JP2000313178A - ノボラック溶液又は分散液からのポジティブ作用性印刷版の作製方法 - Google Patents
ノボラック溶液又は分散液からのポジティブ作用性印刷版の作製方法Info
- Publication number
- JP2000313178A JP2000313178A JP2000116194A JP2000116194A JP2000313178A JP 2000313178 A JP2000313178 A JP 2000313178A JP 2000116194 A JP2000116194 A JP 2000116194A JP 2000116194 A JP2000116194 A JP 2000116194A JP 2000313178 A JP2000313178 A JP 2000313178A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- printing plate
- novolak
- solution
- ink
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 title claims abstract description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 31
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims abstract description 11
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Substances O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 6
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 4
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 abstract description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 30
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 29
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 9
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 7
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 7
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 7
- -1 rTB03345 TM Chemical class 0.000 description 7
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 2
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920003261 Durez Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXCLVBGFBYZDAG-UHFFFAOYSA-N N-[2-(1H-indol-3-yl)ethyl]-N-methylprop-2-en-1-amine Chemical compound CN(CCC1=CNC2=C1C=CC=C2)CC=C GXCLVBGFBYZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 229910003439 heavy metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001480 hydrophilic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- 208000015181 infectious disease Diseases 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910001506 inorganic fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002634 lipophilic molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N methylphosphonic acid Chemical compound CP(O)(O)=O YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920001447 polyvinyl benzene Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1066—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by spraying with powders, by using a nozzle, e.g. an ink jet system, by fusing a previously coated powder, e.g. with a laser
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Ink Jet (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 画像領域における優れたインキ受容性を有し
且つ非−画像領域におけるインキ受容性がなく、高い印
刷耐久性を有する優れた平版印刷版を与える、疎水性ポ
リマーを用いて画像通りに画像形成された親水性表面を
有する平版ベースから、平版ベースの湿式現像を用いず
に、迅速、経済的且つ生態学的な方法で平版印刷版を作
製するための方法を提供すること。 【解決手段】 本発明に従えば、平版ベースの親水性表
面上にあらかじめ決められたパターンでノボラック樹脂
を分配する段階を含む平版印刷版の作製方法が提供され
る。
且つ非−画像領域におけるインキ受容性がなく、高い印
刷耐久性を有する優れた平版印刷版を与える、疎水性ポ
リマーを用いて画像通りに画像形成された親水性表面を
有する平版ベースから、平版ベースの湿式現像を用いず
に、迅速、経済的且つ生態学的な方法で平版印刷版を作
製するための方法を提供すること。 【解決手段】 本発明に従えば、平版ベースの親水性表
面上にあらかじめ決められたパターンでノボラック樹脂
を分配する段階を含む平版印刷版の作製方法が提供され
る。
Description
【0001】
【発明の分野】本発明は平版印刷版の作製方法に関す
る。特定的には、本発明は疎水性ノボラック樹脂の使用
により平版印刷版を直接作製するための方法に関し、そ
れはネガティブもしくはポジティブ画像を有する中間の
フィルムを用いずに、コンピューター、ファクシミリな
どからのデジタルデータ出力から直接平版印刷版を作製
することを可能にするものである。
る。特定的には、本発明は疎水性ノボラック樹脂の使用
により平版印刷版を直接作製するための方法に関し、そ
れはネガティブもしくはポジティブ画像を有する中間の
フィルムを用いずに、コンピューター、ファクシミリな
どからのデジタルデータ出力から直接平版印刷版を作製
することを可能にするものである。
【0002】
【発明の背景】情報のデジタル化は、近年、印刷の上流
プロセスである印刷版の作製のための版下の作製から、
プロセス全体で急速な進歩を成し、それにより例えば原
稿の版下をそれによって容易に作製できる文字の写真フ
ォームシステム(photographic form
