JP2000296310A - 埋設型生物脱臭設備 - Google Patents
埋設型生物脱臭設備Info
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Abstract
微生物菌体に影響を及ぼすことが少なく菌体が適切な生
存環境に維持された生物脱臭設備を提供する。 【解決手段】 横置槽内に仕切壁B1 ・・を配設して
ガスの流れを下降流、水平流又は上昇流とするガス流通
部を画定し、水平流通部内に菌体充填層P1 ・・を設
け、又、貯留水槽11、循環ポンプ、散水ノズルL1 ・
・・をすべて胴体部内に収容し、さらに上部に開口部を
形成したモジュールを地下に埋設する。
Description
させた担体を充填した充填層に、下水処理場や排水処理
設備等から発生する悪臭ガスを通過接触せしめて生物的
に脱臭を行う生物脱臭設備に関する。
る悪臭ガスの脱臭法としては、従来の吸着剤等による物
理的処理や、薬液を使う化学的脱臭法に替わり、ランニ
ングコストが安く、維持管理の容易な生物脱臭法が注目
されている。
の、微生物菌体を着床させた担体を充填して使用する充
填層( 充填塔 )方式が主流を占めつつある。
いてはきわめて多数の提案がされているが、いずれも直
立した塔型の設備を主体とする装置である点については
一致している( 例えば、特開平5−42199号、特開
平5−261239号、特開平5−261241号、特
開平6−7633号、、特開平7−24247号、特開
平7−31835号、特開平7−80239号、特開平
7−155533号、特開平7−274936号等 )。
て、それほど人手をかけることは許されず、基本的に数
カ月〜数年にわたって実質的に無人で運転されるもので
あり、また、これらの塔は、簡易設備ゆえに通常の化学
装置とは異なり、大半は温度制御装置などの計装や断熱
処理も施されておらず、そのまま下水処理場等の片隅に
設置されるのが常であった。
あるから、野外に設置される場合は、実際は薬液洗浄法
などよりもむしろ取扱い上の注意が必要なものである。
すなわち、屋外に設置される設備は、夏〜冬の季節によ
る日照条件の変化、風雨、積雪、それに伴う外気温度等
の変化を受け、これらが、塔内に固定化された微生物に
少なからぬ影響を与えるので、無人で運転される塔型設
備内の微生物の生存環境を常に適切な状態に維持するこ
とは、必ずしも容易ではない。現に、厳冬期の外気温度
の低下による塔内温度低下、または、夏期の酷暑による
塔内の過熱等の環境の激変によるショックがしばしば塔
内微生物を襲い、そのため、微生物が悪臭分解能力を失
い、最悪の場合はほとんど死滅してしまう事態を招来
し、設備を再起動させるためには、改めて数週間程度か
けて、微生物の着床処理をやり直さなければならないこ
とがあった。
による日照、風雨、降雪、外気温度等の変化が、設備内
の微生物に影響を及ぼすことが少ない、脱臭作用を行う
菌体が常に適切な生存環境に維持された生物脱臭設備を
提供することである。
菌体を着床させた担体を充填した菌体充填層を備え、こ
れに悪臭ガスを通過接触せしめて脱臭を行う、筒状の胴
体部とその両端部の蓋体とからなる横置槽型の生物脱臭
設備であって、悪臭ガスを槽の一端から導入し他端から
排出するものにおいて、
体部上方から垂下する仕切壁B1 ,B 2 ,・・・・,B
i を配設して導入から排出されるまでの悪臭ガスの流れ
を下降流、水平流、上昇流とする複数のガス流通部C
1 ,C2 ,・・・・,Cj を順次画定し、ガスが水平流
である前記流通部に上記菌体充填層を形成し悪臭ガスを
通過接触せしめるとともに、(2)前記胴体部の底部の
貯留水槽と、貯留水を循環させる循環ポンプ手段と、お
よび前記充填層の上部から貯留水を散水する散水ノズル
手段とからなる散水システムを前記胴体部内に設け、さ
らに、(3)少なくとも前記充填層および循環ポンプ手
段の胴体部上方には、これらを槽外に取り出し可能にす
る開口部を形成して脱臭設備モジュールとし、当該モジ
