JP2000310832A - 黒白熱現像感光材料及びそれを用いる画像形成方法 - Google Patents
黒白熱現像感光材料及びそれを用いる画像形成方法Info
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 自動熱現像機で処理して搬送性に優れ、安定
な写真性能が得られる黒白熱現像感光材料を提供する。 【解決手段】 支持体上にハロゲン化銀、有機銀粒子
及び還元剤を有し、ハロゲン化銀を有する側の表面のイ
ソプレンゴムに対する剥離帯電量が120pQ/cm2
以下である黒白熱現像感光材料、支持体上にハロゲン
化銀、有機銀粒子及び還元剤を有し、ハロゲン化銀を有
する側の反対側の表面のイソプレンゴムに対する剥離帯
電量が140pQ/cm2以下である黒白熱現像感光材
料。
な写真性能が得られる黒白熱現像感光材料を提供する。 【解決手段】 支持体上にハロゲン化銀、有機銀粒子
及び還元剤を有し、ハロゲン化銀を有する側の表面のイ
ソプレンゴムに対する剥離帯電量が120pQ/cm2
以下である黒白熱現像感光材料、支持体上にハロゲン
化銀、有機銀粒子及び還元剤を有し、ハロゲン化銀を有
する側の反対側の表面のイソプレンゴムに対する剥離帯
電量が140pQ/cm2以下である黒白熱現像感光材
料。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は自動熱現像機で処理
して搬送性に優れ、安定な写真性能が得られる黒白熱現
像感光材料に関する。
して搬送性に優れ、安定な写真性能が得られる黒白熱現
像感光材料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来印刷製版や医療の分野では、画像形
成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題とな
っており、近年では環境保全、省スペースの観点からも
処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー
・イメージセッターやレーザー・イメージャーにより効
率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成
することができる光熱写真材料に関する技術が必要とさ
れている。この技術として、例えば、米国特許第3,1
52,904号、同3,487,075号及びD.モー
ガン(Morgan)による「ドライシルバー写真材料
(Dry Silver Photographic
Materials)」(Handbook of I
maging Materials,Marcel D
ekker,Inc.第48頁,1991)等に記載さ
れているように、支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン
化銀粒子、還元剤及びバインダーを含有する熱現像材料
が知られている。
成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題とな
っており、近年では環境保全、省スペースの観点からも
処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー
・イメージセッターやレーザー・イメージャーにより効
率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成
することができる光熱写真材料に関する技術が必要とさ
れている。この技術として、例えば、米国特許第3,1
52,904号、同3,487,075号及びD.モー
ガン(Morgan)による「ドライシルバー写真材料
(Dry Silver Photographic
Materials)」(Handbook of I
maging Materials,Marcel D
ekker,Inc.第48頁,1991)等に記載さ
れているように、支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン
化銀粒子、還元剤及びバインダーを含有する熱現像材料
が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この黒白熱現像感光材
料は自動熱現像機で処理されるが、現像のため100℃
以上の熱がかかることから変形が生じて搬送性に問題が
ある。また現像条件が変化して写真性能が安定しないと
いう問題もある。
料は自動熱現像機で処理されるが、現像のため100℃
以上の熱がかかることから変形が生じて搬送性に問題が
ある。また現像条件が変化して写真性能が安定しないと
いう問題もある。
【0004】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、自動熱現像機で処理して搬送性に
優れ、安定な写真性能が得られる黒白熱現像感光材料を
提供することにある。
であり、その目的は、自動熱現像機で処理して搬送性に
優れ、安定な写真性能が得られる黒白熱現像感光材料を
提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、 支持体上にハロゲン化銀、有機銀粒子及び還元剤を
有し、ハロゲン化銀を有する側の表面のイソプレンゴム
に対する剥離帯電量が120pQ/cm2以下である黒
白熱現像感光材料、 支持体上にハロゲン化銀、有機銀粒子及び還元剤を
有し、ハロゲン化銀を有する側の反対側の表面のイソプ
レンゴムに対する剥離帯電量が140pQ/cm2以下
である黒白熱現像感光材料、、の感光材料におい
て、有機銀粒子を含有する側の構成層中にヒドラジン誘
導体を含有すること、有機銀粒子を含有する側の構成層
中に4級オニウム化合物を含有すること、 上記の黒白熱現像感光材料にレーザー光が縦マルチ
であるレーザー露光機を用いて露光する画像形成方法、
及び、 上記の黒白熱現像感光材料に露光面とレーザー光の
なす角度が実質的に垂直になることがないレーザー光を
有するレーザー露光機を用いて露光する画像形成方法、
によって達成される。
有し、ハロゲン化銀を有する側の表面のイソプレンゴム
に対する剥離帯電量が120pQ/cm2以下である黒
白熱現像感光材料、 支持体上にハロゲン化銀、有機銀粒子及び還元剤を
有し、ハロゲン化銀を有する側の反対側の表面のイソプ
レンゴムに対する剥離帯電量が140pQ/cm2以下
である黒白熱現像感光材料、、の感光材料におい
て、有機銀粒子を含有する側の構成層中にヒドラジン誘
導体を含有すること、有機銀粒子を含有する側の構成層
中に4級オニウム化合物を含有すること、 上記の黒白熱現像感光材料にレーザー光が縦マルチ
であるレーザー露光機を用いて露光する画像形成方法、
及び、 上記の黒白熱現像感光材料に露光面とレーザー光の
なす角度が実質的に垂直になることがないレーザー光を
有するレーザー露光機を用いて露光する画像形成方法、
によって達成される。
【0006】以下、本発明について詳述する。
【0007】本発明の請求項1に係る黒白熱現像感光材
料は、ハロゲン化銀を有する側の表面のイソプレンゴム
に対する剥離帯電量が、23℃、55%RHの雰囲気下
で120pQ/cm2以下であることを特徴とする。該
剥離帯電量の好ましい範囲は0〜120pQ/cm2で
あり、更に好ましくは、10〜110pQ/cm2であ
る。
料は、ハロゲン化銀を有する側の表面のイソプレンゴム
に対する剥離帯電量が、23℃、55%RHの雰囲気下
で120pQ/cm2以下であることを特徴とする。該
剥離帯電量の好ましい範囲は0〜120pQ/cm2で
あり、更に好ましくは、10〜110pQ/cm2であ
る。
【0008】また本発明の請求項2に係る黒白熱現像感
光材料は、ハロゲン化銀を有する側の反対側の表面のイ
ソプレンゴムに対する剥離帯電量が、23℃、55%R
Hの雰囲気下で140pQ/cm2以下であることを特
徴とする。該剥離帯電量の好ましい範囲は0〜140p
Q/cm2であり、更に好ましくは、10〜120pQ
/cm2である。
光材料は、ハロゲン化銀を有する側の反対側の表面のイ
ソプレンゴムに対する剥離帯電量が、23℃、55%R
Hの雰囲気下で140pQ/cm2以下であることを特
徴とする。該剥離帯電量の好ましい範囲は0〜140p
Q/cm2であり、更に好ましくは、10〜120pQ
/cm2である。
【0009】特に好ましい形態は、ハロゲン化銀を有す
る側の表面の剥離帯電量が120pQ/cm2以下であ
り、かつハロゲン化銀を有する側のの反対側の表面の剥
離帯電量が140pQ/cm2以下であることである。
る側の表面の剥離帯電量が120pQ/cm2以下であ
り、かつハロゲン化銀を有する側のの反対側の表面の剥
離帯電量が140pQ/cm2以下であることである。
【0010】本発明において最外層のネオプレンゴムに
対する剥離帯電量を本発明の範囲にするには、例えば、 (1)帯電列を変える素材、例えばフッ素系界面活性剤
をハロゲン化銀乳剤側のいずれかの層に含有せしめる方
法 (2)マット剤などによりハロゲン化銀乳剤側の表面を
粗面化する方法 (3)帯電防止層を設ける方法 等を組み合わせて用いる。
対する剥離帯電量を本発明の範囲にするには、例えば、 (1)帯電列を変える素材、例えばフッ素系界面活性剤
をハロゲン化銀乳剤側のいずれかの層に含有せしめる方
法 (2)マット剤などによりハロゲン化銀乳剤側の表面を
粗面化する方法 (3)帯電防止層を設ける方法 等を組み合わせて用いる。
【0011】本発明においては、フッ素系界面活性剤
は、ハロゲン化銀乳剤側の層、例えば支持体上の下引
層、画像形成層、保護層或いはそれらの中間層などに少
なくとも1種含有されるのが好ましく、少なくとも又も
う一つの実施態様としては画像形成層側の層、例えば支
持体上の下引層、画像形成層、保護層或いはそれらの中
間層などに少なくとも1種含有されるのが好ましく、少
なくとも画像形成層側の最外層に含まれることが好まし
い。
は、ハロゲン化銀乳剤側の層、例えば支持体上の下引
層、画像形成層、保護層或いはそれらの中間層などに少
なくとも1種含有されるのが好ましく、少なくとも又も
う一つの実施態様としては画像形成層側の層、例えば支
持体上の下引層、画像形成層、保護層或いはそれらの中
間層などに少なくとも1種含有されるのが好ましく、少
なくとも画像形成層側の最外層に含まれることが好まし
い。
【0012】用いられるフッ素系界面活性剤としては、
アニオン性、カチオン性、ノニオン性いずれでも良い
が、その中でもノニオン性のものが好ましい。そしてこ
れらは低分子化合物であっても、高分子化合物であって
も良い。これらの化合物は特開昭60−244945
号、特開昭63−306437号、特開平7−2332
68号、特開平7−173225号などに記載されてい
る。その中でも好ましいフッ素系界面活性剤としては、
側鎖にフッ化アルキル基を有する(メタ)アクリレート
重合体を挙げることができ、この際好ましくは標準ポリ
スチレン換算数平均分子量が30,000以下、更に好
ましくは2,000〜10,000の範囲にあるものが
用いられる。
アニオン性、カチオン性、ノニオン性いずれでも良い
が、その中でもノニオン性のものが好ましい。そしてこ
れらは低分子化合物であっても、高分子化合物であって
も良い。これらの化合物は特開昭60−244945
号、特開昭63−306437号、特開平7−2332
68号、特開平7−173225号などに記載されてい
る。その中でも好ましいフッ素系界面活性剤としては、
側鎖にフッ化アルキル基を有する(メタ)アクリレート
重合体を挙げることができ、この際好ましくは標準ポリ
スチレン換算数平均分子量が30,000以下、更に好
ましくは2,000〜10,000の範囲にあるものが
用いられる。
【0013】側鎖にフッ化アルキル基を有するアクリレ
ートの構造単位又はメタクリレートの構造単位として
は、例えば下記一般式(1−a)又は下記一般式(1−
b)で表すことができる。
ートの構造単位又はメタクリレートの構造単位として
は、例えば下記一般式(1−a)又は下記一般式(1−
b)で表すことができる。
【0014】
【化1】
【0015】一般式(1−a)に於いて、Rはメチル基
であり、nは0〜20、aは0〜2、bは0〜1の整数
を示す。一般式(1−b)に於いて、Rは水素原子又は
メチル基であり、nは1〜10、mは0〜2、aは0〜
2の整数を示す。具体的に以下のものを挙げるが、これ
らに限定されるものではない。
であり、nは0〜20、aは0〜2、bは0〜1の整数
を示す。一般式(1−b)に於いて、Rは水素原子又は
メチル基であり、nは1〜10、mは0〜2、aは0〜
2の整数を示す。具体的に以下のものを挙げるが、これ
らに限定されるものではない。
【0016】
【化2】
【0017】
【化3】
【0018】
【化4】
【0019】
【化5】
【0020】
【化6】
【0021】
【化7】
【0022】
【化8】
【0023】
【化9】
【0024】
【化10】
【0025】
【化11】
【0026】側鎖にフッ化アルキル基を有する(メタ)
アクリレート重合体は、更に側鎖にアルキレンオキシド
基或いはアルキル基を有するものであることが好まし
い。
アクリレート重合体は、更に側鎖にアルキレンオキシド
基或いはアルキル基を有するものであることが好まし
い。
【0027】側鎖にアルキレンオキシド基を有する部分
の(メタ)アクリレート構造単位としては、例えば下記
一般式(2)で表すことができる。
の(メタ)アクリレート構造単位としては、例えば下記
一般式(2)で表すことができる。
【0028】
【化12】
【0029】式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、
nは1〜6、mは1〜10の整数を示す。具体的に以下
のものを挙げるが、これらに限定されるものではない。
nは1〜6、mは1〜10の整数を示す。具体的に以下
のものを挙げるが、これらに限定されるものではない。
【0030】
【化13】
【0031】
【化14】
【0032】又側鎖にアルキル基を有する部分の(メ
タ)アクリレート構造単位としては、例えば下記一般式
(3)で表すことができる。
タ)アクリレート構造単位としては、例えば下記一般式
(3)で表すことができる。
【0033】
【化15】
【0034】式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、
nは1〜22の整数を示す。具体的に以下のものを挙げ
るが、これらに限定されるものではない。
nは1〜22の整数を示す。具体的に以下のものを挙げ
るが、これらに限定されるものではない。
【0035】
【化16】
【0036】
【化17】
【0037】更に側鎖にフッ化アルキル基を有する(メ
タ)アクリレート重合体は、側鎖にアリール基、アリレ
ン基等を有していても良い。アリール基、アリレン基等
を有する部分の(メタ)アクリレート構造単位として
は、例えば以下のものを挙げることができる。
タ)アクリレート重合体は、側鎖にアリール基、アリレ
ン基等を有していても良い。アリール基、アリレン基等
を有する部分の(メタ)アクリレート構造単位として
は、例えば以下のものを挙げることができる。
【0038】
【化18】
【0039】更に側鎖にフッ化アルキル基を有する(メ
タ)アクリレート重合体は、前記以外の構造単位、例え
ば以下のものを有していても良い。
タ)アクリレート重合体は、前記以外の構造単位、例え
ば以下のものを有していても良い。
【0040】
【化19】
【0041】上記の構造単位により、本発明における好
ましいフッ化アルキル基を有する(メタ)アクリレート
重合体の一覧を以下の表1に具体例を挙げるが、これら
に限定されることはない。
ましいフッ化アルキル基を有する(メタ)アクリレート
重合体の一覧を以下の表1に具体例を挙げるが、これら
に限定されることはない。
【0042】
【表1】
【0043】(モノマー組成を百分率で示す)もう一つ
の好ましいフッ素系界面活性剤としては、下記一般式
(F−1)又は下記一般式(F−2)で表される化合物
である。
の好ましいフッ素系界面活性剤としては、下記一般式
(F−1)又は下記一般式(F−2)で表される化合物
である。
【0044】一般式(F−1) Rf−(A)n 一般式(F−2) Rf−(A)n−Rf′ 式中、Rf、Rf′は少なくとも一つのフッ素含有脂肪
族基を有する基、Aは少なくとも一つのアルキレンオキ
サイド基を有する基、nは1以上の整数を表し、Rf、
Rf′は同じでも異なっても良い。
族基を有する基、Aは少なくとも一つのアルキレンオキ
サイド基を有する基、nは1以上の整数を表し、Rf、
Rf′は同じでも異なっても良い。
【0045】一般式(F−1)及び(F−2)を更に詳
しく説明する。
しく説明する。
【0046】Rf、Rf′のフッ素含有脂肪族基は、直
鎖、分岐鎖及び環式又はこれらの組合せ(例えばアルキ
ルシクロ脂肪族基)である。好ましいフッ素含有脂肪族
基は、炭素原子数1〜20のフルオロアルキル基(例え
ば、−C4H9、−C8H17)、炭素原子数1〜20のス
ルホフルオロアルキル基(例えば、(C7H15SO3−)
−、(C8H17SO3−)−)及び炭素原子数1〜20の
CnF2n+1SO2N(R1)R2−基(ここでR1は水素、
炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコ
キシ基、炭素数1〜20のアルキルカルボキシル基又は
アリール基であり、R2は炭素数1〜20のアルキレン
基、炭素数1〜20のアルキレンカルボキシル基を表
し、nは1〜20の整数を表す。例えば、C7F15SO2
N(C2H5)CH2−、C8F17SO2N(CH2COO
H)C3H6−)で、それぞれこれらは更に置換基を有し
ても良い。Aは、エチレンオキサイド基、プロピレンオ
キサイド基、イソプロピレンオキサイド基などのアルキ
レンオキサイド基を有する基であり、末端にアミノ基な
どの置換基を有しても良い。以下の具体例を挙げるが、
これらに限定されるものではない。
