JP2000294617A - カセット内基板検出装置 - Google Patents

カセット内基板検出装置

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JP2000294617A
JP2000294617A JP11099956A JP9995699A JP2000294617A JP 2000294617 A JP2000294617 A JP 2000294617A JP 11099956 A JP11099956 A JP 11099956A JP 9995699 A JP9995699 A JP 9995699A JP 2000294617 A JP2000294617 A JP 2000294617A
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substrate
cassette
state
detection sensor
detection signal
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JP11099956A
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Yoshio Shimizu
好男 清水
Hiroyuki Yasui
弘行 保井
Yoshiisa Sezaki
吉功 瀬崎
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 カセット内の基板の有無を検出するととも
に、基板がカセットの段違いの溝に挿入されていること
を検出できるカセット内基板検出装置を提供する。 【解決手段】 カセット内の溝に対応するスリット溝が
スリット部材に設けられている。スリット溝を検出する
スリットセンサは、スリット溝に対応する信号を出力す
る。カセット内に光を出射し、受光および遮光に応じた
信号を出力する基板検出センサは、スリットセンサと同
期して移動する。カセット内に設けられた溝番号1,
4,6の溝には正常に基板が挿入され、溝番号2,3の
溝には段違いに基板が挿入され、溝番号5の溝には基板
が挿入されていない。スリットセンサの出力信号の立ち
上がりおよび立ち下がりの2点で基板検出センサの出力
信号のオンまたはオフの検出が行われる。これにより、
カセット内の各溝における基板の有無および正常または
段違いの状態の判別が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、カセット内に収納
された基板を検出するカセット内基板検出装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示用ガラス基板、
フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等
に種々の処理を行うために基板処理装置が用いられてい
る。例えば、半導体デバイスの製造プロセスでは、生産
効率を高めるために、一連の処理の各々をユニット化
し、複数のユニットを統合した基板処理装置が用いられ
ている。また、基板処理装置での一連の処理により基板
上に形成された薄膜の厚さを測定するため、複数のユニ
ットからなる膜厚測定装置が用いられている。
【0003】基板処理装置および膜厚測定装置に対する
基板の搬入および搬出は、複数の基板を収納するカセッ
トを基板搬入搬出装置上に載置して行われる。
【0004】図11は従来の基板搬入搬出装置を備えた
基板処理装置の一例を示す斜視図である。
【0005】図11に示すように、基板処理装置30は
処理領域A,Bおよび搬送領域Cを備える。処理領域A
には、基板にレジスト液の塗布処理を行う回転式塗布ユ
ニット(スピンコータ)21aおよび基板に現像処理を
行う回転式現像ユニット(スピンデベロッパ)21bが
並設されている。処理領域Bには、基板に加熱処理を行
う加熱ユニット(ホットプレート)HPおよび基板に冷
却処理を行う冷却ユニット(クーリングプレート)CP
が複数段に配置されている。
【0006】また、搬送領域Cには、基板を矢印S方向
に搬送するとともに処理領域A,Bの各ユニットに対し
て基板の搬入搬出を行う搬送ユニット22が設けられて
いる。
【0007】基板処理装置30の一端部側には、基板W
を収納するとともに基板Wの搬入および搬出を行う基板
搬入搬出装置(インデクサ)IDが配置されている。基
板搬入搬出装置IDはカセット載置台24、移載ロボッ
ト23および複数の基板検出装置20を備える。カセッ
ト載置台24上には、基板Wを収納するカセット101
が載置される。
【0008】移載ロボット23は、矢印U方向に設けら
れたボールネジ(図示せず)により矢印U方向に移動可
能に構成されている。移載ロボット23は昇降移動およ
び前後動が可能なハンド23aを備える。これにより、
移載ロボット23は、目的の基板Wが収納されたカセッ
ト101の前方に移動し、ハンド23aを用いて目的の
基板Wの取り出しを行う。また、ハンド23aの先端部
には、基板Wの脱落防止用の突起部23bが設けられて
いる。
【0009】基板検出装置20は、カセット101をコ
の字形に囲む保持フレーム20cを備える。保持フレー
ム20cの両端部には、基板検出センサ200が取り付
けられている。基板検出センサ200は、光を出射する
投光部20aおよび投光部20aから出射された光を受
ける受光部20bから構成される。
【0010】保持フレーム20cには、下方向に延びる
垂直フレーム20dが取り付けられている。垂直フレー
ム20dは駆動手段(図示せず)により上下方向に駆動
される。
【0011】図12(a),(b),(c)は図11に
示すカセット101の正面図、断面図および基板検出セ
