JP2000296899A - ガス溶解水の貯留方法及びその貯留装置 - Google Patents
ガス溶解水の貯留方法及びその貯留装置Info
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Landscapes
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 余分なガスを溶解させること無く、ガス溶解
水に必要な溶存ガス濃度を保持でき、気相部で大気に溶
解ガスを拡散させず、回収処理や爆発の危険性を排除す
ることができるガス溶解水の貯留方法及びその貯留装置
を提供する。 【解決手段】 純水にガスを溶解するガス溶解水製造装
置３と、ガス溶解水製造装置３で製造されたガス溶解水
を貯留する貯留タンク１１と、貯留タンク１１の上方部
とガス溶解水製造装置３のガス供給源とを接続する配管
１２と、配管１２を流れるガス流量を調節する調節弁１
３と、調節弁１３を操作するための検知制御装置１４
と、を具備してなるガス溶解水の貯留装置であって、ガ
ス溶解水を貯留タンク１１にて貯留する際、貯留タンク
１１内に生じる気相部１１ａを純水に溶解したガスと同
一ガスにてシールする方法。
水に必要な溶存ガス濃度を保持でき、気相部で大気に溶
解ガスを拡散させず、回収処理や爆発の危険性を排除す
ることができるガス溶解水の貯留方法及びその貯留装置
を提供する。 【解決手段】 純水にガスを溶解するガス溶解水製造装
置３と、ガス溶解水製造装置３で製造されたガス溶解水
を貯留する貯留タンク１１と、貯留タンク１１の上方部
とガス溶解水製造装置３のガス供給源とを接続する配管
１２と、配管１２を流れるガス流量を調節する調節弁１
３と、調節弁１３を操作するための検知制御装置１４
と、を具備してなるガス溶解水の貯留装置であって、ガ
ス溶解水を貯留タンク１１にて貯留する際、貯留タンク
１１内に生じる気相部１１ａを純水に溶解したガスと同
一ガスにてシールする方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、主にシリコンウエ
ハ、液晶ガラス基板等の洗浄を行うために使用するガス
溶解水を一時的に貯留し、洗浄パターンに効率良く対応
させるためのガス溶解水の貯留方法及びその貯留装置に
関するものである。
ハ、液晶ガラス基板等の洗浄を行うために使用するガス
溶解水を一時的に貯留し、洗浄パターンに効率良く対応
させるためのガス溶解水の貯留方法及びその貯留装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子部品及びその製造装置部材等の洗浄
は、純水に各種ガスを溶解したガス溶解水で行うことが
多い。そして、このガス溶解水を使用した洗浄は、常時
一定量のガス溶解水を洗浄機に供給する定量給水パター
ン以外に、間欠的、且つ一度に多量のガス溶解水を供給
するバッチ給水パターンがある。このようなバッチ給水
パターンに対応した能力のガス溶解水製造装置を設置す
ることは装置が過大になり過ぎるため、ガス溶解水を使
用していない時もガス溶解水を製造し続け、貯留タンク
に貯めておき、洗浄時、１バッチ洗浄に使用するガス溶
解水量を供給する方法が採られている。
は、純水に各種ガスを溶解したガス溶解水で行うことが
多い。そして、このガス溶解水を使用した洗浄は、常時
一定量のガス溶解水を洗浄機に供給する定量給水パター
ン以外に、間欠的、且つ一度に多量のガス溶解水を供給
するバッチ給水パターンがある。このようなバッチ給水
パターンに対応した能力のガス溶解水製造装置を設置す
ることは装置が過大になり過ぎるため、ガス溶解水を使
用していない時もガス溶解水を製造し続け、貯留タンク
に貯めておき、洗浄時、１バッチ洗浄に使用するガス溶
解水量を供給する方法が採られている。
【０００３】このガス溶解水の貯留方法を図３を参照し
て説明する。純水製造装置５０にて製造された純水は、
ガス溶解槽５１にてガス供給源、例えば水素供給源５２
から供給された水素が溶解され、水素溶解水となる。こ
の水素溶解水は配管５３にて貯留タンク５４に送られ、
一時的に貯留される。この貯留タンク５４は、特にシー
ルされていないため、貯留タンク５４内に水素溶解水が
貯留され始めると、水素溶解水による液相部５５と大気
による気相部５６とが生じる。このため、液相部５５の
水素溶解水中の溶存水素が気相部５６の大気側に拡散
し、水素溶解水中の溶存水素濃度の低下を招き、そのま
ま供給ポンプ５７によりユースポイントＢに送られ、電
子部品及びその製造装置部材の洗浄に使用されると、洗
浄不良を起こすという問題がある。これを解決するため
に、貯留タンク５４に貯留している間に気相部５６の大
気側に拡散する溶存水素量を見越して、純水に水素を余
分に溶解させることが行われている。
て説明する。純水製造装置５０にて製造された純水は、