鎖、分岐鎖及び環式又はこれらの組合せ(例えばアルキ
ルシクロ脂肪族基)である。好ましいフッ素含有脂肪族
基は、炭素原子数1〜20のフルオロアルキル基(例え
ば、−C4H9、−C8H17)、炭素原子数1〜20のス
ルホフルオロアルキル基(例えば、(C7H15SO3−)
−、(C8H17SO3−)−)及び炭素原子数1〜20の
CnF2n+1SO2N(R1)R2−基(ここでR1は水素、
炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコ
キシ基、炭素数1〜20のアルキルカルボキシル基又は
アリール基であり、R2は炭素数1〜20のアルキレン
基、炭素数1〜20のアルキレンカルボキシル基を表
し、nは1〜20の整数を表す。例えば、C7F15SO2
N(C2H5)CH2−、C8F17SO2N(CH2COO
H)C3H6−)で、それぞれこれらは更に置換基を有し
ても良い。Aは、エチレンオキサイド基、プロピレンオ
キサイド基、イソプロピレンオキサイド基などのアルキ
レンオキサイド基を有する基であり、末端にアミノ基な
どの置換基を有しても良い。以下の具体例を挙げるが、
これらに限定されるものではない。
【0047】(F−1) C8F17SO2N(C2H5)C
H2(CH2CH2O)12H (F−2) C8F17(CH2CH2O)8C8F17 (F−3) C8F17(CH2CH2O)12C8F17 (F−4) C7F15(CH2CH2O)10C7F15 (F−5) C12F25(CH2CH2O)10C12F25 (F−6) C8F17(CH2CH2O)17C8F17 (F−7) C7F15SO3 -N+H3(CH2CH2O)12
CH2CH2N+H3 -SO3C7F15 (F−8) C7F15SO2N(C2H5)CH2(CH2C
H2O)12CH2(CH3)NO2SC7F15 その他の好ましい化合物としては、特開平2−8224
7号公報(4)頁左上欄〜(8)頁左上欄に記載された
化合物(1)〜(81)が挙げられる。
H2(CH2CH2O)12H (F−2) C8F17(CH2CH2O)8C8F17 (F−3) C8F17(CH2CH2O)12C8F17 (F−4) C7F15(CH2CH2O)10C7F15 (F−5) C12F25(CH2CH2O)10C12F25 (F−6) C8F17(CH2CH2O)17C8F17 (F−7) C7F15SO3 -N+H3(CH2CH2O)12
CH2CH2N+H3 -SO3C7F15 (F−8) C7F15SO2N(C2H5)CH2(CH2C
H2O)12CH2(CH3)NO2SC7F15 その他の好ましい化合物としては、特開平2−8224
7号公報(4)頁左上欄〜(8)頁左上欄に記載された
化合物(1)〜(81)が挙げられる。
【0048】本発明においては、フッ素系界面活性剤の
添加量は、熱現像感光材料1m2当たり1×10-6〜1
×10-2モルの範囲が好ましい。フッ素系界面活性剤
は、水又は有機溶媒に溶解して熱現像感光材料の構成層
の塗布液に添加されてもよく、又微粒子固体分散物とし
て添加されてもよく、又塗布液を塗布後に溶解したもの
や微粒子固体分散物を吹き付けてもよい。
添加量は、熱現像感光材料1m2当たり1×10-6〜1
×10-2モルの範囲が好ましい。フッ素系界面活性剤
は、水又は有機溶媒に溶解して熱現像感光材料の構成層
の塗布液に添加されてもよく、又微粒子固体分散物とし
て添加されてもよく、又塗布液を塗布後に溶解したもの
や微粒子固体分散物を吹き付けてもよい。
【0049】また、フッ素系界面活性剤は、画像形成層
の反対側の層、例えば支持体上の下引層やアンチハレー
ション染料含有バッキング層やバッキング保護層などに
も少なくとも1種含有されるのが好ましく、少なくとも
画像形成層の反対側の最外層に含まれることが好まし
い。
の反対側の層、例えば支持体上の下引層やアンチハレー
ション染料含有バッキング層やバッキング保護層などに
も少なくとも1種含有されるのが好ましく、少なくとも
画像形成層の反対側の最外層に含まれることが好まし
い。
【0050】本発明の目的を達成するためには、マット
剤をハロゲン化銀乳剤側の全バインダーに対し、重量比
で0.5〜30%含有させることが好ましい。
剤をハロゲン化銀乳剤側の全バインダーに対し、重量比
で0.5〜30%含有させることが好ましい。
【0051】本発明に於いて用いられるマット剤の材質
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機
物としては、スイス特許第330,158号等に記載の
シリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガ
ラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のア
ルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩、等を
マット剤として用いることができる。有機物としては、
米国特許第2,322,037号等に記載の澱粉、ベル
ギー特許第625,451号や英国特許第981,19
8号等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−3643
号等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第33
0,158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタア
クリレート、米国特許第3,079,257号等に記載
のポリアクリロニトリル、米国特許第3,022,16
9号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット
剤を用いることができる。
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機
物としては、スイス特許第330,158号等に記載の
シリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガ
ラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のア
ルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩、等を
マット剤として用いることができる。有機物としては、
米国特許第2,322,037号等に記載の澱粉、ベル
ギー特許第625,451号や英国特許第981,19
8号等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−3643
号等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第33
0,158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタア
クリレート、米国特許第3,079,257号等に記載
のポリアクリロニトリル、米国特許第3,022,16
9号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット
剤を用いることができる。
【0052】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明に於いてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明に於いてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
【0053】本発明に用いられるマット剤は、平均粒径
が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好
ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好
ましく、更に好ましくは40%以下であり、特に好まし
くは30%以下となるマット剤である。
が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好
ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好
ましく、更に好ましくは40%以下であり、特に好まし
くは30%以下となるマット剤である。
【0054】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。
記の式で表される値である。
【0055】 (粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100 本発明に係るマット剤は任意の構成層中に含むことがで
きるが、本発明の目的を達成するためには好ましくは画
像形成層以外の構成層であり、更に好ましくは支持体か
ら見て最も外側の層である。
きるが、本発明の目的を達成するためには好ましくは画
像形成層以外の構成層であり、更に好ましくは支持体か
ら見て最も外側の層である。
【0056】本発明に係るマット剤の添加方法は、予め
塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、
塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマット剤を
噴霧する方法を用いてもよい。又複数の種類のマット剤
を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、
塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマット剤を
噴霧する方法を用いてもよい。又複数の種類のマット剤
を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
【0057】また、本発明に於いては、支持体を挟み画
像形成層とは反対側の面に非画像形成層を設ける場合
は、非画像形成層側の少なくとも1層中にマット剤を含
有することが好ましく、感光材料の滑り性や指紋付着防
止のためにも感光材料の表面にマット剤を配することが
好ましく、そのマット剤を画像形成層側の反対側の層の
全バインダーに対し、重量比で0.5〜40%含有する
ことが好ましい。
像形成層とは反対側の面に非画像形成層を設ける場合
は、非画像形成層側の少なくとも1層中にマット剤を含
有することが好ましく、感光材料の滑り性や指紋付着防
止のためにも感光材料の表面にマット剤を配することが
好ましく、そのマット剤を画像形成層側の反対側の層の
全バインダーに対し、重量比で0.5〜40%含有する
ことが好ましい。
【0058】また必要に応じて、さらにポリシロキサン
化合物やワックスや流動パラフィンのようなスベリ剤を
用いてもよい。
化合物やワックスや流動パラフィンのようなスベリ剤を
用いてもよい。
【0059】本発明において帯電防止層は、ハロゲン化
銀乳剤側の層、例えば支持体上の下引層、画像形成層、
保護層或いはそれらの中間層など、支持体を挟み反対側
の面側の層、例えば支持体上の下引層、バッキング染料
層、バッキング保護層或いはそれらの中間層などいずれ
の層であってもよい。好ましくは、下引層、バッキング
層、画像形成層と下引の間の層などに含まれる。帯電防
止層は、金属酸化物及び/又は導電性ポリマーなどの導
電性化合物を含むことが特徴である。本発明に於いては
米国特許5,244,773号カラム14〜20に記載
された導電性化合物が好ましく用いられる。
銀乳剤側の層、例えば支持体上の下引層、画像形成層、
保護層或いはそれらの中間層など、支持体を挟み反対側
の面側の層、例えば支持体上の下引層、バッキング染料
層、バッキング保護層或いはそれらの中間層などいずれ
の層であってもよい。好ましくは、下引層、バッキング
層、画像形成層と下引の間の層などに含まれる。帯電防
止層は、金属酸化物及び/又は導電性ポリマーなどの導
電性化合物を含むことが特徴である。本発明に於いては
米国特許5,244,773号カラム14〜20に記載
された導電性化合物が好ましく用いられる。
【0060】また発明においては、感光材料構成層塗布
液を塗布した後、乾燥して、塗布時に用いた溶媒を除去
する際に公知の範囲で乾燥条件を制御することにより、
上記の方法と組み合わせて本発明の剥離帯電量の範囲に
制御できる。
液を塗布した後、乾燥して、塗布時に用いた溶媒を除去
する際に公知の範囲で乾燥条件を制御することにより、
上記の方法と組み合わせて本発明の剥離帯電量の範囲に
制御できる。
【0061】本発明の黒白熱現像感光材料は有機銀粒子
を含有する側の構成層中にヒドラジン誘導体を含有する
のが好ましい。
を含有する側の構成層中にヒドラジン誘導体を含有する
のが好ましい。
【0062】ヒドラジン誘導体としては、下記一般式
〔H〕で表される化合物が好ましい。
〔H〕で表される化合物が好ましい。
【0063】
【化20】
【0064】式中、A0はそれぞれ置換基を有してもよ
い脂肪族基、芳香族基、複素環基又は−G0−D0基を、
B0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル
基又はオキザリル基を表す。ここで、G0は−CO−
基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG1D1)
−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)(G1D
1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−
基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族
基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に複数のD1
が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよ
い。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、
アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。
い脂肪族基、芳香族基、複素環基又は−G0−D0基を、
B0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル
基又はオキザリル基を表す。ここで、G0は−CO−
基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG1D1)
−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)(G1D
1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−
基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族
基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に複数のD1
が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよ
い。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、
アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。
【0065】一般式〔H〕において、A0で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好
ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、
これらは更に適当な置換基(例えばアリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されて
いてもよい。
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好
ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、
これらは更に適当な置換基(例えばアリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されて
いてもよい。
【0066】一般式〔H〕において、A0で表される芳
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表
される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダ
ゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げら
れ、A0で表される−G0−D0基において、G0は−CO
−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
1D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G1D1)−基を表す。G1は単なる結合手、−O−
基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族
基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に
複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異
なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、
複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ましい
