワイヤ巻き取り径
が同一に設定されているので、結晶の引き上げ速度と後
述する把持手段の上昇速度が一致することとなる。また
主ドラム8のワイヤと副ドラムのワイヤの一方又は双方
の垂下位置を規制する手段が設けられていて、垂下位置
を規制する手段に主ドラム8又は副ドラム27a、27
bにかかる単結晶重量を検出する重量検出手段を設ける
ことができる。また、主ドラム8と副ドラム27a、2
7bの一方又は双方又はこれらのドラムの回転軸の一方
又は双方に主ドラム8又は副ドラム27a、27bにか
かる単結晶重量を検出する重量検出手段を設けることが
できる。
bのそれぞれのワイヤ溝が軸に対して同一方向に傾斜し
ていて、かつ主ドラム8と副ドラム27a、27bのワ
イヤの巻き取り方向が同一である。また、主ドラム8と
副ドラム27a、27bのそれぞれのワイヤ巻き取り径
が同一に設定されているので、結晶の引き上げ速度と後
述する把持手段の上昇速度が一致することとなる。また
主ドラム8のワイヤと副ドラムのワイヤの一方又は双方
の垂下位置を規制する手段が設けられていて、垂下位置
を規制する手段に主ドラム8又は副ドラム27a、27
bにかかる単結晶重量を検出する重量検出手段を設ける
ことができる。また、主ドラム8と副ドラム27a、2
7bの一方又は双方又はこれらのドラムの回転軸の一方
又は双方に主ドラム8又は副ドラム27a、27bにか
かる単結晶重量を検出する重量検出手段を設けることが
できる。
【0020】副ワイヤ20a、20bの先端には把持手
段としてのくびれ係止部30が取り付けられ、くびれ係
止部30には2以上の係止爪31a、31bが設けられ
ている。係止爪31a、31bは回転自在に構成され、
また、水平な係止状態より下には回転しないようにスト
ッパ32a、32bにより支持されている。ここで、半
導体結晶2を製造する場合には、種結晶14の下にダッ
シュネック部2aを形成し、ダッシュネック部2aの下
に径大部2bを形成し、径大部2bの下にくびれ2cを
形成する。ここでは径大部2bの下方の部分、すなわち
径が細くなっていく部分を便宜上、くびれ2cと呼んで
いる。係止爪31a、31bを径大部2bの上から下降
させると、係止爪31a、31bが径大部2bに当接し
て上方向に開き、次いで係止爪31a、31bが径大部
2bを乗り越えるとストッパ32a、32bにより水平
状態に支持されてくびれ2c及びその上方の径大部2b
の下端を支持可能になる。
段としてのくびれ係止部30が取り付けられ、くびれ係
止部30には2以上の係止爪31a、31bが設けられ
ている。係止爪31a、31bは回転自在に構成され、
また、水平な係止状態より下には回転しないようにスト
ッパ32a、32bにより支持されている。ここで、半
導体結晶2を製造する場合には、種結晶14の下にダッ
シュネック部2aを形成し、ダッシュネック部2aの下
に径大部2bを形成し、径大部2bの下にくびれ2cを
形成する。ここでは径大部2bの下方の部分、すなわち
径が細くなっていく部分を便宜上、くびれ2cと呼んで
いる。係止爪31a、31bを径大部2bの上から下降
させると、係止爪31a、31bが径大部2bに当接し
て上方向に開き、次いで係止爪31a、31bが径大部
2bを乗り越えるとストッパ32a、32bにより水平
状態に支持されてくびれ2c及びその上方の径大部2b
の下端を支持可能になる。
【0021】次に図3を参照して引き上げ動作を説明す
る。まず、図3(a)に示すように種結晶14及びくび
れ係止部30を半導体結晶2の原料である融液2’の上
方に待機させた状態から主モータ9を下降方向に回転
(副モータ21は停止)させると、主ドラム8が下降方
向に回転して主ワイヤ7が下降し、また、このとき主ワ
イヤ7の水平方向の垂下位置が常に一定になるように水
平方向(右方向)に移動する。さらに、副モータ21は
非通電時には副ドラム連結ロッド22が副モータケーシ
ング21aに対して回転しないので、副モータ21及び
副モータケーシング21aが主ドラム8と共に回転して
副ワイヤ20a、20bを下降させ、また、このとき副
ワイヤ20a、20bの水平方向の垂下位置が常に一定
になるように水平方向(右方向)に移動する。したがっ
て、種結晶14及び、くびれ係止部30が同じ速度で下
降する。そして、図3(b)に示すように種結晶14が
融液2’に浸漬すると主モータ9を停止(副モータ21
も停止)させる。
る。まず、図3(a)に示すように種結晶14及びくび
れ係止部30を半導体結晶2の原料である融液2’の上
方に待機させた状態から主モータ9を下降方向に回転
(副モータ21は停止)させると、主ドラム8が下降方
向に回転して主ワイヤ7が下降し、また、このとき主ワ
