JP2000314804A - カラーフィルター及びその製造方法 - Google Patents
カラーフィルター及びその製造方法Info
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- Optical Filters (AREA)
Abstract
保持するためのスペーサー部を簡便に、かつ精度よく形
成することができるカラーフィルターの製造方法の提
供。 【解決手段】 仮支持体上に形成された赤、緑、青の3
原色の群から選ばれた第1の色を有する感光性樹脂組成
物層を転写により基板上に形成し、フォトマスクを介し
て露光・現像し、支持体上に第1の色のパターンを形成
する工程と、同様な方法で第1の色と異なる色のパター
ンを形成する工程、第1および第2の色と異なる色のパ
ターンを形成する工程を経て、少なくとも2つの色の感
光性樹脂組成物層を部分的に積層することによってスペ
ーサー部を形成する。また、同様にして3原色の群から
選ばれる1つの色のパターンと、黒色の感光性樹脂組成
物層とを積層してスペーサー部が形成される。
Description
及びその製造方法に関し、詳しくは高光学濃度の遮光膜
を有し、かつ、スペーサー機能を有するブラックマトッ
リクスを備えたカラーフィルターと、このカラーフィル
ターを簡便に、かつ精度よく製造することができるカラ
ーフィルターの製造方法に関する。
(セルギャップ)を一定間隔に保持するために、カラー
フィルター基板と対向電極基板からなる2枚の基板間に
所定の粒径を有するプラスチックビーズ、セラミックス
ビーズ等のスペーサービーズを散布して、両基板を張り
合わせている。しかしながら、上述のような方法では、
スペーサービーズの均一な散布が難しく、セルギャップ
を表示領域全域にわたって一定にできない問題があっ
た。また、スペーサービーズを多量に使用すると、セル
ギャップは一定に保たれるが、表示領域に存在するスペ
ーサーのために表示領域の開口率が低下すること、2枚
の基板の張り合わせ時にスペーサービーズによって配向
膜や透明電極を傷つけ表示欠陥が生じる等の問題があっ
た。
63−8254、特開平5−196946では、カラー
フィルター基板の2〜3色の着色層を積層してスペーサー
を形成することが提案されている。この方法では、求め
られる液晶層の厚み(セルギャップ)に相当する厚みのス
ペーサーを形成するためには、各着色層の充分な厚みと
厚み精度が必要である。
1)印刷法,2)インクジエット法、3)ミセル電着法、
4)顔料分散法等が知られている。しかし,印刷法で
は,高い精度での重ね合わせが困難なことが懸念され、
インクジエット法では,着色層の重ね合わせ部の高さの
安定な制御が難しいことが問題である。ミセル電着法は
電着パターンを形成する工程が必要であることと、顔料
の帯電したミセル分散溶液の安定性が難しくカラーフィ
ルターを安定に製造することが困難であるという懸念が
ある。
ある。顔料分散法は着色した感光性樹脂液の塗布と露
光、現像の繰り返しにより行われるが、この方法で通常
作製される着色層の厚みでは、その重ね合わせによって
も必要とするスペーサーの高さが得られない。また,着
色層の塗布膜厚を厚くしょうとすると、基板の中心部と
周辺部の面内での厚みのムラが生じやすいこと、また,
2色目以降の塗布は、すでに先に形成した色のパターン
上に行われるものであるため、その部分での厚みのムラ
が発生しやすく,厚みの均一な制御が困難である。
9ー43425,特開平10−177109では,樹
脂,遮光剤からなる樹脂マトリックス上に3原色からな
る着色層を積層する方法、さらにこれに加えてレジスト
層を積層する方法等が提案されているが、いずれも4層
以上の積層が必要となり,スペーサーとしての精密な高
さの制御が難しい。
した問題点を解消し、高光学濃度の遮光膜を有し、か
つ、スペーサー機能を有するブラックマトッリクスを備
えたカラーフィルターと、このカラーフィルターを簡便
に、かつ精度よく製造することができるカラーフィルタ
ーの製造方法を提供することにある。
板上に3原色からなる着色層とブラックマトッリクスが
複数配列されたカラーフィルターにおいて、前記ブラッ
クマトッリクスが遮光性機能とスペーサー機能とを有す
ることを特徴とするカラーフィルターによって達成され
る。上記の遮光性機能とスペーサー機能を有するブラッ
クマトリックスは、各画素の周辺部を構成する遮光領域
と、これらの遮光領域のうちの少なくとも一領域の一部
分から突出したスペーサー領域を有するブラックマトッ
リクスであることが望ましい。また、上記した目的は、
(1)透明基板上に、赤、緑、青の画素を有する面が形
成された面の全面に、遮光性感光性樹脂組成物層を設け
る工程と、(2)透明基板側から露光する工程と、(3)遮
光性感光性樹脂組成物層側より選択露光する工程と、
(4)選択露光された遮光性感光性樹脂組成物層を現像処
理する工程と、を含むことを特徴とするカラーフィルタ