D0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
ミノ基等が挙げられる。A0の芳香族基、複素環基及び
−G0−D0基は置換基を有していてもよい。
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表
される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダ
ゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げら
れ、A0で表される−G0−D0基において、G0は−CO
−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
1D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G1D1)−基を表す。G1は単なる結合手、−O−
基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族
基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に
複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異
なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、
複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ましい
D0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
ミノ基等が挙げられる。A0の芳香族基、複素環基及び
−G0−D0基は置換基を有していてもよい。
【0067】A0として特に好ましいものはアリール基
及び−G0−D0基である。
及び−G0−D0基である。
【0068】又、一般式〔H〕において、A0は耐拡散
基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが
好ましい。耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用
添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラスト
基としては写真的に不活性であるアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェ
ノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置換基
部分の炭素数の合計は8以上であることが好ましい。
基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが
好ましい。耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用
添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラスト
基としては写真的に不活性であるアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェ
ノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置換基
部分の炭素数の合計は8以上であることが好ましい。
【0069】一般式〔H〕において、ハロゲン化銀吸着
促進基としてはチオ尿素、チオウレタン基、メルカプト
基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド
複素環基、メルカプト複素環基、或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
促進基としてはチオ尿素、チオウレタン基、メルカプト
基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド
複素環基、メルカプト複素環基、或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
【0070】一般式〔H〕において、B0はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
1D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G1D1)−基を表す。好ましいG0としては−CO−
基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結合手、
−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は
脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分
子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっ
ても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香
族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ま
しいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基、アリール基、複素環基が挙げられる。A
1、A2はともに水素原子、又は一方が水素原子で他方は
アシル基(アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベン
ゾイル基等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、ト
ルエンスルホニル基等)、又はオキザリル基(エトキザ
リル基等)を表す。
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
1D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G1D1)−基を表す。好ましいG0としては−CO−
基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結合手、
−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は
脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分
子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっ
ても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香
族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ま
しいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基、アリール基、複素環基が挙げられる。A
1、A2はともに水素原子、又は一方が水素原子で他方は
アシル基(アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベン
ゾイル基等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、ト
ルエンスルホニル基等)、又はオキザリル基(エトキザ
リル基等)を表す。
【0071】次に一般式〔H〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【0072】
【化21】
【0073】
【化22】
【0074】
【化23】
【0075】
【化24】
【0076】
【化25】
【0077】
【化26】
【0078】
【化27】
【0079】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラ
ム11〜カラム20に記載の化合物H−1〜H−29、
米国特許第5,464,738号カラム9〜カラム11
に記載の化合物1〜12である。
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラ
ム11〜カラム20に記載の化合物H−1〜H−29、
米国特許第5,464,738号カラム9〜カラム11
に記載の化合物1〜12である。
【0080】これらのヒドラジン誘導体は公知の方法で
合成することができる。
合成することができる。
【0081】ヒドラジン誘導体の添加層は、ハロゲン化
銀乳剤を含む画像形成層及び/又は画像形成層に隣接し
た層である。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハ
ロゲン組成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により最
適量は一様ではないが、ハロゲン化銀1モル当たり10
-6モル〜10-1モル程度、特に10-5モル〜10-2モル
の範囲が好ましい。
銀乳剤を含む画像形成層及び/又は画像形成層に隣接し
た層である。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハ
ロゲン組成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により最
適量は一様ではないが、ハロゲン化銀1モル当たり10
-6モル〜10-1モル程度、特に10-5モル〜10-2モル
の範囲が好ましい。
【0082】また本発明の黒白熱現像感光材料は有機銀
粒子を含有する側の構成層中に4級オニウム化合物を含
有するのが好ましい。
粒子を含有する側の構成層中に4級オニウム化合物を含
有するのが好ましい。
【0083】4級オニウム化合物としては下記一般式
(P)で表される化合物が好ましく用いられる。
(P)で表される化合物が好ましく用いられる。
【0084】
【化28】
【0085】式中、Qは窒素原子又は燐原子を表し、R
1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表
し、X-はアニオンを表す。尚、R1〜R4は互いに連結
して環を形成してもよい。
1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表
し、X-はアニオンを表す。尚、R1〜R4は互いに連結
して環を形成してもよい。
【0086】一般式(P)において、R1〜R4で表され
る置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基
等)、アルケニル基(アリル基、ブテニル基等)、アル
キニル基(プロパルギル基、ブチニル基等)、アリール
基(フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(ピペリジ
ニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジル
基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、テ
トラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ基
等が挙げられる。
る置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基
等)、アルケニル基(アリル基、ブテニル基等)、アル
キニル基(プロパルギル基、ブチニル基等)、アリール
基(フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(ピペリジ
ニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジル
基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、テ
トラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ基
等が挙げられる。
【0087】R1〜R4が互いに連結して形成しうる環と
しては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、
キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾー
ル環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられ
る。
しては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、
キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾー
ル環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられ
る。
【0088】R1〜R4で表される基はヒドロキシル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、ス
ルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有しても
よい。
アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、ス
ルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有しても
よい。
【0089】R1、R2、R3及びR4としては、水素原子
及びアルキル基が好ましい。
及びアルキル基が好ましい。
【0090】X-が表すアニオンとしては、ハロゲンイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。
【0091】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
【0092】
【化29】
【0093】式中、A1、A2、A3、A4及びA5は、含
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。A1、A2、A3、A4及
びA5の好ましい例としては、5〜6員環(ピリジン、
イミダゾール、チオゾール、オキサゾール、ピラジン、
ピリミジン等の各環)を挙げることができ、更に好まし
い例としてピリジン環が挙げられる。
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。A1、A2、A3、A4及
びA5の好ましい例としては、5〜6員環(ピリジン、
イミダゾール、チオゾール、オキサゾール、ピラジン、
ピリミジン等の各環)を挙げることができ、更に好まし
い例としてピリジン環が挙げられる。
【0094】BPは2価の連結基を表し、mは0又は1
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、ア
ルキレン基、アルケニレン基を挙げることができる。
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、ア
ルキレン基、アルケニレン基を挙げることができる。
【0095】R11、R12及びR15は各々、炭素数1〜2
0のアルキル基を表す。又、R11及びR12は同一でも異
っていてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換の
アルキル基を表し、置換基としては、A1、A2、A3、
A4及びA5の置換基として挙げた置換基と同様である。
0のアルキル基を表す。又、R11及びR12は同一でも異
っていてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換の
アルキル基を表し、置換基としては、A1、A2、A3、
A4及びA5の置換基として挙げた置換基と同様である。
【0096】R11、R12及びR15の好ましい例として
は、それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に
好ましい例としては、置換或いは無置換のアリール置換
アルキル基が挙げられる。
は、それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に
好ましい例としては、置換或いは無置換のアリール置換
アルキル基が挙げられる。
【0097】Xp -は分子全体の電荷を均衡さすに必要な
対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素
イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスルホ
ナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の電荷
を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩の場
合にはnpは0である。
対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素
イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスルホ
ナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の電荷
を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩の場
合にはnpは0である。
【0098】
【化30】
【0099】上記一般式〔T〕で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、R6、
