JP2000293903A

JP2000293903A - 光記録媒体及び光記録装置

Info

Publication number: JP2000293903A
Application number: JP11097360A
Authority: JP
Inventors: Haruo Kunitomo; 晴男国友
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1999-04-05
Filing date: 1999-04-05
Publication date: 2000-10-20

Abstract

(57)【要約】【課題】浮上ヘッド等の近接型光ヘッドでの記録再生
が良好に行える光記録媒体及び光記録装置を提供する。【解決手段】基板上に光磁気記録層、中間層及び潤滑
層をこの順に設けた光記録媒体であって、該潤滑層は、
減量温度が該光磁気記録層のキュリー温度以上である潤
滑剤を主成分としてなる光記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光記録媒体および光
記録装置に関し、更に詳しくは、記録密度を高くするこ
とができると共に再生エラーの少ない光記録媒体及び光
記録装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】コンピューター技術の発展に伴い、記録
装置の容量は拡大の一途をたどっている。従来の光ディ
スクには、再生専用型（ＲＯＭ）、書換型（ＲＡＭ）、
ライトワンス型等があり、これらの媒体では光ディスク
基板の記録面と反対側に光ヘッドが設けられ、光ヘッド
から出射した再生光又は記録光は基板を通過して記録面
に到達する、いわゆる基板面入射方式が採られている。
この場合、光を記録面で焦点を結ぶようにするために、
光ヘッドにはアクチュエーターによって光軸方向に制御
される対物レンズが設けられているため、光ヘッドとデ
ィスクとの距離は通常１ｍｍ程度の間隔が設けられてい
る。一方、近年では、大容量かつ高速アクセス可能な記
録再生装置として、既存の各種光ディスクと浮上型光ヘ
ッドを組み合わせた光記録装置が提案されている。

【０００３】すなわち、１枚或いは同軸に固定された２
枚以上の光ディスクを内蔵し、各記録面に対し浮上型或
いは接触型光ヘッドを対向させて設け、基板を通過させ
ずに記録面側から光を照射する、いわゆる膜面入射方式
により記録又は再生を行う光記録装置である。従来の基
板面入射方式では基板の傾きや基板厚さのバラツキ等に
より光スポットの収差が増大するために、対物レンズの
開口数を大きくすることができなかったが、膜面入射と
することにより対物レンズの開口数を大きくし、光スポ
ットを小さくすることが可能となり、光ディスクの大容
量化とハードディスクのような高速アクセスが可能とな
る。

【０００４】図１はそのような光記録装置の一例の模式
図である。複数の光ディスク１１、１１’、１１”がデ
ィスク回転軸に同軸状に装着され、各ディスク１１には
それぞれを挟むように両面に、支持アームに支持された
光ヘッド１２、１３、１２’、１３’、１２”、１３”
が配設される。これら光ヘッド１２、１３は、ヘッド回
転軸１４に同軸に固定され、連動して移動することがで
きる。光ヘッドは光ディスク１１の半径方向に移動させ
たり、ヘッド回転軸１４を中心に回動させたりできるよ
う構成されている。光ヘッドは、ディスクの回転が停止
している際はディスク上を離れて図示しない退避ゾーン
に退避しており、ディスクが回転開始後ディスク上にロ
ードされ記録又は再生を行い、回転停止時にアンロード
され再び退避ゾーンに退避する。このような方式はダイ
ナミックローディング方式と呼ばれる。

