JP2000321025A - 処理装置の移動誤差検出装置及びその方法 - Google Patents
処理装置の移動誤差検出装置及びその方法Info
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- JP2000321025A JP2000321025A JP11132309A JP13230999A JP2000321025A JP 2000321025 A JP2000321025 A JP 2000321025A JP 11132309 A JP11132309 A JP 11132309A JP 13230999 A JP13230999 A JP 13230999A JP 2000321025 A JP2000321025 A JP 2000321025A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 各挙動を含んだ『ずれ量』を求めて比較的簡
易で安価、かつ、適度な精度で移動誤差を検出すること
ができる。 【解決手段】 処理位置ＥＰにて所定の処理を施す処理
装置の移動誤差検出装置において、描画ステージ５と処
理部２１との相対的な移動方向を挟み、描画ステージ５
の両端部付近に移動方向に沿って形成された基準パター
ンＰＲと、２台のアライメントスコープ３３，３５と、
基準パターンＰＲを撮影して各移動位置における各々の
アライメントスコープ３３，３５に対するずれ量を求め
る演算手段と各基準パターンＰＲのずれ量を移動位置に
対応付けて記憶する記憶手段とを備えている。描画ステ
ージ５を移動しつつ各基準パターンＰＲのずれ量を求め
ることで、ピッチング，ヨーイング，ローリングなどの
挙動が含まれたずれ量を検出できる。
易で安価、かつ、適度な精度で移動誤差を検出すること
ができる。 【解決手段】 処理位置ＥＰにて所定の処理を施す処理
装置の移動誤差検出装置において、描画ステージ５と処
理部２１との相対的な移動方向を挟み、描画ステージ５
の両端部付近に移動方向に沿って形成された基準パター
ンＰＲと、２台のアライメントスコープ３３，３５と、
基準パターンＰＲを撮影して各移動位置における各々の
アライメントスコープ３３，３５に対するずれ量を求め
る演算手段と各基準パターンＰＲのずれ量を移動位置に
対応付けて記憶する記憶手段とを備えている。描画ステ
ージ５を移動しつつ各基準パターンＰＲのずれ量を求め
ることで、ピッチング，ヨーイング，ローリングなどの
挙動が含まれたずれ量を検出できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント回路基板
などの処理対象物に対して所定の処理を施す処理装置の
移動誤差検出装置及びその方法に係り、特に載置台と処
理部とを相対移動させる際に生じる移動誤差を検出する
技術に関する。
などの処理対象物に対して所定の処理を施す処理装置の
移動誤差検出装置及びその方法に係り、特に載置台と処
理部とを相対移動させる際に生じる移動誤差を検出する
技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の装置として、例えば、プ
リント回路基板製造装置が挙げられる。この装置は、プ
リント回路基板を載置する描画ステージと、所定の処理
位置で描画ステージに対してレーザービームを偏向照射
する処理部とを備え、レーザービームにより基板に所要
のパターンを直接的に描画するものである。描画ステー
ジは、直動ガイド上に搭載されているとともにモータ軸
に連結された送りネジによって処理部に対して移動され
るようになっている。
リント回路基板製造装置が挙げられる。この装置は、プ
リント回路基板を載置する描画ステージと、所定の処理
位置で描画ステージに対してレーザービームを偏向照射
する処理部とを備え、レーザービームにより基板に所要
のパターンを直接的に描画するものである。描画ステー
ジは、直動ガイド上に搭載されているとともにモータ軸
に連結された送りネジによって処理部に対して移動され
るようになっている。
【０００３】このような装置においては、描画ステージ
の移動に伴って生じる誤差が問題となる。つまり、基板
の所望位置を処理位置に移動させようと、モータを駆動
して描画ステージを移動させても、実際にはその距離よ
りも移動距離が短かったり長かったりして基板の所望位
置を処理位置に一致させることができない事態が起き
る。このような移動誤差の主要因は、送りネジ周りに生
じる『ローリング』や、描画ステージ面上で移動方向に
生じる『ヨーイング』や、描画ステージ面に直交する面
で移動方向に生じる『ピッチング』などの各挙動であ
る。
の移動に伴って生じる誤差が問題となる。つまり、基板
の所望位置を処理位置に移動させようと、モータを駆動
して描画ステージを移動させても、実際にはその距離よ
りも移動距離が短かったり長かったりして基板の所望位
置を処理位置に一致させることができない事態が起き
る。このような移動誤差の主要因は、送りネジ周りに生
じる『ローリング』や、描画ステージ面上で移動方向に
生じる『ヨーイング』や、描画ステージ面に直交する面
で移動方向に生じる『ピッチング』などの各挙動であ
る。
【０００４】これらの挙動は、装置構造の関係上、完全
に無くすことができないので、これらを測定して移動位
置における移動誤差を検出し、この移動誤差に基づきモ
ータの駆動量を補正する副走査の補正や、レーザーの偏
向を補正する主走査の補正を行うのが一般的である。例
えば、オートコリメータやレーザー測長器などの計測器
を用いて、ローリング，ヨーイング，ピッチングをそれ
ぞれ独立して計測したりする（第１の構成）。一方、上
記の装置に比較して高価な描画機やステッパ等では、移
動方向やそれに直交する方向の移動誤差をリアルタイム