R7は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメットの
シグマ値(σP)が負のものが好ましい。
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、R6、
R7は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメットの
シグマ値(σP)が負のものが好ましい。
【0100】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れもσ
P値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れもσ
P値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
【0101】nは1或いは2を表し、XT n-で表される
アニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
アニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
【0102】以下、4級オニウム化合物の具体例を下記
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【0103】
【化31】
【0104】
【化32】
【0105】
【化33】
【0106】
【化34】
【0107】
【化35】
【0108】
【化36】
【0109】
【化37】
【0110】
【化38】
【0111】
【化39】
【0112】
【化40】
【0113】上記4級オニウム化合物は公知の方法に従
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
は、Chemical Reviews vol.55
p.335〜483に記載の方法を参考にできる。
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
は、Chemical Reviews vol.55
p.335〜483に記載の方法を参考にできる。
【0114】これら4級オニウム化合物の添加量は、ハ
ロゲン化銀1モル当たり1×10-8〜1モル程度、好ま
しくは1×10-7〜1×10-1モルである。これらはハ
ロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感光
材料中に添加できる。
ロゲン化銀1モル当たり1×10-8〜1モル程度、好ま
しくは1×10-7〜1×10-1モルである。これらはハ
ロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感光
材料中に添加できる。
【0115】4級オニウム化合物及びアミノ化合物は、
単独で用いても2種以上を適宜併用して用いてもよい。
また感光材料の構成層中のいかなる層に添加してもよい
が、好ましくは画像形成層を有する側の構成層の少なく
とも1層、更には画像形成層及び/又はその隣接層に添
加する。また硬調化の助剤としてヒドロキシビニル化合
物を用いることも好ましい。
単独で用いても2種以上を適宜併用して用いてもよい。
また感光材料の構成層中のいかなる層に添加してもよい
が、好ましくは画像形成層を有する側の構成層の少なく
とも1層、更には画像形成層及び/又はその隣接層に添
加する。また硬調化の助剤としてヒドロキシビニル化合
物を用いることも好ましい。
【0116】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも一層の画像形成層を有している。支持体上に画像
形成層のみを形成しても良いが、画像形成層の上に少な
くとも1層の非画像形成層を形成することが好ましい。
画像形成層に通過する光の量又は波長分布を制御するた
めに画像形成層と同じ側にフィルター染料層及び/又は
反対側にアンチハレーション染料層、いわゆるバッキン
グ層を形成しても良いし、画像形成層に染料又は顔料を
含ませても良い。用いられる染料としては所望の波長範
囲で目的の吸収を有するものであればいかなる化合物で
も良いが、例えば特開昭59−6481号、特開昭59
−182436号、米国特許4,271,263号、米
国特許4,594,312号、欧州特許公開53300
8号、欧州特許公開652473号、特開平2−216
140号、特開平4−348339号、特開平7−19
1432号、特開平7−301890号などの記載の化
合物が好ましく用いられる。
くとも一層の画像形成層を有している。支持体上に画像
形成層のみを形成しても良いが、画像形成層の上に少な
くとも1層の非画像形成層を形成することが好ましい。
画像形成層に通過する光の量又は波長分布を制御するた
めに画像形成層と同じ側にフィルター染料層及び/又は
反対側にアンチハレーション染料層、いわゆるバッキン
グ層を形成しても良いし、画像形成層に染料又は顔料を
含ませても良い。用いられる染料としては所望の波長範
囲で目的の吸収を有するものであればいかなる化合物で
も良いが、例えば特開昭59−6481号、特開昭59
−182436号、米国特許4,271,263号、米
国特許4,594,312号、欧州特許公開53300
8号、欧州特許公開652473号、特開平2−216
140号、特開平4−348339号、特開平7−19
1432号、特開平7−301890号などの記載の化
合物が好ましく用いられる。
【0117】又これらの非画像形成層には前記のバイン
ダーやマット剤を含有することが好ましく、更にポリシ
ロキサン化合物やワックスや流動パラフィンのようなス
ベリ剤を含有してもよい。
ダーやマット剤を含有することが好ましく、更にポリシ
ロキサン化合物やワックスや流動パラフィンのようなス
ベリ剤を含有してもよい。
【0118】画像形成層は複数層にしても良く、又階調
の調節のため画像形成層を高感度層/低感度層又は低感
度層/高感度層にしても良い。
の調節のため画像形成層を高感度層/低感度層又は低感
度層/高感度層にしても良い。
【0119】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している熱現像感光材
料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料は常
温で安定であるが、露光後高温(例えば、80℃〜14
0℃)に加熱することで現像される。加熱することで有
機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化
還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露
光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成し
た銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から
水等の処理液を供給することなしで進行する。
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している熱現像感光材
料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料は常
温で安定であるが、露光後高温(例えば、80℃〜14
0℃)に加熱することで現像される。加熱することで有
機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化
還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露
光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成し
た銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から
水等の処理液を供給することなしで進行する。
【0120】本発明に於いて有機銀塩は還元可能な銀源
であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及びヘ
テロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜30、好ましくは
15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び含窒
素複素環が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の銀
イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩
錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Researc
h Disclosure(以下、RDとする)第17
029及び29963に記載されており、次のものがあ
る:有機酸の塩(例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン
酸、アラキジン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウ
リン酸等の塩);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩
(例えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、
1−(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチ
オ尿素等);アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボ
ン酸とのポリマー反応生成物の銀錯体(例えば、アルデ
ヒド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチル
アルデヒド等)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチ
ル酸、安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,
5−チオジサリチル酸))、チオエン類の銀塩又は錯体
(例えば、3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロ
キシメチル−4−(チアゾリン−2−チオエン、及び3
−カルボキシメチル−4−チアゾリン−2−チオエ
ン)、イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,
2,4−チアゾール及び1H−テトラゾール、3−アミ
ノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾール及び
ベンゾトリアゾールから選択される窒素酸と銀との錯体
又は塩;サッカリン、5−クロロサリチルアルドキシム
等の銀塩;及びメルカプチド類の銀塩)。これらの内、
好ましい銀源はベヘン酸銀、アラキジン酸銀及び/又は
ステアリン酸銀である。
であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及びヘ
テロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜30、好ましくは
15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び含窒
素複素環が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の銀
イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩
錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Researc
h Disclosure(以下、RDとする)第17
029及び29963に記載されており、次のものがあ
る:有機酸の塩(例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン
酸、アラキジン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウ
リン酸等の塩);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩
(例えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、
1−(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチ
オ尿素等);アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボ
ン酸とのポリマー反応生成物の銀錯体(例えば、アルデ
ヒド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチル
アルデヒド等)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチ
ル酸、安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,
5−チオジサリチル酸))、チオエン類の銀塩又は錯体
(例えば、3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロ
キシメチル−4−(チアゾリン−2−チオエン、及び3
−カルボキシメチル−4−チアゾリン−2−チオエ
ン)、イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,
2,4−チアゾール及び1H−テトラゾール、3−アミ
ノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾール及び
ベンゾトリアゾールから選択される窒素酸と銀との錯体
又は塩;サッカリン、5−クロロサリチルアルドキシム
等の銀塩;及びメルカプチド類の銀塩)。これらの内、
好ましい銀源はベヘン酸銀、アラキジン酸銀及び/又は
ステアリン酸銀である。
【0121】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、
前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作
製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよ
い。
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、
前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作
製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよ
い。
【0122】本発明に於いて有機銀塩は平均粒径が2μ
m以下でありかつ単分散であることが好ましい。有機銀
塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が例えば球状、棒
状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒子の体
積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒径は好
ましくは0.05μm〜1.5μm、特に0.05μm
〜1.0μmが好ましい。又単分散とは、ハロゲン化銀
の場合と同義であり、好ましくは単分散度が1〜30で
ある。又、本発明の有機銀塩に於いては、全有機銀塩の
60%以上が平板状粒子であることが好ましい。本発明
に於いて平板状粒子とは平均粒径と厚さの比、いわゆる
下記式で表されるアスペクト比(ARと略す)が3以上
のものをいう。
m以下でありかつ単分散であることが好ましい。有機銀
塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が例えば球状、棒
状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒子の体
積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒径は好
ましくは0.05μm〜1.5μm、特に0.05μm
〜1.0μmが好ましい。又単分散とは、ハロゲン化銀
の場合と同義であり、好ましくは単分散度が1〜30で
ある。又、本発明の有機銀塩に於いては、全有機銀塩の
60%以上が平板状粒子であることが好ましい。本発明
に於いて平板状粒子とは平均粒径と厚さの比、いわゆる
下記式で表されるアスペクト比(ARと略す)が3以上
のものをいう。
【0123】AR=平均粒径(μm)/厚さ(μm) 有機銀塩をこれらの形状にするためには、前記有機銀結
晶をバインダーや界面活性剤などをボールミルなどで分
散粉砕することで得られる。この範囲にすることで濃度
が高く、かつ画像保存性に優れた感光材料が得られる。
晶をバインダーや界面活性剤などをボールミルなどで分
散粉砕することで得られる。この範囲にすることで濃度
が高く、かつ画像保存性に優れた感光材料が得られる。
【0124】本発明に於いては感光材料の失透を防ぐた
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量が銀量に換算
して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であること
が好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得られ
る。又銀総量に対するハロゲン化銀の量は、重量比で5
