JP2000312820A - Fluid heating device and organic halogen compound decomposition device - Google Patents
Fluid heating device and organic halogen compound decomposition deviceInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 流体の安定的な供給が可能な流体加熱装置を
提供すること、及び、プラズマを安定化させて、処理能
力の向上を実現する有機ハロゲン化合物の分解装置を提
供すること。
【解決手段】 流体加熱装置は、密閉容器18fと、密
閉容器18f内に収容された水(加熱媒体)18aと、
加熱媒体18aを加熱するヒータ18bと、密閉容器1
8f内を貫通し、内部を流体が流動する流路34a、3
4bとを具備していることを特徴とする。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fluid heating device capable of supplying a fluid in a stable manner, and to provide an organic halogen compound decomposing device which stabilizes plasma and realizes an improvement in processing capacity. To do. SOLUTION: The fluid heating device includes a sealed container 18f, water (heating medium) 18a housed in the sealed container 18f,
A heater 18b for heating the heating medium 18a;
8f, the flow paths 34a, 3a through which the fluid flows.
4b.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、有機ハロゲン化合
物の分解装置及び、該有機ハロゲン化合物の分解装置等
に用いられる、水等の流体を加熱する流体加熱装置に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for decomposing an organic halogen compound, and a fluid heating apparatus for heating a fluid such as water used in the apparatus for decomposing an organic halogen compound.
【0002】[0002]
【従来の技術】分子内にフッ素、塩素、臭素等を含んだ
フロン、トリクロロメタン、ハロン等の有機ハロゲン化
合物は、冷媒、溶剤、消火剤等の幅広い用途に大量に使
用されており、産業分野における重要度は極めて高い。
しかし、これら化合物は揮発性が高く、未処理のまま大
気、土壌、水等の環境に放出されると、発ガン性物質の
生成、オゾン層の破壊等、環境に悪影響を及ぼすことが
あるため、環境保全の見地から無害化処理を行う必要が
ある。2. Description of the Related Art Organic halogen compounds such as freon, trichloromethane, and halon containing fluorine, chlorine, and bromine in a molecule are widely used in a wide range of applications such as refrigerants, solvents, and fire extinguishers. Is very important.
However, these compounds have high volatility, and if released untreated into the environment such as air, soil, and water, they may have adverse effects on the environment, such as formation of carcinogenic substances and destruction of the ozone layer. It is necessary to perform detoxification treatment from the viewpoint of environmental protection.
【0003】従来から有機ハロゲン化合物の処理方法と
して報告されているものは、主として高温での分解反応
を利用したものがあり、この処理方法は更に焼却法とプ
ラズマ法とに大別される。焼却法は、有機ハロゲン化合
物を樹脂等の通常の廃棄物と一緒に焼却するものである
のに対し、プラズマ法は、プラズマ中で有機ハロゲン化
合物を水蒸気と反応させ、二酸化炭素、塩化水素、フッ
化水素に分解するものである。[0003] Conventionally, there have been reported methods for treating organic halogen compounds, which mainly utilize a decomposition reaction at a high temperature, and this treatment method is further roughly classified into an incineration method and a plasma method. In the incineration method, the organic halogen compound is incinerated together with ordinary waste such as resin.On the other hand, in the plasma method, the organic halogen compound is reacted with water vapor in plasma to produce carbon dioxide, hydrogen chloride, and fluorine. It decomposes into hydrogen.
【0004】さらに、後者のプラズマ法に係る有機ハロ
ゲン化合物の分解装置については、マイクロ波を利用し
てプラズマを発生させるものが近年開発されている。こ
の分解装置は、アルカリ液を収容する排ガス処理タンク
と、開口した下端部をアルカリ液に浸漬した状態で配設
される反応管と、該反応管の上方において垂直方向に延
在する円筒導波管と、該円筒導波管の内部に配されその
下端を貫通して反応管に連通する放電管と、水平方向に
延在しその一端部近傍において円筒導波管に連接される
方形導波管と、該方形導波管の他端に装着されるマイク
ロ波発信器等を具備してなる。[0004] Furthermore, as the latter apparatus for decomposing an organic halogen compound according to the plasma method, an apparatus which generates plasma using microwaves has recently been developed. The decomposition apparatus includes an exhaust gas treatment tank containing an alkaline solution, a reaction tube disposed with the open lower end immersed in the alkaline solution, and a cylindrical waveguide extending vertically above the reaction tube. A tube, a discharge tube disposed inside the cylindrical waveguide and penetrating the lower end thereof and communicating with the reaction tube, and a rectangular waveguide extending in the horizontal direction and connected to the cylindrical waveguide near one end thereof. It comprises a tube, a microwave transmitter mounted on the other end of the rectangular waveguide, and the like.
【0005】この分解装置では、放電管にフロンガスお
よび水蒸気が供給される一方で、マイクロ波発信器から
発信されたマイクロ波が方形導波管を介して円筒導波管
に伝送される。そして、円筒導波管の内部に形成された
マイクロ波電界で放電を起こし、反応管内でフロンガス
を熱プラズマにより分解する。例えば、フロンR12の
場合、下記の式に示す化学反応が生じ、フロンが分解さ
れる。 CCl2F2+2H2O→2HCl+2HF+CO2 [0005] In this decomposition apparatus, while the Freon gas and the water vapor are supplied to the discharge tube, the microwave transmitted from the microwave transmitter is transmitted to the cylindrical waveguide through the rectangular waveguide. Then, a discharge is caused by the microwave electric field formed inside the cylindrical waveguide, and the fluorocarbon gas is decomposed by the thermal plasma in the reaction tube. For example, in the case of Freon R12, a chemical reaction represented by the following formula occurs, and Freon is decomposed. CCl 2 F 2 + 2H 2 O → 2HCl + 2HF + CO 2
【0006】この際、フロンを安定して分解するために
は、水を加熱して水蒸気とした上で、フロンガスと一定
の割合で均一に混合しておく必要がある。そのため、図
7に示すような流体加熱装置が検討されている。At this time, in order to stably decompose the chlorofluorocarbon, it is necessary to heat water to form steam, and to uniformly mix the chlorofluorocarbon with the chlorofluorocarbon gas at a constant rate. Therefore, a fluid heating device as shown in FIG. 7 has been studied.
【0007】この流体加熱装置64においては、管64
a内にフロンガスと水がそれぞれ流動する流路34a、
34bが設けられており、管64a周囲には、流路34
a、34b内を流動する流体を加熱するヒータ64bが
設けられている。また、水が気化する際、突沸を防いで
流量を安定化させるために、水の流路内には、抵抗体3
5が充填されている。この流体加熱装置においては、液
体の水とフロンガスをそれぞれ流路34a、34bに導
入させ、流路を通過する間に、フロン及び水を、水が凝
縮しない温度にまで加熱する。その後ミキサーによって
水とフロンは均一に混合され、プラズマ分解される。In the fluid heating device 64, the pipe 64
a, a flow path 34a through which the chlorofluorocarbon gas and water flow,
34b is provided, and a flow path 34 is provided around the pipe 64a.
a, a heater 64b for heating the fluid flowing in the inside 34b. When water evaporates, a resistor 3 is provided in the water flow path to prevent bumping and stabilize the flow rate.
5 are filled. In this fluid heating device, liquid water and chlorofluorocarbon gas are introduced into flow paths 34a and 34b, respectively, and while passing through the flow paths, chlorofluorocarbon and water are heated to a temperature at which water does not condense. Thereafter, the water and the chlorofluorocarbon are uniformly mixed by a mixer, and are subjected to plasma decomposition.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の流体
加熱装置においては、ヒータ64bと流路34a、34
bとは空間を隔てており、ヒータ64bは直接流路を加
熱しているのではなく、この空間を介して流路内の流体
を加熱している。したがって、空間を隔てて熱が伝導す
る時間が必要であるため、流体の流量が変動した場合、
加熱温度に差がでることとなる。特に、水の加熱におい
ては、抵抗体35が設けられてはいるものの、気化によ
って流路内の流体の負荷が変動するため、水の加熱量、
すなわち気化量が安定しないこととなる。また、流体の
加熱量を制御するにはヒータをコントロールする必要が
あるが、ヒータの出力をコントロールすることで流体を
目的の温度に加熱することは、外部に漏れる熱量等を考
慮しなければならず、容易ではない。これらの結果、放
電管に供給される水蒸気の量が安定せず、フロンの分解
反応が安定せず、場合によってはプラズマの消失を招く
おそれがあるという問題がある。By the way, in the above-mentioned fluid heating device, the heater 64b and the flow paths 34a, 34
The space b is separated from the space b. The heater 64b does not directly heat the flow path, but heats the fluid in the flow path through this space. Therefore, because the time required for heat to conduct across the space is required, when the flow rate of the fluid fluctuates,
There will be a difference in the heating temperature. In particular, in heating water, although the resistor 35 is provided, since the load of the fluid in the flow path fluctuates due to vaporization, the heating amount of water,
That is, the amount of vaporization becomes unstable. In addition, it is necessary to control the heater to control the amount of heating of the fluid.However, heating the fluid to the target temperature by controlling the output of the heater must take into account the amount of heat leaking to the outside. Not easy. As a result, there is a problem that the amount of water vapor supplied to the discharge tube is not stable, the decomposition reaction of chlorofluorocarbon is not stable, and in some cases, plasma may be lost.
【0009】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、流体の安定的な供給が可
能な流体加熱装置を提供することにある。また、本発明
の他の目的は、プラズマを安定化させて、処理能力の向
上を実現する有機ハロゲン化合物の分解装置を提供する
ことにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a fluid heating device capable of supplying a fluid stably. Another object of the present invention is to provide an apparatus for decomposing an organic halogen compound, which stabilizes plasma and realizes an improvement in processing capacity.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明においては以下の構成を採用した。請求項1
記載の流体加熱装置は、密閉容器と、該密閉容器内に収
容された加熱媒体と、該加熱媒体を加熱するヒータと、
前記密閉容器内を貫通し、内部を流体が流動する流路と
を具備していることを特徴とする。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention employs the following constitution. Claim 1
The described fluid heating device is a closed container, a heating medium contained in the closed container, a heater for heating the heating medium,
And a flow path through which the fluid flows through the inside of the closed container.
【0011】この流体加熱装置においては、まず、密閉
容器内を真空状態としておき、そこに水などの加熱媒体
を封入し、密閉する。この状態においては、容器内には
液体と気体の加熱媒体が混在することとなる。液体の加
熱媒体をヒータで加熱すると、その一部が気化する。こ
のガスは、流路内の流体によって冷却され、凝縮する。
すなわち、熱源たる気体の加熱媒体が、凝縮伝熱によっ
て直接流路を加熱するので、熱伝導の時間が非常に短
く、安定した加熱を行うことができる。凝縮した加熱媒
体は、再びヒータにより熱せられて気化し、上記と同様
のことが繰り返される。したがって、熱源たる気体の加
熱媒体を連続的に安定して供給することができる。In this fluid heating device, first, the inside of the closed vessel is evacuated, and a heating medium such as water is sealed therein and sealed. In this state, a liquid and a gas heating medium are mixed in the container. When the liquid heating medium is heated by the heater, a part thereof is vaporized. This gas is cooled by the fluid in the flow path and condenses.
That is, since the gaseous heating medium, which is a heat source, directly heats the flow path by condensation heat transfer, the heat conduction time is very short, and stable heating can be performed. The condensed heating medium is heated again by the heater and vaporized, and the same operation as described above is repeated. Therefore, the gaseous heating medium as the heat source can be continuously and stably supplied.
【0012】請求項2記載の流体加熱装置は、請求項1
記載の流体加熱装置において、前記密閉容器は、前記ヒ
ータが設けられた気化室と、該気化室上方に設けられて
該気化室と連通し、前記流路が貫通する液化室とを具備
していることを特徴とする。[0012] The fluid heating device according to the second aspect is the first aspect.