【０００５】しかし本発明者らの検討によれば、上記記
録再生装置に光ディスクを用いる際には、以下のような
問題点があることがわかった。すなわち、従来の装置で
は光ヘッドと光ディスクとの距離は通常１ｍｍ或いはそ
れ以上あったのに対し、浮上型光ヘッドを備える記録再
生装置では光ヘッドと光ディスクとの距離は極めて近接
し、通常５μｍ以内とされるため、光ヘッドが光ディス
クと衝突し媒体を傷つけたりヘッドが損傷したりする可
能性があった。特に、ダイナミックローディング方式に
おいてヘッドがロード或いはアンロードされる時にディ
スクとの衝突が起こりやすい。このため、ヘッドと衝突
の際にも損傷することのない光ディスクを得るべく、光
記録層上には硬度が高く滑性も大きい中間層と、さらに
は潤滑層が設けられる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】潤滑層としては例えば
フッ素系あるいはシリコン系の潤滑剤などを用いること
ができる。これら潤滑剤は高分子化合物であり蒸気圧は
低く室温程度ではほとんど蒸発しないものの、記録再生
時に光ヘッドからレーザー光が照射され媒体が加熱され
ると、最表面の潤滑層の温度も上昇し、一部の潤滑剤分
子が蒸発し、光ヘッドの光学系すなわち直近のレンズに
付着・汚染することが分かった。レンズの汚染が進行す
ると、実効的なレーザーパワーの減衰や光散乱が生じ、
記録再生に支障を来すこととなる。すなわちノイズが上
昇したり、ひいては記録ができなくなるといった致命的
な問題が発生する可能性があり、ドライブの寿命を縮ま
せることになりかねない。本発明は、上記問題点に鑑
み、記録密度を高くすることが可能な膜面入射方式の記
録再生装置に使用した場合であっても、光ヘッドと衝突
して損傷するおそれがなく、かつ、光ヘッドの光学系を
汚染することなく記録再生を良好に行うことの出来る光
記録媒体を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討の結
果、以下の構成により上記目的が達成されることを見い
だした。すなわち本発明の第一の要旨は、基板上に光磁
気記録層、中間層及び潤滑層をこの順に設けた光記録媒
体であって、該潤滑層は、減量温度が該光磁気記録層の
キュリー温度以上である潤滑剤を主成分としてなること
を特徴とする光記録媒体に存する。本発明の第二の要旨
は、基板上に光記録層、透明中間層及び透明潤滑層をこ
の順に設けた光記録媒体であって、該透明潤滑層は、数
平均分子量Ｍｎと重量平均分子量Ｍｗとが１＜Ｍｗ／Ｍ
ｎ＜１．１０の関係を満たし、かつＭｎが５０００〜１
００００の範囲であるパーフルオロポリエーテルを主成
分としてなることを特徴とする光記録媒体に存する。ま
た、これら光記録媒体と、該光記録媒体の光記録層に潤
滑層側からレーザー光を入射して記録または再生を行う
浮上型光ヘッドとからなる光記録装置に存する。なお本
発明において、透明とは、記録又は再生に用いるレーザ
ー光の波長に対して実質的に透明であることをいう。

【０００８】

【発明の実施の形態】第一の発明においては、基板上に
光磁気記録層、中間層及び潤滑層をこの順に設けた光記
録媒体であって、該潤滑層を減量温度が該光磁気記録層
のキュリー温度以上である潤滑剤を主成分とする。信号
を記録、消去、再生する際にはレーザー光が媒体に照射
され、光磁気記録層はキュリー温度をある程度超えて昇
温されるが、記録層と潤滑層のあいだに中間層を存在さ
せることで断熱効果が得られるため潤滑層はそこまで昇
温されることはない。従って潤滑層を減量温度が該光磁
気記録層のキュリー温度以上である潤滑剤を主成分とす
ることにより、潤滑剤の蒸発を抑えることができ蒸発し
た潤滑剤分子が光ヘッドに付着・汚染するのを防ぐこと
ができる。

【０００９】ここでキュリー温度は強磁性体である光磁
気記録層が常磁性体状態に転移する温度である。光磁気
記録層を少なくとも記録層と再生層を含む２層以上で構
成する際は、記録層のキュリー温度とする。より好まし
くは該潤滑剤の減量温度を光磁気記録層のキュリー温度
に５０度を加えた温度以上とする。中間層としては断熱
効果の高い物質が好ましい。また、減量温度とは、大気
圧の状態で温度を上昇させていったときに、蒸発・分解
等で重量が減じる温度のことである。潤滑剤の減量温度
の測定方法としては、市販のＴＧ−ＤＴＡ（thermo gra
dimetry - differential thermal analysis、熱重量法
示差熱分析装置）と呼ばれる分析装置を用いる。例えば
セイコー社ＴＧ−ＤＴＡ３２０を用い、５ｍｍφ×深さ
５ｍｍのパンに１０〜２０ｍｇの試料を正確に測り取
り、窒素ガスを１００〜３００ｍｌ／分程度流しなが
ら、試料温度を１０℃／分の割合で上昇させつつ重量を
測定し、温度−重量比曲線を描く。

