JP2000286592A

JP2000286592A - 電磁波シールド用フィルター

Info

Publication number: JP2000286592A
Application number: JP11064232A
Authority: JP
Inventors: Masaaki Kikkai; 正彰吉開; Masato Koyama; 正人小山; Akira Suzuki; 彰鈴木; Yuichiro Harada; 祐一郎原田; Yoshihiro Sakai; ▲祥▼浩坂井
Original assignee: Mitsui Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Chemicals Inc
Priority date: 1999-01-28
Filing date: 1999-03-11
Publication date: 2000-10-13

Abstract

(57)【要約】【課題】ディスプレイ表面からの放熱にあっても優れ
た粘着性を維持し、粘着面に気泡の発生がない、薄型化
・軽量化された電磁波シールド用フィルターを提供する【解決手段】透明プラスチックフィルムの片面に透明
導電性薄膜層、他の片面に８０℃における粘着力が少な
くとも１０ｇ／ｃｍである粘着剤層がそれぞれ形成され
てなる電磁波シールド用フィルター。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド用フ
ィルターに関する。詳しくは、プラズマディスプレイ
（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）、液晶表示装置（Ｌ
ＣＤ）等のディスプレイから発生する電磁波を低減させ
るために用いる電磁波シールド用フィルターに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、社会が高度に情報化されるように
なってきている。それに従って、情報関連機器・関連部
品に対する技術が著しく進歩・普及するようになった。
その中で、ディスプレイ装置は、テレビジョン用、パー
ソナルコンピュータ用、駅や空港などの案内表示用、そ
の他各種の情報提供用に用いられている。その様々な用
途に用いるためにディスプレイ装置には様々な特性が要
求されるようになってきており、特にその大型でかつ、
薄型であることが要求されるようになってきた。それら
の要求の中で、大型でかつ薄型のディスプレイとして、
プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）が注目されている。し
かしながら、プラズマディスプレイには、その原理上の
問題から強度の漏洩電磁界を発生するという問題点を有
している。漏洩電磁界の影響に関しては、近年特に関心
が持たれるようになってきており、特に、人体や他の電
子機器に対する影響を防ぐ必要がある。また、更にプラ
ズマディスプレイ装置からは、そのプラズマ中の励起原
子から発生する近赤外線光がコードレスフォン、リモコ
ン等の電子機器に作用して誤動作を引き起こすという問
題も起こす可能性がある。

【０００３】そのため、ディスプレイ装置、特にＰＤＰ
には、漏洩電磁界および近赤外光を遮蔽するためのフィ
ルター（電磁波シールド用フィルター）が用いられてい
る。近赤外線および電磁界の遮蔽材料としては、現在の
ところ大きく分けて、アースした金属メッシュ、合成
樹脂または金属繊維のメッシュに金属を被覆したもの
と、近赤外線を吸収する色素とを組み合わせたものと、
酸化インジウム−錫（ＩＴＯ）に代表される透明導電
性薄膜と（場合によっては）近赤外線を吸収する色素と
を組み合わせたものがある。

【０００４】の例としては、例えば、特開平９−３３
０６６７号公報には、透明樹脂板上に導電性ペーストを
メッシュ状に塗布乾燥させて作成した電磁波シールド板
が開示されている。また、の例としては、特開平１０
−７３７１９号公報等に記載された、透明高分子フィル
ムの一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｄ）、金属
薄膜層（Ｅ）が順次、（Ｄ）／（Ｅ）を繰り返し単位と
して４回以上繰り返し積層され、さらにその上に高屈折
率透明薄膜層（Ｄ）、透明樹脂層が形成された調光フィ
ルムが貼り合わされたディスプレイ用光学フィルターが
挙げられる。これらの電磁波シールド層を用いると効率
よく匡体から発生する電磁波、及び近赤外線を遮蔽する
ことが可能となる。特に、後者の例では、電磁波シール
ド層として透明導電性の薄膜を使用しており、前者と比
較してメッシュによる遮光部分の発生やモワレの発生が
なく、特に好ましい。これらの電磁波シールド層自体
は、機械的強度が充分ではないためにガラス板やプラス
チック板などの支持板と共に用いられている。