ガス溶解槽５１にてガス供給源、例えば水素供給源５２
から供給された水素が溶解され、水素溶解水となる。こ
の水素溶解水は配管５３にて貯留タンク５４に送られ、
一時的に貯留される。この貯留タンク５４は、特にシー
ルされていないため、貯留タンク５４内に水素溶解水が
貯留され始めると、水素溶解水による液相部５５と大気
による気相部５６とが生じる。このため、液相部５５の
水素溶解水中の溶存水素が気相部５６の大気側に拡散
し、水素溶解水中の溶存水素濃度の低下を招き、そのま
ま供給ポンプ５７によりユースポイントＢに送られ、電
子部品及びその製造装置部材の洗浄に使用されると、洗
浄不良を起こすという問題がある。これを解決するため
に、貯留タンク５４に貯留している間に気相部５６の大
気側に拡散する溶存水素量を見越して、純水に水素を余
分に溶解させることが行われている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、気相部５６の大気側へ拡散する溶存水素量を
見越して、純水に水素を余分に溶解させるから、その分
水素が無駄になり、水素供給源５２も大きなものとする
必要がある。加えて、ガスの種類によっては、大気側へ
拡散したガスを回収しなければない。また、ガスが水素
ガスの場合、気相部５６へ拡散した水素ガス濃度が４％
以上、気相部５６の酸素ガス濃度が５％以上になると、
爆発の危険性がある。
来例では、気相部５６の大気側へ拡散する溶存水素量を
見越して、純水に水素を余分に溶解させるから、その分
水素が無駄になり、水素供給源５２も大きなものとする
必要がある。加えて、ガスの種類によっては、大気側へ
拡散したガスを回収しなければない。また、ガスが水素
ガスの場合、気相部５６へ拡散した水素ガス濃度が４％
以上、気相部５６の酸素ガス濃度が５％以上になると、
爆発の危険性がある。
【０００５】従って、本発明の目的は、余分なガスを溶
解させることなく、ガス溶解水の使用時に必要な溶存ガ
ス濃度を保持でき、気相部で大気側に溶存ガスを拡散さ
せないようにして、回収操作や爆発の危険性を排除する
ことができるガス溶解水の貯留方法及びその貯留装置を
提供することにある。
解させることなく、ガス溶解水の使用時に必要な溶存ガ
ス濃度を保持でき、気相部で大気側に溶存ガスを拡散さ
せないようにして、回収操作や爆発の危険性を排除する
ことができるガス溶解水の貯留方法及びその貯留装置を
提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者等は鋭意検討を行った結果、純水にガス、例え
ば、水素を溶解して得られる水素溶解水を機能水として
貯留タンクに貯留する際、貯留タンク内に生じる気相部
を前記水素溶解水製造の際に使用する水素ガスにてシー
ルすれば、機能水製造時の溶存水素濃度を維持でき、水
素溶解水中の溶存水素が大気中に拡散することを防止で
きることなどを見い出し、本発明を完成するに至った。
発明者等は鋭意検討を行った結果、純水にガス、例え
ば、水素を溶解して得られる水素溶解水を機能水として
貯留タンクに貯留する際、貯留タンク内に生じる気相部
を前記水素溶解水製造の際に使用する水素ガスにてシー
ルすれば、機能水製造時の溶存水素濃度を維持でき、水
素溶解水中の溶存水素が大気中に拡散することを防止で
きることなどを見い出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】すなわち、請求項１の発明は、純水にガス
を溶解し、得られたガス溶解水を貯留タンクに貯留する
際、前記貯留タンク内に生じる気相部を前記純水に溶解
したガスと同一のガスにてシールすることを特徴とする
ガス溶解水の貯留方法を提供するものである。これによ
り、貯留タンク内に生じる気相部は、ガス溶解水と同一
ガスにてシールされているから、溶存ガスが気相部の大
気側に拡散することがないし、溶存ガス濃度の低下もな
い。
を溶解し、得られたガス溶解水を貯留タンクに貯留する
際、前記貯留タンク内に生じる気相部を前記純水に溶解
したガスと同一のガスにてシールすることを特徴とする
ガス溶解水の貯留方法を提供するものである。これによ
り、貯留タンク内に生じる気相部は、ガス溶解水と同一
ガスにてシールされているから、溶存ガスが気相部の大
気側に拡散することがないし、溶存ガス濃度の低下もな
い。
【０００８】請求項２の発明は、純水にガスを溶解し、
得られたガス溶解水を貯留タンクにて貯留していく際、
前記貯留タンク内に生じる気相部を前記純水に溶解した
ガスと同一のガスでシールし、前記貯留タンク内が前記
ガス溶解水で満杯になったとき、前記ガスによるシール
を止める一方、前記ガス溶解水の供給は継続して前記貯
留タンクから溢流させることを特徴とするガス溶解水の
貯留方法を提供するものである。これにより、貯留タン
