JP2000312642A

JP2000312642A - 調理器具

Info

Publication number: JP2000312642A
Application number: JP11123643A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Wakamatsu; 博司若松; Toshio Wakamatsu; 俊男若松
Original assignee: TERUMO KOGYO KK
Current assignee: TERUMO KOGYO KK
Priority date: 1999-04-30
Filing date: 1999-04-30
Publication date: 2000-11-14

Abstract

(57)【要約】【課題】十分な火力で食材を加熱できるとともに大幅な
省エネルギーに貢献する調理器具を提供する。【解決手段】盤状部材１１にヒータ１３が設けられ、上
記盤状部材１１の表面に、赤外領域の電磁波に対する放
射率が７０％以上の高放射率被覆体が形成された加熱装
置１を備えることにより、熱伝導と熱放射とによる食材
の加熱を同時に行い、熱伝達率を向上させることによ
り、十分な火力で食材を加熱できるとともに大幅な省エ
ネルギーに貢献した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、省エネルギーに優
れた調理器具に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】古くから、食材の加熱調理には、鉄板や
鍋、フライパン等の調理器具が用いられてきた。これら
の調理器具は、電熱器やガスコンロ等の熱源上に直接か
け、調理器具自体を加熱し、この加熱された調理器具に
食材を入れ、調理器具の熱を食材に熱伝導させることに
より食材を加熱して調理することが行われる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記調
理器具は、加熱された調理器具の熱を食材に熱伝導させ
る必要があることから、調理器具自体の温度をかなり上
げる必要がある。例えば、焼肉やステーキ等の焼き物で
は、食材を載せて焼くことにより鉄板が冷えて焼け具合
が悪くなるのを防ぐため、かなり厚みの厚い鉄板を用い
るようなことが行われている。このように、鉄板やフラ
イパン等の調理器具自体を加熱するために非常に強い火
力を必要とするのが常識であり、それに伴い、ガスや電
気等のエネルギーも大量に使わなければならないのがあ
たりまえとされてきた。このため、調理器具やそれを加
熱する加熱装置には、十分な火力が要求され、この火力
を犠牲にすることなく大幅な省エネルギーを達成する調
理器具は未だ開発されていなかったのが実情である。

【０００４】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、十分な火力で食材を加熱できるとともに大幅な
省エネルギーに貢献する調理器具の提供を目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の調理器具は、盤状部材に加熱手段が設けら
れ、上記盤状部材の少なくとも表面に、赤外領域の電磁
波に対する放射率が７０％以上の高放射率被覆体が形成
された加熱装置を備えたことを要旨とする。

【０００６】すなわち、本発明の調理器具は、盤状部材
に加熱手段が設けられ、上記盤状部材の少なくとも表面
に、赤外領域の電磁波に対する放射率が７０％以上の高
放射率被覆体が形成された加熱装置を備えている。この
ため、加熱手段から発生する熱は、熱伝導により盤上部
材および高放射率被覆体に伝達されるほか、電磁波とし
て高放射率被覆体に吸収される。そして、上記高放射率
被覆体は、赤外領域の電磁波に対する放射率が７０％以
上あることから、吸収した電磁波を非常に高い割合で熱
放射する。このように、本発明の調理器具によれば、加
熱手段から発生する熱を熱伝導だけでなく熱放射によっ
ても伝達することができるため、全体としての熱伝達率
が飛躍的に向上する。したがって、加熱手段が消費する
エネルギーを低く抑えても強く加熱することができるう
え、加熱速度も速く、食材を調理する火力を犠牲にする
ことなく大幅な省エネルギーを達成することができる。

【０００７】本発明の調理器具において、上記加熱装置
の上に食材槽が設けられ、この食材槽の加熱装置との接
触面に、赤外領域の電磁波に対する放射率が７０％以上
の高放射率被覆体が形成されている場合には、盤状部材
の高放射率被覆体が放射する電磁波を食材槽に形成され
た高放射率被覆体が吸収して再び高い放射率で熱放射す
るため、全体としての熱伝達率が一層向上し、エネルギ
ー効率が高くなるとともに、加熱速度も速くなる。

