JP2000294483A - 基板処理装置および制御プログラムを記録した記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理内容の入力誤りが防止された基板処理装
置およびその制御プログラムを記憶した記憶媒体を提供
することである。 【解決手段】 インラインコントローラ１は、メインコ
ントローラ３および露光機２０に設定された処理情報を
レシピフロー情報とともに受け取る。処理の開始時に、
インラインパネル２の画面に処理情報が表示され、作業
者が表示された処理情報のいずれかを選択することによ
り選択された処理情報が入力される。インラインコント
ローラ１は露光機２０から受け取った基板処理時間をメ
インコントローラ３に与える。メインコントローラ３は
与えられた基板処理時間に基づいて処理部５での基板処
理時間を決定する。インラインコントローラ１は、入力
された処理情報およびレシピフロー情報に基づいてメイ
ンコントローラ３および露光機２０に処理の開始を順次
指令する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理装置およ
び制御プログラムを記録した記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が
用いられている。例えば、半導体デバイスの製造プロセ
スでは、生産効率を高めるために一連の処理の各々をユ
ニット化し、複数のユニットを統合した基板処理装置が
用いられている。

【０００３】フォトリソグラフィ工程においては、露光
処理の前後の各種の基板処理が基板処理装置で行われ、
露光処理が露光機で行われる。この場合、基板処理装置
には、フォトレジストの塗布処理を行う回転式塗布装置
（スピンコータ）、現像処理を行う回転式現像装置（ス
ピンディベロッパ）、加熱処理および冷却処理を行う基
板熱処理装置（ベークプレート）等の各種処理装置や、
処理装置間で基板の搬送を行う基板搬送装置が設けられ
ている。

【０００４】フォトリソグラフィ工程では、まず、基板
処理装置で露光処理前の基板処理が行われ、次に、露光
機で露光処理が行われ、その後、再び基板処理装置で露
光処理後の基板処理が行われる。基板処理装置および露
光機の処理の開始タイミングはインラインコントローラ
により一元管理される。

【０００５】図６は従来の基板処理装置、インラインコ
ントローラおよび露光機の接続を示すブロック図であ
る。

【０００６】図６に示すように、インラインコントロー
ラ３００に基板処理装置１００および露光機２００が接
続される。処理の開始時には複数の基板を収納するカセ
ットが基板処理装置１００に搬入される。作業者は、基
板処理装置１００のメインパネルの画面から基板処理装
置１００および露光機２００の処理内容を示す処理情報
を入力する。

【０００７】この処理情報は、基板処理装置１００の処
理におけるレシピを特定するレシピ番号および露光機２
００の処理で用いられるレチクルを特定するレチクル名
およびジョブを特定するジョブ名を含む。ここで、レシ
ピは、基板処理装置１００での処理条件、処理手順等の
処理内容を示す。また、レチクルは、露光機２００で用
いるフォトマスクであり、ジョブは、露光機２００にお
ける露光条件を示す。

【０００８】作業者が基板処理装置１００のメインパネ
ルの画面から処理の開始を指令すると、入力された処理
情報がインラインコントローラ３００に転送される。イ
ンラインコントローラ３００は、基板処理装置１００か
ら転送された処理情報に基づいて基板処理装置１００お
よび露光機２００に処理の開始を順次指令する。

【０００９】このようにして、基板処理装置１００に搬
入されたカセット内の基板が基板処理装置１００で処理
された後、露光機２００で処理され、さらに基板処理装
置１００で処理され、処理済の基板がカセット内に収納
される。その後、処理済の基板が収納されたカセットが
基板処理装置１００から搬出される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、作業者
は、処理の開始時に、基板処理装置１００のメインパネ
ルの画面から基板処理装置１００に関する処理情報とと
もに露光機２００に関する処理情報を入力する。露光機
２００に関する処理情報の入力の際には、レチクル名お
よびジョブ名を長い文字列で入力する必要がある。この
場合、レチクル名またはジョブ名が誤っていると、処理
中に露光機２００が停止してしまう。

【００１１】また、インラインコントローラ３００は、
基板処理装置１００および露光機２００の両方が処理を
行うことを前提として基板処理装置１００および露光機
２００に処理の開始を指令する。そのため、基板処理装
置１００におけるレシピは、必ず露光機２００を通る処
理である必要がある。したがって、基板処理装置１００
で塗布処理または現像処理のみを行う場合には、基板処
理装置１００および露光機２００ともにインラインコン
トローラ３００によるオンライン制御で動作させること
はできない。そのため、基板処理装置１００をオフライ
ン制御で動作させる必要がある。この場合、基板処理装
置１００で処理中の基板を全て搬出した後にオンライン
制御かオフライン制御に切り替える必要がある。このよ
うなオンライン制御とオフライン制御との切り替え時に
待ち時間が必要となるため、全体の基板処理のスループ
ットが低下することになる。