ク内がガス溶解水により満杯になると、実質的に気相部
が無くなりガスによるシールを停止するため、シールに
必要とするガスだけを貯留タンク内に供給することにな
って、ガスが無駄にならない。一方、貯留タンクに供給
が継続されるガス溶解水は溢流させるため、ガス溶解水
を使用しない限り、大気が直接介在する気相部が生じな
い。
得られたガス溶解水を貯留タンクにて貯留していく際、
前記貯留タンク内に生じる気相部を前記純水に溶解した
ガスと同一のガスでシールし、前記貯留タンク内が前記
ガス溶解水で満杯になったとき、前記ガスによるシール
を止める一方、前記ガス溶解水の供給は継続して前記貯
留タンクから溢流させることを特徴とするガス溶解水の
貯留方法を提供するものである。これにより、貯留タン
ク内がガス溶解水により満杯になると、実質的に気相部
が無くなりガスによるシールを停止するため、シールに
必要とするガスだけを貯留タンク内に供給することにな
って、ガスが無駄にならない。一方、貯留タンクに供給
が継続されるガス溶解水は溢流させるため、ガス溶解水
を使用しない限り、大気が直接介在する気相部が生じな
い。
【０００９】請求項３の発明は、前記ガス溶解水中の溶
存ガス濃度を測定し、この溶存ガス濃度からガス分圧を
算定し、該ガス分圧と同圧又はそれ以上の圧となるよう
に前記貯留タンク内に前記ガスを供給することを特徴と
するガス溶解水の貯留方法を提供するものである。これ
により、貯留タンク内のガスによるシールはガス溶解水
中の溶存ガス濃度に応じた最適のものから安全サイドの
ものまでが可能となる。ここで、溶存ガス濃度からガス
分圧を算定する方法は、公知の方法に従い、ガスの種類
に応じた算定式に基づいて行われる。また、貯留タンク
内に供給するガス量は、ガス溶解水中のガス分圧と同圧
になるように供給するのが理想であるが、ガス溶解水中
のガス分圧より５〜２０％程度のやや高めになるように
供給することが、若干のガス分圧の変動を吸収でき、且
つ溶解ガスの大気中への拡散を確実に抑制できる点で好
ましい。
存ガス濃度を測定し、この溶存ガス濃度からガス分圧を
算定し、該ガス分圧と同圧又はそれ以上の圧となるよう
に前記貯留タンク内に前記ガスを供給することを特徴と
するガス溶解水の貯留方法を提供するものである。これ
により、貯留タンク内のガスによるシールはガス溶解水
中の溶存ガス濃度に応じた最適のものから安全サイドの
ものまでが可能となる。ここで、溶存ガス濃度からガス
分圧を算定する方法は、公知の方法に従い、ガスの種類
に応じた算定式に基づいて行われる。また、貯留タンク
内に供給するガス量は、ガス溶解水中のガス分圧と同圧
になるように供給するのが理想であるが、ガス溶解水中
のガス分圧より５〜２０％程度のやや高めになるように
供給することが、若干のガス分圧の変動を吸収でき、且
つ溶解ガスの大気中への拡散を確実に抑制できる点で好
ましい。
【００１０】請求項４の発明は、前記貯留タンクがシリ
コンウエハ、液晶ガラス基板等の洗浄を行う洗浄装置に
設けたワンバス洗浄槽であることを特徴とするガス溶解
水の貯留方法を提供するものである。これにより、ワン
バス洗浄槽内のガス溶解水中の溶存ガス濃度は設定濃度
より低下しないから、シリコンウエハ、液晶ガラス基板
等の洗浄に際し、常時一定水準の洗浄水を供給でき、安
定した洗浄を確保できる。
コンウエハ、液晶ガラス基板等の洗浄を行う洗浄装置に
設けたワンバス洗浄槽であることを特徴とするガス溶解
水の貯留方法を提供するものである。これにより、ワン
バス洗浄槽内のガス溶解水中の溶存ガス濃度は設定濃度
より低下しないから、シリコンウエハ、液晶ガラス基板
等の洗浄に際し、常時一定水準の洗浄水を供給でき、安
定した洗浄を確保できる。
【００１１】請求項５の発明は、純水にガスを溶解する
ガス溶解水製造装置と、該ガス溶解水製造装置で製造さ
れたガス溶解水を貯留する貯留タンクと、該貯留タンク
の上方部と前記ガス溶解水製造装置のガス供給源とを接
続する配管と、該配管を流れるガス圧力を調節する調節
弁と、該調節弁を操作するための検知制御装置と、を具
備してなることを特徴とするガス溶解水の貯留装置を提
供するものである。これにより、間欠的又は一度に多量
のガス溶解水を使用するような洗浄パターンに効率良く
対応させるための上記ガス溶解水の貯留方法が確実に実
現される。
ガス溶解水製造装置と、該ガス溶解水製造装置で製造さ
れたガス溶解水を貯留する貯留タンクと、該貯留タンク
の上方部と前記ガス溶解水製造装置のガス供給源とを接
続する配管と、該配管を流れるガス圧力を調節する調節
弁と、該調節弁を操作するための検知制御装置と、を具
備してなることを特徴とするガス溶解水の貯留装置を提
供するものである。これにより、間欠的又は一度に多量
のガス溶解水を使用するような洗浄パターンに効率良く
対応させるための上記ガス溶解水の貯留方法が確実に実
