JP2000286185A - スピンチャック - Google Patents
スピンチャックInfo
- Publication number
- JP2000286185A JP2000286185A JP9147499A JP9147499A JP2000286185A JP 2000286185 A JP2000286185 A JP 2000286185A JP 9147499 A JP9147499 A JP 9147499A JP 9147499 A JP9147499 A JP 9147499A JP 2000286185 A JP2000286185 A JP 2000286185A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- spin chuck
- bottom plate
- supporting
- vacuum suction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 基板Wを保持してその表面に処理を行うため
に回転するスピンチャックを基板Wの裏面の周辺部のみ
を支持して裏面の内部の主要部分に汚れ、キズ等をつけ
ないように構成したものにおいて、基板Wの搬送装着に
際してのスピンチャックと基板Wとの回転方向の高精度
な位置合わせを不要とする。 【解決手段】 底板57の上面に設けられる基板支持部
材59を基板Wの下面周縁部を支持して基板下面の主要
部分を底板57から浮かせるように配置し、それに真空
吸着孔を設けて吸着してスピンチャックの回転動作の加
速、減速時に滑りが生じないような摩擦力を得て、載置
される基板Wの水平方向位置を規制する規制ピンは回転
方向の位置規制は不要とする。そこで、規制ピンは適用
する基板Wの径に応じて同じ円上に配置される。
に回転するスピンチャックを基板Wの裏面の周辺部のみ
を支持して裏面の内部の主要部分に汚れ、キズ等をつけ
ないように構成したものにおいて、基板Wの搬送装着に
際してのスピンチャックと基板Wとの回転方向の高精度
な位置合わせを不要とする。 【解決手段】 底板57の上面に設けられる基板支持部
材59を基板Wの下面周縁部を支持して基板下面の主要
部分を底板57から浮かせるように配置し、それに真空
吸着孔を設けて吸着してスピンチャックの回転動作の加
速、減速時に滑りが生じないような摩擦力を得て、載置
される基板Wの水平方向位置を規制する規制ピンは回転
方向の位置規制は不要とする。そこで、規制ピンは適用
する基板Wの径に応じて同じ円上に配置される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、スピンチャックに
関し、特に基板の一面をチャックして他面に処理を行う
ために回転するスピンチャックにおいて、一面の周辺部
のみをチャックして一面の内部の主要部分に汚れ、キズ
等をつけないようにしたスピンチャックに関する。
関し、特に基板の一面をチャックして他面に処理を行う
ために回転するスピンチャックにおいて、一面の周辺部
のみをチャックして一面の内部の主要部分に汚れ、キズ
等をつけないようにしたスピンチャックに関する。
【0002】
【従来の技術】従来一般に、基板を保持して回転して基
板の表面に薬液の塗布等の処理を行うスピンチャックは
基板の裏面を真空吸着によって保持するように構成され
ている。ところが、その強い吸着力に起因して基板裏面
にチャック跡が残り、このチャック跡が前工程からの汚
染に加わり、基板表面の高さにズレを生じて、例えばフ
ォトレジストの露光時のフォーカス異常を発生させる問
題があった。また、基板の裏面に付着したパーティクル
が離脱し、カセットに収容する場合に、下側に収容され
ている基板の表面を汚染するとか、あるいは、基板搬送
装置に転移して他の基板を汚染するといった問題があっ
た。さらに、基板が半導体ウェーハの場合で、スピンチ
ャックで回転させて裏面に処理を行う場合には表側には
半導体装置が作り込まれているがこれらを不良品として
しまうといった問題があった。
板の表面に薬液の塗布等の処理を行うスピンチャックは
基板の裏面を真空吸着によって保持するように構成され
ている。ところが、その強い吸着力に起因して基板裏面
にチャック跡が残り、このチャック跡が前工程からの汚
染に加わり、基板表面の高さにズレを生じて、例えばフ
ォトレジストの露光時のフォーカス異常を発生させる問
