JP2000294160A - 陰極支持構体および電子銃構体 - Google Patents
陰極支持構体および電子銃構体Info
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- JP2000294160A JP2000294160A JP10132299A JP10132299A JP2000294160A JP 2000294160 A JP2000294160 A JP 2000294160A JP 10132299 A JP10132299 A JP 10132299A JP 10132299 A JP10132299 A JP 10132299A JP 2000294160 A JP2000294160 A JP 2000294160A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明の陰極支持構体は、陰極基体か蒸発した
エミッタが絶縁支持体への蒸着を阻止し高い信頼性をも
たせることを課題とする。 【解決手段】電子銃構体は、支持フレームと、この支持
フレームに嵌合された絶縁支持体と、先端部が絶縁支持
体の表面から外側へ突出するように配設された陰極保持
シリンダと、陰極スリーブの一端に陰極基体を取り付け
るとともに陰極スリーブの内部に陰極基体を加熱するヒ
ータを有し陰極基体が陰極保持シリンダの先端部から外
側へ突出するように陰極保持シリンダの内部に配設され
た陰極構体とを具備し、陰極保持シリンダの先端部は外
周側へ向けてテーパで広がりエミッタを絶縁支持体の表
面に対して遮断するフレアを有し、このフレアは陰極基
体の外周縁の1点と前記陰極保持シリンダのフレアの1
点とを結ぶ線と、フレアの外周縁の1点から延ばした線
とがなす角度が25度以下である。
エミッタが絶縁支持体への蒸着を阻止し高い信頼性をも
たせることを課題とする。 【解決手段】電子銃構体は、支持フレームと、この支持
フレームに嵌合された絶縁支持体と、先端部が絶縁支持
体の表面から外側へ突出するように配設された陰極保持
シリンダと、陰極スリーブの一端に陰極基体を取り付け
るとともに陰極スリーブの内部に陰極基体を加熱するヒ
ータを有し陰極基体が陰極保持シリンダの先端部から外
側へ突出するように陰極保持シリンダの内部に配設され
た陰極構体とを具備し、陰極保持シリンダの先端部は外
周側へ向けてテーパで広がりエミッタを絶縁支持体の表
面に対して遮断するフレアを有し、このフレアは陰極基
体の外周縁の1点と前記陰極保持シリンダのフレアの1
点とを結ぶ線と、フレアの外周縁の1点から延ばした線
とがなす角度が25度以下である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は陰極構体を絶縁支持
体で支持した陰極支持構体およびこの陰極支持構体を用
いた電子銃構体に関する。
体で支持した陰極支持構体およびこの陰極支持構体を用
いた電子銃構体に関する。
【0002】
【従来の技術】陰極線管に設けられる電子銃構体には一
形態として図5に示すものがある。図5はこの電子銃構
体における陰極構体付近を示しており、図5においてA
は電子銃構体、Bは陰極支持構体である。図中1は支持
フレームで、これはFe−Ni合金などにより形成され
上面部および下面部を開放した平面がほぼ長円形をなす
ものである。この支持フレーム1の内部には複数個の陰
極保持シリンダ2とヒータコネクタ支持部材3が所定間
隔を存して交互に並べて配置され、これら陰極保持シリ
ンダ2とヒータコネクタ支持部材3は結晶化ガラスなど
からなる絶縁支持体4により支持フレーム1に一体に固
定されており、陰極保持シリンダ2の内部には陰極構体
5が装着されている。これにより陰極支持構体Bが構成
されている。6は金属により形成され下面部を開放した
カップ形状をなす第1グリッドで、この第1グリッド6
の内部には陰極支持構体Bすなわち支持フレーム1が嵌
合されて電子銃構体Aが構成されている。
形態として図5に示すものがある。図5はこの電子銃構
体における陰極構体付近を示しており、図5においてA
は電子銃構体、Bは陰極支持構体である。図中1は支持
フレームで、これはFe−Ni合金などにより形成され
上面部および下面部を開放した平面がほぼ長円形をなす
ものである。この支持フレーム1の内部には複数個の陰
極保持シリンダ2とヒータコネクタ支持部材3が所定間
隔を存して交互に並べて配置され、これら陰極保持シリ
ンダ2とヒータコネクタ支持部材3は結晶化ガラスなど
からなる絶縁支持体4により支持フレーム1に一体に固
定されており、陰極保持シリンダ2の内部には陰極構体
5が装着されている。これにより陰極支持構体Bが構成
されている。6は金属により形成され下面部を開放した
カップ形状をなす第1グリッドで、この第1グリッド6
の内部には陰極支持構体Bすなわち支持フレーム1が嵌
合されて電子銃構体Aが構成されている。
【0003】この陰極構体5は含浸型陰極基体を用いた
もので図4を参照して説明する。図4が陰極構体を示す
一部で切欠して示す斜視図である、図中7は陰極スリー
ブ、8は陰極基体および9はヒータである。陰極スリー
ブ7は上端と下端が開放された円筒体からなるもので、
例えばタンタルにより形成され寸法が外径1.3mm、
厚さ20μm,長さ5.0mmである。陰極スリーブ7
の内周面にはアルミナと耐熱性金属粉末からなる黒化膜
が被覆形成されている。陰極スリーブ7の上端開放部に
はタンタルからなカップ10が嵌合固定されており、こ
のカップ10には円板形状をなす含浸型陰極基体8が嵌
合固定されている。この含浸型陰極基体8は空孔率約2
0%の多孔質タングステンからなるもので、モル比で
4:1:1のBaO、Ca0、Al2 O3 からなるエミ
ッタ(電子放射物質)を高温の水素雰囲気中または真空
中で溶融含浸し、表面にr、Os−Ruなどの金属膜
を被覆したものである。陰極スリーブ7の内部にはコイ
ルドダブルヘリカルタイプのヒータ9が挿入配置されて
いる。このヒータ9の下端部には電極接続用タプ11が
固定されている。陰極スリーブ7は、Fe−Co−Ni
合金などにより形成された筒状をなす陰極ホルダ12の
内部に同軸的に配置されている。陰極スリーブ7の周囲
に配置した3本のタンタルにより形成された短冊状のス
トラップ13は、その上端が陰極ホルダ12に、下端が
陰極スリーブ7に夫々レーザ溶接して固定されている。
これにより陰極スリーブ7は陰極ホルダ10に支持され
ている。14は陰極スリーブ7と陰極ホルダ12との間
に配置された反射筒である。
もので図4を参照して説明する。図4が陰極構体を示す
一部で切欠して示す斜視図である、図中7は陰極スリー
ブ、8は陰極基体および9はヒータである。陰極スリー
ブ7は上端と下端が開放された円筒体からなるもので、
例えばタンタルにより形成され寸法が外径1.3mm、
厚さ20μm,長さ5.0mmである。陰極スリーブ7
の内周面にはアルミナと耐熱性金属粉末からなる黒化膜
が被覆形成されている。陰極スリーブ7の上端開放部に