にレーザー測長器で計測しながら補正を行うように構成
されている（第２の構成）。
に無くすことができないので、これらを測定して移動位
置における移動誤差を検出し、この移動誤差に基づきモ
ータの駆動量を補正する副走査の補正や、レーザーの偏
向を補正する主走査の補正を行うのが一般的である。例
えば、オートコリメータやレーザー測長器などの計測器
を用いて、ローリング，ヨーイング，ピッチングをそれ
ぞれ独立して計測したりする（第１の構成）。一方、上
記の装置に比較して高価な描画機やステッパ等では、移
動方向やそれに直交する方向の移動誤差をリアルタイム
にレーザー測長器で計測しながら補正を行うように構成
されている（第２の構成）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、第１の構成では、上記のような挙動を
独立して測定することは可能であるが、必要なのは移動
位置に応じた移動誤差であって各挙動ではない。したが
って、各挙動に基づき移動誤差を求める必要があるが、
複数の挙動が絡み合った複合的な移動誤差を求めること
は困難である。
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、第１の構成では、上記のような挙動を
独立して測定することは可能であるが、必要なのは移動
位置に応じた移動誤差であって各挙動ではない。したが
って、各挙動に基づき移動誤差を求める必要があるが、
複数の挙動が絡み合った複合的な移動誤差を求めること
は困難である。
【０００６】一方、第２の構成では、移動誤差を正確に
求めることができるが、システムがかなり複雑になるこ
とや、装置が極めて高価なものとなるといった問題の他
に、、目的以上の精度となってオーバースペックとなる
といった問題もある。
求めることができるが、システムがかなり複雑になるこ
とや、装置が極めて高価なものとなるといった問題の他
に、、目的以上の精度となってオーバースペックとなる
といった問題もある。
【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、載置台上の基準パターンを撮影手段で
撮影することに基づき、各挙動を含んだ『ずれ量』を求
めて比較的簡易で安価、かつ、適度な精度で移動誤差を
検出することができる処理装置の移動誤差検出装置する
ことを目的とする。
たものであって、載置台上の基準パターンを撮影手段で
撮影することに基づき、各挙動を含んだ『ずれ量』を求
めて比較的簡易で安価、かつ、適度な精度で移動誤差を
検出することができる処理装置の移動誤差検出装置する
ことを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の処理装置の移動誤差検出装置は、
処理対象物を載置する載置台と処理部とを相対的に移動
させ、前記処理対象物に対して処理位置にて所定の処理
を施す処理装置の移動誤差検出装置において、前記載置
台と前記処理部との相対的な移動方向を挟み、前記載置
台の面上の両端部付近に移動方向に沿って形成された基
準パターンと、前記基準パターンに対応して配設された
少なくとも２台の撮影手段と、前記載置台と前記処理部
とを相対的に移動させながら前記２台の撮影手段で基準
パターンを撮影し、各移動位置における各々の撮影手段
に対する各基準パターンのずれ量を求める演算手段と、
前記各基準パターンのずれ量を移動位置に対応付けて記
憶する記憶手段と、を備えていることを特徴とするもの
である。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の処理装置の移動誤差検出装置は、
処理対象物を載置する載置台と処理部とを相対的に移動
させ、前記処理対象物に対して処理位置にて所定の処理
を施す処理装置の移動誤差検出装置において、前記載置
台と前記処理部との相対的な移動方向を挟み、前記載置
台の面上の両端部付近に移動方向に沿って形成された基
準パターンと、前記基準パターンに対応して配設された
少なくとも２台の撮影手段と、前記載置台と前記処理部
とを相対的に移動させながら前記２台の撮影手段で基準
パターンを撮影し、各移動位置における各々の撮影手段
に対する各基準パターンのずれ量を求める演算手段と、
前記各基準パターンのずれ量を移動位置に対応付けて記
憶する記憶手段と、を備えていることを特徴とするもの
である。
【０００９】また、請求項２に記載の処理装置の移動誤
差検出装置は、請求項１に記載の処理装置の移動誤差検
出装置において、前記撮影手段が処理位置の近傍に配設
されていることを特徴とするものである。
差検出装置は、請求項１に記載の処理装置の移動誤差検
出装置において、前記撮影手段が処理位置の近傍に配設
されていることを特徴とするものである。
【００１０】また、請求項３に記載の処理装置の移動誤
差検出方法は、処理対象物を載置する載置台と処理部と
を相対的に移動させ、前記処理対象物に対して処理位置
にて所定の処理を施す処理装置の移動誤差検出方法にお
いて、前記載置台と前記処理部との相対的な移動方向を
挟んで前記載置台の面上の両端部付近に移動方向に沿っ
て形成された基準パターンを、前記基準パターンに対応
して配設された少なくとも２台の撮影手段で前記載置台
と前記処理部とを相対的に移動させながら撮影する過程
と、各移動位置における各々の撮影手段に対する各基準
パターンのずれ量を求める過程と、前記各基準パターン
のずれ量を移動位置に対応付けて記憶する過程と、を備
えていることを特徴とするものである。
差検出方法は、処理対象物を載置する載置台と処理部と
を相対的に移動させ、前記処理対象物に対して処理位置
にて所定の処理を施す処理装置の移動誤差検出方法にお
いて、前記載置台と前記処理部との相対的な移動方向を