現される。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明において、ガスが溶解され
る純水としては、特に制限されないが、例えば、原水を
凝集沈殿装置、砂濾過装置、活性炭濾過装置を順次通し
処理した前処理装置段階での前処理水、該前処理水を逆
浸透膜装置、２床３塔イオン交換装置、混床式イオン交
換装置、精密フィルターを順次通し処理した一次純水製
造装置段階での一次純水又は更に、この一次純水に紫外
線照射、混床式ポリッシャー、限外濾過膜処理を施し、
一次純水中に残留する微粒子、コロイド物質、有機物、
金属イオン、陰イオン等を除去する二次純水製造装置段
階での二次純水、所謂超純水が挙げられる。
る純水としては、特に制限されないが、例えば、原水を
凝集沈殿装置、砂濾過装置、活性炭濾過装置を順次通し
処理した前処理装置段階での前処理水、該前処理水を逆
浸透膜装置、２床３塔イオン交換装置、混床式イオン交
換装置、精密フィルターを順次通し処理した一次純水製
造装置段階での一次純水又は更に、この一次純水に紫外
線照射、混床式ポリッシャー、限外濾過膜処理を施し、
一次純水中に残留する微粒子、コロイド物質、有機物、
金属イオン、陰イオン等を除去する二次純水製造装置段
階での二次純水、所謂超純水が挙げられる。
【００１３】上記純水に溶解させるガスとしては、特に
制限されないが、例えばオゾン、酸素、水素、炭酸ガス
等が挙げられる。純水にガスを溶解させる方法として
は、特に制限されないが、純水にガス透過膜を通してガ
スを注入し溶解させる膜溶解法、純水にガスをばっ気し
て溶解させるばっ気溶解法、純水にエジェクターを通し
てガスを溶解させるエジェクター法及びガス溶解槽に純
水を送るポンプのサクション側にガスを供給しポンプ内
乱流によりガスを溶解させるポンプ内攪拌法等が挙げら
れる。
制限されないが、例えばオゾン、酸素、水素、炭酸ガス
等が挙げられる。純水にガスを溶解させる方法として
は、特に制限されないが、純水にガス透過膜を通してガ
スを注入し溶解させる膜溶解法、純水にガスをばっ気し
て溶解させるばっ気溶解法、純水にエジェクターを通し
てガスを溶解させるエジェクター法及びガス溶解槽に純
水を送るポンプのサクション側にガスを供給しポンプ内
乱流によりガスを溶解させるポンプ内攪拌法等が挙げら
れる。
【００１４】次に、本発明の第１の実施の形態における
ガス溶解水の貯留方法について、図１のガス溶解水の貯
留装置のフロー図に基づいて説明する。図中、ガス溶解
水製造装置Ａは、前処理水を純水にする純水製造装置１
と、オゾン、水素等のガス発生装置２と、純水製造装置
１で製造された純水にオゾン、水素等のガスを溶解する
ガス溶解槽３とから構成される。前処理水は、まず純水
製造装置１に送られ、これが一次純水製造装置であれば
一次純水にされ、更に、二次純水製造装置で処理されれ
ば、所謂超純水が得られる。この超純水は、配管４によ
りガス溶解槽３に送られ、ガス溶解槽３にてガス発生装
置２から配管５を通り供給された例えば、オゾン、水素
等のガスが溶解される。ガス溶解槽３では膜溶解法が採
用されているから、ガス溶解槽３内のガス透過膜６によ
り、気相室３ａと液相室３ｂとに分割されている。この
ガス溶解槽３の気相室３ａからガスが注入され、ガス透
過膜６を通って液相室３ｂの超純水にガスが溶解され
る。
ガス溶解水の貯留方法について、図１のガス溶解水の貯
留装置のフロー図に基づいて説明する。図中、ガス溶解
水製造装置Ａは、前処理水を純水にする純水製造装置１
と、オゾン、水素等のガス発生装置２と、純水製造装置
１で製造された純水にオゾン、水素等のガスを溶解する
ガス溶解槽３とから構成される。前処理水は、まず純水
製造装置１に送られ、これが一次純水製造装置であれば
一次純水にされ、更に、二次純水製造装置で処理されれ
ば、所謂超純水が得られる。この超純水は、配管４によ
りガス溶解槽３に送られ、ガス溶解槽３にてガス発生装
置２から配管５を通り供給された例えば、オゾン、水素
等のガスが溶解される。ガス溶解槽３では膜溶解法が採
用されているから、ガス溶解槽３内のガス透過膜６によ
り、気相室３ａと液相室３ｂとに分割されている。この
ガス溶解槽３の気相室３ａからガスが注入され、ガス透
過膜６を通って液相室３ｂの超純水にガスが溶解され
る。
【００１５】液相室３ｂでガスが溶解されたガス溶解水
は、ガス溶解水の貯留装置１０に送られ、そのユースポ
イントＢでの使用条件に合わせて貯留される。ガス溶解
水の貯留装置１０は、ガス溶解水製造装置Ａで製造され
たガス溶解水を貯留する貯留タンク１１と、ガス発生装
置２とガス溶解槽３を接続する配管５から分岐して貯留
タンク１１の上方部に接続する配管１２と、配管１２を
流れるガス圧力を調節する調節弁１３と、調節弁１３を
操作するための検知制御装置１４と、を具備してなるも