【０００５】一方、先にも述べたようにディスプレイ装
置の薄型化・軽量化が必要になってきている。特に、Ｐ
ＤＰは匡体自身の薄型化・軽量化が容易であるために壁
掛け型のディスプレイ用への応用が期待されている。し
かしながら、上述した支持板付きの電磁波フィルターを
用いた場合、支持板が原因でディスプレイの薄型化・軽
量化が困難となる。そのため、支持板の薄型・軽量化が
検討されたが、ガラスの場合では薄型化すると割れやす
くなる、プラスチック板の場合では機械的強度がなくな
り、しかも経時による反りの発生の問題等が起こり、薄
型化・軽量化を施すことには限界があった。また、匡体
に直接電磁波シールド層を形成したプラスチックフィル
ムを直接貼り合わせることが検討されたが、特にＰＤＰ
の場合であるが、経時により泡が発生したり、ひどい場
合にはプラスチックフィルムが匡体から剥がれるなどの
問題が発生していた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題に鑑み、ディスプレイ表面からの放熱に合っても優
れた粘着性を維持し、粘着面に気泡の発生がない、薄型
化・軽量化された電磁波シールド用フィルターを提供す
ることにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の課
題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、電磁波シール
ド層を形成したプラスチックフィルムをディスプレイ匡
体に直接貼付することにより薄型化、軽量化が可能であ
ること、直接貼付した場合に問題となっていた泡及び剥
離の発生問題は、ディスプレイ表面が高温であるために
発生すること、粘着剤の剥離はディスプレイ側、及び透
明プラスチックフィルム側の双方で発生する可能性が有
り、より密着性の悪い側で発生すること、並びに、ディ
スプレイの表面温度は７０℃程度であること等を見出し
た。これらの問題は、電磁波シールド層が形成された透
明プラスチックフィルムの反対面に、特定の粘着力を有
する粘着剤層を形成することにより解決できることを見
出し、本発明を完成させた。

【０００８】すなわち、本発明は、透明プラスチックフ
ィルムの片面に透明導電性薄膜層、他の片面に８０℃に
おける粘着力が少なくとも１０ｇ／ｃｍである粘着剤層
がそれぞれ形成されてなる電磁波シールド用フィルター
である。

【０００９】本発明に係わる電磁波シールド用フィルタ
ーの好ましい態様として、透明導電性薄膜層が、高屈折
率透明薄膜層（ａ）及び金属薄膜層（ｂ）が交互に少な
くとも２回繰り返し積層され、最下層及び最上層が
（ａ）で形成されてなり、且つ、表面抵抗率が０．５〜
１０Ω／□、全光線透過率が５０％以上である前記の電
磁波シールド用フィルターが挙げられる。その場合、高
屈折率透明薄膜層（ａ）は、金属酸化物または金属硫化
物で形成されたものが好ましく、特に、酸化インジウム
−錫、酸化インジウム及び酸化錫から選ばれた少なくと
も１種の金属酸化物薄膜層であることが好ましい。一
方、金属薄膜層（ｂ）が、銀または銀合金の薄膜層であ
ることが好ましい。また、粘着剤層は、アクリル系粘着
剤で形成されたものが好ましい。上記積層体からなる本
発明に係わる電磁波シールド用フィルター全体の厚みは
２５〜３５０μｍ程度である。

【００１０】本発明の電磁波シールド用フィルターは、
ディスプレイ表面からの放熱に合っても、気泡の発生が
なく、優れた粘着性を維持する。また、ディスプレイ表
面に貼付する際に支持板等を使用する必要がなく、薄型
化、軽量化が可能である。従って、本発明の電磁波シー
ルド用フィルターは、プラズマディスプレー、ブラウン
管及び液晶表示装置を含む表示装置用電磁波シールド用
フィルターとして極めて有用である。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の電磁波シールド用フィル
ターは、透明プラスチックフィルムの片表面に、電磁波
シールド層である透明導電性薄膜層を形成し、他の片表
面に特定の粘着力を有する粘着剤層を形成することによ
り製造される。

【００１２】本発明で用いる透明プラスチックフィルム
としては、透明であれば特に限定されない。例えば、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、
ポリアリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレン、ポリ
エステル、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド等
のホモポリマー、およびこれらの樹脂のモノマーと共重
合可能なモノマーとのコポリマーからなる高分子フィル
ムが挙げられる。

