JP2000301082A - 処理装置 - Google Patents
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- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0451—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
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- H10P72/0406—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
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- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0451—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H10P72/0468—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
- Y10S134/902—Semiconductor wafer
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 装置の小型化及び処理効率の向上を図れるよ
うにした処理装置を提供すること。 【解決手段】 半導体ウエハＷを処理する処理液を貯留
する薬液処理槽２１ａ〜２１ｃと、半導体ウエハＷをリ
ンス処理するリンス液を貯留するリンス液処理槽２２ａ
〜２２ｃを、搬送チャック５の搬送方向に対して交差例
えば直交する方向に直列に配置し、薬液処理槽２１ａ〜
２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃと隣接する位置
に、搬送チャック５との間で半導体ウエハＷを受け渡す
と共に、受け取った半導体ウエハＷを薬液処理槽２１ａ
〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃに移送し、か
つ、各処理槽内に収容するウエハボート１４を配設す
る。これにより、装置の小型化を図ることができると共
に、処理効率の向上を図ることができる。
うにした処理装置を提供すること。 【解決手段】 半導体ウエハＷを処理する処理液を貯留
する薬液処理槽２１ａ〜２１ｃと、半導体ウエハＷをリ
ンス処理するリンス液を貯留するリンス液処理槽２２ａ
〜２２ｃを、搬送チャック５の搬送方向に対して交差例
えば直交する方向に直列に配置し、薬液処理槽２１ａ〜
２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃと隣接する位置
に、搬送チャック５との間で半導体ウエハＷを受け渡す
と共に、受け取った半導体ウエハＷを薬液処理槽２１ａ
〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃに移送し、か
つ、各処理槽内に収容するウエハボート１４を配設す
る。これにより、装置の小型化を図ることができると共
に、処理効率の向上を図ることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、処理装置に関す
るもので、更に詳細には、例えば半導体ウエハやＬＣＤ
用ガラス基板等の被処理体を処理例えば洗浄する処理装
置に関するものである。
るもので、更に詳細には、例えば半導体ウエハやＬＣＤ
用ガラス基板等の被処理体を処理例えば洗浄する処理装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体製造装置の製造工程にお
いては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理
体（以下にウエハという）を、処理液例えば薬液｛例え
ばアンモニア水やフッ化水素酸等｝やリンス液等が貯留
された処理室例えば処理槽に順次搬送し、処理液に浸漬
した後、リンス液に浸漬して、ウエハ体表面に付着した
パーティクルの除去や化学的，物理的に吸着したＮｉ，
Ｃｒ等の重金属あるいは自然酸化膜等を除去する処理装
置が採用されている。
いては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理
体（以下にウエハという）を、処理液例えば薬液｛例え
ばアンモニア水やフッ化水素酸等｝やリンス液等が貯留
された処理室例えば処理槽に順次搬送し、処理液に浸漬
した後、リンス液に浸漬して、ウエハ体表面に付着した
パーティクルの除去や化学的，物理的に吸着したＮｉ，
Ｃｒ等の重金属あるいは自然酸化膜等を除去する処理装
置が採用されている。
【０００３】この処理装置には、各処理液例えば薬液を
貯留する複数の薬液処理槽やリンス液例えば純水を貯留
する複数のリンス液処理槽と、上記各処理槽に対してウ
エハを搬送する搬送手段例えば搬送チャック等が具備さ
れており、各処理槽すなわち複数の薬液処理槽と複数の
リンス液処理槽等は、搬送チャックの搬送方向に沿って
直列に配置されている。そして、搬送チャックによって
ウエハを所定の薬液処理槽、リンス液処理槽に順次搬送
し、各処理槽の隣接位置に配設された移送手段例えばウ
エハボートによってウエハを処理液に浸漬した後、リン
ス液に浸漬して、ウエハ表面に付着したパーティクルの
除去や化学的，物理的に吸着したＮｉ，Ｃｒ等の重金属
あるいは自然酸化膜等を除去している。また、ウエハボ
ートを用いずに搬送チャックを昇降させてウエハを処理
液に浸漬した後、リンス液に浸漬して、ウエハ表面に付
着したパーティクルの除去や化学的，物理的に吸着した
Ｎｉ，Ｃｒ等の重金属あるいは自然酸化膜等を除去して
いる。
貯留する複数の薬液処理槽やリンス液例えば純水を貯留
する複数のリンス液処理槽と、上記各処理槽に対してウ
エハを搬送する搬送手段例えば搬送チャック等が具備さ
れており、各処理槽すなわち複数の薬液処理槽と複数の
リンス液処理槽等は、搬送チャックの搬送方向に沿って
直列に配置されている。そして、搬送チャックによって
ウエハを所定の薬液処理槽、リンス液処理槽に順次搬送
し、各処理槽の隣接位置に配設された移送手段例えばウ
エハボートによってウエハを処理液に浸漬した後、リン
ス液に浸漬して、ウエハ表面に付着したパーティクルの
除去や化学的，物理的に吸着したＮｉ，Ｃｒ等の重金属
あるいは自然酸化膜等を除去している。また、ウエハボ
ートを用いずに搬送チャックを昇降させてウエハを処理
液に浸漬した後、リンス液に浸漬して、ウエハ表面に付
着したパーティクルの除去や化学的，物理的に吸着した
Ｎｉ，Ｃｒ等の重金属あるいは自然酸化膜等を除去して
