JP2000299370A - 試料保持装置およびこの保持装置を用いた露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 平板状の試料と試料台との接触面積を拡大す
ることなく、簡単で安価に試料を試料台に堅固に保持
し、試料の走査駆動時の加速度を増大可能にする。 【解決手段】 横方向へ移動可能な試料台としての移動
台２の上に平板状の試料であるレチクル１を保持する試
料保持装置であって、レチクル１を移動台２上に直接真
空吸着するとともに、レチクル１および移動台２に対し
物理的に分離し独立した独立保持用具Ｈ１を複数箇所に
配置して、レチクル１を移動台２上の所定位置に保持す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平板状の試料を搭
載して該試料の板面と平行な方向に移動可能な試料台上
に前記試料を保持するための試料保持装置およびこの装
置を用いた露光装置に関する。このような試料保持装置
は、特に、レチクル（マスクを含む）を移動台上に保持
する保持装置およびその装置を用いた走査型露光装置等
に適している。

【０００２】

【従来の技術】従来より、レチクル（マスクを含む）等
の平板状試料上に形成されたパターンの一部をウエハ等
の被露光基板上に転写するための投影系と、レチクル上
のパターンの一部を矩形ないし円弧状のスリット状光束
により照射する光源を有する照明系と、レチクルおよび
被露光基板をスリット状光束および投影系に対して一定
速度比で走査（スキャン）するスキャン機構部とを有
し、レチクル上のパターンをウエハ上に露光転写する走
査型露光装置が知られている。

【０００３】図６はこのような走査型露光装置を示す概
略構成図である。この露光装置は、光源である水銀灯や
レーザー光源からの露光光をスリット状光束にする照射
系２６と、このスリット状光束で照明された平板状試料
としてのレチクル１上のパターンを被露光基板であるウ
エハ２８上に縮小投影する投影系２７とを有する。レチ
クル１は、横方向に移動可能な試料台としてのレチクル
ステージ２９に設置されたレチクル保持装置上に搭載さ
れ、真空吸着されている。レチクルステージ２９上に
は、反射鏡３１が搭載され、この反射鏡３１を介してレ
チクルステージ２９は、レチクル位置計測レーザー干渉
計３０により位置計測されている。

【０００４】一方、ウエハ２８は、ウエハステージ３３
に搭載されたウエハチャック３２に真空吸着されてい
る。ウエハステージ３３にはバーミラー３４が設けられ
ており、このバーミラー３４を介してウエハステージ３
３はウエハ位置計測レーザー干渉計３５により位置計測
されている。

【０００５】また、レチクル１とウエハ２８との相対位
置を検出するためのアライメント検出系３６がレチクル
１の上部に配置されており、露光装置はこれにより相対
位置を検出した後、レチクル位置計測レーザー干渉計３
０とウエハ位置計測レーザー干渉計３５とによりレチク
ル１とウエハ２８間の位置の同期をとって走査露光を行
なう。

【０００６】装置全体は、除振台３９上に搭載された本
体フレーム３８により支持されており、レチクルステー
ジ２９はこの本体フレーム３８上に配置された構造体３
７上を移動する。そして、図７に示すように、従来のレ
チクル保持装置は、レチクル１の下面のパターンの無い
限られた部分（図７において斜線を施した部分）を、レ
チクル保持装置に設置されている真空パッド２２上に真
空吸着しているだけであった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】従来の上記保持装置で
は、真空パッド２２上にレチクル１の下面のパターンの
無い限られた部分を真空吸着しているだけであったた
め、吸着面積が小さい場合、レチクルステージ２９の走
査駆動時の加速度を上げて生産性を向上させようとする
と、真空吸着によって発生したレチクル１とレチクルス
テージ２９との間のレチクル保持力（摩擦力）をレチク
ル１の慣性力が上回り、レチクル１とレチクル保持装置
２９との間で滑りが生じる可能性がある。このような滑
りによって、レチクル１の位置がずれると、アライメン
ト精度が低下したり、最悪の場合、アライメントが不可
能になるという重大な問題点があった。このため、レチ
クルステージ２９の走査駆動加速度に限界を生じ、デバ
イスの生産性の向上を阻害していた。レチクル保持力を
増大させるためには、電気的または機械的な力でレチク
ル１をレチクルステージ２９に押し付けることも考えら
れる。しかし、押し付け機構をレチクルステージ２９上
に設置すると、レチクルステージ２９上にレチクル１を
搭載する際に、上方から降りてくるレチクル１に対し押
し付け機構を退避させる機能等を付加する必要があり、
機構が複雑になる。また、静電気力を使った吸着装置で
は、真空吸着と比較して飛躍的に吸着力が増すわけでは
なく、さらに、高圧電源等の高価な電機部品が必要とな
り、レチクル保持装置をコストアップさせる結果となっ
ていた。