0%以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは0.
1%〜15%の間である。
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量が銀量に換算
して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であること
が好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得られ
る。又銀総量に対するハロゲン化銀の量は、重量比で5
0%以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは0.
1%〜15%の間である。
【0125】本発明の熱現像感光材料には還元剤を内蔵
させる。好適な還元剤の例は、米国特許第3,770,
448号、同第3,773,512号、同第3,59
3,863号、及びRD17029及び29963に記
載されている。特に好ましい還元剤はヒンダードフェノ
ール類である。ヒンダードフェノール類としては下記一
般式(A)で表される化合物が挙げられる。
させる。好適な還元剤の例は、米国特許第3,770,
448号、同第3,773,512号、同第3,59
3,863号、及びRD17029及び29963に記
載されている。特に好ましい還元剤はヒンダードフェノ
ール類である。ヒンダードフェノール類としては下記一
般式(A)で表される化合物が挙げられる。
【0126】
【化41】
【0127】式中、Rは水素原子、又は炭素原子数1〜
10のアルキル基(例えば、−C4H9、2,4,4−ト
リメチルペンチル)を表し、R′及びR″は炭素原子数
1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t−ブ
チル)を表す。
10のアルキル基(例えば、−C4H9、2,4,4−ト
リメチルペンチル)を表し、R′及びR″は炭素原子数
1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t−ブ
チル)を表す。
【0128】一般式(A)で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。
【0129】
【化42】
【0130】
【化43】
【0131】前記一般式(A)で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
0-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルである。
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
0-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルである。
【0132】ハロゲン化銀粒子は光センサーとして機能
するものである。画像形成後の白濁を低く抑えるため、
及び良好な画質を得るために平均粒子サイズが小さい方
が好ましく、平均粒子サイズが0.1μm以下、より好
ましくは0.01μm〜0.1μm、特に0.02μm
〜0.08μmが好ましい。ここでいう粒子サイズと
は、ハロゲン化銀粒子が立方体或いは八面体のいわゆる
正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さを
いう。又、正常晶でない場合、例えば球状、棒状、或い
は平板状の粒子の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と
同等な球を考えたときの直径をいう。又ハロゲン化銀は
単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、
下記式で求められる単分散度が40%以下をいう。更に
好ましくは30%以下であり、特に好ましくは0.1%
以上20%以下となる粒子である。
するものである。画像形成後の白濁を低く抑えるため、
及び良好な画質を得るために平均粒子サイズが小さい方
が好ましく、平均粒子サイズが0.1μm以下、より好
ましくは0.01μm〜0.1μm、特に0.02μm
〜0.08μmが好ましい。ここでいう粒子サイズと
は、ハロゲン化銀粒子が立方体或いは八面体のいわゆる
正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さを
いう。又、正常晶でない場合、例えば球状、棒状、或い
は平板状の粒子の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と
同等な球を考えたときの直径をいう。又ハロゲン化銀は
単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、
下記式で求められる単分散度が40%以下をいう。更に
好ましくは30%以下であり、特に好ましくは0.1%
以上20%以下となる粒子である。
【0133】単分散度(%)=(粒径の標準偏差)/
(粒径の平均値)×100 ハロゲン化銀粒子の形状については、特に制限はない
が、ミラー指数〔100〕面の占める割合が高いことが
好ましく、この割合が50%以上、更には70%以上、
特に80%以上であることが好ましい。ミラー指数〔1
00〕面の比率は増感色素の吸着における〔111〕面
と〔100〕面との吸着依存性を利用したT.Tan
i,J.Imaging Sci.,29,165(1
985)により求めることができる。
(粒径の平均値)×100 ハロゲン化銀粒子の形状については、特に制限はない
が、ミラー指数〔100〕面の占める割合が高いことが
好ましく、この割合が50%以上、更には70%以上、
特に80%以上であることが好ましい。ミラー指数〔1
00〕面の比率は増感色素の吸着における〔111〕面
と〔100〕面との吸着依存性を利用したT.Tan
i,J.Imaging Sci.,29,165(1
985)により求めることができる。
【0134】又もう一つの好ましいハロゲン化銀の形状
は、平板状粒子である。ここでいう平板状粒子とは、投
影面積の平方根を粒径rμmとし、垂直方向の厚みをh
μmとした場合のアスペクト比=r/hが3以上のもの
をいう。その中でも好ましくはアスペクト比が3以上5
0以下である。又粒径は0.1μm以下であることが好
ましく、更に0.01μm〜0.08μmが好ましい。
これらは米国特許第5,264,337号、同第5,3
14,798号、同第5,320,958号等に記載さ
れており、容易に目的の平板状粒子を得ることができ
る。本発明に於いてこれらの平板状粒子を用いた場合、
更に画像の鮮鋭性も向上する。
は、平板状粒子である。ここでいう平板状粒子とは、投
影面積の平方根を粒径rμmとし、垂直方向の厚みをh
μmとした場合のアスペクト比=r/hが3以上のもの
をいう。その中でも好ましくはアスペクト比が3以上5
0以下である。又粒径は0.1μm以下であることが好
ましく、更に0.01μm〜0.08μmが好ましい。
これらは米国特許第5,264,337号、同第5,3
14,798号、同第5,320,958号等に記載さ
れており、容易に目的の平板状粒子を得ることができ
る。本発明に於いてこれらの平板状粒子を用いた場合、
更に画像の鮮鋭性も向上する。
【0135】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。これらの乳剤は酸性法、中
性法、アンモニア法等のいずれで調製してもよく、又可
溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形成として
は、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のいず
れを用いてもよい。このハロゲン化銀はいかなる方法で
画像形成層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀
は還元可能な銀源に近接するように配置する。又、ハロ
ゲン化銀は有機酸銀とハロゲンイオンとの反応による有
機酸銀中の銀の一部又は全部をハロゲン化銀に変換する
ことによって調製してもよいし、ハロゲン化銀を予め調
製しておき、これを有機銀塩を調製するための溶液に添
加してもよく、又はこれらの方法の組み合わせも可能で
あるが、後者が好ましい。一般にハロゲン化銀は有機銀
塩に対して0.75〜30重量%の量で含有することが
好ましい。
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。これらの乳剤は酸性法、中
性法、アンモニア法等のいずれで調製してもよく、又可
溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形成として
は、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のいず
れを用いてもよい。このハロゲン化銀はいかなる方法で
画像形成層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀
は還元可能な銀源に近接するように配置する。又、ハロ
ゲン化銀は有機酸銀とハロゲンイオンとの反応による有
機酸銀中の銀の一部又は全部をハロゲン化銀に変換する
ことによって調製してもよいし、ハロゲン化銀を予め調
製しておき、これを有機銀塩を調製するための溶液に添
加してもよく、又はこれらの方法の組み合わせも可能で
あるが、後者が好ましい。一般にハロゲン化銀は有機銀
塩に対して0.75〜30重量%の量で含有することが
好ましい。
【0136】本発明に用いられるハロゲン化銀には、照
度不軌改良や改良調整のために、元素周期律表の6族か
ら10族に属する金属のイオン又は錯体イオンを含有す
ることが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、C
o、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、I
r、Pt、Auが好ましい。
度不軌改良や改良調整のために、元素周期律表の6族か
ら10族に属する金属のイオン又は錯体イオンを含有す
ることが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、C
o、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、I
r、Pt、Auが好ましい。
【0137】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができる。
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができる。
【0138】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、金化合物や白金、パ
ラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増
感法を用いることができる。
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、金化合物や白金、パ
ラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増
感法を用いることができる。
【0139】好適な色調剤の例はRD17029号に開
示されている。これらの内、好ましい色調剤はフタラゾ
ン又はフタラジンである。
示されている。これらの内、好ましい色調剤はフタラゾ
ン又はフタラジンである。
【0140】本発明の黒白熱現像感光材料には現像を抑
制或いは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を
向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためな
どにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化
合物を含有させることができる。
制或いは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を
向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためな
どにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化
合物を含有させることができる。
【0141】本発明の熱現像感光材料中にはかぶり防止
剤が含まれて良い。有効なかぶり防止剤として例えば米
国特許第3,589,903号などで知られている水銀
化合物は環境的に好ましくない。そのため非水銀かぶり
防止剤の検討が古くから行われてきた。非水銀かぶり防
止剤としては例えば米国特許第4,546,075号及
び同第4,452,885号及び特開昭59−5723
4号に開示されている様なかぶり防止剤が好ましい。ま
た経時での濃度変動を抑えるには、現像後のカブリを低
減する酸化剤を用いればよく、公知の酸化剤が採用でき
る。
剤が含まれて良い。有効なかぶり防止剤として例えば米
国特許第3,589,903号などで知られている水銀
化合物は環境的に好ましくない。そのため非水銀かぶり
防止剤の検討が古くから行われてきた。非水銀かぶり防
止剤としては例えば米国特許第4,546,075号及
び同第4,452,885号及び特開昭59−5723
4号に開示されている様なかぶり防止剤が好ましい。ま
た経時での濃度変動を抑えるには、現像後のカブリを低
減する酸化剤を用いればよく、公知の酸化剤が採用でき
る。
【0142】好適なバインダーは透明又は半透明で、一
般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及び
コポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば:
ゼラチン、アラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、
ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニルピロリ
ドン)、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)、ポ
リ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ
(メタクリル酸)、コポリ(スチレン−無水マレイン
酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ
(スチレン−ブタジエン)、ポリ(ビニルアセタール)
類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニ
ルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタ
ン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポ
リ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ
(ビニルアセテート)、セルロースエステル類、ポリ
(アミド)類がある。親水性でも疎水性でもよいが、本
発明においては、熱現像後のカブリを低減させるため
に、疎水性透明バインダーを使用することが好ましい。
好ましいバインダーとしては、ポリビニルブチラール、
セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアクリル
酸、ポリウレタンなどがあげられる。その中でもポリビ
ニルブチラール、セルロースアセテート、セルロースア
セテートブチレート、ポリエステルは特に好ましく用い
られる。
般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及び
コポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば:
ゼラチン、アラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、
ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニルピロリ
ドン)、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)、ポ
リ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ
(メタクリル酸)、コポリ(スチレン−無水マレイン
酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ
(スチレン−ブタジエン)、ポリ(ビニルアセタール)
類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニ
ルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタ
ン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポ
リ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ
(ビニルアセテート)、セルロースエステル類、ポリ
(アミド)類がある。親水性でも疎水性でもよいが、本
発明においては、熱現像後のカブリを低減させるため
に、疎水性透明バインダーを使用することが好ましい。
好ましいバインダーとしては、ポリビニルブチラール、
セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアクリル
酸、ポリウレタンなどがあげられる。その中でもポリビ
