JP2000314980A - 電子写真感光体および画像形成装置 - Google Patents

電子写真感光体および画像形成装置

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JP2000314980A
JP2000314980A JP11125253A JP12525399A JP2000314980A JP 2000314980 A JP2000314980 A JP 2000314980A JP 11125253 A JP11125253 A JP 11125253A JP 12525399 A JP12525399 A JP 12525399A JP 2000314980 A JP2000314980 A JP 2000314980A
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English (en)
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Kiyokazu Mashita
清和 真下
Fumio Kojima
文夫 小嶋
Tomosumi Kamisaka
友純 上坂
Kazuhiro Koseki
一浩 小関
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 機械的強度、耐酸化性ガス性、耐汚染物付着
性及び環境安定性の高い電子写真感光体及び画像形成装
置の提供。 【解決手段】 最表面層が、Ｆ−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)
（ＯＲ2）aで表される化合物及び−Ｓｉ（Ｒ3）
(3-b)（ＯＲ4）bで表される置換基（Ｆは光電特性サブ
ユニット；Ｄは可撓性サブユニット；Ｒ1，Ｒ3はＨ、ア
ルキル基、置換或いは未置換のアリール基；Ｒ2，Ｒ4は
Ｈ、アルキル基、トリアルキルシリル基；ａ，ｂは１〜
３の整数）を複数有する化合物から形成され、Ａ＝ｘ１
／ｙ及びＢ＝ｘ２／ｙ（ｘ１はＯＨ伸縮振動に基づく３
５００〜３３００ｃｍ-1、ｘ２は同９５５〜８９０ｃｍ
-1、ｙはカルボニル結合のＣＯ伸縮振動に基づく１７４
０〜１７００ｃｍ-1、における夫々赤外吸収ピークの吸
光度）で定義されるＡ及びＢが、夫々２．０以下及び
０．３以下の架橋硬化膜からなる電子写真感光体及びそ
れを用いた画像形成装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複写機、プリンタ
ー、ファクシミリなど、広い分野に適用される電子写真
感光体、および、それを用いた画像形成装置に関する。
詳しくは、導電性支持体上に感光層を形成した、いわゆ
る有機感光体（ＯＰＣ）と呼ばれる電子写真感光体、お
よび、それを用いた画像形成装置に関し、感光層の最表
面層の機械的強度、耐酸化性ガス性、および耐汚染物付
着性の向上を図るとともに、環境変動による画像流れを
防止することを目的としたものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、電子写真装置、例えば普通紙複写
機（ＰＰＣ）、レーザープリンター、ＬＥＤプリンタ
ー、液晶プリンター等は、回転ドラム型等の電子写真感
光体（以下、単に「感光体」という場合がある。）に、
帯電、露光、および現像の作像プロセスを経て像形成
し、得られた像を転写材に転写し、これを定着して複写
物を得るものである。感光体としては、従来よりセレニ
ウム、ヒ素−セレニウム、硫化カドミウム、酸化亜鉛、
ａ−Ｓｉ等の無機系感光体が用いられてきていたが、近
年、安価で製造性および廃棄性の点で優れた有機感光体
（ＯＰＣ）の研究開発も活発化しており、中でも電荷発
生層と電荷輸送層とを積層した、いわゆる機能分離型積
層感光体が、感度、帯電性、およびかかる特性の繰り返
し使用時の安定性等、電子写真特性の点で優れており種
々の提案がなされ、実用化されている。
【０００３】しかしながら、電子写真感光体に要求され
る耐久性のレベルは、年々厳しいものとなっており、耐
久性向上に必要な技術の検討が続けられている。具体的
な耐久性の問題としては、繰り返し使用による表面層の
摩耗および傷や、コロナ帯電器から発生するオゾンなど
の酸化性ガスによる表面層の酸化劣化、等が挙げられ
る。特に、接触帯電方式の帯電手段を用いた場合には、
表面層の摩耗および傷の問題は著しく増長される。
【０００４】最近になり、酸化性ガスの発生が少なくな
る、および電源コストが抑えられるなどの理由から、接
触帯電方式の帯電手段を用いた複写機やプリンタが増え
ている。このとき、感光体の帯電電位を安定させるため
に、交流成分を有する印加電圧を電子写真感光体に付与
した場合、感光体表面の摩耗が大きくなってしまうとい
う問題があった。この原因としては、感光体表面と帯電
手段との間に発生する放電により、感光体表面の結着樹
脂の結合が切断して低分子量化すること等が考えられて
いる。感光体表面の結着樹脂が低分子量化すると、クリ
ーニングブレードなどの機械的クリーニング手段により
感光体表面をクリーニング場合、感光体表面の摩耗が著
しく増大してしまうことがわかっている。
【０００５】感光体表面の摩耗を防止する方法として、
通常、感光体の表面層を構成している電荷輸送材料のポ
リマー化についての研究が盛んに為されている。例え
ば、米国特許第４，８０６，４４３号明細書には、特定
のジヒドロキシアリールアミンとビスクロロホルメート
との重合によるポリカーボネートが開示されており、米
国特許第４，８０６，４４４号明細書には特定のジヒド
ロキシアリールアミンとホスゲンとの重合によるポリカ
ーボネートが開示されている。また、米国特許第４，８
０１，５１７号明細書にはビスヒドロキシアルキルアリ
ールアミンとビスクロロホルメートあるいはホスゲンと
の重合によるポリカーボネートが開示されており、米国
特許第４，９３７，１６５号明細書および米国特許第
４，９５９，２８８号明細書には、特定のジヒドロキシ
アリールアミンあるいはビスヒドロキシアルキルアリー
ルアミンと、ビスクロロホルメートとの重合によるポリ
カーボネート、あるいは、ビスアシルハライドとの重合
によるポリエステルが開示されている。
【０００６】さらに、米国特許第５，０３４，２９６号
明細書には、特定のフルオレン骨格を有するアリールア
ミンのポリカーボネート、あるいは、ポリエステルが、
また、米国特許第４，９８３，４８２号明細書には、ポ
リウレタンが開示されている。さらにまた、特公昭５９
−２８９０３号公報には、特定のビススチリルビスアリ
ールアミンを主鎖としたポリエステルが開示されてい
る。また、特開昭６１−２０９５３号公報、特開平１−
１３４４５６号公報、特開平１−１３４４５７号公報、
特開平１−１３４４６２号公報、特開平４−１３３０６
５号公報、特開平４−１３３０６６号公報などには、ヒ
ドラゾンや、トリアリールアミンなどの電荷輸送性の置
換基をペンダントとしたポリマーおよびそれを用いた感
光体も提案されている。しかし、上記の高分子電荷輸送
材料は、感度、残留電位などの点で十分でなく、感光体
としての耐久性も十分でない。
【０００７】また、低分子電荷輸送材料を結着樹脂ある
いはその前駆体中に分散し、その後結着樹脂あるいはそ
の前駆体を反応硬化させる方法が提案されている。かか
る提案としては、例えば、特開昭５６−４８６３７号公
報、特公昭５６−４２８６３にはアクリル系ポリマーを
用いる例が、特公平５−４７１０４号公報、特公昭６０
−２２３４７号公報、特公平７−１２００５１号公報に
はシリコーン系ポリマーあるいはポリマー前駆体を用い
る例が示されている。しかし、電子写真感光体としての
十分な特性を得るためには、低分子電荷輸送材料の濃度
を３０〜５０％と高くする必要があるため、結着樹脂の
硬化反応が十分に進まず、結着樹脂間から低分子電荷輸
送材料が抜け出し、結局摩耗してしまう場合があり、十
分な問題の解決には至っていない。
【０００８】感光体の摩耗を低減させる他の方法とし
て、感光体表面に機械的強度の高い表面保護層を施すと
いう手段が挙げられる。機械的強度の面からは、架橋硬
化型樹脂が優れているが、この樹脂のみで表面保護層を
構成すると表面保護層は絶縁層となってしまうため、感
光体としての光電特性が犠牲になってしまう。具体的に
は、露光時の明部電位が上昇することにより、現像電位
マージンが狭くなる問題、および除電後の残留電位が上
昇することにより、特に長期の繰り返し印刷を行った場
合に画像濃度が低下する問題、などがあった。
【０００９】表面保護層に光電特性を付与する手法とし
て、導電性の金属酸化物微粉末を抵抗制御材として表面
保護層中に分散する方法が報告されている（特開昭５７
−１２８３４４号公報）。この方法によれば、感光体の
光電特性の低下は小さく、上述の問題は顕著に改善され
る。しかし、一般に導電性微粉末として用いる金属酸化
物の抵抗値は、使用される環境の湿度に大きく依存する
という問題がある。そのため、特に高温高湿下において
感光体の表面抵抗が低下し、静電潜像がぼやけてしま
い、画像品位が大きく低下してしまうという本質的な問
題があった。
【００１０】光電特性を改良する他の手法として、結着
樹脂中に電荷輸送物質を分散し、その後結着樹脂を硬化
させて表面保護層を形成するという方法が報告されてい
る（特開平４−１５６５９号公報）。この方法では感光
体の表面抵抗が湿度依存を示すことも無く、画像品位上
の問題も起こらない。しかし、電荷輸送物質という低分
子量成分の添加は、表面保護層を形成時の硬化反応を阻
害し、表面保護層の機械的強度を低下させる。よって、
単独では機械的強度の高い架橋硬化型樹脂を用いたとし
ても、光電特性の改良に必須の電荷輸送物質という低分
子量成分を添加することで、表面保護層の機械強度は大
きく低下してしまうという問題点があった。
【００１１】このような観点から、官能基を有する電荷
輸送物質を用いて、これを熱可塑性の結着樹脂と反応さ
せることにより表面層の機械的強度の向上を図るという
報告がされている（特開平６−２０２３５４号公報、特
開平５−３２３６３０号公報）。この方法によれば、感
光体の光電特性を低下させずに、十分な機械的強度を初
期的には得ることができる。しかし、かかる表面保護層
の構成では、接触帯電方式の帯電手段を用いて長期間使
用された場合、機械的強度の急激な低下が起こるという
問題点があった。この原因は、やはり帯電手段における
交流電圧印加による熱可塑性結着樹脂の結合の切断とい
った強い外的ストレスによるものであると考えられ、ク
リーニングブレードなどの機械的クリーニング手段を採
用すると、表面保護層の摩耗が非常に増大してしまう。
【００１２】感光体には、その表面の摩耗性の低下に加
え、酸化性ガスに対する耐性も要求される。接触帯電方
式の帯電手段で発生するオゾンやＮＯXの量は、スコロ
トロン放電方式の帯電手段に比べてはるかに少ないとは
いえ、交流成分を有する印加電圧を用いる場合には、必
ずこれらが発生する。感光体表面の機械的強度を向上さ
せることで、感光体の寿命を延ばそうとすると、感光体
は、発生した酸化性ガスに、より長い時間晒されるた
め、従来以上の酸化性ガスに対する耐性が求められる。
【００１３】さらに、これらの問題点に加えて、表面保
護層の機械的強度を高めようとすると、感光体表面は、
摩耗によりリフレッシュされることがないため、紙粉や
トナー、放電生成物等が蓄積し、これらの付着汚れが顕
在化し、その結果画像品質を低下させてしまうという問
題も生じてくる。
【００１４】一方、近年、画質向上の観点から、トナー
の小粒径化が進んでおり、より高精細な画像が得られる
ようになってきている。しかし、より高精細な画像を得
ようとする場合に、今まで問題とならなかった微妙な画
質のレベルについても問題視されるようになり、例えば
高温高湿下、感光体表面に水分等が付着した場合に生ず
る沿面電導により、感光体表面の電荷の横方向への拡散
が生じ、結果として画像流れ、画像抜け等の画像欠陥と