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の処理装置においては、薬液処理槽とリンス液処
理槽が搬送チャックの搬送方向と平行に直列に配置され
ているため、装置全体が被処理体の搬送方向に長くな
り、装置が大型化するばかりか、ウエハを各処理槽に搬
送するのに時間を要し、処理効率の低下をきたすという
問題があった。
この種の処理装置においては、薬液処理槽とリンス液処
理槽が搬送チャックの搬送方向と平行に直列に配置され
ているため、装置全体が被処理体の搬送方向に長くな
り、装置が大型化するばかりか、ウエハを各処理槽に搬
送するのに時間を要し、処理効率の低下をきたすという
問題があった。
【０００５】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、装置の小型化及び処理効率の向上を図れるようにし
た処理装置を提供することを目的とするものである。
で、装置の小型化及び処理効率の向上を図れるようにし
た処理装置を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の処理装置は、被処理体を処理する複数の
処理室と、 上記被処理体を保持して上記処理室に搬送
する搬送手段とを具備し、 上記複数の処理室を、互い
に隣接すると共に、上記搬送手段の搬送方向に対して交
差する方向に配置してなることを特徴とする（請求項
１）。
に、この発明の処理装置は、被処理体を処理する複数の
処理室と、 上記被処理体を保持して上記処理室に搬送
する搬送手段とを具備し、 上記複数の処理室を、互い
に隣接すると共に、上記搬送手段の搬送方向に対して交
差する方向に配置してなることを特徴とする（請求項
１）。
【０００７】また、この発明の処理装置は、被処理体を
装置に対して搬入又は搬出する搬入・搬出部と、 上記
被処理体を処理する複数の処理室と、 上記被処理体を
乾燥処理する乾燥処理室と、 上記搬入・搬出部と複数
の処理室との間において、上記被処理体を保持して上記
処理室、乾燥処理室に搬送する搬送手段とを具備し、上
記複数の処理室を、互いに隣接すると共に、上記搬送手
段の搬送方向に対して交差する方向に配置してなること
を特徴とする（請求項２）。
装置に対して搬入又は搬出する搬入・搬出部と、 上記
被処理体を処理する複数の処理室と、 上記被処理体を
乾燥処理する乾燥処理室と、 上記搬入・搬出部と複数
の処理室との間において、上記被処理体を保持して上記
処理室、乾燥処理室に搬送する搬送手段とを具備し、上
記複数の処理室を、互いに隣接すると共に、上記搬送手
段の搬送方向に対して交差する方向に配置してなること
を特徴とする（請求項２）。
【０００８】この発明において、上記複数の処理室を、
搬送手段の搬送方向に沿って、複数列に配列することも
可能である（請求項３）。
搬送手段の搬送方向に沿って、複数列に配列することも
可能である（請求項３）。
【０００９】また、上記処理室で被処理体を処理する際
に、被処理体を保持する保持手段を具備する方が好まし
い（請求項４）。この場合、上記保持手段を昇降可能に
形成する方が好ましく（請求項５）、また、保持手段を
複数の処理室間を移動可能に形成することも可能である
（請求項６）。
に、被処理体を保持する保持手段を具備する方が好まし
い（請求項４）。この場合、上記保持手段を昇降可能に
形成する方が好ましく（請求項５）、また、保持手段を
複数の処理室間を移動可能に形成することも可能である
（請求項６）。
【００１０】また、上記搬送手段との間で被処理体を受
け渡しすると共に、受け取った被処理体を複数の処理室
に移送可能な移送手段を配設することも可能である（請
求項７）。この場合、移送手段を昇降可能に形成する方
が好ましい（請求項８）。
け渡しすると共に、受け取った被処理体を複数の処理室
に移送可能な移送手段を配設することも可能である（請
求項７）。この場合、移送手段を昇降可能に形成する方
が好ましい（請求項８）。
【００１１】また、上記搬送手段の被処理体を保持する
保持部を、複数の処理室側へ伸縮自在に形成することに
より、上記複数の処理室へ被処理体を移送可能にするこ
とも可能である（請求項９）。この場合、上記保持部を
昇降可能に形成する方が好ましい（請求項１０）。
保持部を、複数の処理室側へ伸縮自在に形成することに
より、上記複数の処理室へ被処理体を移送可能にするこ
とも可能である（請求項９）。この場合、上記保持部を
昇降可能に形成する方が好ましい（請求項１０）。
【００１２】また、請求項１ないし１０のいずれかに記
載の処理装置において、 上記複数の処理室のうち、搬
送手段に近い処理室において、純水で被処理体を処理す
る方が好ましい（請求項１１）。
載の処理装置において、 上記複数の処理室のうち、搬
送手段に近い処理室において、純水で被処理体を処理す
る方が好ましい（請求項１１）。
【００１３】また、請求項７又は８記載の処理装置にお
いて、 上記複数の処理室のうち、少なくとも１つは純
水で被処理体を処理する処理室を備え、この純水で処理
する処理室の上部で、搬送手段と保持手段又は移送手段
との間で、被処理体の受け渡しを可能とする方が好まし
い（請求項１２）。
いて、 上記複数の処理室のうち、少なくとも１つは純
水で被処理体を処理する処理室を備え、この純水で処理
する処理室の上部で、搬送手段と保持手段又は移送手段
との間で、被処理体の受け渡しを可能とする方が好まし
い（請求項１２）。
【００１４】また、請求項１ないし１２のいずれかに記
載の処理装置において、 上記搬送手段の搬送路の両側
に、複数の処理室を配置することも可能である（請求項
１３）。
載の処理装置において、 上記搬送手段の搬送路の両側
に、複数の処理室を配置することも可能である（請求項
１３）。
【００１５】上記のように構成されるこの発明の処理装
置によれば、搬送手段の搬送方向の長さを短くすること
ができると共に、搬送手段によって搬送された被処理体
を１つの移送手段によって各処理室内に収容して処理す
ることができる。したがって、装置の小型化が図れると
共に、処理効率の向上を図ることができる。
置によれば、搬送手段の搬送方向の長さを短くすること
ができると共に、搬送手段によって搬送された被処理体
を１つの移送手段によって各処理室内に収容して処理す
ることができる。したがって、装置の小型化が図れると
共に、処理効率の向上を図ることができる。
【００１６】また、搬送手段の被処理体を保持する保持
部を、複数の処理室側へ伸縮自在に形成することによ
り、上記複数の処理室へ被処理体を移送可能にすること
により、移送手段を用いることなく搬送手段のみで、被
処理体を各処理室に移送することができるので、構成部
材の削減が図れると共に、更に装置の小型化及び処理効
率の向上が図れる。
部を、複数の処理室側へ伸縮自在に形成することによ
り、上記複数の処理室へ被処理体を移送可能にすること
により、移送手段を用いることなく搬送手段のみで、被
