JP2000294489A - パターン重ね合わせ方法及び露光装置 - Google Patents
パターン重ね合わせ方法及び露光装置Info
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- JP2000294489A JP2000294489A JP11098954A JP9895499A JP2000294489A JP 2000294489 A JP2000294489 A JP 2000294489A JP 11098954 A JP11098954 A JP 11098954A JP 9895499 A JP9895499 A JP 9895499A JP 2000294489 A JP2000294489 A JP 2000294489A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 正確にパターン重ね合わせを行うことが
できるパターン重ね合わせ方法を提供すること。 【解決手段】 半導体ウエハＷにおける所定領域１内で
複数点の重ね合わせ測定を行った場合、得られた測定デ
ータからまず線形成分を除去する。所定領域１における
各点についての像高のウエハ面内のばらつきを求める。
そのばらつきが最も小さい像高に対応する測定ポイント
の像高を基準像高とする。所定領域１内で複数点の重ね
合わせ測定を行った場合、所定領域内の前記で求められ
た基準像高を基準として、その測定ポイントの重ね合わ
せ測定データと他の測定データとの減算を行う。その減
算で得られた所定領域内の各像高の重ね合わせ測定デー
タの所定領域間のばらつきに、ある判断基準を設定し、
その判断基準を越えた測定データを除外する。前記で除
去された値を同一ショット内の像高の平均値に線形成分
を加えた値に置換する。
できるパターン重ね合わせ方法を提供すること。 【解決手段】 半導体ウエハＷにおける所定領域１内で
複数点の重ね合わせ測定を行った場合、得られた測定デ
ータからまず線形成分を除去する。所定領域１における
各点についての像高のウエハ面内のばらつきを求める。
そのばらつきが最も小さい像高に対応する測定ポイント
の像高を基準像高とする。所定領域１内で複数点の重ね
合わせ測定を行った場合、所定領域内の前記で求められ
た基準像高を基準として、その測定ポイントの重ね合わ
せ測定データと他の測定データとの減算を行う。その減
算で得られた所定領域内の各像高の重ね合わせ測定デー
タの所定領域間のばらつきに、ある判断基準を設定し、
その判断基準を越えた測定データを除外する。前記で除
去された値を同一ショット内の像高の平均値に線形成分
を加えた値に置換する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、パターン重ね合わ
せ方法に関し、特に半導体製造プロセスにおける露光工
程でのパターン重ね合わせ方法に関する。
せ方法に関し、特に半導体製造プロセスにおける露光工
程でのパターン重ね合わせ方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体デバイスの高集積化によ
り、縮小投影露光技術は、益々微細化の方向に進んでい
る。したがって、半導体製造プロセスにおけるパターン
重ね合わせ技術に対する条件、すなわち重ね合わせ余裕
度（位置ズレ許容度）は、装置実力以上を要求されるほ
ど厳しくなってきている。ここで、パターン重ね合わせ
とは、フォトリソグラフィー工程において、現在露光し
ようとしているパターンと、その下地であるターゲット
パターンとの間で横方向（水平方向）の位置ズレを無く
すために行うものである。
り、縮小投影露光技術は、益々微細化の方向に進んでい
る。したがって、半導体製造プロセスにおけるパターン
重ね合わせ技術に対する条件、すなわち重ね合わせ余裕
度（位置ズレ許容度）は、装置実力以上を要求されるほ
ど厳しくなってきている。ここで、パターン重ね合わせ
とは、フォトリソグラフィー工程において、現在露光し
ようとしているパターンと、その下地であるターゲット
パターンとの間で横方向（水平方向）の位置ズレを無く
すために行うものである。
【０００３】従来、例えば、前工程で起きたトラブルに
より、重ね合わせ用の測定マーク上が粗れてしまい、若
しくは測定マーク上に異物が付着した場合、その測定マ
ークを用いて測定を行って重ね合わせを行うと、重ね合
わせ精度は低下してしまう。それを回避することを目的
として、このような異常値を除去するデータ演算アルゴ
リズムが用いられている。