ーの製造方法によって達成される。さらに、(1)の工
程は、仮支持体上に設けた遮光性感光性樹脂組成物層を
透明基板上の、赤、緑、青の画素を有する面に転写する
工程からなることが望ましく、遮光性感光性樹脂組成物
は、(1)アルカリ可溶バインダー、(2)光重合開始
剤、(3)エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合
性モノマー、(4)遮光剤を含有することが望ましい。
本発明において、(1)の工程で得られた遮光性感光性樹
脂組成物層に透明基板側から露光すると、各画素の部分
が遮光膜として機能し、各画素の周辺部の遮光性感光性
樹脂組成物層が硬化する。次に遮光性感光性樹脂組成物
層側から選択露光、例えば、スペーサー部を形成される
ための領域に相当する部分のみを露光すると、この領域
のみが硬化する。その後現像処理すると、各画素の周辺
部の遮光性感光性樹脂組成物層及びスペーサー部の遮光
性感光性樹脂組成物層を除いた領域は除去され、各画素
の周辺部とスペーサー部のみが残存する。したがって、
遮光性機能とスペーサー機能を有するブラックマトリッ
クスが簡便に、かつ精度よく製造される。
形態を説明する。本発明のカラーフィルターの製造方法
を図面に基づいて説明する。(1)の工程は、透明基板
上に、赤、緑、青の画素を有する面が形成された面の全
面に、遮光性感光性樹脂組成物層を設ける工程を有す
る。この工程では、まず、図1(a)に示すように、透
明基板10上に、赤(R)、緑(G)、青(B)の画素
を有する面が形成される。
使用される公知の基板が使用でき、具体的には、石英ガ
ラス、パイレックスガラス,合成石英ガラス等のガラス
の他に,透明樹脂フィルム,光学用樹脂板等が挙げられ
る。このような透明基板10の表面に赤(R)、緑
(G)、青(B)の画素を形成する方法には、特に制約
はなく、着色剤を含有する感光性樹脂組成物を使用した
顔料分散法、印刷法、電着法、無電解メッキ法等の公知
の方法が採用可能であるが、仮支持体上に各着色剤を含
有する感光性樹脂組成物層を設けた転写材料を用いてそ
れぞれ転写方式で各画素を設ける方法が簡便さ及び厚み
の均一性の点から望ましい。
0上の各画素が形成された面の全面に遮光性感光性樹脂
組成物層12が設けられる。遮光性感光性樹脂組成物層
12を構成する遮光性感光性樹脂組成物としては、アル
カリ可溶バインダー、(2)光重合開始剤、(3)エチ
レン性不飽和二重結合を有する付加重合性モノマー、
(4)遮光剤を含有するものが望ましい。
にカルボン酸基を有するポリマー、例えば、特開昭59
−44615号、特公昭54−34327号、特公昭5
8−12577号、特公昭54−25957号、特開昭
59−53836号、特開昭59−71048号の各明
細書に記載されているようなメタクリル酸共重合体、ア
クリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共
重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン
酸共重合体等があり、また側鎖にカルボン酸基を有する
セルローズ誘導体が挙げられる。この他に水酸基を有す
るポリマーに環状酸無水物を付加したものも有用であ
る。特に好ましくは米国特許第4139391号明細書
に記載のベンジル(メタ)アクリレートと(メタ)アク
リル酸の共重合体やベンジル(メタ)アクリレートと
(メタ)アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を
挙げることができる。以上のものは水不溶性のバインダ
ーを挙げたが、水溶性ポリマーとして、ポリビニルピロ
リドンやポリエチレンオキシド、ポリビニルアルコール
等を挙げることができる。
強度を改良するために、現像性等に悪影響を与えない範
囲でアルカリ不溶のポリマーを添加することができる。
これらのポリマーとしてはアルコール可溶性ナイロンあ
るいはエポキシ樹脂が挙げられる。
分中の固形分含有量は10〜95重量%で、より好まし
くは20〜90重量%である。10重量%未満では感光
性樹脂層の粘着性が高すぎ、95重量%を越えると形成
される画像の強度及び光感度の点で劣る。
7660号明細書に開示されているビシナルポリケタル
ドニル化合物、米国特許第2448828号明細書に記
載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第2
722512号明細書に記載のα−炭化水素で置換され
た芳香族アシロイン化合物、米国特許第3046127
号及び同第2951758号の各明細書に記載の多核キ
ノン化合物、米国特許第3549367号明細書に記載
のトリアリールイミダゾール二量体とp−アミノケトン
の組合せ、特公昭51−48516号公報に記載のベン
ゾチアゾール化合物とトリハロメチル−s−トリアジン
化合物、米国特許第4239850号明細書に記載され