なり、この微妙な画像欠陥を解消し得る感光体が要求さ
れる。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、これらの諸問題を解決した電子写真感光体、および
それを用いた画像形成装置を提供することである。
【００１６】即ち、本発明の目的は、表面の機械的強度
が高く、従って耐摩耗性も高く、酸化性ガスに対する耐
性が高く、光電特性も安定しており、連続使用による紙
粉やトナー、放電生成物等の付着汚れも生じにくい（耐
汚染物付着性の高い）電子写真感光体、およびそれを用
いた画像形成装置を提供することである。また、本発明
の目的は、環境変動に対して安定で、特に高温高湿下に
おいても画像流れを生じない電子写真感光体、およびそ
れを用いた画像形成装置を提供することである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上記目的は、以下の本発
明により達成される。すなわち本発明は、 ＜１＞ 導電性支持体上に少なくとも１層の感光層を有
する電子写真感光体において、感光層のうち少なくとも
最表面層が、下記一般式（Ａ）で表される化合物
（Ｉ）、および下記一般式（Ｂ）で表される置換基を複
数有する化合物（II）、から形成される架橋硬化膜から
なり、前記架橋硬化膜が、下記式（１）で定義される残
留ＯＨ基含有比Ａが２．０以下であり、かつ、下記式
（２）で定義される残留ＯＨ基含有比Ｂが０．３以下で
あることを特徴とする電子写真感光体である。
【００１８】・一般式（Ａ） Ｆ−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)（ＯＲ2）a （式中、Ｆは光電特性サブユニット表し、Ｄは可撓性サ
ブユニット表し、Ｒ1は水素、アルキル基、置換あるい
は未置換のアリール基を表し、Ｒ2は水素、アルキル
基、トリアルキルシリル基を表し、ａは１〜３の整数を
表す。）
【００１９】・一般式（Ｂ） −Ｓｉ（Ｒ3）(3-b)（ＯＲ4）b （式中、Ｒ3は水素、アルキル基、置換あるいは未置換
のアリール基を表し、Ｒ4は水素、アルキル基、トリア
ルキルシリル基を表し、ｂは１〜３の整数を表す。）
【００２０】Ａ＝ｘ１／ｙ ・・・（１） Ｂ＝ｘ２／ｙ ・・・（２） （式中、ｘ１はＯＨ伸縮振動に基づく３５００〜３３０
０ｃｍ-1における赤外吸収ピークの吸光度を表し、ｘ２
はＯＨ伸縮振動に基づく９５５〜８９０ｃｍ-1における
赤外吸収ピークの吸光度を表し、ｙはカルボニル結合の
ＣＯ伸縮振動に基づく１７４０〜１７００ｃｍ-1におけ
る赤外吸収ピークの吸光度を表す。）
【００２１】＜２＞ 前記感光層の最表面層が、表面保
護層または電荷輸送層であることを特徴とする＜１＞に
記載の電子写真感光体である。
【００２２】＜３＞ 前記化合物（Ｉ）が、下記一般式
(III)で表される化合物であることを特徴とする＜１＞
または＜２＞に記載の電子写真感光体である。
【００２３】・一般式(III)
【化４】
【００２４】（式中、Ａｒ1〜Ａｒ4はそれぞれ独立に置
換あるいは未置換のアリール基を示し、Ａｒ5は置換あ
るいは未置換のアリール基あるいはアリーレン基を示
し、かつＡｒ1〜Ａｒ5のうち１〜４個は、−Ｙ−Ｓｉ
（Ｒ5）(3-c)（ＯＲ6）cで示される置換基を有し、Ｒ5
は水素、アルキル基、置換あるいは未置換のアリール基
を表し、Ｒ6は水素、アルキル基、トリアルキルシリル
基を表し、ｃは１〜３の整数を示し、ｋは０または１を
示す。またＹは、−ＣxＨ2x−（ｘは１〜１５の整
数）、とした場合の−Ｃx'Ｈ(2x'-2)−（ｘ'は２〜１５
の整数）、−Ｃx"Ｈ(2x"-4 )−（ｘ"は２〜１５の整数）
で表される炭化水素基、置換あるいは未置換の２価のア
リール基、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−からなる
群より選ばれる少なくとも１種以上を有する２価の基を
表す。）
【００２５】＜４＞ 前記架橋硬化膜が、フッ素原子含
有化合物および／または酸化防止剤を含有していること
を特徴とする＜１＞〜＜３＞のいずれか１に記載の電子
写真感光体である。
【００２６】＜５＞ いずれかの感光層中に、ハロゲン
化ガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロ
シアニン、オキシチタニウムフタロシアニン、ハロゲン
化錫フタロシアニンからなる群より選ばれる少なくとも
１種の電荷発生材料を含有することを特徴とする、＜１
＞〜＜４＞のいずれか１に記載の電子写真感光体であ
る。
【００２７】＜６＞ いずれかの感光層中に、下記一般
式（IV）で表されるベンジジン系化合物、および／また
は、一般式（Ｖ）で表されるトリフェニルアミン系化合
物、を含有することを特徴とする＜１＞〜＜５＞のいず
れか１に記載の電子写真感光体である。
【００２８】・一般式（IV）
【化５】
【００２９】（式中、Ｒ6およびＲ6'は同一であっても
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を表
す。Ｒ 7、Ｒ7'、Ｒ8およびＲ8'は同一であっても異なっ
ていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５
のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１
〜２のアルキル基で置換されたアミノ基を表し、ｍおよ
びｎは０〜２の整数を表す。）
【００３０】・一般式（Ｖ）
【化６】
【００３１】（式中、Ｒ9は、水素原子またはメチル
基、ｎは１または２を表す。Ａｒ6およびＡｒ7は同一で
あっても異なっていてもよく、置換または未置換のアリ
ール基を表し、該置換基としてはハロゲン原子、炭素数
１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭
素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基を表
す。）
【００３２】＜７＞ 少なくとも電子写真感光体および
帯電手段を有する画像形成装置において、電子写真感光
体が＜１＞〜＜６＞のいずれか１に記載の電子写真感光
体であり、かつ、帯電手段が接触帯電方式の帯電手段で
あることを特徴とする画像形成装置である。
【００３３】＜８＞ 帯電手段が、直流電圧に交流電圧
を重畳した印加電圧を電子写真感光体に付与する手段で
あることを特徴とする＜７＞に記載の画像形成装置であ
る。
【００３４】感光体表面の面電導による画像流れの欠陥
は、感光体表面に水分等が付着した場合に生ずるが、本
発明者らは水分が付着しやすいＯＨ基の感光体表面にお
ける存在量を規定することにより、画像流れの欠陥を解
消し得ることを見出した。具体的には、前記式（１）で
定義される残留ＯＨ基含有比Ａを２．０以下とすること
により、環境変動に対して安定で、特に高温高湿下にお
いても画像流れを生じない電子写真感光体となる。
【００３５】化合物（Ｉ）における−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)
（ＯＲ2）aの部分と、化合物（II）とを架橋重合反応さ
せて、マトリックス状の架橋硬化膜を形成すると、機械
的強度が向上する。そのため、かかる電子写真感光体を
接触帯電方式の帯電手段、および／または、機械的クリ
ーニング手段を有する画像形成装置に用いた場合、特に
耐刷性を向上させる効果が大きい。これは、架橋構造を
とることにより単位体積当たりの総結合エネルギーが大
きくなり、放電や機械的接触などの強いストレスに対す
る耐性が高くなるためであると考えられる。また、これ
らのストレスにより、架橋硬化膜における結合の一部が
切断されたとしても、３次元的な架橋構造が形成されて
いるため、直ちに低分子量化することはなく、よって高
い機械的強度が持続する。
【００３６】上記架橋硬化膜は、化合物（Ｉ）中、およ
び、化合物（II）中の双方のＳｉを有する基が、互いに
架橋反応して形成される３次元的な−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−
結合（ガラス結合）に基づく無機マトリクスの中に、化
合物（Ｉ）におけるＦで表わされる光電特性サブユニッ
ト（有機成分）を結合によって取り込んだ有機無機複合
膜となる。当該膜は−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−結合の形成方法
より、ゾル−ゲル硬化膜の一種ということができる。こ
の架橋性硬化膜は、無機マトリクス特有の優れた表面機
械強度を有しているため、感光体に対するストレスの大
きい接触帯電を用いる画像形成装置に用いた場合でも、
従来の感光体に比べて極めて高い耐刷性を示す。
【００３７】本発明の電子写真感光体においては、上記
化合物（Ｉ）中のＦで表される光電特性サブユニットに
より、電荷輸送性を有している。この電荷輸送性を担う
Ｆで表される光電特性サブユニットが、架橋硬化膜を構
成する架橋構造に直接結合しているため、架橋構造の機
械的特性を失うことなく、本発明の電子写真感光体に光
電特性を付与することが可能となっている。よって、上
記構成の架橋硬化膜は、その機械的特性から感光体表面
の表面保護層（本発明において、「表面保護層」は「感
光層」の１種とみなす。）として適用可能なだけでな
く、積層型感光体における電荷輸送層としてもそのまま
機能させることができる。
【００３８】
【発明の実施の形態】本発明の電子写真感光体は、導電
性支持体上に少なくとも１層の感光層を有し、感光層の
うち少なくとも最表面層が、下記一般式（Ａ）で表され
る化合物（Ｉ）、および下記一般式（Ｂ）で表される置
換基を複数有する化合物（II）、から形成される架橋硬
化膜からなり、前記架橋硬化膜が、下記式（１）で定義
される残留ＯＨ基含有比Ａが２．０以下であり、かつ、
下記式（２）で定義される残留ＯＨ基含有比Ｂが０．３
以下であることを特徴とする。
【００３９】・一般式（Ａ） Ｆ−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)（ＯＲ2）a （式中、Ｆは光電特性サブユニット表し、Ｄは可撓性サ
ブユニット表し、Ｒ1は水素、アルキル基、置換あるい
は未置換のアリール基を表し、Ｒ2は水素、アルキル
基、トリアルキルシリル基を表し、ａは１〜３の整数を
表す。）
【００４０】・一般式（Ｂ） −Ｓｉ（Ｒ3）(3-b)（ＯＲ4）b （式中、Ｒ3は水素、アルキル基、置換あるいは未置換
のアリール基を表し、Ｒ4は水素、アルキル基、トリア
ルキルシリル基を表し、ｂは１〜３の整数を表す。）
【００４１】Ａ＝ｘ１／ｙ ・・・（１） Ｂ＝ｘ２／ｙ ・・・（２） （式中、ｘ１はＯＨ伸縮振動に基づく３５００〜３３０
０ｃｍ-1における赤外吸収ピークの吸光度を表し、ｘ２
はＯＨ伸縮振動に基づく９５５〜８９０ｃｍ-1における
赤外吸収ピークの吸光度を表し、ｙはカルボニル結合の
ＣＯ伸縮振動に基づく１７４０〜１７００ｃｍ-1におけ
る赤外吸収ピークの吸光度を表す。）
【００４２】以下、本発明を各構成要素毎に詳細に説明
する。 ［架橋硬化膜］まず、感光層のうち少なくとも最表面層
を形成する、本発明に特徴的な架橋硬化膜について説明
する。なお、架橋硬化膜の形成方法については、後述の
感光層についての説明の中で述べることとする。既述の
如く本発明における架橋硬化膜は、前記化合物（Ｉ）お
よび化合物（II）から形成され、かつ、前記残留ＯＨ基
含有比Ａが２．０以下である。架橋硬化膜には、さらに
必要に応じてその他の成分が添加される。
【００４３】１．化合物（Ｉ） 化合物（Ｉ）は、下記一般式（Ａ）で表される。 ・一般式（Ａ） Ｆ−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)（ＯＲ2）a
【００４４】一般式（Ａ）中、Ｆは光電特性サブユニッ