処理体を各処理室に移送することができるので、構成部
材の削減が図れると共に、更に装置の小型化及び処理効
率の向上が図れる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導
体ウエハの洗浄処理に適用した場合について説明する。
図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導
体ウエハの洗浄処理に適用した場合について説明する。
【００１８】◎第一実施形態 図１はこの発明の処理装置の一実施形態を示す概略平面
図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿う断面図、図３は第一実
施形態の概略斜視図、図４は第一実施形態の要部を示す
斜視図である。
図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿う断面図、図３は第一実
施形態の概略斜視図、図４は第一実施形態の要部を示す
斜視図である。
【００１９】上記処理装置は、被処理体である半導体ウ
エハＷ（以下にウエハＷという）を装置内に対して搬入
又は搬出する搬入・搬出部１と、ウエハＷを処理例えば
洗浄する処理部２と、処理例えば洗浄に使用される薬液
やリンス液等の薬品や圧送ガス等の処理流体を収容する
処理流体収容部３（以下に第１の収容部３という）と、
後述する搬送手段例えば搬送チャック５の駆動及び制御
信号を発する制御機器類を収容する制御機器類収容部４
（以下に第２の収容部４という）と、処理部２と第１及
び第２の収容部３，４とを分離すべく処理部２と第１及
び第２の収容部３，４との間に形成される保守・点検領
域６と、搬入・搬出部１と処理部２における保守・点検
領域６との境界に敷設される搬送路例えば搬送レール７
に沿って移動して、複数枚例えば５０枚のウエハＷを処
理部２に配設された後述する複数の処理室例えば薬液処
理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃに
対して搬送する搬送手段例えば搬送チャック５とを、壁
パネルにて外部と区画された１つのブロック１００内に
具備してなる。
エハＷ（以下にウエハＷという）を装置内に対して搬入
又は搬出する搬入・搬出部１と、ウエハＷを処理例えば
洗浄する処理部２と、処理例えば洗浄に使用される薬液
やリンス液等の薬品や圧送ガス等の処理流体を収容する
処理流体収容部３（以下に第１の収容部３という）と、
後述する搬送手段例えば搬送チャック５の駆動及び制御
信号を発する制御機器類を収容する制御機器類収容部４
（以下に第２の収容部４という）と、処理部２と第１及
び第２の収容部３，４とを分離すべく処理部２と第１及
び第２の収容部３，４との間に形成される保守・点検領
域６と、搬入・搬出部１と処理部２における保守・点検
領域６との境界に敷設される搬送路例えば搬送レール７
に沿って移動して、複数枚例えば５０枚のウエハＷを処
理部２に配設された後述する複数の処理室例えば薬液処
理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃに
対して搬送する搬送手段例えば搬送チャック５とを、壁
パネルにて外部と区画された１つのブロック１００内に
具備してなる。
【００２０】上記搬入・搬出部１には、未処理のウエハ
Ｗを収容するキャリア８ａと、処理済みのウエハＷを収
容するキャリア８ｂが載置されている。この搬入・搬出
部１と処理部２との間には、複数枚例えば５０枚の姿勢
を変換する姿勢変換手段９と、上記搬送チャック５との
間でウエハＷを受け渡すウエハ受け渡し手段１０とを具
備したインターフェース部１１と、キャリア８ａ及び８
ｂを搬入・搬出部１とインターフェース部１１との間で
受け渡しを行うキャリア搬送手段（図示省略）とが形成
されている。
Ｗを収容するキャリア８ａと、処理済みのウエハＷを収
容するキャリア８ｂが載置されている。この搬入・搬出
部１と処理部２との間には、複数枚例えば５０枚の姿勢
を変換する姿勢変換手段９と、上記搬送チャック５との
間でウエハＷを受け渡すウエハ受け渡し手段１０とを具
備したインターフェース部１１と、キャリア８ａ及び８
ｂを搬入・搬出部１とインターフェース部１１との間で
受け渡しを行うキャリア搬送手段（図示省略）とが形成
されている。
【００２１】上記処理部２には、搬入・搬出部１及びイ
ンターフェース部１１側から順に、搬送チャック洗浄・
乾燥ユニット１２、乾燥処理室を具備する乾燥処理ユニ
ット１３、第１の洗浄処理ユニット２０Ａ、第２の洗浄
処理ユニット２０Ｂ及び第３の洗浄処理ユニット２０Ｃ
が配置されている。この場合、搬送チャック洗浄・乾燥
ユニット１２と乾燥処理ユニット１３（乾燥処理室）は
搬送チャック５の搬送方向に交差例えば直交状に配置さ
れており、かつ、搬送レール７に対して直交する方向に
搬送チャック洗浄・乾燥ユニット１２と乾燥処理ユニッ
ト１３が直列に配置されている。
ンターフェース部１１側から順に、搬送チャック洗浄・
乾燥ユニット１２、乾燥処理室を具備する乾燥処理ユニ
ット１３、第１の洗浄処理ユニット２０Ａ、第２の洗浄
処理ユニット２０Ｂ及び第３の洗浄処理ユニット２０Ｃ
が配置されている。この場合、搬送チャック洗浄・乾燥
ユニット１２と乾燥処理ユニット１３（乾燥処理室）は
搬送チャック５の搬送方向に交差例えば直交状に配置さ
れており、かつ、搬送レール７に対して直交する方向に
搬送チャック洗浄・乾燥ユニット１２と乾燥処理ユニッ
ト１３が直列に配置されている。
【００２２】また、上記第１ないし第３の洗浄処理ユニ
ット２０Ａ〜２０Ｃは、それぞれ第１の処理室例えば薬
液処理槽２１ａ〜２１ｃと第２の処理室例えばリンス液
処理槽２２ａ〜２２ｃとを具備しており、第１ないし第
３の洗浄処理ユニット２０Ａ〜２０Ｃにおける薬液処理
槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃは、
それぞれ搬送チャック５の搬送方向に対して交差例えば
直交する方向に直列に配置されている。つまり、各洗浄
処理ユニット２０Ａ〜２０Ｃにおける薬液処理槽２１ａ
〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃが、互いに隣
接されると共に、搬送レール７に対して直交状に配置さ
れている。この場合、リンス液処理槽２２ａ〜２２ｃが
搬送レール７すなわち搬送チャック７側に配置され、そ
の先端側の隣接位置に薬液処理槽２１ａ〜２１ｃが配置
されている。
ット２０Ａ〜２０Ｃは、それぞれ第１の処理室例えば薬
液処理槽２１ａ〜２１ｃと第２の処理室例えばリンス液
処理槽２２ａ〜２２ｃとを具備しており、第１ないし第
３の洗浄処理ユニット２０Ａ〜２０Ｃにおける薬液処理
槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃは、