【００１０】一般に、該曲線の減量開始前、減量開始後
のそれぞれに対して接線を引き、両接線の交点を減量温
度とする。潤滑剤としてはフッ素系液体潤滑剤が好まし
い。特には、末端又は側鎖に水酸基を有し、分子骨格中
にフルオロカーボン骨格を有する化合物が好ましい。な
お、光により再生を行う場合は、中間層及び潤滑層は少
なくとも再生に用いる光の波長に対して透明である必要
がある。第二の発明においては、基板上に光記録層、透
明中間層及び透明潤滑層をこの順に設けた光記録媒体で
あって、該透明潤滑層を、数平均分子量Ｍｎと重量平均
分子量Ｍｗとが１＜Ｍｗ／Ｍｎ＜１．１０の関係を満た
し、かつＭｎが５０００〜１００００の範囲であるパー
フルオロポリエーテルを主成分とする。

【００１１】これにより、記録密度を高くすることが可
能な膜面入射方式の記録再生装置に使用した場合であっ
ても、光ヘッドと衝突して損傷するおそれがなく、か
つ、光ヘッドの光学系を汚染することなく記録再生を良
好に行うことができる。まず、重量平均分子量Ｍｗと数
平均分子量Ｍｎについて説明する。個々の分子の重量を
Ｍｉ、個数をＮｉとするとＭｗ、Ｍｎは次式(１)、(２)
で与えられる。Ｍｗ＝(ΣＭｉ²Ｎｉ)／(ΣＭｉＮｉ) (１) Ｍｎ＝(分子の総重量)／(分子の総数)＝(ΣＭｉＮｉ)／(ΣＮｉ) (２) Ｍｗ／Ｍｎは分子量分布の指標として用いられ、仮に潤
滑剤を構成する個々の分子が単一の分子量を有するとす
ればＭｗ／Ｍｎは１となる。パーフルオロポリエーテル
はその分子量分布は通常制御されておらず、Ｍｗ／Ｍｎ
が１．３〜３．０程度の広い分子量分布のものが使用さ
れており、多くの低分子量分子を含んでいる。

【００１２】そこで本発明においては、１＜Ｍｗ／Ｍｎ
＜１．１０の関係を満たすことで分子量分布をシャープ
なものとし低分子量分子成分の含有率を抑える。そし
て、かつＭｎが５０００〜１００００の範囲であるパー
フルオロポリエーテルを主成分とすることで、媒体の潤
滑性を高く保ったままレーザー蒸発性を低くし光ヘッド
の汚染を防ぐ。Ｍｗ／Ｍｎが１．１０を超えると、低分
子量成分の蒸発により光ヘッドが汚染がされやすい。Ｍ
ｎが５０００未満だとレーザー照射時の膜表面温度上昇
による潤滑剤の蒸発が活発に生じやすい。またＭｎが１
００００を超えた場合は、粘度の増加に伴う潤滑性、耐
久性の低下が懸念される。すなわちヘッドと衝突した際
に引っ掻き傷や引きずり傷が発生しやすくなる。より好
ましくは数平均分子量Ｍｎを５５００以上とし８０００
以下とする。また重量平均分子量との比率は好ましくは
１＜Ｍｗ／Ｍｎ＜１．０７とする。潤滑層の厚みは０．
５〜２０ｎｍが好ましい。記録層が光磁気記録層からな
る場合には、パーフルオロポリエーテルの減量温度が光
磁気記録層のキュリー温度以上であるのが好ましい。本
発明においてパーフルオロポリエーテルは下記式（Ｉ）
で定義される。

【００１３】

【化１】Ｒ¹−[（ＯＣＦ₂ＣＦ₂）_p−（ＯＣＦ₂）_q−（ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂）_r]−Ｏ−Ｒ² ・・・（Ｉ）

