JP2000310759A - 液晶表示素子製造装置および方法 - Google Patents
液晶表示素子製造装置および方法Info
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- JP2000310759A JP2000310759A JP11121236A JP12123699A JP2000310759A JP 2000310759 A JP2000310759 A JP 2000310759A JP 11121236 A JP11121236 A JP 11121236A JP 12123699 A JP12123699 A JP 12123699A JP 2000310759 A JP2000310759 A JP 2000310759A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 対向する位置に配置された２枚の基板を破損
することなく精度良く貼り合わせることができる液晶表
示素子製造装置を提供する。 【解決手段】 上面に接着剤１が塗布され液晶材料２が
滴下された下基板３を大気雰囲気中にて真空容器Ｃ内に
配置して下側の全面を真空吸着で固定し、下基板３に対
向するように所定の間隔で上基板６を配置して上側の全
面を真空吸着して固定し、真空雰囲気中にて両方又は一
方の基板３、６を接近移動させて相互に加圧し、両基板
３、６を貼り合わせるようにした液晶表示素子製造装置
において、上基板６の上側全面を真空吸着する吸着機構
７に複数の吸着系統７ａ、７ｂを設けて、大気中で上基
板６を吸着固定する時の吸着力を抑制し、上基板６の破
損を防止するようにした。
することなく精度良く貼り合わせることができる液晶表
示素子製造装置を提供する。 【解決手段】 上面に接着剤１が塗布され液晶材料２が
滴下された下基板３を大気雰囲気中にて真空容器Ｃ内に
配置して下側の全面を真空吸着で固定し、下基板３に対
向するように所定の間隔で上基板６を配置して上側の全
面を真空吸着して固定し、真空雰囲気中にて両方又は一
方の基板３、６を接近移動させて相互に加圧し、両基板
３、６を貼り合わせるようにした液晶表示素子製造装置
において、上基板６の上側全面を真空吸着する吸着機構
７に複数の吸着系統７ａ、７ｂを設けて、大気中で上基
板６を吸着固定する時の吸着力を抑制し、上基板６の破
損を防止するようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、パーソナルコンピ
ュータやＴＶ受像機等の画像表示パネルとして用いられ
る液晶表示素子の製造装置および方法に関するものであ
る。
ュータやＴＶ受像機等の画像表示パネルとして用いられ
る液晶表示素子の製造装置および方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の液晶表示素子の製造装置につい
て、図７〜図１０を参照して説明する。
て、図７〜図１０を参照して説明する。
【０００３】液晶表示素子の構造は、図７に示すよう
に、対向配置された透光性材料からなる下基板１１と上
基板１２との間に一定ギャップを保つとともに、その間
の空間に液晶材料１３を充填した状態で両者が紫外線硬
化型の接着剤１４にて貼り合わされている。接着剤１４
には下基板１１と上基板１２の間隔を一定に保つための
スペーサ１５（径５μｍ）が含まれている。
に、対向配置された透光性材料からなる下基板１１と上
基板１２との間に一定ギャップを保つとともに、その間
の空間に液晶材料１３を充填した状態で両者が紫外線硬
化型の接着剤１４にて貼り合わされている。接着剤１４
には下基板１１と上基板１２の間隔を一定に保つための
スペーサ１５（径５μｍ）が含まれている。
【０００４】このように液晶材料１３を接着剤１４の内
側に配置する一方法として、図８に示すように、下基板
１１に接着剤１４を厚み３０μｍで塗布した後（工程
ａ）、接着剤１４の内側に液晶材料１３を滴下し（工程