それぞれ搬送チャック５の搬送方向に対して交差例えば
直交する方向に直列に配置されている。つまり、各洗浄
処理ユニット２０Ａ〜２０Ｃにおける薬液処理槽２１ａ
〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃが、互いに隣
接されると共に、搬送レール７に対して直交状に配置さ
れている。この場合、リンス液処理槽２２ａ〜２２ｃが
搬送レール７すなわち搬送チャック７側に配置され、そ
の先端側の隣接位置に薬液処理槽２１ａ〜２１ｃが配置
されている。
【００２３】上記第１ないし第３の洗浄処理ユニット２
０Ａ〜２０Ｃの薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処
理槽２２ａ〜２２ｃの隣接する位置には、搬送チャック
５との間で複数例えば５０枚のウエハＷの受け渡しを行
い、受け取ったウエハＷを薬液処理槽２１ａ〜２１ｃと
リンス液処理槽２２ａ〜２２ｃ内に収容する移送手段例
えばウエハボート１４が配設されている（図３及び図４
参照）。この場合、ウエハボート１４は、図４に示すよ
うに、薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２
ａ〜２２ｃと平行に配設されたガイド体６１の水平移動
機構（図示せず）によって水平方向に移動する移動体６
０にブラケット６２を介して取り付けられており、移動
体６０に設けられた昇降機構（図示せず）によって薬液
処理槽２１ａ〜２１ｃ又はリンス液処理槽２２ａ〜２２
ｃに対してウエハＷを収容（搬入）又は引上げ（搬出）
可能に構成されている。したがって、リンス液処理槽２
２ａ〜２２ｃ内のリンス液に浸漬されて薬液等が除去さ
れたウエハボート１４を用いて、搬送チャック５との間
でウエハＷの受け渡しを行うことができる。
０Ａ〜２０Ｃの薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処
理槽２２ａ〜２２ｃの隣接する位置には、搬送チャック
５との間で複数例えば５０枚のウエハＷの受け渡しを行
い、受け取ったウエハＷを薬液処理槽２１ａ〜２１ｃと
リンス液処理槽２２ａ〜２２ｃ内に収容する移送手段例
えばウエハボート１４が配設されている（図３及び図４
参照）。この場合、ウエハボート１４は、図４に示すよ
うに、薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２
ａ〜２２ｃと平行に配設されたガイド体６１の水平移動
機構（図示せず）によって水平方向に移動する移動体６
０にブラケット６２を介して取り付けられており、移動
体６０に設けられた昇降機構（図示せず）によって薬液
処理槽２１ａ〜２１ｃ又はリンス液処理槽２２ａ〜２２
ｃに対してウエハＷを収容（搬入）又は引上げ（搬出）
可能に構成されている。したがって、リンス液処理槽２
２ａ〜２２ｃ内のリンス液に浸漬されて薬液等が除去さ
れたウエハボート１４を用いて、搬送チャック５との間
でウエハＷの受け渡しを行うことができる。
【００２４】上記のように、薬液処理槽２１ａ〜２１ｃ
とリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃを搬送チャック５の移
動方向と交差例えば直交する方向に配列することによ
り、搬送チャック５の移動方向の長さを小さくすること
ができると共に、処理装置の設置スペースを小さくする
ことができる。また、各洗浄処理ユニット２０Ａ〜２０
Ｃの薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ
〜２２ｃへのウエハＷの収容（搬入）、引上げ（搬出）
を共通のウエハボート１４で行うことができるので、各
処理槽毎にウエハボートを配設する場合に比べてウエハ
ボート１４の位置合わせの調整が容易となると共に、位
置精度を正確にすることができる。また、センサ類を省
くことができるので、構成部材の削減が図れる。
とリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃを搬送チャック５の移
動方向と交差例えば直交する方向に配列することによ
り、搬送チャック５の移動方向の長さを小さくすること
ができると共に、処理装置の設置スペースを小さくする
ことができる。また、各洗浄処理ユニット２０Ａ〜２０
Ｃの薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ
〜２２ｃへのウエハＷの収容（搬入）、引上げ（搬出）
を共通のウエハボート１４で行うことができるので、各
処理槽毎にウエハボートを配設する場合に比べてウエハ
ボート１４の位置合わせの調整が容易となると共に、位
置精度を正確にすることができる。また、センサ類を省
くことができるので、構成部材の削減が図れる。
【００２５】また、処理部２は、図２に示すように、仕
切壁１６によって保守・点検領域６と区画されており、
その天井面にはフィルタ手段としてのフィルタユニット
１７を介設した空気導入口１８が設けられ、処理部２の
下方には、図示しない排気手段例えば真空ポンプに接続
する排気口１９が設けられている。したがって、処理部
２内には常時清浄化されたクリーンな空気が供給されて
いる。なお、仕切壁１６の一部には、処理部２内を監視
できるように覗き窓２９が設けられている。
切壁１６によって保守・点検領域６と区画されており、
その天井面にはフィルタ手段としてのフィルタユニット
１７を介設した空気導入口１８が設けられ、処理部２の
下方には、図示しない排気手段例えば真空ポンプに接続
する排気口１９が設けられている。したがって、処理部
２内には常時清浄化されたクリーンな空気が供給されて
いる。なお、仕切壁１６の一部には、処理部２内を監視
できるように覗き窓２９が設けられている。
【００２６】上記処理部２内に配設される薬液処理槽２
１ａ〜２１ｃ及びリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃは、図
２に示すように、薬液又はリンス液等（図面では第１の
薬液又は第１のリンス液の場合を示す）を貯留する内槽
２４と内槽２４から溢流した薬液を受け止める外槽２５
とで構成されており、内槽２４の下方には、薬液供給ノ
ズル２６又はリンス液供給ノズル２６ａが配設されてい
る。薬液供給ノズル２６は、第１の収容部３内に配設さ
れた薬液供給源としての薬液タンク２７（薬品類）と供
給用の配管２８を介して接続されており、リンス液供給
ノズル２６ａは、同じく第１の収容部３内に配設された
リンス液例えば純水供給源２７ａと供給用の配管２８ａ
を介して接続されている。この場合、供給配管２８，２
８ａは、上記保守・点検領域６の下部に設けられた空間
３０内に配設されている。ここでは、第１の洗浄処理ユ
ニット２０Ａの薬液処理槽２１ａ及びリンス液処理槽２
２ａと薬液タンク２７及び純水供給源２７ａとの接続形