【０００８】本発明は、上記のような問題点に鑑みなさ
れたものであって、レチクル等の平板状の試料とレチク
ルステージ等の試料台との接触面積を拡大することな
く、簡単で安価に試料を試料台に堅固に保持し、試料の
走査駆動時の加速度を増大させて、生産性の向上と高精
度化を両立させることができる試料保持装置およびこの
保持装置を用いた露光装置を提供することを目的とす
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、本発明は、平板状の試料を搭載して該
試料の板面と平行な方向に移動可能な試料台の上に前記
試料を保持する試料保持装置において、前記試料および
前記試料台に対し物理的に分離し独立した独立保持用具
をもって、前記試料を前記試料台上に保持することを特
徴とする。また、本発明では、試料を前記試料台上に直
接真空吸着するとともに、前記試料および前記試料台に
対し物理的に分離し独立した独立保持用具をもって、前
記試料を前記試料台上に保持してもよく、独立保持用具
は、真空吸着力によって前記試料を前記試料台上に保持
してもよく、独立保持用具は、真空吸着力によって前記
試料台に吸着されると同時に前記試料を前記試料台に押
し付けてもよく、独立保持用具は、磁気吸引力によって
前記試料台に吸着されると同時に前記試料を前記試料台
に押し付けてもよい。

【００１０】さらに、本発明は、真空吸引力を制御する
真空供給制御手段と、前記独立保持用具を前記試料台上
に搬送するための搬送手段と、露光手段とを有し、前記
試料上のパターンを被露光基板上に転写する露光装置に
適用することもでき、磁気吸引力を制御する磁気制御手
段と、前記独立保持用具を前記試料台上に搬送する搬送
手段と、露光手段とを備え、前記試料上のパターンを被
露光基板上に転写する露光装置に適用することも可能で
ある。

【００１１】

【作用】本発明は、平板状の試料がレチクルであって、
該レチクルを試料台としてのレチクルステージに対し保
持する走査型露光装置に適用した場合に、レチクル下面
のパターンの無い部分を従来の吸着手段によってレチク
ルステージに吸着するとともに、レチクル上面の被露光
部分とレチクルステージ上の適当な部分とをレチクルお
よびレチクルステージに対し物理的に分離し独立した独
立保持用具をもって、該レチクルをレチクルステージに
対して堅固に保持可能ならしめる。

【００１２】走査型露光装置のレチクルステージにこの
ようなレチクル保持装置を搭載することで、レチクルを
レチクルステージに安定した状態にて保持し、露光中に
レチクルの位置がずれるのを回避することができる。こ
れによって、走査型露光装置の転写精度を向上させ、高
速化による生産性の向上にも大きく貢献できる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下において、本発明の実施の形
態について、平板状の試料がレチクルであり、走査型露
光装置に適用する場合を例として、図面を参照しながら
詳細に説明する。 （実施の形態１）図１は本発明の第１の実施の形態に係
るレチクル保持装置を搭載した走査型露光装置のレチク
ルステージ部分を示す平面図、図２は図１の横断面図で
ある。図１において、レチクル１は、レチクル保持装置
を有する試料台としての移動台２上に保持される。移動
台２は、固定部に固定されている基盤３の上方に配置さ
れ、両側に設けられた駆動アクチュエータであるリニア
モータの互いに平行で真直に連続する両固定子４，４に
沿ってレチクル１の表面と平行な方向（図１中、上下方
向）に移動可能である。移動台２の両側にはリニアモー
タの各固定子４に対応する可動子５が配設されている。