system)又は画像を直接読み取るスキャナーを
実際に使用できるようにした。この進歩があって、印刷
版の作製のための中間のフィルムを用いずにコンピュー
ター、ファクシミリなどからのデジタルデータ出力から
平版印刷版を直接作製することができる直接版作製法を
求める要求が起こった。
プロセスである印刷版の作製のための版下の作製から、
プロセス全体で急速な進歩を成し、それにより例えば原
稿の版下をそれによって容易に作製できる文字の写真フ
ォームシステム(photographic form
system)又は画像を直接読み取るスキャナーを
実際に使用できるようにした。この進歩があって、印刷
版の作製のための中間のフィルムを用いずにコンピュー
ター、ファクシミリなどからのデジタルデータ出力から
平版印刷版を直接作製することができる直接版作製法を
求める要求が起こった。
【0003】直接版作製法の1つの例として、画像もし
くは非−画像部分をインキ−ジエット印刷により基質上
に直接形成する方法が当該技術分野に既知である。イン
キ−ジェット印刷システムは比較的迅速な画像出力シス
テムであり、複雑な光学システムをそれが必要としない
ので、簡単な構成を有している。従って、該印刷システ
ムは印刷版の作製のための装置を簡単にし、維持のため
の労働が大きく減少するので印刷版の作製のための経費
を減少させることができる。
くは非−画像部分をインキ−ジエット印刷により基質上
に直接形成する方法が当該技術分野に既知である。イン
キ−ジェット印刷システムは比較的迅速な画像出力シス
テムであり、複雑な光学システムをそれが必要としない
ので、簡単な構成を有している。従って、該印刷システ
ムは印刷版の作製のための装置を簡単にし、維持のため
の労働が大きく減少するので印刷版の作製のための経費
を減少させることができる。
【0004】インキ−ジェット印刷システムの使用によ
る印刷版の作製のための方法の例として、日本特許出願
公開(Japanese Kokai Publica
tion)第113456/1981号は、インキ−反
発性材料(例えば、硬化可能なシリコーン)をインキ−
ジェット印刷により印刷版上に印刷する印刷版の作製方
法を提案している。この方法により得られる印刷版は凹
版印刷版であり、基質の表面上に形成されるインキ−反
発性材料は非−画像領域として働く。結果として、印刷
される画像の解像度はシャドー領域又は反転した線(r
eversedlines)においてあまり良くない。
さらに、印刷版の表面のほとんどを占める非−画像部分
全体の上にインキ−反発性材料を付着させなければなら
ないので、この方法では大量のインキが必要であり、そ
れにより印刷プロセスが遅くなる。
る印刷版の作製のための方法の例として、日本特許出願
公開(Japanese Kokai Publica
tion)第113456/1981号は、インキ−反
発性材料(例えば、硬化可能なシリコーン)をインキ−
ジェット印刷により印刷版上に印刷する印刷版の作製方
法を提案している。この方法により得られる印刷版は凹
版印刷版であり、基質の表面上に形成されるインキ−反
発性材料は非−画像領域として働く。結果として、印刷
される画像の解像度はシャドー領域又は反転した線(r
eversedlines)においてあまり良くない。
さらに、印刷版の表面のほとんどを占める非−画像部分
全体の上にインキ−反発性材料を付着させなければなら
ないので、この方法では大量のインキが必要であり、そ
れにより印刷プロセスが遅くなる。
【0005】US−P−5 511 477は、場合に
より約30o〜260℃の温度に予備加熱されているこ
とができる光重合性インキ組成物を用いるインキ−ジェ
ット印刷により基質上にポジもしくはネガ画像を形成
し;得られる印刷された基質をUV放射に供し、それに
よって該画像を形成している該インキ組成物を硬化させ
ることを含んでなる光重合性レリーフ−型印刷版の作製
方法を開示している。これは、時には高い蒸気圧及び該
インキの毒性のためにいやな方法である。
より約30o〜260℃の温度に予備加熱されているこ
とができる光重合性インキ組成物を用いるインキ−ジェ
ット印刷により基質上にポジもしくはネガ画像を形成
し;得られる印刷された基質をUV放射に供し、それに
よって該画像を形成している該インキ組成物を硬化させ
ることを含んでなる光重合性レリーフ−型印刷版の作製
方法を開示している。これは、時には高い蒸気圧及び該
インキの毒性のためにいやな方法である。
【0006】US−P−5 312 654は、インキ
吸収層及び基質と吸収層の間の親水性化された層を有す
る基質上に、光重合可能なインキ組成物を用いるインキ
−ジェット印刷により画像を形成し、それを該インキ組
成物を増感して画像を硬化させる波長領域内の活性な光
に露出することを含んでなる平版印刷版の作製方法を開
示している。該印刷版の印刷耐久性は低い。
吸収層及び基質と吸収層の間の親水性化された層を有す
る基質上に、光重合可能なインキ組成物を用いるインキ
−ジェット印刷により画像を形成し、それを該インキ組
成物を増感して画像を硬化させる波長領域内の活性な光
に露出することを含んでなる平版印刷版の作製方法を開
示している。該印刷版の印刷耐久性は低い。
【0007】日本特許出願公開第69244/1992
号は、親水性処理に供された記録材料上に光硬化可能な
成分を含有する疎水性インキを用いるインキ−ジェット
印刷により印刷画像を形成し;表面全体を活性な光に露
出する段階を含んでなる印刷版の作製方法を開示してい
る。しかしながら、平版印刷版のために用いられるべき
基質の表面は通常、優れた親水性及び保水性を得るため
の機械的研磨、陽極酸化又は親水性処理のような種々の
処理に供される。従って、非常に高い表面張力を有する
インキ組成物を使用しても、インキのスプレッディング
の故の基質の表面上の劣った画像及び低い印刷耐久性を
生ずる。
号は、親水性処理に供された記録材料上に光硬化可能な
成分を含有する疎水性インキを用いるインキ−ジェット
印刷により印刷画像を形成し;表面全体を活性な光に露
出する段階を含んでなる印刷版の作製方法を開示してい
る。しかしながら、平版印刷版のために用いられるべき
基質の表面は通常、優れた親水性及び保水性を得るため
の機械的研磨、陽極酸化又は親水性処理のような種々の
処理に供される。従って、非常に高い表面張力を有する
インキ組成物を使用しても、インキのスプレッディング
の故の基質の表面上の劣った画像及び低い印刷耐久性を
生ずる。
【0008】EP−A−533 168は、インキ印刷
の後に除去されるインキ吸収層を平版ベースにコーティ
ングすることにより該インキのスプレッディングを避け
るための方法を開示している。これは不経済でやっかい
な方法である。
の後に除去されるインキ吸収層を平版ベースにコーティ
ングすることにより該インキのスプレッディングを避け
るための方法を開示している。これは不経済でやっかい
な方法である。
【0009】1988年5月のResearch Di
sclosure 289118は、インキが疎水性ポ
リマーラテックスであるインキジェットを用いる印刷版
の作製方法を開示している。しかしながら、該印刷版は
悪いインキ受容性及び低い印刷耐久性を有する。
sclosure 289118は、インキが疎水性ポ
リマーラテックスであるインキジェットを用いる印刷版
の作製方法を開示している。しかしながら、該印刷版は
悪いインキ受容性及び低い印刷耐久性を有する。
【0010】EP−A−776 763は、反応混合物
を形成する樹脂の少なくとも1種の反応物を含む液体
を、あらかじめ決められた画像−再現様式で少なくとも
1つのプリンターヘッドを用いて版上に付着させ、該液
体は該版の表面上で該混合物を完全なものとするのに必
要な残りの反応物と接触して該版上に付着させられ;該
版上の該完全な混合物を樹脂重合条件下で重合させてそ
れにより印刷可能な樹脂性画像を含有する平版印刷版を
作製することを含んでなる、印刷可能な樹脂性画像を含
有する平版印刷版の作製方法を開示している。これはイ