態について説明したが、他の洗浄処理ユニット２０Ｂ，
２０Ｃの供給配管２８，２８ａも同様に空間３０内に配
設されている。また、空間３０内には、第２の収容部４
内に収容された制御機器類と搬送チャック５の駆動部等
を接続する配線２８Ａも配設されている（図２参照）。
１ａ〜２１ｃ及びリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃは、図
２に示すように、薬液又はリンス液等（図面では第１の
薬液又は第１のリンス液の場合を示す）を貯留する内槽
２４と内槽２４から溢流した薬液を受け止める外槽２５
とで構成されており、内槽２４の下方には、薬液供給ノ
ズル２６又はリンス液供給ノズル２６ａが配設されてい
る。薬液供給ノズル２６は、第１の収容部３内に配設さ
れた薬液供給源としての薬液タンク２７（薬品類）と供
給用の配管２８を介して接続されており、リンス液供給
ノズル２６ａは、同じく第１の収容部３内に配設された
リンス液例えば純水供給源２７ａと供給用の配管２８ａ
を介して接続されている。この場合、供給配管２８，２
８ａは、上記保守・点検領域６の下部に設けられた空間
３０内に配設されている。ここでは、第１の洗浄処理ユ
ニット２０Ａの薬液処理槽２１ａ及びリンス液処理槽２
２ａと薬液タンク２７及び純水供給源２７ａとの接続形
態について説明したが、他の洗浄処理ユニット２０Ｂ，
２０Ｃの供給配管２８，２８ａも同様に空間３０内に配
設されている。また、空間３０内には、第２の収容部４
内に収容された制御機器類と搬送チャック５の駆動部等
を接続する配線２８Ａも配設されている（図２参照）。
【００２７】なお、上記内槽２４の底部に設けられた排
出口（図示せず）には第１のドレン弁３１を介設した第
１のドレン管３２が接続され、外槽２５の底部に設けら
れた排出口（図示せず）には第２のドレン弁３３を介設
した第２のドレン管３４が接続されている。そして、こ
れらドレン管３２，３４を介して排出された排液は、処
理部２の下部側方に接続された排液管路３６から外部に
排出されるように構成されている（図１参照）。
出口（図示せず）には第１のドレン弁３１を介設した第
１のドレン管３２が接続され、外槽２５の底部に設けら
れた排出口（図示せず）には第２のドレン弁３３を介設
した第２のドレン管３４が接続されている。そして、こ
れらドレン管３２，３４を介して排出された排液は、処
理部２の下部側方に接続された排液管路３６から外部に
排出されるように構成されている（図１参照）。
【００２８】一方、上記保守・点検領域６における搬入
・搬出部１と反対側の一側端には、作業員の出入口４０
が設けられており、この出入口４０に扉４１が開閉可能
に取り付けられている。この場合、図１に示すように、
出入口４０には扉４１の開放状態を検知する検出手段と
してのセンサ４２が配設されており、このセンサ４２か
らの検出信号が制御器４３に伝達され、制御器４３から
の制御信号が搬送チャック５の駆動部に伝達されて、扉
４１の開放状態には搬送チャック５の駆動が停止される
ように構成されている。なおここでは、説明上制御器４
３を処理装置の外に表示したが、制御器４３は上記第２
の収容部４内に収容されている。
・搬出部１と反対側の一側端には、作業員の出入口４０
が設けられており、この出入口４０に扉４１が開閉可能
に取り付けられている。この場合、図１に示すように、
出入口４０には扉４１の開放状態を検知する検出手段と
してのセンサ４２が配設されており、このセンサ４２か
らの検出信号が制御器４３に伝達され、制御器４３から
の制御信号が搬送チャック５の駆動部に伝達されて、扉
４１の開放状態には搬送チャック５の駆動が停止される
ように構成されている。なおここでは、説明上制御器４
３を処理装置の外に表示したが、制御器４３は上記第２
の収容部４内に収容されている。
【００２９】なお、上記説明では、搬入・搬出部１と出
入口４０とを対向する側に配設した場合について説明し
たが、必ずしも搬入・搬出部１と出入口４０とを対向す
る側に配設する必要はなく、ブロック１００の少なくと
も１箇所に開口部を設け、この開口部に搬入・搬出部１
を設けるようにしてもよい。この場合、開口部をブロッ
ク１００の対向する２箇所に設けて、各開口部に搬入・
搬出部１を設けて双方向からウエハＷの搬入及び搬出を
行うこともできる。
入口４０とを対向する側に配設した場合について説明し
たが、必ずしも搬入・搬出部１と出入口４０とを対向す
る側に配設する必要はなく、ブロック１００の少なくと
も１箇所に開口部を設け、この開口部に搬入・搬出部１
を設けるようにしてもよい。この場合、開口部をブロッ
ク１００の対向する２箇所に設けて、各開口部に搬入・
搬出部１を設けて双方向からウエハＷの搬入及び搬出を
行うこともできる。
【００３０】上記第１の収容部３と第２の収容部４は２
段に形成されており、上段に制御機器類を収容する第２
の収容部４が位置し、下段に薬品類や圧送ガス等の処理
流体を収容する第１の収容部３が位置している。なお、
第１及び第２の収容部３，４と隣接する位置には、上記
処理部２内に配設される乾燥処理ユニット１３に供給さ
れる乾燥ガスの供給源であるイソプロピルアルコール
（ＩＰＡ）のタンク、ＩＰＡガス生成器等のＩＰＡユニ
ット４４が配設されている。このＩＰＡユニット４４と
乾燥処理ユニット１３とを接続する配管も上記配管２８
と同様に保守・点検領域６の下部に形成された空間３０
内に配設されている。
段に形成されており、上段に制御機器類を収容する第２
の収容部４が位置し、下段に薬品類や圧送ガス等の処理
流体を収容する第１の収容部３が位置している。なお、
第１及び第２の収容部３，４と隣接する位置には、上記
処理部２内に配設される乾燥処理ユニット１３に供給さ
れる乾燥ガスの供給源であるイソプロピルアルコール
（ＩＰＡ）のタンク、ＩＰＡガス生成器等のＩＰＡユニ
ット４４が配設されている。このＩＰＡユニット４４と
乾燥処理ユニット１３とを接続する配管も上記配管２８
と同様に保守・点検領域６の下部に形成された空間３０
内に配設されている。
【００３１】上記のように構成される処理装置によれ
ば、保守・点検領域６を介して処理部２と第１及び第２
の収容部３，４とを分離して設けるので、処理装置の外
部に保守・点検用のスペースを設けることなく、処理装
置を設置することができる。また、例えば薬液類の交換
や制御機器類の点検等、あるいは処理部２内の処理の点
検・監視等を行う場合には、保守・点検領域６内で作業
することができるので、交換、点検等の作業が容易であ
る。この場合、保守・点検領域６の扉４１を開放する
と、センサ４２が検知して、その信号を制御器４３に伝
達し、制御器４３からの制御信号によって搬送チャック
５の駆動が停止するので、作業者は安全に交換、点検等
の作業を行うことができる。
ば、保守・点検領域６を介して処理部２と第１及び第２
の収容部３，４とを分離して設けるので、処理装置の外