ュールの少なくとも一部を地下に埋設せしめた埋設型生
物脱臭設備、が提供される。
の好ましい実施の形態について説明する。
ュールの一部切欠斜視図、図2は、このモジュールを地
下に埋設した状況を示す断面的説明図、図3は、胴体部
上方から垂下する仕切壁により、胴体部内にガス流通部
が画定される状況を説明するモデル図である。
周知の、直立塔型のものと異なり、基本的に、図3に示
すように、筒状の胴体部3とその両端部を閉じる蓋体
5、5’からなる槽型の缶体を横に設置する横置槽型の
ものである。ここで胴体部を形成する筒体の縦断面形状
は、円形、楕円形、正四角形、長方形、丸四角形、丸長
方形等任意であり、要するに、胴体部内をガスが水平に
流れる流通部を形成できるものであればいずれでもかま
わない。通常は円形、楕円形、または丸四角形等が好ま
しい。なお、蓋体は、平板状でもよいが、所謂鏡板と称
されるような外側に彎曲しているようなものでもよい。
悪臭ガスは、該槽の一端、例えば一方の蓋体5に設けた
ガス導入口7から導入され、他端、例えば蓋体5’や又
はその近傍の胴体部上部に設けたガス導出口9から排出
される。
上方から垂下する仕切壁B1 ,B2,・・・・,Bi に
より、ガス流路を下降流、水平流、上昇流と画定し、複
数のガス流通部C1 ,C2 ,・・・・,Cj を形成す
る。菌体充填層の底部は底面板10により保持されてお
り、垂下する仕切壁の少なくとも一つ( 図3ではB2 や
B3 )が、この菌体充填層内に嵌入し、前記底面板との
間でガスが流通するための開口部を形成している。この
仕切壁は充填層の深さ( 充填高さ )の1/2〜1/4程
度、好ましくは1/3程度まで嵌入することが望まし
く、仕切壁の先端部と底面板間のクリアランスが上記開
口部となる。仕切壁は、胴体部上方から垂下するもので
あり、上記画定した流通部以外の部分にガスがバイパス
して流れたりリークすることを防止する作用をも奏する
ものである。なお、仕切壁の一つ( B 1 ) と底面板とで
形成される開口部はガスの充填層への流入口を、他の一
つ( B 4 ) はガスの流出口を形成している。
から垂下する仕切壁B1 は菌体充填層へガスを導入する
流通部C1 ( 下降流通部C1 ) を、胴体部上方から垂下
する仕切壁B1 とB2 はガスを水平流とする流通部C2
(水平流通部C2 )を形成する。同様にして胴体部上方
から垂下する仕切壁B2 とB3 は水平流通部C3 を、仕
切壁B3 とB4 は水平流通部C4 を形成する。また、胴
体部上方から垂下する仕切壁B4 と胴体部上方から胴体
部下部まで垂下する仕切壁B5 はガスを下降流とする流
通部C5を、仕切壁B5 と蓋体5' は上昇流通部C6 を
形成する。
途設置して、ガスをこのダクト内を流すようにし、それ
以外のガスの流れない部分と区画し、ここに覗き窓を形
成して、担体の目視点検等を行うようにすることも可能
である。
ガスは、該流通部を図3に示す矢印のように、下降流→
水平流→下降流→上昇流と流通して、最後にガス導出口
9から排出される。
仕切壁は、その先端部が充填層の底面板10等との間で
適当なクリアランスd1 ,d2 ,d3 ,d4 等を有して
いて開口部を形成し、隣り合う流通部がこの開口部によ
り連通していることが好ましい( 図においてd1 〜d4
は底面板との間隙、d’は胴体部底面との間隙である。
)。これら開口部は、菌体充填層を保持するため多数の
孔やスリット等を形成してもよい。また、胴体部の底部
は後述するように循環水の貯留水槽としてもよい。
た担体を充填した菌体充填層は、ガスが水平流である該
流通部の流路内部に形成する。悪臭ガスは該菌体充填層
の一方の側面から流入し、該充填層内を担体と接触しな
がら通過し、充填層の反対側面から流出する。
壁により分割して複数の室( 複数層)とすることが好ま
しく、2〜6層、より好ましくは2〜4層程度に分割さ
れた複数層とすることがより望ましい。その場合、図3
のごとくガスが水平流である流通部(例えばC2 ,C
3 ,C4 )に充填層P1 ,P2 ,P3 を形成し、充填層
