JP2000300931A - ガス処理装置 - Google Patents
ガス処理装置Info
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Landscapes
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理ガス中の目的成分濃度が高くこれを極微
量にするなど幅広い濃度のガスに対応できるガス処理装
置を提供する。 【解決手段】 処理ガス中に含まれる高濃度の目的成分
を除去するガス処理装置において、処理塔１０内に多段
にトレイ１６を設けてトレイ部１７を形成すると共にそ
のトレイ部１７の下方の処理塔１０に処理ガスの導入口
１３を形成すると共に頂部に排出口１４を形成し、処理
塔１０の底部に液溜め部１２を形成すると共にその液溜
め部１２の吸収液１１をトレイ部１７の上段に流す液循
環ライン２２を設け、トレイ部１７の下方に吸収液１１
と処理ガスを強制的に接触させるウイーピング段２３を
形成したものである。
量にするなど幅広い濃度のガスに対応できるガス処理装
置を提供する。 【解決手段】 処理ガス中に含まれる高濃度の目的成分
を除去するガス処理装置において、処理塔１０内に多段
にトレイ１６を設けてトレイ部１７を形成すると共にそ
のトレイ部１７の下方の処理塔１０に処理ガスの導入口
１３を形成すると共に頂部に排出口１４を形成し、処理
塔１０の底部に液溜め部１２を形成すると共にその液溜
め部１２の吸収液１１をトレイ部１７の上段に流す液循
環ライン２２を設け、トレイ部１７の下方に吸収液１１
と処理ガスを強制的に接触させるウイーピング段２３を
形成したものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、脱硫装置や吸収装
置などのガス処理装置に関するものである。
置などのガス処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ガス中の目的成分を吸収除去など
の処理を行う場合、スプレー方式とトレイ方式とが用い
られている。
の処理を行う場合、スプレー方式とトレイ方式とが用い
られている。
【０００３】スプレー方式は、処理ガス中に吸収液など
をスプレーして処理ガス中の目的成分と反応させて、処
理ガスから目的成分を吸収除去するもので、トレイ方式
は、複数の棚段の上段から吸収液を流し、棚段の下方か
ら処理ガスを流し、各棚段のトレイ部で吸収液と処理ガ
スを接触させて処理ガス中の目的成分を吸収除去するも
のである。
をスプレーして処理ガス中の目的成分と反応させて、処
理ガスから目的成分を吸収除去するもので、トレイ方式
は、複数の棚段の上段から吸収液を流し、棚段の下方か
ら処理ガスを流し、各棚段のトレイ部で吸収液と処理ガ
スを接触させて処理ガス中の目的成分を吸収除去するも
のである。
【０００４】このスプレー方式では、処理ガス中の目的
成分濃度が低い場合に有効であり、トレイ方式では目的
成分濃度が高い場合に有効である。
成分濃度が低い場合に有効であり、トレイ方式では目的
成分濃度が高い場合に有効である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、処理す
る目的成分が高濃度の場合、多段トレイ、スプレー塔ま
たは複数塔が必要であり、トレイ又はスプレー段或いは
塔を複数設置するため設備費が増大する問題がある。
る目的成分が高濃度の場合、多段トレイ、スプレー塔ま
たは複数塔が必要であり、トレイ又はスプレー段或いは
塔を複数設置するため設備費が増大する問題がある。
【０００６】また、操作圧力が常圧の場合、処理ガス温
度を下げてから処理装置内に導入する必要があるが、こ
のためには装置の前段にガス冷却器を設置する必要があ
り、コストが高くなる問題がある。
度を下げてから処理装置内に導入する必要があるが、こ
のためには装置の前段にガス冷却器を設置する必要があ
り、コストが高くなる問題がある。
【０００７】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、処理ガス中の目的成分濃度が高くこれを極微量にす
るなど幅広い濃度のガスに対応できるガス処理装置を提
供することにある。
し、処理ガス中の目的成分濃度が高くこれを極微量にす
