JP2000321401A - 光学物品の製造方法 - Google Patents
光学物品の製造方法Info
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- JP2000321401A JP2000321401A JP11131024A JP13102499A JP2000321401A JP 2000321401 A JP2000321401 A JP 2000321401A JP 11131024 A JP11131024 A JP 11131024A JP 13102499 A JP13102499 A JP 13102499A JP 2000321401 A JP2000321401 A JP 2000321401A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】粘度が高い、あるいは溶媒への溶解性の悪い有
機化合物にも適用でき、抵抗加熱法や電子ビーム加熱法
など加熱法にかかわらず使用でき、且つ安価で、スプラ
ッシュを起こさない有機化合物の真空蒸発法などを用い
た光学物品の製造方法を提供する。 【解決手段】光学物品表面に有機化合物を被覆する光学
物品の製造方法において、蒸発源である有機化合物の表
面を、直接又は空隙を介して間接的に繊維状物で被覆
し、真空下で加熱することを特徴とする光学物品の製造
方法。
機化合物にも適用でき、抵抗加熱法や電子ビーム加熱法
など加熱法にかかわらず使用でき、且つ安価で、スプラ
ッシュを起こさない有機化合物の真空蒸発法などを用い
た光学物品の製造方法を提供する。 【解決手段】光学物品表面に有機化合物を被覆する光学
物品の製造方法において、蒸発源である有機化合物の表
面を、直接又は空隙を介して間接的に繊維状物で被覆
し、真空下で加熱することを特徴とする光学物品の製造
方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＲＴ、ＬＣＤ、
ＰＤＰ、ＥＬなど各種ディスプレイまたは各種表示装置
の表示面や光学フィルター類、眼鏡レンズ、光学レン
ズ、照明用具、展示用のケースやショーウインドウ、絵
画の額、窓ガラスなどの光学物品、またはそれらを構成
するフィルムなどの光学物品に、有機化合物、特に防汚
剤や反射防止加工用の低屈折率膜を真空蒸着法などで付
与する光学物品の製造方法に関わる。
ＰＤＰ、ＥＬなど各種ディスプレイまたは各種表示装置
の表示面や光学フィルター類、眼鏡レンズ、光学レン
ズ、照明用具、展示用のケースやショーウインドウ、絵
画の額、窓ガラスなどの光学物品、またはそれらを構成
するフィルムなどの光学物品に、有機化合物、特に防汚
剤や反射防止加工用の低屈折率膜を真空蒸着法などで付
与する光学物品の製造方法に関わる。
【０００２】
【従来の技術】防汚剤や低屈折率膜を光学物品に付与す
る方法として、溶液を用い、枚葉方式で行うディッピン
グ法、スピンコート法など、また連続方式で行うフィル
ムへのグラビアコート法、スリットダイコート法、リバ
ースコート法などのいわゆるウエットコート法が知られ
ている。
る方法として、溶液を用い、枚葉方式で行うディッピン
グ法、スピンコート法など、また連続方式で行うフィル
ムへのグラビアコート法、スリットダイコート法、リバ
ースコート法などのいわゆるウエットコート法が知られ
ている。
【０００３】一方、真空蒸着法やスパッター法では、光
学物品に無機系の反射防止膜を付与した後に、同一装置
内で連続的に防汚剤を付与できるなどのため、いわゆる
ドライコート法の要求がある。
学物品に無機系の反射防止膜を付与した後に、同一装置
内で連続的に防汚剤を付与できるなどのため、いわゆる
ドライコート法の要求がある。
【０００４】真空蒸着法で用いられている無機化合物と
比べ、一般に有機化合物は融点や沸点、昇華点が低い。
また、有機化合物は不純物を多く含んでいたり、分子量
分布を持つものがあり、沸点の分布を持ちやすい。さら
に、有機化合物は無機化合物に比べ、熱伝導性が低く、
真空蒸発の際の加熱が局所的になりやすいという欠点が
ある。
比べ、一般に有機化合物は融点や沸点、昇華点が低い。
また、有機化合物は不純物を多く含んでいたり、分子量
分布を持つものがあり、沸点の分布を持ちやすい。さら
に、有機化合物は無機化合物に比べ、熱伝導性が低く、
真空蒸発の際の加熱が局所的になりやすいという欠点が
ある。
【０００５】そのため、有機化合物を真空蒸発する場合
は、加熱コントロールが無機化合物と比べて難しく、局