部に保守・点検用のスペースを設けることなく、処理装
置を設置することができる。また、例えば薬液類の交換
や制御機器類の点検等、あるいは処理部２内の処理の点
検・監視等を行う場合には、保守・点検領域６内で作業
することができるので、交換、点検等の作業が容易であ
る。この場合、保守・点検領域６の扉４１を開放する
と、センサ４２が検知して、その信号を制御器４３に伝
達し、制御器４３からの制御信号によって搬送チャック
５の駆動が停止するので、作業者は安全に交換、点検等
の作業を行うことができる。
【００３２】◎第二実施形態 図５はこの発明の処理装置の第二実施形態の要部を示す
概略斜視図、図６は第二実施形態における搬送手段（搬
送チャック）を示す斜視図である。
概略斜視図、図６は第二実施形態における搬送手段（搬
送チャック）を示す斜視図である。
【００３３】第二実施形態は、上記第一実施形態と同様
に、装置の小型化を図ると共に、処理効率の向上を図れ
るようにした場合である。この場合、上記第一実施形態
と同様に、処理部２と保守・点検領域６との境界部に敷
設された搬送レール７に摺動自在に装着される搬送チャ
ック５は、図６に示すように、搬送レール７上を走行す
るチャック本体５ａと、このチャック本体５ａの側方か
ら上記薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２
ａ〜２２ｃの上方へ伸縮する一対の伸縮アーム５ｂと、
両伸縮アーム５ｂの先端同士を連結する連結板５ｃを介
して伸縮アーム５ｂに取り付けられるウエハ保持部５ｄ
とで構成されている。
に、装置の小型化を図ると共に、処理効率の向上を図れ
るようにした場合である。この場合、上記第一実施形態
と同様に、処理部２と保守・点検領域６との境界部に敷
設された搬送レール７に摺動自在に装着される搬送チャ
ック５は、図６に示すように、搬送レール７上を走行す
るチャック本体５ａと、このチャック本体５ａの側方か
ら上記薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２
ａ〜２２ｃの上方へ伸縮する一対の伸縮アーム５ｂと、
両伸縮アーム５ｂの先端同士を連結する連結板５ｃを介
して伸縮アーム５ｂに取り付けられるウエハ保持部５ｄ
とで構成されている。
【００３４】また、上記薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリ
ンス液処理槽２２ａ〜２２ｃの各隣接位置に、搬送チャ
ック５との間で複数枚例えば５０枚のウエハＷの受け渡
しすると共に、受け取ったウエハＷを薬液処理槽２１ａ
〜２１ｃ又はリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃ内に収容す
るウエハボート１４が配設されている。
ンス液処理槽２２ａ〜２２ｃの各隣接位置に、搬送チャ
ック５との間で複数枚例えば５０枚のウエハＷの受け渡
しすると共に、受け取ったウエハＷを薬液処理槽２１ａ
〜２１ｃ又はリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃ内に収容す
るウエハボート１４が配設されている。
【００３５】上記のように構成することにより、搬送チ
ャック５の搬送方向の長さを短くすることができ、ま
た、搬送チャック５のウエハ保持部５ｄを伸縮すること
によってウエハＷを薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス
液処理槽２２ａ〜２２ｃの上方に移送し、ウエハボート
１４にて薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２
２ａ〜２２ｃ内に収容して処理することができる。した
がって、装置の小型化が図れると共に、処理効率の向上
を図ることができる。
ャック５の搬送方向の長さを短くすることができ、ま
た、搬送チャック５のウエハ保持部５ｄを伸縮すること
によってウエハＷを薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス
液処理槽２２ａ〜２２ｃの上方に移送し、ウエハボート
１４にて薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２
２ａ〜２２ｃ内に収容して処理することができる。した
がって、装置の小型化が図れると共に、処理効率の向上
を図ることができる。
【００３６】なお、第二実施形態において、その他の部
分は、上記第一実施形態と同じであるので、同一部分に
は同一符号を付して、説明は省略する。
分は、上記第一実施形態と同じであるので、同一部分に
は同一符号を付して、説明は省略する。
【００３７】◎第三実施形態 図７はこの発明の処理装置の第三実施形態を示す概略平
面図、図８は第三実施形態における搬送手段（搬送チャ
ック）の要部を示す斜視図である。
面図、図８は第三実施形態における搬送手段（搬送チャ
ック）の要部を示す斜視図である。
【００３８】第三実施形態は、搬送手段（搬送チャッ
ク）に移送手段（ウエハボート）の機能を具備させた場
合である。この場合、搬送チャック５は、図８に示すよ
うに、搬送レール７上を図８においてＸ方向に走行する
と共に、図示しない昇降機構によって垂直方向（図８に
おいてＺ方向）に昇降可能なチャック本体５ａと、この
チャック本体５ａの側方から上記薬液処理槽２１ａ〜２
１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃ側の上部方向（図
８のＹ方向）へ伸縮すると共に、互いに正逆方向（図８
においてθ方向）に回転する一対の伸縮アーム５ｅと、
両伸縮アーム５ｅの先端部と基端部にそれぞれ垂下され
る支持部材５ｆの下端部間に架設される保持棒５ｇ（ウ
エハ保持部）とで主に構成されており、両保持棒５ｇに
適宜間隔をおいて列設される保持溝（図示せず）にウエ
ハＷを周辺部を支持した状態で複数枚例えば５０枚のウ
エハＷが垂直状態に保持されるようになっている。
ク）に移送手段（ウエハボート）の機能を具備させた場
合である。この場合、搬送チャック５は、図８に示すよ
うに、搬送レール７上を図８においてＸ方向に走行する
と共に、図示しない昇降機構によって垂直方向（図８に
おいてＺ方向）に昇降可能なチャック本体５ａと、この
チャック本体５ａの側方から上記薬液処理槽２１ａ〜２
１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃ側の上部方向（図
８のＹ方向）へ伸縮すると共に、互いに正逆方向（図８
においてθ方向）に回転する一対の伸縮アーム５ｅと、
両伸縮アーム５ｅの先端部と基端部にそれぞれ垂下され
る支持部材５ｆの下端部間に架設される保持棒５ｇ（ウ
エハ保持部）とで主に構成されており、両保持棒５ｇに
適宜間隔をおいて列設される保持溝（図示せず）にウエ