In the fluid heating device according to the aspect, the closed container includes a vaporization chamber provided with the heater, and a liquefaction chamber provided above the vaporization chamber, communicating with the vaporization chamber, and penetrating the flow path. It is characterized by being.
【0013】この流体加熱装置においては、気化室にお
いて気化した加熱媒体は、液化室側に移動する。液化室
において放熱して凝縮した加熱媒体は、重力に従って下
方の気化室側に移動し、再びヒータで加熱され、上記と
同様のことが繰り返される。したがって、熱源たる気体
の加熱媒体を連続的に安定して供給することができる。In this fluid heating device, the heating medium vaporized in the vaporization chamber moves to the liquefaction chamber side. The heating medium that has released heat and condensed in the liquefaction chamber moves to the lower vaporization chamber side according to gravity, is heated again by the heater, and the same operation as described above is repeated. Therefore, the gaseous heating medium as the heat source can be continuously and stably supplied.
【0014】請求項3記載の流体加熱装置は、請求項2
記載の流体加熱装置において、前記液化室は、傾斜する
底面を有し、該底面の下端において前記液化室と気化室
が連通していることを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, there is provided a fluid heating apparatus.
In the fluid heating device described above, the liquefaction chamber has an inclined bottom surface, and the liquefaction chamber and the vaporization chamber communicate with each other at a lower end of the bottom surface.
【0015】この流体加熱装置においては、液化室の底
面が傾斜していることから、液化室内で凝縮した加熱媒
体が、重力に従って底面上を流れ、気化室内に移動す
る。したがって、凝縮した加熱媒体は、速やかに気化室
側に移動し、再び加熱されて気化する。したがって、熱
源たる気体の加熱媒体を連続的に安定して供給すること
ができる。In this fluid heating device, since the bottom of the liquefaction chamber is inclined, the heating medium condensed in the liquefaction chamber flows on the bottom according to gravity and moves into the vaporization chamber. Therefore, the condensed heating medium quickly moves to the vaporization chamber side, and is heated again and vaporized. Therefore, the gaseous heating medium as the heat source can be continuously and stably supplied.
【0016】請求項4記載の流体加熱装置は、請求項2
または3に記載の流体加熱装置において、前記流路は、
その長さ方向に傾斜していることを特徴とする。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a fluid heating apparatus.
Or in the fluid heating device according to 3, wherein the flow path is:
It is characterized by being inclined in the length direction.
【0017】この流体加熱装置においては、流路が傾斜
していることから、流路を形成する管表面で凝縮した加
熱媒体が、重力に従って管表面上を流れ、気化室内に移
動する。加熱媒体は、気化室で再び加熱されて気化す
る。すなわち、凝縮した加熱媒体は、速やかに流路から
取り除かれ、新たなガスによって流路が加熱されること
となる。したがって、熱源たる気体の加熱媒体を連続的
に安定して供給することができる。In this fluid heating device, since the flow path is inclined, the heating medium condensed on the pipe surface forming the flow path flows on the pipe surface according to gravity and moves into the vaporization chamber. The heating medium is heated again in the vaporization chamber and is vaporized. That is, the condensed heating medium is quickly removed from the flow path, and the flow path is heated by the new gas. Therefore, the gaseous heating medium as the heat source can be continuously and stably supplied.
【0018】請求項5記載の流体加熱装置は、請求項1
から4いずれかに記載の流体加熱装置において、前記流
路内には、抵抗体が設けられていることを特徴とする。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a fluid heating apparatus.
5. The fluid heating device according to any one of items 1 to 4, wherein a resistor is provided in the flow path.
【0019】この流体加熱装置においては、流路内を移
動する流体に抵抗を与える抵抗体が充填されていて、該
流路内で気化した流体が円滑に流動することができない
ようになっている。従って、流路内には常に一定量の気
化流体が滞留した状態になる。このため、脈動や突沸に
よる飛散を防いで気化流体の流出量が安定し、流量変動
が抑制される。In this fluid heating device, a resistor that gives resistance to the fluid moving in the flow path is filled, so that the vaporized fluid in the flow path cannot flow smoothly. . Therefore, a certain amount of vaporized fluid always stays in the flow path. For this reason, pulsation and scattering due to bumping are prevented, the outflow amount of the vaporized fluid is stabilized, and the flow rate fluctuation is suppressed.
【0020】請求項6記載の流体加熱装置は、請求項1
から5いずれかに記載の流体加熱装置において、前記加
熱媒体の圧力を検出する圧力検出器と、該圧力検出器の
出力に基づいて前記ヒータの出力を制御する圧力制御装
置とを具備していることを特徴とする。The fluid heating device according to the sixth aspect is the first aspect.
6. The fluid heating device according to any one of to 5, further comprising: a pressure detector that detects a pressure of the heating medium; and a pressure control device that controls an output of the heater based on an output of the pressure detector. It is characterized by the following.
【0021】この流体加熱装置においては、圧力を調整
することで、流体の加熱温度が定まる。すなわち、密閉
容器内の加熱媒体の蒸発量によって若干の変動はあるも
のの、密閉容器内の気体部分の体積は一定と考えてよ
い。したがって、加熱媒体の温度は、系内の圧力によっ
て一意に定まる。すなわち、流体の加熱温度は、系内の
圧力によって定まる。この流体加熱装置においては、加
熱媒体の圧力を検出する圧力検出器が設けられ、この圧
力検出器の出力が、圧力制御手段を介してヒータにフィ
ードバックされるので、目的の圧力、すなわち温度を容
易に設定することができる。In this fluid heating device, the heating temperature of the fluid is determined by adjusting the pressure. That is, although there is a slight variation depending on the amount of evaporation of the heating medium in the closed container, the volume of the gas portion in the closed container may be considered to be constant. Therefore, the temperature of the heating medium is uniquely determined by the pressure in the system. That is, the heating temperature of the fluid is determined by the pressure in the system. In this fluid heating device, a pressure detector for detecting the pressure of the heating medium is provided, and the output of the pressure detector is fed back to the heater via the pressure control means. Can be set to
【0022】請求項7記載の有機ハロゲン化合物の分解
装置は、水を加熱する流体加熱装置を備えた有機ハロゲ
ン化合物の分解装置において、前記流体加熱装置は、密
閉容器と、該密閉容器内に収容された加熱媒体と、該加
熱媒体を加熱するヒータと、前記密閉容器内を貫通し、
内部を流体が流動する流路とを具備していることを特徴
とする。An organic halogen compound decomposing apparatus according to claim 7, wherein the fluid heating apparatus is provided with a fluid heating device for heating water, wherein the fluid heating device is housed in the hermetically sealed container. Heating medium, and a heater for heating the heating medium, penetrating through the closed container,
And a flow path through which a fluid flows.
【0023】この有機ハロゲン化合物の分解装置が具備
する流体加熱装置においては、密閉容器内を真空状態と
しておき、そこに水などの加熱媒体を封入し、密閉す
る。この状態においては、容器内には液体と気体の加熱
媒体が混在することとなる。液体の加熱媒体をヒータで
加熱すると、その一部が気化する。このガスは、流路内
の流体によって冷却され、凝縮する。すなわち、熱源た
る気体の加熱媒体が、凝縮伝熱によって直接流路を加熱
するので、熱伝導の時間が非常に短く、安定した加熱を
行うことができる。凝縮した加熱媒体は、再びヒータに
より熱せられて気化し、上記と同様のことが繰り返され
る。したがって、熱源たる気体の加熱媒体を連続的に安
定して供給することができる。以上のことから、この有
機ハロゲン化合物の分解装置においては、フロン等の有
機ハロゲン化合物を分解する際において反応させる水蒸
気が安定して供給されるので、有機ハロゲン化合物を安
定して分解することができる。In the fluid heating device provided in the organic halogen compound decomposing device, the inside of the closed vessel is evacuated, and a heating medium such as water is sealed therein and sealed. In this state, a liquid and a gas heating medium are mixed in the container. When the liquid heating medium is heated by the heater, a part thereof is vaporized. This gas is cooled by the fluid in the flow path and condenses. That is, since the gaseous heating medium, which is a heat source, directly heats the flow path by condensation heat transfer, the heat conduction time is very short, and stable heating can be performed. The condensed heating medium is heated again by the heater and vaporized, and the same operation as described above is repeated. Therefore, the gaseous heating medium as the heat source can be continuously and stably supplied. From the above, in this apparatus for decomposing an organic halogen compound, the steam to be reacted when decomposing an organic halogen compound such as chlorofluorocarbon is stably supplied, so that the organic halogen compound can be decomposed stably. .
【0024】[0024]
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て、図1から図7を参照しながら説明する。図4におい
て水平方向に延びる方形導波管1は、その始端部(左端
部)に周波数2.45GHzのマイクロ波を発信するマ
イクロ波発信器2を備えており、始端側から終端(右
端)側に向けてマイクロ波を伝送する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. In FIG. 4, the rectangular waveguide 1 extending in the horizontal direction is provided with a microwave transmitter 2 for transmitting a microwave having a frequency of 2.45 GHz at the start end (left end), and from the start end to the end (right end). Transmit microwave to.
【0025】方形導波管1には、図2に示すように、そ
の終端部側で反射して始端部側に戻ってきたマイクロ波
を吸収することにより反射波の発信側への影響を防止す
るアイソレータ3と、複数の波動調整部材4を各々出入
りさせることにより電波の波動的な不整合量を調整して
放電管5に電波を収束させるチューナー6が設けられて
いる。As shown in FIG. 2, the rectangular waveguide 1 prevents the reflected wave from affecting the transmitting side by absorbing the microwave reflected at the terminal end and returning to the starting end. An isolator 3 and a tuner 6 that adjusts the wave mismatch amount of the radio wave by moving a plurality of wave adjustment members 4 in and out respectively to converge the radio wave to the discharge tube 5 are provided.
【0026】この動作を詳細に説明する。マイクロ波発
信機2は断面矩形の導波管の一端に置かれマグネトロン
を駆動して所定周波数の電磁波を放射する。この電磁波
の伝播現象は電磁波に関るマクスウェルの波動方程式を
解くことによって特性が把握されるわけであるが、結果
的には伝播方向に電界成分を持たない電磁波TE波とし
て伝播する。This operation will be described in detail. The microwave transmitter 2 is placed at one end of a waveguide having a rectangular cross section, and drives a magnetron to emit an electromagnetic wave of a predetermined frequency. The characteristics of this electromagnetic wave propagation phenomenon can be grasped by solving Maxwell's wave equation relating to the electromagnetic wave. As a result, the electromagnetic wave propagates as an electromagnetic wave TE wave having no electric field component in the propagation direction.
【0027】この1次成分TE10の例を方向が交番する
矢印で図2の方形導波管の伝播方向に示す。また、方形
導波管1の他端部に2重の円筒状導体からなる2重円筒
導波管の環状空洞には、導波管1を伝播する電磁波、管
端で反射する電磁波の導体9による結合作用により、環
状空洞部には、進行方向に電界成分を持つTM波が生じ
る。この1次成分であるTM10波を同じく図2の環状空
洞部に矢印で示す。電磁波の波動の伝播に関る2次以上
の高調波に起因する微妙な調整はチューナ4で調整され
る。アイソレータ3は発信機2に根本的なダメージを及
ぼすのを防止している。[0027] indicated by arrows the direction examples of the first-order component TE 10 alternates the propagation direction of the rectangular waveguide of Figure 2. The annular cavity of the double-cylindrical waveguide formed of a double-cylindrical conductor at the other end of the rectangular waveguide 1 has conductors 9 for electromagnetic waves propagating in the waveguide 1 and electromagnetic waves reflected at the tube end. , A TM wave having an electric field component in the traveling direction is generated in the annular cavity. The TM 10 wave is the primary component are also shown by the arrows in the annular cavity of FIG. The fine adjustment caused by the second or higher harmonics related to the propagation of the electromagnetic wave is adjusted by the tuner 4. The isolator 3 prevents the transmitter 2 from causing fundamental damage.