【００１２】さらに、基板処理装置１００においては、
各基板の処理時間が同一になるように、基板処理装置１
００内で基板１枚ごとに処理時間、搬送時間、待機時間
等の時間管理を行っている。しかしながら、露光機２０
０では、各基板の処理時間を同一にするような時間管理
は行われていない。したがって、基板処理装置１００お
よび露光機２００の全体の処理としては、各基板の処理
時間が同一になるような時間管理を行うことが難しい。

【００１３】本発明の目的は、処理内容の入力誤りが防
止された基板処理装置およびその制御プログラムを記録
した記録媒体を提供することである。

【００１４】本発明の他の目的は、基板処理装置および
外部装置の一方による処理をオンライン制御で行うこと
ができる基板処理装置およびその制御プログラムを記録
した記録媒体を提供することである。

【００１５】本発明のさらに他の目的は、基板ごとに基
板処理装置および外部装置を含めた全体の時間管理を行
うことが可能な基板処理装置およびその制御プログラム
を記録した記録媒体を提供することである。

【００１６】

【課題を解決するための手段および発明の効果】（１）
第１の発明 第１の発明に係る基板処理装置は、外部装置に接続可能
な基板処理装置であって、基板に処理を行う処理部と、
処理部による処理を制御する第１の制御部と、第１の制
御部に基板の処理内容を示す処理情報を予め設定するた
めの設定手段と、設定手段により設定された処理情報を
第１の制御部から受け取るとともに外部装置に設定され
た処理情報を外部装置から受け取る第２の制御部と、第
２の制御部が第１の制御部および外部装置から受け取っ
た処理情報を表示するとともに、表示された処理情報を
選択するための選択手段とを備え、第２の制御部は、選
択手段により選択された処理情報に基づいて第１の制御
部および外部装置に処理の開始を順次指令するものであ
る。

【００１７】本発明に係る基板処理装置においては、設
定手段により第１の制御部に基板の処理内容を示す処理
情報が予め設定される。第２の制御部は、設定手段によ
り設定された処理情報を第１の制御部から受け取るとと
もに外部装置に設定された処理内容を外部装置から受け
取る。第２の制御部が第１の制御部および外部装置から
受け取った処理情報は選択手段により表示される。選択
手段により表示された処理情報のいずれかが選択される
と、第２の制御部は、選択された処理情報に基づいて第
１の制御部および外部装置に処理の開始を順次指令す
る。それにより、処理部で基板に処理が行われるととも
に、外部装置で基板に処理が行われる。

【００１８】このように、第１の制御部および外部装置
に予め設定された処理情報が表示され、表示された処理
情報を選択することにより処理情報を第２の制御部に入
力することができるので、処理内容の入力誤りが防止さ
れる。

【００１９】（２）第２の発明 第２の発明に係る基板処理装置は、第１の発明に係る基
板処理装置の構成において、設定手段は、第１の制御部
に基板の処理経路を示す経路情報をさらに設定し、第２
の制御部は、設定手段により設定された経路情報を第１
の制御部から受け取り、選択手段により選択された処理
情報および第１の制御部から受け取った経路情報に基づ
いて第１の制御部および外部装置の一方または両方に処
理の開始を順次指令するものである。

【００２０】この場合、設定手段により基板の処理経路
を示す経路情報がさらに第１の制御部に設定される。第
２の制御部は、設定手段により設定された経路情報を第
１の制御部から受け取ると、選択手段により選択された
処理情報および受け取った経路情報に基づいて第１の制
御部および外部装置の一方または両方に処理の開始を順
次指令する。

【００２１】経路情報が処理部のみを基板が通過するこ
とを示している場合には、第２の制御部は第１の制御部
のみに処理の開始を指令する。一方、経路情報が外部装
置のみを基板が通過することを示している場合には、第
２の制御部は外部装置のみに処理の開始を指令する。こ
のように、第２の制御部によるオンライン制御で処理部
での処理のみまたは外部装置での処理のみを行うことが
できるので、オンライン制御とオフライン制御との切り
替えのための時間が不要となる。したがって、全体の基
板処理におけるスループットの向上が図られる。

【００２２】（３）第３の発明 第３の発明に係る基板処理装置は、第１または第２の発
明に係る基板処理装置の構成において、第２の制御部
は、外部装置から基板の処理時間に関する時間情報を受
け取り、受け取った時間情報を第１の制御部に与え、第
１の制御部は、第２の制御部から与えられた時間情報に
基づいて処理部での基板の処理時間を算出し、第２の制
御部は、選択手段により選択された処理情報および第１
の制御部により算出された処理時間に基づいて第１の制
御部および外部装置に処理の開始を順次指令するもので
ある。

【００２３】この場合、第２の制御部は、外部装置から
基板の処理時間に関する時間情報を受け取ると、受け取
った時間情報を第１の制御部に与える。それにより、第
１の制御部は、第２の制御部から与えられた時間情報に
基づいて処理部での基板の処理時間を算出する。そし
て、第２の制御部は、選択手段により選択された処理情
報および第１の制御部により算出された処理時間に基づ
いて第１の制御部および外部装置に処理の開始を順次指
令する。