トであり、電荷輸送性を担う部分である。かかるＦで表
される光電特性サブユニットは、電荷輸送性を有するプ
レカーサーから得ることができ、該プレカーサーとして
は、例えば、ピラゾリン、オキサジアゾール、ヒドラゾ
ン、トリフェニルアミン、ベンジジン、トリフェニルメ
タン誘導体、トリニトロフルオレノン（ＴＮＦ）、およ
びブトキシカルボニルフルオレニリデンマロノニトリル
（ＢＣＦＭ）のような（アルコキシカルボニルフルオレ
ニリデン）マロノニトリル等が挙げられる。
【００４５】また、Ｆの構造としては、従来より電荷輸
送物質として知られている構造をそのまま挙げることが
できる。具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベ
ンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリー
ル置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アント
ラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、などの正孔輸送
性を有する化合物骨格、およびキノン系化合物、フルオ
レノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系
化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物、な
どの電荷輸送性を有する化合物骨格を挙げることができ
る
【００４６】一般式（Ａ）中、Ｄは可撓性サブユニット
であり、一般式（Ａ）においてＦで表されるサブユニッ
トとＳｉとの連結基としての機能を有する。かかるＤで
表される可撓性サブユニットは、２個以上の反応性基を
有し、かつ可撓性を有するポリマープレカーサーから得
ることができる。Ｆで表されるサブユニットとＳｉと
では、直接強固な、かつ安定的な結合が得られないこ
と、化合物（Ｉ）にある程度可撓性を付与することに
より、成膜時に柔軟にかつ密に架橋構造を形成すること
ができること、および、得られる膜に可撓性がない
と、膜自体がもろくなり、却って機械的強度が低下して
しまうこと、等の理由より、Ｄで表される可撓性有機サ
ブユニットを介して、Ｆで表されるサブユニットとＳｉ
とが連結されている。
【００４７】Ｄの具体的な構造としては、−ＣxＨ2x−
（ｘは１〜１５の整数）、−Ｃx’Ｈ (2x’-2)−（ｘ’
は２〜１５の整数）、−Ｃx”Ｈ(2x”-4)−（ｘ”は２
〜１５の整数）で表される２価の炭化水素基、２価のア
リール基、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ2−Ｃ6
Ｈ4−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ6Ｈ4）−（Ｃ6Ｈ4）−、
あるいはこれらの組み合わせや、さらに置換基を導入し
たもの等を挙げることができる。
【００４８】化合物（Ｉ）では、上記Ｄで表される可撓
性サブユニットに−Ｓｉ（Ｒ1）(3- a)（ＯＲ2）a［式
中、Ｒ1は水素、アルキル基、置換あるいは未置換のア
リール基表し、Ｒ2は水素、アルキル基、トリアルキル
シリル基を表し、ａは１〜３の整数を表す。］が結合す
る。このような構造を有することで、当該部分同士互い
に、あるいは、後述の化合物（II）と架橋反応を起こし
て、３次元的なＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合、すなわち無機ガラ
ス質ネットワークを形成する。
【００４９】化合物（Ｉ）としては、下記一般式(III)
で表される化合物であることが、電荷輸送特性および酸
化耐性の点で、特に望ましい。
【００５０】・一般式(III)
【化７】
【００５１】（式中、Ａｒ1〜Ａｒ4はそれぞれ独立に置
換あるいは未置換のアリール基を示し、Ａｒ5は置換あ
るいは未置換のアリール基あるいはアリーレン基を示
し、かつＡｒ1〜Ａｒ5のうち１〜４個は、−Ｙ−Ｓｉ
（Ｒ5）(3-c)（ＯＲ6）cで示される置換基を有し、Ｒ5
は水素、アルキル基、置換あるいは未置換のアリール基
を表し、Ｒ6は水素、アルキル基、トリアルキルシリル
基を表し、ｃは１〜３の整数を示し、ｋは０または１を
示す。またＹは、−ＣxＨ2x−（ｘは１〜１５の整
数）、とした場合の−Ｃx'Ｈ(2x'-2)−（ｘ'は２〜１５
の整数）、−Ｃx"Ｈ(2x"-4 )−（ｘ"は２〜１５の整数）
で表される炭化水素基、置換あるいは未置換の２価のア
リール基、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−からなる
群より選ばれる少なくとも１種以上を有する２価の基を
表す。）
【００５２】上記一般式(III)において、Ａｒ1〜Ａｒ4
は、それぞれ独立に置換または未置換のアリール基を示
し、具体的には、以下に示す構造が挙げられる。
【００５３】
【化８】
【００５４】ここで、Ｒ3は、水素、炭素数１〜４のア
ルキル基、未置換の、または炭素数１〜４のアルキル基
もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェ
ニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基から選択され
る。Ｒ4は、水素、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数
１〜４のアルコキシ基、ハロゲンから選択される。ｍお
よびｓは０または１を表し、ｔは１から３の整数を示
し、Ａｒは下記から選択される。
【００５５】
【化９】
【００５６】ここで、Ｒ8は、水素、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲンから
選択される。また、ｔは０〜３の整数を示す。
【００５７】また、Ｚ’は以下に示す構造から選択され
る。
【００５８】
【化１０】
【００５９】上記一般式(III)において、Ｙとしては、
以下に示すＮｏ．１〜１１の構造が例示される。
【００６０】
【化１１】
【００６１】ここで、Ｒ4は、水素、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲンから
選択される。ｘは１〜１０の整数、ｘ’およびｘ”はそ
れぞれ２〜１５の整数、ｙおよびｚはそれぞれ１〜５の
整数、ｔは１〜３の整数をそれぞれ示す。上記構造の中
でも、特にＮｏ．１〜７に示した構造が好ましい。
【００６２】一方、前記一般式(III)におけるＡｒ5は、
置換もしくは未置換のアリール基または、アリーレン基
を示し、具体的には以下に示す構造が挙げられる。
【００６３】一般式(III)におけるｋが０の時、Ａｒ5の
具体例としては、
【００６４】
【化１２】
【００６５】一般式(III)におけるｋが１の時、Ａｒ5の
具体例としては、
【００６６】
【化１３】
【００６７】をそれぞれ挙げることができる。ここで、
Ｒ3は、水素、炭素数１〜４のアルキル基、未置換の、
または炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数１〜４
のアルコキシ基で置換されたフェニル基、炭素数７〜１
０のアラルキル基から選択される。Ｒ4は、水素、炭素
数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、
ハロゲンから選択される。ｓは０または１を表し、ｔは
１から３の整数を示す。Ａｒは以下に示す構造から選択
される。
【００６８】
【化１４】
【００６９】ここで、Ｒ4は、水素、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲンから
選択される。また、ｔは１から３の整数を示す。さら
に、Ｚは以下に示す構造から選択される。
【００７０】
【化１５】
【００７１】ここで、Ｒ5は、水素、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲンから
選択される。また、ｑおよびｒはそれぞれ１〜１０の整
数、ｔ’は１または２の整数を示し、Ｗは以下に示す基
から選択される。
【００７２】
【化１６】
【００７３】ここで、ｓ’は０〜３の整数を示す。
【００７４】上記一般式(III)で表される化合物の具体
例を、各置換基を特定することにより、下記表にまとめ
て示す。勿論本発明は、下記化合物に限定されるもので
はない。なお、下記表における化合物の番号に「III
−」を冠した記号を本明細書における例示化合物の記号
とする（例えば、化合物の番号が「２７」のものは「例
示化合物（III−２７）」となる）。
【００７５】
【表１】
【００７６】
【表２】
【００７７】
【表３】
【００７８】
【表４】
【００７９】
【表５】
【００８０】
【表６】
【００８１】
【表７】
【００８２】
【表８】
【００８３】
【表９】
【００８４】
【表１０】
【００８５】
【表１１】
【００８６】
【表１２】
【００８７】
【表１３】
【００８８】
【表１４】
【００８９】
【表１５】
【００９０】
【表１６】
【００９１】
【表１７】
【００９２】
【表１８】
【００９３】
【表１９】
【００９４】
【表２０】
【００９５】
【表２１】
【００９６】
【表２２】
【００９７】
【表２３】
【００９８】
【表２４】
【００９９】
【表２５】
【０１００】
【表２６】
【０１０１】
【表２７】
【０１０２】
【表２８】
【０１０３】
【表２９】
【０１０４】
【表３０】
【０１０５】
【表３１】
【０１０６】
【表３２】
【０１０７】
【表３３】
【０１０８】
【表３４】
【０１０９】
【表３５】
【０１１０】
【表３６】
【０１１１】
【表３７】
【０１１２】
【表３８】
【０１１３】
【表３９】
【０１１４】
【表４０】
【０１１５】
【表４１】
【０１１６】
【表４２】
【０１１７】
【表４３】
【０１１８】
【表４４】
【０１１９】
【表４５】
【０１２０】
【表４６】
【０１２１】
【表４７】
【０１２２】
【表４８】
【０１２３】
【表４９】
【０１２４】
【表５０】
【０１２５】
【表５１】
【０１２６】
【表５２】
【０１２７】本発明の電子写真感光体における架橋硬化
膜中の化合物（Ｉ）の含有量は、架橋硬化膜の全固形分
中の５〜５０重量％の範囲、好ましくは１０〜４０重量
％である。
【０１２８】２．化合物（II） 本発明の電子写真感光体の架橋硬化膜を形成する際、膜
の成膜性、可撓性を調整するなどの目的から、化合物
（II）を添加する。化合物（II）は、下記一般式（Ｂ）
で表される置換基を複数有する化合物である。
【０１２９】・一般式（Ｂ） −Ｓｉ（Ｒ3）(3-b)（ＯＲ4）b （式中、Ｒ3は水素、アルキル基、置換あるいは未置換
のアリール基を表し、Ｒ4は水素、アルキル基、トリア
ルキルシリル基を表し、ｂは１〜３の整数を表す。）
【０１３０】このような構造を複数有することで、化合
物（II）中のＳｉ基が、化合物（Ｉ）と、あるいは、化
合物（II）同士架橋反応を起こして、３次元的なＳｉ−
Ｏ−Ｓｉ結合、すなわち無機ガラス質ネットワークを形
成する。
【０１３１】前述の化合物（Ｉ）にも同様のＳｉ基部分
が含まれるので、化合物（Ｉ）のみで架橋硬化膜を形成
することも可能であるが、化合物（II）には２個以上の
Ｓｉ基部分が含まれるので、架橋硬化膜の架橋構造が３
次元的になり、より強い機械的強度を有するようになる
と考えられる。また、化合物（Ｉ）におけるＤで表され
る可撓性サブユニットと同様、架橋硬化膜に適度な可撓
性を与える役割もある。
【０１３２】化合物（II）としては、下記一般式（VI）
で表される化合物であることが望ましい。
【０１３３】・一般式（VI）
【化１７】
【０１３４】（式中、Ａは一般式（Ｂ）で表される置換
基を示し、Ｂは枝分かれを含んでも良い２価以上の炭化
水素基、２価以上のアリール基、−ＮＨ−、の少なくと