ンキジェットにより印刷版を作製するためのやっかいな
方法である。
を形成する樹脂の少なくとも1種の反応物を含む液体
を、あらかじめ決められた画像−再現様式で少なくとも
1つのプリンターヘッドを用いて版上に付着させ、該液
体は該版の表面上で該混合物を完全なものとするのに必
要な残りの反応物と接触して該版上に付着させられ;該
版上の該完全な混合物を樹脂重合条件下で重合させてそ
れにより印刷可能な樹脂性画像を含有する平版印刷版を
作製することを含んでなる、印刷可能な樹脂性画像を含
有する平版印刷版の作製方法を開示している。これはイ
ンキジェットにより印刷版を作製するためのやっかいな
方法である。
【0011】
【発明の目的】本発明の目的は、画像領域における優れ
たインキ受容性を有し且つ非−画像領域におけるインキ
受容性がなく、高い印刷耐久性を有する優れた平版印刷
版を与える、疎水性ポリマーを用いて画像通りに画像形
成された親水性表面を有する平版ベースから平版印刷版
を作製するための方法を提供することである。
たインキ受容性を有し且つ非−画像領域におけるインキ
受容性がなく、高い印刷耐久性を有する優れた平版印刷
版を与える、疎水性ポリマーを用いて画像通りに画像形
成された親水性表面を有する平版ベースから平版印刷版
を作製するための方法を提供することである。
【0012】本発明のさらに別の目的は、平版ベースの
湿式現像を用いずに、迅速、経済的且つ生態学的な方法
で平版印刷版を作製するための方法を提供することであ
る。
湿式現像を用いずに、迅速、経済的且つ生態学的な方法
で平版印刷版を作製するための方法を提供することであ
る。
【0013】本発明のさらなる目的は下記の記述から明
らかになるであろう。
らかになるであろう。
【0014】
【発明の概略】本発明に従えば、平版ベースの親水性表
面上にあらかじめ決められたパターンでノボラック樹脂
を分配する段階を含んでなる平版印刷版の作製方法が提
供される。
面上にあらかじめ決められたパターンでノボラック樹脂
を分配する段階を含んでなる平版印刷版の作製方法が提
供される。
【0015】
【発明の詳細な記述】ノボラックは反応において過剰の
フェノールを用いて作られる任意のフェノール−ホルム
アルデヒド樹脂である。該フェノールはフェノール、ク
レゾールなどであることができる。好ましいノボラック
樹脂はポリ(クレゾール−キシレノール−ホルムアルデ
ヒド)樹脂及びポリ(フェノール−キシレノール−ホル
ムアルデヒド)樹脂である。ノボラック樹脂は水性媒体
中に分散されるか又は有機溶媒中に溶解される。適した
有機溶媒は例えば1−メトキシ−2−プロパノール、酢
酸エチル、メチルエチルケトン及びイソプロパノールで
ある。溶液中の樹脂の濃度は5〜50重量%、より好ま
しくは10〜30重量%の範囲である。水性分散液中の
ノボラック樹脂の濃度は5重量%〜80重量%、より好
ましくは20〜60重量%の範囲である。本発明に従う
ノボラック樹脂は少なくとも1000、より好ましくは
少なくとも5000、最も好ましくは少なくとも100
00の分子量を有する。該ノボラックはエポキシ基を含
んでいることができる。
フェノールを用いて作られる任意のフェノール−ホルム
アルデヒド樹脂である。該フェノールはフェノール、ク
レゾールなどであることができる。好ましいノボラック
樹脂はポリ(クレゾール−キシレノール−ホルムアルデ
ヒド)樹脂及びポリ(フェノール−キシレノール−ホル
ムアルデヒド)樹脂である。ノボラック樹脂は水性媒体
中に分散されるか又は有機溶媒中に溶解される。適した
有機溶媒は例えば1−メトキシ−2−プロパノール、酢
酸エチル、メチルエチルケトン及びイソプロパノールで
ある。溶液中の樹脂の濃度は5〜50重量%、より好ま
しくは10〜30重量%の範囲である。水性分散液中の
ノボラック樹脂の濃度は5重量%〜80重量%、より好
ましくは20〜60重量%の範囲である。本発明に従う
ノボラック樹脂は少なくとも1000、より好ましくは
少なくとも5000、最も好ましくは少なくとも100
00の分子量を有する。該ノボラックはエポキシ基を含
んでいることができる。
【0016】ノボラック樹脂は疎水性、親油性樹脂であ
る。本発明において疎水性親油性化合物は、水と油の混
合物中に入れると油により濡れる化合物であるが、親水
性化合物は水と油の混合物中に入れると水で濡れる。
る。本発明において疎水性親油性化合物は、水と油の混
合物中に入れると油により濡れる化合物であるが、親水
性化合物は水と油の混合物中に入れると水で濡れる。
【0017】本発明に従えば、親水性表面を有する平版
ベースは、好ましくは、該親水性表面にあらかじめ決め
られたパターンで疎水性ポリマーの滴を吹付けた後に、
好ましくは少なくとも45℃、より好ましくは少なくと
も55℃の温度で加熱される。
ベースは、好ましくは、該親水性表面にあらかじめ決め
られたパターンで疎水性ポリマーの滴を吹付けた後に、
好ましくは少なくとも45℃、より好ましくは少なくと
も55℃の温度で加熱される。
【0018】1つの態様の場合、該加熱をオーブン中で
行う。その場合、親水性表面を有する平版ベースを、あ
らかじめ決められたパターンで疎水性ポリマーの滴を吹
付けた後に、好ましくは少なくとも1分間、より好まし
くは少なくとも5分間加熱する。
行う。その場合、親水性表面を有する平版ベースを、あ
らかじめ決められたパターンで疎水性ポリマーの滴を吹
付けた後に、好ましくは少なくとも1分間、より好まし
くは少なくとも5分間加熱する。
【0019】別の態様の場合、熱体(hot bod
y)に接触させることによって該加熱を行う。
y)に接触させることによって該加熱を行う。
【0020】他の態様の場合、IR−ヒーター又はレー
ザーを用いて該加熱を行う。その場合、加熱の時間はレ
ーザー滞留時間、すなわち0.005〜2μ秒の時間で
ある。この加熱様式は、平版ベース又はノボラック樹脂
溶液もしくは分散液がレーザー光を熱に変換できる化合
物を含むことを必要とする。
ザーを用いて該加熱を行う。その場合、加熱の時間はレ
ーザー滞留時間、すなわち0.005〜2μ秒の時間で
ある。この加熱様式は、平版ベース又はノボラック樹脂
溶液もしくは分散液がレーザー光を熱に変換できる化合
物を含むことを必要とする。
【0021】その目的のために赤外顔料もしくは染料を
用いるのが特に好ましい。本発明において特に望ましい
のは赤外染料である。しかしながら、例えばカーボンブ
ラック、導電性ポリマー粒子、金属炭化物、ホウ化物、
窒化物、炭化窒化物、ブロンズ構造酸化物及び構造的に
ブロンズ群に関連しているがA成分のない酸化物、例え
ばWO2.9のような顔料を同様に用いることができる。
用いるのが特に好ましい。本発明において特に望ましい
のは赤外染料である。しかしながら、例えばカーボンブ
ラック、導電性ポリマー粒子、金属炭化物、ホウ化物、
窒化物、炭化窒化物、ブロンズ構造酸化物及び構造的に
ブロンズ群に関連しているがA成分のない酸化物、例え
ばWO2.9のような顔料を同様に用いることができる。
【0022】摩耗抵抗性を向上させるために、硬化剤
(curing agents)を該ノボラック樹脂の
溶液又はより好ましくは分散液に加えることができる。
適した硬化剤はTexaco Chemical Co
の商品名であるJeffamineTM及びWitco
Chemical Cobの商品名であるEuredu
r TB03345TMのようなアミン類であるが、メル
カプタンもしくはアルコール基含有成分を用いることも
できる。該硬化剤は好ましくはノボラックの5〜80重
量%の量で用いられる。
(curing agents)を該ノボラック樹脂の
溶液又はより好ましくは分散液に加えることができる。
適した硬化剤はTexaco Chemical Co
の商品名であるJeffamineTM及びWitco
Chemical Cobの商品名であるEuredu
r TB03345TMのようなアミン類であるが、メル
カプタンもしくはアルコール基含有成分を用いることも
できる。該硬化剤は好ましくはノボラックの5〜80重
量%の量で用いられる。