【００２４】このように、第２の制御部が外部装置での
基板の処理時間を考慮して処理部での基板の処理時間を
算出することができるので、基板ごとに処理部および外
部装置を含めた全体の時間管理を行うことが可能とな
る。

【００２５】（４）第４の発明 第４の発明に係る基板処理装置は、外部装置に接続可能
な基板処理装置であって、基板に処理を行う処理部と、
処理部による処理を制御する第１の制御部と、第１の制
御部に基板の処理経路を示す経路情報を設定するための
設定手段と、設定手段により設定された経路情報を第１
の制御部から受け取る第２の制御部と、第２の制御部に
処理内容を示す処理情報を入力するための入力手段とを
備え、第２の制御部は、入力手段により入力された処理
情報および第１の制御部から受け取った経路情報に基づ
いて第１の制御部および外部装置の一方または両方に処
理の開始を順次指令するものである。

【００２６】本発明に係る基板処理装置においては、設
定手段により基板の処理経路を示す経路情報が第１の制
御部に設定される。第２の制御部は、設定手段により設
定された経路情報を第１の制御部から受け取る。入力手
段により第２の制御部に処理内容を示す処理情報が入力
されると、第２の制御部は、入力された処理情報および
第１の制御部から受け取った経路情報に基づいて第１の
制御部および外部装置の一方または両方に処理の開始を
順次指令する。

【００２７】経路情報が処理部のみを基板が通過するこ
とを示している場合には、第２の制御部は第１の制御部
のみに処理の開始を指令する。一方、経路情報が外部装
置のみを基板が通過することを示している場合には、第
２の制御部は外部装置のみに処理の開始を指令する。こ
のように、第２の制御部によるオンライン制御で処理部
での処理のみまたは外部装置での処理のみを行うことが
できるので、オンライン制御とオフライン制御との切り
替えのための時間が不要となる。したがって、全体の基
板処理におけるスループットの向上が図られる。

【００２８】（５）第５の発明 第５の発明に係る基板処理装置は、第４の発明に係る基
板処理装置の構成において、第２の制御部は、外部装置
から基板の処理時間に関する時間情報を受け取り、受け
取った時間情報を第１の制御部に与え、第１の制御部
は、第２の制御部から与えられた時間情報に基づいて処
理部での基板の処理時間を算出し、第２の制御部は、入
力手段により入力された処理情報、第１の制御部から受
け取った経路情報および第１の制御部により算出された
処理時間に基づいて第１の制御部および外部装置の一方
または両方に処理の開始を順次指令するものである。

【００２９】この場合、第２の制御部は、外部装置から
基板の処理時間に関する時間情報を受け取ると、受け取
った時間情報を第１の制御部に与える。それにより、第
１の制御部は、第２の制御部から与えられた時間情報に
基づいて処理部での基板の処理時間を算出する。そし
て、第２の制御部は、入力された処理情報、第１の制御
部から受け取った経路情報および第１の制御部により算
出された処理時間に基づいて第１の制御部により算出さ
れた処理時間に基づいて第１の制御部および外部装置に
処理の開始を順次指令する。

【００３０】このように、第２の制御部が外部装置での
基板の処理時間を考慮して処理部での基板の処理時間を
算出することができるので、基板ごとに処理部および外
部装置を含めた全体の時間管理を行うことが可能とな
る。

【００３１】（６）第６の発明 第６の発明に係る基板処理装置は、外部装置に接続可能
な基板処理装置であって、基板に処理を行う処理部と、
処理部による処理を制御する第１の制御部と、外部装置
から基板の処理時間に関する時間情報を受け取り、受け
取った時間情報を第１の制御部に与える第２の制御部
と、第２の制御部に処理内容を示す処理情報を入力する
ための入力手段とを備え、第１の制御部は、第２の制御
部から与えられた時間情報に基づいて処理部での基板の
処理時間を算出し、第２の制御部は、入力手段により入
力された処理情報および第１の制御部により算出された
処理時間に基づいて第１の制御部および外部装置に処理
の開始を順次指令するものである。

【００３２】本発明に係る基板処理装置においては、第
２の制御部が、外部装置から基板の処理時間に関する時
間情報を受け取ると、受け取った時間情報を第１の制御
部に与える。それにより、第１の制御部は、第２の制御
部から与えられた時間情報に基づいて処理部での基板の
処理時間を算出する。そして、第２の制御部は、入力手
段により入力された処理情報および第１の制御部により
算出された処理時間に基づいて第１の制御部および外部
装置に処理の開始を順次指令する。

【００３３】このように、第２の制御部が外部装置での
基板の処理時間を考慮して処理部での基板の処理時間を
算出することができるので、基板ごとに処理部および外
部装置を含めた全体の時間管理を行うことが可能とな
る。

【００３４】（７）第７の発明 第７の発明に係る基板処理装置は、第１〜第６のいずれ
かの発明に係る基板処理装置の構成において、外部装置
は露光機であり、処理部は、基板に処理液の塗布処理を
行う塗布装置および基板に現像処理を行う現像装置を含
むものである。