【００１４】（式中、Ｒ¹、Ｒ²はヘテロ原子を含んでも
よい炭素数１〜２０のアルキル基もしくはフッ素置換し
たアルキル基を示す。またｐ，ｑ，ｒは０〜５００の整
数であり少なくともｐ，ｑ，ｒのいずれかは１０以上と
する。）好ましくは下記式（II）、（III）で定義されるパーフ
ルオロポリエーテルである。

【００１５】

【化２】Ｒ³−[（ＯＣＦ₂ＣＦ₂）_p−（ＯＣＦ₂）_q]−Ｒ⁴ ・・・（II）ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ−（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_r−ＣＦ₂ＣＦ₂−Ｒ⁵ ・・・（III）

【００１６】（式中、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵はヘテロ原子を含
む炭素数１〜２０のアルキル基もしくはフッ素置換した
アルキル基を示し、またｐ，ｑ，ｒは１０〜５００の整
数であり、ｑ／ｐが５／１〜１／５である。）上記構造式のパーフルオロポリエーテルとしては例え
ば、アウジモント社のＦＯＭＢＬＩＮＺ誘導体などが
ある。その中でも両末端官能基として水酸基の備わった
ＤＯＬ（上記構造式（II）においてＲ³、Ｒ⁴が−ＯＣＦ
₂ＣＨ₂ＯＨであるもの）やＴｅｔｒａｏｌが挙げられ
る。

【００１７】塗布方法としてはディップ法が好ましく、
上記潤滑剤をフロン系、アルコール系、炭化水素系、ケ
トン系、エーテル系、フッ素系、芳香族系等の溶媒のう
ちディップ法に適した溶媒に溶かして用いる。好ましく
はフッ素系不活性液体を用い、例えばスリーエム社ＨＦ
Ｅ７２００（Ｃ₄Ｆ₉ＯＣ₂Ｈ₅）を溶媒として上記潤滑剤
を１〜３ｇ／ｌ程度の濃度で溶かした溶液を用いる。

【００１８】本発明の光記録媒体には樹脂基板、アルミ
基板等の金属基板あるいはガラス基板が用いられる。必
要に応じてピットや溝を設けてもよい。樹脂基板材料と
しては、アクリル系樹脂、ノルボルネン系などのポリオ
レフィン樹脂、液晶ポリマー、ポリカーボネート等が挙
げられ、具体的には、例えばポリメチルメタクリレート
（ＰＭＭＡ）、ＡＲＴＯＮ（日本合成ゴム社、ノルボル
ネン系エステル置換環状オレフィン開環重合体水添
物）、ＺＥＯＮＥＸ（日本ゼオン社、ノルボルネン系環
状オレフィン開環重合体水添物）、芳香族ポリエステル
系液晶ポリマー、ポリカーボネートなどが挙げられる。
ピットや溝を設ける場合は、ピット／溝を設けたスタン
パーをもとに、これら樹脂を用いて射出成形、射出圧縮
成型、放射線硬化などによりピット／溝を転写形成して
樹脂基板とする。

【００１９】ガラス、金属、セラミック等に比べて、樹
脂を用いることで、幅または長さが２μｍ以下、深さが
１００ｎｍ以下の微細なピットや溝が精密かつ安価に形
成できる。また金属基板にピットや溝を設ける場合は、
金属そのものにピット／溝を形成することが比較的困難
なため、例えば薄い樹脂製のシートをいったん金属基板
に貼り付け次いでピット／溝を設けたスタンパーをもと
に圧縮成形することにより行ってもよい。