ンサ200の上昇時の受光部20bの出力信号を示す波
形図である。
【0012】図12(a)および図12(b)に示すよ
うに、カセット101には複数段に溝101aが設けら
れている。溝101aには、基板Wが水平状態で挿入さ
れ、基板W1,W2は前方に飛び出して傾いた状態で挿
入されている。
【0013】図12(b)および図12(c)におい
て、基板検出センサ200をカセット101の最下段か
ら最上段まで上昇させると、受光部20bからの出力信
号SLは基板W,W1,W2の有無に応じて変化する。
この出力信号SLは制御部(図示せず)に与えられる。
出力信号SLは、投光部20aから出射された光が基板
W,W1,W2によって遮られて受光部20bまで到達
しない場合にオン状態となり、基板W,W1,W2が存
在せずに投光部20aから出射された光が受光部20b
に到達する場合にオフ状態となる。
【0014】また、出力信号SLを、図11の垂直フレ
ーム20dに取り付けた位置検出装置(図示せず)の出
力信号と対応させることにより、出力信号SLの時間軸
をカセット101の高さ位置と対応付けることができ
る。図12(c)の出力信号SLは、図12(a)およ
び図12(b)のカセット101の高さに対応付けて描
かれている。
【0015】それにより、出力信号SLのオンの期間は
基板W,W1,W2の垂直方向の存在範囲を示し、出力
信号SLのオフの期間は基板W,W1,W2間の垂直方
向のクリアランス(隙間)を示すことになる。
【0016】そこで、基板W,W1,W2間のクリアラ
ンスに応じて移載ロボット23のハンド23aを移動さ
せることにより、基板W,W1,W2とハンド23aと
を衝突させることなく基板W,W1,W2をカセット1
01から取り出すことができる。
【0017】次に、移載ロボット23が傾いている基板
W1をカセット101内から取り出す動作のうち、基板
W1をカセット101内で持ち上げるまでの動作につい
て説明する。ハンド23aは、受光部20bの出力信号
SLに基づいて制御される。
【0018】図13は図12の基板W1を持ち上げるま
でのハンド23aの動きを説明するための図である。
【0019】図13(a)に示すように、基板W1と基
板W2との間に移載ロボット23のハンド23aを挿入
する際、突起部23bの上面が基板W1の下面と微小な
隙間を持つようにハンド23aの高さ位置が決められ
る。そして、制御部は、その高さ位置のままハンド23
aを前進させると基板W2と衝突すると判断する場合、
ハンド23aを矢印Eで示す斜め上方に移動させる。そ
して、図13(b)に示すように、ハンド23aを斜め
上方に移動させた後、矢印Fで示す方向に上昇させて基
板W1を持ち上げる。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図12
において、基板Wが段違いの溝101aに挿入されて傾
いている場合、受光部20bの出力信号SLのオンの期
間は、基板Wが同じ段の溝101aに水平に挿入されて
いる場合のオンの期間とほぼ同一になる。そのため、制
御部は、段違いの溝101aに挿入されている基板Wと
水平に挿入されている基板Wとの区別ができない。した
がって、ハンド23aが段違いの溝101aに挿入され
た基板Wを取り出すために前進すると、ハンド23aと
基板Wとが衝突し、基板Wを破損する可能性がある。
【0021】本発明の目的は、カセット内の基板の有無
を検出するとともに、基板がカセットの段違いの溝に挿
入されていることを検出できるカセット内基板検出装置
を提供することである。
【0022】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第1の
発明に係るカセット内基板検出装置は、複数段に設けら
れた溝に基板が挿入されるカセット内の基板を検出する
カセット内基板検出装置であって、カセット内に光を出
射するとともにカセット内を通過した光を受光し、受光
および遮光に対応した検出信号を出力する基板検出セン
サと、カセット内の複数段の溝に対応する複数の被検出
部を有する基準部材と、基準部材の被検出部の検出およ
び非検出に応じた検出信号を出力する基準部材検出セン
サと、基板検出センサをカセットの上下方向に移動させ
るとともに、基板検出センサの移動に同期して基準部材
検出センサを基準部材に沿って移動させる移動手段と、
基準部材検出センサの検出信号の第1のタイミングでの
基板検出センサの検出信号の状態および基準部材検出セ
ンサの検出信号の第2のタイミングでの基板検出センサ
の検出信号の状態に基づいて、カセット内の各溝におけ
る基板の有無およびカセット内の各基板の正常な挿入状
態または段違いの挿入状態を判定する判定手段とを備え
たものである。
【0023】第1の発明に係るカセット内基板検出装置
においては、移動手段を駆動することにより、基板検出
センサは、カセットの上下方向に移動するとともにカセ
ット内に光を出射し、出射された光の受光および遮光に
対応した検出信号を出力する。基準部材検出センサは、
基板検出センサと同期して基準部材に沿って移動すると
ともに、基準部材が有する複数の被検出部の検出および
非検出に応じた検出信号を出力する。判定手段は、基準
部材検出センサの検出信号の第1のタイミングでの基板
検出センサの検出信号の状態および基準部材検出センサ
の検出信号の第2のタイミングでの基板検出センサの検
出信号の状態に基づき、カセット内の各溝における基板
の有無およびカセット内の各基板の正常な挿入状態また
は段違いの挿入状態を判定する。
【0024】これにより、カセット内の各溝における基
板の有無およびカセット内の各基板の正常な挿入状態ま
たは段違いの挿入状態を判定することが可能となる。
【0025】第2の発明に係るカセット内基板検出装置