【０００８】本発明の調理器具において、上記加熱装置
の上に食材加熱槽が設けられ、この食材加熱槽の内面
に、赤外領域の電磁波に対する放射率が７０％以上の高
放射率被覆体が形成されている場合には、食材の酸化を
防止しうるという効果を奏する。すなわち、食材に含ま
れる水分には、３μｍ，６μｍ，９μｍ，１２μｍ…と
いう波長域に電磁波の吸収スペクトルが存在する。この
うち、６μｍと９μｍの波長域は、電磁波の吸収により
水分子を有効に振動させる。この振動により、水分子
は、食材のたんぱく質やセルロース等の周囲で、たんぱ
く質等に対して一定の方向を向いて並び、配向するよう
になる。このように水分子が配向すると、食材のたんぱ
く質等の浸透圧が均一になり、酸化が防止されるととも
に、食材の味が一定するようになるのである。

【０００９】上記調理器具において、食材加熱槽内面の
高放射率被覆体が絶縁性物質である場合には、食材から
電子が奪われ、食材が酸化して味が変化するのをある程
度防止できる。

【００１０】本発明の調理器具において、加熱装置の盤
状部材と食材加熱槽の少なくともいずれかがアルミニウ
ムを母材とするものである場合には、アルミニウムは、
熱伝導性が良好であるため、全体としての熱伝達率が一
層向上し、さらに省エネルギーに有利となってエネルギ
の有効利用になるとともに、加熱速度も向上する。

【００１１】本発明の調理器具において、高放射率被覆
体が、アルミナを主成分とするセラミックスからなり、
母材との間に非晶質相が形成されたものである場合に
は、引っかき強度や耐剥離性等に優れ損傷しにくいう
え、酸やアルカリに侵されにくいため、各種の食材を調
理しても味が変化しにくい。

【００１２】本発明の調理器具において、加熱手段がセ
ラミックヒータである場合には、上記セラミックヒータ
が熱伝導性に優れているうえ、ワット密度を通常の電熱
エレメント等と比べて数倍以上にする設計が可能であ
り、制御応答性に優れ、目標温度への立ち上げが速く、
温度むらも少なくなるという利点がある。また、熱放射
性にも優れ、盤状部材の高放射率被覆体との組み合わせ
により、熱伝達特性をさらに向上させ、省エネルギー効
果に優れたものになる。

【００１３】しかも、セラミックヒータのオーバーヒー
トを防ぎながら有効に熱伝達して食材を加熱できる。す
なわち、セラミックヒータは、ある程度セラミックスの
熱放射効果を有し、エネルギ効率が良いが、それ単体で
は、セラミック自体が電磁波を吸収してオーバーヒート
しやすく、断線しやすかったり寿命が短いという欠点が
ある。本発明では、加熱手段が設けられた盤状部材に高
放射率被覆体が形成されていることから、電磁波の放射
が良く、セラミックに電磁波が吸収される度合いが少な
い。このため、セラミックヒータの利点を生かしながら
オーバーヒートが防止され、有効な熱伝達が達成できる
のである。

【００１４】本発明の調理器具において、食材加熱槽を
導電体で形成し、その内部に絶縁層を介して食材を存在
させ、上記食材加熱槽にプラスの電位が印加されるよう
に構成した場合には、上記食材加熱槽内部の食材が、静
電誘導されてマイナスの電位に保持されるため、食材が
電子を奪われて酸化するのを防止でき、鮮度を保持する
とともに、味の変化を少なくすることができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態を詳
しく説明する。

【００１６】図１は、本発明の一実施の形態を示す。こ
のものは、本発明の加熱装置および調理器具をおでん鍋
に適用した例を示す。このおでん鍋は、加熱装置１が搭
載された基台部２と、この基台部２の加熱装置１上に載
置される鍋（食材槽）３とを備えている。上記鍋３内に
は、すのこ板４および具材を仕切る仕切り板５が挿入さ
れ、つゆとお湯の補充器６が備え付けられている。図に
おいて、７は鍋蓋であり、８は保温ケース、９は電源ス
イッチならびに温度表示である。

【００１７】より詳しく説明すると、上記加熱装置１
は、図２に示すように、長方形の板状を呈する盤状部材
１１の側面に複数（この例では６個）の横穴１２が穿設
され、上記横穴１２に、それぞれヒータ１３が挿通され
た構造になっている。そして、上記盤状部材１１の表面
には、その略全面に、赤外領域の電磁波に対する放射率
が７０％以上の高放射率被覆体が形成されている。