【0023】本発明に従うと、該ノボラックと平版支持
体の親水性表面の間の接着を向上させるために、カップ
リング剤(coupling agents)をノボラ
ックの溶液又は分散液に加えることができる。適したカ
ップリング剤はアミノ−もしくはエポキシ官能基を有す
るアルコキシシランであるが、他の接着向上性官能基を
もつものも可能である。該カップリング剤は好ましくは
2〜10重量%の量で用いられる。
体の親水性表面の間の接着を向上させるために、カップ
リング剤(coupling agents)をノボラ
ックの溶液又は分散液に加えることができる。適したカ
ップリング剤はアミノ−もしくはエポキシ官能基を有す
るアルコキシシランであるが、他の接着向上性官能基を
もつものも可能である。該カップリング剤は好ましくは
2〜10重量%の量で用いられる。
【0024】本発明に従うと、平版ベースは陽極酸化さ
れたアルミニウム支持体であることができる。特に好ま
しい平版ベースは電気化学的に研磨され、陽極酸化され
たアルミニウム支持体である。陽極酸化されたアルミニ
ウム支持体を処理してその表面の親水性を向上させるこ
とができる。例えば、アルミニウム支持体を例えば95
℃のような高められた温度でケイ酸ナトリウム溶液を用
いてその表面を処理することによりケイ酸塩化すること
ができる。別の場合、リン酸塩処理を施すことができ、
それは酸化アルミニウム表面をリン酸塩溶液で処理する
ことを含み、リン酸塩溶液はさらに無機フッ化物を含有
していることができる。さらに、酸化アルミニウム表面
をクエン酸又はクエン酸塩溶液で濯ぐことができる。こ
の処理は室温で行うことができるか又は約30〜50℃
というわずかに高められた温度で行うことができる。さ
らに興味深い処理は酸化アルミニウム表面を重炭酸塩溶
液で濯ぐことを含む。さらに、酸化アルミニウム表面を
ポリビニルホスホン酸、ポリビニルメチルホスホン酸、
ポリビニルアルコールのリン酸エステル、ポリビニルス
ルホン酸、ポリビニルベンゼンスルホン酸、ポリビニル
アルコールの硫酸エステル及びスルホン化脂肪族アルデ
ヒドとの反応により生成するポリビニルアルコールのア
セタールを用いて処理することができる。これらの後処
理の1つ又はそれより多くを単独で又は組み合わせて行
うことができることはさらに明らかである。これらの処
理のもっと詳細な記載は、GB−A−1 084 07
0、DE−A−4 423 140、DE−A−4 4
17 907、EP−A−659 909、EP−A−
537 633、DE−A−4 001 466、EP
−A−292 801、EP−A−291 760及び
US−P−4 458005に示されている。
れたアルミニウム支持体であることができる。特に好ま
しい平版ベースは電気化学的に研磨され、陽極酸化され
たアルミニウム支持体である。陽極酸化されたアルミニ
ウム支持体を処理してその表面の親水性を向上させるこ
とができる。例えば、アルミニウム支持体を例えば95
℃のような高められた温度でケイ酸ナトリウム溶液を用
いてその表面を処理することによりケイ酸塩化すること
ができる。別の場合、リン酸塩処理を施すことができ、
それは酸化アルミニウム表面をリン酸塩溶液で処理する
ことを含み、リン酸塩溶液はさらに無機フッ化物を含有
していることができる。さらに、酸化アルミニウム表面
をクエン酸又はクエン酸塩溶液で濯ぐことができる。こ
の処理は室温で行うことができるか又は約30〜50℃
というわずかに高められた温度で行うことができる。さ
らに興味深い処理は酸化アルミニウム表面を重炭酸塩溶
液で濯ぐことを含む。さらに、酸化アルミニウム表面を
ポリビニルホスホン酸、ポリビニルメチルホスホン酸、
ポリビニルアルコールのリン酸エステル、ポリビニルス
ルホン酸、ポリビニルベンゼンスルホン酸、ポリビニル
アルコールの硫酸エステル及びスルホン化脂肪族アルデ
ヒドとの反応により生成するポリビニルアルコールのア
セタールを用いて処理することができる。これらの後処
理の1つ又はそれより多くを単独で又は組み合わせて行
うことができることはさらに明らかである。これらの処
理のもっと詳細な記載は、GB−A−1 084 07
0、DE−A−4 423 140、DE−A−4 4
17 907、EP−A−659 909、EP−A−
537 633、DE−A−4 001 466、EP
−A−292 801、EP−A−291 760及び
US−P−4 458005に示されている。
【0025】本発明と関連する他の様式に従うと、親水
性表面を有する平版ベースは、柔軟性支持体、例えば架
橋された親水性層が設けられた紙又はプラスチックフィ
ルムを含んでなる。特に適した架橋された親水性層は、
ホルムアルデヒド、グリオキサル、ポリイソシアナート
又は加水分解されたテトラ−アルキルオルトシリケート
のような架橋剤を用いて架橋された親水性結合剤から得
ることができる。後者が特に好ましい。
性表面を有する平版ベースは、柔軟性支持体、例えば架
橋された親水性層が設けられた紙又はプラスチックフィ
ルムを含んでなる。特に適した架橋された親水性層は、
ホルムアルデヒド、グリオキサル、ポリイソシアナート
又は加水分解されたテトラ−アルキルオルトシリケート
のような架橋剤を用いて架橋された親水性結合剤から得
ることができる。後者が特に好ましい。
【0026】親水性結合剤として、親水性(コ)ポリマ
ー、例えばビニルアルコール、アクリルアミド、メチロ
ールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ア
クリレート酸(acrylate acid)、メタク
リレート酸(methacrylate acid)、
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタ
クリレートのホモポリマー及びコポリマーあるいは無水
マレイン酸/ビニルメチルエーテルコポリマーを用いる
ことができる。用いられる(コ)ポリマー又は(コ)ポ
リマー混合物の親水度は好ましくは、少なくとも60重
量パーセント、好ましくは80重量パーセントの程度ま
で加水分解されたポリ酢酸ビニルの親水度と同じか又は
それより高い。
ー、例えばビニルアルコール、アクリルアミド、メチロ
ールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ア
クリレート酸(acrylate acid)、メタク
リレート酸(methacrylate acid)、
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタ
クリレートのホモポリマー及びコポリマーあるいは無水
マレイン酸/ビニルメチルエーテルコポリマーを用いる
ことができる。用いられる(コ)ポリマー又は(コ)ポ
リマー混合物の親水度は好ましくは、少なくとも60重
量パーセント、好ましくは80重量パーセントの程度ま
で加水分解されたポリ酢酸ビニルの親水度と同じか又は
それより高い。
【0027】架橋剤、特にテトラアルキルオルトシリケ
ートの量は、好ましくは、親水性結合剤の重量部当たり
少なくとも0.2重量部、より好ましくは0.5〜5重
量部、最も好ましくは1.0重量部〜3重量部である。
ートの量は、好ましくは、親水性結合剤の重量部当たり
少なくとも0.2重量部、より好ましくは0.5〜5重
量部、最も好ましくは1.0重量部〜3重量部である。
【0028】本態様に従って用いられる平版ベースの架
橋された親水性層は、好ましくは、層の機械的強度及び
多孔度を向上させる物質も含有する。この目的でコロイ
ドシリカを用いることができる。用いられるコロイドシ
リカは例えば最高で40nm、例えば20nmの平均粒
度を有するコロイドシリカのいずれの商業的に入手可能
な水−分散液の形態にあることもできる。さらに、コロ
イドシリカより大きな寸法の不活性粒子、例えばJ.C
olloid and InterfaceSci.,
Vol.26,1968,pages 62 to 6
9に記載されている通りにStOEberに従って調製
されるシリカあるいはアルミナ粒子あるいは二酸化チタ