【0028】円筒導波管7は、図3に示すように、外側
導体8と、それよりも小径の内側導体9とから構成さ
れ、方形導波管1の終端部近傍において当該方形導波管
1に連通した状態で垂直方向に延びるように接続されて
いる。内側導体9は、方形導波管1の上部に固定された
状態で石英製の放電管5を囲みつつ外側導体8の端板8
Aに向けて延在し、この延在部分をプローブアンテナ9
aとしている。As shown in FIG. 3, the cylindrical waveguide 7 is composed of an outer conductor 8 and an inner conductor 9 having a smaller diameter than the outer conductor 8. It is connected so that it may extend in the vertical direction while communicating with 1. The inner conductor 9 is fixed to the upper portion of the rectangular waveguide 1 and surrounds the discharge tube 5 made of quartz while enclosing the end plate 8 of the outer conductor 8.
A, and extend this portion to the probe antenna 9.
a.
【0029】放電管5は、内管11と外管12とから構
成され、円筒導波管7の中心軸に対して同軸となるよう
に配置されている。また、放電管5の内管11には、着
火装置13により発熱するテスラコイル14が挿入され
ている。The discharge tube 5 is composed of an inner tube 11 and an outer tube 12, and is disposed so as to be coaxial with the central axis of the cylindrical waveguide 7. A Tesla coil 14 that generates heat by an ignition device 13 is inserted into the inner tube 11 of the discharge tube 5.
【0030】さらに、内管11の先端(下端)は、プロ
ーブアンテナ9aの先端よりも所定の距離だけ内方に配
されている。Further, the distal end (lower end) of the inner tube 11 is disposed at a predetermined distance inward from the distal end of the probe antenna 9a.
【0031】他方、外管12の先端部は、外側導体8の
端板8Aを貫通して銅製の反応管15に連通し、また、
外管12の基端側(上端側)は、内側導体9との間に隙
間をあけた状態で取り付けられている。符号17は、外
側導体8の端板8Aと反応管15との間に露出する外筒
12に向けられた光センサ17である。この光センサ1
7は、光度を検出することにより、プラズマの生成状態
を監視するものである。On the other hand, the distal end of the outer tube 12 penetrates the end plate 8A of the outer conductor 8 and communicates with the copper reaction tube 15;
The proximal end (upper end) of the outer tube 12 is attached with a gap between the outer tube 12 and the inner conductor 9. Reference numeral 17 denotes an optical sensor 17 directed to the outer cylinder 12 exposed between the end plate 8A of the outer conductor 8 and the reaction tube 15. This optical sensor 1
Numeral 7 monitors the state of plasma generation by detecting the luminous intensity.
【0032】そして、前記隙間には、ガス供給管16が
外管12の接線方向に沿って挿入され、アルゴンガス、
フロンガス(有機ハロゲン化合物)、エアー、および水
蒸気は、ガス供給管16を介して放電管5に供給され
る。これらアルゴンガス、フロンガス、およびエアー
は、図2に示す電磁弁19a、19b、19cの開閉動
作により、それぞれの供給源から選択的に流体加熱装置
18へと送られる。Then, a gas supply pipe 16 is inserted into the gap along the tangential direction of the outer pipe 12, and argon gas,
Freon gas (organic halogen compound), air, and water vapor are supplied to the discharge tube 5 via the gas supply tube 16. These argon gas, chlorofluorocarbon gas, and air are selectively sent to the fluid heating device 18 from the respective supply sources by opening and closing the solenoid valves 19a, 19b, and 19c shown in FIG.
【0033】アルゴンガスは、プラズマの発生に先立っ
て着火を容易にするために供給されるもので、アルゴン
ボンベ21に貯蔵されている。このアルゴンボンベ21
と電磁弁19aとの間には、圧力調整機22と圧力スイ
ッチ23が設けられている。The argon gas is supplied to facilitate ignition prior to generation of plasma, and is stored in the argon cylinder 21. This argon cylinder 21
A pressure regulator 22 and a pressure switch 23 are provided between the solenoid valve 19a and the solenoid valve 19a.
【0034】エアーは、系内に残存する水分を除去して
着火の安定性を高めるために、また、系内に残存するガ
スを排出するために、エアーコンプレッサ24から供給
されるもので、空気、窒素ガス、アルゴンガス等が用い
られる。水蒸気は、フロンガスの分解に必要なもので、
プランジャポンプ25によって貯水タンク26内の水を
流体加熱装置18に送り込むことで生成される。この貯
水タンク26には、水位の変動を検知するレベルスイッ
チ27が設けられている。The air is supplied from the air compressor 24 in order to remove water remaining in the system to enhance the stability of ignition and to discharge gas remaining in the system. , Nitrogen gas, argon gas and the like are used. Water vapor is necessary to decompose Freon gas.
It is generated by sending water in the water storage tank 26 to the fluid heating device 18 by the plunger pump 25. The water storage tank 26 is provided with a level switch 27 for detecting a change in water level.
【0035】フロンガスは、回収フロンボンベ28に液
貯蔵されていて、この回収フロンボンベ28と電磁弁1
9bとの間には、絞り装置31、ミストセパレータ3
2、および圧力スイッチ33が設けられている。絞り装
置31は、流れの定量化を図るために設けられたもの
で、例えばキャピラリ管とオリフィスとの組み合わせに
より構成されている。The Freon gas is stored in a liquid in a collected Freon cylinder 28, and the collected Freon cylinder 28 and the solenoid valve 1 are stored.
9b, the squeezing device 31, the mist separator 3
2, and a pressure switch 33 are provided. The throttle device 31 is provided for quantifying the flow, and is constituted by, for example, a combination of a capillary tube and an orifice.
【0036】ミストセパレータ32は、フロンガス中に
含まれる油分(潤滑油)および水分を除去するためのも
ので、衝突式や遠心分離式のものが採用される。流体加
熱装置18は、フロンガスに反応させる水蒸気を生成す
るだけでなく、フロンガス等をあらかじめ加熱しておく
ことにより、装置内で水蒸気がフロンガス等に冷やされ
て再凝縮するといった不具合を回避することも意図して
設けられている。The mist separator 32 is for removing oil (lubricating oil) and water contained in the chlorofluorocarbon gas, and is of a collision type or a centrifugal type. The fluid heating device 18 not only generates water vapor to be reacted with the chlorofluorocarbon gas, but also avoids a problem that the chlorofluorocarbon gas or the like is preliminarily heated so that the water vapor is cooled to the chlorofluorocarbon gas and recondensed in the device. Intentionally provided.
【0037】流体加熱装置18は、加熱媒体としての水
18aと、水18aを加熱するヒータ18bと、これら
水18a及びヒータ18bが収容された管状の気化室1
8cと、気化室18c上方に設けられ、流体が流動され
る流路34a、34bが貫通した管状の液化室18e
と、気化室18cと液化室18eとの間で気体及び液体
の水18aが循環される連通管18dとを具備してお
り、気化室18c、液化室18e、連通管18dは密閉
容器18fを構成している。前記液化室18e及び流路
34a、34bは、その長さ方向が水平面に対して傾斜
しており、液化室18e底面の傾斜下端において連通管
18dが接続されている。The fluid heating device 18 comprises a water 18a as a heating medium, a heater 18b for heating the water 18a, and a tubular vaporizing chamber 1 containing the water 18a and the heater 18b.
8c and a tubular liquefaction chamber 18e provided above the vaporization chamber 18c and penetrated by flow paths 34a and 34b through which a fluid flows.
And a communication pipe 18d through which gas and liquid water 18a are circulated between the vaporization chamber 18c and the liquefaction chamber 18e. The vaporization chamber 18c, the liquefaction chamber 18e, and the communication pipe 18d constitute a closed vessel 18f. are doing. The liquefaction chamber 18e and the flow paths 34a and 34b have their length directions inclined with respect to the horizontal plane, and a communication pipe 18d is connected to the inclined lower end of the bottom surface of the liquefaction chamber 18e.
【0038】ここで、本実施形態の流体加熱装置18
は、製作を容易にする観点から、まず、気化室18c
と、流路34a、34bが貫通した液化室18eとを、
連通管18dに対してそれぞれ垂直に連接する。その
後、有機ハロゲン化合物の分解装置に取り付ける際に、
液化室18eが傾斜するように配置する。すなわち、液
化室18e、及び流路34a、34bの傾斜は、流体加
熱装置18の配置の際に形成される。また、気化室18
cも傾斜することとなるが、気化室18cは傾斜させて
おく必要はなく、傾斜の有無、あるいは傾斜の向きは、
本実施形態に限定されるものではない。なお、加熱媒体
としては、水以外の物質も用いることができるのは言う
までもない。Here, the fluid heating device 18 of the present embodiment
First, from the viewpoint of facilitating the production, first, the vaporization chamber 18c
And the liquefaction chamber 18e through which the flow paths 34a and 34b pass,
Each of the communication pipes is vertically connected to the communication pipe 18d. Then, when attaching to the decomposition device of the organic halogen compound,
The liquefaction chamber 18e is disposed so as to be inclined. That is, the inclination of the liquefaction chamber 18e and the flow paths 34a and 34b is formed when the fluid heating device 18 is arranged. Also, the vaporization chamber 18
c also inclines, but the vaporization chamber 18c does not need to be inclined, and the presence or absence of the inclination, or the direction of the inclination,
The present invention is not limited to this embodiment. Needless to say, a substance other than water can be used as the heating medium.
【0039】流路34a、34bは、互いに平行に傾斜
しており、一方の流路34aにはフロンガス、アルゴン
ガス、およびエアーが導入され、他方の流路34bには
貯水タンク26から水が導入されて水蒸気が生成され
る。この水蒸気を生成する側の流路34bには、該流路
34b内を移動する水蒸気に抵抗を与える抵抗体35が
充填されていて、水蒸気が流路内を円滑に流通すること
ができないようになっている。The flow paths 34a and 34b are inclined in parallel with each other. Freon gas, argon gas and air are introduced into one flow path 34a, and water is introduced from the water storage tank 26 into the other flow path 34b. To produce steam. The flow path 34b on the side that generates the water vapor is filled with a resistor 35 that gives resistance to the water vapor moving in the flow path 34b, so that the water vapor cannot flow smoothly through the flow path. Has become.
【0040】この抵抗体35としては、無機または有機
の粒状、繊維状、多孔質のもの若しくはこれらを成形し
たものが採用されるが、高温下における劣化を防止する
観点からは、SiO2、Al2O3、TiO2、MgO、ZrO2
等に代表される酸化物や、炭化物、窒化物等の無機材で
あることが好ましい。なお、流体加熱装置18の出口近
傍には、熱電対36が設けられている。As the resistor 35, an inorganic or organic granular, fibrous, or porous material or a molded product thereof is used. From the viewpoint of preventing deterioration at high temperatures, SiO 2 , Al, and the like are used. 2 O 3 , TiO 2 , MgO, ZrO 2
And inorganic materials such as oxides, carbides, nitrides and the like. A thermocouple 36 is provided near the outlet of the fluid heating device 18.
【0041】また、水18aの圧力を検出する圧力検出
器18gと、圧力検出器18gの出力に基づいてヒータ
18bの電源18iを制御する圧力制御装置18hとが
設けられており、圧力を一定に保ちつつ、流路34a、
34bを通過する流体を加熱することができるようにな
っている。A pressure detector 18g for detecting the pressure of the water 18a and a pressure controller 18h for controlling a power supply 18i of the heater 18b based on the output of the pressure detector 18g are provided to keep the pressure constant. While maintaining the flow path 34a,
The fluid passing through 34b can be heated.