ハＷを周辺部を支持した状態で複数枚例えば５０枚のウ
エハＷが垂直状態に保持されるようになっている。
【００３９】上記のように構成される搬送チャック５を
用いることにより、伸縮アーム５ｅを伸縮して、搬送チ
ャック５によって保持される複数枚例えば５０枚のウエ
ハＷを、薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２
２ａ〜２２ｃの上方に移送すると共に、搬送チャック本
体５ａを昇降し、かつ、伸縮アーム５ｅを正逆回転し
て、ウエハＷを薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処
理槽２２ａ〜２２ｃ内に配設される保持部（図示せず）
に受け渡し、又は受け取って収容（搬入）及び搬出する
ことができる。したがって、図７に示すように、薬液処
理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃの
隣接位置にウエハボート１４を配設する必要がなく、搬
送チャック５のみでウエハＷの薬液処理とリンス処理を
行うことができる。
用いることにより、伸縮アーム５ｅを伸縮して、搬送チ
ャック５によって保持される複数枚例えば５０枚のウエ
ハＷを、薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２
２ａ〜２２ｃの上方に移送すると共に、搬送チャック本
体５ａを昇降し、かつ、伸縮アーム５ｅを正逆回転し
て、ウエハＷを薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処
理槽２２ａ〜２２ｃ内に配設される保持部（図示せず）
に受け渡し、又は受け取って収容（搬入）及び搬出する
ことができる。したがって、図７に示すように、薬液処
理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃの
隣接位置にウエハボート１４を配設する必要がなく、搬
送チャック５のみでウエハＷの薬液処理とリンス処理を
行うことができる。
【００４０】なお、第三実施形態において、その他の部
分は上記第一実施形態及び第二実施形態と同じであるの
で、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
分は上記第一実施形態及び第二実施形態と同じであるの
で、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００４１】◎第四実施形態 上記実施形態では、搬送レール７（搬送路）の片側に、
複数の処理室である薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス
液処理槽２２ａ〜２２ｃを、互いに隣接した状態に配置
した場合について説明したが、図９に示す第四実施形態
のように、搬送レール７（搬送路）の両側に同様に複数
の処理室である薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処
理室２２ａ〜２２ｃとを、互いに隣接した状態に配置し
てもよい。
複数の処理室である薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス
液処理槽２２ａ〜２２ｃを、互いに隣接した状態に配置
した場合について説明したが、図９に示す第四実施形態
のように、搬送レール７（搬送路）の両側に同様に複数
の処理室である薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処
理室２２ａ〜２２ｃとを、互いに隣接した状態に配置し
てもよい。
【００４２】なお、搬送レール７の両側に薬液処理槽２
１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃを配置す
る場合は、搬送チャック５を両側に向くように水平方向
に回転可能（図９において、α方向に回転可能）に形成
して、１台の搬送チャック５によってウエハＷを搬送す
ることができる。この場合、移送手段であるウエハボー
ト１４は、上記第一実施形態と同様に、搬送チャック５
との間でウエハＷの受け渡しを行い、受け取ったウエハ
Ｗを薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ
〜２２ｃ内に収容するように配設されている。
１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃを配置す
る場合は、搬送チャック５を両側に向くように水平方向
に回転可能（図９において、α方向に回転可能）に形成
して、１台の搬送チャック５によってウエハＷを搬送す
ることができる。この場合、移送手段であるウエハボー
ト１４は、上記第一実施形態と同様に、搬送チャック５
との間でウエハＷの受け渡しを行い、受け取ったウエハ
Ｗを薬液処理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ
〜２２ｃ内に収容するように配設されている。
【００４３】上記説明では、ウエハボート１４が薬液処
理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃ間
を移動してウエハＷを各処理槽２１ａ〜２１ｃ，２２ａ
〜２２ｃ内に収容する場合について説明したが、上記第
二実施形態と同様に、搬送チャック５のウエハ保持部５
ａを伸縮可能に形成し、各処理槽２１ａ〜２１ｃ，２２
ａ〜２２ｃと隣接する位置にそれぞれウエハボート１４
を配設してもよい。また、上記第三実施形態と同様に、
ウエハボート１４を用いずに、搬送チャック５のウエハ
保持部例えば保持棒５ｇを伸縮及び昇降可能に形成し
て、ウエハＷを各処理槽２１ａ〜２１ｃ，２２ａ〜２２
ｃ内に収容するようにしてもよい。
理槽２１ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃ間
を移動してウエハＷを各処理槽２１ａ〜２１ｃ，２２ａ
〜２２ｃ内に収容する場合について説明したが、上記第
二実施形態と同様に、搬送チャック５のウエハ保持部５
ａを伸縮可能に形成し、各処理槽２１ａ〜２１ｃ，２２
ａ〜２２ｃと隣接する位置にそれぞれウエハボート１４
を配設してもよい。また、上記第三実施形態と同様に、
ウエハボート１４を用いずに、搬送チャック５のウエハ
保持部例えば保持棒５ｇを伸縮及び昇降可能に形成し
て、ウエハＷを各処理槽２１ａ〜２１ｃ，２２ａ〜２２
ｃ内に収容するようにしてもよい。
【００４４】なお、第四実施形態において、その他の部
分は、上記第一ないし第三実施形態と同じであるので、
同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
分は、上記第一ないし第三実施形態と同じであるので、