【００３５】この場合には、処理部で基板に処理液の塗
布処理が行われた後、露光機で露光処理が行われ、さら
に処理部で現像処理が行われる。

【００３６】（８）第８の発明 第８の発明に係る制御プログラムを記録した記録媒体
は、基板に処理を行う処理部と、処理部による処理を制
御する第１の制御部と、第２の制御部とを備えかつ外部
装置に接続可能な基板処理装置において第１の制御部お
よび外部装置を制御するための制御プログラムを記録し
た記録媒体であって、制御プログラムは、第１の制御部
に設定された処理内容を示す処理情報および外部装置に
設定された処理情報を受け取るステップと、第１の制御
部および外部装置から受け取った処理情報を選択可能に
表示するステップと、表示した処理情報のうち選択され
た処理情報に基づいて第１の制御部および外部装置に処
理の開始を順次指令するステップとを、第２の制御部に
実行させるものである。

【００３７】本発明に係る制御プログラムを記録した記
録媒体によれば、第２の制御部は、第１の制御部に設定
された処理内容を示す処理情報を第１の制御部から受け
取るとともに外部装置に設定された処理情報を外部装置
から受け取る。第２の制御部は、第１の制御部および外
部装置から受け取った処理情報を選択可能に表示する。
表示された処理情報のいずれかが選択されると、第２の
制御部は、選択された処理情報に基づいて第１の制御部
および外部装置に処理の開始を順次指令する。それによ
り、処理部で基板に処理が行われるとともに、外部装置
で基板に処理が行われる。

【００３８】このように、第１の制御部および外部装置
に予め設定された処理情報が表示され、表示された処理
情報を選択することにより処理情報を第２の制御部に入
力することができるので、処理内容の入力誤りが防止さ
れる。

【００３９】（９）第９の発明 第９の発明に係る制御プログラムを記録した記録媒体
は、基板に処理を行う処理部と、処理部による処理を制
御する第１の制御部と、第２の制御部とを備えかつ外部
装置に接続可能な基板処理装置において第１の制御部お
よび外部装置を制御するための制御プログラムを記録し
た記録媒体であって、制御プログラムは、第１の制御部
に設定された基板の処理経路を示す経路情報を受け取る
ステップと、処理内容を示す処理情報を入力するステッ
プと、入力された処理情報および第１の制御部から受け
取った経路情報に基づいて第１の制御部および外部装置
の一方または両方に処理の開始を順次指令するステップ
とを、第２の制御部に実行させるものである。

【００４０】本発明に係る制御プログラムを記録した記
録媒体によれば、第２の制御部は、第１の制御部に設定
された基板の処理経路を示す経路情報を第１の制御部か
ら受け取る。第２の制御部は、処理内容を示す処理情報
を入力すると、入力された処理情報および第１の制御部
から受け取った経路情報に基づいて第１の制御部および
外部装置の一方または両方に処理の開始を指令する。

【００４１】経路情報が処理部のみを基板が通過するこ
とを示している場合には、第２の制御部は第１の制御部
のみに処理の開始を指令する。一方、経路情報が外部装
置のみを基板が通過することを示している場合には、第
２の制御部は外部装置のみに処理の開始を指令する。こ
のように、第２の制御部によるオンライン制御で処理部
での処理のみまたは外部装置での処理のみを行うことが
できるので、オンライン制御とオフライン制御との切り
替えのための時間が不要となる。したがって、全体の基
板処理におけるスループットの向上が図られる。

【００４２】（１０）第１０の発明 第１０の発明に係る制御プログラムを記録した記録媒体
は、基板に処理を行う処理部と、処理部による処理を制
御する第１の制御部と、第２の制御部とを備えかつ外部
装置に接続可能な基板処理装置において第１の制御部お
よび外部装置を制御するための制御プログラムを記録し
た記録媒体であって、制御プログラムは、外部装置から
基板の処理時間に関する時間情報を受け取るステップ
と、受け取った時間情報を第１の制御部に与えるステッ
プと、処理内容を示す処理情報を入力するステップと、
時間情報に基づいて第１の制御部により算出された処理
部での処理時間を受け取るステップと、入力された処理
情報および受け取った処理時間に基づいて第１の制御部
および外部装置に処理の開始を順次指令するステップと
を、第２の制御部に実行させるものである。

【００４３】本発明に係る制御プログラムを記録した記
録媒体によれば、第２の制御部は、外部装置から基板の
処理時間に関する時間情報を受け取ると、受け取った時
間情報を第１の制御部に与える。それにより、第１の制
御部は、第２の制御部から与えられた時間情報に基づい
て処理部での基板の処理時間を算出する。そして、第２
の制御部は、処理内容を示す情報が入力されると、入力
された処理情報および第１の制御部により算出された処
理時間に基づいて第１の制御部および外部装置に処理の
開始を順次指令する。

【００４４】このように、第２の制御部が外部装置での
基板の処理時間を考慮して処理部での基板の処理時間を
算出することができるので、基板ごとに処理部および外
部装置を含めた全体の時間管理を行うことが可能とな
る。