は、第1の発明に係る基板検出装置の構成において、基
板検出センサの検出信号は、遮光時に第1の状態とな
り、受光時に第2の状態となり、基準部材検出センサの
検出信号は、基準部材の被検出部の検出時に第3の状態
となり、被検出部の非検出時に第4の状態となり、カセ
ット内の複数の溝に基板が正常な状態で挿入されている
場合に、基準部材検出センサの検出信号が第4の状態か
ら第3の状態へ変化する時点で基板検出センサの検出信
号が第1の状態にあり、かつ基準部材検出センサの検出
信号が第3の状態から第4の状態へ変化する時点で基板
検出センサの検出信号が第2の状態にあるように、カセ
ットに対する基準部材の位置関係が設定されたものであ
る。
【0026】この場合、基準部材は、カセット内の複数
の溝に基板が正常な状態で挿入されている場合に、基準
部材検出センサの検出信号が第4の状態から第3の状態
へ変化する時点で基板検出センサの検出信号が第1の状
態にあり、かつ基準部材検出センサの検出信号が第3の
状態から第4の状態へ変化する時点で基板検出センサの
検出信号が第2の状態にあるように設定される。
【0027】これにより、基準部材検出センサの検出信
号は、カセット内の複数の溝に基板が正常な状態で挿入
されている場合に、基板検出センサの検出信号の遮光時
および受光時にそれぞれ異なるタイミングを有すること
ができる。
【0028】第3の発明に係るカセット内基板検出装置
は、第2の発明に係るカセット内基板検出装置の構成に
おいて、第1のタイミングは、基準部材検出センサの検
出信号が第4の状態から第3の状態に変化する時点であ
り、第2のタイミングは、基準部材検出センサの検出信
号が第3の状態から第4の状態に変化する時点であり、
判定手段は、第1のタイミングで基板検出センサの検出
信号が第1の状態にありかつ第2のタイミングで基板検
出センサの検出信号が第2の状態にあるときにカセット
の対応する溝に基板が存在すると判定し、第1のタイミ
ングで基板検出センサの検出信号が第2の状態にありか
つ第2のタイミングで基板検出センサの検出信号が第2
の状態にあるときにカセット内の対応する溝に基板が存
在しないと判定し、第1のタイミングで基板検出センサ
の検出信号が第2の状態にありかつ第2のタイミングで
基板検出センサの検出信号が第1の状態にあるときにカ
セット内の段違いの溝に基板が挿入されていると判定す
るものである。
【0029】この場合、基準部材検出センサの検出信号
が第4の状態から第3の状態に変化する時点および第3
の状態から第4の状態へ変化する時点の2点で基板検出
センサの検出信号の状態の検出が行われる。これによ
り、カセット内の各溝における基板の有無およびカセッ
ト内の各基板の正常な挿入状態または段違いの挿入状態
を判定することが可能となる。
【0030】第4の発明に係るカセット内基板検出装置
は、第1の発明に係る基板検出装置の構成において、基
板検出センサの検出信号は、遮光時に第1の状態とな
り、受光時に第2の状態となり、基準部材検出センサの
検出信号は、基準部材の被検出部の検出時に第3の状態
となり、被検出部の非検出時に第4の状態となり、カセ
ット内の複数の溝に基板が正常な状態で挿入されている
場合に、基準部材検出センサの検出信号が第3の状態に
ある期間内の所定のタイミングで基板検出センサの検出
信号が第1の状態にあり、かつ基準部材検出センサの検
出信号が第4の状態にある期間内の所定のタイミングで
基板検出センサの検出信号が第2の状態にあるように、
カセットに対する基準部材の位置関係が設定されたもの
である。
【0031】この場合、基準部材は、カセット内の複数
の溝に基板が正常な状態で挿入されている場合に、基準
部材検出センサの検出信号が第3の状態にある期間内の
所定のタイミングで基板検出センサの検出信号が第1の
状態にあり、かつ基準部材検出センサの検出信号が第4
の状態にある期間内の所定のタイミングで基板検出セン
サの検出信号が第2の状態にあるように設定されたもの
である。
【0032】これにより、基準部材検出センサの検出信
号は、カセット内の複数の溝に基板が正常な状態で挿入
されている場合に、基板検出センサの検出信号の遮光時
および受光時にそれぞれ異なるタイミングを有すること
ができる。
【0033】第5の発明に係るカセット内基板検出装置
は、第4の発明に係るカセット内基板検出装置の構成に
おいて、第1のタイミングは、基準部材検出センサの検
出信号が第3の状態にある期間内の所定のタイミングで
あり、第2のタイミングは、基準部材検出センサの検出
信号が第4の状態にある期間内の所定のタイミングであ
り、判定手段は、第1のタイミングで基板検出センサの
検出信号が第1の状態にありかつ第2のタイミングで基
板検出センサの検出信号が第2の状態にあるときにカセ
ットの対応する溝に基板が存在すると判定し、第1のタ
イミングで基板検出センサの検出信号が第2の状態にあ
りかつ第2のタイミングで基板検出センサの検出信号が
第2の状態にあるときにカセット内の対応する溝に基板
が存在しないと判定し、第1のタイミングで基板検出セ
ンサの検出信号が第2の状態にありかつ第2のタイミン
グで基板検出センサの検出信号が第1の状態にあるとき
にカセット内の段違いの溝に基板が挿入されていると判
定するものである。
【0034】この場合、基準部材検出センサの検出信号
が第3の状態にある期間内の所定のタイミングおよび第
4の状態にある期間内の所定のタイミングの2点で基板
検出センサの検出信号の状態の検出が行われる。これに
より、カセット内の各溝における基板の有無およびカセ
ット内の各基板の正常な挿入状態または段違いの挿入状
態を判定することが可能となる。
【0035】第6の発明に係るカセット内基板検出装置
は、第1〜第5のいずれかの発明に係るカセット内基板