所的な加熱による突沸現象（スプラッシュ）を起こしや
すい。光学物品の場合、スプラッシュによる蒸着面への
飛沫飛散は、たとえそれが微細なものであっても肉眼視
できるものは欠点であり、収率低下の大きな原因にな
る。
は、加熱コントロールが無機化合物と比べて難しく、局
所的な加熱による突沸現象（スプラッシュ）を起こしや
すい。光学物品の場合、スプラッシュによる蒸着面への
飛沫飛散は、たとえそれが微細なものであっても肉眼視
できるものは欠点であり、収率低下の大きな原因にな
る。
【０００６】スプラッシュ対策として、特開平４−７２
０５５号公報や特開平５−２１５９０５号公報で、有機
化合物を多孔性セラミックや金属燒結体に含浸する方法
が提案されている。また、特開平６−３４０９６６号公
報では有機化合物を繊維状の導電性物質の塊に付着する
方法が提案されている。
０５５号公報や特開平５−２１５９０５号公報で、有機
化合物を多孔性セラミックや金属燒結体に含浸する方法
が提案されている。また、特開平６−３４０９６６号公
報では有機化合物を繊維状の導電性物質の塊に付着する
方法が提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】多孔性セラミックや金
属燒結体に含浸する方法は、含浸量がばらつきやすいこ
と、及び有機化合物による多孔内の汚れを完全に除去す
ることが難しく、従って高価な多孔性セラミックや金属
燒結体を使い捨てにする経済的不利がある。
属燒結体に含浸する方法は、含浸量がばらつきやすいこ
と、及び有機化合物による多孔内の汚れを完全に除去す
ることが難しく、従って高価な多孔性セラミックや金属
燒結体を使い捨てにする経済的不利がある。
【０００８】また、有機化合物を繊維状の導電性物質の
塊に付着する方法は、有機化合物の粘度が高かったり、
溶媒に溶解しない場合は、繊維状の導電性物質の塊に満
遍なく付着することができない欠点を持つ。
塊に付着する方法は、有機化合物の粘度が高かったり、
溶媒に溶解しない場合は、繊維状の導電性物質の塊に満
遍なく付着することができない欠点を持つ。
【０００９】本発明は、粘度が高い、あるいは溶媒への
溶解性の悪い有機化合物にも適用でき、抵抗加熱法や電
子ビーム加熱法など加熱法にかかわらず使用でき、且つ
安価で、スプラッシュを起こさない有機化合物を真空蒸
発などにより付与させることを特徴とした光学物品の製
造方法を提供することを目的とする。
溶解性の悪い有機化合物にも適用でき、抵抗加熱法や電
子ビーム加熱法など加熱法にかかわらず使用でき、且つ
安価で、スプラッシュを起こさない有機化合物を真空蒸
発などにより付与させることを特徴とした光学物品の製
造方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は下記構成を有する。
に、本発明は下記構成を有する。
【００１１】「光学物品表面に有機化合物を被覆する光
学物品の製造方法において、蒸発源である有機化合物の
表面を、直接又は空隙を介して間接的に繊維状物で被覆
し、真空下で加熱することを特徴とする光学物品の製造
方法」。
学物品の製造方法において、蒸発源である有機化合物の
表面を、直接又は空隙を介して間接的に繊維状物で被覆
し、真空下で加熱することを特徴とする光学物品の製造
方法」。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下に、真空蒸着法の場合を例に
とり、本発明を説明する。
とり、本発明を説明する。
【００１３】本発明が対象とする光学物品の基板は、Ｃ
ＲＴ、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬなど各種ディスプレイ類の
画像面、各種計器類の表示面そのもの、それらへ貼付す
るなどにより直接装着する、あるいは組み込んだり、外
部装着する偏光板や光学フィルター類、眼鏡レンズ、光
学レンズ、照明用具、展示用のケースやショーウインド
ウ、絵画の額、窓ガラスなどの光学物品、またはそれを
構成するフィルムなどが含まれる。
ＲＴ、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬなど各種ディスプレイ類の
画像面、各種計器類の表示面そのもの、それらへ貼付す
るなどにより直接装着する、あるいは組み込んだり、外
部装着する偏光板や光学フィルター類、眼鏡レンズ、光
学レンズ、照明用具、展示用のケースやショーウインド
ウ、絵画の額、窓ガラスなどの光学物品、またはそれを