の一方の側面からガスが流入し、反対の側面からガスが
流出するように構成する。なお、Kは、後述する活性炭
吸着層を示す。
通過せしめることにより、悪臭ガス中の臭気成分は硫黄
酸化菌、アンモニア酸化菌等の菌体の代謝作用を受け、
酸化分解され、一方この結果、硫酸や硝酸等の酸が生成
し、pHが低下するため、適当な時間間隔で充填層の上
方から洗浄水を流して、生成した酸を洗浄する必要があ
る。
は、硫酸や硝酸の生成は、導入部付近つまり充填層への
ガス流入部が最大であり、下流に行くに従って、徐々に
減少する。もっとも問題となるこの充填層へのガス流入
部の濃い酸の部分は、重力により自然に層内を流下し、
比較的速やかに層外に排出され、または、間欠的な洗浄
により容易に除去でき、いずれにせよ、それより下流の
菌体を汚染することはない。
るものではなく、それ自身公知のものを使用することが
できる。例えば、多孔質の種々のセラミックス材料や発
泡性合成樹脂材料を、球形状、三角形状、四角柱状、歯
車型柱状、不定形状、ラシヒリング形状、サドル形状等
としたものが好ましく使用される。また、天然または合
成の繊維状有機物質、石炭の乾留物、泥炭、木炭等を使
用することも可能である。
き悪臭ガス流量、ガス組成等により変わりうるが、SV
( 空間速度 )が100〜1000h-1、より好ましくは
200〜800h-1程度となるように設定する。また、
LV( 空塔線速度 )は、0.05〜0.5、m・sec
-1、好ましくは、0.1〜0.3m・sec-1である。
通常、層高は、200〜3000mm、好ましくは、8
00〜2000mm程度、充填層断面積は0.1〜10
m2 、より好ましくは0.2〜8m2 程度である。ま
た、充填層の長さ( 横方向距離 )は1,000〜5,0
00mm程度、好ましくは2,000〜4,000mm
程度である。
置槽の胴体部の底部に循環水をため、これを循環水の貯
留水槽11とする。貯留水槽は、底部全面に設けてもよ
いが、後記するように、下流部に活性炭吸着層等を設置
した場合は、底部段差25を形成し、貯留水槽の範囲を
胴体部の前半部( 上流部 )に限るようにすることが好ま
しい。
けられており、貯留水は、循環ポンプ手段15により、
配管ライン17を通って、充填層上に運ばれ、充填層の
上部散水ノズル13から散水される。この貯留水槽、循
環ポンプ手段および散水ノズル手段からなる散水システ
ムは、循環ポンプ手段15および配管ライン17を含め
て、すべて該胴体部内に設け、設備を一つのモジュール
とすることが本発明の特徴の一つである。
限定するものではないが、図に示すように、貯留水槽中
に設置できるよう、水中設置形式の水中ポンプ( または
投げ込みポンプ )であることが好ましい。また、このよ
うな水中ポンプを上記循環ポンプとは別にもう一台設置
し、貯留水槽から、排水を行うための排水ポンプ手段1
6として使用することも可能である。これらの水中ポン
プは耐蝕性材料で組み立てられていることが好ましい。
式は、循環水流を充填槽の表面に均一に散布しうるもの
であれば、形式は任意でよく、例えば図1に示したよう
な、下向きに多数の孔19を孔設した散水パイプL1 ,
L2 ,L3 ,・・・・を、主配管ラインから枝状に延出
させて構成することができる。なお、散水パイプは、放
射状や同心円状に配置してもよい。又、洗浄水の散水量
は各充填層P1 ,P2,P3 ,・・・・等において等し
くてもよいが、酸の生成量に応じて変更してもよい。す
なわち、酸の生成量がより高いP1 を最大とし、P2 ,
P3 ,・・・・と下流程減らしていくことも可能であ
る。このためには、散水パイプL1 ,L2,L3 ,・・
・・の数を上流から下流へと変えて設置してもよいが、
単に散水時間をそれぞれの散水量に応じて変更してもよ
い。
により保持されているが、この底面板にはパイプが下方
に延設しており、洗浄水等はこのパイプを流下して下部
の貯留水槽へ排出される。
性炭吸着層Kを設け、菌体充填層を通過した処理ガスを