ン又は他の重金属酸化物の粒子である少なくとも100
nmの平均直径を有する粒子を加えることができる。こ
れらの粒子の導入により、架橋された親水性層の表面に
微視的丘と谷から成る均一な粗いきめが与えられ、それ
は背景領域における水のための保存場所として働く。
橋された親水性層は、好ましくは、層の機械的強度及び
多孔度を向上させる物質も含有する。この目的でコロイ
ドシリカを用いることができる。用いられるコロイドシ
リカは例えば最高で40nm、例えば20nmの平均粒
度を有するコロイドシリカのいずれの商業的に入手可能
な水−分散液の形態にあることもできる。さらに、コロ
イドシリカより大きな寸法の不活性粒子、例えばJ.C
olloid and InterfaceSci.,
Vol.26,1968,pages 62 to 6
9に記載されている通りにStOEberに従って調製
されるシリカあるいはアルミナ粒子あるいは二酸化チタ
ン又は他の重金属酸化物の粒子である少なくとも100
nmの平均直径を有する粒子を加えることができる。こ
れらの粒子の導入により、架橋された親水性層の表面に
微視的丘と谷から成る均一な粗いきめが与えられ、それ
は背景領域における水のための保存場所として働く。
【0029】本態様に従う平版ベースの架橋された親水
性層の厚さは0.2〜25μmの範囲内で変化すること
ができ、好ましくは1〜10μmである。
性層の厚さは0.2〜25μmの範囲内で変化すること
ができ、好ましくは1〜10μmである。
【0030】本発明に従って用いるために適した架橋さ
れた親水性層の特定の例は、EP−A−601 24
0、GB−P−1 419 512、FR−P−2 3
00354、US−P−3 971 660、US−P
−4 284 705及びEP−A 514 490に
開示されている。
れた親水性層の特定の例は、EP−A−601 24
0、GB−P−1 419 512、FR−P−2 3
00354、US−P−3 971 660、US−P
−4 284 705及びEP−A 514 490に
開示されている。
【0031】本態様と関連する平版ベースの柔軟性支持
体として、プラスチックフィルム、例えば、基質化ポリ
エチレンテレフタレートフィルム、基質化ポリエチレン
ナフタレートフィルム、酢酸セルロースフィルム、ポリ
スチレンフィルム、ポリカーボネートフィルムなどを用
いるのが特に好ましい。プラスチックフィルム支持体は
不透明又は透明であることができる。1.2mm未満の
厚さ及び5x107に等しいかそれより高い破壊応力
(引張応力下)を有するガラスも柔軟性支持体として適
している。
体として、プラスチックフィルム、例えば、基質化ポリ
エチレンテレフタレートフィルム、基質化ポリエチレン
ナフタレートフィルム、酢酸セルロースフィルム、ポリ
スチレンフィルム、ポリカーボネートフィルムなどを用
いるのが特に好ましい。プラスチックフィルム支持体は
不透明又は透明であることができる。1.2mm未満の
厚さ及び5x107に等しいかそれより高い破壊応力
(引張応力下)を有するガラスも柔軟性支持体として適
している。
【0032】接着促進層が設けられたポリエステルフィ
ルム支持体を用いるのが特に好ましい。本発明に従って
用いるのに特に適した接着促進層は、EP−A−619
524、EP−A−620 502及びEP−A−6
19 525に開示されているような親水性結合剤及び
コロイドシリカを含んでなる。好ましくは接着促進層中
のシリカの量は200mg/m2〜750mg/m2であ
る。さらに、シリカ対親水性結合剤の比率は好ましくは
1より高く、コロイドシリカの表面積は好ましくは少な
くとも300m2/g、より好ましくは少なくとも50
0m2/gである。
ルム支持体を用いるのが特に好ましい。本発明に従って
用いるのに特に適した接着促進層は、EP−A−619
524、EP−A−620 502及びEP−A−6
19 525に開示されているような親水性結合剤及び
コロイドシリカを含んでなる。好ましくは接着促進層中
のシリカの量は200mg/m2〜750mg/m2であ
る。さらに、シリカ対親水性結合剤の比率は好ましくは
1より高く、コロイドシリカの表面積は好ましくは少な
くとも300m2/g、より好ましくは少なくとも50
0m2/gである。
【0033】ノボラック分散液は、水性媒体中における
ノボラック物質の安定なコロイド性分散液として定義さ
れる。ノボラック粒子は通常大体球状であり、典型的コ
ロイド的寸法のものであって、粒径は約20〜1000
nmの範囲である。分散媒は、通常、電解質、界面活性
剤、親水性ポリマー及び開始剤残留物のような物質を含
有する希薄水溶液である。
ノボラック物質の安定なコロイド性分散液として定義さ
れる。ノボラック粒子は通常大体球状であり、典型的コ
ロイド的寸法のものであって、粒径は約20〜1000
nmの範囲である。分散媒は、通常、電解質、界面活性
剤、親水性ポリマー及び開始剤残留物のような物質を含
有する希薄水溶液である。
【0034】得られる平版印刷版の評価を容易にするた
めに、着色された疎水性ノボラック樹脂を用いることが
できる。例えば、カーボンブラック又は染料もしくは顔
料をノボラック樹脂と混合することができる。
めに、着色された疎水性ノボラック樹脂を用いることが
できる。例えば、カーボンブラック又は染料もしくは顔
料をノボラック樹脂と混合することができる。
【0035】好ましくはインキジェットプリンターによ
り親水性表面を有する平版ベース上にノボラック樹脂を
分配することができる。
り親水性表面を有する平版ベース上にノボラック樹脂を
分配することができる。
【0036】インキ−ジェットノズルにおける液体の蒸
発を抑制するため及び溶解もしくは分散された成分の沈
殿による目詰まりを防ぐために、もし必要なら、本発明
に従って揮発防止剤をインキに加える。
発を抑制するため及び溶解もしくは分散された成分の沈
殿による目詰まりを防ぐために、もし必要なら、本発明
に従って揮発防止剤をインキに加える。
【0037】インキジェットノズルから吹出る(blo
wing)分散液の滴の寸法を調節するため、インキの
表面張力を調節して高い解像度で画像を形成できるよう
にするために、本発明に従って好ましくは界面活性剤を
インキに加える。
wing)分散液の滴の寸法を調節するため、インキの
表面張力を調節して高い解像度で画像を形成できるよう
にするために、本発明に従って好ましくは界面活性剤を
インキに加える。
【0038】本発明に従って用いられるインキに、もし
必要なら他の成分をさらに加えることができる。例え
ば、熱重合阻害剤、感染防止剤(desinfecta
nts)、抗汚染剤及び抗−菌・カビ剤を加えることも
できる。緩衝剤及び可溶化剤の使用はポリマーの溶解性
又は分散性を向上させるために有効である。インキ−ジ
ェットノズルにおけるインキの発泡を抑制するために、
脱泡剤及び抑泡剤の添加も可能である。
必要なら他の成分をさらに加えることができる。例え
ば、熱重合阻害剤、感染防止剤(desinfecta
nts)、抗汚染剤及び抗−菌・カビ剤を加えることも
できる。緩衝剤及び可溶化剤の使用はポリマーの溶解性
又は分散性を向上させるために有効である。インキ−ジ
ェットノズルにおけるインキの発泡を抑制するために、
脱泡剤及び抑泡剤の添加も可能である。
【0039】場合により、分散の質を高める他の成分を
加えることができる。
加えることができる。
【0040】画像形成には以下の段階が必要である。必
要に応じて、疎水性ノボラック樹脂のマイクロドット
(microdots)をあらかじめ決められたパター
ンで平版ベース上に、版がプリンターを通過する時にあ
るいは版上を往復するプリントヘッドによって吹付け
る。本発明の1つの態様に従うと、マイクロドットは約
30μmの直径を有する。続く段階で、疎水性ノボラッ
ク樹脂が吹付けられた平版ベースを加熱することができ
る。これは照射によるか、例えばオーブン中における対
流によるか又は熱表面との接触によるか、フラッシュ露
光によるか、IR−ヒーターによるかあるいはレーザー