構成するフィルムなどが含まれる。
【００１４】これらの光学物品には、アクリル樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン
系樹脂、ポリ４−メチルペンテン−１樹脂、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート樹脂、ポリエステル
樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂などの樹脂類やガラス
などで作られるものが含まれる。
リカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン
系樹脂、ポリ４−メチルペンテン−１樹脂、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート樹脂、ポリエステル
樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂などの樹脂類やガラス
などで作られるものが含まれる。
【００１５】また、光学物品の形状としては、平面形状
かフィルム状である場合が、真空蒸着の操作性、均質性
から好ましい。
かフィルム状である場合が、真空蒸着の操作性、均質性
から好ましい。
【００１６】中でも、光学物品の表面が、反射防止膜や
赤外線の遮蔽膜や電磁波の遮蔽膜のような無機質膜によ
って被覆され、その最外層が金、銀、アルミニウムなど
の金属膜、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化スズ、酸化インジュウム、炭化珪素、窒化ケイ
素のような無機質膜である場合、特に本発明は好ましく
適用される。その理由は後述するように、表面が無機質
膜である方が蒸着される有機化合物と光学物品との間の
密着性を向上しやすいためである。無機質膜が特に酸化
ケイ素である場合、有機化合物との密着性を有利に高め
ることができるため、本発明に好適である。
赤外線の遮蔽膜や電磁波の遮蔽膜のような無機質膜によ
って被覆され、その最外層が金、銀、アルミニウムなど
の金属膜、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化スズ、酸化インジュウム、炭化珪素、窒化ケイ
素のような無機質膜である場合、特に本発明は好ましく
適用される。その理由は後述するように、表面が無機質
膜である方が蒸着される有機化合物と光学物品との間の
密着性を向上しやすいためである。無機質膜が特に酸化
ケイ素である場合、有機化合物との密着性を有利に高め
ることができるため、本発明に好適である。
【００１７】本発明に用いる有機化学物質は、熱に比較
的安定であり、真空下で蒸発可能な性質を持ち、且つ蒸
着後の基板表面で被膜を形成し得るものであれば、いず
れの有機化合物でも本発明を適用できるが、用途的には
撥水、撥油性機能を持つ防汚剤や反射防止膜としての低
屈折率膜になり得るものが特に好ましい。
的安定であり、真空下で蒸発可能な性質を持ち、且つ蒸
着後の基板表面で被膜を形成し得るものであれば、いず
れの有機化合物でも本発明を適用できるが、用途的には
撥水、撥油性機能を持つ防汚剤や反射防止膜としての低
屈折率膜になり得るものが特に好ましい。
【００１８】撥水、撥油性機能を持つ防汚剤や反射防止
膜としての低屈折率膜を形成し得る有機化合物の中で、
熱に比較的安定であり、蒸発可能な性質を持ち、且つ蒸
着後の基板表面で被膜を形成し得るものとして、分子内
にフッ素原子を含むものが挙げられる。また、上記した
ように、基板特に無機質膜、なかでも酸化ケイ素膜との
密着性を向上するために、該有機化合物はシラン系化合
物あるいはシラザン系化合物であることが好ましい。中
でも、シラノール基を形成し得る加水分解性に関して２
官能性以上、好ましくは３官能性以上である場合、無機
質膜あるいは酸化ケイ素膜への密着性を高くしやすい。
膜としての低屈折率膜を形成し得る有機化合物の中で、
熱に比較的安定であり、蒸発可能な性質を持ち、且つ蒸
着後の基板表面で被膜を形成し得るものとして、分子内
にフッ素原子を含むものが挙げられる。また、上記した
ように、基板特に無機質膜、なかでも酸化ケイ素膜との
密着性を向上するために、該有機化合物はシラン系化合
物あるいはシラザン系化合物であることが好ましい。中
でも、シラノール基を形成し得る加水分解性に関して２
官能性以上、好ましくは３官能性以上である場合、無機
質膜あるいは酸化ケイ素膜への密着性を高くしやすい。