さらに接触させて吸着処理することが好ましい。
臭ガスが入ってきた場合、生物処理が十分に行われず、
菌体充填層を出るおそれのある処理ガス中の残存悪臭成
分を、この活性炭吸着層で確実に吸着処理し、大気中に
排出することができる。
部分生物処理した後の処理ガスのごく濃度の薄い部分の
みを処理するようにしているので、破過点に達するま
で、充分長期間使用することができる。
活性炭吸着層と接触して脱臭させた場合は、本来、他の
安価な手段で容易に処理できる高濃度の悪臭成分までを
高価な活性炭で処理することになり、非合理であるとと
もに、活性炭が短時間で破過点に達してしまい、資源の
大きな無駄といえる。
されているものでよく、特に限定するものではないが、
例えば、粒径4〜8メッシュの、椰子殻系のものが好ま
しく使用される。
引するとともに、上記活性炭層へガスを押し込む作用を
も有するブロワー手段22を、胴体内部に設けることが
好ましい。該ブロワー手段の設置部位は、基本的には、
胴部内であればどこであってもよいが、菌体充填層の下
流、より好ましくは、菌体充填層と活性炭吸着層の間に
介在するガス流通部内に設けることが好ましい。図2の
例においては、充填層P3 を形成したガス流通部C4
と、活性炭吸着層Kを設けた流通部C6 の間の流通部C
5 内に、ブロワー手段22を設け、充填層で処理された
悪臭ガスを吸引するとともに、これを、活性炭吸着層K
に押し込み送入するようにしている。
メッシュまたは折板等をセパレータ素材とするミストセ
パレータ24を通してブロワー手段22で吸引し、ガス
の同伴ミストを出来るだけ捕集してから活性炭吸着層へ
導入することが好ましい。また、図1のモジュールで
は、ブロワー能力を有効に活用するため、仕切壁B4 と
B5 の間に、さらに小さい流通部Cl を設け、この流路
を通してガスがブロワー手段で吸引するようにしてい
る。
るが、悪臭成分の種類によっては、活性炭とともに、ま
たは、活性炭に代えて、アルミナゲル、酸性白土等の吸
着剤を使用することも可能である。
なくとも該菌体充填層P1 ,P2 ,P3 及び循環ポンプ
手段15の胴体部上方には、これらを槽外に取り出し可
能にする開口部( マンホール )X1 ,X2 ,X3 等を形
成する。すなわち、定修時における充填物や循環ポンプ
の( 吊り上げ等による )取り出し( または再充填や再設
置 )はこの開口部により行われる。またこれらの点検・
保守も該開口部を通して行われる。なお、その他、ブロ
ワー手段22、活性炭層K、排水ポンプ手段16等を設
けた場合は、これらについても開口部X4 ,X5 ,X6
等を設けることが好ましい。なお、開口部は兼用とし、
幾つかをまとめて設けるようにしてもよい。また、開口
部は通常蓋やカバーにより閉じられていて、槽内を密閉
し悪臭ガスが漏洩しないようにされているが、処理後の
清浄ガスの導出口を兼ねる開口部X5 については、大気
中に開放するものであり、完全に密閉する必要はない。
成され、図1はかくして形成された脱臭設備モジュール
の一例を示している。本発明においてはこの脱臭設備モ
ジュールの少なくとも一部を地下に埋設せしめて埋設型
生物脱臭設備とする。
ている箇所がほとんどないように、脱臭設備モジュール
のほぼ全体を地下に埋設させることである。さらに好ま
しくは、地表に於ける日照や気候変動をより受けにくく
するために、できるだけ地下深く埋設させることである
が、埋設地点の地理的位置、年間の気候変動、日照、雨
量、積雪量、土質、斜面等を考慮して、適当な深さを選
択して埋設する。通常は、モジュール全体を地表近くに
埋設するだけで相当の効果を奏する。
で耐蝕性の材質、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
FRP等で形成される。また、設置地点までの輸送に便
ならしめるため、これをいくつかのフランジ付のユニッ
トに分割し、使用時、または設置地点でこれを組み立て
るようにすることも可能である。
を、地表近くに埋設した状態を示している。