ｂ）、次に上基板１２を重ね合わせて上基板１２と下基
板１１の間隔が５μｍになるまで加圧し（工程ｃ）、そ
の後紫外線１６により接着剤１４を硬化させ（工程
ｄ）、液晶表示素子を完成させる液晶滴下工法が知られ
ている。
側に配置する一方法として、図８に示すように、下基板
１１に接着剤１４を厚み３０μｍで塗布した後（工程
ａ）、接着剤１４の内側に液晶材料１３を滴下し（工程
ｂ）、次に上基板１２を重ね合わせて上基板１２と下基
板１１の間隔が５μｍになるまで加圧し（工程ｃ）、そ
の後紫外線１６により接着剤１４を硬化させ（工程
ｄ）、液晶表示素子を完成させる液晶滴下工法が知られ
ている。
【０００５】以下、上記２枚の基板の貼り合わせ方法に
ついて、図９、図１０を参照して説明する。
ついて、図９、図１０を参照して説明する。
【０００６】まず、表面に紫外線硬化型の接着剤１４が
厚み３０μｍで塗布され、その接着剤１４の内側に液晶
材料１３が配置された透光性材料からなる下基板１１
を、水平方向に移動可能なテーブル１７上に搭載し、下
基板１１の下側の全面を吸着機構１８による真空吸着で
固定する（工程ａ）。
厚み３０μｍで塗布され、その接着剤１４の内側に液晶
材料１３が配置された透光性材料からなる下基板１１
を、水平方向に移動可能なテーブル１７上に搭載し、下
基板１１の下側の全面を吸着機構１８による真空吸着で
固定する（工程ａ）。
【０００７】次に、透光性材料からなる上基板１２の上
側の全面を吸着機構１９による真空吸着で固定し、真空
容器Ｃを閉じて真空引きを行い、吸着機構１９を垂直方
向に下降させて、上基板１２と液晶材料１３または接着
剤１４を接触させる（工程ｂ）。次に、下基板１１を搭
載したテーブル１７を水平方向に移動させて、下基板１
１と上基板１２の位置合わせを行う（工程ｃ）。
側の全面を吸着機構１９による真空吸着で固定し、真空
容器Ｃを閉じて真空引きを行い、吸着機構１９を垂直方
向に下降させて、上基板１２と液晶材料１３または接着
剤１４を接触させる（工程ｂ）。次に、下基板１１を搭
載したテーブル１７を水平方向に移動させて、下基板１
１と上基板１２の位置合わせを行う（工程ｃ）。
【０００８】次に、吸着機構１９を垂直方向に下降さ
せ、上基板１２を接着剤１４を介して下基板１１に貼り
合わせ、５μｍまで加圧させる（工程ｄ）。その後、一
体となった下基板１１と上基板１２を吸着機構２０によ
り真空吸着して真空容器Ｃから取り出して搬送する（工
程ｅ）。次に、紫外線１６を照射して接着剤を硬化させ
て下基板１１と上基板１２の貼り合わせが完了する（工
程ｆ）。
せ、上基板１２を接着剤１４を介して下基板１１に貼り
合わせ、５μｍまで加圧させる（工程ｄ）。その後、一
体となった下基板１１と上基板１２を吸着機構２０によ
り真空吸着して真空容器Ｃから取り出して搬送する（工
程ｅ）。次に、紫外線１６を照射して接着剤を硬化させ
て下基板１１と上基板１２の貼り合わせが完了する（工
程ｆ）。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の装置では、真空容器の中で上基板の真空吸着
を行うため、真空中での吸着力を確保するために広い吸
着面積を要する。例えば、上基板の厚さが０．７ｍｍの
ガラスの場合は７０％の開口率を要する。そうすると、
大気中で上基板１２の上側の全面を吸着機構１９で真空
吸着して固定する時に吸着力が強すぎて、上基板１２が
吸着機構１９に衝撃的に接触し、上基板１２を破損する
という問題があった。
うな従来の装置では、真空容器の中で上基板の真空吸着
を行うため、真空中での吸着力を確保するために広い吸
着面積を要する。例えば、上基板の厚さが０．７ｍｍの
ガラスの場合は７０％の開口率を要する。そうすると、
大気中で上基板１２の上側の全面を吸着機構１９で真空
吸着して固定する時に吸着力が強すぎて、上基板１２が
吸着機構１９に衝撃的に接触し、上基板１２を破損する
という問題があった。