【００１８】上記盤状部材１１の材質としては、ヒータ
１３等の加熱に耐えるものであれば、各種の金属やセラ
ミックス等を用いることができるが、熱伝導性が良好
で、後述するように高放射率被覆体を形成させやすいと
いう理由から、アルミニウムを母材とするものが好適に
用いられる。

【００１９】ここで、上記高放射率被覆体について詳し
く説明する。上記高放射率被覆体を構成する材質として
は、赤外領域の電磁波に対する放射率が７０％以上の値
をとるものであれば、特に限定するものではなく、各種
の材質のものを用いることができるが、例えば、耐食性
や絶縁性，引っかき強度等に優れた、アルミナを主成分
とするセラミックス傾斜材が好適に用いられる。

【００２０】上記アルミナを主成分とするセラミックス
傾斜材は、盤状部材１１の母材がアルミニウムである場
合には、例えば、陽極酸化処理等により形成させること
ができ、図３に示すように、表面にアルミナを主成分と
するセラミックスを含む高放射率層３２が形成され、母
材３１との間に非晶質層３３が形成されている。そし
て、アルミナ成分の含有率が表面からの深さ方向に徐々
に変化するセラミックス傾斜材となっている。

【００２１】上記高放射率層３２の厚みとしては、５μ
ｍ以上２５０μｍ以下が好適である。上記厚みの上限値
としてさらに好ましいのは２００μｍであり、上記厚み
の下限値としてさらに好ましいのは１０μｍである。高
放射率被覆体の厚みが５μｍ未満では、熱放射による熱
伝達効果が十分得られなくなるうえ、引っかき強度や耐
食性の面で十分なものにならず、２５０μｍを超える
と、コスト的に好ましくないからである。

【００２２】また、高放射率層３２と非晶質層３３の厚
みの比率は、大略１：１程度で用いられるが、特にこの
値に限定するものではなく、各種の比率で高放射率層３
２ならびに非晶質層３３を形成させることができる。

【００２３】また、上記上記高放射率被覆体の赤外領域
での放射率は、熱放射による十分な熱伝達効果を得るた
めには、少なくとも７０％以上が必要であるが、７５％
以上であればより好適であり、８０％以上であればさら
に好ましい。

【００２４】上記ヒータ１３としては、具材を加熱しう
る温度に発熱するものであれば、特に限定するものでは
なく、各種のものを用いることができるが、例えば、熱
源（高抵抗材料，セラミック発熱体等）によって絶縁性
セラミックスを加熱して上記絶縁性セラミックス（アル
ミナ等）を熱放射体とするセラミックヒータが好適に用
いられる。このセラミックヒータは、熱伝導性に優れて
いるうえ、ワット密度を通常の電熱エレメント等と比べ
て数倍以上にする設計が可能であり、制御応答性に優
れ、目標温度への立ち上げが速く、温度むらも少なくな
るという利点がある。また、熱放射性にも優れ、盤状部
材１１の高放射率被覆体との組み合わせにより、熱伝達
特性をさらに向上させ、省エネルギー効果に優れたもの
になる。

【００２５】さらに、セラミックヒータのオーバーヒー
トを防ぎながら有効に熱伝達して食材を加熱できる。す
なわち、セラミックヒータは、ある程度セラミックスの
熱放射効果を有し、エネルギ効率が良いが、それ単体で
は、セラミック自体が電磁波を吸収してオーバーヒート
しやすく、断線しやすかったり寿命が短いという欠点が
ある。上記おでん鍋では、ヒータ１３が設けられた盤状
部材１１に高放射率被覆体が形成されていることから、
電磁波の放射が良く、セラミックに電磁波が吸収される
度合いが少ない。このため、セラミックヒータの利点を
生かしながらオーバーヒートが防止され、有効な熱伝達
が達成できるのである。

【００２６】上記加熱装置１は、図４に示すように、断
熱材１５を介して基台部２に搭載される。上記基台部２
の上面には、鍋３の重量でオンになるスイッチ１６と、
このスイッチ１６がオンされることによりプラスの電位
が印加される電極１７とが設けられている。図４におい
て、１８はヒータ１３の露出部を覆うカバーである。