イヤ7の水平方向の垂下位置が常に一定になるように水
平方向(右方向)に移動する。さらに、副モータ21は
非通電時には副ドラム連結ロッド22が副モータケーシ
ング21aに対して回転しないので、副モータ21及び
副モータケーシング21aが主ドラム8と共に回転して
副ワイヤ20a、20bを下降させ、また、このとき副
ワイヤ20a、20bの水平方向の垂下位置が常に一定
になるように水平方向(右方向)に移動する。したがっ
て、種結晶14及び、くびれ係止部30が同じ速度で下
降する。そして、図3(b)に示すように種結晶14が
融液2’に浸漬すると主モータ9を停止(副モータ21
も停止)させる。
【0022】次に主モータ9を上昇方向に回転(副モー
タ21は停止)させると、上記の構成により図3(c)
に示すように種結晶14及び、くびれ係止部30が上昇
する。そして、上昇速度を制御することにより引き上げ
て種結晶14の下にダッシュネック部2aを形成し、ダ
ッシュネック部2aの下に径大部2bを形成し、径大部
2bの下にくびれ2cを形成する。なお、図3(c)、
(d)、(e)、(f)及び最終行程までは、主モータ
9を常に上昇方向に回転させるので特に説明しない。ま
た、図2(a)〜(f)及び最終行程までは、ハウジン
グ3は結晶回転用モータ5により垂直軸の回りを常に回
転している。
タ21は停止)させると、上記の構成により図3(c)
に示すように種結晶14及び、くびれ係止部30が上昇
する。そして、上昇速度を制御することにより引き上げ
て種結晶14の下にダッシュネック部2aを形成し、ダ
ッシュネック部2aの下に径大部2bを形成し、径大部
2bの下にくびれ2cを形成する。なお、図3(c)、
(d)、(e)、(f)及び最終行程までは、主モータ
9を常に上昇方向に回転させるので特に説明しない。ま
た、図2(a)〜(f)及び最終行程までは、ハウジン
グ3は結晶回転用モータ5により垂直軸の回りを常に回
転している。
【0023】次に図3(d)に示すように副モータ21
に通電して副ドラム連結ロッド22、副ドラム27a、
27bを下降方向に回転させると副ワイヤ20a、20
b、くびれ係止部30が下降する。そして、くびれ係止
部30が徐々に下降して係止爪31a、31bが上昇中
の径大部2bにより上方向に開き、次いで係止爪31
a、31bが径大部2bを乗り越えてストッパ32a、
32bにより水平状態に支持される。そして、係止爪3
1a、31bがくびれ2cより下に下降すると、図3
(e)に示すように係止爪31a、31bを上昇させ、
次いでくびれ2cに当接したことを結晶重量検出機構2
9a、29bが検出すると上昇を停止させる。そして、
この状態で主モータ9を上昇方向に回転(副モータ21
は停止)させると、図3(f)に示すように径大部2b
の下方のくびれ2cが係止爪31a、31bにより支持
されて半導体結晶2が上昇する。
に通電して副ドラム連結ロッド22、副ドラム27a、
27bを下降方向に回転させると副ワイヤ20a、20
b、くびれ係止部30が下降する。そして、くびれ係止
部30が徐々に下降して係止爪31a、31bが上昇中
の径大部2bにより上方向に開き、次いで係止爪31
a、31bが径大部2bを乗り越えてストッパ32a、
32bにより水平状態に支持される。そして、係止爪3
1a、31bがくびれ2cより下に下降すると、図3
(e)に示すように係止爪31a、31bを上昇させ、
次いでくびれ2cに当接したことを結晶重量検出機構2
9a、29bが検出すると上昇を停止させる。そして、
この状態で主モータ9を上昇方向に回転(副モータ21
は停止)させると、図3(f)に示すように径大部2b
の下方のくびれ2cが係止爪31a、31bにより支持
されて半導体結晶2が上昇する。
【0024】<第2の実施形態>図4は第2の実施形態
の要部を示す構成図、図5は図4の線B−B’から見た
副モータスライド機構を示す側面断面図である。上記の
第1の実施形態では副モータケーシング21aが主ドラ
ム8内において水平方向に移動可能に構成されている
が、この第2の実施形態では図5に詳しく示すように、
副モータケーシング21aが副モータ支持台21bを介
して主ドラム8の内壁に固定されている。そして、副ド
ラム連結ロッド22が水平方向に移動可能に構成するた
めに、副モータケーシング21aは副モータ回転軸21
eを介して副ドラム連結ロッド22に連結され、また、
副モータ回転軸21eと副ドラム連結ロッド22の間が
回転方向に拘束されるが、水平方向に拘束されないよう
に、副モータ回転軸21eと副ドラム連結ロッド22に
それぞれスライド溝21e−1、スライドレール22−
1が形成されている。
の要部を示す構成図、図5は図4の線B−B’から見た