【００１０】また、下基板１１と上基板１２を貼り合わ
せ、５μｍまで加圧し、一体となった下基板１１と上基
板１２を吸着機構２０による真空吸着で真空容器Ｃから
取り出して搬送を行う時に、吸着パッド等による点吸着
であるため、図１０の工程ｅに図示のごとく、下基板１
１と上基板１２が撓んでしまい、下基板１１と上基板１
２とが位置ずれを起こすという問題があった。
せ、５μｍまで加圧し、一体となった下基板１１と上基
板１２を吸着機構２０による真空吸着で真空容器Ｃから
取り出して搬送を行う時に、吸着パッド等による点吸着
であるため、図１０の工程ｅに図示のごとく、下基板１
１と上基板１２が撓んでしまい、下基板１１と上基板１
２とが位置ずれを起こすという問題があった。
【００１１】また、一体となった下基板１１と上基板１
２を吸着機構２０による真空吸着で真空容器Ｃから取り
出して搬送を行い、別の装置により紫外線を照射して接
着剤を硬化させるため、その間の移動により下基板１１
と上基板１２が撓んでしまい、下基板１１と上基板１２
とが位置ずれを起こすという問題があった。
２を吸着機構２０による真空吸着で真空容器Ｃから取り
出して搬送を行い、別の装置により紫外線を照射して接
着剤を硬化させるため、その間の移動により下基板１１
と上基板１２が撓んでしまい、下基板１１と上基板１２
とが位置ずれを起こすという問題があった。
【００１２】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、対向
する位置に配置された２枚の基板を破損することなく精
度良く貼り合わせることができる液晶表示素子製造装置
を提供することを目的としている。
する位置に配置された２枚の基板を破損することなく精
度良く貼り合わせることができる液晶表示素子製造装置
を提供することを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明の第１発明は、上
面に接着剤が塗布され液晶材料が滴下された下基板を大
気雰囲気中にて真空容器内に配置して下側の全面を真空
吸着で固定し、下基板に対向するように所定の間隔で上
基板を配置して上側の全面を真空吸着して固定し、真空
雰囲気中にて両方又は一方の基板を接近移動させて相互
に加圧し、両基板を貼り合わせるようにした液晶表示素
子製造装置において、上基板の上側全面を真空吸着する
吸着機構に複数の吸着系統を設けたものであり、大気中
で上基板の上側の全面を吸着固定する時に吸着力を抑制
できるので、上基板が吸着機構に衝撃的に接触して上基
板が破損するのを防止できる。
面に接着剤が塗布され液晶材料が滴下された下基板を大
気雰囲気中にて真空容器内に配置して下側の全面を真空
吸着で固定し、下基板に対向するように所定の間隔で上
基板を配置して上側の全面を真空吸着して固定し、真空
雰囲気中にて両方又は一方の基板を接近移動させて相互
に加圧し、両基板を貼り合わせるようにした液晶表示素
子製造装置において、上基板の上側全面を真空吸着する
吸着機構に複数の吸着系統を設けたものであり、大気中
で上基板の上側の全面を吸着固定する時に吸着力を抑制
できるので、上基板が吸着機構に衝撃的に接触して上基
板が破損するのを防止できる。
【００１４】両吸着系統は、大気圧中での吸着穴開口率
よりも真空中での吸着穴開口率が大きくなるように構成
される。
よりも真空中での吸着穴開口率が大きくなるように構成
される。
【００１５】また、本発明の第２発明は、上面に接着剤
が塗布され液晶材料が滴下された下基板を大気雰囲気中
にて真空容器内に配置して下側の全面を真空吸着で固定
し、下基板に対向するように所定の間隔で上基板を配置
して上側の全面を真空吸着して固定し、真空雰囲気中に
て両方又は一方の基板を接近移動させて相互に加圧し、
両基板を貼り合わせるようにした液晶表示素子製造装置
において、大気中で基板全面を平面で規制して吸着搬送
する平面規制吸着搬送機構を設けたものであり、貼り合