【００１９】本発明に適用される有機化合物の代表例を
下記する。
下記する。
【００２０】ハロゲン化シラン類として、トリメチルク
ロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロ
ロシラン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピル
ジクロロシランなど。
ロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロ
ロシラン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピル
ジクロロシランなど。
【００２１】アルコキシシラン類として、トリメチルエ
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、３，３，３
−トリフルオロプロピルトリメトキシシランなど。
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、３，３，３
−トリフルオロプロピルトリメトキシシランなど。
【００２２】アミノシラン類として、３、３、３−トリ
フルオロプロピルトリアミノシラン、２−（パーフルオ
ロプロピル）エチルトリアミノシラン、２−（パーフル
オロオクチル）エチルトリアミノシランなど。
フルオロプロピルトリアミノシラン、２−（パーフルオ
ロプロピル）エチルトリアミノシラン、２−（パーフル
オロオクチル）エチルトリアミノシランなど。
【００２３】シラザン類として、ヘキサメチルジシラザ
ン、１，１，３，３，５，５，７，７−オクチルメチル
シクロテトラシラザンなど。
ン、１，１，３，３，５，５，７，７−オクチルメチル
シクロテトラシラザンなど。
【００２４】これらの有機化合物は、単独または混合し
て用いられるが、最も好ましい使用方法は、真空蒸着前
の段階で事前部分加水分解処理し、少なくともその一部
をシロキサン結合させて分子量を高めたもの、場合によ
ってはゲル状物にしたものを本発明に適用すると、防汚
性能や基板との密着性、表面硬度の高いものが得られや
すい。
て用いられるが、最も好ましい使用方法は、真空蒸着前
の段階で事前部分加水分解処理し、少なくともその一部
をシロキサン結合させて分子量を高めたもの、場合によ
ってはゲル状物にしたものを本発明に適用すると、防汚
性能や基板との密着性、表面硬度の高いものが得られや
すい。
【００２５】中でも、下記構造を持つ有機化合物Ｉ、I
I、III、IVに示すような、分子内にパーフルオロポリエ
ーテル構造を持つ、例えば分子量１０００〜５００００
程度の比較的大きな化合物は、防汚性能としての指紋拭
き取り性が上記化合物と比較して格段に優れるが、極め
て高粘度である。また、その部分加水分解物は固体に近
い難溶解性のゲル状物であるため、多孔性セラミックや
金属燒結体へ含浸したり、繊維状の導電性物質の塊に付
着することが難しく、本発明に好ましく適用される。 有機化合物Ｉ
I、III、IVに示すような、分子内にパーフルオロポリエ
ーテル構造を持つ、例えば分子量１０００〜５００００
程度の比較的大きな化合物は、防汚性能としての指紋拭
き取り性が上記化合物と比較して格段に優れるが、極め
て高粘度である。また、その部分加水分解物は固体に近
い難溶解性のゲル状物であるため、多孔性セラミックや
金属燒結体へ含浸したり、繊維状の導電性物質の塊に付
着することが難しく、本発明に好ましく適用される。 有機化合物Ｉ
【００２６】
【化１】
【００２７】（式中、Ｒｆは炭素数１〜１０の直鎖状あ
るいは分岐状のパーフルオロ基あるいはハイドロパーフ
ルオロ基、Ｘはフッ素原子、ヨウ素原子、臭素原子、塩
素原子あるいは水素原子、Ｙは水素原子または炭素数１
〜１０の低級アルキル基、Ｚはフッ素原子あるいは炭素
数１〜１６の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロ基あ
るいはハイドロパーフルオロ基、Ｒ1は水酸基あるいは
加水分解可能な基、加水分解可能な基としてはハロゲ
ン、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−ＯＣ（Ｒ）＝Ｃ（Ｒ） 2、
−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ）2が、より好ましくは−ＯＣＨ3，−Ｏ
Ｃ2Ｈ5，−Ｃｌが挙げられる。Ｒ2は一価の有機基、a,