【００１３】透明プラスチックフィルムの形成法として
は、溶融押し出し法、キャスト法、カレンダー法等の公
知のプラスチックフィルムの製造法を用いる事が可能で
ある。また、後に述べる透明導電性薄膜層は、透過色・
反射色ともに着色しており、好ましくない色である場合
がある。その際の色の補正を目的として、透明プラスチ
ックフィルムを着色することも可能である。着色の方法
としては、前記プラスチックフィルムを形成する際に色
素と前もって混合してからフィルム化する方法、樹脂中
に色素を分散させインキ化し、塗布乾燥させる方法、着
色したプラスチックフィルムを貼り合わせる方法等が挙
げられる。

【００１４】透明プラスチックフィルムの全光線透過率
は、７０％以上であることが好ましい。７５％以上であ
る事が更に好ましい。８０％以上である事が最も好まし
い。これらの透明プラスチックフィルムの全光線透過率
は９２％を超える事は一般的にはない。ただし、反射防
止層などを形成して光線透過率を上げる事により上記の
値を超える事は可能である。また、透明プラスチックフ
ィルムの厚みは、ハンドリング性の観点から２５〜３０
０μｍ程度が好ましい。さらに、電磁波シールド層であ
る透明導電性薄膜層との密着性を向上させる事を目的と
して、透明導電性薄膜層を形成する面に、例えば、水性
ポリウレタン系、シリコン系コート剤等の密着性を向上
させるための下地層を形成する事も可能である。また、
透明プラスチックフィルムの表面改質を行なって、密着
性を向上させ手も良い。表面の改質方法としては、コロ
ナ放電処理、プラズマグロー処理等の物理的手法が挙げ
られる。

【００１５】本発明では、電磁波シールド層として透明
導電性薄膜が好ましくを用いられる。透明導電性薄膜
は、メッシュの場合と異なり、電磁波シールド面全体を
覆っており、ディスプレイの表示分解能を落とすことが
ない。また、近赤外線の反射能も兼ね備えており、さら
に、ロール状での加工が可能であるなど多くの優れた特
徴を有しており、本発明の目的に良く合致した電磁波シ
ールド層となり得る。

【００１６】従来、電磁波シールド層としては、この他
に金属のメッシュ、金属を樹脂中に分散させた導電性ペ
ーストをメッシュ状に塗布・乾燥させたもの等がある
が、メッシュ自体は光を透過しないために光を透過しな
い部分が現れたり、モワレの発生、メッシュを形成する
際に断線部分が生じ、歩留りが悪くなるなどの問題が有
り、好ましくない。

【００１７】電磁波シールド層である透明導電性薄膜層
の形成は、透明プラスチックフィルムの片面上に形成す
る事が好ましい。両面上に形成すると電磁波シールド層
の接地が困難となり好ましくない。本発明における透明
導電性薄膜としては、高屈折率薄膜層と金属薄膜層とか
らなる事が好ましい。一般的に、透明導電性薄膜として
知られている酸化インジウム−錫（ＩＴＯ）、酸化亜鉛
（ＺｎＯ）などの金属酸化物系の透明導電性薄膜層単独
の場合、表面抵抗値を下げるためには薄膜層を厚くする
必要が有り、その場合、全光線透過率が大幅に低下し好
ましくない。また、高屈折率透明薄膜層と金属薄膜層と
は繰り返し積層する事が好ましい。この場合、最表面層
は、高屈折率透明薄膜層である事が好ましい。最表面層
が金属薄膜層である場合、空気層もしくは樹脂層と金属
層との間に直接反射する界面が出来るため、光の反射が
大きくなり、光線透過率が大幅に低下するために好まし
くない。また、金属層が直接外気にさらされ金属層の劣
化が進行することもある。この観点からも好ましくな
い。

【００１８】繰り返しの積層回数は２回以上が好まし
い。３〜６回が更に好ましい。繰り返しの積層回数が上
記の範囲よりも大きい場合には、各層の膜厚の誤差が全
体の光学特性の精度に大きく影響を及ぼすようになり、
しかも生産性が悪くなるために好ましくない。また、繰
り返しの積層回数が少ないと有効に電磁波を遮蔽するた
めには各金属薄膜層の厚みを厚くしなくてはならない。
その場合、反射強度が大きくなるため、全光線透過率が
著しく低下し、要求される光学特性を達成する事が困難
となるため、好ましくない。