も１つ、あるいはそれらを組み合わせて構成され、ｎは
２以上の整数を表す。） 特に、化合物（II）としては、一般式（VI）で表される
化合物の中でも、下記一般式のいずれかで表される化合
物であることが望ましい。
【０１３５】
【化１８】
【０１３６】（式中、Ｔ1、Ｔ2は枝分かれしていてもよ
い２価あるいは３価の炭化水素基を表し、Ａは一般式
（Ｂ）で表される置換基を示し、ｈ、ｉ、ｊは１〜３の
整数であり、かつ、分子内のＡの数が２以上となるよう
に選ばれる。）
【０１３７】下記表に、一般式（VI）で表される化合物
の具体例を示す。なお、下記表における化合物の番号に
「VI−」を冠した記号を本明細書における例示化合物の
記号とする（例えば、化合物の番号が「７」のものは
「例示化合物（VI−７）」となる）。
【０１３８】
【表５３】
【０１３９】本発明の電子写真感光体における架橋硬化
膜中の化合物（II）の含有量は、架橋硬化膜の全固形分
中の２０〜８０重量％の範囲であり、好ましくは３０〜
７０重量％の範囲である。
【０１４０】３．その他の成分 架橋硬化膜には、既述の如く化合物（Ｉ）および化合物
（II）から形成されるが、さらに目的に応じてその他種
々の成分を添加してもよい。架橋硬化膜を形成する際、
膜の成膜性、可撓性を調整するなどの目的から、化合物
（Ｉ）および化合物（II）と架橋反応可能な他の化合物
をさらに添加しても良い。このような化合物として、各
種シランカップリング剤、および市販のシリコン系ハー
ドコート剤を用いることができる。
【０１４１】シランカップリング剤としては、ビニルト
リクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、等を用いることができる。
【０１４２】市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８
５、ＣＲ−３９、Ｘ−１２−２２０８、Ｘ−４０−９７
４０、Ｘ−４１−１００７、ＫＮＳ−５３００、Ｘ−４
０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、およびＡ
Ｙ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８
（以上、東レダウコーニング社製）、などを用いること
ができる。
【０１４３】架橋硬化膜には、表面潤滑性を付与する目
的でフッ素原子含有化合物を添加できる。表面潤滑性を
向上させることによりクリーニングブレードとの摩擦係
数が低下し、耐摩耗性を向上させることができる。ま
た、感光体表面に対するトナーや紙粉などの付着を防止
する効果も有し、感光体の寿命向上に役立つ。かかるフ
ッ素含有化合物としては、具体的には、（トリデカフル
オロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエ
トキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）
トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポ
キシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、
１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエト
キシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオ
クチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【０１４４】フッ素含有化合物が、前記化合物（Ｉ）と
架橋重合反応可能なアルコキシシリル基やシラノール基
などを有することは、該フッ素含有化合物の添加による
最表面層の機械的強度の低下が少なく、さらに望まし
い。
【０１４５】これらフッ素含有化合物の添加量として
は、架橋硬化膜の成膜性に問題が生じる場合があるた
め、架橋硬化膜の全固形分中２０重量％以下とすること
が望ましく、１５重量％以下とすることがより望ましい
が、化合物（Ｉ）と架橋重合反応可能なフッ素含有化合
物である場合には、４０重量％程度添加することも可能
である。
【０１４６】さらに、帯電手段で発生するオゾン等の酸
化性ガスによる劣化をより効果的に防止する目的で、架
橋硬化膜には酸化防止剤を添加してもよい。感光体表面
の機械的強度を高めると、感光体が酸化性ガスにより長
い間接触することになるため、最表面層となる架橋硬化
膜には従来より高い耐酸化性が要求される。架橋硬化膜
は、酸化防止剤を添加することによって十分な耐酸化性
が付与されるが、本発明の電子写真感光体では、前記化
合物（Ｉ）におけるＦで表されるサブユニットの構造と
して、耐酸化性のあるものを採用することにより、より
高い耐酸化性を有するものとなる。
【０１４７】酸化防止剤としては、ヒンダードフェノー
ル系あるいはヒンダードアミン系のものが望ましく、有
機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、
ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化
防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知
の酸化防止剤を用いてもよい。
【０１４８】ヒンダードフェノール系の酸化防止剤とし
ては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノー
ル、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−
ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチ
ルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］
−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチ
ルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’
−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ
−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メ
チルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、
４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチ
ルフェノール）、などが挙げられる。これら酸化防止剤
の添加量としては、架橋硬化膜の全固形分中１５重量％
以下が望ましく、１０重量％以下がさらに望ましい。
【０１４９】４．残留ＯＨ基含有比ＡおよびＢ本発明に
おける架橋硬化膜は、下記式（１）で定義される残留Ｏ
Ｈ基含有比Ａが２．０以下であり、かつ、下記式（２）
で定義される残留ＯＨ基含有比Ｂが０．３以下である。
【０１５０】Ａ＝ｘ１／ｙ ・・・（１） Ｂ＝ｘ２／ｙ ・・・（２） （式中、ｘ１はＯＨ伸縮振動に基づく３５００〜３３０
０ｃｍ-1における赤外吸収ピークの吸光度を表し、ｘ２
はＯＨ伸縮振動に基づく９５５〜８９０ｃｍ-1における
赤外吸収ピークの吸光度を表し、ｙはカルボニル結合の
ＣＯ伸縮振動に基づく１７４０〜１７００ｃｍ-1におけ
る赤外吸収ピークの吸光度を表す。）
【０１５１】残留ＯＨ基含有比ＡおよびＢをこのように
小さな値に規定することにより、感光体表面におけるＯ
Ｈ基の存在量が低く抑えられ、感光体表面の面電導によ
る画像流れの欠陥を解消することができる。上記式
（１）で定義される残留ＯＨ基含有比Ａとしては、好ま
しくは１．５以下であり、より好ましくは１．０以下で
ある。上記式（２）で定義される残留ＯＨ基含有比Ｂと
しては、好ましくは０．２以下であり、より好ましくは
０．１以下である。
【０１５２】本発明において、架橋硬化膜の残留ＯＨ基
含有比Ａを測定する方法として、ＫＢｒ法を採用した。
ＫＢｒ法とは、測定対象となる架橋硬化膜を感光体から
剥離し、ＫＢｒ結晶と一緒にメノウ乳鉢で粉砕し、赤外
錠剤成型器を用いてＫＢｒペレットとし、これを赤外吸
スペクトル測定用のサンプルとして赤外線吸収スペクト
ル測定装置により測定する方法である。残留ＯＨ基含有
比Ａを本発明に規定する値に調整しつつ架橋硬化膜を形
成する具体的方策については、後述の表面保護層につい
ての説明の中で述べることとする。
【０１５３】［導電性支持体］本発明の電子写真感光体
に用いられる導電性支持体としては、従来から電子写真
感光体の導電性支持体として使用されている如何なる素
材も使用することができ、不透明または実質的に透明で
あるものが使用できる。例えば、アルミニウム、ニッケ
ル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、アルミニウム、
チタン、ジルコニウム、ニッケル、クロム、ステンレス
鋼、金、白金、酸化銀、酸化インジウム、ＩＴＯ等の薄
膜を設けたプラスチックフィルム、ガラスおよびセラミ
ックス等、あるいは導電性付与剤を塗布または含浸させ
た紙、プラスチックフィルム、ガラスおよびセラミック
ス等を挙げることができる。導電性基体の形状は、ドラ
ム状、シート状、プレート状等、使用目的に合わせて適
宜選択することができる。
【０１５４】また、導電性支持体の表面は、必要に応じ
てかつ画質に影響のない範囲で、各種の処理を行うこと
ができる。例えば、表面の酸化処理（陽極酸化処理
等）、薬品処理、液体ホーニング、砂目立て等による粗
面化処理や、その他薬品処理、着色処理等を行うことが
できる。導電性支持体表面の酸化処理や粗面化処理は、
導電性支持体の表面を粗面化するのみならず、その上に
塗布される層の表面をも粗面化し、露光用光源としてレ
ーザー等の可干渉光源を用いた場合に問題となる導電性
支持体表面および／または積層膜界面での正反射による
干渉縞の発生を防止するという効果を発揮し得る。
【０１５５】［電子写真感光体の層構成］本発明の電子
写真感光体の感光層は、その層構成に関わらず、最表面
層が既述の通り、本発明の構成の架橋硬化膜（以下、
「本発明の構成を為す層」という場合がある）となって
おり、また層構成としては、以下のものが挙げられる。
【０１５６】導電性支持体上に、電荷輸送層および電
荷発生層からなる積層型の感光層が設けられ、さらにそ
の上層に表面保護層が設けられてなる層構成。この場
合、電荷輸送層および電荷発生層の積層順序としては、
いずれが上層であっても良く、さらにそれぞれが積層さ
れた構成であってもよい。そして、最上層である表面保
護層が、本発明の構成を為す層となっている。
【０１５７】導電性支持体上に、電荷輸送層および電
荷発生層からなる積層型の感光層が設けられてなる層構
成。この場合、電荷輸送層および電荷発生層の積層順序
としては、いずれが上層であっても良く、さらにそれぞ
れが積層された構成であってもよい。そして、電荷輸送
層が上層である場合には、該電荷輸送層（電荷輸送層が
積層されている場合には、このうちの最上層の電荷輸送
層）が、電荷発生層が上層である場合には、該電荷発生
層（電荷発生層が積層されている場合には、このうちの
最上層の電荷発生層）が、本発明の構成を為す層となっ
ている。
【０１５８】導電性支持体上に、電荷輸送機能および
電荷発生機能の双方を併せ持つ単層型の感光層が設けら
れ、さらにその上層に表面保護層が設けられてなる層構
成。この場合、最上層である表面保護層が、本発明の構
成を為す層となっている。
【０１５９】導電性支持体上に、電荷輸送機能および
電荷発生機能の双方を併せ持つ単層型の感光層のみが設
けられてなる層構成。この場合、当該感光層が、本発明
の構成を為す層となっている。
【０１６０】これらの中でも、最表面層が表面保護層ま