ニルブチラール、セルロースアセテート、セルロースア
セテートブチレート、ポリエステルは特に好ましく用い
られる。
【0143】またもう一つの好ましいバインダーとして
は、水系溶媒(水溶媒)に可溶または分散可能で、25
℃、60%RHにおける平衡含水率が2重量%以下のポ
リマーである。このようなポリマーを用いると、30重
量%以上の水を含有する水溶媒を塗布溶媒に用いた感光
層の塗設ができる。
は、水系溶媒(水溶媒)に可溶または分散可能で、25
℃、60%RHにおける平衡含水率が2重量%以下のポ
リマーである。このようなポリマーを用いると、30重
量%以上の水を含有する水溶媒を塗布溶媒に用いた感光
層の塗設ができる。
【0144】上記ポリマーとしては、例えばアクリル樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル
樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ゴム系樹脂(例えばSBR
樹脂やNBR樹脂)、酢酸ビニル樹脂、ポリオレフィン
樹脂、ポリビニルアセタール樹脂などがある。ポリマー
としては単一のモノマーが重合したホモポリマーでもよ
いし、2種以上のポリマーが重合したコポリマーでもよ
い。ポリマーとしては直鎖状のものでも枝分かれしたも
のでもよい。さらにポリマー同士が架橋されているもの
でもよい。ポリマーの分子量としては重量平均分子量M
wが1000〜1000000、好ましくは3000〜
500000のものが望ましい。分子量が1000未満
のものは一般に塗布後の皮膜強度が小さく、感光層のヒ
ビ割れなどの不都合が生ずる場合がある。
脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル
樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ゴム系樹脂(例えばSBR
樹脂やNBR樹脂)、酢酸ビニル樹脂、ポリオレフィン
樹脂、ポリビニルアセタール樹脂などがある。ポリマー
としては単一のモノマーが重合したホモポリマーでもよ
いし、2種以上のポリマーが重合したコポリマーでもよ
い。ポリマーとしては直鎖状のものでも枝分かれしたも
のでもよい。さらにポリマー同士が架橋されているもの
でもよい。ポリマーの分子量としては重量平均分子量M
wが1000〜1000000、好ましくは3000〜
500000のものが望ましい。分子量が1000未満
のものは一般に塗布後の皮膜強度が小さく、感光層のヒ
ビ割れなどの不都合が生ずる場合がある。
【0145】本発明の黒白熱現像感光材料には、例えば
特開昭63−159841号、同60−140335
号、同63−231437号、同63−259651
号、同63−304242号、同63−15245号、
米国特許第4,639,414号、同第4,740,4
55号、同第4,741,966号、同第4,751,
175号、同第4,835,096号に記載された増感
色素が使用できる。本発明に使用される有用な増感色素
は例えばRD17643IV−A項(1978年12月
p.23)、同Item1831X項(1978年8月
p.437)に記載もしくは引用された文献に記載され
ている。特に各種スキャナー光源の分光特性に適した分
光感度を有する増感色素を有利に選択することができ
る。例えば特開平9−34078号、同9−54409
号、同9−80679号記載の化合物が好ましく用いら
れる。
特開昭63−159841号、同60−140335
号、同63−231437号、同63−259651
号、同63−304242号、同63−15245号、
米国特許第4,639,414号、同第4,740,4
55号、同第4,741,966号、同第4,751,
175号、同第4,835,096号に記載された増感
色素が使用できる。本発明に使用される有用な増感色素
は例えばRD17643IV−A項(1978年12月
p.23)、同Item1831X項(1978年8月
p.437)に記載もしくは引用された文献に記載され
ている。特に各種スキャナー光源の分光特性に適した分
光感度を有する増感色素を有利に選択することができ
る。例えば特開平9−34078号、同9−54409
号、同9−80679号記載の化合物が好ましく用いら
れる。
【0146】又感光材料の表面を保護したり擦り傷を防
止するために、画像形成層の外側に非画像形成層を有す
ることができる。これらの非画像形成層に用いられるバ
インダーは画像形成層に用いられるバインダーと同じ種
類でも異なった種類でもよい。
止するために、画像形成層の外側に非画像形成層を有す
ることができる。これらの非画像形成層に用いられるバ
インダーは画像形成層に用いられるバインダーと同じ種
類でも異なった種類でもよい。
【0147】本発明に於いては、熱現像の速度を速める
ために画像形成層のバインダー量が1.5〜10g/m
2であることが好ましい。更に好ましくは1.7〜8g
/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が
大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
ために画像形成層のバインダー量が1.5〜10g/m
2であることが好ましい。更に好ましくは1.7〜8g
/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が
大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
【0148】各種の添加剤は画像形成層、非画像形成
層、又はその他の形成層のいずれに添加しても良い。本
発明の熱現像感光材料には例えば、界面活性剤、酸化防
止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を
用いても良い。これらの添加剤及び上述したその他の添
加剤はRD17029(1978年6月p.9〜15)
に記載されている化合物を好ましく用いることができ
る。
層、又はその他の形成層のいずれに添加しても良い。本
発明の熱現像感光材料には例えば、界面活性剤、酸化防
止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を
用いても良い。これらの添加剤及び上述したその他の添
加剤はRD17029(1978年6月p.9〜15)
に記載されている化合物を好ましく用いることができ
る。
【0149】本発明で用いられる支持体は現像処理後の
画像の変形を防ぐためにプラスチックフィルム(例え
ば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカー
ボネート、ポリイミド、ナイロン、セルローストリアセ
テート、ポリエチレンナフタレート)であることが好ま
しい。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好
ましくは70〜180μmである。又熱処理したプラス
チック支持体を用いることもできる。支持体の製膜方法
及び下引製造方法は公知の方法を用いることができる
が、好ましくは、特開平9−50094号の段落〔00
30〕〜〔0070〕に記載された方法を用いることで
ある。
画像の変形を防ぐためにプラスチックフィルム(例え
ば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカー
ボネート、ポリイミド、ナイロン、セルローストリアセ
テート、ポリエチレンナフタレート)であることが好ま
しい。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好
ましくは70〜180μmである。又熱処理したプラス
チック支持体を用いることもできる。支持体の製膜方法
及び下引製造方法は公知の方法を用いることができる
が、好ましくは、特開平9−50094号の段落〔00
30〕〜〔0070〕に記載された方法を用いることで
ある。
【0150】本発明の黒白熱現像感光材料の露光は縦マ
ルチである走査レーザー光を発するレーザー走査露光機
を用いて行うことが好ましい。
ルチである走査レーザー光を発するレーザー走査露光機
を用いて行うことが好ましい。
【0151】レーザー光を縦マルチ化するには、合波に
よる、戻り光を利用する、高周波重畳をかける、などの
方法がよい。具体的には特開昭59−10964号公報
に記載の方法が好ましく用いられる。なお、縦マルチ
は、露光波長が単一でないことを意味し、通常露光波長
の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上になると
よい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通
常60nm程度である。
よる、戻り光を利用する、高周波重畳をかける、などの
方法がよい。具体的には特開昭59−10964号公報
に記載の方法が好ましく用いられる。なお、縦マルチ
は、露光波長が単一でないことを意味し、通常露光波長
の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上になると
よい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通
常60nm程度である。
【0152】また感光材料の露光面と走査レーザー光の
なす角が実質的に垂直になることがないレーザー走査露
光機を用いることが好ましい。具体的には特開平5−1
13548号公報に記載の方法が好ましく用いられる。
ここで、「実質的に垂直になることがない」とはレーザ
ー走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは55〜
88°、より好ましくは60〜86°、更に好ましくは
65〜84°、最も好ましくは70〜82°であること
をいう。
なす角が実質的に垂直になることがないレーザー走査露
光機を用いることが好ましい。具体的には特開平5−1
13548号公報に記載の方法が好ましく用いられる。
ここで、「実質的に垂直になることがない」とはレーザ
ー走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは55〜
88°、より好ましくは60〜86°、更に好ましくは
65〜84°、最も好ましくは70〜82°であること
をいう。
【0153】レーザー光が、感光材料に走査されるとき
の感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ましく
は200μm以下、より好ましくは100μm以下であ
る。これは、スポット径が小さい方がレーザー入射角度
の垂直からのずらし角度を減らせる点で好ましい。な
お、ビームスポット直径の下限は5μmである。このよ
うなレーザー走査露光を行うことにより干渉縞様のムラ
の発生等のような反射光に係る画質劣化を減じることが
出来る。
の感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ましく
は200μm以下、より好ましくは100μm以下であ
る。これは、スポット径が小さい方がレーザー入射角度
の垂直からのずらし角度を減らせる点で好ましい。な
お、ビームスポット直径の下限は5μmである。このよ
うなレーザー走査露光を行うことにより干渉縞様のムラ
の発生等のような反射光に係る画質劣化を減じることが
出来る。
【0154】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【0155】実施例1 〈熱現像感光材料の作製〉 (下引済み支持体の作製)PET下引済み写真用支持体
の作製を以下の通り行った。市販の2軸延伸熱固定済み
の厚さ125μmのPETフィルムの両面に8w/m2
・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引塗布
液a−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し乾燥
させて下引層A−1とし、又反対側の面に下記帯電防止
加工した下引塗布液b−1を乾燥膜厚0.8μmになる
ように塗設し乾燥させて帯電防止加工下引層B−1とし
た。
の作製を以下の通り行った。市販の2軸延伸熱固定済み
の厚さ125μmのPETフィルムの両面に8w/m2
・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引塗布
液a−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し乾燥
させて下引層A−1とし、又反対側の面に下記帯電防止
加工した下引塗布液b−1を乾燥膜厚0.8μmになる
ように塗設し乾燥させて帯電防止加工下引層B−1とし
た。
【0156】 《下引塗布液a−1》 ブチルアクリレート(30重量%)、t−ブチルアクリレート(20重量%) 、スチレン(25重量%)、2−ヒドロキシエチルアクリレート (25重量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm) 0.05g コロイダルシリカ(平均粒径90μm) 0.1g 水で1Lに仕上げる 《下引塗布液b−1》 SnO2/Sb(9/1の重量比、平均粒径0.18μm) 200mg/m2になる量 ブチルアクリレート(40重量%)、スチレン(20重量%)、グリシジルア クリレート(40重量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1Lに仕上げる。
【0157】引き続き、下引層A−1及び下引層B−1
の表面上に8w/m2・分のコロナ放電を施し、下引層
A−1の上には下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜厚
0.1μmになる様に下引層A−2として塗設し、又下
引層B−1の上には下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜
厚0.8μmになる様に帯電防止機能を持つ下引上層B
−2として塗設した。
の表面上に8w/m2・分のコロナ放電を施し、下引層
A−1の上には下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜厚
0.1μmになる様に下引層A−2として塗設し、又下
引層B−1の上には下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜
厚0.8μmになる様に帯電防止機能を持つ下引上層B
−2として塗設した。
【0158】 《下引上層塗布液a−2》 ゼラチン 0.4g/m2になる重量 (C−1) 0.2g (C−2) 0.2g (C−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.1g 水で1Lに仕上げる 《下引上層塗布液b−2》 (C−4) 60g (C−5)を成分とするラテックス液(固形分20%) 80g 硫酸アンモニウム 0.5g (C−6) 12g ポリエチレングリコール(重量平均分子量600) 6g 水で1Lに仕上げる。
【0159】
【化44】
【0160】
【化45】
【0161】(支持体の熱処理)上記の下引済み支持体
の下引乾燥工程に於いて、支持体を140℃で加熱し、
その後徐々に冷却した。
の下引乾燥工程に於いて、支持体を140℃で加熱し、
その後徐々に冷却した。
【0162】〈ハロゲン化銀乳剤Aの調製〉水900m
l中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カリウム10
mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わせた
後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと(60/3
8/2)のモル比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃
化カリウムを含む水溶液及び〔Ir(NO)Cl5〕塩
を銀1モル当たり1×10-6モル及び塩化ロジウム塩を
銀1モル当たり1×10-6モルを、pAg7.7に保ち
ながらコントロールドダブルジェット法で添加した。そ
の後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデンを添加しNaOHでpHを5に調整し
て平均粒子サイズ0.06μm、単分散度10%の投影
直径面積の変動係数8%、〔100〕面比率87%の立
方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を
用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール
0.1gを加え、pH5.9、pAg7.5に調整し
た。更に塩化金酸、無機硫黄、二酸化チオ尿素及び2,
3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルフォスフィン
セレニドで化学増感を行い、ハロゲン化銀乳剤Aを得
た。
l中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カリウム10
mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わせた
後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと(60/3
8/2)のモル比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃
化カリウムを含む水溶液及び〔Ir(NO)Cl5〕塩
を銀1モル当たり1×10-6モル及び塩化ロジウム塩を
銀1モル当たり1×10-6モルを、pAg7.7に保ち