のである。
は、ガス溶解水の貯留装置１０に送られ、そのユースポ
イントＢでの使用条件に合わせて貯留される。ガス溶解
水の貯留装置１０は、ガス溶解水製造装置Ａで製造され
たガス溶解水を貯留する貯留タンク１１と、ガス発生装
置２とガス溶解槽３を接続する配管５から分岐して貯留
タンク１１の上方部に接続する配管１２と、配管１２を
流れるガス圧力を調節する調節弁１３と、調節弁１３を
操作するための検知制御装置１４と、を具備してなるも
のである。
【００１６】貯留タンク１１にガス溶解水を貯留する場
合、先ず、貯留タンク１１内はその全てが気相部１１ａ
となり、大気が充満しているから、オーバーフローライ
ン１５に設置した溢流弁１６を閉じ、調節弁１３を開い
て、ガス発生装置２からガスを配管５及び配管５から分
岐する配管１２を通り貯留タンク１１内に供給し、貯留
タンク１１内の大気をガスにて置換しつつ、条件を解除
し「開」にした圧力制御弁１７から大気を排出し、貯留
タンク１１内の気相部１１ａをガスにてシールする。気
相部１１ａをガスにてシールし始めると同時に、あるい
はシールしつつ又はシール終了後に、ガス溶解槽３の液
相室３ｂからガス溶解水を配管１８を通して貯留タンク
１１内に投入し始め、液相部１１ｂを形成させる。貯留
タンク１１内の大気をガスにて置換し終わったら、圧力
制御弁１７の条件を設定して「閉」にし、貯留タンク１
１内にガス溶解水を満杯になるまで投入する。貯留タン
ク１１内に設置した液面センサ１９にてガス溶解水が満
杯になったことを検知し、液面センサ１９から調節弁１
３に対して閉信号を出し、調節弁１３を閉じる。同時に
溢流弁１６に対して開信号を出し溢流弁１６を開いて、
ガス溶解水をオーバーフローライン１５を通して元のガ
ス溶解槽３の液相室３ｂに戻す。この貯留タンク１１内
に貯留されたガス溶解水は、ユースポイントＢからの使
用指令に基づいて供給ポンプ２０が稼働され、配管２１
を通りユースポイントＢに送られ、ユースポイントＢに
おける使用目的に沿いガス溶解水が使用される。
合、先ず、貯留タンク１１内はその全てが気相部１１ａ
となり、大気が充満しているから、オーバーフローライ
ン１５に設置した溢流弁１６を閉じ、調節弁１３を開い
て、ガス発生装置２からガスを配管５及び配管５から分
岐する配管１２を通り貯留タンク１１内に供給し、貯留
タンク１１内の大気をガスにて置換しつつ、条件を解除
し「開」にした圧力制御弁１７から大気を排出し、貯留
タンク１１内の気相部１１ａをガスにてシールする。気
相部１１ａをガスにてシールし始めると同時に、あるい
はシールしつつ又はシール終了後に、ガス溶解槽３の液
相室３ｂからガス溶解水を配管１８を通して貯留タンク
１１内に投入し始め、液相部１１ｂを形成させる。貯留
タンク１１内の大気をガスにて置換し終わったら、圧力
制御弁１７の条件を設定して「閉」にし、貯留タンク１
１内にガス溶解水を満杯になるまで投入する。貯留タン
ク１１内に設置した液面センサ１９にてガス溶解水が満
杯になったことを検知し、液面センサ１９から調節弁１
３に対して閉信号を出し、調節弁１３を閉じる。同時に
溢流弁１６に対して開信号を出し溢流弁１６を開いて、
ガス溶解水をオーバーフローライン１５を通して元のガ
ス溶解槽３の液相室３ｂに戻す。この貯留タンク１１内
に貯留されたガス溶解水は、ユースポイントＢからの使
用指令に基づいて供給ポンプ２０が稼働され、配管２１
を通りユースポイントＢに送られ、ユースポイントＢに
おける使用目的に沿いガス溶解水が使用される。
【００１７】ユースポイントＢにガス溶解水が供給ポン
プ２０により送られると、貯留タンク１１内のガス溶解
水が減るから、それを液面センサ１９により検知して、
調節弁１３に対して開信号を出し調節弁１３を開きガス
を送り、同時に液面センサ１９により溢流弁１６に対し
ても閉信号を出し溢流弁１６を閉じて、貯留タンク１１
内に生じる気相部１１ａをガスにてシールする。ユース
ポイントＢにおけるガス溶解水の使用が終われば、再び
貯留タンク１１内がガス溶解水で満杯になるため、液面
センサ１９にて検知し、液面センサ１９から調節弁１３
に対して閉信号を出し、調節弁１３を閉じ、同時に溢流
弁１６に対して開信号を出し溢流弁１６を開いて、ガス
溶解水をオーバーフローライン１５を通して元のガス溶
解槽３の液相室３ｂに戻す。以後は上記の繰り返しとな
る。なお、前記検知制御装置１４は、図１のガス溶解水
の貯留装置のフローでは、具体的には液面センサ１９を
示し、貯留タンク１１内でのガス溶解水量を検知して、
その情報により調節弁１３及び溢流弁１６に対して開信
号及び閉信号を出力し、弁１３及び１６を制御するもの
である。
プ２０により送られると、貯留タンク１１内のガス溶解
水が減るから、それを液面センサ１９により検知して、
調節弁１３に対して開信号を出し調節弁１３を開きガス