【0042】しかるに、流体加熱装置18を通過したフ
ロンガス等と水蒸気は、ミキサー37内で混合された
後、ガス供給管16を通って放電管5へと供給される。
ミキサー37の内部には、図5に示すように、オリフィ
ス38が設けられ、その開口38aはφ0.1mm〜5mm
に設定されている。また、この開口38aが臨むミキサ
ー37の出口側端面37Aは、流路断面が漸次縮小する
ような傾斜面をなしている。However, the fluorocarbon gas and the like having passed through the fluid heating device 18 and the water vapor are mixed in the mixer 37 and then supplied to the discharge tube 5 through the gas supply tube 16.
As shown in FIG. 5, an orifice 38 is provided inside the mixer 37, and the opening 38a has a diameter of 0.1 mm to 5 mm.
Is set to The outlet-side end surface 37A of the mixer 37 facing the opening 38a has an inclined surface such that the cross section of the flow path gradually decreases.
【0043】排ガス処理タンク41は、フロンガスを分
解した際に生成される酸性ガス(フッ化水素および塩化
水素)を中和して無害化するために設けられたものであ
り、水に水酸化カルシウムを加えたアルカリ性懸濁液が
収容されている。例えば、分解するフロンガスが廃冷蔵
庫から回収した冷媒用のフロンR12の場合には、式1
に示す分解反応により生成された生成ガスは式2に示す
中和反応により無害化される。The exhaust gas treatment tank 41 is provided to neutralize and render harmless the acidic gases (hydrogen fluoride and hydrogen chloride) generated when the fluorocarbon gas is decomposed. Is contained therein. For example, if the decomposed Freon gas is Freon R12 for a refrigerant recovered from a waste refrigerator, the following formula 1 is used.
The generated gas generated by the decomposition reaction shown in (2) is rendered harmless by the neutralization reaction shown in equation (2).
【0044】(式1) CCl2F2+2H2O→2HCl+2HF+CO2 (式2) 2HCl+Ca(OH)2→CaCl2+2H2O 2HF +Ca(OH)2→CaF2 +2H2O(Formula 1) CCl 2 F 2 + 2H 2 O → 2HCl + 2HF + CO 2 (Formula 2) 2HCl + Ca (OH) 2 → CaCl 2 + 2H 2 O 2HF + Ca (OH) 2 → CaF 2 + 2H 2 O
【0045】式2の中和反応により生成された中和生成
物(塩化カルシウムおよびフッ化カルシウム)は溶解度
が小さいため、一部はアルカリ液に溶解するが、ほとん
どはスラリーとして存在する。また、式1の分解反応に
より生成された二酸化炭素と、式2の中和反応により排
出基準値以下の微少量に低減された酸性ガスは、排ガス
処理タンク41の上方に接続された排気ダクト42から
ブロア43により系外に排出される。The neutralized products (calcium chloride and calcium fluoride) produced by the neutralization reaction of the formula (2) have a low solubility, so that a part of them is dissolved in an alkaline solution, but most of them are present as a slurry. Further, the carbon dioxide generated by the decomposition reaction of the formula 1 and the acid gas reduced to a very small amount equal to or less than the emission reference value by the neutralization reaction of the formula 2 are connected to the exhaust duct 42 connected above the exhaust gas treatment tank 41. Is discharged out of the system by the blower 43.
【0046】排ガス処理タンク41の内部には、交換継
手44を介して反応管15に接続される吹込管45が、
その下端部をアルカリ液に浸漬した状態で垂直方向に延
びるように配置されている。この吹込管45の先端部4
5aは、垂直方向に対して所定の角度傾斜するように形
成されている。Inside the exhaust gas treatment tank 41, a blowing pipe 45 connected to the reaction pipe 15 via an exchange joint 44 is provided.
It is arranged to extend vertically with its lower end immersed in an alkaline solution. The tip 4 of this blowing pipe 45
5a is formed so as to be inclined at a predetermined angle with respect to the vertical direction.
【0047】反応管15の軸線方向中間部には、その周
面を取り囲むようにして冷水配管を(図示略)備えた冷
却器46が付設されている。冷却器46は、式1の分解
反応による生成ガスを冷却するものであるが、反応管1
5内の残留水蒸気の再凝縮を防止すべく、その露点以下
には冷却しないように制御される。本実施形態において
は、400℃程度に冷却する。A cooler 46 provided with a chilled water pipe (not shown) is provided at an intermediate portion in the axial direction of the reaction tube 15 so as to surround the peripheral surface thereof. The cooler 46 cools a gas produced by the decomposition reaction of the formula 1, and the reaction tube 1
In order to prevent the re-condensation of the residual water vapor in 5, it is controlled not to cool below the dew point. In the present embodiment, the cooling is performed to about 400 ° C.
【0048】反応管15を冷却することで温められた冷
却器46の冷却水(温水)は、回収フロンボンベ28の
加熱源として用いられる。すなわち、回収フロンボンベ
28の周りには、温水配管(図示略)を備えた加熱器4
7が付設されていて、この温水配管に反応管15の冷却
に使用された冷却水が流通することにより、回収フロン
ボンベ28は加熱される。The cooling water (warm water) of the cooler 46 warmed by cooling the reaction tube 15 is used as a heating source of the recovered freon cylinder 28. That is, a heater 4 provided with a hot water pipe (not shown) is provided around the recovered CFC cylinder 28.
7 is provided, and when the cooling water used for cooling the reaction tube 15 flows through the hot water pipe, the recovered CFC cylinder 28 is heated.
【0049】交換継手44は、図3に示すように、反応
管15と吹込管45との間に着脱可能に接続されてい
て、その内部に向けて水噴射ノズル51が連通してい
る。この水噴射ノズル51からは冷却水が吐出され、樹
脂製、例えばテフロン製の吹込管45はその耐熱温度範
囲にまで急冷される。ちなみに、吹込管45がテフロン
管の場合には、100℃以下に冷却される。As shown in FIG. 3, the exchange joint 44 is detachably connected between the reaction tube 15 and the blowing tube 45, and the water injection nozzle 51 communicates toward the inside thereof. Cooling water is discharged from the water injection nozzle 51, and the resin-made, for example, Teflon-made blowing pipe 45 is rapidly cooled to its heat-resistant temperature range. Incidentally, when the blowing pipe 45 is a Teflon pipe, it is cooled to 100 ° C. or lower.
【0050】吹込管45を樹脂製にする理由は、吹込管
45は酸性ガスが冷却水に溶解してできた酸性液と、排
ガス処理タンク41内のアルカリ液との双方に対して良
好な耐食性を備える必要があり、金属ではその実現が困
難だからである。これに対し、反応管15の場合には、
その内部が常に乾燥状態とされているから腐食のおそれ
があまりない一方で耐熱性が要求されるため、銅製とす
ることで長寿命化を図っている。The reason why the blowing pipe 45 is made of resin is that the blowing pipe 45 has good corrosion resistance to both the acidic liquid formed by dissolving the acidic gas in the cooling water and the alkaline liquid in the exhaust gas treatment tank 41. This is because it is difficult to achieve this with a metal. On the other hand, in the case of the reaction tube 15,
Since the inside is always in a dry state, there is little possibility of corrosion and heat resistance is required. Therefore, the life is extended by using copper.
【0051】吹込管45の先端(下端)からは、式1の
分解反応による生成ガスがアルカリ液中に気泡となって
放出される。アルカリ液中での中和反応は、気泡とアル
カリ液との接触面積が大きく、気泡が液面に到達するま
での時間が長いほど促進されるため、排ガス処理タンク
41内には、気泡を細かく分断させることで式2の中和
反応を促進させる気泡分断手段52が設けられている。From the tip (lower end) of the blowing pipe 45, the gas produced by the decomposition reaction of the formula 1 is released as bubbles into the alkaline liquid. The neutralization reaction in the alkaline solution is accelerated as the contact area between the bubbles and the alkaline solution increases and the time until the bubbles reach the liquid surface is increased. A bubble dividing means 52 for promoting the neutralization reaction of Formula 2 by dividing is provided.
【0052】気泡分断手段52は、モータ52aにより
回転駆動される軸部52bと、この軸部52bの先端に
固定される円盤状のブレード保持部52cと、このブレ
ード保持部52cの外縁部に固定される6つのブレード
52dとを具備して構成される。The bubble separating means 52 includes a shaft 52b that is driven to rotate by a motor 52a, a disk-shaped blade holder 52c fixed to the tip of the shaft 52b, and an outer edge of the blade holder 52c. And six blades 52d.
【0053】これら軸部52a、ブレード保持部52
c、およびブレード52dは、いずれもSUS材で製作
され、ブレード52dは、ブレード保持部52cに対し
て交差し、かつその周方向に等しい間隔をおいて銀ロウ
付けにより固定されている。このように銀ロウ付け固定
としたのは、一般の溶接ではアルカリ液に対する腐食が
激しいからである。The shaft 52a and the blade holder 52
Each of c and the blade 52d is made of a SUS material, and the blade 52d intersects the blade holding portion 52c and is fixed by silver brazing at equal intervals in the circumferential direction. The reason why the silver brazing is employed is that the general welding is highly corrosive to an alkaline solution.
【0054】気泡分断手段52は、ブレード保持部52
cの中心が反応管15の先端の上方に位置するように配
置されていて、反応管15の先端から浮上する気泡は、
300rpmで回転するブレード52dに当たって直径約
3mm〜5mmの気泡に細かく分断される。また、この気泡
分断手段52は、排ガス処理タンク41に投入した水酸
化カルシウムの粉末を攪拌することにより、水に不溶性
の水酸化カルシウムと水の懸濁液を作る役目も果たして
いる。The bubble separating means 52 includes a blade holder 52
The center of c is arranged so as to be located above the tip of the reaction tube 15, and the air bubbles that float from the tip of the reaction tube 15 are:
When the blade 52d rotates at 300 rpm, it is finely divided into bubbles having a diameter of about 3 to 5 mm. The bubble separating means 52 also plays a role of forming a suspension of water and water-insoluble calcium hydroxide by stirring the calcium hydroxide powder charged into the exhaust gas treatment tank 41.
【0055】また、排ガス処理タンク41には、式2の
中和反応が発熱反応であることから、タンク内温度を吹
込管45の耐熱温度以下に冷却する冷却機53が設けら
れている。この冷却機53は、ファン53aにより冷却
される放熱部53bに接続された配管の一部が、排ガス
処理タンク41内を挿通してなり、この配管に水等の冷
却媒体を流通させることで熱を奪い、これを放熱部53
bにおいて放熱するものである。ちなみに、タンク内温
度は熱電対54により検出される。Further, the exhaust gas treatment tank 41 is provided with a cooler 53 for cooling the temperature in the tank below the heat-resistant temperature of the blowing pipe 45 because the neutralization reaction of the formula 2 is an exothermic reaction. In the cooler 53, a part of a pipe connected to a heat radiating part 53b cooled by a fan 53a is inserted through the exhaust gas treatment tank 41, and a cooling medium such as water flows through the pipe to generate heat. And the heat dissipating part 53
Heat is dissipated in b. Incidentally, the temperature in the tank is detected by the thermocouple 54.
【0056】さらに、排ガス処理タンク41には、pH
センサ55が設けられている。アルカリ液のpH値は、
このpHセンサ55を介して常に制御装置61により監
視されており、例えばpH値が9(運転開始時は11〜
12)になると、制御装置61からの指令によって警報
手段が作動するとともに、分解運転が停止するようにな
っている。警報手段としては、周囲に注意を喚起できる
ものであれば何でもよく、例えばランプを点滅させた
り、警笛をならす等の手段が採用される。Further, the exhaust gas treatment tank 41 has a pH value
A sensor 55 is provided. The pH value of the alkaline solution is
It is constantly monitored by the control device 61 via the pH sensor 55. For example, when the pH value is 9 (11 to 11 when the operation is started).
In the case of 12), the alarm means is activated by a command from the control device 61, and the disassembling operation is stopped. As the warning means, any means can be used as long as it can draw attention to the surroundings. For example, means such as blinking a lamp or sounding a horn is adopted.