はタンタルからなカップ10が嵌合固定されており、こ
のカップ10には円板形状をなす含浸型陰極基体8が嵌
合固定されている。この含浸型陰極基体8は空孔率約2
0%の多孔質タングステンからなるもので、モル比で
4:1:1のBaO、Ca0、Al2 O3 からなるエミ
ッタ(電子放射物質)を高温の水素雰囲気中または真空
中で溶融含浸し、表面にr、Os−Ruなどの金属膜
を被覆したものである。陰極スリーブ7の内部にはコイ
ルドダブルヘリカルタイプのヒータ9が挿入配置されて
いる。このヒータ9の下端部には電極接続用タプ11が
固定されている。陰極スリーブ7は、Fe−Co−Ni
合金などにより形成された筒状をなす陰極ホルダ12の
内部に同軸的に配置されている。陰極スリーブ7の周囲
に配置した3本のタンタルにより形成された短冊状のス
トラップ13は、その上端が陰極ホルダ12に、下端が
陰極スリーブ7に夫々レーザ溶接して固定されている。
これにより陰極スリーブ7は陰極ホルダ10に支持され
ている。14は陰極スリーブ7と陰極ホルダ12との間
に配置された反射筒である。
【0004】このように構成された陰極構体6は陰極保
持シリンダ2の内部にその下開放部から挿入して配置さ
れ、且つ第1グリッド6に形成された電子ビーム通過孔
6aよりエヤーマイクロ方式、静電容量方式あるいはレ
ーザ方式などの方法により陰極基体9と第1グリッド6
の間隔が正確に設定され、陰極ホルダ12が陰極保持シ
リンダ2の下端部にレーザ溶接により固定されている。
持シリンダ2の内部にその下開放部から挿入して配置さ
れ、且つ第1グリッド6に形成された電子ビーム通過孔
6aよりエヤーマイクロ方式、静電容量方式あるいはレ
ーザ方式などの方法により陰極基体9と第1グリッド6
の間隔が正確に設定され、陰極ホルダ12が陰極保持シ
リンダ2の下端部にレーザ溶接により固定されている。
【0005】このように構成された電子銃構体はさらに
他のグリットと組み合わされて電子銃に組み立てられて
陰極線管のネックの内部に装着される。その後、所要の
排気工程、エージング工程を施して陰極線管を製造す
る。このような電子銃構体は、比較的小型のインライン
型電子銃を構成する場合に適しており、従来の3個の電
子銃構体を分離したタイプと比較して、より構成部品数
が少ないなどの利点があるために多く使用されている。
他のグリットと組み合わされて電子銃に組み立てられて
陰極線管のネックの内部に装着される。その後、所要の
排気工程、エージング工程を施して陰極線管を製造す
る。このような電子銃構体は、比較的小型のインライン
型電子銃を構成する場合に適しており、従来の3個の電
子銃構体を分離したタイプと比較して、より構成部品数
が少ないなどの利点があるために多く使用されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このように構
成された電子銃構体Aと陰極支持構体Bには次に述べる
問題がある。
成された電子銃構体Aと陰極支持構体Bには次に述べる
問題がある。
【0007】陰極支持構体Aには次に述べる問題があ
る。すなわち、一般的に陰極構体は陰極線管に組込まれ
た後に,排気、エージング工程を経てエミッタ放射能力
の安定が図られる。これらの工程では定格以上のヒータ
電圧が印加される。その結果、陰極基体の温度が高温と
なるため陰極基体からのエミッタ蒸発が促進される。蒸
発したエミッタ(主にバリウム)は、絶縁支持体4上に
蒸着して隣り合う陰極構体5と陰極構体5との間、およ
び陰極構体5と第1グリット6との間がエミッタを介し
て導通して絶縁不良を起こす。この現象は陰極支持構体
Aの使用(ライフ)中にも徐々に進行して絶縁が低下す
るため、入力映像信号に乱れが発生して致命的な問題と
なる。特に含浸型陰極基体は動作温度が酸化物陰極基体
に比ぺて約2OO℃ほど高いのでこの現象が顕著に表れ
る。
る。すなわち、一般的に陰極構体は陰極線管に組込まれ
た後に,排気、エージング工程を経てエミッタ放射能力
の安定が図られる。これらの工程では定格以上のヒータ
電圧が印加される。その結果、陰極基体の温度が高温と
なるため陰極基体からのエミッタ蒸発が促進される。蒸
発したエミッタ(主にバリウム)は、絶縁支持体4上に
蒸着して隣り合う陰極構体5と陰極構体5との間、およ
び陰極構体5と第1グリット6との間がエミッタを介し
て導通して絶縁不良を起こす。この現象は陰極支持構体
Aの使用(ライフ)中にも徐々に進行して絶縁が低下す
るため、入力映像信号に乱れが発生して致命的な問題と
なる。特に含浸型陰極基体は動作温度が酸化物陰極基体
に比ぺて約2OO℃ほど高いのでこの現象が顕著に表れ
る。
【0008】そこで、この問題に対する対策として次に
述べることが検討されているが、確実に問題を回避する
ことは困難である。
述べることが検討されているが、確実に問題を回避する
ことは困難である。
【0009】例えば、絶縁支持体4に切り溝を設けて陰
極構体5と陰極構体5との間、陰極構体5と第1グリッ
ト6との間における絶縁距離を増大する構成がある。し
かし、この場合には絶縁支持体4の構造が複雑になるこ
とに加えて、絶縁支持体4は通常絶縁材をプレスによっ
て加圧して製作されるので、切り溝部は他の部分より充
填密度が高くなる。このことは絶縁支持体4の変形を起
こし易く所定の寸法精度を得ることができにくい。ま
た、絶縁支持体4の厚さが1mm以下の場合切り溝を形
成すると、絶縁支持体4の機械的強度が低下し熱サイク
ルによる割れ発生の原因となる。さらに、最近の陰極線
管は省電力化のため電子銃径が小さくなっているために
陰極構体と陰極構体との間にはわずかながら切り溝を形
成することができるが、陰極構体5と第1グリット6と
の間にはエミッタ蒸発による絶縁を防止する切り溝を形
成することは寸法上および製造上困難である。
極構体5と陰極構体5との間、陰極構体5と第1グリッ
ト6との間における絶縁距離を増大する構成がある。し
かし、この場合には絶縁支持体4の構造が複雑になるこ
とに加えて、絶縁支持体4は通常絶縁材をプレスによっ
て加圧して製作されるので、切り溝部は他の部分より充
填密度が高くなる。このことは絶縁支持体4の変形を起
こし易く所定の寸法精度を得ることができにくい。ま
た、絶縁支持体4の厚さが1mm以下の場合切り溝を形
成すると、絶縁支持体4の機械的強度が低下し熱サイク
ルによる割れ発生の原因となる。さらに、最近の陰極線
管は省電力化のため電子銃径が小さくなっているために
陰極構体と陰極構体との間にはわずかながら切り溝を形
成することができるが、陰極構体5と第1グリット6と
の間にはエミッタ蒸発による絶縁を防止する切り溝を形
成することは寸法上および製造上困難である。
【0010】また、陰極保持シリンダ2の絶縁支持体4
の上面から上側へ突出する高さを高くして、陰極構体5
と陰極構体5との間、陰極構体5と第1グリット6との
間における絶縁性を高める構成がある。しかし、この構
成では次に述べる問題が生じる。一般的に第1グリッド
6の電子ビーム通過孔6aの周囲には、電子ビームの散