検出装置の構成において、カセットが載置され、載置さ
れるカセットを挟む位置に1対の開口部を有するカセッ
ト載置部と、カセット載置部の1対の開口部内に下方か
ら挿入可能かつ上下方向に移動可能に設けられた1対の
支持部を有するセンサ支持部材とをさらに備え、基板検
出センサは、センサ支持部材の一方の支持部の上端部に
設けられ、光を出射する投光部と、センサ支持部材の他
方の支持部の上端部に設けられ、投光部から出射された
光を受光する受光部とを含み、移動手段は、センサ支持
部材の1対の支持部が前記カセット載置部の1対の開口
部から上方に突出するようにセンサ支持部材を上下方向
に移動させるものである。
【0036】この場合、センサ支持部材は、移動手段の
駆動によりカセット載置部の1対の開口部から上方に突
出するように上下方向に移動する。その際、センサ支持
部材の上端部に設けられた基板検出センサでは、カセッ
ト載置部に載置されたカセットを挟んで投光部から受光
部へ光が出射される。これにより、基板検出センサは、
カセットの上下方向に移動するとともに、受光および遮
光に対応した検出信号を出力することができる。
【0037】第7の発明に係るカセット内基板検出装置
は、第1〜第6のいずれかの発明に係るカセット内基板
検出装置の構成において、基準部材の複数の被検出部
は、複数の開口部である。
【0038】この場合、基準部材検出センサは、開口部
の検出および非検出に応じた検出信号を出力することが
できる。
【0039】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るカセット内基
板検出装置を基板表面に形成された薄膜の厚さを測定す
る膜厚測定装置に適用した場合について説明する。
【0040】図1は本発明の第1の実施例におけるカセ
ット内基板検出装置を備えた膜厚測定装置の平面図であ
る。
【0041】図1に示すように、膜厚測定装置50は、
基板搬入搬出装置40、操作パネル17、膜厚の測定前
に基板Wの位置決めを行う位置決めユニット18および
膜厚を測定する膜厚測定ユニット16を備える。基板搬
入搬出装置40はカセット内基板検出装置12および移
載ロボット15を含む。
【0042】カセット内基板検出装置12は、カセット
載置板10上に載置されたカセット11内における基板
Wの位置を検出する。移載ロボット15は、所定位置に
ある基板Wをカセット11から取り出し、位置決めユニ
ット18に搬送し、位置決めユニット18により位置決
めされた基板Wを膜厚測定ユニット16に搬入する。そ
して、移載ロボット15は、膜厚測定ユニット16にお
いて膜厚を測定された基板Wを、膜厚測定ユニット16
から搬出し、カセット11内に収納する。
【0043】図2(a),(b)は図1のカセット内基
板検出装置12のそれぞれ正面断面図および一部切欠き
側面図、図3は図1のカセット内基板検出装置12の他
の一部切欠き側面図、図4は図1のカセット内基板検出
装置12内の分解斜視図である。
【0044】図2(a),(b)および図3に示すよう
に、カセット内基板検出装置12は、カセット11が載
置されるカセット載置板10およびカセット載置板10
の下面に垂直に取り付けられたベース板1を備える。カ
セット載置板10上に載置されたカセット11には、複
数段に溝11aが形成されている。ベース板1には鉛直
方向に溝部1aが形成されており、溝部1a上下に1対
の軸受3が取り付けられている。1対の軸受3にはネジ
部材8を通してボールネジ4が回転可能に取り付けられ
ている。
【0045】また、正逆回転可能なモータ5が、ベース
板1に固定されたモータ台5aに取り付けられている。
(図4(b)参照)。ボールネジ4の下端部には従動プ
ーリー6aが取り付けられており、従動プーリー6a
は、モータ5の回転軸に取り付けられた駆動プーリー6
bとベルト7により連結されている。
【0046】また、ネジ部材8は、ベース板1を挟んで
結合板8aにより基板検出部9と結合されている。基板
検出部9は、U字形のセンサフレーム部9aおよび矩形
形状のベース部9bを有する(図4(b)参照)。
【0047】モータ5を回転させることによりボールネ
ジ4が回転し、基板検出部9のセンサフレーム部9aが
カセット載置板10に設けられた複数の昇降孔10aを
貫通して昇降する。
【0048】基板検出部9のU字形のセンサフレーム部
9aの上端部には基板検出センサ19が取り付けられて
いる。基板検出センサ19は、光を出射する投光部9c
および投光部9cから出射された光を受ける受光部9d
から構成される。
【0049】また、基板検出センサ19の受光部9d
は、受光孔9gが設けられたアパーチャ9eにより覆わ
れている(図4(a),(b)参照)。これにより、受
光部9dは、投光部9cから出射された光のうち受光孔
9gを通過する光だけを受けることができる。
【0050】投光部9cから出射された光を受光部9d
が受けた場合、基板検出センサ19の出力信号はオフ状
態となる。一方、投光部9cから出射された光が基板W
により遮られて受光部9dに到達しない場合、基板検出
センサ19の出力信号はオン状態となる。すなわち、基
板検出センサ19の出力信号は、基板Wが存在する範囲
ではオン状態となり、基板Wと基板Wとの間ではオフ状
態となる。
【0051】図4(a)に示すように、基板検出部9の
背面の上部保持プレート2aに対して1対のスリット部
材13が取り付けられ、下部保持プレート2bが1対の
スリット部材13を挟んで上部保持プレート2aに取り
付けられる。1対のスリット部材13は、それぞれL字
形の板状部材からなり、L字形の板状部材の一方側板状
部分13bには複数のスリット溝13aが形成されてい
る。
【0052】基板検出部9のベース部9bには、投光部