【００１９】本発明で用いる透明導電性薄膜層の表面抵
抗率は、０．５〜１０Ω/□であることが好ましい。
０．７〜５Ω/□であることが更に好ましい。表面抵抗
率が上記の範囲内である場合、良好な電磁波シールド特
性と光学特性とを両立する事が可能となる。表面抵抗率
が上記の範囲よりも低い場合、電磁波シールド特性自身
は良好であるものの、光線透過率が著しく低下するため
に好ましくない。また、表面抵抗率が上記の範囲よりも
高い場合は、光学特性は良好になるものの、電磁波シー
ルド特性が悪くなるために好ましくない。

【００２０】上記透明導電性薄膜の全光線透過率は５０
％以上であることが好ましく、６０％以上である事が更
に好ましい。６５％以上である事が最も好ましい。全光
線透過率がこれらの値よりも低い透明導電性薄膜層を用
いた電磁波フィルターをディスプレイに組み付けると画
面が暗くなるために好ましくない。上述したように、本
発明では透明導電性薄膜層の一部を金属薄膜層で形成す
る。そのため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との厚
みを光学的に最適化しても金属薄膜層による金属の光の
吸収・反射を避ける事は出来ない。よって、通常、本発
明で用いる透明導電性薄膜層の全光線透過率の上限は８
０％程度である。

【００２１】本発明で用いる高屈折率透明薄膜層として
は、特に材質が限定されるものではないが、好ましくは
屈折率が１．６以上、より好ましくは１．８以上の材料
が好ましい。このような高屈折率透明薄膜層を形成し得
る具体的な材料としては、インジウム、チタン、ジルコ
ニウム、ビスマス、錫、亜鉛、アンチモン、タンタル、
セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシ
ウム、ガリウム等の酸化物または硫化物、これらの酸化
物または硫化物の混合物、複合酸化物等が挙げられる。
これら酸化物あるいは硫化物は、金属と酸素、硫黄との
間の化学量論的な組成にずれがあっても、光学特性を大
きく変えない範囲にあれば差し支えない。これらの材料
の中で酸化インジウム、酸化インジウム−錫（ＩＴ
Ｏ）、酸化錫等は、透明性が高く、屈折率が高い事に加
えて、製膜速度が速く、金属薄膜層との密着性が良好で
ある事から好ましく用いる事が出来る。

【００２２】高屈折率透明薄膜層の厚みとしては要求す
る光学特性から求まるものであり、特に制限されるもの
ではないが、各層の厚みは５〜２００ｎｍが好ましく、
１０〜１００ｎｍが更に好ましい。また、先にも述べた
ように高屈折率透明薄膜層は、金属薄膜層と繰り返し交
互に積層されるが、各高屈折率透明薄膜層は同じ材料で
ある必要はなく、また、同じ厚みである必要もない。高
屈折率透明薄膜層の形成方法としては、スパッタリング
法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト
法、真空蒸着法、湿式塗工法など公知の手法を用いる事
が出来る。即ち、先ず、透明プラスチックフィルムの片
面に、第１層目の高屈折率透明薄膜層を形成し、該高屈
折率透明薄膜層の表面に第１層目の金属薄膜層を形成す
る。以降、高屈折率透明薄膜層と金属薄膜層を交互に繰
り返して積層し、最後に、最上層を高屈折率透明薄膜層
とする。

【００２３】金属薄膜層の材料としては、銀、金、白
金、パラジウム、ニッケル、クロム、亜鉛、ジルコニウ
ム、チタン、タングステン、錫等、あるいは、これらの
中から選ばれる少なくとも一つの金属を含む合金から挙
げられる。中でも、銀はその表面抵抗率の低さ、赤外反
射特性が良好な事、高屈折率透明薄膜層と積層した場合
の全光線透過特性が優れるために好ましく用いる事が出
来る。しかしながら、銀は化学的・物理的安定性に乏し
いため、環境中の汚染物質・水分・熱・光線によって劣
化しやすい。そのため、銀と金・白金・パラジウム・イ
ンジウム等の環境に安定な金属一種以上との合金も好ま
しく用いる事が出来る。