題があった。また、基板の裏面に付着したパーティクル
が離脱し、カセットに収容する場合に、下側に収容され
ている基板の表面を汚染するとか、あるいは、基板搬送
装置に転移して他の基板を汚染するといった問題があっ
た。さらに、基板が半導体ウェーハの場合で、スピンチ
ャックで回転させて裏面に処理を行う場合には表側には
半導体装置が作り込まれているがこれらを不良品として
しまうといった問題があった。
【0003】そこで、上述のような問題を回避するため
に、特開平8−222512号公報に提案がある。
に、特開平8−222512号公報に提案がある。
【0004】そのスピンチャックを図面を用いて説明す
る。図4は要部の平面図、図5は要部の斜視図であり、
図6は拡大要部断面図である。電動サーボモータ(図示
せず)の駆動によって鉛直方向の軸芯周りで回転する回
転軸(図示せず)の上端に、基板Wの外周縁を載置して
保持するスピンチャック3が一体回転可能に取り付けら
れている。スピンチャック3は、回転軸(図示せず)に
一体回転可能に連結される底板7に、その周方向に所定
間隔を隔てて6本の規制ピン8…を設けるとともに、規
制ピン8…よりも回転中心側に基板Wを支持する3本の
ピン状の基板支持部材9…を設けて構成され、規制ピン
8…を基板Wの外周端縁に点接触させて基板Wの水平方
向の位置を規制するとともに、基板支持部材9…を基板
Wの裏面に点接触させて基板Wを支持するように構成さ
れている。規制部材8…のうちの所定の2本は、基板W
のオリエンテーションフラットの外周端縁に点接触して
基板Wに回転力を有効に伝達できるように設けられてい
る。
る。図4は要部の平面図、図5は要部の斜視図であり、
図6は拡大要部断面図である。電動サーボモータ(図示
せず)の駆動によって鉛直方向の軸芯周りで回転する回
転軸(図示せず)の上端に、基板Wの外周縁を載置して
保持するスピンチャック3が一体回転可能に取り付けら
れている。スピンチャック3は、回転軸(図示せず)に
一体回転可能に連結される底板7に、その周方向に所定
間隔を隔てて6本の規制ピン8…を設けるとともに、規
制ピン8…よりも回転中心側に基板Wを支持する3本の
ピン状の基板支持部材9…を設けて構成され、規制ピン
8…を基板Wの外周端縁に点接触させて基板Wの水平方
向の位置を規制するとともに、基板支持部材9…を基板
Wの裏面に点接触させて基板Wを支持するように構成さ
れている。規制部材8…のうちの所定の2本は、基板W
のオリエンテーションフラットの外周端縁に点接触して
基板Wに回転力を有効に伝達できるように設けられてい
る。
【0005】図6の要部の拡大断面図に示すように、底
板7の下向き面の所定の3箇所に下方に延びる筒体11
が取り付けられ、その筒体11…それぞれ内に基板支持
部材9の下方側が昇降可能に内嵌されるとともに、基板
支持部材9を下降側に変位するように付勢する圧縮コイ
ルスプリング12が設けられている。筒体11の下部に
開口13が形成され、その開口13の下方に対応させ
て、基板支持部材9に当接して上昇させる押圧部材14
が昇降可能に設けられるとともに押圧部材14にエアシ
リンダ15が連動連結されている。この押圧部材14と
エアシリンダ15とから成る構成を昇降手段と称する。
板7の下向き面の所定の3箇所に下方に延びる筒体11
が取り付けられ、その筒体11…それぞれ内に基板支持
部材9の下方側が昇降可能に内嵌されるとともに、基板
支持部材9を下降側に変位するように付勢する圧縮コイ
ルスプリング12が設けられている。筒体11の下部に
開口13が形成され、その開口13の下方に対応させ
て、基板支持部材9に当接して上昇させる押圧部材14
が昇降可能に設けられるとともに押圧部材14にエアシ
リンダ15が連動連結されている。この押圧部材14と
エアシリンダ15とから成る構成を昇降手段と称する。
【0006】上記構成により、基板Wの搬入時には、ロ
ータリー・エンコーダなどにより所定位置の回転角度位
置で停止されたスピンチャック3に対して押圧部材14
を上昇させ、基板支持部材9に当接してそれを基板Wの
受け渡し位置まで上昇させる。そして、基板Wの受け渡
し後には、押圧部材14を筒体11外まで下降させて、
基板支持部材9に対して非当接状態にし、圧縮コイルス
プリング12の弾性復元力により基板支持部材9を下降
させ、基板Wを処理位置に下降する。この状態で、基板