【0057】排ガス処理タンク41内のスラリーは、運
転時間の経過に伴って次第に増加するため、運転停止後
にアルカリ液とともに固液分離器62に受け入れられ、
固液分離された後、廃棄物として処分されるか、他の用
途に利用される。他方、分離されたアルカリ液は、再び
排ガス処理タンク41内に戻され、再利用される。ちな
みに、排ガス処理タンク内の液位の変動は、レベルスイ
ッチ56により検知される。Since the slurry in the exhaust gas treatment tank 41 gradually increases as the operation time elapses, the slurry is received by the solid-liquid separator 62 together with the alkali liquid after the operation is stopped.
After solid-liquid separation, it is disposed of as waste or used for other purposes. On the other hand, the separated alkaline liquid is returned to the exhaust gas treatment tank 41 again and reused. Incidentally, the fluctuation of the liquid level in the exhaust gas treatment tank is detected by the level switch 56.
【0058】以上の構成からなる有機ハロゲン化合物の
分解装置において、電磁弁の開閉動作およびテスラコイ
ル14の点火動作は、制御装置61によって図6に示す
ように制御される。この図から明らかなように、この分
解装置では、8時間を1サイクルとしたバッチ処理によ
りフロンガスの分解が行われる。In the organic halogen compound decomposing apparatus having the above structure, the opening / closing operation of the electromagnetic valve and the ignition operation of the Tesla coil 14 are controlled by the control device 61 as shown in FIG. As is clear from this figure, in this decomposition apparatus, the decomposition of the chlorofluorocarbon gas is performed by batch processing in which one cycle is performed for 8 hours.
【0059】すなわち、フロンガスや水蒸気を供給する
前に、まず、残留水分の除去を目的としてエアーを所定
の時間(3分間)供給し、その供給停止後、着火の安定
性向上を目的としてアルゴンガスの供給を開始する。そ
して、アルゴンガス供給中に、マイクロ波を発信してテ
スラコイルによる着火を行うとともに水蒸気およびフロ
ンガスを供給し、その後、アルゴンガスの供給を停止す
る。That is, before supplying Freon gas or water vapor, first, air is supplied for a predetermined time (3 minutes) for the purpose of removing residual moisture, and after the supply is stopped, argon gas is supplied for the purpose of improving ignition stability. Start supplying. Then, during the supply of the argon gas, the microwave is transmitted to ignite the gas by the Tesla coil, and the steam and the chlorofluorocarbon gas are supplied. Thereafter, the supply of the argon gas is stopped.
【0060】分解運転の停止後は、安全性を確保するこ
とを目的としてエアーを所定時間(5分)供給し、残留
酸性ガスをパージする。After the decomposition operation is stopped, air is supplied for a predetermined time (5 minutes) to ensure the safety, and the residual acid gas is purged.
【0061】以上の工程では、アルゴンガスの供給とフ
ロンガスの供給とがオーバーラップしているときがある
が、フロンガスの供給を始めてからアルゴンガスの供給
を止めるまでの間は、ごくわずかでよい。その理由は、
着火の状態が安定しさえすれば、アルゴンガスを供給し
続ける必要はなくなり、また、低コスト化を図る観点か
らもアルゴン消費量を低く抑える必要があるからであ
る。特に他のプラズマ、例えば高周波誘導プラズマに比
べて、マイクロ波によるプラズマは安定性が高いため、
アルゴンガスの供給を停止してもフロンがすのプラズマ
化への影響は殆どない。In the above steps, the supply of the argon gas and the supply of the chlorofluorocarbon gas may overlap with each other. However, the time between the start of the supply of the chlorofluorocarbon gas and the stop of the supply of the argon gas may be very small. The reason is,
This is because, as long as the ignition state is stabilized, it is not necessary to continuously supply the argon gas, and it is necessary to keep the argon consumption low from the viewpoint of cost reduction. In particular, compared to other plasmas, for example, high-frequency induction plasma, plasma by microwave has high stability,
Even if the supply of the argon gas is stopped, there is almost no effect on the formation of plasma from Freon soot.
【0062】また、制御装置61は、圧力スイッチ2
3、33、熱電対36、54、レベルスイッチ27、5
6、光センサ17等の各種センサから信号を受信するこ
とにより、アルゴンガスおよびフロンガスの流体加熱装
置18への供給圧、貯水タンク26内の液位、プラズマ
の生成状態、排ガス処理タンク41内の温度および液位
を常に監視しており、これらが規定値を外れた場合に
は、運転が正常または効率的に行われていないおそれが
あるため、運転を停止する。そして、運転停止後は、安
全性を確保すべく上記の通りエアーを供給し、装置内の
残留ガスを掃気する。Further, the control device 61 controls the pressure switch 2
3, 33, thermocouples 36, 54, level switches 27, 5
6. By receiving signals from various sensors such as the optical sensor 17, the supply pressure of the argon gas and the fluorocarbon gas to the fluid heating device 18, the liquid level in the water storage tank 26, the plasma generation state, and the The temperature and the liquid level are constantly monitored, and if these deviate from the specified values, the operation is stopped because there is a possibility that the operation is not performed normally or efficiently. After the operation is stopped, air is supplied as described above to ensure safety, and the residual gas in the apparatus is scavenged.
【0063】以下、本実施形態に係る分解装置の作用に
ついて説明する。この分解装置では、まず、電磁弁19
a、19bを閉にするとともに電磁弁19cを開にし
て、エアコンプレッサー24からのエアーをガス供給管
16を介して放電管5に3分間供給する。このエアー
は、流体加熱装置18を通過することにより、100〜
180℃に加熱されているため、装置内の残留水分は確
実に除去されることになる。Hereinafter, the operation of the decomposition apparatus according to the present embodiment will be described. In this disassembly apparatus, first, the solenoid valve 19
a, 19b are closed and the solenoid valve 19c is opened to supply air from the air compressor 24 to the discharge tube 5 via the gas supply tube 16 for 3 minutes. This air passes through the fluid heating device 18,
Since the heating is performed at 180 ° C., the residual moisture in the apparatus is surely removed.
【0064】次に、電磁弁19cを閉にするとともに電
磁弁19aを開にして、アルゴンガスを放電管5に供給
する。このとき、アルゴンガスは、外管12の接線方向
から供給されて螺旋状に流下するため、内管11の先端
近傍によどみが形成され、プラズマが保持されやすくな
る。Next, the solenoid valve 19c is closed and the solenoid valve 19a is opened, and argon gas is supplied to the discharge tube 5. At this time, since the argon gas is supplied from the tangential direction of the outer tube 12 and flows down spirally, stagnation is formed near the tip of the inner tube 11 and plasma is easily held.
【0065】また、このときのガス供給量は、4〜40
l/min、望ましくは15l/min以上に設定する。この設定
範囲では、よどみが効果的に形成されてプラズマが一層
保持され易くなるとともに、プラズマの熱的影響を放電
管5が受け難くなり、その溶融変形や破損が効果的に防
止されることになる。The gas supply amount at this time is 4 to 40.
l / min, desirably 15 l / min or more. In this setting range, the stagnation is effectively formed, the plasma is more easily held, and the discharge tube 5 is hardly affected by the thermal influence of the plasma, so that melting deformation and breakage thereof are effectively prevented. Become.
【0066】そして、アルゴンガスの供給開始から一定
の間隔をおいて、マイクロ波発信器2からマイクロ波を
発信する。マイクロ波は、方形導波管1によりその後端
部側に伝送され、さらに円筒導波管7へと伝送される。Then, a microwave is transmitted from the microwave transmitter 2 at a constant interval from the start of the supply of the argon gas. The microwave is transmitted to the rear end side by the rectangular waveguide 1 and further transmitted to the cylindrical waveguide 7.
【0067】このとき、円筒導波管7内の電界として
は、電界強度の大きなTM01モードが形成され、しか
も、内側導体9により、方形導波管1内の電界モード
と、円筒導波管7内の電界モードとがカップリングされ
ているため、円筒導波管7内の電界は安定している。当
然のことながら磁界は電解に直交叉する方向に生じてい
る。この振動する電磁界により放電管5に導入されたガ
スはプラズマ状態に加熱される。At this time, as the electric field in the cylindrical waveguide 7, a TM 01 mode having a large electric field intensity is formed, and the electric field mode in the rectangular waveguide 1 and the TM 01 mode are formed by the inner conductor 9. The electric field inside the cylindrical waveguide 7 is stable because the electric field mode inside the cylindrical waveguide 7 is coupled. As a matter of course, the magnetic field is generated in a direction orthogonal to the electrolysis. The gas introduced into the discharge tube 5 is heated to a plasma state by the oscillating electromagnetic field.
【0068】次に、点火装置13によりテスラコイル1
4を発熱させて着火させる。このとき、放電管5の内部
は、エアーにより水分が除去され、かつ着火し易いアル
ゴンガスがあらかじめ供給されているため、容易に着火
する。次いで、プランジャポンプ25により貯水タンク
26から水を吸引し、これを流体加熱装置18に通して
水蒸気を生成し、生成した水蒸気を放電管5に供給す
る。Next, the Tesla coil 1 is
4 is heated to ignite. At this time, the interior of the discharge tube 5 is easily ignited because moisture is removed by air and an easily ignited argon gas is supplied in advance. Next, water is sucked from the water storage tank 26 by the plunger pump 25, and is passed through the fluid heating device 18 to generate steam, and the generated steam is supplied to the discharge tube 5.
【0069】流体加熱装置18においては、加熱媒体と
しての水18aにより凝縮伝熱で加熱すること、および
流路34b内に充填された抵抗体35の作用によって、
流路34b内の水が安定して水蒸気となり、脈動や突沸
による飛散を防いで流路34bから流出する水蒸気の流
出量が安定し、ミキサー37上流側の流量変動を効果的
に抑制することができる。In the fluid heating device 18, heating by condensation heat transfer with water 18 a as a heating medium, and the action of the resistor 35 filled in the flow path 34 b,
The water in the flow path 34b becomes stable water vapor, prevents pulsation and scattering due to bumping, stabilizes the flow rate of the water vapor flowing out of the flow path 34b, and effectively suppresses the flow rate fluctuation on the upstream side of the mixer 37. it can.
【0070】詳細には、まず、流体加熱装置18内部を
真空にしておき、そこに水18aを封入し、密閉する。
この状態においては、水18aの一部が蒸発し、密閉容
器18f内には水蒸気と、液体の水が混合した状態とな
る。気化室18c内の水18aをヒータ18bで加熱す
ると、一部が気化し、液化室18e側に移動する。液化
室18e内においては、水蒸気は流路34a、34b内
の流体によって冷やされ、凝縮する。すなわち、熱源た
る水蒸気が、凝縮伝熱によって直接流路34a、34b
を加熱するので、熱伝導の時間が非常に短く、安定して
流路34b内の水を加熱し気化させることが可能であ
る。したがって、流体の変動にともなう気化量の変動を
防止することができる。Specifically, first, the inside of the fluid heating device 18 is evacuated, and the water 18a is sealed therein and hermetically sealed.
In this state, a part of the water 18a evaporates, and a state is obtained in which steam and liquid water are mixed in the closed container 18f. When the water 18a in the vaporization chamber 18c is heated by the heater 18b, a part is vaporized and moves to the liquefaction chamber 18e. In the liquefaction chamber 18e, the water vapor is cooled and condensed by the fluid in the flow paths 34a and 34b. That is, the steam as a heat source is directly condensed and transferred by the flow paths 34a and 34b.
Is heated, the heat conduction time is very short, and the water in the flow path 34b can be stably heated and vaporized. Therefore, it is possible to prevent a change in the amount of vaporization due to a change in the fluid.