ながらコントロールドダブルジェット法で添加した。そ
の後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデンを添加しNaOHでpHを5に調整し
て平均粒子サイズ0.06μm、単分散度10%の投影
直径面積の変動係数8%、〔100〕面比率87%の立
方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を
用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール
0.1gを加え、pH5.9、pAg7.5に調整し
た。更に塩化金酸、無機硫黄、二酸化チオ尿素及び2,
3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルフォスフィン
セレニドで化学増感を行い、ハロゲン化銀乳剤Aを得
た。
【0163】〈ベヘン酸ナトリウム溶液の調製〉945
mlの純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9
g、ステアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高
速で撹拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液9
8mlを添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた
後、55℃に冷却して30分撹拌させてベヘン酸ナトリ
ウム溶液を得た。
mlの純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9
g、ステアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高
速で撹拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液9
8mlを添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた
後、55℃に冷却して30分撹拌させてベヘン酸ナトリ
ウム溶液を得た。
【0164】〈ベヘン酸ナトリウム溶液とハロゲン化銀
乳剤Aのプレフォーム乳剤の調製〉上記のベヘン酸ナト
リウム溶液に得られたハロゲン化銀乳剤Aを15.1g
添加し水酸化ナトリウム溶液でpH8.1に調整した後
に1Mの硝酸銀溶液147mlを7分間かけて加え、更
に20分撹拌し限外濾過により水溶性塩類を除去した。
できたベヘン酸銀は平均粒子サイズ0.8μm、単分散
度8%の粒子であった。分散物のフロックを形成後、水
を取り除き、更に6回の水洗と水の除去を行った後乾燥
させた。
乳剤Aのプレフォーム乳剤の調製〉上記のベヘン酸ナト
リウム溶液に得られたハロゲン化銀乳剤Aを15.1g
添加し水酸化ナトリウム溶液でpH8.1に調整した後
に1Mの硝酸銀溶液147mlを7分間かけて加え、更
に20分撹拌し限外濾過により水溶性塩類を除去した。
できたベヘン酸銀は平均粒子サイズ0.8μm、単分散
度8%の粒子であった。分散物のフロックを形成後、水
を取り除き、更に6回の水洗と水の除去を行った後乾燥
させた。
【0165】〈感光性乳剤の調製〉得られたプレフォー
ム乳剤にポリビニルブチラール(平均分子量3000)
のメチルエチルケトン溶液(17wt%)544gとト
ルエン107gを徐々に添加して混合した後、4000
psiで分散させた。分散後、電子顕微鏡写真で有機銀
粒子を観察した。300個の有機銀粒子の粒径と厚みを
測定した結果、205個がAR3以上の平板状有機銀で
あった。尚、平均粒径は0.7μmであった。又塗布乾
燥後も同様に有機銀粒子を観察したところ、同じ粒子が
確認できた。
ム乳剤にポリビニルブチラール(平均分子量3000)
のメチルエチルケトン溶液(17wt%)544gとト
ルエン107gを徐々に添加して混合した後、4000
psiで分散させた。分散後、電子顕微鏡写真で有機銀
粒子を観察した。300個の有機銀粒子の粒径と厚みを
測定した結果、205個がAR3以上の平板状有機銀で
あった。尚、平均粒径は0.7μmであった。又塗布乾
燥後も同様に有機銀粒子を観察したところ、同じ粒子が
確認できた。
【0166】〈塗布工程〉《バック層面側塗布》以下の
組成のバック層塗布液を、押し出しコーターで上記支持
体の帯電防止加工した下引層B−2面側にウェット膜厚
30μmになるように塗布し、60℃、15分で乾燥し
た。
組成のバック層塗布液を、押し出しコーターで上記支持
体の帯電防止加工した下引層B−2面側にウェット膜厚
30μmになるように塗布し、60℃、15分で乾燥し
た。
【0167】 (バック層塗布液処方1) セルロースアセテートブチレート(10%メチルエチルケトン溶液) 15ml/m2 染料−A 7mg/m2 染料−B 7mg/m2 マット剤(単分散度15%、平均粒子サイズ8μmの単分散シリカ) 15mg/m2 フッ素系界面活性剤 F−5 10mg/m2
【0168】
【化46】
【0169】《画像形成層面側塗布》以下の組成の画像
形成層塗布液とその上に保護層塗布液を、押し出しコー
ターで上記支持体の下引層A−2面側に毎分20mの速
度で重層塗布した。その際、塗布銀量が1.5g/m2
になる様に調整して塗布した。その後、55℃、15分
乾燥を行った。
形成層塗布液とその上に保護層塗布液を、押し出しコー
ターで上記支持体の下引層A−2面側に毎分20mの速
度で重層塗布した。その際、塗布銀量が1.5g/m2
になる様に調整して塗布した。その後、55℃、15分
乾燥を行った。
【0170】 (画像形成層塗布液) 感光性乳剤(上記で得られたもの) 240g 増感色素(0.1%メタノール溶液) 1.7ml ピリジニウムプロミドペルブロミド(6%メタノール溶液) 3ml 臭化カルシウム(0.1%メタノール溶液) 1.7ml ヘキサメチレンジイソシアネート(10%メタノール溶液) 1.2ml 2−4−クロロベンゾイル安息香酸(12%メタノール溶液) 9.2ml 2−メルカプトベンズイミダゾール(1%メタノール溶液) 11ml ヒドラジン誘導体 H−31(5%メタノール溶液) 15ml ヒドラジン誘導体 H−33(5%メタノール溶液) 15ml 4級オニウム化合物 P−45(1%メタノール溶液) 10ml ヒドロキシビニル化合物 V−1(5%メタノール溶液) 10ml 酸化剤 17ml A−3(20%メタノール溶液) 29.5ml フタラジン 0.6g 4−メチルフタル酸 0.25g テトラクロロフタル酸 0.2g (表面保護層塗布液1) アセトン 5ml/m2 メチルエチルケトン 21ml/m2 セルロースアセテートブチレート 2.3g/m2 メタノール 7ml/m2 フタラジン 250mg/m2 マット剤 表1に示す ビニルスルホン化合物 VS−1 35mg/m2 フッ素系界面活性剤 表1に示す
【0171】
【化47】
【0172】このようにして熱現像感光材料を得た。得
られた試料に残存する溶媒MEKの量は70mg/m2
であった。これを試料101〜105とする。
られた試料に残存する溶媒MEKの量は70mg/m2
であった。これを試料101〜105とする。
【0173】《乳剤層側の剥離帯電量の評価》上記で作
製した熱現像感光材料を23℃、55%RHの条件で1
2時間調湿した後、10枚づつ重ねて酸素と水分を透過
しないバリア袋に入れて、強制例劣化条件として40
℃、3日間加温した。その後、温度23℃、55%RH
の条件下で、直径3cmに裁断したフィルム試料の乳剤
面側を、直径1.5cmの円盤状イソプレンゴム上に3
回剥離を行い発生した剥離帯電量を測定した。
製した熱現像感光材料を23℃、55%RHの条件で1
2時間調湿した後、10枚づつ重ねて酸素と水分を透過
しないバリア袋に入れて、強制例劣化条件として40
℃、3日間加温した。その後、温度23℃、55%RH
の条件下で、直径3cmに裁断したフィルム試料の乳剤
面側を、直径1.5cmの円盤状イソプレンゴム上に3
回剥離を行い発生した剥離帯電量を測定した。
【0174】《露光》上記で作製した熱現像感光材料を
25cm×30cmに切断して23℃、50%RHの条
件で12時間調湿した後、10枚づつ重ねて酸素と水分
を透過しないバリア袋に入れて、強制劣化条件として4
0℃、3日間加温した。その後、波長780nmの半導
体レーザーを特開昭59−130494号に記載の高周
波重畳法を用いて縦マルチモードにした露光源を有する
露光機によりレーザー操作によりウェッジを介して露光
を乳剤面側より感光材料に与えた。
25cm×30cmに切断して23℃、50%RHの条
件で12時間調湿した後、10枚づつ重ねて酸素と水分
を透過しないバリア袋に入れて、強制劣化条件として4
0℃、3日間加温した。その後、波長780nmの半導
体レーザーを特開昭59−130494号に記載の高周
波重畳法を用いて縦マルチモードにした露光源を有する
露光機によりレーザー操作によりウェッジを介して露光
を乳剤面側より感光材料に与えた。
【0175】《現像処理》そして、イメイション(Im
ation)社製印刷製版用ドライフィルム用熱現像機
で115℃で20秒熱現像処理した。なおこのドライフ
ィルム用自動現像機は平面搬送されるタイプの熱現像機
である。
ation)社製印刷製版用ドライフィルム用熱現像機
で115℃で20秒熱現像処理した。なおこのドライフ
ィルム用自動現像機は平面搬送されるタイプの熱現像機
である。
【0176】《搬送性試験》上記の熱現像処理を連続し
て100枚処理した。その時に搬送不良を起こした枚数
をカウントした。
て100枚処理した。その時に搬送不良を起こした枚数
をカウントした。
【0177】《熱現像後の濃度変動》上記で露光・熱現
像した熱現像感光材料を2つに分け、片方を強制劣化評
価用に光を当てながら40℃・60%RHの恒温槽に5
日間投入した。投入する前に濃度2.5であったものが
投入後にどのくらい濃度変動したかを濃度計で測定し
た。
像した熱現像感光材料を2つに分け、片方を強制劣化評
価用に光を当てながら40℃・60%RHの恒温槽に5
日間投入した。投入する前に濃度2.5であったものが
投入後にどのくらい濃度変動したかを濃度計で測定し
た。
【0178】《熱現像処理条件変化での性能変動》上記
で作製した熱現像感光材料を露光し、自動現像機の熱現
像部を改良して温度を105℃に下げて20秒間現像し
たものの感度を、115℃・20秒の時の感度を基準に
した時の変化率を百分率で表した。ここでの感度とは、
濃度1.0を与える露光量の逆数の相対値である。
で作製した熱現像感光材料を露光し、自動現像機の熱現
像部を改良して温度を105℃に下げて20秒間現像し
たものの感度を、115℃・20秒の時の感度を基準に
した時の変化率を百分率で表した。ここでの感度とは、
濃度1.0を与える露光量の逆数の相対値である。
【0179】評価した結果を表2に示す。
【0180】
【表2】
【0181】実施例2 下引塗布液処方b−1を下記下引塗布液処方b−11
に、バック層塗布液処方1を下記バック層塗布液処方2
に、表面保護層塗布液1を表面保護層塗布液2にかえる
以外は実施例1と同様にして熱現像感光材料を得た。得
られた試料の残存する溶媒MEKの量は70mg/m2
であった。これを試料201〜205とする。
に、バック層塗布液処方1を下記バック層塗布液処方2
に、表面保護層塗布液1を表面保護層塗布液2にかえる
以外は実施例1と同様にして熱現像感光材料を得た。得
られた試料の残存する溶媒MEKの量は70mg/m2
であった。これを試料201〜205とする。
【0182】 《下引塗布液b−11》 SnO2/Sb(9/1の重量比、平均粒径0.05μm) 100mg/m2になる量 ブチルアクリレート(40重量%)、スチレン(20重量%)、グリシジルア クリレート(40重量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 250g (バック層塗布液処方2) セルロースアセテートブチレート(10%メチルエチルケトン溶液) 15ml/m2 染料−A 7mg/m2 染料−B 7mg/m2 マット剤 表3に示す フッ素系界面活性剤 表3に示す (表面保護層塗布液2) アセトン 5ml/m2 メチルエチルケトン 21ml/m2 セルロースアセテートブチレート 2.3g/m2 メタノール 7ml/m2 フタラジン 250mg/m2 マット剤 M−1 15mg/m2 ビニルスルホン化合物 VS−1 35mg/m2 フッ素系界面活性剤 F−6 12mg/m2 評価は露光およびバッキング層側の剥離帯電量を下記の
ようにして測定する以外は実施例1と同様にした。
ようにして測定する以外は実施例1と同様にした。
【0183】《バッキング層側の剥離帯電量の評価》上
記で作製した熱現像感光材料を23℃、55%RHの条
件で12時間調湿した後、10枚づつ重ねて酸素と水分
を透過しないバリア袋に入れて、強制劣化条件として4
0℃、3日間加温した。その後、温度23℃、55%R
Hの条件下で、直径3cmに裁断したフィルム試料のバ
ッキング層側表面を、直径1.5cmの円盤状イソプレ
ンゴム上に3回剥離を行い発生した剥離帯電量を測定し
た。
記で作製した熱現像感光材料を23℃、55%RHの条
件で12時間調湿した後、10枚づつ重ねて酸素と水分
を透過しないバリア袋に入れて、強制劣化条件として4
0℃、3日間加温した。その後、温度23℃、55%R
Hの条件下で、直径3cmに裁断したフィルム試料のバ
ッキング層側表面を、直径1.5cmの円盤状イソプレ
ンゴム上に3回剥離を行い発生した剥離帯電量を測定し
た。
【0184】《露光》上記で作製した熱現像感光材料を
25cm×30cmに切断して23℃、50%RHの条
件で12時間調湿した後、10枚づつ重ねて酸素と水分
を透過しないバリア袋に入れて、経時代用サーモとして
40℃、3日間加温した。その後、波長780nmの半
導体レーザーを特開昭59−130494号に記載の高
周波重畳法を用いて縦マルチモードにし、感光材料の露
光面との角度を80度にした露光源を有する露光機によ
りレーザー操作によりウェッジを介して露光を乳剤面側
より感光材料に与えた。
25cm×30cmに切断して23℃、50%RHの条
件で12時間調湿した後、10枚づつ重ねて酸素と水分
を透過しないバリア袋に入れて、経時代用サーモとして
40℃、3日間加温した。その後、波長780nmの半
導体レーザーを特開昭59−130494号に記載の高
周波重畳法を用いて縦マルチモードにし、感光材料の露
光面との角度を80度にした露光源を有する露光機によ
りレーザー操作によりウェッジを介して露光を乳剤面側
より感光材料に与えた。
【0185】結果を表3に示す。
【0186】
【表3】
【0187】実施例3 〈ハロゲン化銀粒子の調製〉水700mlにフタル化ゼ
ラチン22gおよび臭化カリウム30mgを溶解して温
度35℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.
6gを含む水溶液159mlと臭化カリウムと沃化カリ
ウムを92:8のモル比で含む水溶液をpAg7.7に
保ちながらコントロールダブルジェット法で10分間か
けて添加した。ついで、硝酸銀55.4gを含む水溶液
476mlと六塩化イリジウム酸二カリウムを9μモル
/Lと臭化カリウムを1モル/Lで含む水溶液をpAg
7.7に保ちながらコントロールダブルジェット法で3
0分かけて添加した。その後、pHを下げて凝集沈降さ
せ脱塩処理をし、フェノキシエタノール0.1gを加
え、pH5.9、pAg8.2に調整し沃臭化銀粒子
(沃素含量コア8モル%、平均2モル%、平均サイズ
0.05μm、投影面積変動係数8%、(100)面比
率79%の立方体粒子)の調製を終えた。
ラチン22gおよび臭化カリウム30mgを溶解して温
度35℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.
6gを含む水溶液159mlと臭化カリウムと沃化カリ
ウムを92:8のモル比で含む水溶液をpAg7.7に
保ちながらコントロールダブルジェット法で10分間か
けて添加した。ついで、硝酸銀55.4gを含む水溶液
476mlと六塩化イリジウム酸二カリウムを9μモル
/Lと臭化カリウムを1モル/Lで含む水溶液をpAg
7.7に保ちながらコントロールダブルジェット法で3
0分かけて添加した。その後、pHを下げて凝集沈降さ
せ脱塩処理をし、フェノキシエタノール0.1gを加
え、pH5.9、pAg8.2に調整し沃臭化銀粒子
(沃素含量コア8モル%、平均2モル%、平均サイズ
0.05μm、投影面積変動係数8%、(100)面比
率79%の立方体粒子)の調製を終えた。
【0188】こうして得たハロゲン化銀粒子を60℃に
昇温して、銀1モル当たり色素1を60mg、色素2を
30mg、2−メルカプト−5−メチルベンゾイミダゾ
ールを2g、4−クロロベンゾフェノン−2−カルボン
酸21.5g添加した後に、チオ硫酸ナトリウム85μ
モルと2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルジ
フェニルフォスフィンセレニドを11μモル、15μモ
ルのテルル化合物1、塩化金酸3.4μモル、チオシア
ン酸260μモルを添加し、化学熟成した後30℃に急
冷して目的のハロゲン化銀粒子を得た。
昇温して、銀1モル当たり色素1を60mg、色素2を
30mg、2−メルカプト−5−メチルベンゾイミダゾ
ールを2g、4−クロロベンゾフェノン−2−カルボン
酸21.5g添加した後に、チオ硫酸ナトリウム85μ
モルと2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルジ
フェニルフォスフィンセレニドを11μモル、15μモ
ルのテルル化合物1、塩化金酸3.4μモル、チオシア
ン酸260μモルを添加し、化学熟成した後30℃に急
冷して目的のハロゲン化銀粒子を得た。
【0189】〈有機酸銀乳剤の調製〉ステアリン酸1.