より、重ね合わせ用の測定マーク上が粗れてしまい、若
しくは測定マーク上に異物が付着した場合、その測定マ
ークを用いて測定を行って重ね合わせを行うと、重ね合
わせ精度は低下してしまう。それを回避することを目的
として、このような異常値を除去するデータ演算アルゴ
リズムが用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
異常値除去アルゴリズムは、非常に簡易なものであり、
重ね合わせ測定データの平均値からのズレ量が判断基準
値を越えているか否かで異常値を除去する判断を行って
いる。
異常値除去アルゴリズムは、非常に簡易なものであり、
重ね合わせ測定データの平均値からのズレ量が判断基準
値を越えているか否かで異常値を除去する判断を行って
いる。
【０００５】このようなアルゴリズムでは、実際に重ね
合わせ時にパターンがズレてしまうことがあるので、正
確に異常値を除去するためには、判断基準値をかなり大
きく設定する必要があり、異常値除去機能を有効に活用
することは出来ていない。
合わせ時にパターンがズレてしまうことがあるので、正
確に異常値を除去するためには、判断基準値をかなり大
きく設定する必要があり、異常値除去機能を有効に活用
することは出来ていない。
【０００６】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、正確にパターン重ね合わせを行うことができるパ
ターン重ね合わせ方法を提供することを目的とする。
あり、正確にパターン重ね合わせを行うことができるパ
ターン重ね合わせ方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下の手段を講じた。本発明は、パターン
形成された被処理体の前記パターン上にパターンを重ね
合わせる方法であって、前記被処理体における複数の所
定領域内の複数点の高さデータから線形成分を除去した
後に、前記複数点のうち基準像高となる点を設定する工
程と、前記基準像高となる点の重ね合わせ測定データと
前記所定領域における前記基準像高となる点以外の点の
重ね合わせ測定データとの間の差分を求め、この差分の
前記所定領域間のばらつきに対してしきい値判定を行っ
て、前記しきい値を越える点の重ね合わせ測定データを
除去する工程と、除去された重ね合わせ測定データを、
前記所定領域内の像高の平均値に線形成分を加えた値に
置換する工程と、を具備することを特徴とするパターン
重ね合わせ方法を提供する。
に、本発明は以下の手段を講じた。本発明は、パターン
形成された被処理体の前記パターン上にパターンを重ね
合わせる方法であって、前記被処理体における複数の所
定領域内の複数点の高さデータから線形成分を除去した
後に、前記複数点のうち基準像高となる点を設定する工
程と、前記基準像高となる点の重ね合わせ測定データと
前記所定領域における前記基準像高となる点以外の点の
重ね合わせ測定データとの間の差分を求め、この差分の
前記所定領域間のばらつきに対してしきい値判定を行っ
て、前記しきい値を越える点の重ね合わせ測定データを
除去する工程と、除去された重ね合わせ測定データを、
前記所定領域内の像高の平均値に線形成分を加えた値に
置換する工程と、を具備することを特徴とするパターン
重ね合わせ方法を提供する。
【０００８】この構成によれば、異常値と思われる高さ
データを除去して真値と推定される値に置換するので、
正確に重ね合わせ測定を行うことができ、精度良くパタ
ーン重ね合わせを行うことができる。
データを除去して真値と推定される値に置換するので、
正確に重ね合わせ測定を行うことができ、精度良くパタ
ーン重ね合わせを行うことができる。
【０００９】本発明のパターン重ね合わせ方法において
は、前記基準像高は、前記所定領域における特定の点の
前記被処理体におけるばらつきが最も小さい点の高さデ
ータであることが好ましい。
は、前記基準像高は、前記所定領域における特定の点の
前記被処理体におけるばらつきが最も小さい点の高さデ
ータであることが好ましい。
【００１０】また、本発明のパターン重ね合わせ方法に
おいては、前記しきい値判定におけるしきい値は、前記
基準像高となる点の重ね合わせ測定データと前記複数の
所定領域における前記基準像高となる点以外の点の重ね
合わせ測定データとの間のそれぞれの差分の平均値から
の所定のズレ量であることが好ましく、前記被処理体に
対する処理内容により変更可能であることが好ましい。
おいては、前記しきい値判定におけるしきい値は、前記
基準像高となる点の重ね合わせ測定データと前記複数の
所定領域における前記基準像高となる点以外の点の重ね