わせて一体となった下基板と上基板を撓みを生じさせる
ことなく真空容器から搬送することができ、上基板と下
基板の位置ずれを防止できる。
が塗布され液晶材料が滴下された下基板を大気雰囲気中
にて真空容器内に配置して下側の全面を真空吸着で固定
し、下基板に対向するように所定の間隔で上基板を配置
して上側の全面を真空吸着して固定し、真空雰囲気中に
て両方又は一方の基板を接近移動させて相互に加圧し、
両基板を貼り合わせるようにした液晶表示素子製造装置
において、大気中で基板全面を平面で規制して吸着搬送
する平面規制吸着搬送機構を設けたものであり、貼り合
わせて一体となった下基板と上基板を撓みを生じさせる
ことなく真空容器から搬送することができ、上基板と下
基板の位置ずれを防止できる。
【００１６】また、本発明の第３発明は、上面に接着剤
が塗布され液晶材料が滴下された下基板を大気雰囲気中
にて真空容器内に配置して下側の全面を真空吸着で固定
し、下基板に対向するように所定の間隔で上基板を配置
して上側の全面を真空吸着して固定し、真空雰囲気中に
て両方又は一方の基板を接近移動させて相互に加圧し、
両基板を貼り合わせるようにした液晶表示素子製造装置
において、上基板と下基板を加圧した後真空容器内で接
着剤を硬化する手段を設けたものであり、上基板と下基
板を加圧した後真空容器内で接着剤を硬化し、その後に
真空容器から搬送することにより上基板と下基板の位置
ずれを防止できる。
が塗布され液晶材料が滴下された下基板を大気雰囲気中
にて真空容器内に配置して下側の全面を真空吸着で固定
し、下基板に対向するように所定の間隔で上基板を配置
して上側の全面を真空吸着して固定し、真空雰囲気中に
て両方又は一方の基板を接近移動させて相互に加圧し、
両基板を貼り合わせるようにした液晶表示素子製造装置
において、上基板と下基板を加圧した後真空容器内で接
着剤を硬化する手段を設けたものであり、上基板と下基
板を加圧した後真空容器内で接着剤を硬化し、その後に
真空容器から搬送することにより上基板と下基板の位置
ずれを防止できる。
【００１７】接着剤を硬化する手段は、紫外線照射手段
を備え、また大気中で接着剤を硬化するようにしたもの
が好適であるが、真空中で硬化させてもよい。
を備え、また大気中で接着剤を硬化するようにしたもの
が好適であるが、真空中で硬化させてもよい。
【００１８】
【発明の実施の形態】（第１の実施形態）本発明の第１
の実施形態の液晶表示素子の製造装置について、図１、
図２を参照して製造工程に沿って説明する。
の実施形態の液晶表示素子の製造装置について、図１、
図２を参照して製造工程に沿って説明する。
【００１９】まず、表面に厚み３０μｍで塗布された紫
外線硬化型の接着剤１及びその接着剤１の内側に液晶材
料２が配置された透光性材料からなる下基板３を、水平
方向に移動可能なテーブル４上に搭載し、下基板３の下
側の全面を大気圧中にて吸着機構５による真空吸着で固
定する（工程ａ）。
外線硬化型の接着剤１及びその接着剤１の内側に液晶材
料２が配置された透光性材料からなる下基板３を、水平
方向に移動可能なテーブル４上に搭載し、下基板３の下
側の全面を大気圧中にて吸着機構５による真空吸着で固
定する（工程ａ）。
【００２０】次に、下基板３に対向するように所定間隔
で、透光性材料からなる上基板６を配置し、この上基板
６の上側面を大気中にて吸着機構７による真空吸着で固
定する（工程ｂ）。この時、吸着機構７の第１の吸着系
統７ａのみによって吸着固定する。次に、第２の吸着系
統７ｂによる真空吸着を追加して吸着穴の開口率を大き
くし、上基板６の全面を第１及び第２の吸着系統７ａ、
７ｂにて吸着固定する（工程ｃ）。
で、透光性材料からなる上基板６を配置し、この上基板
６の上側面を大気中にて吸着機構７による真空吸着で固
定する（工程ｂ）。この時、吸着機構７の第１の吸着系
統７ａのみによって吸着固定する。次に、第２の吸着系
統７ｂによる真空吸着を追加して吸着穴の開口率を大き
くし、上基板６の全面を第１及び第２の吸着系統７ａ、