【００２４】各金属薄膜層の厚みは、島状構造でない事
が好ましいため４ｎｍ以上が好ましく、透明性の観点か
ら３０ｎｍ以下が好ましい。ただし、上記の範囲よりも
厚くなってもフィルターにした場合の全光線透過率が４
０％以上である場合には使用する事が可能である。高屈
折率透明薄膜層の場合と同じ様に、各金属薄膜層の厚み
は同じである必要はなく、また、同じ材質である必要も
ない。金属薄膜層の形成方法としては、上述した高屈折
率透明薄膜層の形成方法をそのまま用いる事が出来る。

【００２５】透明導電性薄膜層、特に金属薄膜層の劣化
防止を目的として、透明導電性薄膜層の周端部を封止す
る事も可能である。例えば、トリアジンアミン系化合
物、チオジプロピオン酸エステル系化合物、ベンゾイミ
ダゾール系化合物等の単独もしくはこれらの化合物を含
む透明樹脂を前記の目的のために使用する事が可能であ
る。また、透明導電性薄膜層の最表面に耐擦傷性の向
上、反射防止性能の向上、耐環境特性の向上を目的とし
て、保護層を設ける事も可能である。保護層の形成方法
としては、有効成分を含む樹脂を直接塗布する方法、保
護フィルムと貼り合わせる方法等が挙げられる。

【００２６】本発明の電磁波シールド用フィルターに
は、遮蔽した電磁波を除去するために接地する事も当然
可能である。接地方法としては、一般的に用いられてい
る方法、例えば、透明導電性薄膜層の周端部に銅などの
金属線を電気的に接続させる方法等が挙げられる。本発
明の電磁波シールド用フィルターは、透明プラスチック
フィルムの片面（透明導電性薄膜層が形成されていない
側の面）に粘着剤層が形成される。この粘着剤層を介し
てディスプレイ本体に直接貼り合わせることが可能であ
る。直接ディスプレイ本体と電磁波シールド用フィルタ
ーとを貼り合わせる事により、従来の電磁波シールド用
フィルターでは必要不可欠であった支持板を用いる必要
が無く、ディスプレイ全体の薄型化・軽量化を達成する
事が可能となる。

【００２７】一般的には、ディスプレイの表面はガラス
製であるので、粘着剤層を用いて貼り合わせるのは、透
明プラスチックフィルムとガラス板である。その接着面
に気泡が生じたり、剥離が生じたりすると画像が歪む、
表示色がディスプレイ本来のものと異なって見える等の
問題が発生する。また、気泡および剥離の問題はいずれ
の場合でも、粘着剤層がプラスチックフィルムまたはガ
ラス板より剥離することにより発生する。この現象は、
プラスチックフィルム側、ガラス板側ともに発生する可
能性が有り、より密着力の弱い側で剥離が発生する。従
って、高温における粘着剤層とプラスチックフィルム・
ガラス板との密着力が高いことが必要となる。具体的に
は、透明プラスチックフィルム及びガラス板と粘着剤層
との粘着力は、８０℃において１０ｇ／ｃｍ以上である
ことが好ましい。３０ｇ以上であることが更に好まし
い。上記粘着力が高いほうが本発明の目的には好まし
い。但し、２０００ｇ／ｃｍを超えるような粘着剤は、
貼り合わせ作業が困難と成るために好ましくない場合が
ある。粘着剤層の表面（透明プラスチックフィルムと接
していない面）を保護するために、易剥離性のフィルム
等（セパレーター）を配設することも可能である。

【００２８】粘着剤層は透明であるものが好ましい。具
体的には粘着剤層の全光線透過率が７０％以上が好まし
い。８０％以上が更に好ましく、８５〜９２％が最も好
ましい。さらに、霞度が低いことが好ましい。具体的に
は、０〜３％が好ましく、０〜１．５％が更に好まし
い。本発明に係わる粘着剤層を形成する粘着剤は、ディ
スプレイ本来の表示色を変化させないために無色である
ことが好ましい。ただし、樹脂自体が有色であっても粘
着剤層の厚みが薄い場合には実質的には無色とみなすこ
とが可能である。また、後述のように意図的に着色を行
なう場合も同様にこの範囲ではない。