91aおよび受光部91bを有する1対のスリットセン
サ9fが取り付けられる。そして、1対のスリットセン
サ9fの投光部91aと受光部91bとの間に1対のス
リット部材13の一方側板状部分13bがそれぞれ挿入
されるように、上部保持プレート2aがカセット載置板
10の下面に取り付けられるとともに、下部保持プレー
ト2bがベース板1の下面に取り付けられる(図2
(a)参照)。
【0053】基板検出部9が上昇する際に、スリットセ
ンサ9fの投光部91aは光を出射しながら上昇し、出
射された光がスリット溝13aを通過すると受光部91
bは光を受けることができる。
【0054】このように、受光部91bが投光部91a
から出射された光を受けた場合、スリットセンサ9fの
出力信号はオン状態となる。一方、投光部91aから出
射された光がスリット溝13aとスリット溝13aとの
間の突出部で遮られて受光部91bに光が到達しない場
合、スリットセンサ9fの出力信号はオフ状態となる。
【0055】カセット11の溝13aのピッチに合わせ
てスリット溝13aの幅およびスリット溝13a間の間
隔を設定することにより、基板検出センサ19の出力信
号の周期およびスリットセンサ9fの出力信号の周期を
同一にすることができる。また、スリット部材13の鉛
直方向の取り付け位置を変えることにより、基板検出セ
ンサ19の出力信号とスリットセンサ9fの出力信号と
の間に位相のずれを生じさせることも可能である。
【0056】また、一方のスリット部材13のスリット
溝13a間の間隔は、1種類のカセット11の溝11a
のピッチに合わせて設定され、他方のスリット部材13
のスリット溝13a間の間隔は、他の種類のカセット1
1の溝11aのピッチに合わせて設定される。これによ
り、1台のカセット内基板検出装置12で溝11aのピ
ッチが異なる2種類のカセット11内の基板の検出が可
能となる。
【0057】図5は基板検出センサ19とアパーチャ9
eの受光孔9gとの関係を説明するための図である。
【0058】図5に示すように、基板検出センサ19の
投光部9cにおける光の出射点91cから出射された光
のうち斜め上方に進む光がアパーチャ9eの受光孔9g
に入射し、受光部9dに到達する。投光部9cの出射点
91cとアパーチャ9eの受光孔9gとを結ぶセンサ光
軸Saが大きく傾いている場合、基板Wによって光が遮
られる期間が長くなるため、基板検出センサ19の出力
信号のオンの期間が長くなる。逆に、センサ光軸Saの
傾きが小さくなると、基板Wにより光が遮られている期
間が短くなるため、基板検出センサ19の出力信号のオ
ンの期間が短くなる。
【0059】本実施例では、基板検出センサ19の出力
信号のオンの期間とオフの期間とが同じ間隔になるよう
にセンサ光軸Saの傾きを設定する。
【0060】センサ光軸Saが基板Wにより遮られるオ
ンの期間と、センサ光軸Saが基板W間を通過するオフ
の期間との合計は、基板WのピッチGに等しいため、G
/2がオンおよびオフの期間となる。基板WのピッチG
は、カセット11内の溝11aのピッチと同一である。
基板Wの直径をD、基板Wの厚みをtとすると、基板W
とセンサ光軸Saとの間の角度θはtan-1((G/2
−t)/D)で表される。
【0061】8インチカセット用のカセット内基板検出
装置では、基板WのピッチGが6.35mm、基板Wの
厚みtが0.7mm、基板Wの直径Dが200mmであ
る。それらの値を上式に代入すると、基板Wとセンサ光
軸Saとの間の角度θは0.71°となる。また、本実
施例では、アパーチャ9eの受光孔9gの直径は例えば
1mmとする。投光部9cと受光部9cとの間の距離L
は220mmとする。
【0062】さらに、本実施例では、図4のスリットセ
ンサ9fの出力信号のオンの期間とオフの期間とを同じ
間隔にするため、スリット溝13aの幅およびスリット
溝13a間の間隔をそれぞれ基板W間の距離Gの半分で
ある3.2mmとする。
【0063】図6は図1の膜厚測定装置50の制御系を
示すブロック図である。図6に示すように、カセット内
基板検出装置12のモータ5、基板検出センサ19およ
びスリットセンサ9f、移載ロボット15、位置決めユ
ニット18、膜厚測定ユニット16および操作パネル1
7は、制御部14に接続されている。
【0064】本実施例では、基板検出センサ19が基板
検出センサに相当し、投光部9cが投光部に相当し、受
光部9dが受光部に相当し、スリット溝13aが被検出
部および開口部に相当し、スリット部材13aが基準部
材に相当し、スリットセンサ9fが基準部材検出センサ
に相当し、ボールネジ4、モータ5、駆動プーリー6
b、従動プーリー6a、ベルト7およびネジ部材8が移
動手段を構成し、制御部14が判定手段に相当し、昇降
孔10aが開口部に相当し、カセット載置板10がカセ
ット載置部に相当し、センサフレーム部9aが支持部に
相当し、センサフレーム部9aおよびベース部9bがセ
ンサ支持部材を構成する。
【0065】次に、カセット内基板検出装置12を中心
に、膜厚測定装置50における作業の流れおよび膜厚測
定装置50の動作について、図1および図2(a),
(b)を参照しながら図7のフローチャートに基づいて
説明する。
【0066】まず最初に、作業者がカセット内基板検出
装置12の電源を投入すると、基板検出部9が原点位置
へ移動するとともに各種設定条件が初期化される(ステ
ップS1)。
【0067】次に、作業者は、基板Wが収納されたカセ
ット11をカセット載置板10上に載置する(ステップ
S2)。
【0068】さらに、作業者は、レシピデータ(測定条
件を示すデータ)を操作パネル17により登録する(ス
テップS3)。ここで、レシピデータとしては、例え
ば、膜の種類に応じた測定モードの選択、対物レンズの
選択、オートフォーカス条件の設定、測定値の誤差を修