【0071】また、加熱温度は、圧力を制御することに
より行うことができる。すなわち、密閉容器18f内の
水18aの蒸発量によって若干の変動はあるものの、密
閉容器18f内の水蒸気の体積は一定と考えてよい。し
たがって、水蒸気の温度は、系内の圧力によって一意に
定まる。この流体加熱装置18においては、圧力検出器
18gの出力に基づいて、圧力制御装置18hがヒータ
18bの出力を制御するので、容易に加熱媒体の温度を
制御することができ、流体を安定して加熱することがで
きる。The heating temperature can be controlled by controlling the pressure. In other words, the volume of water vapor in the sealed container 18f may be considered to be constant, although there is some variation depending on the amount of water 18a evaporated in the sealed container 18f. Therefore, the temperature of steam is uniquely determined by the pressure in the system. In the fluid heating device 18, since the pressure control device 18h controls the output of the heater 18b based on the output of the pressure detector 18g, the temperature of the heating medium can be easily controlled, and the fluid can be stably formed. Can be heated.
【0072】さらに、流路34b内に充填された抵抗体
35によって、流路34b内で気化した水蒸気は円滑に
流動することができないようになっている。従って、流
路34b内には一定量の水蒸気が滞留した状態になる。
このため、脈動や突沸による飛散を防いで水蒸気の流出
量が安定し、ミキサー37上流側の流量変動を効果的に
抑制することができる。Further, the resistor 35 filled in the flow path 34b prevents the vaporized vapor in the flow path 34b from flowing smoothly. Accordingly, a certain amount of water vapor stays in the flow path 34b.
For this reason, scattering due to pulsation and bumping is prevented, the outflow amount of steam is stabilized, and fluctuations in the flow rate on the upstream side of the mixer 37 can be effectively suppressed.
【0073】一方、液化室18e内で凝縮した加熱媒体
としての水18aは、重力に従って液化室18eの下部
に移動し、その下部に接続されている連通管18dを介
して気化室18c内に移動する。これにより、凝縮した
水18aが流路34a、34b表面に留まることなく、
速やかに取り除かれ、常に新たな水蒸気によって加熱さ
れることとなる。そして、再びヒータ18bによって加
熱されて気化し、上記と同様のことが繰り返される。す
なわち、熱源たる水蒸気が連続的に安定して供給され、
流路34a、34bの流体が安定して加熱される。On the other hand, the water 18a as a heating medium condensed in the liquefaction chamber 18e moves to the lower part of the liquefaction chamber 18e according to gravity, and moves into the vaporization chamber 18c via a communication pipe 18d connected to the lower part. I do. Thereby, the condensed water 18a does not stay on the surfaces of the flow paths 34a and 34b,
It will be quickly removed and will always be heated by fresh steam. Then, it is heated again by the heater 18b and vaporized, and the same operation as described above is repeated. That is, steam as a heat source is continuously and stably supplied,
The fluid in the flow paths 34a and 34b is stably heated.
【0074】以上により、水蒸気が安定して放電管5に
供給され、プラズマの消失を招くことなくプラズマを安
定化させて、処理能力の向上を図ることができる。As described above, the steam is stably supplied to the discharge tube 5, the plasma is stabilized without causing the plasma to disappear, and the processing capability can be improved.
【0075】次いで、電磁弁19bを開にして、フロン
ガスを放電管5に供給する。このとき、回収フロンボン
ベ28から流出したフロンガスは、ミストセパレータ3
2を通過することで油分および水分が除去されている。
このため、フロンガス中の潤滑油による配管等の汚れお
よび副生成物の生成が抑制されて、フロンガス等の効率
的かつ安定的な供給が可能になり、しかも余分な水分供
給を防止し得てプラズマの消失を招くこともない。よっ
て、プラズマを安定化させて、処理能力の向上を図るこ
とができる。Next, the solenoid valve 19b is opened to supply Freon gas to the discharge tube 5. At this time, the chlorofluorocarbon gas flowing out of the collected chlorofluorocarbon cylinder 28 is supplied to the mist separator 3.
2 to remove oil and moisture.
For this reason, the generation of dirt and by-products from piping and the like due to the lubricating oil in the CFC gas is suppressed, and an efficient and stable supply of CFC gas and the like can be performed. Does not occur. Therefore, it is possible to stabilize the plasma and improve the processing capability.
【0076】また、流体加熱装置18を通過してミキサ
ー37内に流入した水蒸気、アルゴンガス、およびフロ
ンガスは、オリフィス38の開口38aを通過する際の
圧力損失によって混合が促進されるだけでなく、出口側
端面37Aに衝突することによっても混合が促進される
ため、より均一に混合された状態でミキサー37から流
出して、放電管5に供給されることになる。このため、
式1の分解反応が十分に行われることになって、塩素ガ
スや一酸化炭素等の副生成物の生成を抑制することがで
きる。The water vapor, the argon gas, and the fluorocarbon gas flowing into the mixer 37 after passing through the fluid heating device 18 not only promote mixing due to the pressure loss when passing through the opening 38a of the orifice 38, but also promote the mixing. Since the mixing is promoted by colliding with the outlet side end face 37A, the mixture flows out of the mixer 37 in a more uniformly mixed state and is supplied to the discharge tube 5. For this reason,
Since the decomposition reaction of the formula 1 is sufficiently performed, generation of by-products such as chlorine gas and carbon monoxide can be suppressed.
【0077】このようにして放電管5に供給されたフロ
ンガスにマイクロ波が照射されると、放電管5内には、
電子エネルギーが高く、しかも温度が2,000K〜
6,000Kに高められた熱プラズマが発生する。この
とき、放電管5には、フロンガスと水蒸気のみならず、
アルゴンガスも同時に供給されているため、プラズマの
消失を招くこともない。When the microwave is applied to the Freon gas supplied to the discharge tube 5 in this way, the discharge tube 5
High electron energy and temperature of 2,000K ~
Thermal plasma increased to 6,000 K is generated. At this time, not only the chlorofluorocarbon gas and water vapor but also the discharge tube 5
Since the argon gas is supplied at the same time, the plasma does not disappear.
【0078】また、内管11の先端が、プローブアンテ
ナ9aの先端よりも所定の距離だけ内方に配置されてい
るため、生成されたプラズマの熱的影響を回避し得て、
内管11の溶融破損が防止される。これにより、プラズ
マ形状の著しい変形をなくして、安定した分解運転が可
能になる。Further, since the distal end of the inner tube 11 is disposed inside the distal end of the probe antenna 9a by a predetermined distance, it is possible to avoid the thermal effect of the generated plasma,
Melt breakage of the inner tube 11 is prevented. As a result, a stable decomposition operation can be performed without remarkable deformation of the plasma shape.
【0079】しかして、熱プラズマの発生により、フロ
ンガスは塩素原子、フッ素原子、および水素原子に解離
し易い状態になるため、式1に示すように、水蒸気と反
応して容易に分解される。そして、プラズマが安定した
ら、電磁弁19aを閉にしてアルゴンガスの供給を止め
る。However, the generation of thermal plasma causes the fluorocarbon gas to be easily dissociated into chlorine, fluorine and hydrogen atoms, and is easily decomposed by reacting with water vapor as shown in equation 1. When the plasma is stabilized, the electromagnetic valve 19a is closed to stop the supply of the argon gas.
【0080】分解反応による生成ガスは、交換継手44
および吹込管45を通って排ガス処理タンク41内のア
ルカリ液中に放出される。ただし、これらの生成ガスは
極めて高温であるため、吹込管45に流入するまでの間
に、まず、反応管15の下部に付設された冷却器46に
よって約400℃に冷却される。The gas generated by the decomposition reaction is supplied to the exchange joint 44.
Then, the gas is discharged into the alkaline liquid in the exhaust gas treatment tank 41 through the blowing pipe 45. However, since these generated gases are extremely high in temperature, they are first cooled to about 400 ° C. by the cooler 46 attached to the lower part of the reaction tube 15 before flowing into the blowing tube 45.
【0081】この温度では、反応管15の内部で残留水
蒸気が再凝縮することはないため、反応管15は乾燥状
態に保持され、プラズマの消失を招くことはない。他
方、反応管15を冷却することで約50℃に温められた
冷却器46の冷却水は、回収フロンボンベ28に付設さ
れた加熱器47に導かれ、回収フロンボンベ28内の液
体フロンが気化する際に生じる該ボンベ28およびその
下流側配管での霜の生成を防止するとともに、温度低下
による圧力変動も抑制する。また、これにより熱を奪わ
れた冷却水は、冷却器46の冷却水に再度用いることが
でき、水の消費量を低く抑えることができる。At this temperature, since the residual water vapor does not re-condensate inside the reaction tube 15, the reaction tube 15 is kept in a dry state, and the plasma does not disappear. On the other hand, the cooling water of the cooler 46 heated to about 50 ° C. by cooling the reaction tube 15 is led to the heater 47 attached to the recovered freon cylinder 28, and the liquid freon in the recovered freon cylinder 28 is vaporized. In addition to preventing the formation of frost in the cylinder 28 and the downstream pipe that occurs when the pressure is reduced, the pressure fluctuation due to the temperature drop is also suppressed. In addition, the cooling water from which heat has been deprived can be reused as the cooling water for the cooler 46, and the water consumption can be reduced.
【0082】冷却器46により冷却された生成ガスは、
交換継手44を通過する間に、さらに水噴射ノズル51
から吐出される冷却水によって約100℃以下となるよ
うに急冷される。これにより、樹脂製の吹込管45をそ
の耐熱温度範囲内で使用することができ、高温による熱
的損傷から保護することができる。The product gas cooled by the cooler 46 is
While passing through the exchange joint 44, the water injection nozzle 51
Is rapidly cooled to about 100 ° C. or less by the cooling water discharged from the apparatus. Thereby, the resin blowing tube 45 can be used within its heat-resistant temperature range, and can be protected from thermal damage due to high temperature.
【0083】このとき、式1の分解反応による生成ガス
が冷却水に溶解することによって酸性液が生成されるた
め、交換継手44は次第に腐食することになるが、かか
る場合には腐食の程度に応じて交換すればよい。すなわ
ち、反応管15の下流側については、腐食による交換部
分が交換継手44のみで済むため、低コスト化および交
換作業の容易化が図られる。At this time, since the gas produced by the decomposition reaction of the formula (1) is dissolved in the cooling water to generate an acidic solution, the exchange joint 44 is gradually corroded. It can be replaced accordingly. That is, on the downstream side of the reaction tube 15, only the exchange joint 44 needs to be exchanged due to corrosion, so that the cost can be reduced and the exchange operation can be facilitated.
【0084】しかして、吹込管45を通ってアルカリ液
中に放出された生成ガスは、式2の中和反応によって無
害化され、排気ダクト42から排出される。この中和反
応は発熱反応であるため、吹込管45の熱的損傷を防止
すべく、アルカリ液の温度は冷却機53によって70℃
以下に保持される。The product gas discharged into the alkaline liquid through the blowing pipe 45 is rendered harmless by the neutralization reaction of the formula 2, and is discharged from the exhaust duct 42. Since this neutralization reaction is an exothermic reaction, the temperature of the alkaline solution is set to 70 ° C. by the cooler 53 in order to prevent thermal damage to the blowing pipe 45.
It is kept below.
【0085】また、吹込管45の先端から気泡として放
出された生成ガスは、気泡分断手段52のブレード52
dに当たって細かく分断させられるため、アルカリ液と
の接触面積が増大するとともに液面までに達する時間も
長くなり、中和反応が促進されることになる。これによ
り、中和処理不足によって基準値を超える量の酸性ガス
が系外に排出されるといったことがない。The generated gas discharged as bubbles from the tip of the blowing pipe 45 is supplied to the blade 52 of the bubble dividing means 52.
Since it is finely divided at d, the contact area with the alkaline liquid increases and the time to reach the liquid surface increases, thereby promoting the neutralization reaction. As a result, the amount of acidic gas exceeding the reference value is not discharged out of the system due to insufficient neutralization.