脱臭設備を使用して脱臭する場合の操作を説明する。
る。下水処理場等の活性汚泥槽の汚泥水やあるいはその
活性汚泥中の菌体を培養した液を、給水ライン18によ
り槽内底部の貯留水槽11に供給し、循環ポンプ手段1
5を作動させ、担体を充填した充填層P1 ,P2 及びP
3 上に設けた散水ノズル手段13から、汚泥水等を散水
して循環させる。この汚泥水の散水を連続的に2〜4週
間程度行うことにより、菌体が担体に付着して着床が完
了する。
を直接に散水ノズル手段13に接続して、活性汚泥水等
を槽外から導入するとともに、そのまま、散水ノズル手
段から散水してもよい。この場合は、過剰の汚泥水は、
貯留水槽の排水ポンプ手段16等を作動させることによ
り、排水ライン20,21等を通して槽外に排出され
る。
本発明が対象とする悪臭ガスの悪臭成分は、硫化水素、
硫化メチル、二硫化メチル、メチルメルカプタン、トリ
メチルアミン、アンモニア等であり、すでに述べよう
に、通常、下水処理場、排水処理場、し尿処理場、食品
工場、パルプ工場あるいは肥料工場等の悪臭発生区域に
おいて発生するものである。
て脱臭設備1に導入され、まず下降流通部C1 を流下
し、隣の水平流通部C2 に設けた菌体充填層P1 の側面
から導入され、当該層の反対側面から流出する。ガスが
充填層内を通過する間に、担体に担持されている菌体と
接触し、悪臭ガス中の悪臭物質は分解される。一段目の
処理がされた悪臭ガスは、次に、隣の水平流通部C3 の
充填層P2 中を水平に通過し、同様にして菌体により二
段目の処理が行われる。二段目の処理がされた悪臭ガス
は、次に、隣の水平流通部C4 の充填層P3 中を水平に
通過し、同様にして菌体により三段目の処理が行われ
る。
最後にミストセパレータ介して、ブロワー手段22によ
り吸引され、好ましくは上昇流通部C6 中に設けられた
活性炭吸着層Kに送入され、未処理の悪臭成分が吸着除
去され、開口部X5 から清浄気体Go として排出され
る。なお、開口部X5 は、すでに述べたように、清浄ガ
スの導出口と、活性炭の取替え作業等に供ならしめるた
めのマンホールを兼ねている。
作用により分解し、無臭化するとともに硫酸や硝酸など
の酸が生成するので、担体に着床させた菌体の活性を維
持するため、間欠的に循環ポンプ手段15を作動させ、
または、給水ライン18により、洗浄水を導入して充填
層上部から間欠的に散水し、生成酸を洗浄することが好
ましい。洗浄する間隔は特に限定するものではないが、
例えば、インターバルが3〜15分/15分( 3〜15
分散水して、15分停止 )のサイクルで行う。間欠的散
水操作は、循環ポンプ手段等のスイッチをシーケンスチ
ャートに従い、または、タイマーで、オン/オフさせる
ことにより行うことが好ましい。
するが、本発明の技術的範囲がこれに限定されるもので
はない。
を使用した。充填層として、円筒形のセラミック製担体
を充填高さ1500mm、長さ3200mmに充填し、
隔壁により三室( 三層 )に分割した。ガス空塔速度を2
00h-1とし、充填層の空塔線速度は0.2m・sec
-1とした。また、活性炭としては、4〜8メッシュの椰
子殻活性炭を使用して、400mm高さに充填し、活性
炭吸着層とした。
着床処理を行った後、表1の組成の下水道処理施設から
の原臭ガスを装置に導入し、処理を行った。洗浄操作の
インタバルは15分/15分とした。
から、導入原臭ガス、三段目充填層出口及び活性炭吸着
層出口のガスを採取し分析した。表中「中間ガス」は三
段目充填層出口ガス組成、「処理ガス」は、活性炭吸着
層出口ガス組成である。
た悪臭物質の測定方法に従って行った。測定値は、それ
ぞれ3点のサンプルの平均値とした。
i 、出口濃度xo により、次式 (1) で算出した。 Y=〔(xi −xo )/xi 〕×100(%) (1)
果を表1〜表4に示す。表1は実験開始時( 1月 )、表
2は5月、表3は8月、表4は12月の測定値である。
暑となったものの、一年を通して菌体の活性は比較的安