【００１４】上記レチクル保持装置は、レチクル１およ
び移動台２に対し物理的に分離し独立した独立保持用具
Ｈ１を４箇所に有し、独立保持用具Ｈ１は独立部材６お
よび独立部材７と、これらの両独立部材６，７を連結す
るための板バネ８等とを備えている。図２に示すよう
に、独立部材６は移動台２に接する面に真空溝６ａが設
けられ、独立部材７はレチクル１に接する面に真空溝７
ａが設けられており、独立部材６および７の真空溝６
ａ，７ａ内の真空空間は、その真上近傍を通る真空チュ
ーブ９によって連通し、さらに、真空溝６ａ，７ａ内の
真空空間は、移動台２に設けられた真空供給路１９ａお
よびこれに連通接続された配管１９と真空バルブ制御装
置２０とを介して真空源２１に連通可能となっている。

【００１５】また、独立部材６および７は、材質が比重
の軽い金属、セラミックス等であることが望ましく、比
較的安価なアルミニウムを使用することもでき、独立部
材６が移動台と接触する接触面積の方が、独立部材７が
レチクル１と接触する接触面積よりも大きくなるように
寸法設定されている。

【００１６】板バネ８は、移動台２の移動する方向には
剛体として機能し、独立部材６と独立部材７とが相対的
に変位せず、移動台２の移動する方向に対し垂直方向
（図１において紙面に対して垂直な方向）には弾性体と
して機能し、独立部材６と独立部材７とが相対的に弾性
変位可能となるように、両独立部材６と７を連結してい
る。

【００１７】そして、この実施の形態に係るレチクル保
持装置は、両独立部材６，７と、板バネ８と、真空チュ
ーブ９を備えた独立保持用具Ｈ１に、従来と同様の真空
パッド２２による真空吸着を併用している。真空パッド
２２は、移動台２に設けられた真空供給路１８ａおよび
これに連通接続された配管１８と真空バルブ制御装置２
０とを介して真空源２１に連通可能になっている。

【００１８】本発明の上記実施の形態に係るレチクル保
持装置を備えた走査型露光装置は、移動台２上の反射鏡
１０、移動台２の方向へ向かうレーザー光の光軸上に固
定された干渉計１１，干渉計１１に配置された検出器１
２，露光用のレーザー光の光軸を直進と反射とに分割す
る光分割器１３、折曲げミラー１４等を有している。そ
して、移動台２の位置を計測するために、レーザーヘッ
ド１５から射出されたレーザー光は、光分割器１３によ
りレチクル１の中心軸上で移動台２の位置を計測する光
軸と直進する光軸とに分けられ、直進する光軸は中心軸
から離れた位置の光軸上に置かれた折曲げミラー１４に
より移動台２の方向へ折曲げられている。移動台２の方
向へ向かうこれらのレーザー光の各々の光軸上には干渉
計１１が固定されており、移動台２上には反射鏡１０が
搭載されている。各干渉計１１には検出器１２が配置さ
れ、これにより移動台２の位置と水平方向の回転とを計
測することができるようになっている。

【００１９】次に、図２を参照しつつ、上記レチクル保
持装置を備えた走査型露光装置の動作について説明す
る。移動台２は水平方向支持静圧パッド１６および垂直
方向支持静圧パッド１７を介して基盤３により垂直およ
び水平方向に非接触にて案内されており、図２における
紙面に対して垂直方向に移動可能となっている。

【００２０】今、露光装置の基準部に置かれた不図示の
レチクル基準マークに対して不図示のアライメント検出
およびレチクル駆動系によって、レチクル１を真空パッ
ド２２上に位置合わせした後、真空バルブ制御装置２０
を含む真空制御装置によって真空源２１から真空配管１
８および真空供給路１８ａを通して真空パッド２２を真
空にし、レチクル１を真空パッド２２に真空吸着する。
次に、両独立部材６，７と、板バネ８と、真空チューブ
９を備えた各独立保持用具Ｈ１を、不図示の搬送系によ
って、移動台２とレチクル１とに亘って設置する。独立
保持用具Ｈ１の搬送系は、レチクル搬送系と兼用するこ
とも可能である。