乱防止および強度を向上するために陰極構体側へ突出す
る環状をなすビード部6bを形成している。このビード
部6bは陰極保持シリンダ2の直径とほぼ同径であり、
ビード部6bと陰極保持シリンダ2の上端が対向する。
このため、陰極保持シリンダ2をエミッタ蒸発を確実に
防止できるまで高くするとビード部6bと陰極保持シリ
ンダ2の上端との間の間隔が狭くなる。また、金属板か
らなる陰極保持シリンダ2は通常深絞り加工で製作して
いるので、その上端縁には割れ、突起やうねりなどが発
生し正確な寸法精度が出し難い。また、陰極保持シリン
ダ2の上端部にはエミッタの蒸着も当然起こる。このた
め、この陰極保持シリンダ2の上端部における突起した
部分には電界集中が発生して不要なエミッタ蒸発が行わ
れ絶縁耐圧が著しく低下する。陰極保持シリンダ2の上
端部に仕上げ加工を施せばある程度は改善が望めるが、
コストアップにつながり好ましくない。
の上面から上側へ突出する高さを高くして、陰極構体5
と陰極構体5との間、陰極構体5と第1グリット6との
間における絶縁性を高める構成がある。しかし、この構
成では次に述べる問題が生じる。一般的に第1グリッド
6の電子ビーム通過孔6aの周囲には、電子ビームの散
乱防止および強度を向上するために陰極構体側へ突出す
る環状をなすビード部6bを形成している。このビード
部6bは陰極保持シリンダ2の直径とほぼ同径であり、
ビード部6bと陰極保持シリンダ2の上端が対向する。
このため、陰極保持シリンダ2をエミッタ蒸発を確実に
防止できるまで高くするとビード部6bと陰極保持シリ
ンダ2の上端との間の間隔が狭くなる。また、金属板か
らなる陰極保持シリンダ2は通常深絞り加工で製作して
いるので、その上端縁には割れ、突起やうねりなどが発
生し正確な寸法精度が出し難い。また、陰極保持シリン
ダ2の上端部にはエミッタの蒸着も当然起こる。このた
め、この陰極保持シリンダ2の上端部における突起した
部分には電界集中が発生して不要なエミッタ蒸発が行わ
れ絶縁耐圧が著しく低下する。陰極保持シリンダ2の上
端部に仕上げ加工を施せばある程度は改善が望めるが、
コストアップにつながり好ましくない。
【0011】さらに、陰極保持シリンダ2と絶縁支持体
4の固定部の上面に隙間を設けることも行われている
が、この構成では陰極保持シリンダ2と絶縁支持体4の
接着面積が減少するため充分な接着強度を得ることがで
きい。また、省電力型陰極の場合、絶縁支持体4の厚さ
はできるだけ薄く設計することが要求されるため、ます
ます接着面積が減少して実用に耐える接着強度が得にく
い。
4の固定部の上面に隙間を設けることも行われている
が、この構成では陰極保持シリンダ2と絶縁支持体4の
接着面積が減少するため充分な接着強度を得ることがで
きい。また、省電力型陰極の場合、絶縁支持体4の厚さ
はできるだけ薄く設計することが要求されるため、ます
ます接着面積が減少して実用に耐える接着強度が得にく
い。
【0012】さらにまた、絶縁支持体4に電気的に分離
された遮蔽板を設置し、蒸発されたエミッタが絶縁支持
体4に蒸着しないようにすることも行われている。この
構造7では、陰極構体5と同軸的に設けられた遮蔽板の
孔の径、およぴ陰極構体からの高さを最適化することで
効果は期待できるが、このように細い調整を施して加工
を行なうと工数および部品数が増えて電子銃銃構の製造
コストが高くなるという問題がある。
された遮蔽板を設置し、蒸発されたエミッタが絶縁支持
体4に蒸着しないようにすることも行われている。この
構造7では、陰極構体5と同軸的に設けられた遮蔽板の
孔の径、およぴ陰極構体からの高さを最適化することで
効果は期待できるが、このように細い調整を施して加工
を行なうと工数および部品数が増えて電子銃銃構の製造
コストが高くなるという問題がある。
【0013】このように従来の陰極支持構体Aおよび電
子銃構体Bにおいては、絶縁支持体4へのエミッタの蒸
発による陰極構体5同士の間および陰極構体5と第1グ
リッド6との間の絶縁劣化、特に省電力型の含浸型陰極
基体について充分な配慮がなされていなかったために、
排気およびエージング工程にエミッタが絶縁支持体4の
表面に蒸着して陰極構体5同士の間および陰極構体5と
第1グリッド6との間の絶縁不良を生じる。この現象は
陰極支持構体Aの使用(ライフ)中にも徐々に進行して
絶縁が低下するために、入力映像信号に乱れが発生し致
命的な問題となる。特に最近は高精細の陰極線管に含浸
型陰極構体の採用が拡大されているが、含浸型陰極構体
の場合は動作温度が高いので前記現象が顕著に表れる。
子銃構体Bにおいては、絶縁支持体4へのエミッタの蒸
発による陰極構体5同士の間および陰極構体5と第1グ
リッド6との間の絶縁劣化、特に省電力型の含浸型陰極
基体について充分な配慮がなされていなかったために、
排気およびエージング工程にエミッタが絶縁支持体4の
表面に蒸着して陰極構体5同士の間および陰極構体5と
第1グリッド6との間の絶縁不良を生じる。この現象は
陰極支持構体Aの使用(ライフ)中にも徐々に進行して
絶縁が低下するために、入力映像信号に乱れが発生し致
命的な問題となる。特に最近は高精細の陰極線管に含浸
型陰極構体の採用が拡大されているが、含浸型陰極構体
の場合は動作温度が高いので前記現象が顕著に表れる。
【0014】従って、従来は陰極支持構体に対して陰極
基体か蒸発したエミッタが絶縁支持体への蒸着を阻止し
て高い信頼性をもたせることが要望されている。
基体か蒸発したエミッタが絶縁支持体への蒸着を阻止し
て高い信頼性をもたせることが要望されている。
【0015】本発明は、陰極基体か蒸発したエミッタが
絶縁支持体へ蒸着することを阻止して従来要望されてい
た課題を解決した絶縁支持構体を提供する。
絶縁支持体へ蒸着することを阻止して従来要望されてい
た課題を解決した絶縁支持構体を提供する。
【0016】また、本発明は優れた絶縁支持構体を備え
た電子銃構体を提供する。
た電子銃構体を提供する。
【0017】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明の電子銃
構体は、金属からなる支持フレームと、この支持フレー
ムに取付けられた絶縁支持体と、先端部が前記絶縁支持
体の表面から外側へ突出するように配設された陰極保持
シリンダと、陰極スリーブの一端に陰極基体を取り付け
るとともに陰極スリーブの内部に前記陰極基体を加熱す
るヒータを有し前記陰極基体が前記陰極保持シリンダの
先端部から外側へ突出するように前記陰極保持シリンダ
の内部に配設された陰極構体とを具備し、前記陰極保持
シリンダの先端部は、前記陰極基体に接近するに従い外
周側へ向けて広がるテーパ状をなし且つ前記陰極基体か
ら蒸発するエミッタを前記絶縁支持体の表面に対して遮
断するフレアを有することを特徴とする。
構体は、金属からなる支持フレームと、この支持フレー
ムに取付けられた絶縁支持体と、先端部が前記絶縁支持
体の表面から外側へ突出するように配設された陰極保持
シリンダと、陰極スリーブの一端に陰極基体を取り付け