同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００４５】◎その他の実施形態 上記実施形態では、複数の処理室である薬液処理槽２１
ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃの２槽を隣
接する場合について説明したが、２槽以上例えば３槽あ
るいは４槽等を互いに隣接して配置するようにしてもよ
い。
ａ〜２１ｃとリンス液処理槽２２ａ〜２２ｃの２槽を隣
接する場合について説明したが、２槽以上例えば３槽あ
るいは４槽等を互いに隣接して配置するようにしてもよ
い。
【００４６】また、上記実施形態では、この発明の処理
装置を半導体ウエハの処理装置に適用した場合について
説明したが、半導体ウエハ以外のＬＣＤ用ガラス基板等
にも適用できることは勿論である。
装置を半導体ウエハの処理装置に適用した場合について
説明したが、半導体ウエハ以外のＬＣＤ用ガラス基板等
にも適用できることは勿論である。
【００４７】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、搬送手段の搬送方向の長さを短くすることができる
と共に、搬送手段によって搬送された被処理体を１つの
移送手段によって各処理室内に収容して処理することが
できるので、装置の小型化が図れると共に、処理効率の
向上を図ることができる。
ば、搬送手段の搬送方向の長さを短くすることができる
と共に、搬送手段によって搬送された被処理体を１つの
移送手段によって各処理室内に収容して処理することが
できるので、装置の小型化が図れると共に、処理効率の
向上を図ることができる。
【００４８】また、搬送手段の被処理体を保持する保持
部を、複数の処理室側へ伸縮自在に形成することによ
り、上記複数の処理室へ被処理体を移送可能にすること
により、移送手段を用いることなく搬送手段のみで、被
処理体を各処理室に移送することができるので、構成部
材の削減が図れると共に、更に装置の小型化及び処理効
率の向上が図れる。
部を、複数の処理室側へ伸縮自在に形成することによ
り、上記複数の処理室へ被処理体を移送可能にすること
により、移送手段を用いることなく搬送手段のみで、被
処理体を各処理室に移送することができるので、構成部
材の削減が図れると共に、更に装置の小型化及び処理効
率の向上が図れる。
【図１】この発明の処理装置の一実施形態を示す概略平
面図である。
面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図３】第一実施形態の概略斜視図である。
【図４】第一実施形態の要部を示す斜視図である。
【図５】この発明の処理装置の第二実施形態の要部を示
す概略斜視図である。
す概略斜視図である。
【図６】第二実施形態における搬送チャックを示す斜視
図である。
図である。
【図７】この発明の処理装置の第三実施形態を示す概略
平面図である。
平面図である。
【図８】第三実施形態における搬送チャックを示す斜視
図である。
図である。
【図９】この発明の処理装置の第四実施形態の要部を示
す概略平面図である。
す概略平面図である。
【符号の説明】 Ｗ 半導体ウエハ（被処理体） ２ 処理部 ５ 搬送チャック（搬送手段） ５ｂ 伸縮アーム ５ｄ ウエハ保持部 ５ｅ 伸縮アーム ５ｇ 保持棒（ウエハ保持部） ７ 搬送レール（搬送路） １４ ウエハボート（移送手段） ２１ａ〜２１ｃ 薬液処理槽（第１の処理槽） ２２ａ〜２２ｃ リンス液処理槽（第２の処理槽）
Claims (13)
- 【請求項１】 被処理体を処理する複数の処理室と、 上記被処理体を保持して上記処理室に搬送する搬送手段
とを具備し、 上記複数の処理室を、互いに隣接すると共に、上記搬送
手段の搬送方向に対して交差する方向に配置してなるこ
とを特徴とする処理装置。 - 【請求項２】 被処理体を装置に対して搬入又は搬出す
る搬入・搬出部と、 上記被処理体を処理する複数の処理室と、 上記被処理体を乾燥処理する乾燥処理室と、 上記搬入・搬出部と複数の処理室との間において、上記
被処理体を保持して上記処理室、乾燥処理室に搬送する
搬送手段とを具備し、 上記複数の処理室を、互いに隣接すると共に、上記搬送
手段の搬送方向に対して交差する方向に配置してなるこ
とを特徴とする処理装置。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の処理装置におい
て、 上記複数の処理室を、搬送手段の搬送方向に沿って、複
数列に配列してなることを特徴とする処理装置。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の処
理装置において、 上記処理室で被処理体を処理する際に、被処理体を保持
する保持手段を具備することを特徴とする処理装置。 - 【請求項５】 請求項４記載の処理装置において、 上記保持手段を昇降可能に形成してなることを特徴とす
る処理装置。 - 【請求項６】 請求項４又は５記載の処理装置におい
て、 上記保持手段を、複数の処理室間を移動可能に形成して
なることを特徴とする処理装置。 - 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれかに記載の処
理装置において、 上記搬送手段との間で被処理体を受け渡しすると共に、
受け取った被処理体を複数の処理室に移送可能な移送手
段を配設してなることを特徴とする処理装置。 - 【請求項８】 請求項７記載の処理装置において、 上記移送手段を、昇降可能に形成してなることを特徴と
する処理装置。 - 【請求項９】 請求項１ないし８のいずれかに記載の処
理装置において、 上記搬送手段の被処理体を保持する保持部を、複数の処
理室側へ伸縮自在に形成することにより、上記複数の処
理室へ被処理体を移送可能にすることを特徴とする処理
装置。 - 【請求項１０】 請求項９記載の処理装置において、 上記保持部を、昇降可能に形成してなることを特徴とす
る処理装置。 - 【請求項１１】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
の処理装置において、 上記複数の処理室のうち、搬送手段に近い処理室におい
て、純水で被処理体を処理するようにしたことを特徴と
する処理装置。 - 【請求項１２】 請求項７又は８記載の処理装置におい
て、 上記複数の処理室のうち、少なくとも１つは純水で被処
理体を処理する処理室を備え、この純水で処理する処理
室の上部で、搬送手段と保持手段又は移送手段との間
で、被処理体の受け渡しを可能としたことを特徴とする
処理装置。 - 【請求項１３】 請求項１ないし１２のいずれかに記載
の処理装置において、 上記搬送手段の搬送路の両側に、複数の処理室を配置し
てなることを特徴とする処理装置。
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