【００２１】ここで、真空制御装置によって、真空源２
１から真空配管１９および真空供給路１９ａを通して、
独立部材６と移動台２の接触する空間を真空とし、該独
立部材６を移動台２に対して真空吸着する。すると、真
空チューブ９によって独立部材７とレチクル１との接触
する空間も真空となり、この結果、レチクル１は真空パ
ッド２２とともに独立部材７によっても真空吸着され
る。この時、独立部材６と移動台２との接触面積は大き
く、従って、吸着力も大きく設定することができるの
で、ここでの滑りを無視すると、レチクル１を移動台２
の移動する方向に保持するレチクル保持力Ｆｈは、真空
パッド２２のレチクル吸着力をｆ１、独立部材７のレチ
クル吸着力をｆ２、レチクル１の下面と真空パッド２２
との摩擦係数をμ１、レチクル１の上面と独立部材７と
の摩擦係数をμ２とし、レチクル１の重量をＷとして、
独立部材７の重量を無視すると、下記数１式で表され
る。

【００２２】

【数１】 ここで、レチクル１の上面の吸着面積は、レチクル下面
の吸着面積に比べて制約が少ないことと、摩擦係数μ２
も表面加工等で大きくすることができるので、ｆ１とｆ
２、μ１とμ２の大小関係は下記数２式で表される。

【００２３】

【数２】 従って、数１式は下記数３式で表される。

【００２４】

【数３】 数３式から、この実施の形態に係るレチクル保持力Ｆｈ
は、従来の保持装置に比べて、レチクル重量を除いた部
分で２倍以上の大きさに設定することができると言え
る。

【００２５】露光を行なうために移動台２をウエハース
テージと同期して駆動する際に、移動台２の加減速時に
レチクル１に作用する力Ｆｒは、移動台２の加減速度を
αとすると、下記数４式で表される。

【００２６】

【数４】 このときレチクル１が位置ずれしないように保持するた
めにはＦｈ＞Ｆｒとなるように、独立部材７がレチクル
１の上面と接触する面積と真空度が設定されている。

【００２７】次に、露光が終了し、レチクル１を交換す
るときには、真空バルブ制御装置２０を含む真空制御装
置によって真空パッド２２および独立部材６への真空供
給を断ち、大気に解放する。この後、不図示のレチクル
搬送系により、独立保持用具Ｈ１およびレチクル１を搬
出し、レチクル１のみを交換する。

【００２８】この実施の形態によれば、独立部材６およ
び７は安価な材料で構成することができ、板バネ８は、
移動台２の移動する方向にのみ剛であればよいので、設
計が容易で簡単である。また、レチクル保持装置の独立
保持用具Ｈ１を構成する両独立部材６，７、板バネ８お
よび真空チューブ９は、部品点数も少なく材質も軽くす
ることができ、従来のレチクル搬送系を利用することが
可能である。さらに、真空源も従来のものを利用可能で
あるという利点がある。

【００２９】（実施の形態２）図３は本発明の第２の実
施の形態に係る試料保持装置のレチクルステージ部分を
示す横断面図である。この実施の形態では、独立保持用
具Ｈ２は、レチクル１を真空パッド２２に点接触によっ
て押し付けるための鋼球２５、移動台２へ真空吸着する
ための真空溝２３ａを有する独立部材２３、および鋼球
２５と独立部材２３とをつなぐ板バネ２４とを備えて構
成されている。真空溝２３ａ内の真空空間は、移動台２
に設けられた真空供給路１９ａおよびこれに連通接続さ
れた配管１９と真空バルブ制御装置２０とを介して真空
源２１に連通可能となっている。図３において、図２と
同一の部分には同一の符号を付けて示し、それらの部分
の重複説明を省略する。