ているトリハロメチル−s−トリアジン化合物、米国特
許第4212976号明細書に記載されているトリハロ
メチルオキサジアゾール化合物等が挙げられる。特に好
ましくはトリハロメチル−s−トリアジン、トリハロメ
チルオキサジアゾール、トリアリールイミダゾール二量
体である。それらの中で400nm以上の光に対して実
質的に感度を有さない化合物を適宜選択することができ
る。実質的に感度を有さないとは、その光重合開始剤の
分光感度スペクトルと遮光膜を形成する基板の分光特性
により決定され、光重合開始剤の分光感度スペクトルの
400nm以上の面積(A)と該基板の透過率が10%
以上となる最低波長から400nm以下の面積(B)の
比(A/B)で定義され、A/Bの値が0.1以下であ
ることを意味する。例えば、ホウケイ酸ガラスを基板と
した場合、10%以上の光透過率となる波長は290n
mであり、従って、この場合は上記面積Bは290nm
から400nmの面積となる。光重合開始剤の好適な具
体例は、特開平7−15992に記載されている。
固形分含有量は0.5〜20重量%で、より好ましくは
1〜15重量%である。0.5重量%未満では光感度や
画像の強度が低く、20重量%を越えても性能への良好
な効果が認められない。
合性モノマーとしては、分子中に少なくとも1個の付加
重合可能なエチレン性不飽和基をもち沸点が常圧で10
0℃以上の化合物である。例えばポリエチレングリコー
ルモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メ
タ)アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メ
タクリレート。ポリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メ
タ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオ
キシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイルオキシエ
チル)イソシアヌレート、トリ(アクリロイルオキシエ
チル)シアヌレート、グリセリントリ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能
アルコールにエチレンオキシドやプロピレンオ;キシド
を付加反応した後で(メタ)アクリレート化したもの;
特公昭48−41708号、特公昭50−6034号、
特開昭51−37193号の各公報に記載されているウ
レタンアクリレート類;特開昭48−64183号、特
公昭49−43191号、特公昭52−30490号の
各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、
エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物である
エポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタ
クリレートを挙げることができる。より好ましくはトリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリトールペンタ(メタ)アクリレートを挙げるこ
とができる。
合性モノマーの遮光性感光性樹脂組成物固形分中の固形
分含有量は5〜50重量%で、より好ましくは10〜4
0重量%である。5重量%未満では光感度や画像の強度
が低く、50重量%を越えると感光性樹脂層の粘着性が
過剰になり好ましくない。
くとも一種類以上の着色剤を含有することが望ましい。
この着色剤としては、特願平5−110487に記載の
種々の着色剤が用いられる。中でも、同明細書記載の紫
外線領域で透過性が大きくなるような顔料の混合が特に
好ましい。着色剤の遮光性感光性樹脂組成物固形分中の
固形分含有量は1〜50重量%であることが好ましい。
加することが好ましい。その例としては、ハイドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−ク
レゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベン
ゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−
ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メ
チル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベ
ンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。
応じて公知の添加剤、例えば可塑剤、界面活性剤、溶剤
等を添加することができる。
された面の全面に遮光性感光性樹脂組成物層12を設け
られる。遮光性感光性樹脂組成物層12を設ける手段と