【００４５】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施例におけ
る基板処理装置の制御系の構成を示すブロック図であ
る。

【００４６】図１に示すように、基板処理装置１０は、
インラインコントローラ１、インラインパネル２、メイ
ンコントローラ３、メインパネル４および処理部５を含
む。

【００４７】インラインパネル２は、インラインコント
ローラ１に接続され、各種情報および各種指令を入力す
るための入力部および各種情報を表示するための表示部
を備える。入力部としては、例えばマウスまたはキーボ
ードが用いられる。また、メインパネル４は、メインコ
ントローラ３に接続され、各種情報および各種指令を入
力するための入力部および各種情報を表示するための表
示部を備える。

【００４８】インラインコントローラ１は、ＣＰＵ（中
央演算処理装置）、メモリ等の１次記憶装置、およびハ
ードディスク装置等の２次記憶装置を備える。インライ
ンコントローラ１にはメインコントローラ３および露光
機２０が接続される。このインラインコントローラ１
は、制御プログラムに従って動作し、メインコントロー
ラ３および露光機２０の動作を一元管理する。制御プロ
グラムは、インラインコントローラ１の２次記憶装置に
保存され、１次記憶装置に読み込まれて実行される。

【００４９】また、メインコントローラ３は、ＣＰＵ、
メモリ等の１次記憶装置、およびハードディスク装置等
の２次記憶装置を含む。このメインコントローラ３は処
理部５を制御する。

【００５０】本実施例では、露光機２０が外部装置に相
当し、処理部５が処理部に相当し、メインコントローラ
３が第１の制御部に相当し、インラインコントローラ１
が第２の制御部に相当する。また、メインパネル４が設
定手段に相当し、インラインパネル２が選択手段および
入力手段に相当する。

【００５１】図２は図１の基板処理装置１０の処理部５
の構成を示す平面図である。図２に示すように、基板処
理装置１０の処理部５は、処理領域Ａ，Ｂおよび搬送領
域Ｃを備える。処理領域Ａには、基板Ｗにレジスト液の
塗布処理を行う回転式塗布装置（スピンコータ）ＳＣお
よび基板Ｗに現像処理を行う回転式現像装置（スピンデ
ィベロッパ）ＳＤが配置されている。また、処理領域Ｂ
には、基板Ｗに加熱処理を行う基板加熱装置（ホットプ
レート）ＨＰ、基板Ｗに冷却処理を行う基板冷却装置
（クーリングプレート）ＣＰおよび基板Ｗに密着強化処
理を行う密着強化装置ＡＨが配置されている。

【００５２】また、搬送領域Ｃには、基板Ｗを矢印Ｘ方
向に搬送するとともに処理領域Ａ，Ｂの各装置に対して
基板Ｗの搬入および搬出を行う基板搬送装置５３が設け
られている。

【００５３】基板処理部５の一端部側には、基板Ｗを収
納するとともに基板Ｗの搬入および搬出を行う基板搬入
搬出装置（インデクサ）ＩＤが配置されている。基板搬
入搬出装置ＩＤは、複数のカセット５０が載置されるカ
セット載置部５１および移載ロボット５２を備える。各
カセット５０には、複数枚の基板Ｗが収納される。移載
ロボット５２は、矢印Ｙの方向に移動し、カセット５０
から基板Ｗを取り出して搬送領域Ｃの基板搬送装置５３
に渡し、一連の処理が施された基板Ｗを搬送領域Ｃの基
板搬送装置５３から受け取ってカセット５０に戻す。

【００５４】基板処理部５の他端部には、露光機２０と
の間で基板Ｗの受渡しを行う中間受渡し装置（インタフ
ェース）ＩＦが設けられている。中間受渡し装置ＩＦ
は、基板搬送装置５５を備える。基板搬送装置５５は、
搬送領域Ｃの基板搬送装置５３から受け取った基板Ｗを
露光機２０に渡すとともに、露光処理の終了した基板Ｗ
を露光機２０から受け取った後、基板Ｗを搬送領域Ｃの
基板搬送装置５３に渡す。

【００５５】次に、図３、図４および図５のフローチャ
ートを参照しながら図１の基板処理装置１０の動作を説
明する。

【００５６】メインコントローラ３には、メインパネル
４により予め処理情報としてレシピ情報およびフローレ
シピ情報が設定される。ここで、レシピ情報とは、基板
処理装置１０の処理部５での処理条件、処理手順等の処
理内容を示し、レシピ番号およびレシピの内容を含む。
フローレシピ情報とは、各レシピにおける基板の処理経
路すなわち移動経路を示す情報である。一方、露光機２
０には、予め処理情報としてレチクル情報およびジョブ
が設定される。ここで、レチクル情報とは、露光機２０
で用いるフォトマスクを特定する情報であり、レチクル
名を含む。ジョブは、露光機２０における露光条件を示
し、ジョブ名およびジョブの内容を含む。