るとともに陰極スリーブの内部に前記陰極基体を加熱す
るヒータを有し前記陰極基体が前記陰極保持シリンダの
先端部から外側へ突出するように前記陰極保持シリンダ
の内部に配設された陰極構体とを具備し、前記陰極保持
シリンダの先端部は、前記陰極基体に接近するに従い外
周側へ向けて広がるテーパ状をなし且つ前記陰極基体か
ら蒸発するエミッタを前記絶縁支持体の表面に対して遮
断するフレアを有することを特徴とする。
【0018】この発明の構成によれば、陰極基体から蒸
発したエミッタが陰極保持シリンダのテーパ状に広がっ
たフレアにより遮られて絶縁支持体に蒸着することを阻
止される。特に陰極保持シリンダのフレアテーパ状に広
がっているために、フレアの水平面上での面積の大きさ
に比較してエミッタを遮る効果が大きい。また、グリッ
ドに形成したビード部と陰極保持シリンダのフレアとの
間隔を充分大きくとることができるので、陰極保持シリ
ンダの上端面に蒸着したエミッタによつて引き起こされ
る陰極保持シリンダの上端部からの不要なエミッタ蒸発
を防止できる。
発したエミッタが陰極保持シリンダのテーパ状に広がっ
たフレアにより遮られて絶縁支持体に蒸着することを阻
止される。特に陰極保持シリンダのフレアテーパ状に広
がっているために、フレアの水平面上での面積の大きさ
に比較してエミッタを遮る効果が大きい。また、グリッ
ドに形成したビード部と陰極保持シリンダのフレアとの
間隔を充分大きくとることができるので、陰極保持シリ
ンダの上端面に蒸着したエミッタによつて引き起こされ
る陰極保持シリンダの上端部からの不要なエミッタ蒸発
を防止できる。
【0019】請求項2の発明は、請求項1に記載の陰極
支持構体において、前記陰極基体の外周縁の1点と前記
陰極保持シリンダのフレアの外周縁の1点とを結ぶ線
と、前記陰極基体の外周縁の1点から垂下した線に向け
て前記フレアの外周縁の1点から水平に延ばした線とが
なす角度が25度以下であることを特徴とする。
支持構体において、前記陰極基体の外周縁の1点と前記
陰極保持シリンダのフレアの外周縁の1点とを結ぶ線
と、前記陰極基体の外周縁の1点から垂下した線に向け
て前記フレアの外周縁の1点から水平に延ばした線とが
なす角度が25度以下であることを特徴とする。
【0020】請求項3の発明は、請求項1に記載の陰極
支持構体において、前記絶縁支持体の表面から前記陰極
保持シリンダのフレアの外周縁までの高さが0.6mm
以上であることを特徴とする。
支持構体において、前記絶縁支持体の表面から前記陰極
保持シリンダのフレアの外周縁までの高さが0.6mm
以上であることを特徴とする。
【0021】この請求項2および3の構成によれば、陰
極保持シリンダに形成されたテーパ状に広がったフレア
を、陰極基体から蒸発したエミッタが絶縁支持体に対し
て効果的に遮断できる寸法の範囲に設定できる。
極保持シリンダに形成されたテーパ状に広がったフレア
を、陰極基体から蒸発したエミッタが絶縁支持体に対し
て効果的に遮断できる寸法の範囲に設定できる。
【0022】請求項4の発明は、請求項1に記載の陰極
支持構体において、前記陰極保持シリンダの先端部と一
体に形成されたものであることを特徴とする。
支持構体において、前記陰極保持シリンダの先端部と一
体に形成されたものであることを特徴とする。
【0023】請求項5の発明は、請求項1に記載の陰極
支持構体において、前記陰極保持シリンダとは別体であ
り、前記陰極保持シリンダの先端部にその外周側で嵌合
されたものであることを特徴とする請求項6の発明は、
請求項1に記載の陰極支持構体において、前記フレアは
前記陰極保持シリンダとは別体であり、前記陰極保持シ
リンダの先端部にその内周側で嵌合されたものであるこ
とを特徴とするこの請求項4ないし6の発明の構成によ
れば、フレアの具体的な形態を提供できる。
支持構体において、前記陰極保持シリンダとは別体であ
り、前記陰極保持シリンダの先端部にその外周側で嵌合
されたものであることを特徴とする請求項6の発明は、
請求項1に記載の陰極支持構体において、前記フレアは
前記陰極保持シリンダとは別体であり、前記陰極保持シ
リンダの先端部にその内周側で嵌合されたものであるこ
とを特徴とするこの請求項4ないし6の発明の構成によ
れば、フレアの具体的な形態を提供できる。
【0024】請求項7の発明は、請求項1に記載の陰極
支持構体において、前記陰極基体は含浸型であることを
特徴とする。
支持構体において、前記陰極基体は含浸型であることを
特徴とする。
【0025】請求項8の発明は、請求項1に記載の陰極
支持構体において、前記陰極基体は酸化物型であること
を特徴とする。
支持構体において、前記陰極基体は酸化物型であること
を特徴とする。
【0026】請求項9の発明の電子銃構体は、請求項1
ないし8いずれかに記載の陰極支持構体と、この陰極支
持構体に組合されたグリッドとを具備することを特徴と
するものである。
ないし8いずれかに記載の陰極支持構体と、この陰極支
持構体に組合されたグリッドとを具備することを特徴と
するものである。
【0027】請求項9の発明の構成によれば、優れた効
果を有する陰極支持構体を備えた電子銃構体を提供でき
る。
果を有する陰極支持構体を備えた電子銃構体を提供でき
る。
【0028】
【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態について図
1ないし図3を参照して説明する。
1ないし図3を参照して説明する。
【0029】図1は電子銃構体を示す一部切欠断面図、
図2は陰極支持構体のエミッタ放出部を拡大して示す断
面図で、図4および図5と同じ部分は同じ符号を付して
示している。
図2は陰極支持構体のエミッタ放出部を拡大して示す断
面図で、図4および図5と同じ部分は同じ符号を付して
示している。
【0030】この実施の形態における陰極支持構体は図
1および図2に示すように構成されている。すなわち、
図1においてAは電子銃構体、Bは陰極支持構体であ
る。図中1は支持フレームで、これは上面部および下面
部を開放した平面がほぼ長円形をなすものである。この
支持フレーム1の内部には複数個の陰極保持シリンダ2
とヒータコネクタ支持部材3が所定間隔を存して交互に
並べて配置され、これら陰極保持シリンダ2とヒータコ
ネクタ支持部材3は絶縁支持体4により支持フレーム1
に一体に固定されている。陰極保持シリンダ2は上端部
が絶縁支持体の表面から外側へ突出するように配設され
る。支持フレーム1はFe−Ni合金により形成され、
陰極保持シリンダ2はFe−Co−Ni合金により形成
され、ヒータコネクタ支持部材3はFe−Co−Ni合
金により形成され、絶縁支持体4はZnO−B2 O3 −
SiO2 系の結晶化ガラスにより形成されている。
1および図2に示すように構成されている。すなわち、
図1においてAは電子銃構体、Bは陰極支持構体であ
る。図中1は支持フレームで、これは上面部および下面
部を開放した平面がほぼ長円形をなすものである。この
支持フレーム1の内部には複数個の陰極保持シリンダ2