【００２９】上記の特性を有する粘着剤としては、例え
ば、アクリル系樹脂、α−オレフィン樹脂、酢酸ビニル
系樹脂、、アクリル共重合系樹脂、ウレタン系樹脂、エ
ポキシ系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル系樹
脂、エチレン−ビニルアセテート系樹脂、ポリアミド系
樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。これらの
内、アクリル系樹脂が好ましい。同じ樹脂を用いる場合
でも粘着剤または接着剤を重合法により合成する際に架
橋剤の添加量を下げる、粘着性付与材を加える、分子の
末端基を変化させるなどの方法によって、粘着性を向上
させたものでもよい。好ましく使用できる市販品とし
て、綜研化学株式会社製、商品名：ＳＫダイン１４７３
Ｈ、ＳＫダイン１０１ＬＶ、ユニチカ株式会社製、商品
名：エリーテル３２３０、等が挙げられる。尚、本発明
における粘着剤層は、通常、接着剤と称されるもので形
成しても差し支えない。

【００３０】透明性、無色性、ハンドリング性の観点か
ら、粘着剤層の厚みは１〜５０μｍ程度であることが好
ましい。粘着剤層を接着剤で形成する場合は、粘着剤層
の厚みは上記範囲で薄めにする。具体的には１〜２０μ
ｍ程度が好ましい。粘着剤で形成する場合は、粘着剤層
の厚みは上記範囲で厚めにする。具体的には５〜５０μ
ｍ程度が好ましい。ただし、ディスプレイ自体の表示色
を変化させず、透明性も上記特性である場合には、厚み
が上記範囲を超えたもよいことがある。

【００３１】本発明において用いる透明導電性薄膜層
は、通常、有色であり、ディスプレイ自身の表示色を変
化させる場合もある。フィルターとしての透過色を調整
するために、粘着剤層に色素・顔料を添加することによ
り積極的に着色することも可能である。

【００３２】上記の如くして製造される、本発明に係わ
る電磁波シールド用フィルターは、全光線透過率が４０
％以上であることが好ましい。５０％以上であることが
更に好ましく、６０％以上が最も好ましい。全光線透過
率が上記の値よりも低い場合、ディスプレイの画面が暗
くなり好ましくない。また、本発明において用いる透明
導電性薄膜には金属薄膜層が用いられているので全光線
透過率が７８％を超えることは一般的にはない。また、
全体の厚みは２５〜３５０μｍ程度である。

【００３３】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。な
お、評価項目、評価方法に関しては以下のようにして行
なった。（１）フィルターの厚み（ｍｍ）実施例または比較例で得られた試料を幅１００ｃｍ、長
さ１００ｃｍに切り出し、ノギス〔（株）ミツトヨ製、
型式：ディグマチックキャリパ〕を使用して、無作為に
１０個所を選び厚みを測定し、その平均値を算出する。（２）フィルターの重さ（ｇ）前項と同様の試料を３枚作成し、電子天秤〔（株）エー
アンドディー製、型式：ＥＰ−４１ＫＡ〕を用いて重量
を測定し、その平均値を算出する。

【００３４】（３）気泡の確認・剥離面の特定フィルターを市販のプラズマディスプレイ〔日本電気
（株）製、型式：プラズマＸ４２型〕の表面全面に貼り
合わせ、画像を写した状態で４８時間放置した後、直径
０．５ｍｍ以上の気泡の数を計数した。気泡が認められ
た場合は、気泡部分を切り取り、気泡が発生した層を確
認した。

【００３５】（４）粘着力（ｇ／ｃｍ）フィルターを構成しているものと同一の粘着剤層または
接着材層をサンドブラスト処理（直径０．３ｍｍのアル
ミナ粒子を吐出圧力４ｋｇ／ｃｍ²で吹き付ける）を行
なった厚み０．３ｍｍのアルミ板上に、実施例または比
較例と同一の粘着剤層を形成し、その表面に各実施例で
用いた透明プラスチックフィルム、または透明ガラス板
を貼り合わせた。貼り合わせ後、８０℃において２４時
間放置し、サンプルを幅２．５ｃｍ、長さ１０ｃｍに切
り出し、オートグラフ〔（株）島津製作所製、形式：Ａ
ＧＳ−１００Ｄ〕を用いて、粘着剤層と透明プラスチッ
クフィルム、及び、粘着剤層とガラス板との剥離応力
（剥離角度：９０度、剥離速度：１００ｍｍ／ｍｉｎ）
をそれぞれ８０℃の環境下において評価し、粘着力とす
る。