７ｂにて吸着固定する（工程ｃ）。
【００２１】次に、真空容器Ｃを閉じて真空引きを行
い、真空雰囲気中にて両方又は一方の基板３、６を基板
の対向方向に相対移動させて位置合わせを行う（工程
ｄ）。次に、両方又は一方の基板３、６を接近移動させ
て相互に加圧し、両基板３、６を貼り合わせる（工程
ｅ）。
い、真空雰囲気中にて両方又は一方の基板３、６を基板
の対向方向に相対移動させて位置合わせを行う（工程
ｄ）。次に、両方又は一方の基板３、６を接近移動させ
て相互に加圧し、両基板３、６を貼り合わせる（工程
ｅ）。
【００２２】その後、貼り合わせた両基板３、６を真空
容器Ｃの外部に搬送し、紫外線照射手段８にて紫外線を
照射して接着剤１を硬化させて、下基板３と上基板６の
貼り合わせが完了する（工程ｆ）。
容器Ｃの外部に搬送し、紫外線照射手段８にて紫外線を
照射して接着剤１を硬化させて、下基板３と上基板６の
貼り合わせが完了する（工程ｆ）。
【００２３】本実施形態によれば、大気中で上基板６の
上側の全面を吸着機構７による真空吸着で固定する時
に、第１の吸着系統７ａのみで吸着することで吸着力を
抑制できるので、上基板６が吸着機構７ａ及び７ｂに衝
撃的に接触することがなく、上基板６を破損することが
なくなる。また、真空雰囲気中では第１と第２の吸着系
統７ａ、７ｂで吸着固定するので、確実に固定される。
上側の全面を吸着機構７による真空吸着で固定する時
に、第１の吸着系統７ａのみで吸着することで吸着力を
抑制できるので、上基板６が吸着機構７ａ及び７ｂに衝
撃的に接触することがなく、上基板６を破損することが
なくなる。また、真空雰囲気中では第１と第２の吸着系
統７ａ、７ｂで吸着固定するので、確実に固定される。
【００２４】（第２の実施形態）次に、本発明の第２の
実施形態の液晶表示素子の製造装置について、図３、図
４を参照して製造工程に沿って説明する。
実施形態の液晶表示素子の製造装置について、図３、図
４を参照して製造工程に沿って説明する。
【００２５】まず、表面に厚み３０μｍで塗布された紫
外線硬化型の接着剤１及びその接着剤１の内側に液晶材
料２が配置された透光性材料からなる下基板３を、水平
方向に移動可能なテーブル４上に搭載し、下基板３の下
側の全面を大気圧中にて吸着機構５による真空吸着で固
定する（工程ａ）。
外線硬化型の接着剤１及びその接着剤１の内側に液晶材
料２が配置された透光性材料からなる下基板３を、水平
方向に移動可能なテーブル４上に搭載し、下基板３の下
側の全面を大気圧中にて吸着機構５による真空吸着で固
定する（工程ａ）。
【００２６】次に、下基板３に対向するように所定間隔
で、透光性材料からなる上基板６の上側の全面を吸着機
構７による真空吸着で固定する（工程ｂ）。次に、真空
容器Ｃを閉じて真空引きを行い、真空雰囲気中にて、両
方又は一方の基板３、６を基板の対向方向に相対移動さ
せて位置合わせを行う（工程ｃ）。次に、両方又は一方
の基板３、６を接近移動させて相互に加圧し、両基板
３、６を貼り合わせる（工程ｄ）。
で、透光性材料からなる上基板６の上側の全面を吸着機
構７による真空吸着で固定する（工程ｂ）。次に、真空
容器Ｃを閉じて真空引きを行い、真空雰囲気中にて、両
方又は一方の基板３、６を基板の対向方向に相対移動さ
せて位置合わせを行う（工程ｃ）。次に、両方又は一方
の基板３、６を接近移動させて相互に加圧し、両基板
３、６を貼り合わせる（工程ｄ）。
【００２７】次に、貼り合わせた両基板３、６の基板全
面を平面規制した状態で吸着する平面規制吸着搬送機構
９にて真空吸着して真空容器Ｃの外部に搬送する（工程
ｅ）。次に、紫外線照射手段８にて紫外線を照射して接
着剤１を硬化させて、下基板３と上基板６の貼り合わせ
が完了する（工程ｆ）。
面を平面規制した状態で吸着する平面規制吸着搬送機構
９にて真空吸着して真空容器Ｃの外部に搬送する（工程
ｅ）。次に、紫外線照射手段８にて紫外線を照射して接
着剤１を硬化させて、下基板３と上基板６の貼り合わせ