たは電荷輸送層となる構成が、電気特性および耐刷特性
の点で最も好ましい。尚、本発明の電子写真感光体は、
上記層構成において、少なくとも最表面層が本発明の構
成を為す層であることが必須であるが、その他の層が本
発明の構成を為す層であることも一向に差し支えなく、
電子写真感光体表面の感光層全体としての機械的強度向
上を図る上では、むしろ好ましい態様といえる。
【０１６１】導電性支持体と感光層との間には、必要に
応じて下引き層を設けてもよい。下引き層は、導電性支
持体からの不必要な電荷の注入を阻止するために有効な
ものであり、感光体の帯電性を向上させる作用を有して
いる。さらに、感光層と導電性支持体との接着性を向上
させる作用も有している。
【０１６２】この下引き層に用いる結着樹脂は、ポリエ
チレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタ
クリル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビ
ニル樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、塩化ビニリデン樹
脂、ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、水溶性ポリエ
ステル樹脂、ニトロセルロース、カゼイン、ゼラチン、
ポリグルタミン酸、澱粉、スターチアセテート、アミノ
澱粉、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ジルコニ
ウムキレート化合物、チタニルキレート化合物、チタニ
ルアルコキシド化合物、有機チタニル化合物、シランカ
ップリング剤等の公知の材料を用いることができ、これ
らの材料は単独で、または２種以上を混合して用いるこ
とができる。
【０１６３】また、この下引き層には、酸化チタン、酸
化ケイ素、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、シリ
コーン樹脂等の微粒子を配合することができる。下引き
層の乾燥膜厚としては、０．０１〜１０μｍの範囲が適
当であり、より好ましくは０．０５〜２μｍの範囲であ
る。
【０１６４】下引き層の塗布方法としては、ブレードコ
ーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレー
コーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティ
ング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーテ
ィング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１６５】［表面保護層］本発明の構成を為す表面保
護層は、前記本発明における架橋硬化膜の必須構成成
分、必要に応じて添加されるその他の成分および溶剤等
を混合した塗布液を調合し、該塗布液を導電性支持体上
に形成された感光層の上に塗布した後、加熱して架橋硬
化反応をさせることにより形成することができる。尚、
感光層の形成については後述する。
【０１６６】液粘度調整のためなど、必要に応じて塗布
液調合時に使用する溶剤としては、水、メタノール、エ
タノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジ
ルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢
酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、メチレンクロライド、クロロホルム、ジメチル
エーテル、ジブチルエーテル等の通常の有機溶剤を、単
独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【０１６７】塗布方法としては、ブレードコーティング
法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティン
グ法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エ
アーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等
の通常の方法を採用することができる。表面保護層の乾
燥膜厚としては、１〜１０μｍ程度とするのが好まし
い。
【０１６８】架橋硬化反応を行う際には、既述の残留Ｏ
Ｈ基含有比Ａの値を抑制するために、以下に示す〜
の方策を採ることが望ましい。 触媒の添加 架橋硬化反応を行う際に、適切な硬化触媒を用いる。硬
化触媒としては、以下のようなものを挙げることができ
る。塩酸、酢酸、リン酸、硫酸等のプロトン酸；アンモ
ニア、トリエチルアミン等の塩基；ジブチル錫ジアセテ
ート、ジブチル錫ジオクトエート、オクエ酸第一錫等の
有機錫化合物；テトラ−ｎ−ブチルチタネート、テトラ
イソプロピルチタネート等の有機チタン化合物；アルミ
ニウムトリブトキシド、アルミニウムトリアセチルアセ
トナート等の有機アルミニウム化合物；有機カルボン酸
の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウ
ム塩等；が挙げられるが、保存安定性の点で金属化合物
が好ましく、さらに金属のアセチルアセトナート、ある
いは、アセチルアセテートが好ましい。
【０１６９】これら適切な硬化触媒を用いることによ
り、得られる架橋硬化膜（表面保護層）の残留ＯＨ基含
有比ＡおよびＢの値を抑制することができる。硬化触媒
の使用量としては、任意に設定することができるが、保
存安定性、特性および強度の点で、加水分解型ケイ素置
換基を含有する材料の合計量に対して０．１〜２０ｗｔ
％の範囲が好ましく、０．３〜１０ｗｔ％の範囲がより
好ましい。
【０１７０】加熱条件のコントロール 架橋硬化反応を行う際の加熱温度および加熱時間等を適
切にコントロールする。加熱温度は、塗布液中の構成成
分が分解しない範囲で高ければ高いほど、得られる架橋
硬化膜（表面保護層）の残留ＯＨ基含有比Ａの値が抑制
される。具体的な加熱温度としては、塗布液中の構成成
分の種類や加熱時間等にもよるが、好ましくは６０℃以
上、より好ましくは８０℃以上に設定される。
【０１７１】加熱時間は、長ければ長いほど、得られる
架橋硬化膜（表面保護層）の残留ＯＨ基含有比Ａの値が
抑制される。具体的な加熱時間としては、塗布液中の構
成成分の種類や加熱温度等にもよるが３０ｍｉｎ．〜５
ｈｒの範囲に設定することが好ましい。
【０１７２】［表面保護層を設けた場合の他の感光層］
本発明の構成を為す表面保護層を設けた場合、その下層
に形成される感光層は、従来から公知のあらゆる感光体
の感光層を採用することができ、電荷発生層と電荷輸送
層を積層した積層型の感光層でもよいし、電荷発生材料
を含有する単層型の感光層でもよい。以下、積層型と単
層型とに分けて説明する。
【０１７３】１．積層型の感光層 積層型の感光層における電荷発生層は、少なくとも電荷
発生材料および結着樹脂から形成される。
【０１７４】電荷発生材料としては、非晶質セレン、結
晶性セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金、その他セ
レン化合物およびセレン合金、酸化亜鉛、酸化チタン等
の無機系光導電性材料、フタロシアニン系化合物、スク
アリリウム系化合物、アントアントロン系化合物、ペリ
レン系化合物、アゾ系化合物、アントラキノン系化合
物、ピレン系化合物、ピリリウム塩、チアピリリウム塩
等の有機顔料あるいは染料が用いられる。これらの中で
もフタロシアニン系化合物は光感度や安定性の面で好適
であり、具体的には、無金属フタロシアニン、オキシチ
タニウムフタロシアニン、ハロゲン化ガリウムフタロシ
アニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ハロゲン
化錫フタロシアニンが特に好ましい。
【０１７５】特に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッ
グ角（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２
５．５°、２８．３°に強い回折ピークを持つ特定の結
晶形を有するクロロガリウムフタロシアニン、あるい
は、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±
０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．
３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°に強い回折
ピークを持つ特定の結晶形を有するヒドロキシガリウム
フタロシアニンは、可視光から近赤外光の広い領域の光
に対して高い電荷発生効率を有しており、特に好ましい
ものである。
【０１７６】電荷発生層の結着樹脂としては、ポリビニ
ルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、部分変
性ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、
ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、シリコーン樹脂、フェ
ノール樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂等が挙
げられるが、これらに限定されるものではない。これら
の結着樹脂は、単独あるいは２種以上混合して用いるこ
とができる。
【０１７７】電荷発生材料と結着樹脂との配合比（重量
比）は、１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。電荷発
生層は、電荷発生材料と結着樹脂とを適当な溶剤に溶
解、分散した塗布液を調製し、該塗布液を導電性支持体
上、あるいは、導電性支持体上に形成された後述の電荷
輸送層の上に塗布した後、加熱乾燥することにより形成
することができる。
【０１７８】塗布液調製時に用いる溶剤としては、メタ
ノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノー
ル、ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム
等の通常の有機溶剤を、単独あるいは２種以上混合して
用いることができる。
【０１７９】塗布方法としては、ブレードコーティング
法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティン
グ法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エ
アーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等
の通常の方法を採用することができる。電荷発生層の乾
燥膜厚は、一般的には０．１〜５μｍが適当であり、よ
り好ましくは０．２〜２．０μｍである。
【０１８０】積層型の感光層における電荷輸送層は、少
なくとも電荷輸送材料および結着樹脂から形成される
か、あるいは、高分子電荷輸送材料からなる。電荷輸送
材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマ
ニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシア
ノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフル
オレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合