るなど幅広い濃度のガスに対応できるガス処理装置を提
供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の発明は、処理ガス中に含まれる高濃度の
目的成分を除去するガス処理装置において、処理塔内に
多段にトレイを設けてトレイ部を形成すると共にそのト
レイ部の下方の処理塔に処理ガスの導入口を形成すると
共に頂部に排出口を形成し、処理塔の底部に液溜め部を
形成すると共にその液溜め部の吸収液をトレイ部の上段
に流す液循環ラインを設け、トレイ部の下方に吸収液と
処理ガスを強制的に接触させるウイーピング段を形成し
たガス処理装置である。
に、請求項１の発明は、処理ガス中に含まれる高濃度の
目的成分を除去するガス処理装置において、処理塔内に
多段にトレイを設けてトレイ部を形成すると共にそのト
レイ部の下方の処理塔に処理ガスの導入口を形成すると
共に頂部に排出口を形成し、処理塔の底部に液溜め部を
形成すると共にその液溜め部の吸収液をトレイ部の上段
に流す液循環ラインを設け、トレイ部の下方に吸収液と
処理ガスを強制的に接触させるウイーピング段を形成し
たガス処理装置である。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適一実施の形態
を添付図面に基づいて詳述する。
を添付図面に基づいて詳述する。
【００１０】図１において、１０は処理塔で、底部に、
吸収液１１の液溜め部１２が形成され、その液溜め部１
２の上方の処理塔１０の側面に処理ガスＧの導入口１３
が形成され、頂部に排出口１４が形成される。
吸収液１１の液溜め部１２が形成され、その液溜め部１
２の上方の処理塔１０の側面に処理ガスＧの導入口１３
が形成され、頂部に排出口１４が形成される。
【００１１】処理塔１０は、液溜め部１２より、処理ガ
スが流れる上部１５が縮径されて形成される。
スが流れる上部１５が縮径されて形成される。
【００１２】この処理塔１０の上部１５に、多段のトレ
イ１６からなるトレイ部１７が設けられる。
イ１６からなるトレイ部１７が設けられる。
【００１３】トレイ１６は、各段で左右交互に切り欠か
れると共にその切り欠き部に各段の吸収液を下方に流下
させるダウンカマー１８が設けられる。このダウンカマ
ー１８は、その上部で、そのトレイ１６上の吸収液層１
９の堰を形成すると共に下端が、下方の吸収液層１９に
浸ってトレイ１６間を上昇する処理ガスのシールを行う
と共に吸収液の流下路２０を形成するようになってい
る。
れると共にその切り欠き部に各段の吸収液を下方に流下
させるダウンカマー１８が設けられる。このダウンカマ
ー１８は、その上部で、そのトレイ１６上の吸収液層１
９の堰を形成すると共に下端が、下方の吸収液層１９に
浸ってトレイ１６間を上昇する処理ガスのシールを行う
と共に吸収液の流下路２０を形成するようになってい
る。
【００１４】最上段のトレイ１６には、液溜め部１２内
の吸収液１１が、循環ポンプ２１、循環ライン２２を介
して供給されるようになっている。
の吸収液１１が、循環ポンプ２１、循環ライン２２を介
して供給されるようになっている。
【００１５】トレイ部１７の下方には、吸収液１１を直
接液溜め部１２に流下させると共に処理ガスを通過させ
て強制的に気液接触させる多孔板からなるウイーピング
段２３が設けられる。
接液溜め部１２に流下させると共に処理ガスを通過させ
て強制的に気液接触させる多孔板からなるウイーピング
段２３が設けられる。
【００１６】このトレイ部１７では、その最上段のトレ
イ１６に供給された吸収液が、ダウンカマー１８から適
宜オーバーフローしながら順次下段のトレイ１６に流下
し、トレイ部１７からその下方のウイーピング段２３を
介して液溜め部１２に流下するようにされ、処理ガス
は、ウイーピング段２３を通り、トレイ部１７の各段の
トレイ１６を通って、その吸収液層１９内に吹き込まれ
て気液接触しながら上昇するようになっている。
イ１６に供給された吸収液が、ダウンカマー１８から適
宜オーバーフローしながら順次下段のトレイ１６に流下
し、トレイ部１７からその下方のウイーピング段２３を
介して液溜め部１２に流下するようにされ、処理ガス
は、ウイーピング段２３を通り、トレイ部１７の各段の
トレイ１６を通って、その吸収液層１９内に吹き込まれ