が完了する（工程ｆ）。
【００２８】本実施形態によれば、下基板３と上基板６
を貼り合わせ、５μｍまで加圧後、一体となった下基板
３と上基板６を平面規制吸着搬送機構９にて吸着して真
空容器Ｃから取り出して搬送するので、搬送中に下基板
３と上基板６が撓むことがなく、位置ずれを起こすこと
がない。
を貼り合わせ、５μｍまで加圧後、一体となった下基板
３と上基板６を平面規制吸着搬送機構９にて吸着して真
空容器Ｃから取り出して搬送するので、搬送中に下基板
３と上基板６が撓むことがなく、位置ずれを起こすこと
がない。
【００２９】（第３の実施形態）次に、本発明の第３の
実施形態の液晶表示素子の製造装置について、図５、図
６を参照して製造工程に沿って説明する。
実施形態の液晶表示素子の製造装置について、図５、図
６を参照して製造工程に沿って説明する。
【００３０】まず、表面に厚み３０μｍで塗布された紫
外線硬化型の接着剤１及びその接着剤１の内側に液晶材
料２が配置された透光性材料からなる下基板３を、水平
方向に移動可能なテーブル４上に搭載し、下基板３の下
側の全面を大気圧中にて吸着機構５による真空吸着で固
定する（工程ａ）。
外線硬化型の接着剤１及びその接着剤１の内側に液晶材
料２が配置された透光性材料からなる下基板３を、水平
方向に移動可能なテーブル４上に搭載し、下基板３の下
側の全面を大気圧中にて吸着機構５による真空吸着で固
定する（工程ａ）。
【００３１】次に、下基板３に対向するように所定間隔
で、透光性材料からなる上基板６の上側の全面を吸着機
構７による真空吸着で固定する（工程ｂ）。次に、真空
容器Ｃを閉じて真空引きを行い、真空雰囲気中にて、両
方又は一方の基板３、６を基板の対向方向に相対移動さ
せて位置合わせを行う（工程ｃ）。次に、両方又は一方
の基板３、６を接近移動させて相互に加圧し、両基板
３、６を貼り合わせる（工程ｄ）。
で、透光性材料からなる上基板６の上側の全面を吸着機
構７による真空吸着で固定する（工程ｂ）。次に、真空
容器Ｃを閉じて真空引きを行い、真空雰囲気中にて、両
方又は一方の基板３、６を基板の対向方向に相対移動さ
せて位置合わせを行う（工程ｃ）。次に、両方又は一方
の基板３、６を接近移動させて相互に加圧し、両基板
３、６を貼り合わせる（工程ｄ）。
【００３２】次に、真空容器Ｃ内のテーブル４上で、貼
り合わされた両基板３、６が吸着固定された状態で紫外
線照射手段８にて紫外線を照射して接着剤１を硬化させ
て、下基板３と上基板６の貼り合わせが完了する（工程
ｅ）。その後、適宜搬送手段（図示せず）にて真空容器
Ｃから取り出して搬送される。
り合わされた両基板３、６が吸着固定された状態で紫外
線照射手段８にて紫外線を照射して接着剤１を硬化させ
て、下基板３と上基板６の貼り合わせが完了する（工程
ｅ）。その後、適宜搬送手段（図示せず）にて真空容器
Ｃから取り出して搬送される。
【００３３】本実施形態によれば、下基板３と上基板６
を貼り合わせ、５μｍまで加圧後、一体となった下基板
３と上基板６に対して、同じ装置に設置した紫外線照射
手段８にて紫外線を照射して接着剤１を硬化させるた
め、下基板３と上基板６が撓むことがなく、位置ずれを
起こすことがない。なお、紫外線照射は、真空加圧中に
行ってもよい。
を貼り合わせ、５μｍまで加圧後、一体となった下基板
３と上基板６に対して、同じ装置に設置した紫外線照射
手段８にて紫外線を照射して接着剤１を硬化させるた
め、下基板３と上基板６が撓むことがなく、位置ずれを
起こすことがない。なお、紫外線照射は、真空加圧中に
行ってもよい。
【００３４】
【発明の効果】本発明の第１発明によれば、上基板の上
側全面を真空吸着する吸着機構に複数の吸着系統を設け
たので、大気中で上基板の上側の全面を吸着固定する時
に吸着力を抑制できるので、上基板が吸着機構に衝撃的
に接触して上基板が破損するのを防止できる。
側全面を真空吸着する吸着機構に複数の吸着系統を設け