合わせ測定データとの間のそれぞれの差分の平均値から
の所定のズレ量であることが好ましく、前記被処理体に
対する処理内容により変更可能であることが好ましい。
【００１１】また、本発明は、被処理体に対するパター
ン形成において露光・現像を行う露光装置であって、前
記被処理体に対してパターンの重ね合わせを行う際の測
定を行う重ね合わせ測定手段と、重ね合わせされた後の
被処理体に対して露光を行う露光手段と、露光後の被処
理体に対して現像処理を行う現像手段と、を具備し、前
記重ね合わせ測定手段は、前記被処理体における複数の
所定領域内の複数点の高さデータから線形成分を除去し
た後に、前記複数点のうち基準像高となる点を設定する
基準像高設定手段と、前記基準像高となる点の重ね合わ
せ測定データと前記所定領域における前記基準像高とな
る点以外の点の重ね合わせ測定データとの間の差分を求
め、この差分の前記所定領域間のばらつきに対してしき
い値判定を行って、前記しきい値を越える点の重ね合わ
せ測定データを除去する不要データ除去手段と、除去さ
れた重ね合わせ測定データを、前記所定領域内の像高の
平均値に線形成分を加えた値に置換するデータ置換手段
と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。
ン形成において露光・現像を行う露光装置であって、前
記被処理体に対してパターンの重ね合わせを行う際の測
定を行う重ね合わせ測定手段と、重ね合わせされた後の
被処理体に対して露光を行う露光手段と、露光後の被処
理体に対して現像処理を行う現像手段と、を具備し、前
記重ね合わせ測定手段は、前記被処理体における複数の
所定領域内の複数点の高さデータから線形成分を除去し
た後に、前記複数点のうち基準像高となる点を設定する
基準像高設定手段と、前記基準像高となる点の重ね合わ
せ測定データと前記所定領域における前記基準像高とな
る点以外の点の重ね合わせ測定データとの間の差分を求
め、この差分の前記所定領域間のばらつきに対してしき
い値判定を行って、前記しきい値を越える点の重ね合わ
せ測定データを除去する不要データ除去手段と、除去さ
れた重ね合わせ測定データを、前記所定領域内の像高の
平均値に線形成分を加えた値に置換するデータ置換手段
と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。
【００１２】この構成によれば、正確に重ね合わせ測定
を行うことができ、精度良くパターン重ね合わせを行う
ことができるので、重ね合わせズレのない状態で露光・
現像を行うことができる。
を行うことができ、精度良くパターン重ね合わせを行う
ことができるので、重ね合わせズレのない状態で露光・
現像を行うことができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て添付図面を参照して詳細に説明する。 （実施の形態１）図１は、本発明の一実施の形態に係る
パターン重ね合わせ方法を用いた露光工程を示すフロー
チャートである。また、図２は、本発明の一実施の形態
に係るパターン重ね合わせ方法のアルゴリズムを説明す
るための図であり、（ａ）は測定点を示す平面図であ
り、（ｂ）は（ａ）の拡大図である。
て添付図面を参照して詳細に説明する。 （実施の形態１）図１は、本発明の一実施の形態に係る
パターン重ね合わせ方法を用いた露光工程を示すフロー
チャートである。また、図２は、本発明の一実施の形態
に係るパターン重ね合わせ方法のアルゴリズムを説明す
るための図であり、（ａ）は測定点を示す平面図であ
り、（ｂ）は（ａ）の拡大図である。
【００１４】図１に示すように、本実施の形態に係る露
光工程においては、まず、塗布ユニットで、被処理体で
ある半導体ウエハ表面にレジストコーティングを行う
（Ｓ１）。次いで、この半導体ウエハは露光装置に搬入
され、そこで半導体ウエハに下地として形成されたパタ
ーンとこれからパターニングするパターンとの間の重ね
合わせ測定を行う（Ｓ２）。
光工程においては、まず、塗布ユニットで、被処理体で
ある半導体ウエハ表面にレジストコーティングを行う
（Ｓ１）。次いで、この半導体ウエハは露光装置に搬入
され、そこで半導体ウエハに下地として形成されたパタ
ーンとこれからパターニングするパターンとの間の重ね
合わせ測定を行う（Ｓ２）。
【００１５】この重ね合わせ測定の際に、重ね合わせ補
正データの演算を行う（Ｓ３）。これにより、異常値と
思われる値を除去して測定精度を向上させる。次いで、
このように重ね合わせ処理がなされた半導体ウエハに対