Wを回転して例えばレジスト液の塗布を行う。次いで、
基板Wを搬出するときには、スピンチャック3の回転を
ロータリー・エンコーダなどにより所定の回転角度位置
で停止させ、スピンチャック3に対して押圧部材14を
上昇させ、基板支持部材9に当接してそれに支持された
基板Wを受け渡し位置まで上昇させて搬出する。
ータリー・エンコーダなどにより所定位置の回転角度位
置で停止されたスピンチャック3に対して押圧部材14
を上昇させ、基板支持部材9に当接してそれを基板Wの
受け渡し位置まで上昇させる。そして、基板Wの受け渡
し後には、押圧部材14を筒体11外まで下降させて、
基板支持部材9に対して非当接状態にし、圧縮コイルス
プリング12の弾性復元力により基板支持部材9を下降
させ、基板Wを処理位置に下降する。この状態で、基板
Wを回転して例えばレジスト液の塗布を行う。次いで、
基板Wを搬出するときには、スピンチャック3の回転を
ロータリー・エンコーダなどにより所定の回転角度位置
で停止させ、スピンチャック3に対して押圧部材14を
上昇させ、基板支持部材9に当接してそれに支持された
基板Wを受け渡し位置まで上昇させて搬出する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】このスピンチャック3
みによれば規制ピン8…で水平方向の位置規制を行うと
ともに、規制ピン8…よりも回転中心側(基板Wの周辺
部)に配置した3本のピン状の基板支持部材で基板Wを
下面より支持するするので基板Wの下面の主要な部分
(中よりの部分)は汚れたり傷ついたりしない。しかし
ながら、このスピンチャック3は真空吸着を行わないの
でその回転動作を良好に基板Wに伝えるべく図4に示す
ようにオリエンテーションフラットOFの位置を規制す
るように規制ピン8,8を設けて急速に回転が加速、減
速しても基板Wが滑りを生じないようにしている。従っ
て、これに基板Wを載置するにはスピンチャック3の回
転方向位置と、基板Wの回転方向位置を正確に合わせな
ければならない。そこで、ロータリー・エンコーダなど
により正確に所定の回転角度位置で停止させると共に、
そこに基板Wを搬送する装置も正確に基板Wの向きを制
御する機能を要する。即ちこのスピンチャック3を使用
する装置例えばフォトレジストの塗布装置は高度の停止
角度位置の制御を必要とし、簡単で安価な装置、例えば
人の手で基板を着脱するような簡単な装置には不向きで
ある。そこで、この発明は上記のスピンチャックと同様
に基板の下面の中心部主要な部分は汚れたり傷ついたり
しないものであって、基板の装着に際して基板の回転方
向位置とスピンチャックの回転方向位置とを高精度に位
置合わせすることを不要としたスピンチャックを提供す
る。
みによれば規制ピン8…で水平方向の位置規制を行うと
ともに、規制ピン8…よりも回転中心側(基板Wの周辺
部)に配置した3本のピン状の基板支持部材で基板Wを
下面より支持するするので基板Wの下面の主要な部分
(中よりの部分)は汚れたり傷ついたりしない。しかし
ながら、このスピンチャック3は真空吸着を行わないの
でその回転動作を良好に基板Wに伝えるべく図4に示す
ようにオリエンテーションフラットOFの位置を規制す
るように規制ピン8,8を設けて急速に回転が加速、減
速しても基板Wが滑りを生じないようにしている。従っ
て、これに基板Wを載置するにはスピンチャック3の回
転方向位置と、基板Wの回転方向位置を正確に合わせな
ければならない。そこで、ロータリー・エンコーダなど
により正確に所定の回転角度位置で停止させると共に、
そこに基板Wを搬送する装置も正確に基板Wの向きを制
御する機能を要する。即ちこのスピンチャック3を使用
する装置例えばフォトレジストの塗布装置は高度の停止
角度位置の制御を必要とし、簡単で安価な装置、例えば
人の手で基板を着脱するような簡単な装置には不向きで
ある。そこで、この発明は上記のスピンチャックと同様
に基板の下面の中心部主要な部分は汚れたり傷ついたり
しないものであって、基板の装着に際して基板の回転方
向位置とスピンチャックの回転方向位置とを高精度に位
置合わせすることを不要としたスピンチャックを提供す
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めにこの発明は、回転軸の上端に一体に取り付けられて
回転自在な底板と、その上面に周方向に所定間隔を隔て