物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、
エチレン系化合物等の電子輸送性化合物；トリアリール
アミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカ
ン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベ
ン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合
物などの正孔輸送性化合物；が挙げられる。これらの電
荷輸送材料は、単独または２種以上混合して用いること
ができる。
【０１８１】特に、下記一般式（IV）で表されるベンジ
ジン系化合物、および下記一般式（Ｖ）で表されるトリ
フェニルアミン系化合物は、高い電荷（正孔）輸送能と
優れた安定性を有しているため、特に好ましく用いるこ
とができる。
【０１８２】・一般式（IV）
【化１９】
【０１８３】上記式中、Ｒ6およびＲ6'は同一であって
も異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素
数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を
表す。Ｒ7、Ｒ7'、Ｒ8およびＲ8'は同一であっても異な
っていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜
５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数
１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基を表し、ｍお
よびｎは０〜２の整数を表す。
【０１８４】・一般式（Ｖ）
【化２０】
【０１８５】上記式中、Ｒ9は、水素原子またはメチル
基、ｎは１または２を表す。Ａｒ6およびＡｒ7は同一で
あっても異なっていてもよく、置換または未置換のアリ
ール基を表し、該置換基としてはハロゲン原子、炭素数
１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭
素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基を表す。
【０１８６】上記一般式（IV）で表されるベンジジン系
化合物の化合物例を、各置換基を特定することにより、
下記表にまとめて示す。なお、下記表における化合物の
番号に「IV−」を冠した記号を本明細書における例示化
合物の記号とする（例えば、化合物の番号が「２７」の
ものは「例示化合物（IV−２７）」となる）。
【０１８７】
【表５４】
【０１８８】
【表５５】
【０１８９】また、上記一般式（Ｖ）で表されるトリフ
ェニルアミン系化合物の化合物例を、各置換基を特定す
ることにより、下記表にまとめて示す。なお、下記表に
おける化合物の番号に「Ｖ−」を冠した記号を本明細書
における例示化合物の記号とする（例えば、化合物の番
号が「２７」のものは「例示化合物（Ｖ−２７）」とな
る）。
【０１９０】
【表５６】
【０１９１】
【表５７】
【０１９２】
【表５８】
【０１９３】これらの電荷輸送材料は、単独または２種
以上混合して用いることができる。
【０１９４】電荷輸送層の結着樹脂としては、ポリカー
ボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、ア
クリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン
樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、
スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アク
リロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合
体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アクリル
樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカ
ルバゾール、ポリシランなどの公知の樹脂を用いること
ができる。
【０１９５】一方、高分子電荷輸送材料としては、ポリ
−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送
性を有する公知のものを用いることができる。特に、特
開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０
号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材
料は、高い電荷輸送性を有しており、好ましいものであ
る。高分子電荷輸送材料は、それだけでも成膜可能であ
るが、前記結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【０１９６】電荷輸送層には、帯電装置で発生するオゾ
ン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防
止剤を添加してもよい。たとえ表面保護層があったとし
ても、酸化性ガスが表面保護層を透過して電荷輸送層ま
で浸入することがあり、これによる酸化劣化を防止する
ため酸化防止剤を添加することが好ましい。酸化防止剤
としては、前記架橋硬化膜に用いるものと同様のものを
用いることができる。酸化防止剤の添加量としては電荷
輸送層の全固形分の１５重量％以下が望ましく、１０重
量％以下がさらに望ましい。
【０１９７】電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（重量
比）は、１：９〜７：３の範囲が好ましい。電荷輸送層
は、電荷輸送材料と結着樹脂と、さらに必要に応じて酸
化防止剤とを適当な溶剤に溶解、分散した塗布液を調製
し、該塗布液を導電性支持体上、あるいは、導電性支持
体上に形成された電荷発生層の上に塗布した後、加熱乾
燥することにより形成することができる。
【０１９８】塗布液調製時に用いる溶剤としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族
炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩
化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン
化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエー
テル、ジオキサン等の環状もしくは直鎖状のエーテル類
等、通常の有機溶剤を、単独あるいは２種以上混合して
用いることができる。
【０１９９】電荷輸送層の塗布方法は、表面保護層や電
荷発生層で挙げたものと同じ公知の方法を採用すること
ができる。電荷輸送層の乾燥膜厚は５〜５０μｍであ
り、好ましくは１０〜４０μｍである。
【０２００】２．単層型の感光層 単層型の感光層（表面保護層を除く。以下、単層型の感
光層の項に於いて同様）の場合は、前記の電荷発生材料
および結着樹脂を含有して形成される。結着樹脂として
は、前記電荷発生層および電荷輸送層に用いられる結着
樹脂と同様のものを用いることができる。単層型の感光
層中の電荷発生材料の含有量は、感光層の全固形分の１
０〜８５重量％程度、好ましくは２０〜５０重量％とす
る。
【０２０１】単層型の感光層には、必要に応じて光電特
性を改善する等の目的で前述の電荷輸送材料や高分子電
荷輸送物質を添加してもよい。その添加量は、感光層
（表面保護層を除く）の全固形分の５〜５０重量％とす
ることが好ましい。さらに単層型の感光層には、必要に
応じて電荷輸送層の場合と同様の理由から酸化防止剤を
添加してもよい。その添加量は感光層の全固形分の１５
重量％以下が好ましく、より好ましくは１０重量％以下
である。
【０２０２】単層型の感光層は、電荷発生材料と結着樹
脂と、さらに必要に応じて電荷輸送材料や高分子電荷輸
送物質と酸化防止剤とを適当な溶剤に溶解、分散した塗
布液を調製し、該塗布液を導電性支持体上に塗布した
後、加熱乾燥することにより形成することができる。塗
布に用いる溶剤や塗布方法は、電荷発生層や電荷輸送層
のところで述べたものと同様のものを用いることができ
る。単層型の感光層の膜厚は５〜５０μｍ程度であり、
１０〜４０μｍとすることがさらに好ましい。
【０２０３】［表面保護層を設けない場合の感光層］表
面保護層を設けない場合には、既述の如く、導電性支持
体表面に形成された感光層の最表面層が本発明の構成を
為す層となる。感光層としては、積層型および単層型の
２通りがある。
【０２０４】積層型の感光層の場合、電荷輸送層が表面
であれば電荷輸送層が、電荷発生層が表面であれば電荷
発生層が、本発明の構成を為す層となる。この場合、最
表面層に、上記［表面保護層を設けた場合の感光層］と
して説明した電荷輸送層あるいは電荷発生層の構成に代
えて、本発明の構成を為す層の構成が採用され、他の層
は、上記［表面保護層を設けた場合の感光層］として説
明した構成がそのまま採用される。
【０２０５】但し、電荷発生層が、本発明の構成を為す
層となる場合には、当該層中には、電荷発生材料を添加
することが必要となる。電荷発生材料としては、上記
［表面保護層を設けた場合の感光層］の項で説明した電
荷発生層の場合と同様の材料を用いることができ、その
添加量としては、電荷発生層の全固形分の１０〜６０重
量％が好ましく、より好ましくはの２０〜５０重量％で
ある。
【０２０６】また、電荷輸送層が、本発明の構成を為す
層となる場合には、前記化合物（Ｉ）中のＦで表される
光電特性サブユニットが電荷輸送性を有し、十分な光電
特性を有するため、当該層に電荷輸送材料を添加するこ
とは、必須でない。勿論、電荷輸送材料を添加すること
も可能である。電荷輸送材料を添加する場合、上記［表
面保護層を設けた場合の感光層］で説明した電荷輸送層
の場合と同様の材料を用いることができ、その添加量と
しては、電荷輸送層の全固形分の５〜５０重量％が好ま
しく、より好ましくは１０〜４０重量％である。
【０２０７】一方、単層型の感光層の場合には、当該感
光層自体が本発明の構成を為す層となる。但し、当該単
層型の感光層中には、電荷発生材料を添加することが必
要となる。電荷発生材料としては、上記〔表面保護層を
設けた場合の感光層〕で説明した電荷発生層の場合と同
様の材料を用いることができ、その添加量としては、感
光層の全固形分の１０〜６０重量％が好ましく、より好
ましくはの２０〜５０重量％である。
【０２０８】これら表面保護層を設けない場合の感光層
における最表面層を形成するには、前記架橋硬化膜の必
須構成成分に、必要に応じて、電荷発生材料、電荷輸送
材料、フッ素含有化合物、酸化防止剤、溶剤等を混合し
た塗布液を調合し、該塗布液を導電性支持体上に形成さ
れた感光層の上に塗布した後、加熱して架橋硬化させる
ことにより形成することができる。このとき、１回の塗
布により必要な膜厚が得られない場合には、複数回の重
ね塗布を行うことにより必要な膜厚を得ることができ
る。複数回の重ね塗布を行う場合、加熱処理は塗布の度
に行ってもよいし、複数回重ね塗布が終了した後でもよ
い。
【０２０９】液粘度調整のためなど、必要に応じて塗布
液調合時に使用する溶剤としては、メタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルア
ルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メ
チル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、メチレンクロライド、クロロホルム等の通常の有機
溶剤を、単独あるいは２種以上混合して用いることがで