して露光処理を行う（Ｓ４）。
正データの演算を行う（Ｓ３）。これにより、異常値と
思われる値を除去して測定精度を向上させる。次いで、
このように重ね合わせ処理がなされた半導体ウエハに対
して露光処理を行う（Ｓ４）。
【００１６】次いで、露光処理された半導体ウエハに対
して所定の現像液を用いて現像処理を行う（Ｓ５）。さ
らに、現像後の半導体ウエハに対して重ね合わせ精度測
定を行う（Ｓ６）。ここでも、異常値と思われる値を除
去して測定精度を向上させる。
して所定の現像液を用いて現像処理を行う（Ｓ５）。さ
らに、現像後の半導体ウエハに対して重ね合わせ精度測
定を行う（Ｓ６）。ここでも、異常値と思われる値を除
去して測定精度を向上させる。
【００１７】上記Ｓ３及び／又はＳ６で行う本発明のパ
ターン重ね合わせ方法では、まず、処理１として基準像
高を求める。すなわち、図２（ａ）において、半導体ウ
エハＷにおける所定領域（１ショット）１内で複数点の
重ね合わせ測定を行った場合、得られた測定データから
まず線形成分を除去する。したがって、残留成分として
は非線型成分のみとなる。次に、所定領域１における各
点についての像高のウエハ面内のばらつきを求める。例
えば、図２（ｂ）に示す測定ポイントＵＲについて、半
導体ウエハＷにおける各所定領域間のばらつきを求め
る。このようにして測定ポイントＵＬ，ＣＥ，ＬＬ，Ｌ
Ｒについてばらつきを求める。そして、そのばらつきが
最も小さい像高に対応する測定ポイントの像高を基準像
高とする。ここでは、ＣＥを基準像高とする。
ターン重ね合わせ方法では、まず、処理１として基準像
高を求める。すなわち、図２（ａ）において、半導体ウ
エハＷにおける所定領域（１ショット）１内で複数点の
重ね合わせ測定を行った場合、得られた測定データから
まず線形成分を除去する。したがって、残留成分として
は非線型成分のみとなる。次に、所定領域１における各
点についての像高のウエハ面内のばらつきを求める。例
えば、図２（ｂ）に示す測定ポイントＵＲについて、半
導体ウエハＷにおける各所定領域間のばらつきを求め
る。このようにして測定ポイントＵＬ，ＣＥ，ＬＬ，Ｌ
Ｒについてばらつきを求める。そして、そのばらつきが
最も小さい像高に対応する測定ポイントの像高を基準像
高とする。ここでは、ＣＥを基準像高とする。
【００１８】処理２では、異常値を除去する。すなわ
ち、所定領域１内で複数点の重ね合わせ測定を行った場
合、所定領域内の処理１で求められた基準像高を基準と
して、その測定ポイントの重ね合わせ測定データ（Ｃ
Ｅ）と他の測定データ（ＵＬ，ＣＥ，ＬＬ，ＬＲ）との
減算を行う。その減算で得られた所定領域内の各像高の
重ね合わせ測定データの所定領域間のばらつきに、ある
判断基準を設定し、その判断基準を越えた測定データを
除外する（しきい値判定）。
ち、所定領域１内で複数点の重ね合わせ測定を行った場
合、所定領域内の処理１で求められた基準像高を基準と
して、その測定ポイントの重ね合わせ測定データ（Ｃ
Ｅ）と他の測定データ（ＵＬ，ＣＥ，ＬＬ，ＬＲ）との
減算を行う。その減算で得られた所定領域内の各像高の
重ね合わせ測定データの所定領域間のばらつきに、ある
判断基準を設定し、その判断基準を越えた測定データを
除外する（しきい値判定）。
【００１９】この判断基準値（しきい値）は、以下の式
（１）に示すようにして求めた平均値からのズレ量とす
る。このしきい値は、被処理体に対する処理内容に応じ
て適宜変更して設定することができる。これにより、処
理内容に応じた適応的な測定制御を行うことができる。
（１）に示すようにして求めた平均値からのズレ量とす
る。このしきい値は、被処理体に対する処理内容に応じ
て適宜変更して設定することができる。これにより、処
理内容に応じた適応的な測定制御を行うことができる。
【数１】
【００２０】処理３では、異常値を演算値と置き換え
る。すなわち、処理２で除去された値を同一ショット内
の像高の平均値に線形成分を加えた値に置換する。な
お、演算値とは、演算により求められた真値と予測され
る値をいう。
る。すなわち、処理２で除去された値を同一ショット内
の像高の平均値に線形成分を加えた値に置換する。な
お、演算値とは、演算により求められた真値と予測され
る値をいう。
【００２１】このようにして、異常値を除去した後に、
（平均値、ウエハスケーリング、ウエハローテーショ
ン、ウエハ直交度、ショット倍率、ショット回転など）
のデータをフィードバックして露光を行うことにより、
重ね合わせ精度は明らかに向上したことが確認された。
（平均値、ウエハスケーリング、ウエハローテーショ