定に維持された。脱臭装置の運転は操作は順調に推移
し、特に装置を中断し再起動する等の必要はなかった。
たものと同一の装置であるが、地上設置型として使用し
た。これを実施例1の装置の近くに設置し、実施例1と
平行して1年間実験を行った。
る。なお、上記したように2月に寒波があり、装置内温
度が極度に低下して菌体の活性が大幅に下がったため、
再起動するのに約3週間を費やした。表6は8月のデー
タであるが、上記のように猛暑と直射日光のため装置内
が日中で40℃を越え、菌体の活性が低下し始めている
ことがわかる。その後さらに猛暑が続いたため、活性が
極度に下がった。この再起動に約3週間を要した。
槽内に備え、また、貯留水槽、循環ポンプ手段、散水ノ
ズル手段とからなる散水システムや、ブロワー手段等を
すべてこの槽内に設けて一つのモジュールとし、このモ
ジュールを地下に埋設した埋設型生物脱臭設備としたの
で、季節による日照、風雨、降雪、外気温度等の地上の
変化は、土壌の緩衝作用により、地下埋設した槽内の微
生物に直接的な影響を及ぼすことが少なく、脱臭作用を
行う菌体は常に適切な生存環境に維持される。また、埋
設型設備としたので、遮光は十分であり、微生物に悪影
響を与えることは少ない。
あるから、循環ポンプやブロワー等の回転機器から発生
する振動・騒音が外部に漏洩することを減少でき、付加
的な振動・防音対策を軽減することが可能である。
して使用するものであり、しかも、マンホール等の開口
部がすべてそのまま手の届く位置に設けられているか
ら、従来のごとき地上型の塔型生物脱臭設備に必須であ
った、厄介なクレーン設備やクレーン操作を使用するこ
となく、通常の運搬設備により、担体や活性炭の交換、
ポンプやブロワーの点検・保守が容易に行われる。
ブロワーまですべてモジュール内に収容して地下に埋設
されており、特にモジュール全体を地下に埋設した場合
には、なんらの構造物も地表に露出していないので、自
然景観の保護上きわめて好ましい。
ジュールとして地下に埋設されているため、地震の場合
の震度が低減し、耐震設計の基準がより軽減される。
切欠斜視図
説明図
る状況を説明するモデル図
壁 C1 ,C2 ,C3 ,C4 ,C5 ,C6 ガス流通部 Cl 小流通部 Gi 入口悪臭ガス Go 出口悪臭ガス( 清浄ガス ) K 活性炭吸着層 L1 ,L2 ,L3 ,L4 ,L5 散水パイプ P1 ,P2 ,P3 充填層 X1 ,X2 ,X3 ,X4 ,X5 ,X6 開口部 xi ガス入口濃度 xo ガス出口濃度 d1 ,d2 ,d3 ,d4 仕切壁の先端部と底面板との
クリアランス d’ 仕切壁の先端部と胴体部底面とのクリアランス
Claims (6)
- 【請求項1】 微生物菌体を着床させた担体を充填した
菌体充填層を備え、これに悪臭ガスを通過接触せしめて
脱臭を行う、筒状の胴体部とその両端部の蓋体とからな
る横置槽型の生物脱臭設備であって、悪臭ガスを槽の一
端から導入し他端から排出するものにおいて、(1)前
記胴体部の長手方向に沿って、胴体部上方から垂下する
仕切壁B1 ,B 2 ,・・・・,Bi を配設して導入から
排出されるまでの悪臭ガスの流れを下降流、水平流、上
昇流とする複数のガス流通部C1 ,C2 ,・・・・,C
j を順次画定し、ガスが水平流である前記流通部に上記
菌体充填層を形成し悪臭ガスを通過接触せしめるととも
に、(2)前記胴体部の底部の貯留水槽と、貯留水を循
環させる循環ポンプ手段と、および前記充填層の上部か
ら貯留水を散水する散水ノズル手段とからなる散水シス
テムを前記胴体部内に設け、さらに、(3)少なくとも
前記充填層および循環ポンプ手段の胴体部上方には、こ
れらを槽外に取り出し可能にする開口部を形成して脱臭
設備モジュールとし、当該モジュールの少なくとも一部
を地下に埋設せしめた埋設型生物脱臭設備。 - 【請求項2】 菌体充填層の底部が底面板により保持さ
れており、垂下する仕切壁の少なくとも一つが、この菌
体充填層内に嵌入し、前記底面板との間でガスが流通す
るための開口部を形成している請求項1記載の埋設型生