きる。
【０２１０】塗布方法としては、ブレードコーティング
法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティン
グ法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エ
アーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等
の通常の方法を採用することができる。
【０２１１】架橋硬化膜となる最表面層の残留ＯＨ基含
有比Ａの値を抑制する方策は、［表面保護層］の項で説
明した〜の方策がそのまま適用される。
【０２１２】［画像形成装置］以上の如き本発明の電子
写真感光体は、従来公知のあらゆる電子写真用の画像形
成装置に適用することができる。本発明の電子写真感光
体は、コロトロン、スコロトロンによる非接触方式の帯
電手段有する場合にも、発生する酸化性ガスに対する耐
性が高く、感光体へのストレスが大きい接触帯電方式の
帯電手段や機械的なクリーニング手段を有する場合に
も、機械的な強度が高い感光層を有するものであり、こ
れら過酷な条件において使用される場合にも、良好な感
光体特性を長期にわたり持続することができる。
【０２１３】具体的な画像形成装置の一例としては、少
なくとも上記本発明の電子写真感光体、帯電手段、およ
び機械的なクリーニング手段を有する電子写真方式の画
像形成装置であり、かつ帯電手段が接触帯電方式である
ことを特徴とするものである。その他、レーザー光学系
やＬＥＤアレイなどの露光手段、トナーなどを用いて像
を形成する現像手段、トナー像を紙などの媒体に写し取
る転写手段、トナー像を紙などの媒体に定着させる定着
手段、感光体表面に残留している静電潜像を除去する除
電手段、なども必要に応じて公知の方法で有してよい。
【０２１４】図１は、本発明の電子写真感光体を適用し
た画像形成装置の一例を示す概略構成図である。本発明
の電子写真感光体である感光体１０、接触帯電方式の帯
電手段である帯電ロール１２、レーザー露光光学系１
４、粉体トナーを用いた現像器１６、転写用ロール１
８、除電装置１９、機械的なクリーニング手段であるク
リーニングブレード２０、定着ロール２２を有してい
る。
【０２１５】尚、機械的なクリーニング手段とは、感光
体表面に直接接触し、表面に付着しているトナー、紙
粉、ゴミなどを除去するものであり、クリーニングブレ
ード２０のようなブレード形式の他、ブラシ、ロールな
ど公知の形式のものを適用することができる。
【０２１６】接触帯電方式の帯電手段とは、感光体１０
の表面に接触させた導電性部材に電圧を印加することに
より感光体表面を帯電させるものであり、該導電性部材
の形状としては、図１中の帯電ロール１２のようなロー
ル状の他、ブラシ状、ブレード状、あるいは、ピン電極
状等何れでもよいが、特にロール状の導電性部材が好ま
しい。通常、ロール状導電性部材は、芯材としてのロー
ル表面に弾性層が形成され、さらにその上に抵抗層が形
成されて構成される。さらに必要に応じて抵抗層の外側
に保護層を設けることもできる。
【０２１７】芯材の材質としては導電性を有するもの
で、一般的には鉄、銅、真鍮、ステンレス、アルミニウ
ム、ニッケル等が用いられる。またその他導電性粒子等
を分散した樹脂成形品等を用いることもできる。弾性層
の材質としては導電性あるいは半導電性を有する弾性体
で、一般にはゴム材に導電性粒子あるいは半導電性粒子
を分散したものである。
【０２１８】ゴム材としては、ＥＰＤＭ、ポリブタジエ
ン、天然ゴム、ポリイソブチレン、ＳＢＲ、ＣＲ、ＮＢ
Ｒ、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エピクロルヒドリ
ンゴム、ＳＢＳ、熱可塑性エラストマー、ノルボーネン
ゴム、フロロシリコーンゴム、エチレンオキシドゴム等
が用いられる。
【０２１９】導電性粒子あるいは半導電性粒子として
は、カーボンブラック、亜鉛、アルミニウム、銅、鉄、
ニッケル、クロム、チタニウム等の金属、ＺｎＯ−Ａｌ
2Ｏ3、ＳｎＯ2−Ｓｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2、ＺｎＯ
−ＴｉＯ2、ＭｇＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＦｅＯ−ＴｉＯ2、Ｔｉ
Ｏ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＭｇＯ等
の金属酸化物が用いることができ、これらの材料は単独
あるいは２種以上混合して用いても良い。
【０２２０】抵抗層および保護層は、結着樹脂に導電性
粒子あるいは半導電性粒子を分散し、その抵抗を制御し
たものであり、結着樹脂としてはアクリル樹脂、セルロ
ース樹脂、ポリアミド樹脂、メトキシメチル化ナイロ
ン、エトキシメチル化ナイロン、ポリウレタン樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン
樹脂、ポリビニル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリチオ
フェン樹脂、ＰＦＡ、ＦＥＰ、ＰＥＴ等のポリオレフィ
ン樹脂、スチレンブタジエン樹脂等が用いられる。導電
性粒子あるいは半導電性粒子としては、弾性層と同様の
カーボンブラック、金属、金属酸化物が用いられる。抵
抗層および保護層の抵抗率としては、好ましくは１０3
〜１０14Ωｃｍが好ましく、より好ましくは１０5〜１
０12Ωｃｍ、さらに好ましくは１０7〜１０12Ωｃｍで
ある。また、抵抗層および保護層の膜厚としては、好ま
しくは０．０１〜１，０００μｍ、より好ましくは０．
１〜５００μｍ、さらに好ましくは０．５〜１００μｍ
である。
【０２２１】また必要に応じてヒンダードフェノール、
ヒンダードアミン等の酸化防止剤、クレー、カオリン等
の充填剤や、シリコーンオイル等の潤滑剤を添加するこ
とができる。
【０２２２】これらの層を形成する方法としては、上記
各材料を適当な溶剤に溶解、分散させて塗布液を調製
し、これを被塗布物に塗布することにより行うことがで
きる。塗布する手段としては、ブレードコーティング
法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティン
グ法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エ
アーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等
従来公知の手段を採用することができる。
【０２２３】帯電ロール１２は、感光体１０の表面に接
触させることにより、特に駆動手段を有しなくとも感光
体１０と同じ周速度で回転し、帯電手段として機能す
る。しかし、帯電ロール１２に何らかの駆動手段を取り
付け、感光体１０とは異なる周速度で回転させ、感光体
１０の表面を帯電させても良い。
【０２２４】上記帯電手段の導電性部材により、感光体
を帯電させるには、導電性部材に電圧を印加する必要が
あるが、印加電圧は、直流電圧、あるいは直流電圧に交
流電圧を重畳したものが好ましく、特に直流電圧に交流
電圧を重畳することは、帯電の均一化および環境安定化
の点から好ましい。
【０２２５】電圧の大きさとしては、直流電圧は要求さ
れる感光体帯電電位に応じて正または負の５０〜２，０
００Ｖが好ましく、特に１００〜１，５００Ｖが好まし
い。交流電圧を重畳する場合は、ピーク間電圧が４００
〜３，０００Ｖとすることが好ましく、より好ましくは
８００〜２，５００Ｖ、さらに好ましくは１，２００〜
２，５００Ｖである。交流電圧の周波数としては、５０
〜２０，０００Ｈｚ、好ましくは１００〜５，０００Ｈ
ｚである。
【０２２６】
【実施例】以下、実施例および比較例を挙げて、本発明
をより具体的に説明する。なお、以下の実施例におい
て、「部」とあるのは、特に断りのない限り全て「重量
部」を意味する。
【０２２７】（実施例１） １．導電性支持体の作製 ホーニング処理を施したアルミニウムパイプ（長さ３４
０ｍｍ、外径３０ｍｍ）の外周表面にジルコニウム化合
物（商品名：オルガノチックスＺＣ５４０、マツモト製
薬社製）１０部およびシラン化合物（商品名：Ａ１１１
０、日本ユニカー社製）１部とイソプロパノール４０部
およびブタノール２０部からなる溶液を浸漬コーティン
グ法で塗布し、１５０℃において１０分間加熱乾燥し、
膜厚０．１μｍの下引き層を形成した。
【０２２８】２．電荷発生層の形成 Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２
°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３
°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニ
ン１部を、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−
Ｓ、積水化学）１部、および酢酸ｎ−ブチル１００部と
混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１
時間処理して分散して塗布液を調製し、得られた塗布液
を前記下引き層上に浸漬コーティング法により塗布し、
１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの
電荷発生層を形成した。
【０２２９】３．電荷輸送層の形成 例示化合物（IV-2７）のベンジジン系化合物２部、下記
基本単位（VII）で示される高分子化合物（粘度平均分
子量３９，０００）３部をクロロベンゼン２０部に溶解
させて塗布液を調製し、得られた塗布液を前記電荷発生
層上に浸漬コーティング法で塗布し、１１０℃、４０分
の加熱を行って膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２３０】基本単位（VII）
【化２１】
【０２３１】４．表面保護層の形成 例示化合物（III−３）１０部と、例示化合物（VI−
１）５．５部と、硬化性シロキサン樹脂（信越シリコ
ン、Ｘ−４０−２２３９）１８部と、酢酸７部と、１Ｎ
塩酸０．００１部と、を混合して得られた塗布液を、前
記電荷輸送層上に浸漬塗布し、３０分放置して指触乾燥
後、１２０℃で２時間の加熱処理を行い、膜厚約５μｍ
の表面保護層を形成し、本発明の電子写真感光体を得
た。
【０２３２】［比較例１］実施例１において、表面保護
層を形成しないこと以外は、実施例１と同様にして比較
用の電子写真感光体を得た。
【０２３３】［比較例２］実施例１の「４．表面保護層
の形成」において、指触乾燥後の加熱処理条件を、５０
℃で２時間としたこと以外は、実施例１と同様にして比
較用の電子写真感光体を得た。
【０２３４】［比較例３］実施例１の「４．表面保護層
の形成」において、酢酸７部と、１Ｎ塩酸０．００１部
と、を除いたこと以外は、実施例１と同様にして比較用
の電子写真感光体を得た。
【０２３５】＜表面保護層の残留水酸基含有比Ａおよび
Ｂの測定＞以上のようにして得られた実施例１、比較例
１および２の各電子写真感光体について、表面保護層の
一部を剥離して、既述の方法により残留水酸基含有比Ａ
およびＢを測定した。結果を下記表５９にまとめて示
す。
【０２３６】＜耐刷性テスト＞実施例１、比較例１およ
び２の各電子写真感光体を、富士ゼロックス製Ｌａｓｅ
ｒＰｒｅｓｓ ４１６０II改造機（感光体のみを、上記
実施例１、比較例１および２の各電子写真感光体に置き
換え可能としたもの）に装着し、２８℃，８５％ＲＨの
環境下において、耐刷性テストを行った。このＬａｓｅ
ｒＰｒｅｓｓ４１６０II改造機は、接触方式の帯電手段
である帯電ロール、レーザー露光光学系、トナー現像
器、転写ロール、機械的なクリーニング手段としてのク
リーニングブレード、定着ロールを有している。