とヒータコネクタ支持部材3が所定間隔を存して交互に
並べて配置され、これら陰極保持シリンダ2とヒータコ
ネクタ支持部材3は絶縁支持体4により支持フレーム1
に一体に固定されている。陰極保持シリンダ2は上端部
が絶縁支持体の表面から外側へ突出するように配設され
る。支持フレーム1はFe−Ni合金により形成され、
陰極保持シリンダ2はFe−Co−Ni合金により形成
され、ヒータコネクタ支持部材3はFe−Co−Ni合
金により形成され、絶縁支持体4はZnO−B2 O3 −
SiO2 系の結晶化ガラスにより形成されている。
【0031】陰極保持シリンダ2の内部に陰極構体5が
装着されて、陰極支持構体Bが構成されている。6は金
属により形成され下面部を開放したカップ形状をなす第
1グリッドで、この第1グリッドの内部には陰極支持構
体Bすなわち支持フレーム1が嵌合されて電子銃構体B
が構成されている。
装着されて、陰極支持構体Bが構成されている。6は金
属により形成され下面部を開放したカップ形状をなす第
1グリッドで、この第1グリッドの内部には陰極支持構
体Bすなわち支持フレーム1が嵌合されて電子銃構体B
が構成されている。
【0032】なお、この陰極構体5は含浸型陰極基体を
用いたもので、図4に示すように陰極スリーブ7、含浸
型陰極基体8、ヒータ9、カップ10、電極接続用タブ
11、陰極ホルダ12およびストラップ13をもって構
成されている。この陰極構体5は陰極保持シリンダ2の
内部にその下開放部から挿入して配置され、且つ第1グ
リッド6に形成された電子ビーム通過孔6aよりエヤー
マイクロ方式、静電容量方式あるいはレーザ方式などの
方法により陰極基体9と第1グリッド6の間隔が正確に
設定され、陰極ホルダ12が陰極保持シリンダ2の下端
部にレーザ溶接により固定されている。
用いたもので、図4に示すように陰極スリーブ7、含浸
型陰極基体8、ヒータ9、カップ10、電極接続用タブ
11、陰極ホルダ12およびストラップ13をもって構
成されている。この陰極構体5は陰極保持シリンダ2の
内部にその下開放部から挿入して配置され、且つ第1グ
リッド6に形成された電子ビーム通過孔6aよりエヤー
マイクロ方式、静電容量方式あるいはレーザ方式などの
方法により陰極基体9と第1グリッド6の間隔が正確に
設定され、陰極ホルダ12が陰極保持シリンダ2の下端
部にレーザ溶接により固定されている。
【0033】そして、陰極保持シリンダ2の上端部(先
端部)にはフレア31が形成されており、このフレア3
1は陰極基体側(上側)へ向かうに従い外周側へ向けて
傾斜して広がるテーパ形状をなすものである。すなわ
ち、フレア31は図3(a)に示すように陰極保持シリ
ンダ2の上端部を傾斜して折り曲げることにより一体に
形成されている。このフレア31は陰極基体8から蒸発
するエミッタを絶縁支持体4の表面に対して遮断するも
のである。絶縁支持体4の上面Lから陰極保持シリンダ
2のフレア31の上端までの高さh1は約0.65mm
(0.6mm以上)である。また、絶縁支持体4の上面
Lから陰極構体5の含浸型陰極基体8の上面までの高さ
h2は1.25mmである。そして、陰極基体8の外周
縁の1点Aと絶縁陰極保持シリンダ2のフレア31の最
外周の1点Bとを結ぶ線Cと、フレア31の外周縁の1
点から陰極基体8の外周縁の1点から垂下した線に向け
て延ばし線Dとがなす角度θが24.5度(25度以
下)である。
端部)にはフレア31が形成されており、このフレア3
1は陰極基体側(上側)へ向かうに従い外周側へ向けて
傾斜して広がるテーパ形状をなすものである。すなわ
ち、フレア31は図3(a)に示すように陰極保持シリ
ンダ2の上端部を傾斜して折り曲げることにより一体に
形成されている。このフレア31は陰極基体8から蒸発
するエミッタを絶縁支持体4の表面に対して遮断するも
のである。絶縁支持体4の上面Lから陰極保持シリンダ
2のフレア31の上端までの高さh1は約0.65mm
(0.6mm以上)である。また、絶縁支持体4の上面
Lから陰極構体5の含浸型陰極基体8の上面までの高さ
h2は1.25mmである。そして、陰極基体8の外周
縁の1点Aと絶縁陰極保持シリンダ2のフレア31の最
外周の1点Bとを結ぶ線Cと、フレア31の外周縁の1
点から陰極基体8の外周縁の1点から垂下した線に向け
て延ばし線Dとがなす角度θが24.5度(25度以
下)である。
【0034】この絶縁陰極保持シリンダ2のフレア31
の作用について説明する。一般的に電子管内でのエミッ
タの蒸発は直進と考えて良い。ここで、絶縁陰極保持シ
リンダ2の上端部に外周側に向けて広がる傾斜をなすフ
レア31を形成することにより、陰極基体8の外周縁の
1点Aと絶縁陰極保持シリンダ2のフレア31の最外周
の1点Bとを結ぶ線Cが設定される。このため、陰極構
体5の陰極基体8から蒸発したエミッタの一部は前記の
陰極基体8の1点Aとフレア31の1点Bとを結ぶ線C
に沿って直進して移動して絶縁陰極保持シリンダ2のフ
レア31の周囲に広がる。この結果、陰極基体8の外周
縁の1点Aから蒸発したエミッタは点Eに達して蒸着す
る。すなわち、点Aと点Eを結ぶ直線より下側の領域F
には蒸着しない。
の作用について説明する。一般的に電子管内でのエミッ
タの蒸発は直進と考えて良い。ここで、絶縁陰極保持シ
リンダ2の上端部に外周側に向けて広がる傾斜をなすフ
レア31を形成することにより、陰極基体8の外周縁の
1点Aと絶縁陰極保持シリンダ2のフレア31の最外周
の1点Bとを結ぶ線Cが設定される。このため、陰極構
体5の陰極基体8から蒸発したエミッタの一部は前記の
陰極基体8の1点Aとフレア31の1点Bとを結ぶ線C
に沿って直進して移動して絶縁陰極保持シリンダ2のフ
レア31の周囲に広がる。この結果、陰極基体8の外周
縁の1点Aから蒸発したエミッタは点Eに達して蒸着す
る。すなわち、点Aと点Eを結ぶ直線より下側の領域F
には蒸着しない。
【0035】ここで、陰極保持シリンダ2に形成された
フレア31は外周側に向けて広がる傾斜するテーパをな
しているために、点Aと点Bを結ぶ線Cはフレア31が
水平な場合に比較して内側の角度θを小さくすることが
でき線Cが到達する点Eが陰極基体8から離間した位置
となる。すなわち、フレア31は外周側に向けて広がる
傾斜するテーパをなしているために、水平面上の面積の
大きさに比較して線Cの内側の角度θを小さく設定して
エミッタが絶縁支持体4の上面に蒸着することを抑制す
る効果を高めることができる。しかも、陰極保持シリン
ダ2の上端部にフレア31を設けることは、エミッタが
絶縁支持体4の上面に蒸着することを抑制する部材を設
ける上で構成が大変簡素で製造が大変容易である。
フレア31は外周側に向けて広がる傾斜するテーパをな
しているために、点Aと点Bを結ぶ線Cはフレア31が
水平な場合に比較して内側の角度θを小さくすることが
でき線Cが到達する点Eが陰極基体8から離間した位置
となる。すなわち、フレア31は外周側に向けて広がる
傾斜するテーパをなしているために、水平面上の面積の