【００５７】基板処理装置１０の電源投入時または処理
情報の設定時には、インラインコントローラ１が、メイ
ンコントローラ３に全レシピ情報を要求する（ステップ
Ｓ１）。それにより、メインコントローラ３は、予め設
定された全レシピ情報をインラインコントローラ１に報
告する（ステップＳ２）。インラインコントローラ１
は、メインコントローラ３から報告された全レシピ情報
を２次記憶装置に記憶する（ステップＳ３）。

【００５８】また、インラインコントローラ１は、メイ
ンコントローラ３に全レシピフロー情報を要求する（ス
テップＳ４）。それにより、メインコントローラ３は、
インラインコントローラ１に全レシピフロー情報を報告
する（ステップＳ５）。インラインコントローラ１は、
メインコントローラ３から報告された全レシピフロー情
報を２次記憶装置に記憶する（ステップＳ６）。

【００５９】さらに、インラインコントローラ１は、露
光機２０に全レチクル情報を要求する（ステップＳ
７）。それにより、露光機２０は、インラインコントロ
ーラ１に全レチクル情報を報告する（ステップＳ８）。
インラインコントローラ１は、露光機２０から報告され
た全レチクル情報を２次記憶装置に記憶する（ステップ
Ｓ９）。

【００６０】また、インラインコントローラ１は、露光
機２０に全ジョブの確認を行う（ステップＳ１０）。そ
れにより、露光機２０は、インラインコントローラ１に
ジョブの確認応答を行う（ステップＳ１１）。インライ
ンコントローラ１は、露光機２０から与えられた全ジョ
ブを２次記憶装置に記憶する（ステップＳ１２）。

【００６１】このようにして、メインコントローラ３に
設定された全レシピ情報および全レシピフロー情報なら
びに露光機２０に設定された全レチクル情報および全ジ
ョブがインラインコントローラ１に記憶される。

【００６２】処理の開始時には、図２の基板搬入搬出装
置ＩＤのカセット載置部５１に基板Ｗを収納したカセッ
ト５０がロット単位で搬入される（ステップＳ２０）。
そして、作業者は、インラインコントローラ１に接続さ
れたインラインパネル２の画面から処理情報としてレシ
ピ番号、レチクル名およびジョブ名を入力する（ステッ
プＳ２１）。

【００６３】この場合、インラインコントローラ１の２
次記憶装置に記憶された全レシピ情報に含まれる全レシ
ピ番号、全レチクル情報に含まれる全レチクル名および
全ジョブに含まれる全ジョブ名がプルダウンメニューの
形式でインラインパネル２の画面上に表示される。作業
者は、マウスまたはキーボードを用いて画面上に表示さ
れた複数のレシピ番号、複数のレチクル名および複数の
ジョブ名のいずれかをそれぞれ選択する。それにより、
選択されたレシピ番号、レチクル名およびジョブ名がイ
ンラインコントローラ１に入力される。

【００６４】インラインコントローラ１は、インライン
パネル２から入力されたレシピ番号、レチクル名および
ジョブ名に基づいて処理内容を決定する（ステップＳ２
２）。

【００６５】さらに、インラインコントローラ１は、入
力されたジョブ名に基づいて該当するジョブについての
露光機２０での基板処理時間を露光機２０に確認する
（ステップＳ２３）。それにより、露光機２０は、該当
するジョブについての基板処理時間の確認応答をインラ
インコントローラ１に与える（ステップＳ２４）。

【００６６】インラインコントローラ１は、露光機２０
から与えられた基板処理時間をメインコントローラ３に
報告する（ステップＳ２５）。メインコントローラ３
は、インラインコントローラ１から報告された基板処理
時間に基づいて処理部５での基板処理時間を決定する
（ステップＳ２６）。そして、メインコントローラ３
は、決定された基板処理時間をインラインコントローラ
１に与える。

【００６７】その後、インラインコントローラ１は、イ
ンラインパネル２から入力されたレシピ番号、レチクル
名およびジョブ名、入力されたレシピ番号に対応するレ
シピフロー情報ならびにメインコントローラ３から与え
られた基板処理時間に基づいてメインコントローラ３お
よび露光機２０に以下のようにして処理の開始を順次指
示する。

【００６８】まず、インラインコントローラ１は、露光
機２０にレチクル移動を指示する（ステップＳ２７）。
それにより、露光機２０は、ライブラリから待機ステー
ジへレチクルを移動させる（ステップＳ２８）。

【００６９】次に、インラインコントローラ１は、メイ
ンコントローラ３にロット単位で基板の処理の開始を指
示する（ステップＳ２９）。それにより、メインコント
ローラ３は、処理部５による処理を開始させる。

【００７０】その後、インラインコントローラ１は、露
光機２０にレチクルの移動を指示する（ステップＳ３
０）。それにより、露光機２０は、レチクルを待機ステ
ージから露光ステージへ移動させる（ステップＳ３
１）。

【００７１】次に、インラインコントローラ１は、露光
機２０にロット単位での基板の処理の開始を指示する
（ステップＳ３２）。それにより、露光機２０は露光処
理を開始する。

