JP2000323299A - 電子加速装置 - Google Patents
電子加速装置Info
- Publication number
- JP2000323299A JP2000323299A JP11135460A JP13546099A JP2000323299A JP 2000323299 A JP2000323299 A JP 2000323299A JP 11135460 A JP11135460 A JP 11135460A JP 13546099 A JP13546099 A JP 13546099A JP 2000323299 A JP2000323299 A JP 2000323299A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron
- electrons
- cavity
- klystron
- frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 87
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 23
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005405 multipole Effects 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 241000255925 Diptera Species 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】クライストロンの残留電子の一部を加速電子と
して再利用することができる電子加速装置を提供する。 【解決手段】本発明は、高周波を利用して電子を加速す
る電子加速装置(1)であって、クライストロン(8)
と、このクライストロンの一端側に設けられた電子を供
給する電子供給源(10,12)と、クライストロン内
の入口空洞(16)から電子に高周波を入射する高周波
発振器(22)と、クライストロンの他端側と連通する
と共にクライストロンと一体的に接続された加速空洞
(34)と、クライストロン内の他端側の出口空洞から
増幅された高周波を加速空洞に入射する導波管(26)
と、クライストロン内の他端側に設けられ増幅された高
周波を放出した電子の一部を回収して残りの電子を加速
空洞に導入するコレクタ(32)と、を有する。
して再利用することができる電子加速装置を提供する。 【解決手段】本発明は、高周波を利用して電子を加速す
る電子加速装置(1)であって、クライストロン(8)
と、このクライストロンの一端側に設けられた電子を供
給する電子供給源(10,12)と、クライストロン内
の入口空洞(16)から電子に高周波を入射する高周波
発振器(22)と、クライストロンの他端側と連通する
と共にクライストロンと一体的に接続された加速空洞
(34)と、クライストロン内の他端側の出口空洞から
増幅された高周波を加速空洞に入射する導波管(26)
と、クライストロン内の他端側に設けられ増幅された高
周波を放出した電子の一部を回収して残りの電子を加速
空洞に導入するコレクタ(32)と、を有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子加速装置に係
り、特に、高周波を利用した電子加速装置に関する。
り、特に、高周波を利用した電子加速装置に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】電子加
速装置は、電子を電磁力で数十億電子ボルト(数Ge
V)程度の高いエネルギー状態に加速するための装置で
あり、本来的には原子核や素粒子の研究のために開発さ
れてきたものである。しかしながら、近年では、真空中
をほぼ光速で伝播する電子がその偏向磁場により軌道が
曲げられたときに、主にその軌道の接線方向に発生する
放射光(SOR光)を利用することにより、電子加速装
置の適用範囲は、LSI回路パターンの微細加工(リソ
グラフィ)や物性研究、電子滅菌、細菌等生命科学の広
範な分野にまで広がっている。
速装置は、電子を電磁力で数十億電子ボルト(数Ge
V)程度の高いエネルギー状態に加速するための装置で
あり、本来的には原子核や素粒子の研究のために開発さ
れてきたものである。しかしながら、近年では、真空中
をほぼ光速で伝播する電子がその偏向磁場により軌道が
曲げられたときに、主にその軌道の接線方向に発生する
放射光(SOR光)を利用することにより、電子加速装
置の適用範囲は、LSI回路パターンの微細加工(リソ
グラフィ)や物性研究、電子滅菌、細菌等生命科学の広
範な分野にまで広がっている。
【0003】図10により、第1のタイプの従来の高周
波を利用した電子加速装置を説明する。従来の電子加速
装置は、図10に示すように、高周波発生部と電子加速
部が別々に構成されている。具体的に説明すると、従来
の電子加速装置200は、高周波発生器201である真
空管であるクライストロン202、電子加速空洞20
4、電子源206等を備えており、電子源206は、カ
ソード(固体又はプラズマ)から構成されている。高周
波発振器201においては、電子ビームがカソード20
8からアノード210により引き出され、電磁石212
により収束磁場を発生させ電子ビームをターゲット21
4に向けて数10〜数100kVで伝播させる。このと
き、励起すべき高周波パワー216を発振器218で発
生させ,高周波パワー216を導波管(又は同軸ケーブ
ル)220により入力空洞222から数100mW程度入
射する。この高周波パワー216は電子をバンチ(高周
波の特定位相に電子が集まるように変調すること)させ
電子ビームに貯えられる高周波パワーを増幅する。十分
バンチされた電子224が出力空洞226を通過すると
きに、バンチして電子ビームに貯えられた高周波エネル
ギー228が増幅された形で放出される。このようにし
て、クライストロン202において、高周波エネルギー
を発生させている。
波を利用した電子加速装置を説明する。従来の電子加速
装置は、図10に示すように、高周波発生部と電子加速
部が別々に構成されている。具体的に説明すると、従来
の電子加速装置200は、高周波発生器201である真