大きさに比較して線Cの内側の角度θを小さく設定して
エミッタが絶縁支持体4の上面に蒸着することを抑制す
る効果を高めることができる。しかも、陰極保持シリン
ダ2の上端部にフレア31を設けることは、エミッタが
絶縁支持体4の上面に蒸着することを抑制する部材を設
ける上で構成が大変簡素で製造が大変容易である。
【0036】ここでは、線Cの内角θが24.5度(2
5度以下)とされ、且つ絶縁支持体4の上面Lから陰極
保持シリンダ2のフレア31の上端までの高さh1は約
0.65mm(0.6mm以上)としてあり、隣接する
陰極構体52を保持する絶縁陰極保持シリンダ2の垂直
な周壁外面に点Eが位置する。なお、互いに隣接する陰
極構体52を保持する絶縁陰極保持シリンダ2の間隔は
例えば0.9mmである。これによって点Aと点Eを結
ぶ直線より下側の領域になる絶縁支持体4の上面はエミ
ッタが蒸着しない。隣接して設置された陰極構体5にお
ける陰極基体8から蒸発するエミッタも同様に絶縁陰極
保持シリンダ2の上端部に形成されたフレア31によっ
て阻止されるために絶縁支持体4の上面には蒸着しな
い。これにより互いに隣接する2組の絶縁陰極保持シリ
ンダ2の間における絶縁支持体4の上面に蒸着しない。
この結果、陰極構体5と陰極構体5との間、および陰極
構体5と第1グリッド7との間の絶縁は維持される。
5度以下)とされ、且つ絶縁支持体4の上面Lから陰極
保持シリンダ2のフレア31の上端までの高さh1は約
0.65mm(0.6mm以上)としてあり、隣接する
陰極構体52を保持する絶縁陰極保持シリンダ2の垂直
な周壁外面に点Eが位置する。なお、互いに隣接する陰
極構体52を保持する絶縁陰極保持シリンダ2の間隔は
例えば0.9mmである。これによって点Aと点Eを結
ぶ直線より下側の領域になる絶縁支持体4の上面はエミ
ッタが蒸着しない。隣接して設置された陰極構体5にお
ける陰極基体8から蒸発するエミッタも同様に絶縁陰極
保持シリンダ2の上端部に形成されたフレア31によっ
て阻止されるために絶縁支持体4の上面には蒸着しな
い。これにより互いに隣接する2組の絶縁陰極保持シリ
ンダ2の間における絶縁支持体4の上面に蒸着しない。
この結果、陰極構体5と陰極構体5との間、および陰極
構体5と第1グリッド7との間の絶縁は維持される。
【0037】このように構成した電子銃構体を陰極線管
内に組込み、通常の排気、エージングエ程を行った後に
強制ライフ試験を実施した。ライフ条件はヒータ電圧を
定格の110%にアップさせて行った。評価は、陰極基
体と陰極基体との間、陰極基体と第1グリッドとの間に
おける抵抗をライフ時間毎に測定して初期値との比較を
行った。ライフ試験は9000時間まで行った。全ての
陰極基体間における抵抗値の変化は、初期値に対し50
00時間で−0.75%以内、9000時間で−0.9
%以内と実用上で全く問題のない変化率であった。
内に組込み、通常の排気、エージングエ程を行った後に
強制ライフ試験を実施した。ライフ条件はヒータ電圧を
定格の110%にアップさせて行った。評価は、陰極基
体と陰極基体との間、陰極基体と第1グリッドとの間に
おける抵抗をライフ時間毎に測定して初期値との比較を
行った。ライフ試験は9000時間まで行った。全ての
陰極基体間における抵抗値の変化は、初期値に対し50
00時間で−0.75%以内、9000時間で−0.9
%以内と実用上で全く問題のない変化率であった。
【0038】さらに、絶縁支持体4の上面Lから陰極保
持シリンダ2のフレア31の上端までの高さh1と線
C、Dの角度θを種々組合せて電子銃構体を製作して、
前述した方法と様に陰極線管内に組込み強制ライフ試験
を実施して、陰極構体と陰極構体との間、陰極構体と第
1グリッドとの間の抵抗の変化を調べた。すなわち、線
Cの内角θを24.5度に設定して、絶縁支持体4の上
面Lからフレア31の上端までの高さh1が0.55m
mおよび0.6mmとした試験品電子銃構体(イ)、
(ロ)を夫々製作し、また線Cの内角θを25.0度に
設定して、絶縁支持体4の上面Lからフレア31の上端
までの高さh1が0.55mm、0.60mmおよび
0.65mmとした試験品電子銃構体(ハ)、(ニ)、
(ホ)を夫々製作し、さらに線Cの内角θを25.5度
に設定して、絶縁支持体4の上面Lからフレア31の上
端までの高さh1が0.55mm、0.60mmおよび
0.65mmとした試験品電子銃構体(ヘ)、(ト)、
(チ)を夫々製作した。各試験品電子銃構体の試験の結
果、陰極基体と陰極基体との間における初期値に対する
9000時間での抵抗値の変化は、試験品電子銃構体
(イ)−0.8%、(ロ)−0.7%、(ハ)−1.2
%、(ニ)−0.75%、(ホ)−0.70%、(ヘ)
−5,6%、(ト)−3,2%および(チ)−2.6%
である。
持シリンダ2のフレア31の上端までの高さh1と線
C、Dの角度θを種々組合せて電子銃構体を製作して、
前述した方法と様に陰極線管内に組込み強制ライフ試験
を実施して、陰極構体と陰極構体との間、陰極構体と第
1グリッドとの間の抵抗の変化を調べた。すなわち、線
Cの内角θを24.5度に設定して、絶縁支持体4の上
面Lからフレア31の上端までの高さh1が0.55m
mおよび0.6mmとした試験品電子銃構体(イ)、
(ロ)を夫々製作し、また線Cの内角θを25.0度に
設定して、絶縁支持体4の上面Lからフレア31の上端
までの高さh1が0.55mm、0.60mmおよび
0.65mmとした試験品電子銃構体(ハ)、(ニ)、
(ホ)を夫々製作し、さらに線Cの内角θを25.5度
に設定して、絶縁支持体4の上面Lからフレア31の上
端までの高さh1が0.55mm、0.60mmおよび
0.65mmとした試験品電子銃構体(ヘ)、(ト)、
(チ)を夫々製作した。各試験品電子銃構体の試験の結
果、陰極基体と陰極基体との間における初期値に対する
9000時間での抵抗値の変化は、試験品電子銃構体
(イ)−0.8%、(ロ)−0.7%、(ハ)−1.2
%、(ニ)−0.75%、(ホ)−0.70%、(ヘ)
−5,6%、(ト)−3,2%および(チ)−2.6%
である。
【0039】この試験の結果により、まず陰極基体8の
外周縁の1点Aと絶縁陰極保持シリンダ2のフレア31
の最外周の1点Bとを結ぶ線Cと、フレア31の外周縁
の1点から陰極基体8の外周縁の1点から垂下した線に
向けて延ばした線Dとがなす角度θが25度以下である
場合に、線C上の点Eが遠方に位置して各陰極保持シリ
ンダ2間における絶縁支持体4の上面の広い範囲でエミ
ッタが蒸着することを阻止できる。すなわち、線C、D
の角度θが小さくなればなるほど線C上のE点が遠方に
位置して絶縁支持体4の上面におけるエミッタの蒸着の
度合いを小さくできるといえる。さらに、この点に加え
て絶縁支持体4の上面Lから陰極保持シリンダ2のフレ
ア31の上端までの高さh1が0.6mm以上に設定す
ることにより、線C上のE点がさらに遠方に位置して、
各陰極保持シリンダ2間の絶縁支持体4の上面全体にに
エミッタが蒸着することを阻止できるといえる。