て複数立設され、載置される基板の水平方向位置を規制
する規制ピンと、底板の上面に設けられ載置される基板
の下面周縁部を支持して基板下面の主要部分を底板から
浮かせる基板支持部材と、基板支持部材の基板を支持す
る部位に設けた真空吸着孔とを具備することを特徴とす
るスピンチャックを提供する。上記の構成によれば下面
周縁部を支持して基板下面の主要部分を底板から浮かせ
るので基板下面の中心側主要部は汚れたり傷ついたりし
ない。そして、基板支持部材の基板を支持する部位に真
空吸着孔を設けたのでそこを吸着すればスピンチャック
の回転動作を基板に伝えるにたる摩擦力は得られる。そ
こで、基板の水平方向の位置規制を行う規制ピンは基板
の回転方向の位置規制を行う必要はない。
めにこの発明は、回転軸の上端に一体に取り付けられて
回転自在な底板と、その上面に周方向に所定間隔を隔て
て複数立設され、載置される基板の水平方向位置を規制
する規制ピンと、底板の上面に設けられ載置される基板
の下面周縁部を支持して基板下面の主要部分を底板から
浮かせる基板支持部材と、基板支持部材の基板を支持す
る部位に設けた真空吸着孔とを具備することを特徴とす
るスピンチャックを提供する。上記の構成によれば下面
周縁部を支持して基板下面の主要部分を底板から浮かせ
るので基板下面の中心側主要部は汚れたり傷ついたりし
ない。そして、基板支持部材の基板を支持する部位に真
空吸着孔を設けたのでそこを吸着すればスピンチャック
の回転動作を基板に伝えるにたる摩擦力は得られる。そ
こで、基板の水平方向の位置規制を行う規制ピンは基板
の回転方向の位置規制を行う必要はない。
【0009】そこで、規制ピンは適用する基板の径に応
じて同じ円上に配置されているのが好ましい。そうすれ
ば、オリエンテーションフラットのある基板を搬送装着
するに際して、スピンチャックと基板との回転方向の位
置合わせを高精度に行う必要がなくなる。
じて同じ円上に配置されているのが好ましい。そうすれ
ば、オリエンテーションフラットのある基板を搬送装着
するに際して、スピンチャックと基板との回転方向の位
置合わせを高精度に行う必要がなくなる。
【0010】そして、基板支持部材は小さな接触面積で
支持する構造とし、その頂面に開口する真空吸着孔を有
して基板の外周部を支持する位置に周方向の複数個所に
配置しても良いし、基板の外周部を支持する環状形状で
あって、その支持面には周方向の複数個所に配置された
真空吸着孔を備えるようにも出来る。
支持する構造とし、その頂面に開口する真空吸着孔を有
して基板の外周部を支持する位置に周方向の複数個所に
配置しても良いし、基板の外周部を支持する環状形状で
あって、その支持面には周方向の複数個所に配置された
真空吸着孔を備えるようにも出来る。
【0011】
【発明の実施の形態】この発明を図面を参照して説明す
る。図1はこの発明の一実施例の要部の平面図、図2は
そのA−A線での断面図、図3は図1におけるB−B線
での断面図である。電動サーボモータ(図示せず)の駆
動によって鉛直方向の軸芯周りで回転する回転軸51の
上端に、基板Wの外周縁を載置して保持するスピンチャ
ック53が一体回転可能に取り付けられている。スピン
チャック53は、回転軸51に一体回転可能に連結され
る底板57に、その周方向に所定間隔を隔てて6本の規
制ピン8…を設けるとともに、規制ピン8…よりも少し
回転中心側に基板Wを小さな接触面積で支持する基板支
持部材59…を6個所設けて構成され、規制ピン8…を
基板Wの外周端縁に点接触させて基板Wの水平方向の位
置を規制するとともに、基板支持部材59…を基板Wの
裏面に点接触させて基板Wを支持して基板Wの下面が底
板57に接触しないように構成されている。規制部材8
…は基板Wのオリエンテーションフラットに関係なく同
円上に配置されている。
る。図1はこの発明の一実施例の要部の平面図、図2は
そのA−A線での断面図、図3は図1におけるB−B線
での断面図である。電動サーボモータ(図示せず)の駆
動によって鉛直方向の軸芯周りで回転する回転軸51の
上端に、基板Wの外周縁を載置して保持するスピンチャ
ック53が一体回転可能に取り付けられている。スピン
チャック53は、回転軸51に一体回転可能に連結され
る底板57に、その周方向に所定間隔を隔てて6本の規
制ピン8…を設けるとともに、規制ピン8…よりも少し
回転中心側に基板Wを小さな接触面積で支持する基板支