【００３６】（５）全光線透過率（％）分光光度計〔日本電色（株）製、形式：ＮＤＲ−２００
０〕を用いて測定する。透明プラスチックフィルムにつ
いては、各実施例で用いた試料について測定する。透明
導電性薄膜層については、厚み１８８μｍのポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績株式会
社製、商品名：Ａ４１００）の片面に、各実施例と同じ
透明導電性薄膜層を形成して試料とする。すなわち、Ｐ
ＥＴフィルム層と透明導電性薄膜層との積層体を試料と
する。（６）表面抵抗率（Ω／□）４探針式表面抵抗率測定器〔三菱化学（株）製、型式：
ロレスタＳＰ〕を用い、測定点を無作為に１０個所選定
して測定し、平均値を算出して表面抵抗率とする。

【００３７】実施例１厚み１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルム（東洋紡績株式会社製、商品名：Ａ４１０
０）の一方の主面上に酸化インジウム薄膜／銀薄膜／酸
化インジウム薄膜／銀薄膜／酸化インジウム薄膜／銀薄
膜／酸化インジウム薄膜の積層構造からなり、それぞれ
の厚みが４０／１０／８０／１０／８０／１０／４０ｎ
ｍである透明導電性薄膜層を積層し、透明導電性フィル
ムを得た。得られた透明導電性フィルムの透明導電性薄
膜層を形成していない主面上にアクリル系２液架橋型粘
着剤（綜研化学株式会社製、商品名：ＳＫダイン１４７
３Ｈ）を乾燥後の厚みが２５μｍになるように３本リバ
ースコート法により塗布し、８０℃で２分間送風乾燥機
により乾燥させ、粘着剤層を形成し、電磁波シールド用
フィルターを得た。フィルターの重量、厚み、気泡の確
認・剥離面の特定、粘着力、並びに、透明導電層の全光
線透過率及び表面抵抗率を上記方法により測定し、得ら
れた結果を〔表１〕に示す。尚、酸化インジウム薄膜の
形成方法は、ターゲットにインジウムを用い、圧力が
０．００１Ｐａになるように排気した後、全圧が０．１
３Ｐａになるまでアルゴンガスを導入し、さらに、全圧
が０．２６Ｐａになるように酸素ガスを導入した。この
状態でマグネトロンＤＣスパッタリング法により行なっ
た。また、銀薄膜の形成方法は、ターゲットに銀を用
い、圧力が０．００１Ｐａになるように排気した後、全
圧が０．２６Ｐａになるようにアルゴンガスを導入し
た。この状態でマグネトロンＤＣスパッタリング法によ
り行なった。

【００３８】実施例２アクリル２液架橋型粘着剤を、綜研化学株式会社製、商
品名：ＳＫダイン１０１ＶＬＶとした以外は、実施例１
と同様にして片面に粘着剤層を有する電磁波シールド用
フィルターを得た。得られた結果を〔表１〕に示す。実
施例１と同様の評価を行なった。

【００３９】実施例３ポリエステル系のホットメルト接着材〔ユニチカ（株）
製、商品名：エリーテル３２３０〕を乾燥後の厚みが５
μｍになるように塗布した以外は、実施例１と同様にし
て片面に粘着剤層を有する電磁波シールド用フィルター
を得た。

【００４０】比較例１アクリル２液架橋型粘着剤を、綜研化学株式会社製、商
品名：ＳＫダインＳＲ−３とした以外は、実施例１と同
様にして片面に粘着剤層を有する電磁波シールド用フィ
ルターを得た。