外周縁の1点Aと絶縁陰極保持シリンダ2のフレア31
の最外周の1点Bとを結ぶ線Cと、フレア31の外周縁
の1点から陰極基体8の外周縁の1点から垂下した線に
向けて延ばした線Dとがなす角度θが25度以下である
場合に、線C上の点Eが遠方に位置して各陰極保持シリ
ンダ2間における絶縁支持体4の上面の広い範囲でエミ
ッタが蒸着することを阻止できる。すなわち、線C、D
の角度θが小さくなればなるほど線C上のE点が遠方に
位置して絶縁支持体4の上面におけるエミッタの蒸着の
度合いを小さくできるといえる。さらに、この点に加え
て絶縁支持体4の上面Lから陰極保持シリンダ2のフレ
ア31の上端までの高さh1が0.6mm以上に設定す
ることにより、線C上のE点がさらに遠方に位置して、
各陰極保持シリンダ2間の絶縁支持体4の上面全体にに
エミッタが蒸着することを阻止できるといえる。
【0040】このように陰極保持シリンダ2の上端部に
外周方向に広げられたフレア31を設け、このフレア3
1にかかわる線CとDの角度θを規定し、絶縁支持体4
の上面から陰極保持シリンダ2のフレア31までの高さ
h1を規定することにより、絶縁支持体4の上面におけ
るエミッタの蒸着を確実に防止できる。この結果、陰極
構体と陰極構体との間、および陰極構体と第1グリッド
との間における絶縁低下を夫々抑制することができる。
従って、フレア31にかかわる寸法を特定してエミッタ
蒸着を効果的に抑制できる。このような陰極構体は特に
含浸型陰極基体を用いた場合には最適である。
外周方向に広げられたフレア31を設け、このフレア3
1にかかわる線CとDの角度θを規定し、絶縁支持体4
の上面から陰極保持シリンダ2のフレア31までの高さ
h1を規定することにより、絶縁支持体4の上面におけ
るエミッタの蒸着を確実に防止できる。この結果、陰極
構体と陰極構体との間、および陰極構体と第1グリッド
との間における絶縁低下を夫々抑制することができる。
従って、フレア31にかかわる寸法を特定してエミッタ
蒸着を効果的に抑制できる。このような陰極構体は特に
含浸型陰極基体を用いた場合には最適である。
【0041】また、第1グリッド6の電子ビーム通過孔
6aの周囲には、電子ビームの散乱防止および強度向上
を目的として陰極構体側へ向けて突出する環状をなすビ
ーム部6bが形成されている。一方、この陰極支持構体
4では、陰極保持シリンダ2の上端部に外側へ向けて広
がるテーパをなすフレア31を形成しているために、絶
縁支持体4へのエミッタ蒸着を阻止するために陰極保持
シリンダ2の高さを高くすることを緩和できる。このた
め、第1グリッド6のビーム11bと陰極保持シリンダ
2のフレア31との間の間隔を充分広く確保でき、従っ
て陰極保持シリンダ2のフレア31上端に蒸着したエミ
ッタによつて引き起こされるフレア31上端における突
起部からの不要なエミッタ蒸発を防止でき、高信頼性で
量産性に優れた陰極線管を得ることができる。
6aの周囲には、電子ビームの散乱防止および強度向上
を目的として陰極構体側へ向けて突出する環状をなすビ
ーム部6bが形成されている。一方、この陰極支持構体
4では、陰極保持シリンダ2の上端部に外側へ向けて広
がるテーパをなすフレア31を形成しているために、絶
縁支持体4へのエミッタ蒸着を阻止するために陰極保持
シリンダ2の高さを高くすることを緩和できる。このた
め、第1グリッド6のビーム11bと陰極保持シリンダ
2のフレア31との間の間隔を充分広く確保でき、従っ
て陰極保持シリンダ2のフレア31上端に蒸着したエミ
ッタによつて引き起こされるフレア31上端における突
起部からの不要なエミッタ蒸発を防止でき、高信頼性で
量産性に優れた陰極線管を得ることができる。
【0042】なお、本発明は前述した実施の形態に限定
されず、種々変形して実施することができる。
されず、種々変形して実施することができる。
【0043】例えば、陰極保持シリンダ2の上端部に設
ける外側に向けて広がるテーパをなすフレア31は、陰
極保持シリンダ2と一体に形成した構成に限定されな
い。例えば、図3(b)に示すように外側に向けて広が
るテーパをなすフレア311を陰極保持シリンダ2とは
別体に形成し、このフレア311を陰極保持シリンダ2
の上端部の外周側に嵌合して溶接などの手段で固着する
構造や、図3(c)に示すようにフレア311を陰極保
持シリンダ2の上端部の内周部に嵌合して溶接などの手
段で固着する構造を採用することができる。
ける外側に向けて広がるテーパをなすフレア31は、陰
極保持シリンダ2と一体に形成した構成に限定されな
い。例えば、図3(b)に示すように外側に向けて広が
るテーパをなすフレア311を陰極保持シリンダ2とは
別体に形成し、このフレア311を陰極保持シリンダ2
の上端部の外周側に嵌合して溶接などの手段で固着する
構造や、図3(c)に示すようにフレア311を陰極保
持シリンダ2の上端部の内周部に嵌合して溶接などの手
段で固着する構造を採用することができる。
【0044】また、前述した実施の形態では陰極支持構
体は含浸型陰極基体を搭載したものについて実施例を説
明したが、これに限定されず酸化物型陰極基体の搭載し
たものにも適用することができる。
体は含浸型陰極基体を搭載したものについて実施例を説
明したが、これに限定されず酸化物型陰極基体の搭載し
たものにも適用することができる。
【0045】
【発明の効果】請求項1の発明の陰極支持構体によれ
ば、陰極保持シリンダの先端部にフレアを設けることに
より、陰極構体の陰極基体から蒸発したエミッタが陰極
保持シリンダを支持する絶縁支持体の表面に蒸着するこ
とを抑制するので、陰極構体と陰極構体との間、および
陰極構体と第1グリッドとの間の絶縁を確保して絶縁低
下を抑制することができる。特に、陰極保持シリンダの
フレアは陰極構体の先端部に近付くに従い外側へ広がる
テーパをなしているので、フレアが水平面上の面積の大
きさに比較して、絶縁支持体の表面にエミッタが蒸着す
ることを抑制する大きな効果を得ることができる。しか
も、絶縁支持体の表面にエミッタが蒸着することを抑制
する部材としてのフレアを簡素な構成で実現して容易に
製作することができる。また、グリッドに形成したビー
ム部と陰極保持シリンダのフレアとの間の間隔を充分広
く確保でき、従って陰極保持シリンダのフレア上端に蒸
着したエミッタによつて引き起こされるフレア上端にお
ける突起部からの不要なエミッタ蒸発を防止でき、高信
頼性で量産性に優れた陰極線管を得ることができる。
ば、陰極保持シリンダの先端部にフレアを設けることに
より、陰極構体の陰極基体から蒸発したエミッタが陰極
保持シリンダを支持する絶縁支持体の表面に蒸着するこ
とを抑制するので、陰極構体と陰極構体との間、および
陰極構体と第1グリッドとの間の絶縁を確保して絶縁低
下を抑制することができる。特に、陰極保持シリンダの
フレアは陰極構体の先端部に近付くに従い外側へ広がる
テーパをなしているので、フレアが水平面上の面積の大
きさに比較して、絶縁支持体の表面にエミッタが蒸着す
ることを抑制する大きな効果を得ることができる。しか