【００２０】またガラス基板の場合はエッチングやゾル
ゲル法等によってもピットや溝の形成を行うことができ
る。基板の厚みは０．５〜３ｍｍ程度が一般的である。
これより薄いと、特に樹脂基板の場合には、基板が自重
によりたわんで平面性が出にくくなる。また３ｍｍを超
えると強度面でほとんど差がないためこれ以上厚くして
もメリットはない。基板上に形成する光記録層として
は、各種のものを採用することができ、例えば光磁気記
録層や相変化型記録層及び色素型記録層が用いられる。
また、層構成も特に制限はなく、各種層構成を採用する
ことができる。光磁気記録層としては、例えばＴｂＦ
ｅ、ＴｂＦｅＣｏ、ＴｂＣｏ、ＧｄＦｅＣｏ、ＤｙＴｂ
ＦｅＣｏ等の希土類と遷移金属との非晶室磁性膜、Ｍｎ
Ｂｉ，ＭｎＣｕＢｉ等の多結晶垂直磁化膜、Ｐｔ／Ｃ
ｏ、Ｐｄ／Ｃｏ等の多層膜等が用いられる。

【００２１】光磁気記録層は単層であっても良いが、オ
ーバーライトやＭＳＲを可能とするためにＧｄＴｂＦｅ
／ＴｂＦｅのように記録層、再生層など２層以上の磁性
層を重ねて用いても良い。光記録層が光磁気記録層から
なる場合、好ましくはパーフルオロポリエーテルの減量
温度が光磁気記録層のキュリー温度以上とする。信号を
記録、消去、再生する際にはレーザー光が媒体に照射さ
れ、光磁気記録層はキュリー温度をある程度超えて昇温
されるが、記録層と潤滑層のあいだに中間層を存在させ
ることで断熱効果が得られるため潤滑層はそこまで昇温
されることはない。従って潤滑層を減量温度が該光磁気
記録層のキュリー温度以上である潤滑剤を主成分とする
ことにより、潤滑剤の蒸発を抑えることができ蒸発した
潤滑剤分子が光ヘッドに付着・汚染するのを防ぐことが
できる。

【００２２】ここでキュリー温度は強磁性体である光磁
気記録層が常磁性体状態に転移する温度である。光磁気
記録層を少なくとも記録層と再生層を含む２層以上で構
成する際は、記録層のキュリー温度とする。より好まし
くは該潤滑剤の減量温度を光磁気記録層のキュリー温度
に５０度を加えた温度以上とする。相変化型記録層とし
ては、例えばＧｅＳｂＴｅやＩｎＳｂＴｅ、ＡｇＳｂＴ
ｅ、ＡｇＩｎＳｂＴｅといった化合物が使用できる。
好ましくは、｛（Ｓｂ₂Ｔｅ₃）_1-x（ＧｅＴｅ）_x｝_1-y
Ｓｂ_y（０．２＜ｘ＜０．９、０≦ｙ＜０．１）合金、
及び該３元合金に１０原子％程度までのＩｎ、Ｇａ、Ｚ
ｎ、Ｓｎ，Ｓｉ，Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｄ，Ｐｔ、Ｐ
ｂ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｖのうち
少なくとも１種を含む合金薄膜があげられる。

【００２３】あるいは高速でのオーバーライトが可能な
材料として、Ｓｂ₇₀Ｔｅ₃₀共晶点近傍のＳｂＴｅ合金を
主成分とする、ＭＳｂＴｅ（Ｍ＝Ｉｎ、Ｇａ、Ｚｎ、Ｇ
ｅ、Ｓｎ，Ｓｉ，Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｐ
ｂ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｏ，Ｓ、Ｓｅ、Ｔａ，Ｎｂ、Ｖのうち
少なくとも１種）合金薄膜が好ましい。光記録層上には
耐候性、高硬度、高滑性などの性質を備えた透明中間層
を設ける。中間層の材質はこれら性質を考慮のうえ選ば
れる。耐候性、高硬度といった点では誘電体が好まし
い。