たので、大気中で上基板の上側の全面を吸着固定する時
に吸着力を抑制できるので、上基板が吸着機構に衝撃的
に接触して上基板が破損するのを防止できる。
【００３５】また、第２発明によれば、大気中で基板全
面を平面で規制して吸着搬送する平面規制吸着搬送機構
を設けたので、貼り合わせて一体となった下基板と上基
板を撓みを生じさせることなく真空容器から搬送するこ
とができ、上基板と下基板の位置ずれを防止できる。
面を平面で規制して吸着搬送する平面規制吸着搬送機構
を設けたので、貼り合わせて一体となった下基板と上基
板を撓みを生じさせることなく真空容器から搬送するこ
とができ、上基板と下基板の位置ずれを防止できる。
【００３６】また、第３発明によれば、上基板と下基板
を加圧した後真空容器内で接着剤を硬化する手段を設け
たので、上基板と下基板を加圧した後真空容器内で接着
剤を硬化し、その後に真空容器から搬送することにより
上基板と下基板の位置ずれを防止できる。
を加圧した後真空容器内で接着剤を硬化する手段を設け
たので、上基板と下基板を加圧した後真空容器内で接着
剤を硬化し、その後に真空容器から搬送することにより
上基板と下基板の位置ずれを防止できる。
【図１】本発明の第１の実施形態の液晶素子製造装置に
よる製造工程を示す模式断面図である。
よる製造工程を示す模式断面図である。
【図２】同実施形態の製造工程の続きを示す模式断面図
である。
である。
【図３】本発明の第２の実施形態の液晶素子製造装置に
よる製造工程を示す模式断面図である。
よる製造工程を示す模式断面図である。
【図４】同実施形態の製造工程の続きを示す模式断面図
である。
である。
【図５】本発明の第３の実施形態の液晶素子製造装置に
よる製造工程を示す模式断面図である。
よる製造工程を示す模式断面図である。
【図６】同実施形態の製造工程の続きを示す模式断面図
である。
である。
【図７】液晶表示装置の構造を示す模式断面図である。
【図８】液晶表示装置の製造工程を示す模式断面図であ
る。
る。
【図９】従来例の液晶表示装置の製造工程を示す模式断
面図である。
面図である。
【図１０】同従来例の液晶表示装置の製造工程の続きを
示す模式断面図である。
示す模式断面図である。
１ 接着剤 ２ 液晶材料 ３ 下基板 ５ 吸着機構 ６ 上基板 ７ 吸着機構 ７ａ 第１の吸着系統 ７ｂ 第２の吸着系統 ８ 紫外線照射手段 ９ 平面規制吸着搬送機構 Ｃ 真空容器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H088 EA02 FA03 FA04 FA16 FA17 FA20 FA30 HA01 KA02 MA17 MA20 4D075 AC06 AC82 AC88 BB46Z CA47 DA06 DB11 DC19 DC22 EA21 EA35 4F042 AA06 BA06 DB41 DF09 5F031 CA05 GA08
Claims (9)
- 【請求項１】 上面に接着剤が塗布され液晶材料が滴下
された下基板を大気雰囲気中にて真空容器内に配置して
下側の全面を真空吸着で固定し、下基板に対向するよう
に所定の間隔で上基板を配置して上側の全面を真空吸着
して固定し、真空雰囲気中にて両方又は一方の基板を接
近移動させて相互に加圧し、両基板を貼り合わせるよう
にした液晶表示素子製造装置において、上基板の上側全
面を真空吸着する吸着機構に複数の吸着系統を設けたこ
とを特徴とする液晶表示素子製造装置。 - 【請求項２】 両吸着系統は、大気圧中での吸着穴開口
率よりも真空中での吸着穴開口率が大きくなるように構
成したことを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子製
造装置。 - 【請求項３】 上面に接着剤が塗布され液晶材料が滴下
された下基板を大気雰囲気中にて真空容器内に配置して
下側の全面を真空吸着で固定し、下基板に対向するよう
に所定の間隔で上基板を配置して上側の全面を真空吸着