3g、アラキジン酸0.5g、ベヘン酸8.5g、蒸留
水300mlを90℃で15分間混合し、激しく撹拌し
ながら1N−NaOH水溶液31.1mlを15分かけ
て添加した後、30℃に降温した。次に、1N−リン酸
水溶液7mlを添加し、より激しく撹拌しながらN−ブ
ロモスクシンイミド0.02gを添加した。さらに、1
N−硝酸銀水溶液25mlを2分かけて添加し、そのま
ま90分間撹拌し続けた。その後、吸引濾過で固形分を
濾別し、固形分を濾水の伝導度が30μS/cmになる
まで水洗した。
3g、アラキジン酸0.5g、ベヘン酸8.5g、蒸留
水300mlを90℃で15分間混合し、激しく撹拌し
ながら1N−NaOH水溶液31.1mlを15分かけ
て添加した後、30℃に降温した。次に、1N−リン酸
水溶液7mlを添加し、より激しく撹拌しながらN−ブ
ロモスクシンイミド0.02gを添加した。さらに、1
N−硝酸銀水溶液25mlを2分かけて添加し、そのま
ま90分間撹拌し続けた。その後、吸引濾過で固形分を
濾別し、固形分を濾水の伝導度が30μS/cmになる
まで水洗した。
【0190】この後真空乾燥して有機酸銀の固体を得
た。この固体10gに10重量%のヒドロキシプロピル
セルロース水溶液40gを添加し、さらに過臭化臭化ピ
リジニウム0.1mモルと、臭化カルシウム2水和物
0.15モルを添加して、そこにあらかじめ調製したハ
ロゲン化銀粒子をハロゲン化銀量が2.5mモルとなる
ように添加し、実施例1と同様に0.5mmサイズZr
O2のビーズミルを用いたメディア分散機で4000p
siで分散して平均粒径約1μのハロゲン化銀/有機酸
銀の水分散物1を得た。
た。この固体10gに10重量%のヒドロキシプロピル
セルロース水溶液40gを添加し、さらに過臭化臭化ピ
リジニウム0.1mモルと、臭化カルシウム2水和物
0.15モルを添加して、そこにあらかじめ調製したハ
ロゲン化銀粒子をハロゲン化銀量が2.5mモルとなる
ように添加し、実施例1と同様に0.5mmサイズZr
O2のビーズミルを用いたメディア分散機で4000p
siで分散して平均粒径約1μのハロゲン化銀/有機酸
銀の水分散物1を得た。
【0191】〈感光層塗布液の調製〉別途、フェニルチ
オスルホン酸を10mg、5−トリブロモメチルスルホ
ニル−2−メチルチアジアゾール8g、2−トリブロモ
メチルスルホニルベンゾチアゾール6g、1,1−ビス
(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,
5,5−トリメチルヘキサン150g、4,6−ジトリ
クロロメチル−2−フェニルトリアジン5g、ジスルフ
ィド化合物1を2g、ヒドラジン誘導体H−28を7
g、テトラクロロフタル酸5gにヒドロキシプロピルセ
ルロース水溶液(10重量%)250gを混合し、ホモ
ジナイザーで分散して上記化合物の水分散物を得た。
オスルホン酸を10mg、5−トリブロモメチルスルホ
ニル−2−メチルチアジアゾール8g、2−トリブロモ
メチルスルホニルベンゾチアゾール6g、1,1−ビス
(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,
5,5−トリメチルヘキサン150g、4,6−ジトリ
クロロメチル−2−フェニルトリアジン5g、ジスルフ
ィド化合物1を2g、ヒドラジン誘導体H−28を7
g、テトラクロロフタル酸5gにヒドロキシプロピルセ
ルロース水溶液(10重量%)250gを混合し、ホモ
ジナイザーで分散して上記化合物の水分散物を得た。
【0192】この分散物10.3gを分散物1の50g
と混合して、さらにバインダー(ブタジエン:スチレ
ン:アクリル酸=50:47:3(重量比)のラテック
ス(Mw=1万))を10g、p−ドデシルベンゼンス
ルホン酸ナトリウムを3mg加え、そこに蒸留水を加え
200mlの塗布液を調製した。
と混合して、さらにバインダー(ブタジエン:スチレ
ン:アクリル酸=50:47:3(重量比)のラテック
ス(Mw=1万))を10g、p−ドデシルベンゼンス
ルホン酸ナトリウムを3mg加え、そこに蒸留水を加え
200mlの塗布液を調製した。
【0193】
【化48】
【0194】〈表面保護層塗布液の調製〉ポリマーラテ
ックス(メチルメタクリレート/スチレン/2−エチル
ヘキシルアクリレート/2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート/メタアクリル酸=59/9/26/5/1の共
重合体、固形分40%)500gに、H2O262gを
加え、造膜助剤としてベンジルアルコール14g、化合
物D2.5g、セロゾール524(中京油脂(株)製)
3.6g、化合物E12g、化合物F1g、化合物G2
g、化合物H7.5g、マット剤として平均粒径3μm
のポリメチルメタクリレート微粒子3.4gを順次加え
て、更にH2Oを加えて、1000gとし、粘度5cp
(25℃)、pH3.4(25℃)の塗布液を調製し
た。
ックス(メチルメタクリレート/スチレン/2−エチル
ヘキシルアクリレート/2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート/メタアクリル酸=59/9/26/5/1の共
重合体、固形分40%)500gに、H2O262gを
加え、造膜助剤としてベンジルアルコール14g、化合
物D2.5g、セロゾール524(中京油脂(株)製)
3.6g、化合物E12g、化合物F1g、化合物G2
g、化合物H7.5g、マット剤として平均粒径3μm
のポリメチルメタクリレート微粒子3.4gを順次加え
て、更にH2Oを加えて、1000gとし、粘度5cp
(25℃)、pH3.4(25℃)の塗布液を調製し
た。
【0195】
【化49】
【0196】〈試料の作製〉実施例1と同じ帯電防止加
工を施した下引き済み支持体の一方の面に、ポリマーラ
テックスの固形分が1.5g/m2の塗布量になるよう
に塗布して50℃で20分間乾燥した。このようにして
1.5μm厚(乾燥膜厚)のバック層を形成した。
工を施した下引き済み支持体の一方の面に、ポリマーラ
テックスの固形分が1.5g/m2の塗布量になるよう
に塗布して50℃で20分間乾燥した。このようにして
1.5μm厚(乾燥膜厚)のバック層を形成した。
【0197】更にこの上に下記のバック保護層を塗布
し、乾燥した。
し、乾燥した。
【0198】 〈バック層塗布液の調製〉 バインダー(前述) 15g 蒸留水 1000g p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 30mg エポキシ化合物(ナガセ化成工業(株)製、デイナコールEX313) 100mg 染料a 50mg 染料b 110mg 染料c 40mg 染料d 50mg ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径5μm) 20mg
【0199】
【化50】
【0200】 〈バック保護層組成〉 ケミパールS−120(三井石油化学(株)製) 500mg/m2 スノーテックス−C(日産化学(株)製) 40mg/m2 デナコールEX−614B(長瀬化成工業(株)製) 30mg/m2 この様にして作製したバック/下塗り層の付いたPET
支持体を200℃に設定した全長200mの熱処理ゾー
ンに入れ、張力3kg/cm2、搬送速度20m/分で
搬送した。その後で、40℃のゾーンに15秒間通し、
10kg/cm2の巻き取り張力で巻き取った。
支持体を200℃に設定した全長200mの熱処理ゾー
ンに入れ、張力3kg/cm2、搬送速度20m/分で
搬送した。その後で、40℃のゾーンに15秒間通し、
10kg/cm2の巻き取り張力で巻き取った。
【0201】さらにこの反対の面に画像形成層を塗布銀
量が2.3g/m2になるように塗布して50℃で20
分間乾燥した。該層の厚さは乾燥膜厚で20μmであっ
た。
量が2.3g/m2になるように塗布して50℃で20
分間乾燥した。該層の厚さは乾燥膜厚で20μmであっ
た。
【0202】続いて、この上に表面保護層をバインダー
塗布量が2g/m2になるように塗布して、50℃で2
0分間乾燥して1.6μm厚に形成した。
塗布量が2g/m2になるように塗布して、50℃で2
0分間乾燥して1.6μm厚に形成した。
【0203】試料の感光層に用いたバインダーの含水率
を求めたところ、0.3重量%であった。
を求めたところ、0.3重量%であった。
【0204】〈写真性能の評価〉25℃、60%RHの
雰囲気下で、780nm半導体レーザーを特開昭59−
130494号に記載の高周波重畳法を用いて縦マルチ
モードにした露光源を備えたイメージセッターで感光材
料を露光した後、感光材料を125℃で15秒間加熱現
像処理した。なお露光時の感光材料の露光面と露光レー
ザー光の角度は80度とした。
雰囲気下で、780nm半導体レーザーを特開昭59−
130494号に記載の高周波重畳法を用いて縦マルチ
モードにした露光源を備えたイメージセッターで感光材
料を露光した後、感光材料を125℃で15秒間加熱現
像処理した。なお露光時の感光材料の露光面と露光レー
ザー光の角度は80度とした。
【0205】得られた画像について実施例1と同様にし
て評価を行った。
て評価を行った。
【0206】なお、バッキング層側の剥離帯電量は60
pQ/cm2であった。評価した結果を表4に示す。
pQ/cm2であった。評価した結果を表4に示す。
【0207】
【表4】
【0208】
【発明の効果】本発明の黒白熱現像感光材料によれば、
自動熱現像機で処理して搬送性に優れ、安定な写真性能
が得られる。
自動熱現像機で処理して搬送性に優れ、安定な写真性能
が得られる。
Claims (7)
- 【請求項1】 支持体上にハロゲン化銀、有機銀粒子及
び還元剤を有し、ハロゲン化銀を有する側の表面のイソ
プレンゴムに対する剥離帯電量が120pQ/cm2以
下であることを特徴とする黒白熱現像感光材料。 - 【請求項2】 支持体上にハロゲン化銀、有機銀粒子及
び還元剤を有し、ハロゲン化銀を有する側の反対側の表
面のイソプレンゴムに対する剥離帯電量が140pQ/
cm2以下であることを特徴とする黒白熱現像感光材
料。 - 【請求項3】 有機銀粒子を含有する側の構成層中にヒ
ドラジン誘導体を含有することを特徴とする請求項1又
は2に記載の黒白熱現像感光材料。 - 【請求項4】 有機銀粒子を含有する側の構成層中に4
級オニウム化合物を含有することを特徴とする請求項
1、2又は3に記載の黒白熱現像感光材料。 - 【請求項5】 請求項1、2、3又は4に記載の黒白熱
現像感光材料にレーザー光が縦マルチであるレーザー露
光機を用いて露光することを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項6】 請求項1、2、3又は4に記載の黒白熱
現像感光材料に露光面とレーザー光のなす角度が実質的
に垂直になることがないレーザー光を有するレーザー露
光機を用いて露光することを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項7】 露光面とレーザー光のなす角度が実質的
に垂直になることがないレーザー光を有するレーザー露
光機を用いて露光することを特徴とする請求項5に記載
の画像形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11121648A JP2000310832A (ja) | 1999-04-28 | 1999-04-28 | 黒白熱現像感光材料及びそれを用いる画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11121648A JP2000310832A (ja) | 1999-04-28 | 1999-04-28 | 黒白熱現像感光材料及びそれを用いる画像形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000310832A true JP2000310832A (ja) | 2000-11-07 |
Family
ID=14816464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11121648A Pending JP2000310832A (ja) | 1999-04-28 | 1999-04-28 | 黒白熱現像感光材料及びそれを用いる画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000310832A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7977040B2 (en) | 2001-10-19 | 2011-07-12 | Fujifilm Corporation | Heat developable photosensitive material |
| US20150157768A1 (en) * | 2004-03-02 | 2015-06-11 | Boston Scientific Scimed Inc. | Embolization |
-
1999
- 1999-04-28 JP JP11121648A patent/JP2000310832A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7977040B2 (en) | 2001-10-19 | 2011-07-12 | Fujifilm Corporation | Heat developable photosensitive material |
| US20150157768A1 (en) * | 2004-03-02 | 2015-06-11 | Boston Scientific Scimed Inc. | Embolization |
| US9339591B2 (en) * | 2004-03-02 | 2016-05-17 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Embolization |
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