も、絶縁支持体の表面にエミッタが蒸着することを抑制
する部材としてのフレアを簡素な構成で実現して容易に
製作することができる。また、グリッドに形成したビー
ム部と陰極保持シリンダのフレアとの間の間隔を充分広
く確保でき、従って陰極保持シリンダのフレア上端に蒸
着したエミッタによつて引き起こされるフレア上端にお
ける突起部からの不要なエミッタ蒸発を防止でき、高信
頼性で量産性に優れた陰極線管を得ることができる。
【0046】請求項2および3の発明の陰極支持構体に
よれば、請求項1の発明の効果に加えて、陰極保持シリ
ンダに形成されたテーパ状に広がったフレアを、陰極基
体から蒸発したエミッタが絶縁支持体に対して効果的に
遮断できる寸法の範囲に特定して、エミッタが絶縁支持
体に蒸着することを防止する効果を高めることができ
る。
よれば、請求項1の発明の効果に加えて、陰極保持シリ
ンダに形成されたテーパ状に広がったフレアを、陰極基
体から蒸発したエミッタが絶縁支持体に対して効果的に
遮断できる寸法の範囲に特定して、エミッタが絶縁支持
体に蒸着することを防止する効果を高めることができ
る。
【0047】この請求項4ないし6の発明の陰極支持構
体によれば、請求項1の発明の効果に加えて、フレアの
具体的な形態を提供できる。
体によれば、請求項1の発明の効果に加えて、フレアの
具体的な形態を提供できる。
【0048】請求項7および8の発明の陰極支持構体に
よれば、請求項1の発明の効果に加えて陰極基体の具体
的な形態を提供できる。
よれば、請求項1の発明の効果に加えて陰極基体の具体
的な形態を提供できる。
【0049】請求項9の発明によれば、請求項1ないし
8いずれかに記載の優れた効果を優する陰極支持構体を
備えた電子銃構体を得ることができる、
8いずれかに記載の優れた効果を優する陰極支持構体を
備えた電子銃構体を得ることができる、
【図1】本発明の一実施の形態における電子銃構体を示
す一部切欠断面図。
す一部切欠断面図。
【図2】同実施の形態における電子銃構体のエミッタ蒸
発部を拡大して示す断面図。
発部を拡大して示す断面図。
【図3】同実施の形態の電子銃構体に設ける陰極保持シ
リンダにおけるフレアを拡大して示す図。
リンダにおけるフレアを拡大して示す図。
【図4】電子銃構体に設ける陰極構体を示す一部切欠斜
視図。
視図。
【図5】従来の電子銃構体を示す断面図。
1…支持フレーム、 2…陰極保持シリンダ、 3…コネクタ支持体、 4…陰極構体、 6…グリッド、 7…陰極スリーブ、 8…陰極基体、 12…陰極ホルダ、 31…フレア、 A…陰極支持構体、 B…電子銃構体。
フロントページの続き (72)発明者 小山 生代美 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 室 直人 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 宇田 英一郎 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 Fターム(参考) 5C031 DD04 DD07 DD08 DD15 5C041 AA03 AB02 AB03
Claims (9)
- 【請求項1】 金属からなる支持フレームと、この支持
フレームに取付けられた絶縁支持体と、先端部が前記絶
縁支持体の表面から外側へ突出するように配設された陰
極保持シリンダと、陰極スリーブの一端に陰極基体を取
り付けるとともに陰極スリーブの内部に前記陰極基体を
加熱するヒータを有し前記陰極基体が前記陰極保持シリ
ンダの先端部から外側へ突出するように前記陰極保持シ
リンダの内部に配設された陰極構体とを具備し、前記陰
極保持シリンダの先端部は、前記陰極基体に接近するに
従い外周側へ向けて広がるテーパ状をなし且つ前記陰極
基体から蒸発するエミッタを前記絶縁支持体の表面に対
して遮断するフレアを有することを特徴とする陰極支持
構体。 - 【請求項2】 前記陰極基体の外周縁の1点と前記陰極
保持シリンダのフレアの外周縁の1点とを結ぶ線と、前
記陰極基体の外周縁の1点から垂下した線に向けて前記
フレアの外周縁の1点から水平に延ばした線とがなす角
度が25度以下であることを特徴とする請求項1に記載
の陰極支持構体。 - 【請求項3】 前記絶縁支持体の表面から前記陰極保持
シリンダのフレアの外周縁までの高さが0.6mm以上
であることを特徴とする請求項1に記載の陰極支持構
体。 - 【請求項4】 前記フレアは、前記陰極保持シリンダの
先端部と一体に形成されたものであることを特徴とする
請求項1に記載の陰極支持構体。 - 【請求項5】 前記フレアは前記陰極保持シリンダとは
別体であり、前記陰極保持シリンダの先端部にその外周
側で嵌合されたものであることを特徴とする請求項1に
記載の陰極支持構体。 - 【請求項6】 前記フレアは前記陰極保持シリンダとは
別体であり、前記陰極保持シリンダの先端部にその内周
側で嵌合されたものであることを特徴とする請求項1に
記載の陰極支持構体。 - 【請求項7】 前記陰極基体は含浸型であることを特徴
とする請求項1に記載の陰極支持構体。 - 【請求項8】 前記陰極基体は酸化物型であることを特
徴とする請求項1に記載の陰極支持構体。 - 【請求項9】 請求項1ないし8いずれかに記載の陰極
支持構体と、この陰極支持構体に組合されたグリッドと
を具備することを特徴とする電子銃構体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10132299A JP2000294160A (ja) | 1999-04-08 | 1999-04-08 | 陰極支持構体および電子銃構体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10132299A JP2000294160A (ja) | 1999-04-08 | 1999-04-08 | 陰極支持構体および電子銃構体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000294160A true JP2000294160A (ja) | 2000-10-20 |
Family
ID=14297591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10132299A Pending JP2000294160A (ja) | 1999-04-08 | 1999-04-08 | 陰極支持構体および電子銃構体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000294160A (ja) |
-
1999
- 1999-04-08 JP JP10132299A patent/JP2000294160A/ja active Pending
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