【００３０】このレチクル保持装置において、独立部材
２３が移動台２に真空吸着されると、板バネが変形し、
鋼球２５はレチクル１を真空パッド２２に押し付ける。
従って、真空パッド２２はレチクル１を真空吸着しても
よいし、真空吸着せずに単にレチクル１の下面を支持す
るだけでもよい。板バネ２４は、独立部材２３と移動台
２との間に発生する吸着力を効率よくレチクル１を真空
パッド２２に押し付ける力に変換し、最大で吸着力の１
／２の力でレチクル１を真空パッド２２に押し付けるこ
とができる。

【００３１】この第２の実施の形態によれば、レチクル
１のパターンの無い限られた部分を真空吸着する方法に
比較して、制約の少ない移動台２上の平面と独立部材２
３の大きな吸着力を使って、レチクル１を真空パッド２
２に押し付けることができるので、レチクル１をより堅
固に保持することができる。

【００３２】（デバイス製造方法の係る実施の形態）次
に、上記レチクル保持装置を有するレチクルステージを
備えた走査型露光装置を利用して、デバイスを製造する
方法の一例について説明する。図４は半導体デバイス
（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、あるいは液晶パネル
やＣＣＤ等）の製造フローを示す図である。ステップ１
（回路設計）では、半導体デバイスの回路設計を行い、
ステップ２（マスク製作）では、設計した回路パターン
を形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエ
ハ製造）では、シリコン等の材料を用いてウエハを製造
する。

【００３３】ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と
呼ばれ、上述のステップで用意したマスクとウエハを用
いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路
を形成する。次のステップ５（組立て）は後工程と呼ば
れ、ステップ４によって製作されたウエハを用いて半導
体チップを作成する工程であり、アッセンブリ工程（ダ
イシング、ボンディング）、パッケージング工程（チッ
プ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）では、ス
テップ５で製作された半導体デバイスの動作確認テス
ト、耐久テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て
半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）さ
れる。

【００３４】図５は上記ウエハプロセス（ステップ４）
の詳細フローを示す図である。ステップ１１（酸化工
程）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（Ｃ
ＶＤ工程）ではウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステ
ップ１３（電極形成工程）ではウエハ上に電極を蒸着に
よって形成する。ステップ１４（イオン打込み工程）で
はウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト
処理工程）ではウエハに感光剤を塗布する。

【００３５】以上のようなウエハの表面処理工程を経
て、ステップ１６（露光工程）では上記本発明に係る走
査型露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに
焼付け露光する。次に、ステップ１７（現像工程）では
露光したウエハを現像し、ステップ１８（エッチング工
程）では、ステップ１７で現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。最後のステップ１９（レジスト剥離工
程）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取
り除く。

【００３６】また、上記ステップ１１〜１９を繰り返し
行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが
形成される。

【００３７】本発明の上記実施の形態に係るデバイス製
造方法を採用することによって、従来は製造が困難だっ
た高集積度の半導体デバイスを高い生産性で製造するこ
とができる。

【００３８】なお、本発明は、上記実施の形態によって
は限定されず、種々の変形および変更が可能である。例
えば、第２の実施の形態において、独立部材２３は移動
台２に対し真空吸着しているが、独立部材２３に磁石を
埋め込み、移動台２の対向する面を鉄等の磁性体または
磁石にして、磁気吸着方式にしてもよい。この場合、希
土類磁石を用いると吸着面において最大で５．５気圧程
度の吸着力を得ることもできる。また、真空中での使用
も可能となり、縮小Ｘ線露光装置等への適用も可能とな
る。独立保持用具Ｈ１，Ｈ２は、使用箇所数が４箇所に
限らず２箇所または３箇所でもよく、５箇所以上であっ
てもよい。

【００３９】

【発明の効果】本発明は、次のような効果を奏する。平
板状の試料を試料台に対し真空吸着する従来の方法とと
もに、その真空吸着源ないし磁石を吸着源として、試料
および試料台に対し物理的に分離し独立した独立保持用
具をもって、試料および試料台に対し堅固に安定保持す
ることができる。また、該独立保持用具は、試料および
試料台上に搭載した後、試料台上に吸着できるため、試
料搭載時に、試料に対して退避する等の複雑な機構を必
要とすることがない。かかる試料保持装置を用いた走査
型露光装置では、露光中に試料が位置ずれするのを回避
できるので、走査型露光装置の転写精度を向上させるこ
とができ、さらに、試料台を駆動するときの加速度を大
きく設定することができ、高速化によるデバイスの生産
性を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施の形態に係るレチクル保
持装置を搭載したレチクルステージ部分を示す平面図で
ある。