ン、ウエハ直交度、ショット倍率、ショット回転など）
のデータをフィードバックして露光を行うことにより、
重ね合わせ精度は明らかに向上したことが確認された。
【００２２】従来の方法においては、異常値除去の判断
基準値は、数μｍ単位で設定されており、あまり異常値
除去はうまく機能してなかったが、本アルゴリズムを適
用することにより、異常値除去は高精度に行うことが可
能であり、ＧＡＴＥ回りの工程で０．０３μｍ、配線工
程で０．０８μｍ程度の判断基準値でも十分に対応可能
であり、そのレベルの異常値を除去することができる。
基準値は、数μｍ単位で設定されており、あまり異常値
除去はうまく機能してなかったが、本アルゴリズムを適
用することにより、異常値除去は高精度に行うことが可
能であり、ＧＡＴＥ回りの工程で０．０３μｍ、配線工
程で０．０８μｍ程度の判断基準値でも十分に対応可能
であり、そのレベルの異常値を除去することができる。
【００２３】（実施の形態２）ある製品の重ね合わせ精
度測定で得られたデータについて、異常値除去を行って
理想値と置換した後に、重ね合わせ精度サマリー、例え
ば最大値、最小値、平均値、３σ、ウエハスケーリン
グ、ウエハローテーション、ウエハ直交度、ショット倍
率、ショット回転などを求めた。
度測定で得られたデータについて、異常値除去を行って
理想値と置換した後に、重ね合わせ精度サマリー、例え
ば最大値、最小値、平均値、３σ、ウエハスケーリン
グ、ウエハローテーション、ウエハ直交度、ショット倍
率、ショット回転などを求めた。
【００２４】これにより、製品の重ね合わせ精度におけ
る良否判定をより正確に行うことができ、また露光機に
フィードバックされる値は、より真値に近づき、リソグ
ラフィー工程におけるオーバーレイ精度の向上が図れ
た。
る良否判定をより正確に行うことができ、また露光機に
フィードバックされる値は、より真値に近づき、リソグ
ラフィー工程におけるオーバーレイ精度の向上が図れ
た。
【００２５】本発明は、上記実施の形態１，２に限定さ
れず、種々変更して実施することが可能である。また、
上記実施の形態におけるレジストコーティング、露光、
現像で使用される材料や条件などには特に制限はない。
れず、種々変更して実施することが可能である。また、
上記実施の形態におけるレジストコーティング、露光、
現像で使用される材料や条件などには特に制限はない。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように本発明のパターン重
ね合わせ方法は、異常値を除去して重ね合わせ測定を行
うことができるので、正確にパターン重ね合わせを行う
ことができる。
ね合わせ方法は、異常値を除去して重ね合わせ測定を行
うことができるので、正確にパターン重ね合わせを行う
ことができる。
【図１】本発明の一実施の形態に係るパターン重ね合わ
せ方法を用いた露光工程を示すフローチャートである。
せ方法を用いた露光工程を示すフローチャートである。
【図２】本発明の一実施の形態に係るパターン重ね合わ
せ方法のアルゴリズムを説明するための図であり、
（ａ）は測定点を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）の
拡大図である。
せ方法のアルゴリズムを説明するための図であり、
（ａ）は測定点を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）の
拡大図である。
１…測定ショット、ＵＬ，ＵＲ，ＣＥ，ＬＬ，ＬＲ…重
ね合わせ測定ポイント。
ね合わせ測定ポイント。
Claims (5)
- 【請求項１】 パターン形成された被処理体の前記パタ
ーン上にパターンを重ね合わせる方法であって、 前記被処理体における複数の所定領域内の複数点の高さ
データから線形成分を除去した後に、前記複数点のうち
基準像高となる点を設定する工程と、 前記基準像高となる点の重ね合わせ測定データと前記所
定領域における前記基準像高となる点以外の点の重ね合
わせ測定データとの間の差分を求め、この差分の前記所
定領域間のばらつきに対してしきい値判定を行って、前
記しきい値を越える点の重ね合わせ測定データを除去す
る工程と、 除去された重ね合わせ測定データを、前記所定領域内の
像高の平均値に線形成分を加えた値に置換する工程と、 を具備することを特徴とするパターン重ね合わせ方法。 - 【請求項２】 前記基準像高は、前記所定領域における
特定の点の前記被処理体におけるばらつきが最も小さい
点の高さデータであることを特徴とする請求項１記載の