照射により行われ得る。
要に応じて、疎水性ノボラック樹脂のマイクロドット
(microdots)をあらかじめ決められたパター
ンで平版ベース上に、版がプリンターを通過する時にあ
るいは版上を往復するプリントヘッドによって吹付け
る。本発明の1つの態様に従うと、マイクロドットは約
30μmの直径を有する。続く段階で、疎水性ノボラッ
ク樹脂が吹付けられた平版ベースを加熱することができ
る。これは照射によるか、例えばオーブン中における対
流によるか又は熱表面との接触によるか、フラッシュ露
光によるか、IR−ヒーターによるかあるいはレーザー
照射により行われ得る。
【0041】すでに印刷胴上にある平版ベースを用いて
画像形成を行うこともできる。その場合にはノボラック
樹脂の任意の加熱を、加熱された印刷胴を用いることに
よって行うことができる。
画像形成を行うこともできる。その場合にはノボラック
樹脂の任意の加熱を、加熱された印刷胴を用いることに
よって行うことができる。
【0042】本発明の印刷版を印刷プロセスにおいてシ
ームレススリーブ印刷版として用いることもできる。こ
の円筒状印刷版は、印刷胴上でそれを滑らせることがで
きるような直径を有する。スリーブに関するさらなる詳
細は、“GrafischNieuws” ed.Ke
esing,15,1995,page 4 to6に
示されている。
ームレススリーブ印刷版として用いることもできる。こ
の円筒状印刷版は、印刷胴上でそれを滑らせることがで
きるような直径を有する。スリーブに関するさらなる詳
細は、“GrafischNieuws” ed.Ke
esing,15,1995,page 4 to6に
示されている。
【0043】以下の実施例は本発明をそれに制限するこ
となく本発明を例示するものである。すべての部及びパ
ーセンテージは特にことわらない限り重量による。
となく本発明を例示するものである。すべての部及びパ
ーセンテージは特にことわらない限り重量による。
【0044】
【実施例】実施例1 ノボラック溶液の調製 7種の溶液を調製した: −溶液1:メチルエチルケトン中の15%の改質高分子
量フェノール性樹脂(Albertol KP 648
TM−Chemische werke Alber
t)。 −溶液2:酢酸エチル中の10%の改質高分子量フェノ
ール性樹脂(同上)。 −溶液3:メチルエチルケトン中の10%の改質フェノ
ール性樹脂。(Krumbhaar K4733TM−L
awter international) −溶液4:メチルエチルケトン中の10%のフェノール
性樹脂。(Durez28391TM−Occident
al Chemical) −溶液5:イソプロパノール中のAlnovolTMの6
%溶液。AlnovolはClariant,Germ
anyからのクレゾールホルムアルドヒド樹脂に関する
商品名である。 −溶液6:イソプロパノール中のAlnovolTMの1
4%溶液。 −溶液7:イソプロパノール中のAlnovolTMの1
0%溶液。 この実施例では、P.E.T.版上の硬膜されたポリビ
ニルアルコール上にHP690Cを用いて溶液を吹付け
た。これらの版のそれぞれから2500枚のコピーを印
刷した。
量フェノール性樹脂(Albertol KP 648
TM−Chemische werke Alber
t)。 −溶液2:酢酸エチル中の10%の改質高分子量フェノ
ール性樹脂(同上)。 −溶液3:メチルエチルケトン中の10%の改質フェノ
ール性樹脂。(Krumbhaar K4733TM−L
awter international) −溶液4:メチルエチルケトン中の10%のフェノール
性樹脂。(Durez28391TM−Occident
al Chemical) −溶液5:イソプロパノール中のAlnovolTMの6
%溶液。AlnovolはClariant,Germ
anyからのクレゾールホルムアルドヒド樹脂に関する
商品名である。 −溶液6:イソプロパノール中のAlnovolTMの1
4%溶液。 −溶液7:イソプロパノール中のAlnovolTMの1
0%溶液。 この実施例では、P.E.T.版上の硬膜されたポリビ
ニルアルコール上にHP690Cを用いて溶液を吹付け
た。これらの版のそれぞれから2500枚のコピーを印
刷した。
【0045】ポリエチレンテレフタレート上の硬膜され
たポリビニルアルコールの層の調製 下塗り層のための溶液の調製 940mlの水中の11.4gのゼラチンの溶液(粘
度:19〜21mPas)に31.7ml(11.4g
の固体生成物)のKIESELSOL 300F(コロ
イドシリカの30%水性分散液に関する商品名−g当た
り300m2の表面積)を加えた。アニオン性湿潤剤
(0.6g)及び殺生物剤(1g)を加えた。
たポリビニルアルコールの層の調製 下塗り層のための溶液の調製 940mlの水中の11.4gのゼラチンの溶液(粘
度:19〜21mPas)に31.7ml(11.4g
の固体生成物)のKIESELSOL 300F(コロ
イドシリカの30%水性分散液に関する商品名−g当た
り300m2の表面積)を加えた。アニオン性湿潤剤
(0.6g)及び殺生物剤(1g)を加えた。
【0046】親水性層の調製 21.5%のTiO2(平均粒度0.3〜0.5μm)
及び2.5%のポリビニルアルコールを脱イオン水中に
含む440gの分散液に、撹拌しながら連続的に水中の
5%ポリビニルアルコール溶液の250g、水中の加水
分解されたテトラメチルオルトシリケートの22%エマ
ルションの105g及び湿潤剤の10%溶液の22gを
加えた。次いでこの混合物に183gの脱イオン水を加
え、pHをpH=4に調節した。
及び2.5%のポリビニルアルコールを脱イオン水中に
含む440gの分散液に、撹拌しながら連続的に水中の
5%ポリビニルアルコール溶液の250g、水中の加水
分解されたテトラメチルオルトシリケートの22%エマ
ルションの105g及び湿潤剤の10%溶液の22gを
加えた。次いでこの混合物に183gの脱イオン水を加
え、pHをpH=4に調節した。
【0047】親水性支持体の製造 170mg/m2のコポリ(塩化ビニリデン/メチルメ
タクリレート/イタコン酸)のラテックス及び100m
2/gの表面積を有する40mg/m2のシリカを含有す
るプライマーがコーティングされたポリエチレンテレフ
タレート支持体に、上記の下塗り層のための溶液を75
0mg/m2の固体被覆率で適用した。下塗り層の上に
上記の親水性層を50g/m2の湿潤コーティング厚さ
までコーティングし、30℃で乾燥し、続いてそれを6
0℃の温度に1週間供することにより硬膜させた。
タクリレート/イタコン酸)のラテックス及び100m
2/gの表面積を有する40mg/m2のシリカを含有す
るプライマーがコーティングされたポリエチレンテレフ
タレート支持体に、上記の下塗り層のための溶液を75
0mg/m2の固体被覆率で適用した。下塗り層の上に
上記の親水性層を50g/m2の湿潤コーティング厚さ
までコーティングし、30℃で乾燥し、続いてそれを6
0℃の温度に1週間供することにより硬膜させた。
【0048】結果を表1に示す。
【0049】
【表1】
【0050】 −インキ受容性:−−なし −非常に低い濃度 +10枚のコピーの後に適切(correct) ++3〜5枚のコピーの後に適切 +++1枚のコピーの後に適切 −耐摩耗性 −2500枚のコピーの後に明らかな
摩耗 +2500枚のコピーの後にわずかな摩耗 ++2500枚のコピーの後に非常にわずかな摩耗 +++2500枚のコピーの後に摩耗なし。
摩耗 +2500枚のコピーの後にわずかな摩耗 ++2500枚のコピーの後に非常にわずかな摩耗 +++2500枚のコピーの後に摩耗なし。
【0051】わかる通り、すべての溶液が良から優良な
印刷結果を与えた。
印刷結果を与えた。
【0052】実施例2 ノボラック樹脂の2種の分散液を調製した: −分散液1:100mlの水当たりに、Shell C
oのビスフェノール−Aノボラックに関する商品名であ
る100gのEpi−Rez 5003−W−55TM及