b,c,dはそれぞれ０〜２００の整数であって、１≦a+b+c
+d≦２００である。ｅは０または１、ｌは０〜３の整
数、ｍは１〜１０の整数、ｎは０〜２の整数を表す。） 有機化合物II
るいは分岐状のパーフルオロ基あるいはハイドロパーフ
ルオロ基、Ｘはフッ素原子、ヨウ素原子、臭素原子、塩
素原子あるいは水素原子、Ｙは水素原子または炭素数１
〜１０の低級アルキル基、Ｚはフッ素原子あるいは炭素
数１〜１６の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロ基あ
るいはハイドロパーフルオロ基、Ｒ1は水酸基あるいは
加水分解可能な基、加水分解可能な基としてはハロゲ
ン、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−ＯＣ（Ｒ）＝Ｃ（Ｒ） 2、
−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ）2が、より好ましくは−ＯＣＨ3，−Ｏ
Ｃ2Ｈ5，−Ｃｌが挙げられる。Ｒ2は一価の有機基、a,
b,c,dはそれぞれ０〜２００の整数であって、１≦a+b+c
+d≦２００である。ｅは０または１、ｌは０〜３の整
数、ｍは１〜１０の整数、ｎは０〜２の整数を表す。） 有機化合物II
【００２８】
【化２】
【００２９】（式中、Ｘは水素原子またはヨウ素原子、
Ｙは水素原子または炭素数１〜１０の低級アルキル基、
Ｒ1は水酸基あるいは加水分解可能な基である。ａは１
〜１００の整数、ｌは０〜３の整数、ｍは１〜１０の整
数、ｎは０〜２の整数を表す。Ｒ2は一価の有機基を表
す。） 有機化合物III
Ｙは水素原子または炭素数１〜１０の低級アルキル基、
Ｒ1は水酸基あるいは加水分解可能な基である。ａは１
〜１００の整数、ｌは０〜３の整数、ｍは１〜１０の整
数、ｎは０〜２の整数を表す。Ｒ2は一価の有機基を表
す。） 有機化合物III
【００３０】
【化３】
【００３１】有機化合物IV (EtO)3SiCH2CH2CH2NHCOOCH2(CF2CF2O)p(CF2O)qCH2 OCON
HCH2CH3CH2Si(OEt)3 （式中、ｐ、ｑは１〜１００の整数を表す。）本発明で
使用する繊維状物は、上記有機化合物の蒸発温度におい
て、熱分解等による放出ガスや蒸発物質が無いか、有っ
ても少ないことが要求される。そのため、無機系繊維で
あるか、耐熱性の有機系繊維であることが好ましい。
HCH2CH3CH2Si(OEt)3 （式中、ｐ、ｑは１〜１００の整数を表す。）本発明で
使用する繊維状物は、上記有機化合物の蒸発温度におい
て、熱分解等による放出ガスや蒸発物質が無いか、有っ
ても少ないことが要求される。そのため、無機系繊維で
あるか、耐熱性の有機系繊維であることが好ましい。
【００３２】本発明に好ましく適用できる繊維状物の具
体例として、金属繊維、セラミックス繊維、ガラス繊
維、ロックウール、アスベスト繊維、炭素繊維、ポリイ
ミド繊維、芳香族ポリアミド繊維などを挙げることがで
きる。このうち、耐熱性及び放出ガスの少なさ、熱伝導
性の良さから、無機系繊維の金属繊維、セラミックス繊
維、ガラス繊維、ロックウール、アスベスト繊維、炭素
繊維が特に好ましく使用される。
体例として、金属繊維、セラミックス繊維、ガラス繊
維、ロックウール、アスベスト繊維、炭素繊維、ポリイ
ミド繊維、芳香族ポリアミド繊維などを挙げることがで
きる。このうち、耐熱性及び放出ガスの少なさ、熱伝導
性の良さから、無機系繊維の金属繊維、セラミックス繊
維、ガラス繊維、ロックウール、アスベスト繊維、炭素
繊維が特に好ましく使用される。
【００３３】本発明における上記繊維状物は、蒸発源で
ある有機化合物を直接あるいは間接的に覆い、有機化合
物に対する熱伝導体になるとともに、有機化合物の蒸気
に対するフィルターとなって、スプラッシュ飛沫を捕捉
し、そこで再蒸発させる役割をになっている。このた
め、繊維径０．５〜５００μｍであることが好ましく、
さらには１〜４００μｍの繊維集合体を主体にするもの
であることが好ましい。繊維径が０．５μｍ未満では繊
維の酸化安定性などが不安定である可能性があり、一方
５００μｍを越えるとスプラッシュ飛沫の捕捉性能が低
下する傾向がある。
ある有機化合物を直接あるいは間接的に覆い、有機化合
物に対する熱伝導体になるとともに、有機化合物の蒸気
に対するフィルターとなって、スプラッシュ飛沫を捕捉
し、そこで再蒸発させる役割をになっている。このた
め、繊維径０．５〜５００μｍであることが好ましく、
さらには１〜４００μｍの繊維集合体を主体にするもの