【図２】 図１のレチクルステージ部分の横断面図であ
る。

【図３】 本発明の第２の実施の形態に係るレチクル保
持装置を搭載したレチクルステージ部分の横断面図であ
る。

【図４】 本発明の実施の形態に係るレチクル保持装置
を搭載した露光装置を用いて半導体デバイスを製造する
方法のフローチャートである。

【図５】 図４のウエハプロセスの詳細なフローを示す
図である。

【図６】 従来のレチクル保持装置を用いた走査型露光
装置を示す立面図である。

【図７】 従来のレチクル保持装置の概略構成を示す斜
視図である。

【符号の説明】

Ｈ１：独立保持用具、Ｈ２：独立保持用具、１：レチク
ル、２：移動台、３：基盤、４：リニアモータの固定
子、５：リニアモータの可動子、６：独立部材、６ａ：
真空溝、７：独立部材、７ａ：真空溝、８：板バネ、
９：真空チューブ、１０：反射鏡、１１：干渉計、１
２：検出器、１３：光分割器、１４：折曲げミラー、１
５：レーザーヘッド、１６：水平方向静圧パッド、１
７：垂直方向静圧パッド、１８：配管、１８ａ：真空供
給路、１９：配管、１９ａ：真空供給路、２０：真空バ
ルブ制御装置、２１：真空源、２２：真空パッド、２
３：独立部材、２３ａ：真空溝、２４：板バネ、２５：
鋼球、２６：照明系、２７：投影系、２８：ウエハ、２
９：レチクルステージ、３０：レチクル位置計測レーザ
ー干渉計、３１：反射鏡、３２：ウエハチャック、３
３：ウエハステージ、３４：バーミラー、３５：ウエハ
位置計測レーザー干渉計、３６：アライメント検出系、
３７：構造体、３８：本体、３９：除振台。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平板状の試料を搭載して該試料の板面と
   平行な方向に移動可能な試料台の上に前記試料を保持す
   る試料保持装置において、前記試料および前記試料台に
   対し物理的に分離し独立した独立保持用具をもって、前
   記試料を前記試料台上に保持することを特徴とする試料
   保持装置。
2. 【請求項２】 平板状の試料を搭載して該試料の板面と
   平行な方向に移動可能な試料台の上に前記試料を保持す
   る試料保持装置において、前記試料を前記試料台上に直
   接真空吸着するとともに、前記試料および前記試料台に
   対し物理的に分離し独立した独立保持用具をもって、前
   記試料を前記試料台上に保持することを特徴とする試料
   保持装置。
3. 【請求項３】 前記独立保持用具は、真空吸着力によっ
   て前記試料を前記試料台上に保持することを特徴とする
   請求項１または２に記載の試料保持装置。
4. 【請求項４】 前記独立保持用具は、真空吸着力によっ
   て前記試料台に吸着されると同時に前記試料を前記試料
   台に押し付けることを特徴とする請求項１または２に記
   載の試料保持装置。
5. 【請求項５】 前記独立保持用具は、磁気吸引力によっ
   て前記試料台に吸着されると同時に、前記試料を前記試
   料台に押し付けることを特徴とする請求項１または２に
   記載の試料保持装置。
6. 【請求項６】 請求項１ないし４のいずれかに記載の試
   料保持装置を有する試料台と、真空吸引力を制御する真
   空供給制御手段と、前記独立保持用具を前記試料台上に
   搬送するための搬送手段と、露光手段とを有し、前記試
   料上のパターンを被露光基板上に転写することを特徴と
   する露光装置。
7. 【請求項７】 請求項５に記載の試料保持装置を有する
   試料台と、磁気吸引力を制御する磁気制御手段と、前記
   独立保持用具を前記試料台上に搬送する搬送手段と、露
   光手段とを備え、前記試料上のパターンを被露光基板上
   に転写することを特徴とする露光装置。