を送り、同時に液面センサ１９により溢流弁１６に対し
ても閉信号を出し溢流弁１６を閉じて、貯留タンク１１
内に生じる気相部１１ａをガスにてシールする。ユース
ポイントＢにおけるガス溶解水の使用が終われば、再び
貯留タンク１１内がガス溶解水で満杯になるため、液面
センサ１９にて検知し、液面センサ１９から調節弁１３
に対して閉信号を出し、調節弁１３を閉じ、同時に溢流
弁１６に対して開信号を出し溢流弁１６を開いて、ガス
溶解水をオーバーフローライン１５を通して元のガス溶
解槽３の液相室３ｂに戻す。以後は上記の繰り返しとな
る。なお、前記検知制御装置１４は、図１のガス溶解水
の貯留装置のフローでは、具体的には液面センサ１９を
示し、貯留タンク１１内でのガス溶解水量を検知して、
その情報により調節弁１３及び溢流弁１６に対して開信
号及び閉信号を出力し、弁１３及び１６を制御するもの
である。
【００１８】図２は本発明の第２の実施の形態における
ガス溶解水の貯留装置のフロー図を示す。図中、第１の
実施の形態例と同一構成要素には同一符号を付して、そ
の説明を省略し、異なる点について説明する。すなわ
ち、ガス溶解水の貯留装置１０ａと図１の実施の形態例
に示すガス溶解水の貯留装置１０との相違点は、配管１
８を分岐して溶存ガス濃度計３０を取り付け、貯留タン
ク１１に隣接した配管１２に圧力計３１を取り付け、更
に溶存ガス濃度計３０及び圧力計３１により検知した出
力（情報）を受け、それらに基づいて演算し調節弁１３
の開度を調節する供給量指令を出す演算制御器３２を備
える、検知制御装置１４ａを有している点にある。すな
わち、配管１８を流れるガス溶解水のガス濃度を溶存ガ
ス濃度計３０により検知し、このガス濃度信号を演算制
御器３２に送り、ここでガス溶解水のガス分圧に換算
し、このガス分圧に基づいて調節弁１３の開度を演算し
供給量指令として調節弁１３に出し、調節弁１３の開度
を調節する。一方、圧力計３１により貯留タンク１１内
のオゾン等のガス圧力を検知し、このガス圧力信号を演
算制御器３２に送り、ここでガス溶解水の上記のように
演算したガス分圧と対比し、異なればガス分圧になるよ
うな調節弁１３の開度を演算し精密な供給量指令として
調節弁１３に出し、調節弁１３の開度を調節して、貯留
タンク１１内のガス圧力を調節し、ガス溶解水のガス分
圧に合わる。
ガス溶解水の貯留装置のフロー図を示す。図中、第１の
実施の形態例と同一構成要素には同一符号を付して、そ
の説明を省略し、異なる点について説明する。すなわ
ち、ガス溶解水の貯留装置１０ａと図１の実施の形態例
に示すガス溶解水の貯留装置１０との相違点は、配管１
８を分岐して溶存ガス濃度計３０を取り付け、貯留タン
ク１１に隣接した配管１２に圧力計３１を取り付け、更
に溶存ガス濃度計３０及び圧力計３１により検知した出
力（情報）を受け、それらに基づいて演算し調節弁１３
の開度を調節する供給量指令を出す演算制御器３２を備
える、検知制御装置１４ａを有している点にある。すな
わち、配管１８を流れるガス溶解水のガス濃度を溶存ガ
ス濃度計３０により検知し、このガス濃度信号を演算制
御器３２に送り、ここでガス溶解水のガス分圧に換算
し、このガス分圧に基づいて調節弁１３の開度を演算し
供給量指令として調節弁１３に出し、調節弁１３の開度
を調節する。一方、圧力計３１により貯留タンク１１内
のオゾン等のガス圧力を検知し、このガス圧力信号を演
算制御器３２に送り、ここでガス溶解水の上記のように
演算したガス分圧と対比し、異なればガス分圧になるよ
うな調節弁１３の開度を演算し精密な供給量指令として
調節弁１３に出し、調節弁１３の開度を調節して、貯留
タンク１１内のガス圧力を調節し、ガス溶解水のガス分
圧に合わる。
【００１９】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、貯留タンク内
に生じる気相部は、ガス溶解水と同一ガスにてシールさ
れているから、溶存ガスが気相部の大気に拡散すること
がなく、溶存ガス濃度の低下もない。従って、余分なガ
スを溶解させることなく、ガス溶解水の使用時に必要な
溶存ガス濃度を保持でき、気相部で大気側に溶存ガスを
拡散させないようにして、回収操作や爆発の危険性を排
除することができる。
に生じる気相部は、ガス溶解水と同一ガスにてシールさ
れているから、溶存ガスが気相部の大気に拡散すること
がなく、溶存ガス濃度の低下もない。従って、余分なガ
スを溶解させることなく、ガス溶解水の使用時に必要な
溶存ガス濃度を保持でき、気相部で大気側に溶存ガスを
拡散させないようにして、回収操作や爆発の危険性を排
除することができる。
【００２０】請求項２の発明によれば、貯留タンク内が
ガス溶解水により満杯になると、実質的に気相部がなく
なりガスによるシールを止めるため、シールに必要とす
るガスだけを貯留タンク内に供給することになって、ガ