であることが好ましい。繊維径が０．５μｍ未満では繊
維の酸化安定性などが不安定である可能性があり、一方
５００μｍを越えるとスプラッシュ飛沫の捕捉性能が低
下する傾向がある。
【００３４】真空蒸着に際し、蒸発源である有機化合物
は通常、保持容器（るつぼとも言う）に収納する。保持
容器の形状を特に限定しないが、クヌーセン型、末広ノ
ズル型、直筒型、末広筒型、ボート型などがあり、これ
らの容器は少なくとも一方が開放している。保持容器の
種類は、蒸発物質、蒸発速度などによって適宜選択す
る。また、保持容器の材料についても、銅、タングステ
ン、タンタルなどの金属製のものやアルミナのようなセ
ラミックス製のものがあり、用途によって適宜選択す
る。
は通常、保持容器（るつぼとも言う）に収納する。保持
容器の形状を特に限定しないが、クヌーセン型、末広ノ
ズル型、直筒型、末広筒型、ボート型などがあり、これ
らの容器は少なくとも一方が開放している。保持容器の
種類は、蒸発物質、蒸発速度などによって適宜選択す
る。また、保持容器の材料についても、銅、タングステ
ン、タンタルなどの金属製のものやアルミナのようなセ
ラミックス製のものがあり、用途によって適宜選択す
る。
【００３５】上記保持容器へ、蒸発源として有機化合物
を直接、あるいは繊維状物に付着した状態で、あるいは
多孔体に吸収した状態などで収納したあと、上記繊維状
物で該有機化合物を直接又は空隙を介して間接的に被覆
する。有機化合物に対する均一な熱伝導とスプラッシュ
飛沫の捕捉性能の両面から、実質的に露出部分の無いよ
う全面的に被覆するのが好ましい。
を直接、あるいは繊維状物に付着した状態で、あるいは
多孔体に吸収した状態などで収納したあと、上記繊維状
物で該有機化合物を直接又は空隙を介して間接的に被覆
する。有機化合物に対する均一な熱伝導とスプラッシュ
飛沫の捕捉性能の両面から、実質的に露出部分の無いよ
う全面的に被覆するのが好ましい。
【００３６】例えば、クヌーセン型や末広ノズル型の保
持容器では、器壁部分から中央部にかけ有機化合物の全
面にわたり満遍なく繊維状物を充填する。充填による繊
維状物と有機化合物との接触の程度、あるいは非接触の
程度を一概に指定できないが、一般論として、なるべく
均一に接触しているか、逆に全く接触していないかのど
ちらかにすることが好ましい。場合によっては、これら
の保持容器のノズル部分のみに繊維状物を充填する方法
があり、繊維状物の使用量を減らすことができる。
持容器では、器壁部分から中央部にかけ有機化合物の全
面にわたり満遍なく繊維状物を充填する。充填による繊
維状物と有機化合物との接触の程度、あるいは非接触の
程度を一概に指定できないが、一般論として、なるべく
均一に接触しているか、逆に全く接触していないかのど
ちらかにすることが好ましい。場合によっては、これら
の保持容器のノズル部分のみに繊維状物を充填する方法
があり、繊維状物の使用量を減らすことができる。
【００３７】また、直筒型、末広筒型の保持容器の場合
は、繊維状物を充填しやすいことから、有機化合物の表
面に密接するように繊維状物を全面的に満遍なく均一に
充填するのが好ましい。なお、繊維状物の充填量（ある
いは充填層の厚さ）は、蒸着膜の性能、品質、経済性な
どから決めるべきものである。
は、繊維状物を充填しやすいことから、有機化合物の表
面に密接するように繊維状物を全面的に満遍なく均一に
充填するのが好ましい。なお、繊維状物の充填量（ある
いは充填層の厚さ）は、蒸着膜の性能、品質、経済性な
どから決めるべきものである。
【００３８】本発明は、真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、反応性蒸着法など熱蒸発技術を使用して有機化
合物の被膜を形成するＰＶＤ、ＣＶＤ法に好適に使用で
きる。
ング法、反応性蒸着法など熱蒸発技術を使用して有機化
合物の被膜を形成するＰＶＤ、ＣＶＤ法に好適に使用で
きる。
【００３９】蒸発時の加熱方法として、ハロゲンランプ
法、シーズヒータ法、抵抗加熱法、電子線ビーム法、プ
ラズマ電子線ビーム法、誘導加熱法などがあるが、本発
明ではいずれの方法でも用いることが可能である。ま
た、蒸発は１０-6〜１０Ｐａ、さらには１０-4〜１Ｐａ
程度の減圧下で行うことが好ましい。
法、シーズヒータ法、抵抗加熱法、電子線ビーム法、プ
ラズマ電子線ビーム法、誘導加熱法などがあるが、本発
明ではいずれの方法でも用いることが可能である。ま
た、蒸発は１０-6〜１０Ｐａ、さらには１０-4〜１Ｐａ