【００２７】上記鍋３は、図５に示すように、全体とし
て矩形の桶状で、その下面に、加熱装置１が内嵌する凹
部２０が向けられている。そして、上記鍋３は、加熱装
置１の盤状部材１１と同様に、アルミニウムを母材と
し、上記加熱装置との接触面や内面を含む表面の略全面
に、アルミナ等の絶縁性セラミックを主成分とする高放
射率被覆体が形成されている。そして、上記鍋３の底面
の、基台部２の電極１７と接する部分には、高放射率被
覆体がなく母材が露呈した接点２１が形成されている。

【００２８】また、上記鍋３内に挿入されるすのこ板４
および仕切り板５の表面にも、鍋３の表面に形成されて
いるのと同様の高放射率被覆体が形成されている。

【００２９】上記構成のおでん鍋は、例えば、つぎのよ
うにして用いることができる。すなわち、まず、加熱装
置１が搭載された基台部２上に、鍋３を載置し、この鍋
３内に、すのこ板４および仕切り板５を挿入する。つい
で、鍋３内につゆを注ぎ込むとともに、仕切り板５で仕
切られた空間に各種の具材（おでん種）を入れる。ま
た、鍋３には、つゆ等の補充器６を取り付ける（図１参
照）。

【００３０】つぎに、電源スイッチ９で電源を入れる
と、ヒータ３が発熱を開始する。このヒータ３の熱は、
加熱装置１の盤状部材１１および鍋３を介して熱伝導に
より、鍋３内部のつゆと具材に伝わり、具材等の加熱が
行われる。上記おでん鍋では、この熱伝導による加熱と
同時に、熱放射による具材の加熱が行われる。すなわ
ち、ヒータ１３の発熱によって発生した電磁波が、盤状
部材１１表面の高放射率被覆体に吸収され、高い放射率
で熱放射される。また、加熱装置１で放射された電磁波
は、鍋３表面の高放射率被覆体に吸収され、高い放射率
で熱放射される。また、盤状部材１１の高放射率被覆体
が放射する電磁波を鍋３に形成された高放射率被覆体が
吸収して再び高い放射率で熱放射する。このように、加
熱装置１および鍋３表面に、高放射率被覆体が形成され
ていることから、ヒータ１３から発生する熱を熱伝導だ
けでなく熱放射によっても伝達することができるため、
全体としての熱伝達率が飛躍的に向上し、加熱速度が速
く、火力を犠牲にすることなく大幅な省エネルギーを達
成することができる。

【００３１】また、上記おでん鍋は、鍋３の内面に、絶
縁性の高放射率被覆体が形成されているため、内部の具
材の酸化を防止でき、味の変化を少なくできるという効
果を奏する。すなわち、具材やつゆの水分に存在する電
磁波の吸収スペクトルのうち、６μｍと９μｍの波長域
は、電磁波の吸収により水分子を有効に振動させる。こ
の振動により、図６に示すように、水分子２６は、具材
２５のたんぱく質やセルロース等の周囲で、一定の方向
を向いて並び、配向するようになる。このような水分子
２６の配向により、具材２５のたんぱく質等の浸透圧が
均一になり、酸化が防止されるとともに、具材２５の味
が一定するようになる。また、上記高放射率被覆体が絶
縁性であることから、具材２５から電子が奪われて酸化
するのをある程度防止できる。

【００３２】さらに、上記おでん鍋は、鍋３の重量でス
イッチ１６がオンになり、電極１７を介して鍋３の接点
２１にプラスの電位が印加されるようになっている。こ
れにより、内部のつゆの酸化還元電位をコントロール
し、具材２５やつゆの酸化を防止し、味の変化を少なく
することができるのである。

【００３３】すなわち、上記鍋３は、導電体であるアル
ミニウムを母材とし、その表面に絶縁性の高放射率被覆
体が形成されている。そして、図７に示すように、導電
体の母材２７の鍋３内に、絶縁層（高放射率被覆体）２
８を介してつゆ２９と具材２５が存在している。上記母
材２７に、電極１７および接点２１を介してプラスの電
位が印加されることにより、内部のつゆ２９ならびに具
材２５が、静電誘導によりマイナスの電位に保持される
ことになる。