【００２４】誘電体としては酸化物、窒化物、カルコゲ
ン化物、炭化物、フッ化物、及びその混合物などが用い
られる。酸化物としてＡｌ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅、ＴｉＯ₂等
の金属酸化物単独又はこれらの混合物、或いはＡｌ−Ｔ
ａ−Ｏの複合酸化物等が挙げられ、また非金属酸化物と
してＳｉＯ₂、ＳｉＯが挙げられる。窒化物としては、
窒化ケイ素、窒化アルミニウム等が挙げられる。カルコ
ゲン化物としては、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ等のカルコゲン化
亜鉛、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ等のＩＩ−Ｖ族化合物、Ｌａ₂
Ｓ₃、Ｃｅ₂Ｓ₃等の希土類硫化物、ＴａＳ ₂、ＭｇＳ、Ｃ
ａＳ等があげられる。カルコゲン化亜鉛は化学的にも安
定で、その中でも特にＺｎＳは毒性も低く最も好まし
い。これら誘電体層の形成方法としては、蒸着やスパッ
タリングが挙げられるが、スパッタリングがより好まし
い。

【００２５】滑性及び硬度に優れた材質としては炭素
膜、水素化カーボン膜、窒素化カーボン膜、水素化窒素
化カーボン膜などの炭素質膜、ＴｉＣ、ＳｉＣ等の炭化
膜、ＳｉＮ、ＴｉＮ等の窒化膜、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、
ＺｒＯ₂等の酸化物膜などによって構成される。特に、
炭素膜、水素化カーボン膜、窒素化カーボン膜、水素化
窒素化カーボン膜などの炭素質膜が優れている。通常、
スパッタ法、プラズマＣＶＤ法などにより形成される。

【００２６】水素化カーボン膜は、水素と炭素を含有す
る膜をいう。スパッタ法により形成する場合は例えばカ
ーボンターゲットを用い、スパッタガスと水素含有ガス
を含むプラズマ中でスパッタリングする方法により形成
することができる。スパッタガスは通常、アルゴンなど
の不活性ガスを用いる。また水素含有ガスとしては水素
ガス、炭化水素ガスなどが挙げられる。窒素化カーボン
膜は、窒素と炭素を含有する膜をいう。スパッタ法によ
り形成する場合は例えばカーボンターゲットを用い、ス
パッタガスと窒素含有ガスを含むプラズマ中でスパッタ
リングする方法により形成することができる。スパッタ
ガスは通常、アルゴンなどの不活性ガスを用いる。また
窒素含有ガスとしては窒素ガス、一酸化窒素ガス、二酸
化窒素ガス、アンモニアガスなどが挙げられるが、空気
を用いてもよい。空気を用いる場合、スパッタ雰囲気中
の空気の含有量は通常、２〜２０体積％とする。

【００２７】また、スパッタガスと水素含有ガス及び窒
素含有ガスを同時に存在させることにより、水素化窒素
化カーボン膜を形成することができる。中間層は保護層
及び滑性層としての役割を有するが、これを複数の層で
構成してもよい。例えば記録層に接する側に耐候性に優
れ硬度の高い保護層を、潤滑層に接する側に滑性に優れ
た滑性層を設けると、全体として両方に優れた性質を得
ることができ、好ましい。中間層としては水素化カーボ
ンが特に好ましく、少なくとも最表面層を水素化カーボ
ン層とすることが望ましい。光磁気記録層に接する層と
しては、窒化シリコン、ＳｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅などが好適
に用いられる。

【００２８】相変化型記録層に接する層としては、Ｚｎ
Ｓと金属酸化物の混合物が好適に用いられる。また好ま
しくは、基板と記録層との間に反射層を設ける。反射層
としては高反射率の金属または合金が用いられ、例えば
Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕやこれを主成分とする合金であ
る。さらに、基板あるいは反射層と、記録層との間に、
光を干渉させ増幅させる目的や記録層保護の目的等で更
に透明中間層を設けても良い。材質としては、上述した
誘電体等が好ましく用いられる。

【００２９】以下、上述した光記録媒体に対して、浮上
型光ヘッドにより光記録層に潤滑層側からレーザー光を
入射して記録または再生を行う光記録装置について説明
する。浮上式のスライダにレンズや反射鏡、或いは光フ
ァイバーなどを設置した浮上型ヘッドでは、この距離を
保つために、スライダ部をディスクに押しつけるアーム
部のバネ圧と浮上に必要な浮力を得るためのスライダ部
の面積や形状が設定される。またスライダ部とディスク
面が一部接触している接触型ヘッドなども使用すること
ができる。