【００４１】比較例２比較例１において作成した片面に粘着剤層を有する電磁
波シールド用フィルターを厚み３ｍｍのガラス板と貼り
合わせて電磁波シールド用フィルターとした。得られた
電磁波シールド用フィルターの厚みおよび重量を測定
し、ディスプレイ上に製置し、気泡の確認・剥離面の特
定を行なった。

【００４２】

【表１】

【００４３】＜表１の説明＞[表１]に記載した厚み及び
重量は電磁波シールドフィルターの厚み及び重量、粘着
力Ａは透明プラスチックフィルムとの粘着力、粘着力Ｂ
はガラス面との粘着力、表面抵抗率及び全光線透過率は
透明導電層の表面抵抗率及び全光線透過率を意味する。

【００４４】

【発明の効果】本発明に係わる電磁波シールド用フィル
ターは、ディスプレイ表面からの放熱に合っても、気泡
の発生がなく、優れた粘着性を維持する。また、ディス
プレイ表面に貼付する際に支持板等を使用する必要がな
く、薄型化、軽量化が可能である。従って、本発明の電
磁波シールド用フィルターは、プラズマディスプレー、
ブラウン管及び液晶表示装置を含む表示装置用電磁波シ
ールド用フィルターとして極めて有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｊ 29/89 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者鈴木彰愛知県名古屋市南区丹後通２丁目１番地三井化学株式会社内 (72)発明者原田祐一郎愛知県名古屋市南区丹後通２丁目１番地三井化学株式会社内 (72)発明者坂井 ▲祥▼浩愛知県名古屋市南区滝春町５番地Ｆターム(参考） 2H048 GA01 GA07 GA09 GA11 GA26 GA33 GA60 GA61 2K009 BB24 CC02 CC03 CC24 DD02 DD04 EE03 5C032 AA02 AA07 EE03 EE17 EF02 EF05 5C040 MA08 5E321 AA04 BB23 BB25 CC16 GG05 GH01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明プラスチックフィルムの片面に透明
導電性薄膜層、他の片面に８０℃における粘着力が少な
くとも１０ｇ／ｃｍである粘着剤層がそれぞれ形成され
てなる電磁波シールド用フィルター。
【請求項２】透明プラスチックフィルムの厚みが２５
〜３００μｍである請求項１記載の電磁波シールド用フ
ィルター。
【請求項３】透明導電性薄膜層が、高屈折率透明薄膜
層（ａ）及び金属薄膜層（ｂ）が交互に少なくとも２回
繰り返し積層され、最下層及び最上層が（ａ）で形成さ
れてなり、且つ、表面抵抗率が０．５〜１０Ω／□、全
光線透過率が５０％以上である請求項１記載の電磁波シ
ールド用フィルター。
【請求項４】高屈折率透明薄膜層（ａ）が、金属酸化
物または金属硫化物で形成された透明薄膜層である請求
項３記載の電磁波シールド用フィルター。
【請求項５】高屈折率透明薄膜層（ａ）が、酸化イン
ジウム−錫、酸化インジウム及び酸化錫から選ばれた少
なくとも１種の薄膜層である請求項３記載の電磁波シー
ルド用フィルター。
【請求項６】各高屈折率透明薄膜層（ａ）の厚みが５
〜２００ｎｍである請求項３記載の電磁波シールド用フ
ィルター。
【請求項７】金属薄膜層（ｂ）が銀または銀合金の薄
膜層である請求項３記載の電磁波シールド用フィルタ
ー。
【請求項８】各金属薄膜層（ｂ）の厚みが４〜３０ｎ
ｍである請求項３記載の電磁波シールド用フィルター。
【請求項９】粘着剤層が、アクリル系粘着剤で形成さ
れた請求項１記載の電磁波シールド用フィルター
【請求項１０】粘着剤層の８０℃における粘着力が１
０〜２０００ｇ／ｃｍである請求項１記載の電磁波シー
ルド用フィルター。
【請求項１１】粘着剤層の厚みが１〜５０μｍである
請求項１記載の電磁波シールド用フィルター。
【請求項１２】厚みが２５〜３５０μｍである請求項
１記載の電磁波シールド用フィルター。
【請求項１３】プラズマディスプレー、ブラウン管及
び液晶表示装置を含む表示装置用電磁波シールド用フィ
ルターである請求項１記載の電磁波シールド用フィルタ
ー。