持部材59…を6個所設けて構成され、規制ピン8…を
基板Wの外周端縁に点接触させて基板Wの水平方向の位
置を規制するとともに、基板支持部材59…を基板Wの
裏面に点接触させて基板Wを支持して基板Wの下面が底
板57に接触しないように構成されている。規制部材8
…は基板Wのオリエンテーションフラットに関係なく同
円上に配置されている。
【0012】基板支持部材59…はその頂面に開口する
真空吸着孔59aを有して真空吸着ノズルを構成してい
る。真空吸着孔59aは底板57、回転軸51内に設け
られた通気路57a、51aを介して吸気ポンプ(図示
せず)に接続する。
真空吸着孔59aを有して真空吸着ノズルを構成してい
る。真空吸着孔59aは底板57、回転軸51内に設け
られた通気路57a、51aを介して吸気ポンプ(図示
せず)に接続する。
【0013】上記構成により、基板Wの搬入時には、ス
ピンチャック53が正確に所定の回転角度位置で停止さ
れていなくても規制ピン8…は同円上に配置されている
ので基板Wのオリエンテーションフラットの方向を精度
良く合わせることなく搬入装着できる。即ち、オリエン
テーションフラット部がたまたま位置して真空吸着孔5
9aが塞がらず吸着出来ない事態をさける程度の精度で
良い。そして、真空吸着孔59aにより真空吸着すれば
基板支持部材59…上に基板Wは固定される。その吸着
力は基板下面全体を利用して吸着するものに比較すれば
かなり弱いが、スピンチャック53の加速、減速に際し
て滑りが生じない程度の摩擦が得られればよい。基板の
水平方向の規制は規制ピン8…で行う。
ピンチャック53が正確に所定の回転角度位置で停止さ
れていなくても規制ピン8…は同円上に配置されている
ので基板Wのオリエンテーションフラットの方向を精度
良く合わせることなく搬入装着できる。即ち、オリエン
テーションフラット部がたまたま位置して真空吸着孔5
9aが塞がらず吸着出来ない事態をさける程度の精度で
良い。そして、真空吸着孔59aにより真空吸着すれば
基板支持部材59…上に基板Wは固定される。その吸着
力は基板下面全体を利用して吸着するものに比較すれば
かなり弱いが、スピンチャック53の加速、減速に際し
て滑りが生じない程度の摩擦が得られればよい。基板の
水平方向の規制は規制ピン8…で行う。
【0014】この状態で、基板Wを回転して例えばレジ
スト液の塗布を行う。次いで、基板Wを搬出するときに
は、スピンチャック53の回転を停止させ、真空吸着を
切り、基板Wを取り出す。
スト液の塗布を行う。次いで、基板Wを搬出するときに
は、スピンチャック53の回転を停止させ、真空吸着を
切り、基板Wを取り出す。
【0015】このスピンチャック53によれば、基板支
持部材59…を基板Wの外周部を支持するように設けた
ので基板Wの下面中ほど主要部分にキズを付けたり汚し
たりすることがなくなる。そして、基板支持部材59…
を真空吸着ノズルとしたのでスピンチャック53の回転
動作の加速、減速時に基板Wが滑らない程度の摩擦がえ
られ、規制ピンをオリエンテーションフラットに合わせ
て配置する必要がなくなり同じ円上に配置すれば良く、
そうすれば基板の搬送装着に際しての高精度に位置合わ
せが不要となる利点を有する。
持部材59…を基板Wの外周部を支持するように設けた
ので基板Wの下面中ほど主要部分にキズを付けたり汚し
たりすることがなくなる。そして、基板支持部材59…
を真空吸着ノズルとしたのでスピンチャック53の回転
動作の加速、減速時に基板Wが滑らない程度の摩擦がえ
られ、規制ピンをオリエンテーションフラットに合わせ
て配置する必要がなくなり同じ円上に配置すれば良く、
そうすれば基板の搬送装着に際しての高精度に位置合わ
せが不要となる利点を有する。
【0016】上記実施例では基板支持部材59…を基板
Wの外周部を点状に(接触面積小さく)支持する構造と
したが、基板Wの外周部を支える環状とすることもでき
る。その際真空吸着孔を複数個所に設けて吸着するよう
にすれば良い。
Wの外周部を点状に(接触面積小さく)支持する構造と
したが、基板Wの外周部を支える環状とすることもでき
る。その際真空吸着孔を複数個所に設けて吸着するよう
にすれば良い。
【0017】
【発明の効果】以上の説明のようにこの発明のスピンチ
ャックによれば、基板の外周部を支持して基板下面の主
要部を浮かせ汚れやキズの発生を防止し、しかも支持部
分で真空吸着するのでスピンチャックの回転運動を基板