挟んで前記載置台の面上の両端部付近に移動方向に沿っ
て形成された基準パターンを、前記基準パターンに対応
して配設された少なくとも２台の撮影手段で前記載置台
と前記処理部とを相対的に移動させながら撮影する過程
と、各移動位置における各々の撮影手段に対する各基準
パターンのずれ量を求める過程と、前記各基準パターン
のずれ量を移動位置に対応付けて記憶する過程と、を備
えていることを特徴とするものである。
【００１１】
【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。載置台と処理部とを相対的に移動させて２台の撮影
手段で載置台面上の基準パターンを撮影し、演算手段に
より各移動位置における各々の撮影手段に対する各基準
パターンのずれ量を求める。この『ずれ量』は、ピッチ
ング，ヨーイング，ローリングなどの挙動が平面的に撮
影手段に対して投影されたものとなる。この『ずれ量』
と各移動位置とを対応付けて記憶手段に記憶しておけ
ば、載置台に処理対象物を載置して処理を行う際に移動
位置に応じて移動誤差を検出することができる。
る。載置台と処理部とを相対的に移動させて２台の撮影
手段で載置台面上の基準パターンを撮影し、演算手段に
より各移動位置における各々の撮影手段に対する各基準
パターンのずれ量を求める。この『ずれ量』は、ピッチ
ング，ヨーイング，ローリングなどの挙動が平面的に撮
影手段に対して投影されたものとなる。この『ずれ量』
と各移動位置とを対応付けて記憶手段に記憶しておけ
ば、載置台に処理対象物を載置して処理を行う際に移動
位置に応じて移動誤差を検出することができる。
【００１２】なお、上記の記憶手段は、半導体メモリや
ハードディスク装置等の他に、プロッタやＣＲＴなどの
装置も含むものである。
ハードディスク装置等の他に、プロッタやＣＲＴなどの
装置も含むものである。
【００１３】また、請求項２に記載の発明によれば、実
際に処理対象物に対して処理が行われるのは処理位置で
あるので、撮影手段がその位置に近いほど処理位置にお
ける移動誤差の検出精度を高めることができる。
際に処理対象物に対して処理が行われるのは処理位置で
あるので、撮影手段がその位置に近いほど処理位置にお
ける移動誤差の検出精度を高めることができる。
【００１４】また、請求項３に記載の発明によれば、ま
ず、基準パターンを撮影手段で撮影する過程の後に、撮
影手段に対する各基準パターンのずれ量を求め、次いで
各基準パターンのずれ量を移動位置に関連付けて記憶し
ておくことにより、載置台に処理対象物を載置して処理
を行う際に移動位置に応じて移動誤差を検出することが
できる。
ず、基準パターンを撮影手段で撮影する過程の後に、撮
影手段に対する各基準パターンのずれ量を求め、次いで
各基準パターンのずれ量を移動位置に関連付けて記憶し
ておくことにより、載置台に処理対象物を載置して処理
を行う際に移動位置に応じて移動誤差を検出することが
できる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は、プリント回路基板製造装置
の概要説明に供する斜視図であり、図２は詳細な平面
図、図３は詳細な側面図である。
実施例を説明する。図１は、プリント回路基板製造装置
の概要説明に供する斜視図であり、図２は詳細な平面
図、図３は詳細な側面図である。
【００１６】基台１の上面には、一対のガイドレール３
が配設されており、それらのガイドレール３の間には、
サーボモータ７によって回転される送りネジ９が配備さ
れている。送りネジ９には、描画ステージ５がその下部
で螺合されている。この描画ステージ５は、鉛直のｚ軸
周りに回転させるための回転機構１１と、鉛直のｚ方向
に昇降させるための昇降機構１３とを下から順に備え、
最上部にプリント回路基板（処理対象物）を吸着載置す
るための載置テーブル１５を備えている。
が配設されており、それらのガイドレール３の間には、
サーボモータ７によって回転される送りネジ９が配備さ
れている。送りネジ９には、描画ステージ５がその下部
で螺合されている。この描画ステージ５は、鉛直のｚ軸
周りに回転させるための回転機構１１と、鉛直のｚ方向
に昇降させるための昇降機構１３とを下から順に備え、
最上部にプリント回路基板（処理対象物）を吸着載置す
るための載置テーブル１５を備えている。
【００１７】本発明の載置台に相当する描画ステージ５
の上部には、基準パターンＰＲが形成された基準マスク
ＲＭが載置テーブル１５の基準位置（図示省略してある
が載置テーブル１５の左上隅）にその左上隅を一致させ
るようにして配設されている。基準パターンＰＲは、後
述する処理が容易なように十字形状であり、送りネジ９
を挟んで基準マスクＲＭの両端部付近に形成されてい
る。
の上部には、基準パターンＰＲが形成された基準マスク
ＲＭが載置テーブル１５の基準位置（図示省略してある
が載置テーブル１５の左上隅）にその左上隅を一致させ
るようにして配設されている。基準パターンＰＲは、後
述する処理が容易なように十字形状であり、送りネジ９
を挟んで基準マスクＲＭの両端部付近に形成されてい
る。
【００１８】また、描画ステージ５がサーボモータ７の
駆動により移動されるｙ方向（副走査方向）には、処理
位置ＥＰにて描画用のレーザービームＬＢをｘ方向（主
走査方向）に偏向しながら下方に向けて照射する処理部
２１が配設されている。処理部２１は門型フレームによ
って基台１の上部に配設されており、サーボモータ７が
駆動されると描画ステージ５が処理部２１の下部に進出
するようになっている。
駆動により移動されるｙ方向（副走査方向）には、処理
位置ＥＰにて描画用のレーザービームＬＢをｘ方向（主
走査方向）に偏向しながら下方に向けて照射する処理部
２１が配設されている。処理部２１は門型フレームによ