て気液接触しながら上昇するようになっている。
【００１７】次に、本実施の形態の作用を説明する先
ず、液溜め部１２内の吸収液１１は循環ポンプ２１、循
環ライン２２を介してトレイ部１７の上段のトレイ１６
上に供給されてトレイ１６上に吸収液層１９が形成さ
れ、適宜ダウンカマー１８からオーバーフローしながら
下段のトレイ１６に流下し、ウイーピング段２３で、シ
ャワー状になって液溜め部１２に落下する。
ず、液溜め部１２内の吸収液１１は循環ポンプ２１、循
環ライン２２を介してトレイ部１７の上段のトレイ１６
上に供給されてトレイ１６上に吸収液層１９が形成さ
れ、適宜ダウンカマー１８からオーバーフローしながら
下段のトレイ１６に流下し、ウイーピング段２３で、シ
ャワー状になって液溜め部１２に落下する。
【００１８】ガス導入口１３から導入された処理ガス
は、先ずウイーピング段２３からシャワー状に落下する
吸収液と接触し、更にそのウイーピング段２３を通過し
ながら吸収液と激しく接触することで、処理ガス温度が
下がり、その後トレイ部１７の各段のトレイ１６上に形
成された吸収液層１９を通って処理ガス中の目的成分が
吸収液に吸収されて除去され、排出口１４から排気され
る。
は、先ずウイーピング段２３からシャワー状に落下する
吸収液と接触し、更にそのウイーピング段２３を通過し
ながら吸収液と激しく接触することで、処理ガス温度が
下がり、その後トレイ部１７の各段のトレイ１６上に形
成された吸収液層１９を通って処理ガス中の目的成分が
吸収液に吸収されて除去され、排出口１４から排気され
る。
【００１９】通常、効能後の目的成分を吸収液で処理す
る場合は、初期は吸収液と処理ガスを激しく接触させた
方が有利であるが、全部が同じ接触状態では極低濃度ま
で処理しきれない。
る場合は、初期は吸収液と処理ガスを激しく接触させた
方が有利であるが、全部が同じ接触状態では極低濃度ま
で処理しきれない。
【００２０】そこで本発明のようにトレイ部１７の下方
を強制ウイーピング段２３として粗処理部とすること
で、そのウイーピング段２３で気液が激しく接触するこ
とによってガス温度を下げると共に吸収除去率を高め、
その後トレイ部１７で、吸収液層１９と接触させること
で極低濃度まで目的成分を除去することが可能となる。
を強制ウイーピング段２３として粗処理部とすること
で、そのウイーピング段２３で気液が激しく接触するこ
とによってガス温度を下げると共に吸収除去率を高め、
その後トレイ部１７で、吸収液層１９と接触させること
で極低濃度まで目的成分を除去することが可能となる。
【００２１】次により具体的な例を説明する。
【００２２】石炭ガス化複合発電（ＩＧＣＣ）において
は、ガス化炉で生成された石炭ガス化ガスを乾式脱硫し
た際、その脱硫剤の再生オフガスとして、特定成分とし
てＳＯ2 が数ｖｏｌ％（５〜６％）含んだ再生オフガス
が生成し、この再生オフガスを処理ガスとし、ＳＯ2 の
吸収除去として石灰石（ＣａＣＯ3 ）スラリーを吸収液
として処理する場合を説明する。
は、ガス化炉で生成された石炭ガス化ガスを乾式脱硫し
た際、その脱硫剤の再生オフガスとして、特定成分とし
てＳＯ2 が数ｖｏｌ％（５〜６％）含んだ再生オフガス
が生成し、この再生オフガスを処理ガスとし、ＳＯ2 の
吸収除去として石灰石（ＣａＣＯ3 ）スラリーを吸収液
として処理する場合を説明する。
【００２３】導入口１３から５〜６％のＳＯ2 を含んだ
処理ガス（再生オフガス，数１００℃）が、処理塔１０
内に導入され、ウイーピング段２３で激しく気液接触す
ることにより、１００℃以下に冷却され、トレイ部１７
の各トレイ１６上のＣａＣＯ3 スラリー吸収液と接触し
て、ＳＯ2 が亜硫酸石膏とされて吸収除去され、ＳＯ 2
の濃度が数１０ｐｐｍまでにされて排出口１４から排出
される。
処理ガス（再生オフガス，数１００℃）が、処理塔１０
内に導入され、ウイーピング段２３で激しく気液接触す
ることにより、１００℃以下に冷却され、トレイ部１７
の各トレイ１６上のＣａＣＯ3 スラリー吸収液と接触し
て、ＳＯ2 が亜硫酸石膏とされて吸収除去され、ＳＯ 2
の濃度が数１０ｐｐｍまでにされて排出口１４から排出
される。
【００２４】この際、トレイ部１７からウイーピング段
２３を通して落下した吸収液は、亜硫酸石膏となって液