しては、具体的にはスピナー、ホワイラー、ローラーコ
ーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤー
バーコーター、エクストルーダー等を用いて塗布し、乾
燥させ遮光性感光性樹脂層を設けることができるが、特
に、仮支持体上に遮光性感光性樹脂組成物層を有する遮
光性感光性転写材料を用いて基板上に転写する方式が好
ましい。具体的な転写材料としては特願平2−4000
47、特願平3−9292、特願平3−120223、
特願平3−153227、特願平4−64870、特願
平5−110487に記載の転写材料が用いられる。
性を有し、加圧下または加圧及び加熱下で変形、収縮も
しくは伸びを生じないものが望ましく、このような支持
体には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、トリ酢
酸セルローズフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカ
ーボネートフィルム等が挙げられ、特に2軸延伸ポリエ
チレンテレフタレートが好ましい。また、支持体上に
は、着色した遮光性感光性樹脂組成物層を直接、または
紫外線透過性を有するとともに酸素透過性が低い中間層
を介して設けることが望ましい。また、遮光性感光性樹
脂組成物層を各画素が形成された面に転写する際の気泡
混入を防止する目的で、熱可塑性組成樹脂層を設けるこ
とが望ましい。この場合、仮支持体、熱可塑性組成樹脂
層、中間層、遮光性感光性樹脂組成物層の順に積層する
ことが望ましい。
の表面を、転写するまでは被覆シートで覆い、転写した
後被覆シートを遮光性感光性樹脂組成物層から剥離する
ことが望ましい。被覆シートとしては、ポリプロピレン
等の樹脂フィルムが好適に使用される。
面上に転写した後、透明基板10側から露光する。この
露光に際しては、光源は遮光性感光性樹脂層の感光性に
応じて選択され、超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボン
アーク灯、アルゴンレーザー等の公知の物が使用でき、
この露光条件としては、1〜300mj/cm2 、好
ましくは10〜200mj/cm2である。露光条件が
10mj/cm2未満であると、十分な遮光性が得られ
ず、200mj/cm2を超えると、R、G、B画素上
に遮光膜が残る問題がある。この場合、あらかじめ基板
上に形成される赤色、緑色、青色画素は特願平4−15
0691に記載の様に遮光性感光性樹脂組成物層の感光
波長域における上記各画素の光透過率が2%以下にする
ことが好ましく、このような条件で露光すると、各画素
が形成された面上の遮光性感光性樹脂組成物層12は、
各画素が遮光膜として機能するため、光により硬化する
ことがない。一方、透明基板10面に直接設けられた遮
光性感光性樹脂組成物層12は、透明基板10面に近接
した領域のみが光により硬化(鏡面硬化)し、この領域
から遮光性感光性樹脂組成物層12の厚み方向の他の領
域は硬化することがない。したがって、各画素の厚みと
遮光性感光性樹脂組成物層12の光硬化した部分の厚み
は、ほぼ同一となる。
性樹脂組成物層12側からフォトマスク14を介してス
ペーサー部を形成するための領域の部分をパターン露光
すると、スペーサー部を形成するための領域の部分が光
硬化する。その後、この状態で遮光性感光性樹脂組成物
層12を現像処理すると、遮光性感光性樹脂組成物層1
2は、図1(d)に示すように各画素の周辺部12a及
びスペーサー部12sのみが残存する。したがって、ブ
ラックマトッリクスは各画素の周辺部12aを構成する
遮光性機能を発揮する部分と、スペーサー部12sを構
成するスペーサー機能を発揮する部分が形成される。
るために示した概略的要部斜視図である。図2におい
て、ブラックマトッリクスは各画素(R、G、B)の周
辺部を構成する遮光領域12aと、これらの遮光領域の
うちの少なくとも一つの遮光領域の一部分から突出した
スペーサー領域(スペーサー部)12sを有している。
スペーサー部の12sを設ける個所は、液晶の個々の充
填領域の大きさ、液晶注入のし易さ等により適宜選択さ
れる。
は、セルギャップの厚みに応じて任意に選定されるもの
であり、したがって、各画素が形成された面に設けられ
る遮光性感光性樹脂組成物層12の厚みは、スペーサー
部12sの厚み(高さ)を考慮して選定される。各画素
の厚みは、通常、1〜3μmであることが好ましい。各
画素の厚みが1μm未満では、必要な光学濃度を得るた
めには遮光膜中の顔料濃度が高くなり、現像性が悪化す
る。3μmを越えると現像性悪化、画像形成再現性悪化
等の問題が発生する。この遮光膜の膜厚は上記の範囲に
おいて任意に設定可能である。
厚みよりも大きい範囲内で1〜10μmが好ましく、よ
り好ましくは2〜8μmである。
感光性樹脂組成物層12の厚みは1〜10μmが好まし