物脱臭設備。 - 【請求項3】 脱臭設備モジュールのほぼ全部を地下に
埋設せしめた請求項1または2記載の埋設型生物脱臭設
備。 - 【請求項4】 菌体充填層の下流に活性炭吸着層を設け
菌体充填層を通過したガスと接触させる請求項1〜3の
いずれかに記載の埋設型生物脱臭設備。 - 【請求項5】 悪臭ガスを装置内に吸引するブロワー手
段を胴体部内部に設けた請求項1〜4の何れかに記載の
埋設型生物脱臭設備。 - 【請求項6】 埋設型生物脱臭設備に使用する請求項1
〜5のいずれかに記載の脱臭設備モジュール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11106025A JP2000296310A (ja) | 1999-04-14 | 1999-04-14 | 埋設型生物脱臭設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11106025A JP2000296310A (ja) | 1999-04-14 | 1999-04-14 | 埋設型生物脱臭設備 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000296310A true JP2000296310A (ja) | 2000-10-24 |
| JP2000296310A5 JP2000296310A5 (ja) | 2005-08-11 |
Family
ID=14423111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11106025A Pending JP2000296310A (ja) | 1999-04-14 | 1999-04-14 | 埋設型生物脱臭設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000296310A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020065130A (ko) * | 2001-02-05 | 2002-08-13 | 한국과학기술연구원 | 측면 여과형 바이오필터 |
| US8772015B2 (en) | 2007-10-04 | 2014-07-08 | Biorem Technologies Inc. | Biofilter media to remove odour causing compounds from waste gas streams |
| JP2019515788A (ja) * | 2016-04-04 | 2019-06-13 | セペペウ カーボン プロセス アンド プラント エンジニアリング エス アーCppe Carbon Process & Plant Engineering S.A. | 排ガスからの二酸化硫黄の除去 |
| US10478776B2 (en) | 2016-04-04 | 2019-11-19 | Cppe Carbon Process & Plant Engineering S.A. | Process for the removal of heavy metals from fluids |
| US11369922B2 (en) | 2016-04-04 | 2022-06-28 | Cppe Carbon Process & Plant Engineering S.A. | Catalyst mixture for the treatment of waste gas |
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-
1999
- 1999-04-14 JP JP11106025A patent/JP2000296310A/ja active Pending
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