副モータスライド機構を示す側面断面図である。上記の
第1の実施形態では副モータケーシング21aが主ドラ
ム8内において水平方向に移動可能に構成されている
が、この第2の実施形態では図5に詳しく示すように、
副モータケーシング21aが副モータ支持台21bを介
して主ドラム8の内壁に固定されている。そして、副ド
ラム連結ロッド22が水平方向に移動可能に構成するた
めに、副モータケーシング21aは副モータ回転軸21
eを介して副ドラム連結ロッド22に連結され、また、
副モータ回転軸21eと副ドラム連結ロッド22の間が
回転方向に拘束されるが、水平方向に拘束されないよう
に、副モータ回転軸21eと副ドラム連結ロッド22に
それぞれスライド溝21e−1、スライドレール22−
1が形成されている。
【0025】またこの第2の実施形態では、係止爪31
a、31bを上昇させてくびれ2cに当接したことを検
出するための結晶重量検出機構29a、29bが省略さ
れ、代わりに主モータ9の軸にトルクセンサユニット9
aが設けられている。このような構成によれば、図3
(d)に示すように係止爪31a、31bがくびれ2c
より下に下降した後、図3(e)に示すように係止爪3
1a、31bを上昇させてくびれ2cに当接すると、主
ワイヤ7側の負荷が減少してトルクが減少するのでこれ
をトルクセンサユニット9aにより検出して副モータ2
1を停止させる。なお、トルクセンサユニット9aを主
モータ9側の代わりに副モータ21側に設けて、副ワイ
ヤ20側のトルク増加を検出するようにしてもよい。
a、31bを上昇させてくびれ2cに当接したことを検
出するための結晶重量検出機構29a、29bが省略さ
れ、代わりに主モータ9の軸にトルクセンサユニット9
aが設けられている。このような構成によれば、図3
(d)に示すように係止爪31a、31bがくびれ2c
より下に下降した後、図3(e)に示すように係止爪3
1a、31bを上昇させてくびれ2cに当接すると、主
ワイヤ7側の負荷が減少してトルクが減少するのでこれ
をトルクセンサユニット9aにより検出して副モータ2
1を停止させる。なお、トルクセンサユニット9aを主
モータ9側の代わりに副モータ21側に設けて、副ワイ
ヤ20側のトルク増加を検出するようにしてもよい。
【0026】<第3の実施形態>図6は第3の実施形態
の要部を示す構成図、図7は図6の線C−C’から見た
副モータスライド機構を示す側面断面図である。副モー
タ21は主ドラム8の外側において同軸に固定され、ま
た、非通電時には副ドラム連結ロッド22が副モータ2
1に対して回転しないように構成されている。副ドラム
27は副ドラム送り機構41により回転時にハウジング
3に対して水平方向に移動可能に構成され、また、図7
に詳しく示すように副ドラム27と副ドラム連結ロッド
22の間が回転方向に拘束されるが、水平方向に拘束さ
れないように、副ドラム27と副ドラム連結ロッド22
にそれぞれスライド溝27−1、スライドレール22−
1(副ドラムスライド機構42)が形成されている。
の要部を示す構成図、図7は図6の線C−C’から見た
副モータスライド機構を示す側面断面図である。副モー
タ21は主ドラム8の外側において同軸に固定され、ま
た、非通電時には副ドラム連結ロッド22が副モータ2
1に対して回転しないように構成されている。副ドラム
27は副ドラム送り機構41により回転時にハウジング
3に対して水平方向に移動可能に構成され、また、図7
に詳しく示すように副ドラム27と副ドラム連結ロッド
22の間が回転方向に拘束されるが、水平方向に拘束さ
れないように、副ドラム27と副ドラム連結ロッド22
にそれぞれスライド溝27−1、スライドレール22−
1(副ドラムスライド機構42)が形成されている。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、種
結晶を引き上げるためのドラムと径大部又はくびれを引
き上げるためのドラムを単結晶引き上げチャンバの外部
に同軸に配置して、一体又は独立して選択的に回転可能
に構成したので、ネック部から把持手段への単結晶の荷
重移動の際の速度制御が不要であり、かつ種結晶と径大
部又はくびれを共にワイヤ方式で引き上げる場合に装置
の高さが大きくなることを効果的に防止することがで
き、また、高温下の影響及びパーティクル混入の問題を
回避し得る。
結晶を引き上げるためのドラムと径大部又はくびれを引
き上げるためのドラムを単結晶引き上げチャンバの外部
に同軸に配置して、一体又は独立して選択的に回転可能
に構成したので、ネック部から把持手段への単結晶の荷
重移動の際の速度制御が不要であり、かつ種結晶と径大
部又はくびれを共にワイヤ方式で引き上げる場合に装置