スが無駄にならない。一方、貯留タンクに供給が継続さ
れるガス溶解水は溢流させるから、ガス溶解水を使用し
ない限り、大気が直接介在する気相部が生じない。従っ
て、上記効果に加えて、ガスを無駄に使用することがな
く、無駄となったガスの回収や無害化処理もなくなる。
ガス溶解水により満杯になると、実質的に気相部がなく
なりガスによるシールを止めるため、シールに必要とす
るガスだけを貯留タンク内に供給することになって、ガ
スが無駄にならない。一方、貯留タンクに供給が継続さ
れるガス溶解水は溢流させるから、ガス溶解水を使用し
ない限り、大気が直接介在する気相部が生じない。従っ
て、上記効果に加えて、ガスを無駄に使用することがな
く、無駄となったガスの回収や無害化処理もなくなる。
【００２１】請求項３の発明によれば、貯留タンク内の
ガスによるシールがガス溶解水中の溶存ガス濃度に応じ
た適切なものとすることが可能になる。従って、上記効
果に加えて、なお一層ガスを無駄に使用することがなく
なり、ガス溶解水中の溶存ガス濃度も安定し、ガス溶解
水の使用目的を達成できる。
ガスによるシールがガス溶解水中の溶存ガス濃度に応じ
た適切なものとすることが可能になる。従って、上記効
果に加えて、なお一層ガスを無駄に使用することがなく
なり、ガス溶解水中の溶存ガス濃度も安定し、ガス溶解
水の使用目的を達成できる。
【００２２】請求項４の発明によれば、ワンバス洗浄槽
内のガス溶解水中の溶存ガス濃度が設定濃度より低下し
ないから、シリコンウエハ、液晶ガラス基板等の洗浄効
果が常時一定水準を確保したものになる。従って、上記
のような厳しい洗浄条件を容易にクリアーできる。
内のガス溶解水中の溶存ガス濃度が設定濃度より低下し
ないから、シリコンウエハ、液晶ガラス基板等の洗浄効
果が常時一定水準を確保したものになる。従って、上記
のような厳しい洗浄条件を容易にクリアーできる。
【００２３】請求項５の発明によれば、バッチ洗浄パタ
ーンのような貯留したガス溶解水の性能保持が難しい状
態のものであっても、効率良く対応させるための上記ガ
ス溶解水の貯留方法を確実に実現することができ、しか
も貯留したガス溶解水の性能を安定したものとすること
ができる。
ーンのような貯留したガス溶解水の性能保持が難しい状
態のものであっても、効率良く対応させるための上記ガ
ス溶解水の貯留方法を確実に実現することができ、しか
も貯留したガス溶解水の性能を安定したものとすること
ができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態例を示すガス溶解水
の貯留装置のフロー図である。
の貯留装置のフロー図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態例を示すガス溶解水
の貯留装置のフロー図である。
の貯留装置のフロー図である。
【図３】従来例を示すガス溶解水の貯留装置のフロー図
である。
である。
１、５０ 純水製造装置 ２ ガス発生装置 ３、５１ ガス溶解槽 ３ａ 気相室 ３ｂ 液相室 ４、５、１２、１５、１８、２１、５３ 配管 ６ ガス透過膜 １０、１０ａ ガス溶解水の貯留装置 １１、５４ 貯留タンク １１ａ、５５ 気相部 １１ｂ、５６ 液相部 １３ 調節弁 １４、１４ａ 検知制御装置 １５ オーバーフローライン １６ 溢流弁 １７ 圧力制御弁 １９ 液面センサ ２０、５７ 供給ポンプ ３０ 溶存ガス濃度計 ３１ 圧力計 ３２ 演算制御器 ５２ 水素供給源 Ａ ガス溶解水製造装置 Ｂ ユースポイント
Claims (5)
- 【請求項１】 純水にガスを溶解し、得られたガス溶解
水を貯留タンクに貯留する際、前記貯留タンク内に生じ
る気相部を前記純水に溶解したガスと同一のガスにてシ
ールすることを特徴とするガス溶解水の貯留方法。 - 【請求項２】 純水にガスを溶解し、得られたガス溶解
水を貯留タンクにて貯留していく際、前記貯留タンク内
に生じる気相部を前記純水に溶解したガスと同一のガス
でシールしつつ、前記貯留タンク内が前記ガス溶解水で
満杯になったときは、前記ガスによるシールを止める一
方、前記ガス溶解水の供給は継続して前記貯留タンクか
ら溢流させることを特徴とするガス溶解水の貯留方法。 - 【請求項３】 前記ガス溶解水中の溶存ガス濃度を測定
し、この溶存ガス濃度からガス分圧を算定し、該ガス分
圧と同圧又はそれ以上の圧となるように前記貯留タンク
内に前記ガスを供給することを特徴とする請求項１記載
のガス溶解水の貯留方法。 - 【請求項４】 前記貯留タンクはシリコンウエハ、液晶
ガラス基板等の洗浄を行う洗浄装置に設けたワンバス洗
浄槽であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１
項に記載のガス溶解水の貯留方法。 - 【請求項５】 純水にガスを溶解するガス溶解水製造装