程度の減圧下で行うことが好ましい。
【００４０】なお、本発明の光学物品は、有機化合物の
被膜を形成する際、被膜の性能、品質などに従い、室温
から光学物品の耐熱温度または有機化合物の耐熱温度ま
での任意の温度を取りうるものである。
被膜を形成する際、被膜の性能、品質などに従い、室温
から光学物品の耐熱温度または有機化合物の耐熱温度ま
での任意の温度を取りうるものである。
【００４１】
【実施例】本発明について、実施例を用いて具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１ 厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ基板約４００ｃｍ2に、真空蒸着
法により基板側から外へ向かい、ＳｉＯ２／ＺｒＯ２／
ＳｉＯ２／ＺｒＯ２／ＳｉＯ２の順に多層反射防止膜を
積層し、防汚剤を真空蒸着する基板とした。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１ 厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ基板約４００ｃｍ2に、真空蒸着
法により基板側から外へ向かい、ＳｉＯ２／ＺｒＯ２／
ＳｉＯ２／ＺｒＯ２／ＳｉＯ２の順に多層反射防止膜を
積層し、防汚剤を真空蒸着する基板とした。
【００４２】下記構造Ｖに示される防汚剤を、内径３ｃ
ｍ、深さ１．５ｃｍの銅製ハースへ０．２ｇ秤取し、そ
の上へ繊維径約２０μｍのスチールウール（”ボンスタ
ー”＃００００、日本スチールウール社）１．０ｇを満
遍なく防汚剤に接するように、開口部全面へ充填して蒸
発源とした。 構造Ｖ (EtO)3SiCH2CH2CH2NHCOOCH2(CF2CF2O)p(CF2O)qCH2 OCON
HCH2CH3CH2Si(OEt)3 （数平均分子量４５００ ｐ／ｑ≒１） 真空蒸着装置ＢＭＣ−７００（シンクロン社製）に上記
基板と蒸発源をセットした。２．５×１０-3Ｐａまで減
圧してから、電子ビーム法で加熱して防汚剤を基板に真
空蒸着した。
ｍ、深さ１．５ｃｍの銅製ハースへ０．２ｇ秤取し、そ
の上へ繊維径約２０μｍのスチールウール（”ボンスタ
ー”＃００００、日本スチールウール社）１．０ｇを満
遍なく防汚剤に接するように、開口部全面へ充填して蒸
発源とした。 構造Ｖ (EtO)3SiCH2CH2CH2NHCOOCH2(CF2CF2O)p(CF2O)qCH2 OCON
HCH2CH3CH2Si(OEt)3 （数平均分子量４５００ ｐ／ｑ≒１） 真空蒸着装置ＢＭＣ−７００（シンクロン社製）に上記
基板と蒸発源をセットした。２．５×１０-3Ｐａまで減
圧してから、電子ビーム法で加熱して防汚剤を基板に真
空蒸着した。
【００４３】得られた防汚膜にはブツが見られず、高い
指紋拭き取り性能を示した。 実施例２ 上記実施例において、スチールウールの代わりに繊維径
約７μｍの炭素繊維の繊維集合体を０．３ｇ用いる以外
は実施例１と同じにして、防汚剤を真空蒸着した。
指紋拭き取り性能を示した。 実施例２ 上記実施例において、スチールウールの代わりに繊維径
約７μｍの炭素繊維の繊維集合体を０．３ｇ用いる以外
は実施例１と同じにして、防汚剤を真空蒸着した。
【００４４】得られた防汚膜にはブツが見られず、高い
指紋拭き取り性能を示した。 比較例１ 実施例１において、スチールウールを用いずに防汚剤を
真空蒸着したところ、防汚膜に０．１ｍｍ前後のブツが
１個／ｃｍ2 程度発生した。
指紋拭き取り性能を示した。 比較例１ 実施例１において、スチールウールを用いずに防汚剤を
真空蒸着したところ、防汚膜に０．１ｍｍ前後のブツが
１個／ｃｍ2 程度発生した。
【００４５】
Claims (3)
- 【請求項１】光学物品表面に有機化合物を被覆する光学
物品の製造方法において、蒸発源である有機化合物の表
面を、直接又は空隙を介して間接的に繊維状物で被覆
し、真空下で加熱することを特徴とする光学物品の製造
方法。 - 【請求項２】該繊維状物が、繊維径０．５〜５００μｍ
の無機繊維の繊維集合体を主体とすることを特徴とする
請求項１記載の光学物品の製造方法。 - 【請求項３】該有機化合物が、少なくとも一方が開放し
ている保持容器に収まり、その表面が直接又は空隙を介
して間接的に繊維状物で全面的に被覆されていることを