【００７２】なお、上記のステップＳ２２で決定された
処理内容が処理部５での処理のみを含む場合には、イン
ラインコントローラ１は、ステップＳ２７，Ｓ３０，Ｓ
３２の露光機２０への指示は行わない。それにより、処
理部５のみでの基板の処理が実行される。

【００７３】上記のように、本実施例の基板処理装置１
０においては、実行すべき処理情報としてレシピ番号、
レチクル名およびジョブ名がインラインコントローラ１
に接続されたインラインパネル２の画面から入力され
る。この処理情報の入力の際には、インラインパネル２
の画面に予めメインコントローラ３および露光機２０に
設定された実行可能な処理情報が表示され、表示された
処理情報のいずれかを選択することにより、選択された
処理情報が入力される。したがって、処理情報の入力誤
りが発生しない。

【００７４】また、インラインコントローラ１が、メイ
ンコントローラ３に設定されたレシピフロー情報に基づ
いて基板の処理経路を認識するため、露光機２０を通過
しないレシピを実行する場合には、露光機２０に処理の
開始が指令されずにメインコントローラ３のみに処理の
開始が指令される。そのため、処理部５のみでの処理を
インラインコントローラ１によるオンライン制御で実行
することが可能となる。したがって、オンライン制御と
オフライン制御との切り替え時のロットの処理待ちの時
間が不要となり、全体の基板処理のスループットが向上
する。

【００７５】さらに、インラインコントローラ１が露光
機２０から受け取った露光機２０での基板処理時間をメ
インコントローラ３に与え、メインコントローラ３が露
光機２０での基板処理時間を考慮して処理部５での処理
時間を決定することができる。それにより、基板ごとに
処理部５および露光機２０を含めた全体の時間管理を行
うことができる。したがって、各基板の全体の処理時間
を均一にすることが可能となる。

【００７６】上記実施例では、制御プログラムが記録さ
れる記録媒体としてハードディスク等の２次記憶装置が
用いられているが、制御プログラムをフロッピーディス
ク、ＣＤＲＯＭ、光ディスク、半導体メモリ等の他の記
録媒体に記録してもよい。

【００７７】また、上記実施例では、インラインパネル
２とメインパネル４とが別個に設けられているが、イン
ラインパネル２およびメインパネル４を共通にしてもよ
い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における基板処理装置の構成
を示すブロック図である。

【図２】図１の基板処理装置の処理部の構成を示す平面
図である。

【図３】図１の基板処理装置の動作を示すフローチャー
トである。

【図４】図１の基板処理装置の動作を示すフローチャー
トである。

【図５】図１の基板処理装置の動作を示すフローチャー
トである。

【図６】従来の基板処理装置、インラインコントローラ
および露光機の接続を示すブロック図である。

【符号の説明】

１ インラインコントローラ ２ インラインパネル ３ メインコントローラ ４ メインパネル ５ 処理部 １０ 基板処理装置 ２０ 露光機 ＳＣ 回転式塗布装置 ＳＤ 回転式現像装置 ＩＤ 基板搬入搬出装置 ＩＦ 基板中間受渡し装置 ５０ カセット ５１ 載置部 ５２ 移載ロボット ５３，５５ 基板搬送装置

フロントページの続き (72)発明者 井上 秀和 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 吉田 多久司 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 亀井 謙治 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 5F031 CA02 CA05 CA07 FA11 FA12 MA27 PA03 5F046 AA17 AA28 DA29 DA30 DD02 JA22 LA18