【００３４】このように、内部のつゆ２９ならびに具材
２５が、マイナスの電位に保持されることにより、具材
２５等が電子を奪われて酸化するのを防止でき、鮮度を
保持するとともに、味の変化を少なくすることができ
る。

【００３５】上記ように、上記調理器具によれば、具材
２５等を加熱する火力を犠牲にすることなく大幅な省エ
ネルギーを達成することができるうえ、具材２５等の酸
化を防止し味の変化を少なくできる。

【００３６】なお、上記実施の形態では、ヒータ３とし
て、セラミックヒータを用いたが、これに限定するもの
ではなく、通常の電熱エレメント等を用いてもよいし、
ガス炎等を使用することもできる。また、上記実施の形
態では、本発明をおでん鍋に適用した例を示したが、こ
れに限定するものではなく、食材を加熱調理するもので
あれば、お好み焼きやたこ焼き，餃子用等の鉄板、フラ
イパン，各種なべ等各種の調理器具に適用することがで
きる。

【００３７】また、上記実施の形態では、高放射率被覆
体としてアルミナを主成分とするセラミックス傾斜材
を、用いた例を説明したが、これに限定するものではな
く、上記高放射率被覆体を構成する材質としては、例え
ば、珪素化合物を主成分とするセラミックス（商品名：
テルモライト，テルモ工業社製）も、赤外領域での放射
率が９０％と非常に高い値を示すことから、好適に用い
ることができる。

【００３８】つぎに、実施例について説明する。

【００３９】

【実施例および比較例】上記おでん鍋において、ヒータ
１３としてセラミックヒータを用い、盤状部材１１およ
び鍋３は、アルミニウムを母材とし、高放射率被覆体と
して、アルミナセラミックス傾斜材を、高放射率層が２
０μｍになるように形成させた。上記高放射率被覆体の
赤外領域に対する放射率は８５％であった。比較例とし
て、ステンレス製のおでん鍋を準備した。

【００４０】上記実施例および比較例のおでん鍋を用い
て鍋の加熱時間と加熱温度を測定した。その結果を図８
に示す。図から明らかなように、実施例のおでん鍋で
は、飽和温度に達する時間が比較例のおでん鍋と比べて
極めて早いことがわかる。また、飽和温度は、実施例の
方が比較例よりも若干低いが、これは熱放射性に極めて
優れるため、自身に熱を蓄積しない理由によるものであ
る。すなわち、実施例では、自身に熱を蓄積せず、食材
への熱伝達率に優れていることがわかる。

【００４１】

【発明の効果】以上のように、本発明の調理器具によれ
ば、加熱手段から発生する熱は、熱伝導により盤上部材
および高放射率被覆体に伝達されるほか、電磁波として
高放射率被覆体に吸収される。そして、上記高放射率被
覆体は、赤外領域の電磁波に対する放射率が７０％以上
あることから、吸収した電磁波を非常に高い割合で熱放
射する。このように、本発明の調理器具によれば、加熱
手段から発生する熱を熱伝導だけでなく熱放射によって
も伝達することができるため、全体としての熱伝達率が
飛躍的に向上する。したがって、加熱手段が消費するエ
ネルギーを低く抑えても強く加熱することができるう
え、加熱速度も速く、食材を調理する火力を犠牲にする
ことなく大幅な省エネルギーを達成することができる。

【００４２】本発明の調理器具において、上記加熱装置
の上に食材槽が設けられ、この食材槽の加熱装置との接
触面に、赤外領域の電磁波に対する放射率が７０％以上
の高放射率被覆体が形成されている場合には、盤状部材
の高放射率被覆体が放射する電磁波を食材槽に形成され
た高放射率被覆体が吸収して再び高い放射率で熱放射す
るため、全体としての熱伝達率が一層向上し、エネルギ
ー効率が高くなるとともに、加熱速度も速くなる。