の高さが大きくなることを効果的に防止することがで
き、また、高温下の影響及びパーティクル混入の問題を
回避し得る。
【図1】本発明に係る単結晶引き上げ装置の第1の実施
形態の要部を示す構成図である。
形態の要部を示す構成図である。
【図2】図1の線A−A’から見た副モータスライド機
構を示す側面断面図である。
構を示す側面断面図である。
【図3】図1の単結晶引き上げ装置の引き上げ動作を示
す説明図である。
す説明図である。
【図4】第2の実施形態の要部を示す構成図である。
【図5】図4の線B−B’から見た副モータスライド機
構を示す側面断面図である。
構を示す側面断面図である。
【図6】第3の実施形態の要部を示す構成図である。
【図7】図6の線C−C’から見た副モータスライド機
構を示す側面断面図である。
構を示す側面断面図である。
2 半導体結晶(単結晶) 2a ダッシュネック部 2b 径大部 2c くびれ 7 主ワイヤ(第1のワイヤ) 8 主ドラム(第1のドラム) 9 主モータ(第1のモータ) 12 主ドラム送り機構 14 種結晶 20a,20b 副ワイヤ(第2のワイヤ) 21 副モータ(第2のモータ) 22 副ドラム連結ロッド(副モータ軸) 23 副ドラム送りギヤ 27,27a,27b 副ドラム(第2のドラム) 29a,29b 結晶重量検出機構(ロードセルユニッ
ト) 30 くびれ係止部
ト) 30 くびれ係止部
Claims (15)
- 【請求項1】 種結晶が先端に取り付けられる第1のワ
イヤをチャンバ内のルツボに対して昇降させるために第
1のモータにより回転可能な第1のドラムと、 前記第1のドラムと同軸に配置され、単結晶の下方のく
びれを係止して支持する係止部材が先端に取り付けられ
る第2のワイヤを昇降させるために前記第1のモータに
より前記第1のドラムと一体で、さらに第2のモータに
より前記第1のドラムと独立して回転可能な第2のドラ
ムとを、 有し、前記第1のドラムと前記第2のドラムが前記ルツ
ボ及び前記単結晶を格納するチャンバの外部に位置する
よう構成された単結晶引き上げ装置。 - 【請求項2】 前記第2のモータが前記第1のドラムの
内部空間に設けられていることを特徴とする請求項1記
載の単結晶引き上げ装置。 - 【請求項3】 前記第1のドラムと前記第2のドラムが
前記第1のワイヤを中心として回転する手段に取り付け
られていることを特徴とする請求項1又は2記載の単結
晶引き上げ装置。 - 【請求項4】 前記第1のドラム、前記第1のモータ、
前記第2のドラム、前記第2のモータが前記チャンバの
外部のハウジング内に配置されていることを特徴とする
請求項1ないし3のいずれか1つに記載の単結晶引き上
げ装置。 - 【請求項5】 前記第1、第2のドラムは、回転時に前
記第1、第2のワイヤの水平方向の垂下位置が常に一定
になるように水平方向に移動可能であることを特徴とす
る請求項1ないし4のいずれか1つに記載の単結晶引き
上げ装置。 - 【請求項6】 前記第2のモータが前記第1のドラム内
において回転方向に固定されるとともに軸方向に移動可
能に配置され、前記第2のモータの非通電時に前記第2
のドラムに連結された回転軸と前記第2のモータの間が
固定されることを特徴とする請求項1ないし5のいずれ
か1つに記載の単結晶引き上げ装置。 - 【請求項7】 前記第2のモータが、その軸方向に移動
可能なガイドレールを介して前記第1のドラムに固定さ
れていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか
1つに記載の単結晶引き上げ装置。 - 【請求項8】 前記第2のモータの回転軸と前記第2の
ドラムの回転軸が回転力を伝達可能であり、かつ前記第
2のドラムの軸方向に移動可能な態様で連結されている
ことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1つに記
載の単結晶引き上げ装置。 - 【請求項9】 前記第2のドラムと前記第2のドラムの
回転軸が回転力を伝達可能であり、かつ前記第2のドラ
ムの軸方向に移動可能な態様で連結されていることを特
徴とする請求項1ないし8のいずれか1つに記載の単結
晶引き上げ装置。 - 【請求項10】 前記第1のドラムと前記第2のドラム
のそれぞれのワイヤ溝が軸に対して同一方向に傾斜して
いて、かつ前記第1のドラムと前記第2のドラムのワイ
ヤの巻き取り方向が同一であることを特徴とする請求項
1ないし9のいずれか1つに記載の単結晶引き上げ装
置。 - 【請求項11】 前記第1のドラムと前記第2のドラム
のそれぞれのワイヤ巻き取り径が同一であることを特徴
とする請求項1ないし10のいずれか1つに記載の単結
晶引き上げ装置。 - 【請求項12】 前記第1のドラムのワイヤと前記第2