【0086】中和反応により生成された中和生成物は、
アルカリ液中にスラリーとして存在しているが、このス
ラリーは分解運転停止後にアルカリ液とともに固液分離
器62に受け入れられ、連続的に固液分離される。この
分離液は、排ガス処理タンク41内に戻されて再利用さ
れるため、本分解装置では、上記冷却水の再利用と相ま
って水消費量の大幅な低減が図られる。また、分解運転
停止後は、エアコンプレッサ24を駆動することによ
り、装置内に残留する酸性ガスを掃気するようにしてい
るため、安全性も高められる。The neutralized product produced by the neutralization reaction is
Although present as a slurry in the alkaline liquid, the slurry is received by the solid-liquid separator 62 together with the alkaline liquid after the decomposition operation is stopped, and is continuously subjected to solid-liquid separation. Since the separated liquid is returned to the exhaust gas treatment tank 41 and reused, in the present decomposition apparatus, the water consumption is significantly reduced in combination with the reuse of the cooling water. Further, after the decomposition operation is stopped, the air compressor 24 is driven to scavenge the acid gas remaining in the apparatus, so that the safety is improved.
【0087】なお、本発明に係る有機ハロゲン化合物の
分解装置は、上述の実施形態に限定されるものではな
く、以下の形態をも含むものである。 (1)本実施形態においては、流路34a、34bの傾
斜方向は、液化室18eの底面の傾斜方向と同一とした
が、これに限定されるものではなく、逆方向等であって
もよい。この場合、流路34a、34b周囲で凝縮した
水は、傾斜にしたがって一旦液化室18e底面に移動
し、底面の傾斜にしたがって気化室18c側に流動す
る。また、流路34a、34b内を流動する流路の向き
は、流路の傾斜に対して下降する方向であっても上昇す
る方向であってもよい。さらに、流路34a、34bは
直線状である必要はなく、例えばコイル状であってもよ
い。この場合、流路34a、34bの傾斜はコイルの各
巻きを構成する曲線となる。また、流路の数も本実施形
態に限定されるものではない。 (2)本実施形態においては、液化室18eの底面の傾
斜は一方向であるとしたが、連通管18dが液化室18
eの中央に接続されており、液化室18eの両端から中
央の連通管18dに向かって、液化室18eの底面が下
降していることとしてもよい。また、液化室18e、気
化室18cは管状であるとしたが、これに限定されるも
のではなく、任意の形状でよい。なお、上述のように、
気化室18cが傾斜している必要はなく、傾斜の有無、
あるいは傾斜の向きは、本実施形態に限定されるもので
はない。The apparatus for decomposing an organic halogen compound according to the present invention is not limited to the above embodiment, but includes the following embodiments. (1) In the present embodiment, the inclination directions of the flow paths 34a and 34b are the same as the inclination directions of the bottom surface of the liquefaction chamber 18e. However, the present invention is not limited to this, and the inclination directions may be reversed. . In this case, the water condensed around the flow paths 34a and 34b once moves to the bottom of the liquefaction chamber 18e according to the inclination, and flows toward the vaporization chamber 18c according to the inclination of the bottom. Further, the direction of the flow path flowing in the flow paths 34a and 34b may be a direction in which the flow path descends or rises with respect to the inclination of the flow path. Furthermore, the flow paths 34a and 34b need not be linear, but may be, for example, coil-shaped. In this case, the inclination of the flow paths 34a and 34b becomes a curve constituting each winding of the coil. Also, the number of flow paths is not limited to this embodiment. (2) In the present embodiment, the bottom of the liquefaction chamber 18e is inclined in one direction, but the communication pipe 18d is
e, and the bottom surface of the liquefaction chamber 18e may be lowered from both ends of the liquefaction chamber 18e toward the central communication pipe 18d. The liquefaction chamber 18e and the vaporization chamber 18c are tubular, but are not limited thereto, and may have any shape. In addition, as described above,
It is not necessary for the vaporization chamber 18c to be inclined.
Alternatively, the direction of the inclination is not limited to the present embodiment.
【0088】(3)液化室18eと気化室18cとを連
通させるために設けられた連通管18dは、一つである
必要はなく、複数設けられていることとしてもよい。ま
た、連通管18dを介さずに直接液化室18eと気化室
18cが連通されていてもよい。さらに、液化室18e
と気化室18cとが一体とされていてもよい。(3) The number of communication pipes 18d provided for communicating the liquefaction chamber 18e and the vaporization chamber 18c is not limited to one, but may be plural. Further, the liquefaction chamber 18e and the vaporization chamber 18c may be directly communicated without passing through the communication pipe 18d. Further, the liquefaction chamber 18e
And the vaporization chamber 18c may be integrated.
【0089】(4)ミキサー37内での混合を促進する
ための手段として、オリフィス38の代わりに、ミキサ
ー37内にビーズ等を充填するようにしてもよい。この
構成では、フロンガス等と水蒸気がミキサー37内に形
成された隙間をランダムに流通するため、混合が促進さ
れる。(4) As a means for promoting the mixing in the mixer 37, beads or the like may be filled in the mixer 37 instead of the orifice 38. In this configuration, the mixing of the flon gas and the steam is promoted because the gas randomly flows through the gap formed in the mixer 37.
【0090】また、ミキサー37の内周面に複数のじゃ
ま板を、例えば上下または左右に交互に間隔をおいて設
置するようにしてもよい(スタティックミキサー)。こ
の構成では、フロンガス等と水蒸気が蛇行しながら流通
するため、混合が促進される。Further, a plurality of baffles may be provided on the inner peripheral surface of the mixer 37, for example, alternately vertically or horizontally at intervals (static mixer). In this configuration, the mixing of the flon gas and the water vapor is promoted since the gas flows in a meandering manner.
【0091】さらに、ミキサー37の入口側に接続され
る配管を流方向に対して傾斜させるとともに、ミキサー
37の内周面に螺旋状に延びる案内板を設置するように
してもよい(スワールミキサー)。この構成では、フロ
ンガス等と水蒸気が螺旋を描きながら流れるため、混合
が促進される。Further, a pipe connected to the inlet side of the mixer 37 may be inclined with respect to the flow direction, and a guide plate extending spirally may be provided on the inner peripheral surface of the mixer 37 (swirl mixer). . In this configuration, since the CFC gas and the steam flow while drawing a spiral, mixing is promoted.
【0092】(5)中和処理不足による酸性ガスの系外
排出を未然に回避する手段として、アルカリ液のpH管
理に代えて、モータ電流値を管理するようにしてもよ
い。すなわち、モータ回転数が低下したり停止すると、
吹込管45から放出された気泡が十分に分断されず、中
和反応が十分に行われないことがある。そこで、モータ
回転の異常をモータ電流値に基づき検出し、制御装置6
1からの指令によって分解装置の運転を停止させるよう
にすれば、酸性ガスの系外排出を未然に防止することが
できる。(5) As a means for preventing the acid gas from being discharged out of the system due to insufficient neutralization treatment, the motor current value may be controlled instead of the pH control of the alkaline liquid. That is, when the motor speed decreases or stops,
In some cases, the bubbles released from the blowing pipe 45 are not sufficiently divided, and the neutralization reaction is not sufficiently performed. Therefore, the abnormality of the motor rotation is detected based on the motor current value, and the control device 6
If the operation of the decomposer is stopped in accordance with the command from 1, it is possible to prevent the acid gas from being discharged outside the system.
【0093】(6)反応管15の内部は乾燥状態に保た
れているため、式1の分解反応で生成された酸性ガスに
よる腐食の影響はほとんどない。しかしながら、安全性
をより一層高めるために、反応管15を内包するような
簡易型ブースを設置するとともに、該ブースと反応管1
5との間にCO2ガスやCOガス等を検出する排ガスセ
ンサを設けるようにしてもよい。(6) Since the inside of the reaction tube 15 is kept in a dry state, there is almost no influence of corrosion by the acid gas generated by the decomposition reaction of the formula 1. However, in order to further enhance safety, a simple booth containing the reaction tube 15 is installed, and the booth and the reaction tube 1 are installed.
An exhaust gas sensor for detecting a CO 2 gas, a CO gas or the like may be provided between the exhaust gas sensor 5 and the exhaust gas sensor 5.
【0094】この構成では、反応管15の腐食状態を排
ガスセンサを介して制御装置61により常に監視するこ
とができ、たとえ反応管15が腐食して式1の分解反応
による生成ガスが反応管15から流出しても、制御装置
61からの指令によって分解装置の運転を停止させると
ともに、流出した生成ガスを吸引することにより、酸性
ガスの系外排出を防止することができる。この場合のガ
ス吸引は、排気ダクト42に設けられたブロア43で兼
用する。In this configuration, the corrosion state of the reaction tube 15 can be constantly monitored by the control device 61 via the exhaust gas sensor. Even if the acid flows out of the system, the operation of the decomposition device is stopped by a command from the control device 61, and the generated gas that has flowed out is sucked, thereby preventing the acid gas from being discharged out of the system. In this case, the gas suction is also performed by the blower 43 provided in the exhaust duct 42.
【0095】(7)排ガス処理タンク41内のスラリー
は、運転停止後、一晩放置しておけば沈降するため、沈
降した高濃度スラリーをポンプで汲み上げ、これを固液
分離して処分するようにしてもよい。この場合には、高
濃度スラリーのみを遊離アルカリ液と混合することなく
汲み上げることができるため、効率の良いスラリー処理
が可能になる。また、アルカリ液に造粒剤、凝集剤等を
添加してスラリー粒子を増大させておけば、沈降時間を
短縮し得て、より効率良くスラリー処理を行える。(7) Since the slurry in the exhaust gas treatment tank 41 is settled if left overnight after the operation is stopped, the high-concentration slurry that has settled is pumped up by a pump, and the slurry is separated into solid and liquid for disposal. It may be. In this case, since only the high-concentration slurry can be pumped without mixing with the free alkali solution, efficient slurry treatment can be performed. In addition, if a granulating agent, a coagulant, or the like is added to the alkaline solution to increase the number of slurry particles, the sedimentation time can be reduced, and the slurry treatment can be performed more efficiently.
【0096】(8)テスラコイル14の先端を放電管5
の内部に配置する代わりに、放電管5の外部に配置し
て、火花放電で着火するようにしてもよい。 (9)回収フロンボンベ28を加熱することによりガス
状態にしてフロンガスを流出させる代わりに、回収フロ
ンボンベ28を倒立させて液状態のまま回収フロンを流
出させ、さらに差圧制御弁等の絞り装置に通して流れを
定量化したうえで、加熱気化させて流体加熱装置18側
へと送るようにしてもよい。この場合には、絞り装置お
よび配管を加熱することにより、温度低下による流量変
動を抑制する。(8) Connect the tip of the Tesla coil 14 to the discharge tube 5
May be arranged outside the discharge tube 5 to ignite by spark discharge. (9) Instead of heating the recovered Freon cylinder 28 to make it into a gas state and allowing Freon gas to flow out, instead of inverting the recovered Freon cylinder 28 and allowing the recovered Freon to flow out in a liquid state, a throttling device such as a differential pressure control valve , The flow may be quantified, heated and vaporized, and sent to the fluid heating device 18 side. In this case, by heating the expansion device and the piping, the flow rate fluctuation due to the temperature drop is suppressed.
【0097】(10)回収フロンボンベ28の加熱に
は、反応管15の冷却に用いた冷却水に代えて、排ガス
処理タンク41内のスラリー冷却に使用された冷却機5
3の冷却水を用いてもよい。 (11)内管11の先端がプローブアンテナ9aの先端
から内方に離間する距離は、内管11が溶融しなければ
プローブアンテナ9aの先端とマイクロ波によるエネル
ギー集中部との距離に等しく設定するのが最適である
が、内管11の溶融を考慮して適宜変更してもよい。(10) In order to heat the recovered CFC cylinder 28, the cooling device 5 used for cooling the slurry in the exhaust gas treatment tank 41 is used instead of the cooling water used for cooling the reaction tube 15.
3 cooling water may be used. (11) The distance at which the distal end of the inner tube 11 is separated inward from the distal end of the probe antenna 9a is set to be equal to the distance between the distal end of the probe antenna 9a and the energy concentration portion by the microwave unless the inner tube 11 is melted. Although it is optimal, it may be changed appropriately in consideration of melting of the inner tube 11.