【００４３】本発明の調理器具において、上記加熱装置
の上に食材加熱槽が設けられ、この食材加熱槽の内面
に、赤外領域の電磁波に対する放射率が７０％以上の高
放射率被覆体が形成されている場合には、食材の酸化を
防止しうるという効果を奏する。すなわち、食材に含ま
れる水分には、３μｍ，６μｍ，９μｍ，１２μｍ…と
いう波長域に電磁波の吸収スペクトルが存在する。この
うち、６μｍと９μｍの波長域は、電磁波の吸収により
水分子を有効に振動させる。この振動により、水分子
は、食材のたんぱく質やセルロース等の周囲で、たんぱ
く質等に対して一定の方向を向いて並び、配向するよう
になる。このように水分子が配向すると、食材のたんぱ
く質等の浸透圧が均一になり、酸化が防止されるととも
に、食材の味が一定するようになるのである。

【００４４】本発明の調理器具において、加熱装置の盤
状部材と食材加熱槽の少なくともいずれかがアルミニウ
ムを母材とするものである場合には、アルミニウムは、
熱伝導性が良好であるため、全体としての熱伝達率が一
層向上し、さらに省エネルギーに有利となってエネルギ
の有効利用になるとともに、加熱速度も向上する。

【００４５】本発明の調理器具において、高放射率被覆
体が、アルミナを主成分とするセラミックスからなり、
母材との間に非晶質相が形成されたものである場合に
は、引っかき強度や耐剥離性等に優れ損傷しにくいう
え、酸やアルカリに侵されにくいため、各種の食材を調
理しても味が変化しにくい。

【００４６】本発明の調理器具において、加熱手段がセ
ラミックヒータである場合には、セラミックヒータのオ
ーバーヒートを防ぎながら有効に熱伝達して食材を加熱
できる。すなわち、セラミックヒータは、ある程度セラ
ミックスの熱放射効果を有し、エネルギ効率が良いが、
それ単体では、セラミック自体が電磁波を吸収してオー
バーヒートしやすく、断線しやすかったり寿命が短いと
いう欠点がある。本発明では、加熱手段が設けられた盤
状部材に高放射率被覆体が形成されていることから、電
磁波の放射が良く、セラミックに電磁波が吸収される度
合いが少ない。このため、セラミックヒータの利点を生
かしながらオーバーヒートが防止され、有効な熱伝達が
達成できるのである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態を適用したおでん鍋を示
す分解斜視図である。

【図２】上記おでん鍋に用いる加熱装置を示す図であ
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。

【図３】高放射率被覆体の一例を示す拡大断面図であ
る。

【図４】上記加熱装置を搭載した基台部を示す図であ
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。

【図５】上記おでん鍋に用いる鍋を斜め下から見た図で
ある。

【図６】上記おでん鍋の作用を示す概念図である。

【図７】上記おでん鍋の作用を示す概念図である。

【図８】実施例と比較例のおでん鍋を用いた鍋の加熱時
間と加熱温度の測定結果を示す線図である。

【符号の説明】

１加熱装置１１盤状部材１３ヒータ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4B055 AA12 AA27 BA22 CA71 CC46 DA02 DB04 DB21 FA01 FA03 FA04 FA16 FB02 FB17 FB23 FC04 FC05 FD03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】盤状部材に加熱手段が設けられ、上記盤
状部材の少なくとも表面に、赤外領域の電磁波に対する
放射率が７０％以上の高放射率被覆体が形成された加熱
装置を備えたことを特徴とする調理器具。
【請求項２】上記加熱装置の上に食材槽が設けられ、
この食材槽の加熱装置との接触面に、赤外領域の電磁波
に対する放射率が７０％以上の高放射率被覆体が形成さ
れている請求項１記載の調理器具。
【請求項３】上記加熱装置の上に食材槽が設けられ、
この食材槽の内面に、赤外領域の電磁波に対する放射率
が７０％以上の高放射率被覆体が形成されている請求項
１または２記載の調理器具。
【請求項４】加熱装置の盤状部材と食材槽の少なくと
もいずれかがアルミニウムを母材とするものである請求
項１〜３のいずれか一項に記載の調理器具。
【請求項５】高放射率被覆体が、アルミナを主成分と
するセラミックスからなり、母材との間に非晶質相が形
成されたものである請求項１〜４のいずれか一項に記載
の調理器具。
【請求項６】加熱手段がセラミックヒータである請求
項１〜５のいずれか一項に記載の調理器具。