って基台１の上部に配設されており、サーボモータ７が
駆動されると描画ステージ５が処理部２１の下部に進出
するようになっている。
【００１９】基台１には、図１に示す待機位置にある描
画ステージ５の上方を覆うようにアライメントスコープ
ユニット３１が配設されている。このアライメントスコ
ープユニット３１は、水平面内でそれぞれ独立に移動可
能な４台のアライメントスコープ３３，３５，３７，３
９を備えている。各アライメントスコープ３３，３５，
３７，３９は、ＣＣＤカメラ３３ａ，３５ａ，３７ａ，
３９ａとレンズ部３３ｂ，３５ｂ，３７ｂ，３９ｂとを
備えている。これらのアライメントスコープ３３，３
５，３７，３９は、本来、描画ステージ５に載置された
プリント回路基板の四隅の位置合わせ穴の位置を計測し
て、描画ステージ５に載置された基板の位置ずれ量を求
めてそのずれを補正するために利用されるものである
が、後述するように本発明においては処理位置ＥＰ側に
配備されている２台のアライメントスコープ３３，３５
を描画ステージ５の移動誤差の検出にも利用するように
なっている。
画ステージ５の上方を覆うようにアライメントスコープ
ユニット３１が配設されている。このアライメントスコ
ープユニット３１は、水平面内でそれぞれ独立に移動可
能な４台のアライメントスコープ３３，３５，３７，３
９を備えている。各アライメントスコープ３３，３５，
３７，３９は、ＣＣＤカメラ３３ａ，３５ａ，３７ａ，
３９ａとレンズ部３３ｂ，３５ｂ，３７ｂ，３９ｂとを
備えている。これらのアライメントスコープ３３，３
５，３７，３９は、本来、描画ステージ５に載置された
プリント回路基板の四隅の位置合わせ穴の位置を計測し
て、描画ステージ５に載置された基板の位置ずれ量を求
めてそのずれを補正するために利用されるものである
が、後述するように本発明においては処理位置ＥＰ側に
配備されている２台のアライメントスコープ３３，３５
を描画ステージ５の移動誤差の検出にも利用するように
なっている。
【００２０】なお、上述した２台のアライメントスコー
プ３３，３５は、本発明における撮影手段に相当する。
プ３３，３５は、本発明における撮影手段に相当する。
【００２１】図４のブロック図を参照する。各アライメ
ントスコープ３３，３５，３７，３９のＣＣＤカメラ３
３ａ，３５ａ，３７ａ，３９ａは全て画像処理部４１に
接続されており、ここにおいて各映像信号が処理されて
重心位置の算出や『ずれ量』の演算が行われる。また、
画像処理部４１には、処理の開始などを指示するキーボ
ード４３や、各アライメントスコープ３３，３５，３
７，３９が捉えている映像を映し出したり、処理内容な
どを表示したりするＣＲＴ４５が接続されている。
ントスコープ３３，３５，３７，３９のＣＣＤカメラ３
３ａ，３５ａ，３７ａ，３９ａは全て画像処理部４１に
接続されており、ここにおいて各映像信号が処理されて
重心位置の算出や『ずれ量』の演算が行われる。また、
画像処理部４１には、処理の開始などを指示するキーボ
ード４３や、各アライメントスコープ３３，３５，３
７，３９が捉えている映像を映し出したり、処理内容な
どを表示したりするＣＲＴ４５が接続されている。
【００２２】この装置全体を統括的に制御するのはシス
テム制御部４７である。ここには、主走査制御回路４９
と、副走査制御回路５１と、誤差テーブル記憶部５３な
どが接続されている。システム制御部４７は、描画時に
は、ラスタ変換回路５５から主走査制御回路４９へ順次
に送られたラスターデータに基づきレーザビームＬＢの
ｘ方向の位置を制御するビーム位置制御回路５７を制御
する。ビーム位置制御回路５７は、システム制御部４７
からの指示とラスターデータに基づいて電子シャッタ５
９を制御する。Ｘ軸センサ６１は、ｘ方向に配設された
図示しないＸリニアスケールからの光信号を検出して、
レーザビームＬＢの主走査方向の偏向距離を測定するた
めのものである。ここからの信号は、信号処理回路６３
で適宜に処理されてからシステム制御部４７に取り込ま
れ、この信号に基づいて副走査制御回路５１の駆動回路
６５へのクロックパルスが生成される。
テム制御部４７である。ここには、主走査制御回路４９
と、副走査制御回路５１と、誤差テーブル記憶部５３な
どが接続されている。システム制御部４７は、描画時に
は、ラスタ変換回路５５から主走査制御回路４９へ順次
に送られたラスターデータに基づきレーザビームＬＢの
ｘ方向の位置を制御するビーム位置制御回路５７を制御
する。ビーム位置制御回路５７は、システム制御部４７
からの指示とラスターデータに基づいて電子シャッタ５
９を制御する。Ｘ軸センサ６１は、ｘ方向に配設された
図示しないＸリニアスケールからの光信号を検出して、
レーザビームＬＢの主走査方向の偏向距離を測定するた
めのものである。ここからの信号は、信号処理回路６３
で適宜に処理されてからシステム制御部４７に取り込ま
れ、この信号に基づいて副走査制御回路５１の駆動回路
６５へのクロックパルスが生成される。
【００２３】副走査制御回路５１のサーボモータ７は、
レーザビームＬＢの主走査に応じて生成されたクロック
パルスに基づいて駆動回路６５によって駆動される。こ
れにより描画ステージ５がｙ方向（副走査方向）に移動
される。その移動位置は、図示しないＹリニアスケール
からの光信号を検出するＹ軸センサ６７によって検出さ
れ、信号処理回路６９により移動位置に応じた信号に変
換されてシステム制御部４７に与えられる。システム制
御部４７は、その信号に応じてサーボモータ７の駆動に
フィードバックをかける。
レーザビームＬＢの主走査に応じて生成されたクロック
パルスに基づいて駆動回路６５によって駆動される。こ
れにより描画ステージ５がｙ方向（副走査方向）に移動
される。その移動位置は、図示しないＹリニアスケール