正するための補正係数の設定、予めテンプレートとして
作成されたマッピングデータ(カセット11内の基板の
収納位置および収納枚数を示すデータ)の選択、出力デ
ータの設定等がある。
【0069】それにより、基板検出部9の基板検出セン
サ19は、カセット11の最下段の溝11aから最上段
の溝11aまで上昇する。その後、基板検出部9は原点
位置まで下降する(ステップS4)。
【0070】これにより、基板検出センサ19の出力信
号、スリットセンサ9fの出力信号が制御部14へそれ
ぞれ与えられる。制御部14では、基板検出センサ19
の出力信号およびスリットセンサ9fの出力信号に基づ
き、基板Wが段違いの溝11aに挿入されているか否か
を判断する(ステップS5)。基板Wが段違いの溝11
aに挿入されていると判断された場合、アラーム(図示
せず)が表示される(ステップS6)。なお、制御部1
4での基板検出センサ19の出力信号およびスリットセ
ンサ9fの出力信号の処理については、後で詳細に説明
する。
【0071】基板Wが正常に溝11aに挿入されている
と判断された場合、制御部14は基板検出センサ19の
出力信号およびスリットセンサ9fの出力信号に基づ
き、カセット11内の各々の溝11aにおける基板Wの
有無を示すデータ(マッピングデータ)を作成する(ス
テップS7)。
【0072】そして、制御部14は、レシピデータとし
て設定されたマッピングデータと実際に検出されたマッ
ピングデータとを溝ごとに比較する(ステップS8)。
レシピデータとして設定されたマッピングデータと実際
に検出されたマッピングデータとが一致していないと判
断する場合はアラームが表示される(ステップS9)。
【0073】制御部14は、レシピデータとして設定さ
れたマッピングデータと実際に検出されたマッピングデ
ータとが一致していると判断する場合、移載ロボット1
5により所定位置にある基板Wをカセット11から取り
出し、位置決めユニット18に搬送して、位置決めユニ
ット18により位置決めされた基板Wを膜厚測定ユニッ
ト16へ搬入する(ステップS10)。
【0074】膜厚測定ユニット16において、レシピデ
ータに基づき基板Wの表面の膜厚が測定される(ステッ
プS11)。制御部14は、基板W表面の膜厚の測定が
終了したかどうか判断する(ステップS12)。制御部
14は、膜厚の測定が終了したと判断すると、測定デー
タを処理し、レシピデータに基づく出力形態により測定
データを出力する(ステップS13)。
【0075】次に、基板Wがカセット11内の段違いの
溝11aに挿入されていることを検知する方法について
例を挙げて説明する。
【0076】図8は段違いの溝に挿入された基板を検知
する方法を説明するためのカセット11の正面図であ
る。
【0077】図8に示すように、カセット11内には複
数段に溝11aが形成され、下から順に1、2、3、
4、5、6・・と溝番号が付けられている。溝番号1,
4,6の溝11aには、水平に基板Wが挿入されてお
り、溝番号5の溝11aには基板Wが挿入されていな
い。また、溝番号3の溝11aと溝番号2の溝11aと
の間には基板Wが傾いて挿入されている。
【0078】図9は図8のカセット11内を検知した基
板検出センサ19の出力信号およびスリットセンサ9f
の出力信号を示す図である。表1に図9の基板検出セン
サ19の出力信号とスリットセンサ9fの出力信号との
関係を示す。表1中の(溝番号)−(溝番号)は、溝と
溝との間を示す。
【0079】
【表1】
【0080】図9に示すように、スリットセンサ9fの
出力信号は、基板検出センサ19の出力信号に対し位相
がずれている。基板Wが水平に溝11aに挿入されてい
る溝番号1の場合、基板検出センサ19の出力信号がオ
ンとなっている期間内でスリットセンサ9fの出力信号
がオフからオンへ立ち上がる。本実施例では、基板検出
センサ19の出力信号およびスリットセンサ9fの出力
信号におけるオンの期間およびオフの期間が全て同じ間
隔になるように設定されているため、スリットセンサ9
fの出力信号がオンからオフへ立ち下がる時点では、基
板検出センサ19の出力信号がオフとなっている。
【0081】表1に示すように、基板Wが水平に溝11
aに挿入された溝番号1,4,6において、スリットセ
ンサ9fの出力信号が立ち上がる時点で、基板検出セン
サ19の出力信号はオンとなっている。そして、溝番号
1と2との間、溝番号4と5との間および溝番号6と7
との間において、スリットセンサ9fの出力信号が立ち
下がる時点で、基板検出センサ19の出力信号はオフと
なっている。
【0082】次に、基板Wが溝番号2の溝11aと溝番
号3の溝11aとの間で段違いの状態で挿入された場
合、溝番号2と3との間で基板Wが検出される。これに
より、溝番号2において、スリットセンサ9fの出力信
号が立ち上がる時点で、基板検出センサ19の出力信号
はオフとなっている。また、溝番号2と3との間におい
て、スリットセンサ9fの出力信号が立ち下がる時点
で、基板検出センサ19の出力信号はオンとなってい
る。そして、溝番号3において、スリットセンサ9fの
出力信号の立ち上がる時点で、基板検出センサ19の出
力信号はオフとなっている。
【0083】溝番号5および溝番号5と6との間におい
ては、基板Wが存在しないため、スリットセンサ9fの
出力信号の立ち上がりおよび立ち下がりの時点で、基板
検出センサ19の出力信号は、オフとなっている。
【0084】このように、本実施例では、基板検出セン
サ19の出力信号およびスリットセンサ9fの出力信号
におけるオンの期間およびオフの期間をほぼ同じ間隔と
し、スリットセンサ9fの出力信号の立ち下がりの時点
および立ち下がりの時点の2点で基板検出センサ19の
出力信号のオンまたはオフの検出が行われる。これによ