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 外部装置に接続可能な基板処理装置であ
   って、 基板に処理を行う処理部と、 前記処理部による処理を制御する第１の制御部と、 前記第１の制御部に基板の処理内容を示す処理情報を予
   め設定するための設定手段と、 前記設定手段により設定された処理情報を前記第１の制
   御部から受け取るとともに前記外部装置に設定された処
   理情報を前記外部装置から受け取る第２の制御部と、 前記第２の制御部が前記第１の制御部および前記外部装
   置から受け取った処理情報を表示するとともに、表示さ
   れた処理情報を選択するための選択手段とを備え、 前記第２の制御部は、前記選択手段により選択された処
   理情報に基づいて前記第１の制御部および前記外部装置
   に処理の開始を順次指令することを特徴とする基板処理
   装置。
2. 【請求項２】 前記設定手段は、前記第１の制御部に基
   板の処理経路を示す経路情報をさらに設定し、 前記第２の制御部は、前記設定手段により設定された経
   路情報を前記第１の制御部から受け取り、前記選択手段
   により選択された処理情報および前記第１の制御部から
   受け取った経路情報に基づいて前記第１の制御部および
   前記外部装置の一方または両方に処理の開始を順次指令
   することを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
3. 【請求項３】 前記第２の制御部は、前記外部装置から
   基板の処理時間に関する時間情報を受け取り、受け取っ
   た時間情報を前記第１の制御部に与え、 前記第１の制御部は、前記第２の制御部から与えられた
   時間情報に基づいて前記処理部での基板の処理時間を算
   出し、 前記第２の制御部は、前記選択手段により選択された処
   理情報および前記第１の制御部により算出された処理時
   間に基づいて前記第１の制御部および前記外部装置に処
   理の開始を順次指令することを特徴とする請求項１また
   は２記載の基板処理装置。
4. 【請求項４】 外部装置に接続可能な基板処理装置であ
   って、 基板に処理を行う処理部と、 前記処理部による処理を制御する第１の制御部と、 前記第１の制御部に基板の処理経路を示す経路情報を設
   定するための設定手段と、 前記設定手段により設定された経路情報を前記第１の制
   御部から受け取る第２の制御部と、 前記第２の制御部に処理情報を入力するための入力手段
   とを備え、 前記第２の制御部は、前記入力手段により入力された処
   理情報および前記第１の制御部から受け取った経路情報
   に基づいて前記第１の制御部および前記外部装置の一方
   または両方に処理の開始を順次指令することを特徴とす
   る基板処理装置。
5. 【請求項５】 前記第２の制御部は、前記外部装置から
   基板の処理時間に関する時間情報を受け取り、受け取っ
   た時間情報を前記第１の制御部に与え、 前記第１の制御部は、前記第２の制御部から与えられた
   時間情報に基づいて前記処理部での基板の処理時間を算
   出し、 前記第２の制御部は、前記入力手段により入力された処
   理情報、前記第１の制御部から受け取った経路情報およ
   び前記第１の制御部により算出された処理時間に基づい
   て前記第１の制御部および前記外部装置の一方または両
   方に処理の開始を順次指令することを特徴とする請求項
   ４記載の基板処理装置。
6. 【請求項６】 外部装置に接続可能な基板処理装置であ
   って、 基板に処理を行う処理部と、 前記処理部による処理を制御する第１の制御部と、 前記外部装置から基板の処理時間に関する時間情報を受
   け取り、受け取った時間情報を前記第１の制御部に与え
   る第２の制御部と、 前記第２の制御部に処理内容を示す処理情報を入力する
   ための入力手段とを備え、 前記第１の制御部は、前記第２の制御部から与えられた
   時間情報に基づいて前記処理部での基板の処理時間を算
   出し、 前記第２の制御部は、前記入力手段により入力された処
   理情報および前記第１の制御部により算出された処理時
   間に基づいて前記第１の制御部および前記外部装置に処
   理の開始を順次指令することを特徴とする基板処理装
   置。
7. 【請求項７】 前記外部装置は露光機であり、 前記処理部は、基板に処理液の塗布処理を行う塗布装置
   および基板に現像処理を行う現像装置を含むことを特徴
   とする請求項１〜６のいずれかに記載の基板処理装置。
8. 【請求項８】 基板に処理を行う処理部と、前記処理部
   による処理を制御する第１の制御部と、第２の制御部と
   を備えかつ外部装置に接続可能な基板処理装置において
   前記第１の制御部および前記外部装置を制御するための
   制御プログラムを記録した記録媒体であって、 前記制御プログラムは、 前記第１の制御部に設定された処理内容を示す処理情報
   および前記外部装置に設定された処理情報を受け取るス
   テップと、 前記第１の制御部および前記外部装置から受け取った処
   理情報を選択可能に表示するステップと、 前記表示した処理情報のうち選択された処理情報に基づ
   いて前記第１の制御部および前記外部装置に処理の開始
   を順次指令するステップとを、 前記第２の制御部に実行させることを特徴とする制御プ
   ログラムを記録した記録媒体。
9. 【請求項９】 基板に処理を行う処理部と、前記処理部
   による処理を制御する第１の制御部と、第２の制御部と
   を備えかつ外部装置に接続可能な基板処理装置において
   前記第１の制御部および外部装置を制御するためのプロ
   グラムを記録した記録媒体であって、 前記制御プログラムは、 前記第１の制御部に設定された基板の処理経路を示す経
   路情報を受け取るステップと、 処理内容を示す処理情報を入力するステップと、 前記入力された処理情報および前記第１の制御部から受
   け取った経路情報に基づいて前記第１の制御部および前
   記外部装置の一方または両方に処理の開始を順次指令す
   るステップとを、 前記第２の制御部に実行させることを特徴とする制御プ
   ログラムを記録した記録媒体。
10. 【請求項１０】 基板に処理を行う処理部と、前記処理
    部による処理を制御する第１の制御部と、第２の制御部
    とを備えかつ外部装置に接続可能な基板処理装置におい
    て前記第１の制御部および外部装置を制御するための制
    御プログラムを記録した記録媒体であって、 前記制御プログラムは、 前記外部装置から基板の処理時間に関する時間情報を受
    け取るステップと、 前記受け取った時間情報を前記第１の制御部に与えるス
    テップと、 処理内容を示す処理情報を入力するステップと、 前記時間情報に基づいて前記第１の制御部により算出さ
    れた前記処理部での処理時間を受け取るステップと、 前記入力された処理情報および前記受け取った処理時間
    に基づいて前記第１の制御部および前記外部装置に処理
    の開始を順次指令するステップとを、 前記第２の制御部に実行させることを特徴とする制御プ
    ログラムを記録した記録媒体。