く、より好ましくは2〜8μmであり、1μm未満の場
合、セルギャップを満たすのに充分なスペーサー部12
aの高さを形成することができず、10μmを超えると
フォトマスク14を介して露光する際にスペーサー部1
2aに相当する領域の光硬化が不充分となり、また、セ
ルギャップが大きすぎ、液晶を不必要に使用する不具合
が生じる。
脂組成物層12をパターン露光する場合、透明基板10
から全面露光する場合と同様な光源が使用可能である。
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
エチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に下記の
処方H1からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が
20μmの熱可塑性樹脂層を設けた。
から成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が1.6μ
m厚の中間層を設けた。
支持体の上に、以下の処方C1からなる塗布液を塗布、
乾燥させ、乾燥膜厚が7μmの遮光性感光性樹脂組成物
層を形成した。
プロピレン(厚さ12μm)の被覆シートを圧着し、遮
光性感光性転写材料を作製した。
上に特願平4−150691に記載の実施例1と同じ2
μmの膜厚のR、G、B画素を有するカラーフィルター
を作成した。この場合、B画素の400nm以上の光透
過率は10%以上あった。上記のR、G、Bカラーフィ
ルター上に遮光性感光性転写材料の被覆シートを剥離
し、遮光性感光性樹脂層面をカラーフィルター面にラミ
ネーター(大成ラミネータ(株)製VP−II)を用い
て加圧(0.8kg/cm2)、加熱(130℃)して
貼り合わせ、続いて仮支持体と熱可塑性樹脂層との界面
で剥離し、仮支持体を除去した。
明基板側)から超高圧水銀灯を用いて露光量100mj/c
m2で全面露光を行った。次にカラーフィルター面からス
ペーサー用マスクを用い露光量50mj/cm2 でパターン
露光を行った。その後、1%炭酸ナトリウム水溶液で現
像して不要部を除去し、さらに220℃、120分の熱
処理を行い、R、G、B各画素の周辺部を構成する遮光
膜とスペーサー部と形成した。このスペーサー部の高さ
(透明基板面からの高さ)は、6.3μmであった。ま
た、遮光膜とRGB層との重なりは無く、CIE表色法
のY値が0.2の高光学濃度の遮光膜を有していた。ま
た、遮光膜部分の厚みのバラツキ及びスペーサー部の厚
みのバラツキはいずれも±0.1μmと小さいものであ
った。
マトリックスが遮光性機能とスペーサー機能を有する構
造であり、スペーサー機能をブラックマトリックスで発
揮させるものであるため、着色層が積層されたスペーサ
ーに比較してスペーサー機能部分を均一な高さとするこ
とができ、均一な液晶層の形成が容易で輝度ムラ、色ム
ラのない表示品質が優れたカラーフィルターを提供する
ことができる。また、本発明のカラーフィルターの製造
方法によれば、上記の特性を有するカラーフィルターを
簡便に、かつ精度よく製造することができる。
い一実施の形態を示す工程図である。
す概略的要部斜視図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 透明基板上に3原色からなる着色層とブ
ラックマトッリクスが複数配列されたカラーフィルター
において、前記ブラックマトッリクスが遮光性機能とス
ペーサー機能とを有することを特徴とするカラーフィル
ター。 - 【請求項2】 該カラーフィルターにおいて、ブラック
マトッリクスが各画素の周辺部を構成する遮光領域と、
これらの遮光領域のうちの少なくとも一つの遮光領域の
一部分から突出したスペーサー領域を有することを特徴
とする請求項1に記載のカラーフィルター。 - 【請求項3】 (1)透明基板上に、赤、緑、青の画素
を有する面が形成された面の全面に、遮光性感光性樹脂
組成物層を設ける工程と、(2)透明基板側から露光する
工程と、(3)遮光性感光性樹脂組成物層側より選択露光
する工程と、(4)選択露光された遮光性感光性樹脂組成
物層を現像処理する工程と、を含むことを特徴とするカ
ラーフィルターの製造方法。 - 【請求項4】 (1)の工程が、仮支持体上に設けた遮
光性感光性樹脂組成物層を透明基板上の、赤、緑、青の
画素を有する面に転写する工程からなることを特徴とす
る請求項3に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項5】 遮光性感光性樹脂組成物が、(1)アルカ
リ可溶バインダー、(2)光重合開始剤、(3)エチレ
ン性不飽和二重結合を有する付加重合性モノマー、
(4)遮光剤を含有することを特徴とする請求項3また
は請求項4に記載のカラーフィルターの製造方法。
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