【0098】(12)気泡分断手段52は、軸部の先端
にプロペラを固定してなるスクリュー式のものであって
もよい。また、気泡分断手段52は、各構成要素52
b、52c、52dをテフロン等の樹脂製とし、かつこ
れらをネジ結合することにより構成してもよい。この構
成では、溶接部分がないうえに各構成要素52b、52
c、52dが樹脂製とされるため、耐食性に極めて優れ
ることになる。(12) The bubble dividing means 52 may be of a screw type in which a propeller is fixed to the tip of a shaft. In addition, the bubble dividing means 52 includes
The b, 52c, and 52d may be made of resin such as Teflon, and these may be screw-connected. In this configuration, there is no welded portion, and each component 52b, 52
Since c and 52d are made of resin, the corrosion resistance is extremely excellent.
【0099】(13)吹込管45の先端部を垂直方向に
対して所定角度傾斜させる代わりに、略U字状に形成し
てもよい。 (14)排ガス処理タンク41に貯留される中和液は、
上記のアルカリ性懸濁液に限らず、水酸化ナトリウム水
溶液等のアルカリ性水溶液を用いても構わない。(13) Instead of inclining the distal end of the blowing pipe 45 by a predetermined angle with respect to the vertical direction, the blowing pipe 45 may be formed in a substantially U-shape. (14) The neutralized liquid stored in the exhaust gas treatment tank 41 is:
Not limited to the above alkaline suspension, an alkaline aqueous solution such as an aqueous sodium hydroxide solution may be used.
【0100】[0100]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、以下の効果を奏することができる。 (a)請求項1記載の流体加熱装置によれば、加熱媒体
をヒータによって気化させ、凝縮伝熱によって流体を加
熱する。したがって、熱源たる加熱媒体を連続的に安定
して供給することができ、流体が安定に加熱され、流体
の安定的な供給が可能である。As is apparent from the above description, the present invention has the following effects. (A) According to the fluid heating device of the first aspect, the heating medium is vaporized by the heater, and the fluid is heated by the condensation heat transfer. Therefore, the heating medium as the heat source can be continuously and stably supplied, the fluid is stably heated, and the fluid can be stably supplied.
【0101】(b)請求項2記載の流体加熱装置によれ
ば、液化室で凝縮した加熱媒体が再び気化室で気化する
ので、熱源たる加熱媒体を連続的に安定して供給するこ
とができ、流体が安定に加熱され、流体の安定的な供給
が可能である。(B) According to the fluid heating device of the second aspect, the heating medium condensed in the liquefaction chamber is vaporized again in the vaporization chamber, so that the heating medium as a heat source can be continuously and stably supplied. As a result, the fluid is stably heated, and a stable supply of the fluid is possible.
【0102】(c)請求項3記載の流体加熱装置によれ
ば、液化室底面が傾斜している為、凝縮した加熱媒体が
速やかに気化室に移動する。したがって、熱源たる加熱
媒体を連続的に安定して供給することができ、流体が安
定に加熱され、流体の安定的な供給が可能である。(C) According to the fluid heating device of the third aspect, since the bottom surface of the liquefaction chamber is inclined, the condensed heating medium quickly moves to the vaporization chamber. Therefore, the heating medium as the heat source can be continuously and stably supplied, the fluid is stably heated, and the fluid can be stably supplied.
【0103】(d)請求項4記載の流体加熱装置によれ
ば、流路が傾斜しているため、流路を形成する管の表面
で凝縮した加熱媒体が、速やかに取り除かれる。したが
って、熱源たる加熱媒体を連続的に安定して供給するこ
とができ、流体が安定に加熱され、流体の安定的な供給
が可能である。(D) According to the fourth aspect of the present invention, since the flow path is inclined, the heating medium condensed on the surface of the pipe forming the flow path is quickly removed. Therefore, the heating medium as the heat source can be continuously and stably supplied, the fluid is stably heated, and the fluid can be stably supplied.
【0104】(e)請求項5記載の流体加熱装置によれ
ば、流路内に抵抗体が設けられているため、流路内の流
体の気化にともなう流量の変動が抑えられて流体が安定
に加熱され、流体の安定的な供給が可能である。(E) According to the fluid heating device of the fifth aspect, since the resistor is provided in the flow path, fluctuation of the flow rate due to vaporization of the fluid in the flow path is suppressed, and the fluid is stabilized. And a stable supply of fluid is possible.
【0105】(f)請求項6記載の流体加熱装置によれ
ば、圧力検出器と、圧力制御装置とを具備していること
により、容易に加熱媒体の温度を制御することができ、
流体が安定に加熱され、流体の安定的な供給が可能であ
る。(F) According to the fluid heating device of the sixth aspect, the provision of the pressure detector and the pressure control device makes it possible to easily control the temperature of the heating medium,
The fluid is stably heated, and stable supply of the fluid is possible.
【0106】(g)請求項7記載の有機ハロゲン化合物
の分解装置は、流体を安定に加熱することができるの
で、プラズマの消失を招くことなく処理能力の向上を図
ることができる。(G) In the organic halogen compound decomposing apparatus according to the seventh aspect, since the fluid can be stably heated, the processing capacity can be improved without losing the plasma.
【図1】 本発明に係る流体加熱装置の一実施形態を示
す部分断面図である。FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing one embodiment of a fluid heating device according to the present invention.
【図2】 本発明に係る分解装置の一実施形態を示すシ
ステム系統図である。FIG. 2 is a system diagram showing an embodiment of the decomposition apparatus according to the present invention.
【図3】 同分解装置の全体構成を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing an entire configuration of the disassembling apparatus.
【図4】 同分解装置の要部拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of a main part of the decomposition apparatus.
【図5】 同分解装置に設けられたミキサーの要部断面
図である。FIG. 5 is a sectional view of a main part of a mixer provided in the decomposition apparatus.
【図6】 同分解装置においてマイクロ波、アルゴンガ
ス等が供給される時期と点火の時期を経時的に示す比較
図である。FIG. 6 is a comparison diagram showing the time when microwaves, argon gas and the like are supplied and the time of ignition in the decomposition apparatus over time.
【図7】 流体加熱装置の一例を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing an example of a fluid heating device.
18 流体加熱装置 18a 水(加熱媒体) 18b ヒータ 18c 気化室 18e 液化室 18f 密閉容器 18g 圧力検出器 18h 圧力制御装置 34a、34b 流路 35 抵抗体 Reference Signs List 18 fluid heating device 18a water (heating medium) 18b heater 18c vaporization chamber 18e liquefaction chamber 18f closed vessel 18g pressure detector 18h pressure control device 34a, 34b flow path 35 resistor
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 別所 正博 愛知県名古屋市中村区岩塚町字高道1番地 三菱重工業株式会社名古屋研究所内 Fターム(参考) 2E191 BA12 BB00 BD18 4D002 AA21 BA07 BA09 CA20 DA35 EA06 GB20 4D034 AA26 CA04 CA21 4G075 AA37 AA61 BA05 BB02 BB04 CA02 CA12 CA15 CA26 CA48 CA51 EB21 EB27 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Masahiro Bessho 1F, Takamichi, Iwazuka-cho, Nakamura-ku, Nagoya-shi, Aichi F-term in Nagoya Laboratory, Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. F-term (reference) 2E191 BA12 BB00 BD18 4D002 AA21 BA07 BA09 CA20 DA35 EA06 GB20 4D034 AA26 CA04 CA21 4G075 AA37 AA61 BA05 BB02 BB04 CA02 CA12 CA15 CA26 CA48 CA51 EB21 EB27
Claims (7)
加熱媒体と、該加熱媒体を加熱するヒータと、前記密閉
容器内を貫通し、内部を流体が流動する流路とを具備し
ていることを特徴とする流体加熱装置。1. A closed container, a heating medium accommodated in the closed container, a heater for heating the heating medium, and a flow passage penetrating through the closed container and through which a fluid flows. A fluid heating device.
気化室上方に設けられて該気化室と連通し、前記流路が
貫通する液化室とを具備していることを特徴とする流体
加熱装置。2. The fluid heating device according to claim 1, wherein the closed vessel is provided with a vaporization chamber provided with the heater, and is provided above the vaporization chamber and communicates with the vaporization chamber, and the flow path is penetrated. A fluid heating device comprising:
において、前記液化室と気化室とが連通していることを
特徴とする流体加熱装置。3. The fluid heating apparatus according to claim 2, wherein the liquefaction chamber has an inclined bottom surface, and the liquefaction chamber and the vaporization chamber communicate with each other at an inclined lower end of the bottom surface. Fluid heating device.
において、 前記流路は、その長さ方向に傾斜していることを特徴と
する流体加熱装置。4. The fluid heating device according to claim 2, wherein the flow path is inclined in a length direction thereof.
熱装置において、 前記流路内には、抵抗体が設けられていることを特徴と
する流体加熱装置。5. The fluid heating device according to claim 1, wherein a resistor is provided in the flow path.
熱装置において、 前記加熱媒体の圧力を検出する圧力検出器と、該圧力検
出器の出力に基づいて前記ヒータの出力を制御する圧力
制御装置とを具備していることを特徴とする流体加熱装
置。6. The fluid heating device according to claim 1, wherein a pressure detector that detects a pressure of the heating medium, and a pressure that controls an output of the heater based on an output of the pressure detector. A fluid heating device comprising a control device.
ハロゲン化合物の分解装置において、 前記流体加熱装置は、密閉容器と、該密閉容器内に収容
された加熱媒体と、該加熱媒体を加熱するヒータと、前
記密閉容器内を貫通し、内部を流体が流動する流路とを
具備していることを特徴とする有機ハロゲン化合物の分
解装置。7. An organic halogen compound decomposing device provided with a fluid heating device for heating water, wherein the fluid heating device heats the heating medium contained in the closed container, the heating medium contained in the closed container. An organic halogen compound decomposing apparatus, comprising: a heater that performs a heating operation; and a flow path that penetrates through the closed container and through which a fluid flows.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11123161A JP2000312820A (en) | 1999-04-28 | 1999-04-28 | Fluid heating device and organic halogen compound decomposition device |
| PCT/JP2000/002317 WO2000061283A1 (en) | 1999-04-09 | 2000-04-10 | Device for decomposing organic halogen compound and fluid heating device |
| EP00915454A EP1093846A1 (en) | 1999-04-09 | 2000-04-10 | Device for decomposing organic halogen compound and fluid heating device |
| AU36756/00A AU746468B2 (en) | 1999-04-09 | 2000-04-10 | Device for decomposing organic halogen compound and fluid heating device |
| NO20006204A NO20006204L (en) | 1999-04-09 | 2000-12-06 | Degradation apparatus for organic halogen compounds and fluid heating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11123161A JP2000312820A (en) | 1999-04-28 | 1999-04-28 | Fluid heating device and organic halogen compound decomposition device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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ID=14853702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11123161A Withdrawn JP2000312820A (en) | 1999-04-09 | 1999-04-28 | Fluid heating device and organic halogen compound decomposition device |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000312820A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3427057B2 (en) | 2001-01-17 | 2003-07-14 | 三菱重工業株式会社 | Method and apparatus for decomposing organic halogen compound |
| CN111483105A (en) * | 2020-04-23 | 2020-08-04 | 合肥荣丰包装制品有限公司 | EPS foam material forming device and process |
| CN114345278A (en) * | 2022-01-12 | 2022-04-15 | 东营益盟盛药业有限公司 | Veratraldehyde processing reaction equipment easy to heat up |
| CN117339532A (en) * | 2023-11-10 | 2024-01-05 | 河北福德化工科技有限公司 | A chlorination reaction kettle for the production of chlorinated pivaloyl chloride |
-
1999
- 1999-04-28 JP JP11123161A patent/JP2000312820A/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Legal Events
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