溜め部１２に落下してくるが、液溜め部１２に酸化用の
空気を吹き込むことで亜硫酸石膏を石膏化させることが
できる。
２３を通して落下した吸収液は、亜硫酸石膏となって液
溜め部１２に落下してくるが、液溜め部１２に酸化用の
空気を吹き込むことで亜硫酸石膏を石膏化させることが
できる。
【００２５】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のごと
き優れた効果を発揮する。
き優れた効果を発揮する。
【００２６】（１）トレイ部の下方に処理ガスと吸収液
を激しく接触させるウイーピング段を設けることで、処
理ガスが高温でも冷却器が不要となりコストダウンが図
れる。
を激しく接触させるウイーピング段を設けることで、処
理ガスが高温でも冷却器が不要となりコストダウンが図
れる。
【００２７】（２）従来装置に比べて同じ性能を必要と
する場合、装置をコンパクトにすることができる。
する場合、装置をコンパクトにすることができる。
【図１】本発明の一実施の形態を示す図である。
１０ 処理塔 １１ 吸収液 １２ 液溜め部 １３ 導入口 １４ 排出口 １６ トレイ １７ トレイ部 ２２ 液循環ライン ２３ ウイーピング段
Claims (1)
- 【請求項１】 処理ガス中に含まれる高濃度の目的成分
を除去するガス処理装置において、処理塔内に多段にト
レイを設けてトレイ部を形成すると共にそのトレイ部の
下方の処理塔に処理ガスの導入口を形成すると共に頂部
に排出口を形成し、処理塔の底部に液溜め部を形成する
と共にその液溜め部の吸収液をトレイ部の上段に流す液
循環ラインを設け、トレイ部の下方に吸収液と処理ガス
を強制的に接触させるウイーピング段を形成したことを
特徴とするガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11109455A JP2000300931A (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11109455A JP2000300931A (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | ガス処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000300931A true JP2000300931A (ja) | 2000-10-31 |
Family
ID=14510681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11109455A Pending JP2000300931A (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000300931A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105451860A (zh) * | 2013-09-20 | 2016-03-30 | 斗山能捷斯有限责任公司 | 烟道气体净化装置的洗涤塔 |
| CN118122088A (zh) * | 2024-05-06 | 2024-06-04 | 青海华鑫再生资源有限公司 | 一种锌冶炼用均匀喷淋的酸雾净化装置 |
-
1999
- 1999-04-16 JP JP11109455A patent/JP2000300931A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105451860A (zh) * | 2013-09-20 | 2016-03-30 | 斗山能捷斯有限责任公司 | 烟道气体净化装置的洗涤塔 |
| US9776128B2 (en) | 2013-09-20 | 2017-10-03 | Doosan Lentjes Gmbh | Scrubber tower of a flue gas purification device |
| CN118122088A (zh) * | 2024-05-06 | 2024-06-04 | 青海华鑫再生资源有限公司 | 一种锌冶炼用均匀喷淋的酸雾净化装置 |
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