【００３０】外部から送られてきた情報を記録する場合
には、各ヘッドは、予め記録されているピットや溝など
のプリフォーマットを基に、アドレス（基板上の物理的
な位置）情報を検出し、対向する光ディスクの記録層に
情報を記録する。情報を記録する方法は、片方のヘッド
のみを使用しても、両方のヘッドを同時に使用しても構
わない。ディスク上に記録された情報を読み出す場合
は、記録されている情報の位置をヘッドにより検索し、
読み出す。この時に、再生信号強度が最大となるように
各々のヘッドは、記録されている情報に対して、独自に
サーボ調整が行われる。光記録媒体と浮上型ヘッドとの
距離は、例えば通常５μｍ以下に設定される。

【００３１】本発明によれば、このような低い浮上距離
の膜面入射方式の記録再生装置に使用した場合であって
も、光ヘッドと衝突して損傷するおそれがなく、かつ、
光ヘッドの光学系を汚染することなく記録再生を良好に
行うことの出来る光記録媒体及び光記録装置を提供でき
る。特に、前述したダイナミックローディング方式にお
いてヘッドがロード或いはアンロードされる時にディス
クとの衝突が起こりやすいため、本発明はこのような光
記録装置に適用すると特に効果が大きい。

【００３２】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説
明する。ただし、本発明はその要旨を超えない限り以下
の実施例に限定されるものではない。パーフルオロポリ
エーテルとして、下記構造式（IV）で表されるＦＯＭＢ
ＬＩＮＺＤＯＬ（アウジモント社、但しｐ及びｑは
平均４１、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３）を用い、これを二酸化
炭素を用いた超臨界流体抽出により分画した。

【００３３】

【化３】ＨＯＣＨ₂ＣＦ₂−[（ＯＣＦ₂ＣＦ₂）_p−（ＯＣＦ₂）_q]−ＯＣＦ₂ＣＨ₂ＯＨ・・・（IV）

【００３４】なお上記分画は文献"Tailoring performan
ce properties of perfluoropolyethers viasupercriti
cal fluid fractionation",H.Schonemann,P.Gallagher-
Wetmore,V.Krukonis,Proc.3rd.Internat.Symp.Supercri
t.Fluids.3(1994)375-380"を参考として行った。本実施
例においてはこのようにして分子量ごとに分画したパー
フルオロポリエーテルを用いた。数平均分子量、及び分
子量分布についてはＧＰＣを用いて求めた。直径が１３
０ｍｍであり１．２ｍｍ厚のポリカーボネート基板を射
出成形法により作製した。表面には深さ約５０ｎｍ、幅
約１μｍ、長さ約１μｍのピット列を形成した。

【００３５】この上に、ＡｌＴａ反射層（厚さ３５０
Å）／ＳｉＮｘ誘電体層（厚さ１００Å）／ＴｂＦｅＣ
ｏ（厚さ３００Å）／ＳｉＮｘ誘電体層（厚さ８００
Å）／水素化カーボン層（厚さ１００Å）をスパッタリ
ングにより成膜し光ディスクとした。ここでＴｂＦｅＣ
ｏの組成比（ａｔ％）はＴｂ_22.5、Ｆｅ_62.0、Ｃｏ_15.5
であった。またこのＴｂＦｅＣｏのキュリー温度は２４
０℃であった。次に、表−１に示す数平均分子量及びＭ
ｗ／Ｍｎを持つパーフルオロポリエーテルをＨＦＥ−７
２００（３Ｍ製）を溶媒として濃度１．０ｇ／ｌの溶液
を作成し、ディップ法にて上記光ディスクに塗布し潤滑
層を形成した。こうして潤滑層を設けた光ディスクを、
フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ、商品名ＪＩ
Ｒ−５３００、日本電子社製）を用いて潤滑層の膜厚測
定を行った。