びWitco Chemical Coからのアミン硬
化剤である17.8gのEuredur TB 03J
544TM。 −分散液2:100mlの水当たりに、Shell C
oのビスフェノール−Aノボラックに関する商品名であ
る100gのEpi−Rez 5003−W−55TM及
びWitco Chemical Coからのアミン硬
化剤である88.8gのEuredurTM。 これらの分散液を、陽極酸化されたアルミニウム又はポ
リエチレンテレフタレート上の硬膜されたポリビニルア
ルコールの層である親水性支持体上に画像通りに噴射し
た。陽極酸化されたアルミニウムは以下の通りに製造し
た: 陽極酸化されたアルミニウム支持体の製造 厚さが0.30mmのアルミニウム箔を、50℃におい
て5g/lの水酸化ナトリウムを含有する水溶液に箔を
沈め、脱イオン水で濯ぐことにより脱脂した。次いで3
5℃の温度及び1200A/m2の電流密度において交
流を用い、4g/lの塩酸、4g/lの硼酸及び5g/
lのアルミニウムイオンを含有する水溶液中で箔を電気
化学的に研磨し、0.5μmの平均中心線粗さRaを有
する表面トポロジーを形成した。
oのビスフェノール−Aノボラックに関する商品名であ
る100gのEpi−Rez 5003−W−55TM及
びWitco Chemical Coからのアミン硬
化剤である17.8gのEuredur TB 03J
544TM。 −分散液2:100mlの水当たりに、Shell C
oのビスフェノール−Aノボラックに関する商品名であ
る100gのEpi−Rez 5003−W−55TM及
びWitco Chemical Coからのアミン硬
化剤である88.8gのEuredurTM。 これらの分散液を、陽極酸化されたアルミニウム又はポ
リエチレンテレフタレート上の硬膜されたポリビニルア
ルコールの層である親水性支持体上に画像通りに噴射し
た。陽極酸化されたアルミニウムは以下の通りに製造し
た: 陽極酸化されたアルミニウム支持体の製造 厚さが0.30mmのアルミニウム箔を、50℃におい
て5g/lの水酸化ナトリウムを含有する水溶液に箔を
沈め、脱イオン水で濯ぐことにより脱脂した。次いで3
5℃の温度及び1200A/m2の電流密度において交
流を用い、4g/lの塩酸、4g/lの硼酸及び5g/
lのアルミニウムイオンを含有する水溶液中で箔を電気
化学的に研磨し、0.5μmの平均中心線粗さRaを有
する表面トポロジーを形成した。
【0053】脱イオン水で濯いだ後、次いで300g/
lの硫酸を含有する水溶液を用い、60℃において18
0秒間、アルミニウム箔をエッチングし、25℃におい
て30秒間、脱イオン水で濯いだ。
lの硫酸を含有する水溶液を用い、60℃において18
0秒間、アルミニウム箔をエッチングし、25℃におい
て30秒間、脱イオン水で濯いだ。
【0054】続いて箔を200g/lの硫酸を含有する
水溶液中で、45℃の温度、約10Vの電圧及び150
A/m2の電流密度において約300秒間、陽極酸化に
供し、3.00g/m2のAl2O3の陽極酸化フィルム
を形成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホス
ホン酸を含有する溶液及び続いて三塩化アルミニウムを
含有する溶液を用いて後処理し、脱イオン水を用いて2
0℃で120秒間濯ぎ、乾燥した。
水溶液中で、45℃の温度、約10Vの電圧及び150
A/m2の電流密度において約300秒間、陽極酸化に
供し、3.00g/m2のAl2O3の陽極酸化フィルム
を形成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホス
ホン酸を含有する溶液及び続いて三塩化アルミニウムを
含有する溶液を用いて後処理し、脱イオン水を用いて2
0℃で120秒間濯ぎ、乾燥した。
【0055】これらの支持体のそれぞれの上に、分散液
組成物1〜2を用いて2つの試料を画像形成し、1つを
そのまま30分間放置し、次いでAB−Dick 36
0印刷機上に適用して通常のインキ(Van Sonゴ
ムベース)及び市販の湿し液(2% Tame)を用い
て印刷した。他の試料をオーブン中において60℃で2
5分間加熱し、次いで5分間室温に冷却してから印刷版
として用いた。印刷結果を表2に示す。
組成物1〜2を用いて2つの試料を画像形成し、1つを
そのまま30分間放置し、次いでAB−Dick 36
0印刷機上に適用して通常のインキ(Van Sonゴ
ムベース)及び市販の湿し液(2% Tame)を用い
て印刷した。他の試料をオーブン中において60℃で2
5分間加熱し、次いで5分間室温に冷却してから印刷版
として用いた。印刷結果を表2に示す。
【0056】
【表2】
【0057】インキ受容性及び耐摩耗性を実施例1にお
いて示した通りに定義する。 −支持体:Alu(陽極酸化されたアルミニウム)又は
PTT(ポリビニルアルコール硬膜層) すべての試料が良いインキ受容性を与えたことならびに
アルミニウム又はPTT上にコーティングされた試料が
加熱の後に許容され得る耐摩耗性から良い耐摩耗性を与
えたことがわかる。
いて示した通りに定義する。 −支持体:Alu(陽極酸化されたアルミニウム)又は
PTT(ポリビニルアルコール硬膜層) すべての試料が良いインキ受容性を与えたことならびに
アルミニウム又はPTT上にコーティングされた試料が
加熱の後に許容され得る耐摩耗性から良い耐摩耗性を与
えたことがわかる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アウグステイン・マイスタース ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 フープ・バン・アエルト ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 リユク・レーンダース ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内
Claims (9)
- 【請求項1】 平版ベースの親水性表面上にあらかじめ
決められたパターンでノボラック樹脂を分配する段階を
含んでなる平版印刷版の作製方法。 - 【請求項2】 該ノボラック樹脂がポリ−[クレゾール
−キシレノール−ホルムアルデヒド}樹脂又はポリ−
[フェノール−キシレノール−ホルムアルデヒド}樹脂
である請求項1に記載の平版印刷版の作製方法。 - 【請求項3】 該ノボラックを有機溶媒中に溶解する請
求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 溶液中の樹脂の濃度が5〜50重量%の
範囲である請求項3に記載の方法。 - 【請求項5】 該ノボラックを水性媒体中に分散させる
請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項6】 分散液中の樹脂の濃度が5〜80重量%
の範囲である請求項5に記載の方法。 - 【請求項7】 該ノボラックが硬化剤を含んでなる請求
項1〜6のいずれかに記載の方法。 - 【請求項8】 該ノボラックがカップリング剤を含んで
なる請求項1〜7のいずれかに記載の方法。 - 【請求項9】 該分配段階をインキジェット装置によっ
て行う請求項1〜8のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP19990201217 EP1046497B1 (en) | 1999-04-19 | 1999-04-19 | Method for making lithographic printing plates using a novolac resin |
| EP99201217.9 | 1999-04-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000313178A true JP2000313178A (ja) | 2000-11-14 |
Family