からの光信号を検出するＹ軸センサ６７によって検出さ
れ、信号処理回路６９により移動位置に応じた信号に変
換されてシステム制御部４７に与えられる。システム制
御部４７は、その信号に応じてサーボモータ７の駆動に
フィードバックをかける。
【００２４】上記の誤差テーブル記憶部５３は、システ
ム制御部４７が基準マスクＲＭを配備した描画ステージ
５を移動した際に、処理部２１側に配備されている２台
のアライメントスコープ３３，３５からの映像信号を画
像処理部４１が処理することにより得られる基準パター
ンＰＲの『ずれ量』を各移動位置ごとに対応付けて『誤
差テーブル』として格納するものである。
ム制御部４７が基準マスクＲＭを配備した描画ステージ
５を移動した際に、処理部２１側に配備されている２台
のアライメントスコープ３３，３５からの映像信号を画
像処理部４１が処理することにより得られる基準パター
ンＰＲの『ずれ量』を各移動位置ごとに対応付けて『誤
差テーブル』として格納するものである。
【００２５】なお、上述した画像処理部４１が本発明の
演算手段に相当し、誤差テーブル記憶部５３が本発明に
おける記憶手段に相当する。
演算手段に相当し、誤差テーブル記憶部５３が本発明に
おける記憶手段に相当する。
【００２６】本実施例における基準マスクＲＭは、図５
に示すように構成されている。すなわち、ｙ方向に沿っ
て長線が描かれているとともに、所定の間隔でｘ方向に
沿った短線がｎ本描かれてなる。上述したように基準マ
スクＲＭは、載置テーブル１５の基準位置に合わせて取
り付けられているので、例えば、各基準パターンＰＲの
座標は、左側が（ｘ1 ，ｙ1 ），……（ｘ1 ，ｙ2 ），
……（ｘ1 ，ｙ n ）となり、右側が（ｘm ，ｙ1 ），…
…（ｘm ，ｙ2 ），……（ｘm ，ｙn ）となる。
に示すように構成されている。すなわち、ｙ方向に沿っ
て長線が描かれているとともに、所定の間隔でｘ方向に
沿った短線がｎ本描かれてなる。上述したように基準マ
スクＲＭは、載置テーブル１５の基準位置に合わせて取
り付けられているので、例えば、各基準パターンＰＲの
座標は、左側が（ｘ1 ，ｙ1 ），……（ｘ1 ，ｙ2 ），
……（ｘ1 ，ｙ n ）となり、右側が（ｘm ，ｙ1 ），…
…（ｘm ，ｙ2 ），……（ｘm ，ｙn ）となる。
【００２７】また、上述した『ずれ量』とは、図６に示
すように、各ＣＣＤカメラ３３ａ，３５ａで捉えた視野
像Ｖの視野中心Ｃと、基準パターンＰＲの長線と短線の
交点とのずれをｘ方向（Δｘ）とｙ方向（Δｙ）につい
て求めたものである。したがって、『ずれ量』がｘｙ方
向ともに『０』である場合には、図６における基準パタ
ーンＰＲの交点と視野中心Ｃとが一致することになる。
上述した誤差テーブル記憶部５３の誤差テーブルとは、
上記のΔｘ，Δｙを、各移動位置、つまり設計的に基準
パターンＰＲの交点が視野中心Ｃに一致するように駆動
されたサーボモータ７の駆動量に対応付けた移動誤差で
ある。
すように、各ＣＣＤカメラ３３ａ，３５ａで捉えた視野
像Ｖの視野中心Ｃと、基準パターンＰＲの長線と短線の
交点とのずれをｘ方向（Δｘ）とｙ方向（Δｙ）につい
て求めたものである。したがって、『ずれ量』がｘｙ方
向ともに『０』である場合には、図６における基準パタ
ーンＰＲの交点と視野中心Ｃとが一致することになる。
上述した誤差テーブル記憶部５３の誤差テーブルとは、
上記のΔｘ，Δｙを、各移動位置、つまり設計的に基準
パターンＰＲの交点が視野中心Ｃに一致するように駆動
されたサーボモータ７の駆動量に対応付けた移動誤差で
ある。
【００２８】なお、図２および図３に示すように２台の
アライメントスコープ３３，３５は処理位置ＥＰからｙ
方向に間隔Ｌだけ離れている。この装置における処理
は、処理位置ＥＰにて施されるので、処理位置ＥＰと間
隔Ｌが近いほど処理位置ＥＰにおける移動誤差の検出精
度を高めるができる。したがって、間隔Ｌを処理位置Ｅ
Ｐに近づけて配設するほど、処理位置ＥＰにおける補正
をより正確に行うことができる。
アライメントスコープ３３，３５は処理位置ＥＰからｙ
方向に間隔Ｌだけ離れている。この装置における処理
は、処理位置ＥＰにて施されるので、処理位置ＥＰと間
隔Ｌが近いほど処理位置ＥＰにおける移動誤差の検出精
度を高めるができる。したがって、間隔Ｌを処理位置Ｅ
Ｐに近づけて配設するほど、処理位置ＥＰにおける補正
をより正確に行うことができる。
【００２９】次に、図７のフローチャートを参照して移
動誤差の検出処理について説明する。
動誤差の検出処理について説明する。
【００３０】まずは、描画ステージ５を待機位置におい
た状態にて、２台のアライメントスコープ３３，３５の
各々の視野中心Ｃのｘ方向が、基準パターンＰＲの長線
と一致するように各アライメントスコープ３３，３５の
位置を予め調整しておく。
た状態にて、２台のアライメントスコープ３３，３５の
各々の視野中心Ｃのｘ方向が、基準パターンＰＲの長線
と一致するように各アライメントスコープ３３，３５の
位置を予め調整しておく。
【００３１】ステップＳ１ 所定距離だけ描画ステージ５が移動するようにサーボモ
ータ７を駆動する。この駆動によって基準パターンＰＲ
の最初の交点が視野内に位置する。
ータ７を駆動する。この駆動によって基準パターンＰＲ
の最初の交点が視野内に位置する。
【００３２】ステップＳ２ 撮影した基準パターンＰＲに対して画像処理を行って、
図６に示したような『ずれ量』（Δｘ，Δｙ）を基準パ
ターンＰＲのそれぞれについて演算によって求める。
図６に示したような『ずれ量』（Δｘ，Δｙ）を基準パ
ターンＰＲのそれぞれについて演算によって求める。
【００３３】ステップＳ３ 基準パターンＰＲの各短線の間隔だけ描画ステージ５を
移動する。通常は、この移動によって各アライメントス