パターン重ね合わせ方法。 - 【請求項３】 前記しきい値判定におけるしきい値は、
前記基準像高となる点の重ね合わせ測定データと前記複
数の所定領域における前記基準像高となる点以外の点の
重ね合わせ測定データとの間のそれぞれの差分の平均値
からの所定のズレ量であることを特徴とする請求項１記
載のパターン重ね合わせ方法。 - 【請求項４】 前記しきい値判定におけるしきい値は、
前記被処理体に対する処理内容により変更可能であるこ
とを特徴とする請求項１記載のパターン重ね合わせ方
法。 - 【請求項５】 被処理体に対するパターン形成において
露光・現像を行う露光装置であって、 前記被処理体に対してパターンの重ね合わせを行う際の
測定を行う重ね合わせ測定手段と、 重ね合わせされた後の被処理体に対して露光を行う露光
手段と、 露光後の被処理体に対して現像処理を行う現像手段と、
を具備し、 前記重ね合わせ測定手段は、 前記被処理体における複数の所定領域内の複数点の高さ
データから線形成分を除去した後に、前記複数点のうち
基準像高となる点を設定する基準像高設定手段と、 前記基準像高となる点の重ね合わせ測定データと前記所
定領域における前記基準像高となる点以外の点の重ね合
わせ測定データとの間の差分を求め、この差分の前記所
定領域間のばらつきに対してしきい値判定を行って、前
記しきい値を越える点の重ね合わせ測定データを除去す
る不要データ除去手段と、 除去された重ね合わせ測定データを、前記所定領域内の
像高の平均値に線形成分を加えた値に置換するデータ置
換手段と、を有することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11098954A JP2000294489A (ja) | 1999-04-06 | 1999-04-06 | パターン重ね合わせ方法及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11098954A JP2000294489A (ja) | 1999-04-06 | 1999-04-06 | パターン重ね合わせ方法及び露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000294489A true JP2000294489A (ja) | 2000-10-20 |
Family
ID=14233497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11098954A Pending JP2000294489A (ja) | 1999-04-06 | 1999-04-06 | パターン重ね合わせ方法及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000294489A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003086483A (ja) * | 2001-09-07 | 2003-03-20 | Canon Inc | 位置合わせ方法および位置合わせ装置、並びに露光装置 |
| JP2003282395A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-10-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フォトリソグラフィーの露光方法 |
| JP2005513771A (ja) * | 2001-12-17 | 2005-05-12 | アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド | フィードフォワードオーバーレイ情報を導入したフォトリソグラフィー・オーバーレイ整合を制御するための方法および装置 |
| JP2006518101A (ja) * | 2003-02-14 | 2006-08-03 | テスト アドバンテージ， インコーポレイテッド | データ分析用の装置および方法 |
| JP2016201423A (ja) * | 2015-04-08 | 2016-12-01 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品の製造方法 |
-
1999
- 1999-04-06 JP JP11098954A patent/JP2000294489A/ja active Pending
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