【０２３７】耐刷性の評価は、２５６階調パターンおよ
び８００ｄｐｉ解像度パターンを５万枚および１０万枚
印刷し、その印刷前後における画質評価、感光体表面の
目視観察、および感光体の表面保護層の摩耗量を測定す
ることにより行った。なお、用紙としては富士ゼロック
ス社製ＰＰＣ用紙（Ｌ、Ａ４）を用いた。結果を下記表
５９にまとめて示す。
【０２３８】
【表５９】
【０２３９】実施例１の場合、初期から１０万枚印刷ま
で、２５６階調パターンおよび８００ｄｐｉ解像度パタ
ーンともに良好であった。感光体の表面保護層の摩耗量
も小さく、表面に大きな筋状の傷などはみられないこと
から、十分な機械強度を有していることがわかる。
【０２４０】これに対し、比較例１の場合、初期画質は
良好だったものの、５万枚印刷後は感光体表面に筋状・
点状の傷が多発しており、これが原因となって画像欠陥
が発生するようになっていた。また、感光体の表面保護
層の膜厚減少によると考えられる画像濃度低下が生じて
いた。よって、５万枚以上の耐刷性テストは行わなかっ
た。
【０２４１】また比較例２の場合も、初期画質は良好で
ほぼ問題なく印刷できるものの、約２０，０００枚印刷
後には局所的な画像の滲み／ボケが発生し、約４０，０
００枚印刷後には、それが全面（Ａ４用紙の約半分の面
積）に広がっていた。よって、５万枚以上の耐刷性テス
トは行わなかった。
【０２４２】同様に比較例３の場合も、初期画質は良好
でほぼ問題なく印刷できるものの、約１５，０００枚印
刷後には局所的な画像の滲み／ボケが発生し、約３０，
０００枚印刷後には、それが全面（Ａ４用紙の約２／３
の面積）に広がっていた。よって、５万枚以上の耐刷性
テストは行わなかった。
【０２４３】［実施例２〜７］実施例１の「４．表面保
護層の形成」において、例示化合物（III−３）の代わ
りに、実施例２では（III−１３）、実施例３では（III
−３１）、実施例４では（III−３２）、実施例５では
（III−１４５）、実施例６では（III−１７８）、実施
例７では（III−２５５）をそれぞれ用いたことを除
き、実施例１と同様にして本発明の電子写真感光体を得
た。
【０２４４】［実施例８〜１０］実施例１の「４．表面
保護層の形成」において、例示化合物（IV−１）の代わ
りに、実施例８では（IV−２）、実施例９では（IV−
３）、実施例１０では（IV−４）をそれぞれ用いたこと
を除き、実施例１と同様にして本発明の電子写真感光体
を得た。
【０２４５】このようにして得られた実施例２〜１０の
各電子写真感光体について、上記実施例１と同様にして
表面保護層の残留水酸基含有比ＡおよびＢの測定、さら
に耐刷性テストを行った。結果を下記表６０にまとめて
示す。
【０２４６】
【表６０】
【０２４７】実施例２〜１０の電子写真感光体では、初
期から１０万枚印刷まで、２５６階調パターンおよび８
００ｄｐｉ解像度パターンともに良好であった。感光体
の表面保護層の摩耗量も小さく、表面に大きな筋状の傷
などはみられないことから、十分な機械強度を有してい
ることがわかる。
【０２４８】
【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、化合物
（Ｉ）および化合物（II）によるシロキサン系架橋硬化
膜を有しつつ、膜中の残留水酸基存在比を抑制している
ため、高い光電特性を有しながら強い機械強度を実現し
ている。そのため、電子写真方式の画像形成装置として
用いた場合に高い耐久性を有しており、印刷のランニン
グコストが抑えられる。特に、感光体に対するストレス
の大きい接触帯電方式、なかでも交流成分を有する接触
帯電方式を採用した画像形成装置とともに用いた場合、
その効果は大きいものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の電子写真感光体を適用した画像形成
装置の一例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
１０：感光体 １２：帯電ロール（帯電手段） １４：レーザー露光光学系 １６：現像器 １８：転写用ロール １９：除電装置 ２０：クリーニングブレード（クリーニング手段） ２２：定着ロール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｇ 5/06 ３７２ Ｇ０３Ｇ 5/06 ３７２ 15/02 １０１ 15/02 １０１ (72)発明者 上坂 友純 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 小関 一浩 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 Ｆターム(参考） 2H003 BB11 CC05 EE12 2H068 AA04 AA14 AA16 AA18 AA19 AA20 AA37 BA12 BA39 BA58 BA60 BB53 BB57 FA03 FC01

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 導電性支持体上に少なくとも１層の感光
    層を有する電子写真感光体において、 感光層のうち少なくとも最表面層が、下記一般式（Ａ）
    で表される化合物（Ｉ）、および下記一般式（Ｂ）で表
    される置換基を複数有する化合物（II）、から形成され
    る架橋硬化膜からなり、 前記架橋硬化膜が、下記式（１）で定義される残留ＯＨ
    基含有比Ａが２．０以下であり、かつ、下記式（２）で
    定義される残留ＯＨ基含有比Ｂが０．３以下であること
    を特徴とする電子写真感光体。 ・一般式（Ａ） Ｆ−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)（ＯＲ2）a （式中、Ｆは光電特性サブユニット表し、Ｄは可撓性サ
    ブユニット表し、Ｒ1は水素、アルキル基、置換あるい
    は未置換のアリール基を表し、Ｒ2は水素、アルキル
    基、トリアルキルシリル基を表し、ａは１〜３の整数を
    表す。） ・一般式（Ｂ） −Ｓｉ（Ｒ3）(3-b)（ＯＲ4）b （式中、Ｒ3は水素、アルキル基、置換あるいは未置換
    のアリール基を表し、Ｒ4は水素、アルキル基、トリア
    ルキルシリル基を表し、ｂは１〜３の整数を表す。） Ａ＝ｘ１／ｙ ・・・（１） Ｂ＝ｘ２／ｙ ・・・（２） （式中、ｘ１はＯＨ伸縮振動に基づく３５００〜３３０
    ０ｃｍ-1における赤外吸収ピークの吸光度を表し、ｘ２
    はＯＨ伸縮振動に基づく９５５〜８９０ｃｍ-1における
    赤外吸収ピークの吸光度を表し、ｙはカルボニル結合の
    ＣＯ伸縮振動に基づく１７４０〜１７００ｃｍ-1におけ
    る赤外吸収ピークの吸光度を表す。）
  2. 【請求項２】 前記感光層の最表面層が、表面保護層ま
    たは電荷輸送層であることを特徴とする請求項１に記載
    の電子写真感光体。
  3. 【請求項３】 前記化合物（Ｉ）が、下記一般式(III)
    で表される化合物であることを特徴とする請求項１また
    は２に記載の電子写真感光体。 ・一般式(III) 【化１】 （式中、Ａｒ1〜Ａｒ4はそれぞれ独立に置換あるいは未
    置換のアリール基を示し、Ａｒ5は置換あるいは未置換
    のアリール基あるいはアリーレン基を示し、かつＡｒ1
    〜Ａｒ5のうち１〜４個は、−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ5）
    (3-c)（ＯＲ6）cで示される置換基を有し、Ｒ5は水素、
    アルキル基、置換あるいは未置換のアリール基を表し、
    Ｒ6は水素、アルキル基、トリアルキルシリル基を表
    し、ｃは１〜３の整数を示し、ｋは０または１を示す。
    またＹは、−ＣxＨ2x−（ｘは１〜１５の整数）、とし
    た場合の−Ｃx'Ｈ(2x'-2)−（ｘ'は２〜１５の整数）、
    −Ｃx"Ｈ(2x"-4 )−（ｘ"は２〜１５の整数）で表される
    炭化水素基、置換あるいは未置換の２価のアリール基、
    −ＣＨ＝Ｎ−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−からなる群より選ば
    れる少なくとも１種以上を有する２価の基を表す。）
  4. 【請求項４】 前記架橋硬化膜が、フッ素原子含有化合
    物および／または酸化防止剤を含有していることを特徴
    とする請求項１〜３のいずれか１に記載の電子写真感光
    体。
  5. 【請求項５】 いずれかの感光層中に、ハロゲン化ガリ
    ウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニ
    ン、オキシチタニウムフタロシアニン、ハロゲン化錫フ
    タロシアニンからなる群より選ばれる少なくとも１種の
    電荷発生材料を含有することを特徴とする、請求項１〜
    ４のいずれか１に記載の電子写真感光体。
  6. 【請求項６】 いずれかの感光層中に、下記一般式（I
    V）で表されるベンジジン系化合物、および／または、
    一般式（Ｖ）で表されるトリフェニルアミン系化合物、
    を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１
    に記載の電子写真感光体。 ・一般式（IV） 【化２】 （式中、Ｒ6およびＲ6'は同一であっても異なっていて
    もよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアル
    キル基、炭素数１〜５のアルコキシ基を表す。Ｒ 7、Ｒ
    7'、Ｒ8およびＲ8'は同一であっても異なっていてもよ
    く、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル
    基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアル
    キル基で置換されたアミノ基を表し、ｍおよびｎは０〜
    ２の整数を表す。） ・一般式（Ｖ） 【化３】 （式中、Ｒ9は、水素原子またはメチル基、ｎは１また
    は２を表す。Ａｒ6およびＡｒ7は同一であっても異なっ
    ていてもよく、置換または未置換のアリール基を表し、
    該置換基としてはハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキ
    ル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のア
    ルキル基で置換されたアミノ基を表す。）
  7. 【請求項７】 少なくとも電子写真感光体および帯電手
    段を有する画像形成装置において、電子写真感光体が請
    求項１〜６のいずれか１に記載の電子写真感光体であ
    り、かつ、帯電手段が接触帯電方式の帯電手段であるこ
    とを特徴とする画像形成装置。
  8. 【請求項８】 帯電手段が、直流電圧に交流電圧を重畳
    した印加電圧を電子写真感光体に付与する手段であるこ
    とを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置。
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JP2010164539A (ja) * 2009-01-19 2010-07-29 Ulvac Japan Ltd 表面修飾基板の解析方法及び製造方法
JP2010164538A (ja) * 2009-01-19 2010-07-29 Ulvac Japan Ltd 表面修飾基板の解析方法、解析用基板及び表面修飾基板の製造方法、並びに表面修飾基板

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