コープ３３，３５の視野内に基準パターンＰＲの次の交
点が位置する。
移動する。通常は、この移動によって各アライメントス
コープ３３，３５の視野内に基準パターンＰＲの次の交
点が位置する。
【００３４】ステップＳ４ 視野内の画像を処理して基準パターンＰＲが存在するか
否かを判断し、存在するならばステップＳ２に戻って上
記の処理を繰り返し、存在しなければステップＳ５に移
行する。
否かを判断し、存在するならばステップＳ２に戻って上
記の処理を繰り返し、存在しなければステップＳ５に移
行する。
【００３５】ステップＳ５ 上記のようにして求めた各『ずれ量』を各移動位置と対
応付けて誤差テーブルを生成し、これを誤差テーブル記
憶部５３に記憶する。
応付けて誤差テーブルを生成し、これを誤差テーブル記
憶部５３に記憶する。
【００３６】このようにして生成された誤差テーブル
は、アライメントスコープ３３，３５の中心位置に両基
準パターンＰＲの交点が一致するように描画ステージ５
を移動した場合における、各中心位置に対する交点の
『ずれ量』である。この『ずれ量』は、描画ステージ５
を移動した際に生じる挙動、つまりローリング，ヨーイ
ング，ピッチングなどが平面的にアライメントスコープ
３３，３５に対して投影されたものである。
は、アライメントスコープ３３，３５の中心位置に両基
準パターンＰＲの交点が一致するように描画ステージ５
を移動した場合における、各中心位置に対する交点の
『ずれ量』である。この『ずれ量』は、描画ステージ５
を移動した際に生じる挙動、つまりローリング，ヨーイ
ング，ピッチングなどが平面的にアライメントスコープ
３３，３５に対して投影されたものである。
【００３７】したがって、製品を処理するためにプリン
ト回路基板を描画ステージ５にセットして描画処理を行
う際には、ずれ量を含む誤差テーブルを読み出すことに
よって描画ステージ５の移動位置に応じた移動誤差を検
出することができる。したがって、サーボモータ７の駆
動量や、図示しないθ軸駆動機構、あるいはビーム位置
制御回路５７などを『ずれ量』に応じて制御することに
より処理位置ＥＰにおける描画ステージ５の移動誤差を
補正することができる。
ト回路基板を描画ステージ５にセットして描画処理を行
う際には、ずれ量を含む誤差テーブルを読み出すことに
よって描画ステージ５の移動位置に応じた移動誤差を検
出することができる。したがって、サーボモータ７の駆
動量や、図示しないθ軸駆動機構、あるいはビーム位置
制御回路５７などを『ずれ量』に応じて制御することに
より処理位置ＥＰにおける描画ステージ５の移動誤差を
補正することができる。
【００３８】しかも、製品の処理の先立って誤差テーブ
ルを生成するだけでよいので、レーザー測長器で計測し
ながらリアルタイムに補正を行うような従来例に比較し
て安価に構成でき、かつ適度な精度で移動誤差を検出す
ることができる。また、定期的に上記の誤差テーブルの
収集を実施すれば、長期間にわたって移動誤差を正確に
検出することができ、処理を正確に施すことができる。
ルを生成するだけでよいので、レーザー測長器で計測し
ながらリアルタイムに補正を行うような従来例に比較し
て安価に構成でき、かつ適度な精度で移動誤差を検出す
ることができる。また、定期的に上記の誤差テーブルの
収集を実施すれば、長期間にわたって移動誤差を正確に
検出することができ、処理を正確に施すことができる。
【００３９】なお、本発明は以下のように変形実施する
ことも可能である。
ことも可能である。
【００４０】（１）基準マスクＲＭに形成した基準パタ
ーンは、上述したような長線と短線の十字形状だけに限
定されるものではなく、パターンの重心位置が求められ
ればどのような形状であってもよい。
ーンは、上述したような長線と短線の十字形状だけに限
定されるものではなく、パターンの重心位置が求められ
ればどのような形状であってもよい。
【００４１】例えば、図８（ａ）のように円形状を所定
の間隔で形成してもよいし、図８（ｂ）のように長線と
短線とをずらして形成してもよい。これらのように形成
しても円の重心や短線の重心を画像処理で求めることが
できるので『ずれ量』を容易に求めることができる。
の間隔で形成してもよいし、図８（ｂ）のように長線と
短線とをずらして形成してもよい。これらのように形成
しても円の重心や短線の重心を画像処理で求めることが
できるので『ずれ量』を容易に求めることができる。
【００４２】また、基準パターンＰＲを両端部だけに形
成するのではなく、基準マスクＲＭの全面に形成してお
いて必要な部分だけを使用するようにしてもよい。
成するのではなく、基準マスクＲＭの全面に形成してお
いて必要な部分だけを使用するようにしてもよい。
【００４３】（２）基準パターンＰＲを基準マスクＲＭ
に形成することなく、直接的に載置テーブル１５の上面
に形成しておいてもよい。
に形成することなく、直接的に載置テーブル１５の上面
に形成しておいてもよい。
【００４４】（３）本発明の記憶手段としては、誤差テ
ーブル記憶部５３のようなメモリに限定されるものでは
なく、各移動位置とずれ量とをプロットして表示した
り、輝線により表示することで記憶するプロッタやＣＲ
Ｔであってもよい。
ーブル記憶部５３のようなメモリに限定されるものでは
なく、各移動位置とずれ量とをプロットして表示した
り、輝線により表示することで記憶するプロッタやＣＲ
Ｔであってもよい。
【００４５】（４）撮影手段は、移動方向を挟んで少な
くとも２台（アライメントスコープ３３，３５）あれば
ローリングなどの挙動を含むずれ量を得ることができる
ので、撮影手段として３台以上を使用するようにしても
よい。
くとも２台（アライメントスコープ３３，３５）あれば
ローリングなどの挙動を含むずれ量を得ることができる