置と、該ガス溶解水製造装置で製造されたガス溶解水を
貯留する貯留タンクと、該貯留タンクの上方部と前記ガ
ス溶解水製造装置のガス供給源とを接続する配管と、該
配管を流れるガス圧力を調節する調節弁と、該調節弁を
操作するための検知制御装置と、を具備してなることを
特徴とするガス溶解水の貯留装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11103534A JP2000296899A (ja) | 1999-04-12 | 1999-04-12 | ガス溶解水の貯留方法及びその貯留装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11103534A JP2000296899A (ja) | 1999-04-12 | 1999-04-12 | ガス溶解水の貯留方法及びその貯留装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000296899A true JP2000296899A (ja) | 2000-10-24 |
Family
ID=14356542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11103534A Pending JP2000296899A (ja) | 1999-04-12 | 1999-04-12 | ガス溶解水の貯留方法及びその貯留装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000296899A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005087396A1 (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-22 | Kurita Water Industries Ltd. | 循環式ガス溶解水供給装置及び該装置の運転方法 |
| WO2018221069A1 (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | カーリットホールディングス株式会社 | 水素水の製造装置及び製造方法 |
| JP2020179372A (ja) * | 2019-04-26 | 2020-11-05 | オルガノ株式会社 | ガス溶解水製造装置および方法 |
-
1999
- 1999-04-12 JP JP11103534A patent/JP2000296899A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005087396A1 (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-22 | Kurita Water Industries Ltd. | 循環式ガス溶解水供給装置及び該装置の運転方法 |
| JP2005262031A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Kurita Water Ind Ltd | 循環式ガス溶解水供給装置及び該装置の運転方法 |
| WO2018221069A1 (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | カーリットホールディングス株式会社 | 水素水の製造装置及び製造方法 |
| JP2018202289A (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-27 | カーリットホールディングス株式会社 | 水素水の製造装置及び製造方法 |
| TWI736770B (zh) * | 2017-05-31 | 2021-08-21 | 日商佳里多控股公司 | 氫水的製造裝置以及製造方法 |
| JP2020179372A (ja) * | 2019-04-26 | 2020-11-05 | オルガノ株式会社 | ガス溶解水製造装置および方法 |
| JP7292957B2 (ja) | 2019-04-26 | 2023-06-19 | オルガノ株式会社 | ガス溶解水製造装置および方法 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040406 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060623 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060814 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070109 |