のドラムのワイヤの一方又は双方の垂下位置を規制する
手段が設けられていることを特徴とする請求項1ないし
11のいずれか1つに記載の単結晶引き上げ装置。 - 【請求項13】 前記垂下位置を規制する手段に前記第
1のドラム又は前記第2のドラムにかかる単結晶重量を
検出する重量検出手段が設けられていることを特徴とす
る請求項12記載の単結晶引き上げ装置。 - 【請求項14】 前記第1のドラムと前記第2のドラム
の一方又は双方又はこれらのドラムの回転軸の一方又は
双方に前記第1のドラム又は前記第2のドラムにかかる
単結晶重量を検出する重量検出手段が設けられているこ
とを特徴とする請求項1ないし12のいずれか1つに記
載の単結晶引き上げ装置。 - 【請求項15】 種結晶が先端に取り付けられる第1の
ワイヤをチャンバ内のルツボに対して昇降させるために
第1のモータにより回転可能な第1のドラムと、 前記第1のドラムと同軸に配置され、単結晶の下方のく
びれを係止して支持する係止部材が先端に取り付けられ
る第2のワイヤを昇降させるために前記第1のモータに
より前記第1のドラムと一体で、さらに第2のモータに
より前記第1のドラムと独立して回転可能な第2のドラ
ムとを、 有し、前記第1のドラムと前記第2のドラムが前記ルツ
ボ及び前記単結晶を格納するチャンバの外部に位置する
よう構成された単結晶引き上げ装置による単結晶引き上
げ方法であって、 前記第1のモータにより前記第1のドラムを回転させて
種結晶を上昇させるとともに、前記種結晶に単結晶を成
長させてくびれが形成されるまで前記第2のモータを停
止させた状態で前記第1のモータにより前記第2のドラ
ムを回転させて前記係止部材を上昇させるステップと、 次いで前記第2のモータにより前記第2のドラムを回転
させて前記係止部材を前記径大部の下まで下降させるス
テップと、 次いで前記第2のモータにより前記第2のドラムを回転
させて前記係止部材を前記径大部に当接するまで上昇さ
せるステップと、 次いで前記第2のモータを停止させた状態で前記第1の
モータにより前記第2のドラムを回転させて前記係止部
材を上昇させるステップとを、 有する単結晶引き上げ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11094137A JP2000281485A (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | 単結晶引き上げ装置及び単結晶引き上げ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11094137A JP2000281485A (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | 単結晶引き上げ装置及び単結晶引き上げ方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000281485A true JP2000281485A (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=14102016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11094137A Withdrawn JP2000281485A (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | 単結晶引き上げ装置及び単結晶引き上げ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000281485A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8292695B2 (en) | 2007-08-04 | 2012-10-23 | Gehring Technologies Gmbh | Machine for creating non-cylindrical bore surfaces |
| KR20160090099A (ko) * | 2015-01-21 | 2016-07-29 | 주식회사 엘지실트론 | 단결정 잉곳의 직경 제어 시스템 및 제어 방법 |
-
1999
- 1999-03-31 JP JP11094137A patent/JP2000281485A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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