ので、撮影手段として３台以上を使用するようにしても
よい。
【００４６】（５）上述した実施例では、処理部２１が
固定で描画ステージ５が移動する構成であったが、逆に
処理部２１が移動する構成であっても本発明を適用でき
る。
固定で描画ステージ５が移動する構成であったが、逆に
処理部２１が移動する構成であっても本発明を適用でき
る。
【００４７】（６）上述した実施例ではプリント回路基
板製造装置を例に採って説明したが、本発明はこのよう
な装置に限定されるものではなく、例えば、ＰＤＰ基板
製造装置や精密計測装置などであっても適用可能であ
る。
板製造装置を例に採って説明したが、本発明はこのよう
な装置に限定されるものではなく、例えば、ＰＤＰ基板
製造装置や精密計測装置などであっても適用可能であ
る。
【００４８】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の装置発明によれば、ローリング，ヨーイン
グ，ピッチングなどの挙動が平面的に撮影手段に対して
投影された『ずれ量』と各移動位置とを対応付けて記憶
手段に記憶しておくので、レーザー測長器で計測しなが
らリアルタイムに補正を行うような従来例に比較して安
価に構成でき、かつ適度な精度で移動誤差を検出するこ
とができる。したがって、載置台に処理対象物を載置し
て処理を行う際には、移動位置に応じて誤差を補正する
ことができ、処理対象物に対して正確に処理を施すこと
ができる。
１に記載の装置発明によれば、ローリング，ヨーイン
グ，ピッチングなどの挙動が平面的に撮影手段に対して
投影された『ずれ量』と各移動位置とを対応付けて記憶
手段に記憶しておくので、レーザー測長器で計測しなが
らリアルタイムに補正を行うような従来例に比較して安
価に構成でき、かつ適度な精度で移動誤差を検出するこ
とができる。したがって、載置台に処理対象物を載置し
て処理を行う際には、移動位置に応じて誤差を補正する
ことができ、処理対象物に対して正確に処理を施すこと
ができる。
【００４９】また、請求項２に記載の装置発明によれ
ば、撮影手段を処理位置の近傍に配設することにより、
処理位置における移動誤差の検出精度を高めるができ
る。したがって、処理位置における補正をより正確に行
うことができる。
ば、撮影手段を処理位置の近傍に配設することにより、
処理位置における移動誤差の検出精度を高めるができ
る。したがって、処理位置における補正をより正確に行
うことができる。
【００５０】また、請求項３に記載の方法発明によれ
ば、まず、基準パターンを撮影手段で撮影し、各基準パ
ターンのずれ量を求め、各基準パターンのずれ量を移動
位置に関連付けて記憶しておくことにより、移動誤差を
適度な精度で検出することができる。したがって、載置
台に処理対象物を載置して処理を行う際には移動位置に
応じて補正することができ、処理対象物に対して正確に
処理を施すことができる。
ば、まず、基準パターンを撮影手段で撮影し、各基準パ
ターンのずれ量を求め、各基準パターンのずれ量を移動
位置に関連付けて記憶しておくことにより、移動誤差を
適度な精度で検出することができる。したがって、載置
台に処理対象物を載置して処理を行う際には移動位置に
応じて補正することができ、処理対象物に対して正確に
処理を施すことができる。
【図１】本発明に係るプリント回路基板製造装置の概要
説明に供する斜視図である。
説明に供する斜視図である。
【図２】プリント回路基板製造装置の詳細な平面図であ
る。
る。
【図３】プリント回路基板製造装置の詳細な側面図であ
る。
る。
【図４】プリント回路基板製造装置のブロック図であ
る。
る。
【図５】基準マスクに形成された基準パターンの説明図
である。
である。
【図６】ＣＣＤカメラの視野像を示した模式図である。
【図７】移動誤差の検出処理を示したフローチャートで
ある。
ある。
【図８】基準マスクに形成された基準パターンの変形例
を示した図である。
を示した図である。
１ … 基台 ３ … ガイドレール ５ … 描画ステージ（載置台） ７ … サーボモータ ９ … 送りネジ ＰＲ … 基準パターン ＲＭ … 基準マスク ＥＰ … 処理位置 ＬＢ … レーザビーム ２１ … 処理部 ３３，３５，３７，３９ … アライメントスコープ
（撮影手段） ４１ … 画像処理部（演算手段） ５３ … 誤差テーブル記憶部（記憶手段）
（撮影手段） ４１ … 画像処理部（演算手段） ５３ … 誤差テーブル記憶部（記憶手段）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 城田 浩行 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 2F065 AA17 AA20 BB28 CC00 FF01 FF04 FF67 JJ03 JJ05 JJ26 MM03 PP12 QQ23 QQ31 SS02 SS13 2H097 AA03 AB05 CA17 KA13 KA20 LA09 5F046 AA06 BA07 CA03 CC01 DB04 DC12 EA02 EB03 EC02 ED02 FA10 FB02 FC04
Claims (3)
- 【請求項１】 処理対象物を載置する載置台と処理部と
を相対的に移動させ、前記処理対象物に対して処理位置
にて所定の処理を施す処理装置の移動誤差検出装置にお
いて、 前記載置台と前記処理部との相対的な移動方向を挟み、
前記載置台の面上の両端部付近に移動方向に沿って形成
された基準パターンと、 前記基準パターンに対応して配設された少なくとも２台
の撮影手段と、 前記載置台と前記処理部とを相対的に移動させながら前
記２台の撮影手段で基準パターンを撮影し、各移動位置
における各々の撮影手段に対する各基準パターンのずれ