特徴とする請求項１または２記載の光学物品の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11131024A JP2000321401A (ja) | 1999-05-12 | 1999-05-12 | 光学物品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11131024A JP2000321401A (ja) | 1999-05-12 | 1999-05-12 | 光学物品の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000321401A true JP2000321401A (ja) | 2000-11-24 |
Family
ID=15048234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11131024A Pending JP2000321401A (ja) | 1999-05-12 | 1999-05-12 | 光学物品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000321401A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001281412A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Nissha Printing Co Ltd | 反射防止部材とその製造方法 |
| JP2007155802A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-21 | Hoya Corp | 薄膜及び光学部材の製造方法 |
| WO2009028389A1 (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Hoya Corporation | 蒸発源、光学部材の製造方法及び光学部材 |
| WO2009101986A1 (ja) * | 2008-02-12 | 2009-08-20 | Fujifilm Corporation | 含フッ素多官能ケイ素化合物および含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法 |
| JP2016011460A (ja) * | 2014-06-02 | 2016-01-21 | キヤノンオプトロン株式会社 | 蒸発源とそれを用いた蒸着方法 |
-
1999
- 1999-05-12 JP JP11131024A patent/JP2000321401A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001281412A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Nissha Printing Co Ltd | 反射防止部材とその製造方法 |
| JP3457620B2 (ja) | 2000-03-31 | 2003-10-20 | 日本写真印刷株式会社 | 反射防止部材とその製造方法 |
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| JP5286289B2 (ja) * | 2008-02-12 | 2013-09-11 | 富士フイルム株式会社 | 含フッ素多官能ケイ素化合物および含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法 |
| US8541533B2 (en) | 2008-02-12 | 2013-09-24 | Fujifilm Corporation | Fluorine-containing polyfunctional silicon compound and method for producing fluorine-containing polyfunctional silicon compound |
| CN101945882B (zh) * | 2008-02-12 | 2014-09-03 | 富士胶片株式会社 | 含氟的多官能化的硅化合物以及制备该含氟的多官能化的硅化合物的方法 |
| JP2016011460A (ja) * | 2014-06-02 | 2016-01-21 | キヤノンオプトロン株式会社 | 蒸発源とそれを用いた蒸着方法 |
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