して固定し、真空雰囲気中にて両方又は一方の基板を接
近移動させて相互に加圧し、両基板を貼り合わせるよう
にした液晶表示素子製造装置において、大気中で基板全
面を平面で規制して吸着搬送する平面規制吸着搬送機構
を設けたことを特徴とする液晶表示素子製造装置。 - 【請求項４】 上面に接着剤が塗布され液晶材料が滴下
された下基板を大気雰囲気中にて真空容器内に配置して
下側の全面を真空吸着で固定し、下基板に対向するよう
に所定の間隔で上基板を配置して上側の全面を真空吸着
して固定し、真空雰囲気中にて両方又は一方の基板を接
近移動させて相互に加圧し、両基板を貼り合わせるよう
にした液晶表示素子製造装置において、上基板と下基板
を加圧した後真空容器内で接着剤を硬化する手段を設け
たことを特徴とする液晶表示素子製造装置。 - 【請求項５】 接着剤を硬化する手段が紫外線照射手段
を備えることを特徴とする請求項４記載の液晶表示素子
製造装置。 - 【請求項６】 接着剤を硬化する手段を大気中で接着剤
を硬化するようにしたことを特徴とする請求項４記載の
液晶表示素子製造装置。 - 【請求項７】 上面に接着剤が塗布され液晶材料が滴下
された下基板を大気雰囲気中にて真空容器内に配置して
下側の全面を真空吸着で固定し、下基板に対向するよう
に所定の間隔で上基板を配置して上側の全面を真空吸着
して固定し、真空雰囲気中にて両方又は一方の基板を接
近移動させて相互に加圧し、両基板を貼り合わせるよう
にする液晶表示素子製造方法において、複数の吸着系統
を設けた吸着機構によって上基板の上側全面を真空吸着
することを特徴とする液晶表示素子製造方法。 - 【請求項８】 上面に接着剤が塗布され液晶材料が滴下
された下基板を大気雰囲気中にて真空容器内に配置して
下側の全面を真空吸着で固定し、下基板に対向するよう
に所定の間隔で上基板を配置して上側の全面を真空吸着
して固定し、真空雰囲気中にて両方又は一方の基板を接
近移動させて相互に加圧し、両基板を貼り合わせるよう
にした液晶表示素子製造方法において、平面規制吸着搬
送機構によって、大気中で基板全面を平面で規制して吸
着搬送することを特徴とする液晶表示素子製造方法。 - 【請求項９】 上面に接着剤が塗布され液晶材料が滴下
された下基板を大気雰囲気中にて真空容器内に配置して
下側の全面を真空吸着で固定し、下基板に対向するよう
に所定の間隔で上基板を配置して上側の全面を真空吸着
して固定し、真空雰囲気中にて両方又は一方の基板を接
近移動させて相互に加圧し、両基板を貼り合わせるよう
にした液晶表示素子製造方法において、上基板と下基板
を加圧した後真空容器内で接着剤を硬化することを特徴
とする液晶表示素子製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP11121236A JP2000310759A (ja) | 1999-04-28 | 1999-04-28 | 液晶表示素子製造装置および方法 |
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| JP11121236A JP2000310759A (ja) | 1999-04-28 | 1999-04-28 | 液晶表示素子製造装置および方法 |
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|---|---|
| JP2000310759A true JP2000310759A (ja) | 2000-11-07 |
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| JP11121236A Pending JP2000310759A (ja) | 1999-04-28 | 1999-04-28 | 液晶表示素子製造装置および方法 |
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