量を求める演算手段と、 前記各基準パターンのずれ量を移動位置に対応付けて記
憶する記憶手段と、 を備えていることを特徴とする処理装置の移動誤差検出
装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の処理装置の移動誤差検
出装置において、 前記撮影手段が処理位置の近傍に配設されていることを
特徴とする処理装置の移動誤差検出装置。 - 【請求項３】 処理対象物を載置する載置台と処理部と
を相対的に移動させ、前記処理対象物に対して処理位置
にて所定の処理を施す処理装置の移動誤差検出方法にお
いて、 前記載置台と前記処理部との相対的な移動方向を挟んで
前記載置台の面上の両端部付近に移動方向に沿って形成
された基準パターンを、前記基準パターンに対応して配
設された少なくとも２台の撮影手段で前記載置台と前記
処理部とを相対的に移動させながら撮影する過程と、 各移動位置における各々の撮影手段に対する各基準パタ
ーンのずれ量を求める過程と、 前記各基準パターンのずれ量を移動位置に対応付けて記
憶する過程と、 を備えていることを特徴とする処理装置の移動誤差検出
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13230999A JP3644846B2 (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | 描画装置の移動誤差検出装置及びその方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13230999A JP3644846B2 (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | 描画装置の移動誤差検出装置及びその方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000321025A true JP2000321025A (ja) | 2000-11-24 |
| JP3644846B2 JP3644846B2 (ja) | 2005-05-11 |
Family
ID=15078308
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP13230999A Expired - Fee Related JP3644846B2 (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | 描画装置の移動誤差検出装置及びその方法 |
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|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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| JP2005321676A (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Pentax Corp | 描画装置 |
| JP2006243004A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | シート体位置検出方法及び装置並びにそれを用いた描画装置 |
| JP2006268032A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-10-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画装置および描画装置の校正方法 |
| JP2006309200A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-11-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 |
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| KR20140017094A (ko) * | 2012-07-30 | 2014-02-11 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판처리장치의 선형구동장치 및 그를 가지는 기판처리장치 |
| JP2016035430A (ja) * | 2014-08-04 | 2016-03-17 | ローランドディー．ジー．株式会社 | ステージ機構 |
-
1999
- 1999-05-13 JP JP13230999A patent/JP3644846B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| KR20140017094A (ko) * | 2012-07-30 | 2014-02-11 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판처리장치의 선형구동장치 및 그를 가지는 기판처리장치 |
| KR101868460B1 (ko) | 2012-07-30 | 2018-07-23 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판처리장치의 선형구동장치 및 그를 가지는 기판처리장치 |
| JP2016035430A (ja) * | 2014-08-04 | 2016-03-17 | ローランドディー．ジー．株式会社 | ステージ機構 |
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