り、カセット11内の各溝11aにおける基板Wの有無
および正常または段違いの状態の判別が可能となる。
【0085】図10は本発明の第2の実施例におけるカ
セット内基板検出装置の基板検出センサ19の出力信号
およびスリットセンサ9fの出力信号を示す図である。
表2に図10の基板検出センサ19の出力信号とスリッ
トセンサ9fの出力信号との関係を示す。表2中の(溝
番号)−(溝番号)は、溝と溝との間を示す。ここで
も、図8のカセット11内の基板Wを検出する場合を説
明する。
【0086】
【表2】
【0087】図10の基板検出センサ19の出力信号
は、図9の基板検出センサ19の出力信号と同一であ
る。一方、図10のスリットセンサ9fの出力信号の1
周期の長さは、図9のスリットセンサ9fの出力信号の
1周期の長さと同一であるが、オンの期間がオフの期間
より短くなっている。また、スリットセンサ9fの出力
信号のオンの期間の中間点Pは、基板Wが溝11aに正
常に挿入された場合における基板検出センサ19の出力
信号のオンの期間内に設定される。
【0088】本実施例では、スリットセンサ9fの出力
信号のオンの期間の中間点Pおよびオフの期間の中間点
Qにおいて、基板検出センサ19の出力信号がオンまた
はオフかを検出し、その検出結果によって基板Wの有無
および基板Wが段違いの溝11aに挿入されていないか
の判断を行う。
【0089】したがって、図10のスリットセンサ9f
の出力信号のオン期間の中間点Pが図9のスリットセン
サ9fの出力信号の立ち上がりの時点に相当し、図10
のスリットセンサ9fの出力信号のオフの期間の中間点
Qが図9のスリットセンサ9fの出力信号の立ち下がり
の時点に相当する。そのため、表2に示すように、基板
検出センサ19の出力信号のオンまたはオフの状態は、
表1に示す基板検出センサ19の出力信号のオンまたは
オフの状態と同一になる。
【0090】このように、スリットセンサ9fの出力信
号のオンの期間の中間点Pおよびスリットセンサ9fの
出力信号のオフの期間の中間点Qにおける基板検出セン
サ19の出力信号のオンまたはオフの状態を検出するこ
とによって、カセット11内の各溝11aにおける基板
Wの有無および正常または段違い状態の判別が可能とな
る。
【0091】上記実施例では、本発明のカセット内基板
検出装置の基板搬入搬出装置を膜厚測定装置に適用した
場合を説明したが、本発明は、基板表面に薄膜を形成す
る基板処理装置の基板搬入搬出装置などにも適用するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例におけるカセット内基板
検出装置を備えた膜厚測定装置の平面図である。
【図2】図1のカセット内基板検出装置の正面断面図お
よび一部切欠き側面図である。
【図3】図1のカセット内基板検出装置の他の一部切欠
き側面図である。
【図4】図1のカセット内基板検出装置内の分解斜視図
である。
【図5】基板検出センサとアパーチャの受光孔との関係
を説明するための図である。
【図6】図1の膜厚測定装置の制御系を示すブロック図
である。
【図7】図1の膜厚測定装置における作業の流れおよび
動作を説明するためのフローチャートである。
【図8】段違いの溝に挿入された基板を有するカセット
の正面図である。
【図9】図8のカセットにおける基板検出センサの出力
信号およびスリットセンサの出力信号を示す図である。
【図10】本発明の第2の実施例におけるカセット内基
板検出装置の基板検出センサの出力信号およびスリット
センサの出力信号を示す図である。
【図11】従来の基板処理装置の一例を示す斜視図であ
る。
【図12】図11に示すカセットの正面図、断面図およ
び基板検出センサの受光部の出力信号である。
【図13】図12の基板を持ち上げるまでのハンドの動
きを説明するための図である。
【符号の説明】
4 ボールネジ 5 モータ 6a 従動プーリー 6b 駆動プーリー 7 ベルト 8 ネジ部材 9 基板検出部 9a センサフレーム部 9b ベース部 9c 投光部 9d 受光部 9f スリットセンサ 10 カセット載置板 10a 昇降孔 13 スリット部材 13a スリット溝 14 制御部 19 基板検出センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 保井 弘行 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 瀬崎 吉功 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 Fターム(参考) 5F031 CA02 CA05 DA01 JA05 JA22 JA25

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数段に設けられた溝に基板が挿入され
    るカセット内の基板を検出するカセット内基板検出装置
    であって、 カセット内に光を出射するとともにカセット内を通過し
    た光を受光し、受光および遮光に対応した検出信号を出
    力する基板検出センサと、 カセット内の複数段の溝に対応する複数の被検出部を有
    する基準部材と、 前記基準部材の前記被検出部の検出および非検出に応じ
    た検出信号を出力する基準部材検出センサと、 前記基板検出センサをカセットの上下方向に移動させる
    とともに、前記基板検出センサの移動に同期して前記基
    準部材検出センサを前記基準部材に沿って移動させる移
    動手段と、 前記基準部材検出センサの検出信号の第1のタイミング
    での前記基板検出センサの検出信号の状態および前記基
    準部材検出センサの検出信号の第2のタイミングでの前