に伝えるにたる摩擦力が得られ、規制ピンで基板の回転
方向の位置規制を行う必要がなくなる。
ャックによれば、基板の外周部を支持して基板下面の主
要部を浮かせ汚れやキズの発生を防止し、しかも支持部
分で真空吸着するのでスピンチャックの回転運動を基板
に伝えるにたる摩擦力が得られ、規制ピンで基板の回転
方向の位置規制を行う必要がなくなる。
【0018】そこで、規制ピンを同じ円上に配設する
と、基板の搬送装着に際しての高精度での回転方向の位
置合わせが不要となり装置を簡略なものとする。
と、基板の搬送装着に際しての高精度での回転方向の位
置合わせが不要となり装置を簡略なものとする。
【図1】 この発明一実施例の要部平面図。
【図2】 そのA−A線での断面図。
【図3】 図1のB−B線での断面図。
【図4】 従来のスピンチャックの要部平面図。
【図5】 その斜視図。
【図6】 その要部断面図。
8 規制ピン 51 回転軸 53 スピンチャック 57 底板 59 基板支持部材 59a 真空吸着孔 W 基板
Claims (4)
- 【請求項1】回転軸の上端に一体に取り付けられて回転
自在な底板と、 その上面に周方向に所定間隔を隔てて複数立設され、載
置される基板の水平方向位置を規制する規制ピンと、 前記底板の上面に設けられ載置される基板の下面周縁部
を支持して基板下面の主要部分を前記底板から浮かせる
基板支持部材と、 前記基板支持部材の基板を支持する部位に設けた真空吸
着孔とを具備することを特徴とするスピンチャック。 - 【請求項2】前記規制ピンは適用する基板の径に応じて
同じ円上に配置されていることを特徴とする請求項1に
記載のスピンチャック。 - 【請求項3】前記基板支持部材は小さな接触面積で支持
する構造とし、その頂面に開口する真空吸着孔を有して
基板の外周部を支持する位置に周方向の複数個所に配置
されたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の
スピンチャック。 - 【請求項4】前記基板支持部材は基板の外周部を支持す
る環状形状であって、その支持面には周方向の複数個所
に配置された真空吸着孔を備えることを特徴とする請求
項1又は請求項2に記載のスピンチャック。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9147499A JP2000286185A (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | スピンチャック |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9147499A JP2000286185A (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | スピンチャック |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000286185A true JP2000286185A (ja) | 2000-10-13 |
Family
ID=14027405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9147499A Pending JP2000286185A (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | スピンチャック |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000286185A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007141921A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Seiko Epson Corp | 搬送装置、電子部材の搬送方法、及び半導体装置の製造方法 |
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1999
- 1999-03-31 JP JP9147499A patent/JP2000286185A/ja active Pending
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