ID=8240114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000116194A Pending JP2000313178A (ja) | 1999-04-19 | 2000-04-18 | ノボラック溶液又は分散液からのポジティブ作用性印刷版の作製方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1046497B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000313178A (ja) |
| DE (1) | DE69912740T2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6969541B2 (en) | 2001-07-25 | 2005-11-29 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Method and device for structuring a surface to form hydrophilic and hydrophobic regions |
| DE10136068A1 (de) * | 2001-07-25 | 2003-02-13 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Strukturierung einer Oberfläche in hydrophile und hydrophobe Bereiche |
| DE102011052991B4 (de) | 2011-08-25 | 2013-12-24 | Gert Sieger | Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den wasserlosen Offsetdruck |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2078361A1 (en) * | 1991-09-17 | 1993-03-18 | Nippon Paint Co., Ltd. | Method for directly making printing plates using ink-jet system |
| US5820932A (en) * | 1995-11-30 | 1998-10-13 | Sun Chemical Corporation | Process for the production of lithographic printing plates |
-
1999
- 1999-04-19 EP EP19990201217 patent/EP1046497B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-19 DE DE69912740T patent/DE69912740T2/de not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-04-18 JP JP2000116194A patent/JP2000313178A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69912740T2 (de) | 2004-09-23 |
| EP1046497B1 (en) | 2003-11-12 |
| EP1046497A1 (en) | 2000-10-25 |
| DE69912740D1 (de) | 2003-12-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6772687B2 (en) | Method for the preparation of a lithographic printing plate | |
| US6739260B2 (en) | Method for the preparation of a negative working printing plate | |
| DE60014526T2 (de) | Wärmeempfindlicher Vorläufer für eine Flachdruckplatte | |
| EP0816070B1 (en) | A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith | |
| JPH11265062A (ja) | 感熱性要素及びそれを用いて平版印刷版を作製するための方法 | |
| US20120060710A1 (en) | Inkjet-imageable lithographic printing members and methods of preparing and imaging them | |
| EP1514696B1 (en) | Lithographic printing plate | |
| US7056643B2 (en) | Preparation of a printing plate using ink-jet | |
| US6742886B1 (en) | Ink jet compositions for lithographic printing | |
| US6300032B1 (en) | Heat-sensitive material with improved sensitivity | |
| EP0881096A1 (en) | A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith | |
| EP1266750B1 (en) | Method for preparation of a lithographic printing plate | |
| CN105392634A (zh) | 平版印刷版原版及其制版方法 | |
| US6354209B1 (en) | Method for making positive working printing plates from a latex | |
| JP2000313178A (ja) | ノボラック溶液又は分散液からのポジティブ作用性印刷版の作製方法 | |
| JP2001088458A (ja) | 明確なナノ構造を伴うプロセスレス感熱印刷版 | |
| WO2006039313A1 (en) | Non-aqueous ink jet ink for imaging a lithographic printing plate | |
| EP0976550B1 (en) | A method for making positive working printing plates from a latex | |
| US6511782B1 (en) | Heat sensitive element and a method for producing lithographic plates therewith | |
| EP0963841B1 (en) | A method for making positive working printing plates from a latex | |
| CN1690850B (zh) | 负性的热敏平版印版母体 | |
| EP1258349B1 (en) | Method for the preparation of a negative working printing plate | |
| US6427597B1 (en) | Method of controlling image resolution on a substrate | |
| US7217502B2 (en) | Nanopastes for use as patterning compositions | |
| EP1477308B1 (en) | Computer-to-plate inkjet printing method |