    記基板検出センサの検出信号の状態に基づいて、カセッ
    ト内の各溝における基板の有無およびカセット内の各基
    板の正常な挿入状態または段違いの挿入状態を判定する
    判定手段とを備えたことを特徴とするカセット内基板検
    出装置。
  2. 【請求項2】 前記基板検出センサの検出信号は、遮光
    時に第1の状態となり、受光時に第2の状態となり、 前記基準部材検出センサの検出信号は、前記基準部材の
    前記被検出部の検出時に第3の状態となり、前記被検出
    部の非検出時に第4の状態となり、 カセット内の複数の溝に基板が正常な状態で挿入されて
    いる場合に、前記基準部材検出センサの検出信号が第4
    の状態から第3の状態へ変化する時点で前記基板検出セ
    ンサの検出信号が第1の状態にあり、かつ前記基準部材
    検出センサの検出信号が第3の状態から第4の状態へ変
    化する時点で前記基板検出センサの検出信号が第2の状
    態にあるように、カセットに対する前記基準部材の位置
    関係が設定されたことを特徴とする請求項1記載のカセ
    ット内基板検出装置。
  3. 【請求項3】 前記第1のタイミングは、前記基準部材
    検出センサの検出信号が第4の状態から第3の状態に変
    化する時点であり、 前記第2のタイミングは、前記基準部材検出センサの検
    出信号が第3の状態から第4の状態に変化する時点であ
    り、 前記判定手段は、前記第1のタイミングで前記基板検出
    センサの検出信号が第1の状態にありかつ前記第2のタ
    イミングで前記基板検出センサの検出信号が第2の状態
    にあるときにカセットの対応する溝に基板が存在すると
    判定し、前記第1のタイミングで前記基板検出センサの
    検出信号が第2の状態にありかつ前記第2のタイミング
    で前記基板検出センサの検出信号が第2の状態にあると
    きにカセット内の対応する溝に基板が存在しないと判定
    し、前記第1のタイミングで前記基板検出センサの検出
    信号が第2の状態にありかつ前記第2のタイミングで前
    記基板検出センサの検出信号が第1の状態にあるときに
    カセット内の段違いの溝に基板が挿入されていると判定
    することを特徴とする請求項2記載のカセット内基板検
    出装置。
  4. 【請求項4】 前記基板検出センサの検出信号は、遮光
    時に第1の状態となり、受光時に第2の状態となり、 前記基準部材検出センサの検出信号は、前記基準部材の
    前記被検出部の検出時に第3の状態となり、前記被検出
    部の非検出時に第4の状態となり、 カセット内の複数の溝に基板が正常な状態で挿入されて
    いる場合に、前記基準部材検出センサの検出信号が第3
    の状態にある期間内の所定のタイミングで前記基板検出
    センサの検出信号が第1の状態にあり、かつ前記基準部
    材検出センサの検出信号が第4の状態にある期間内の所
    定のタイミングで前記基板検出センサの検出信号が第2
    の状態にあるように、カセットに対する前記基準部材の
    位置関係が設定されたことを特徴とする請求項1記載の
    カセット内基板検出装置。
  5. 【請求項5】 前記第1のタイミングは、前記基準部材
    検出センサの検出信号が第3の状態にある期間内の所定
    のタイミングであり、 前記第2のタイミングは、前記基準部材検出センサの検
    出信号が第4の状態にある期間内の所定のタイミングで
    あり、 前記判定手段は、前記第1のタイミングで前記基板検出
    センサの検出信号が第1の状態にありかつ前記第2のタ
    イミングで前記基板検出センサの検出信号が第2の状態
    にあるときにカセットの対応する溝に基板が存在すると
    判定し、前記第1のタイミングで前記基板検出センサの
    検出信号が第2の状態にありかつ前記第2のタイミング
    で前記基板検出センサの検出信号が第2の状態にあると
    きにカセット内の対応する溝に基板が存在しないと判定
    し、前記第1のタイミングで前記基板検出センサの検出
    信号が第2の状態にありかつ前記第2のタイミングで前
    記基板検出センサの検出信号が第1の状態にあるときに
    カセット内の段違いの溝に基板が挿入されていると判定
    することを特徴とする請求項4記載のカセット内基板検
    出装置。
  6. 【請求項6】 カセットが載置され、載置されるカセッ
    トを挟む位置に1対の開口部を有するカセット載置部
    と、 前記カセット載置部の前記1対の開口部内に下方から挿
    入可能かつ上下方向に移動可能に設けられた1対の支持
    部を有するセンサ支持部材とをさらに備え、 前記基板検出センサは、 前記センサ支持部材の一方の支持部の上端部に設けら
    れ、光を出射する投光部と、 前記センサ支持部材の他方の支持部の上端部に設けら
    れ、前記投光部から出射された光を受光する受光部とを
    含み、 前記移動手段は、前記センサ支持部材の前記1対の支持
    部が前記カセット載置部の前記1対の開口部から上方に
    突出するように前記センサ支持部材を上下方向に移動さ
    せることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の
    カセット内基板検出装置。
  7. 【請求項7】 前記基準部材の前記複数の被検出部は、
    複数の開口部であることを特徴とする請求項1〜6のい
    ずれかに記載のカセット内基板検出装置。
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