【００３６】また次いでレーザー初期化装置（光ディス
クバルクイレーザーＬＫ１０１Ａ、シバソク社製）を用
いて初期化を５回行った。初期化条件はレーザーパワ
ー：１５０ｍＷ、レーザー波長：８１０ｎｍ、ディスク
回転速度：６ｍ／ｓ、レーザーヘッド送り速度：５０μ
ｍ／回転とした。その後に、潤滑層の膜厚を同様に測定
した。それぞれの潤滑剤を塗布したディスクのレーザー
初期化による膜厚の残存率すなわち（レーザー初期化後
膜厚）／（レーザー初期化前膜厚）を表−１に示す。次
にドラッグ試験を行った。すなわちハードディスク用の
グライドヘッドをディスクに接触させた状態で１ｒｐｍ
で１分間すなわち一回転させた。そしてヘッドが接触
した円形部の顕微鏡観察を行い、傷の有無をチェックし
た。この結果も併せて表−１に示す。

【００３７】

【表１】表−１ＭｎＭｗ／Ｍｎ残存率(％) 傷観察減量温度（℃） −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１６１００１．０４１００無し３６７実施例２６８００１．０４１００無し３７４実施例３７８００１．０６１００無し３７５比較例１２０００１．８０６３無し１８３比較例２４７００１．１７９１無し２９３比較例３１２０００１．０５１００有り４００以上

【００３８】表−１より、実施例１〜３においては残存
率が１００％で初期化５回後も潤滑層の蒸発量がほぼ完
全に押さえられ、かつ、膜の潤滑性、耐久性が良好で傷
の発生やヘッドの損傷は生じなかった。

【００３９】

【発明の効果】本発明によれば、残存率が高く潤滑性、
耐久性に優れた潤滑層を備えた光記録媒体を提供でき
る。さらには、本発明の光記録媒体は長期間使用しても
良好な潤滑特性を示すことから、浮上ヘッド等の近接型
光ヘッドでの記録再生が良好に行え、高密度記録可能な
光記録装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録装置の一例を示す模式図

【符号の説明】

１１、１１’、１１” 光記録媒体１２、１２’、１２” 光ヘッド１３、１３’、１３” 光ヘッド１４ヘッド回転軸

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３５Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３５Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に光磁気記録層、中間層及び潤滑
層をこの順に設けた光記録媒体であって、該潤滑層は、
減量温度が該光磁気記録層のキュリー温度以上である潤
滑剤を主成分としてなることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】光磁気記録層が少なくとも記録層と再生
層の２層以上からなり、潤滑剤の減量温度が該記録層の
キュリー温度以上である請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】中間層及び潤滑層は少なくとも再生に用
いる光の波長に対して透明である請求項１または２に記
載の光記録媒体。
【請求項４】基板上に光記録層、透明中間層及び透明
潤滑層をこの順に設けた光記録媒体であって、該透明潤
滑層は、数平均分子量Ｍｎと重量平均分子量Ｍｗとが１
＜Ｍｗ／Ｍｎ＜１．１０の関係を満たし、かつＭｎが５
０００〜１００００の範囲であるパーフルオロポリエー
テルを主成分としてなることを特徴とする光記録媒体。
【請求項５】光記録層が光磁気記録層からなり、パー
フルオロポリエーテルの減量温度が該光磁気記録層のキ
ュリー温度以上である請求項４記載の光記録媒体。
【請求項６】光磁気記録層が少なくとも記録層と再生
層の２層以上からなり、パーフルオロポリエーテルの減
量温度が該記録層のキュリー温度以上である請求項５記
載の光記録媒体。
【請求項７】透明中間層の少なくとも最表面が水素化
カーボン膜からなる請求項４乃至６のいずれかに記載の
光記録媒体。
【請求項８】高分子化合物が１＜Ｍｗ／Ｍｎ＜１．０
７の関係を満たし、かつＭｎが５５００〜８０００の範
囲である請求項４乃至７のいずれかに記載の光記録媒
体。
【請求項９】請求項１乃至８の何れかに記載の光記録
媒体と、該光記録媒体の光記録層に潤滑層側からレーザ
ー光を入射して記録または再生を行う浮上型光ヘッドと
からなる光記録装置。
【請求項１０】光記録媒体の回転が停止している際に
は該浮上型光ヘッドは光記録媒体に接触しない請求項９
に記載の光記録装置。