空管であるクライストロン202、電子加速空洞20
4、電子源206等を備えており、電子源206は、カ
ソード(固体又はプラズマ)から構成されている。高周
波発振器201においては、電子ビームがカソード20
8からアノード210により引き出され、電磁石212
により収束磁場を発生させ電子ビームをターゲット21
4に向けて数10〜数100kVで伝播させる。このと
き、励起すべき高周波パワー216を発振器218で発
生させ,高周波パワー216を導波管(又は同軸ケーブ
ル)220により入力空洞222から数100mW程度入
射する。この高周波パワー216は電子をバンチ(高周
波の特定位相に電子が集まるように変調すること)させ
電子ビームに貯えられる高周波パワーを増幅する。十分
バンチされた電子224が出力空洞226を通過すると
きに、バンチして電子ビームに貯えられた高周波エネル
ギー228が増幅された形で放出される。このようにし
て、クライストロン202において、高周波エネルギー
を発生させている。
【0004】また、反射波による高周波発生器201の
ダメージを避けるために、高周波用アイソレータ230
が設置されており、反射波がクライストロン202に戻
らないようになっている。取り出された高周波エネルギ
ー228は、導波管232を用いて電子加速空洞204
に導かれ入射される。電子源(カソード)206から電
源234による電場によって放出された電子e- a は電
子加速空洞204を通過するときに、導入された高周波
エネルギーによる空洞内電場で加速され真空容器236
に沿って導かれる。また、高パワーの高周波を放出した
後の電子ビームは、直流加速エネルギー(カソード20
8とアノード210間の加速電圧)を持ち、バンチされ
ていない状態でターゲット214に衝突し、ターゲット
214を加熱するエネルギーとして失われる。ターゲッ
ト214は、水などの冷却材238で冷却する必要があ
る。
ダメージを避けるために、高周波用アイソレータ230
が設置されており、反射波がクライストロン202に戻
らないようになっている。取り出された高周波エネルギ
ー228は、導波管232を用いて電子加速空洞204
に導かれ入射される。電子源(カソード)206から電
源234による電場によって放出された電子e- a は電
子加速空洞204を通過するときに、導入された高周波
エネルギーによる空洞内電場で加速され真空容器236
に沿って導かれる。また、高パワーの高周波を放出した
後の電子ビームは、直流加速エネルギー(カソード20
8とアノード210間の加速電圧)を持ち、バンチされ
ていない状態でターゲット214に衝突し、ターゲット
214を加熱するエネルギーとして失われる。ターゲッ
ト214は、水などの冷却材238で冷却する必要があ
る。
【0005】このような従来の電子加速装置は、以下の
ような問題がある。このように構成された高周波発生部
と電子加速部が別体である従来の電子加速装置において
は、高周波発生部の残留電子のエネルギーを熱エネルギ
ーとして捨て、別に加速用電子ビームを発生させている
ため効率が悪いという問題がある。また、電子発生用シ
ステム(電源、カソードなど)がクライストロン202
と加速用の2系統必要であるから装置としても高価で比
較的大きなシステムとなる。
ような問題がある。このように構成された高周波発生部
と電子加速部が別体である従来の電子加速装置において
は、高周波発生部の残留電子のエネルギーを熱エネルギ
ーとして捨て、別に加速用電子ビームを発生させている
ため効率が悪いという問題がある。また、電子発生用シ
ステム(電源、カソードなど)がクライストロン202
と加速用の2系統必要であるから装置としても高価で比
較的大きなシステムとなる。
【0006】次に、図11により別のタイプの従来の電
子加速装置を説明する。図11は、この別のタイプの電
子加速装置を示す概略平面断面図である。この従来の電
子加速装置300では、加速空洞302の電子入射部3
04に設けられたカソード307に負の電圧を電源30
8で印加することで、電子e- を放出する。放出された
電子e- は加速空洞302に導入され、導波管(又は同
軸ケーブル)310で導かれた高周波312による電場
で加速される。加速された電子e- a は電磁石314で
発生された磁束BC により収束されてビーム搬送管31
6内を搬送される。なお、電源308及び加速空洞30
2を含む容器全体は、それぞれアース322されてい
る。しかし、高周波の位相と電子e- の入射時間を制御
しないバンチャーがないコンパクトな電子加速装置で
は、加速空洞302に入射する電子e- の時間と、その
時間における高周波312の位相によって電子e- がカ
ソード306方向へ逆に加速されてカソード306に衝
突する電子e- B が発生する。この逆行電子e- B による
カソード306への衝突は真空度を悪くし、カソード3
06の寿命も短くする。
子加速装置を説明する。図11は、この別のタイプの電
子加速装置を示す概略平面断面図である。この従来の電
子加速装置300では、加速空洞302の電子入射部3
04に設けられたカソード307に負の電圧を電源30
8で印加することで、電子e- を放出する。放出された
電子e- は加速空洞302に導入され、導波管(又は同
軸ケーブル)310で導かれた高周波312による電場
で加速される。加速された電子e- a は電磁石314で
発生された磁束BC により収束されてビーム搬送管31
6内を搬送される。なお、電源308及び加速空洞30
2を含む容器全体は、それぞれアース322されてい
る。しかし、高周波の位相と電子e- の入射時間を制御
しないバンチャーがないコンパクトな電子加速装置で
は、加速空洞302に入射する電子e- の時間と、その
時間における高周波312の位相によって電子e- がカ
ソード306方向へ逆に加速されてカソード306に衝
突する電子e- B が発生する。この逆行電子e- B による
カソード306への衝突は真空度を悪くし、カソード3
06の寿命も短くする。
【0007】そのため、従来の電子加速装置では、図1
1に示すように、逆行電子e- B がカソード306に衝
突せず、加速空洞302の壁、又はアノード318など
に衝突するように、磁場BC を補助磁石320等で若干
曲げ(磁場BC′)で用いている。しかし、逆行電子e-
B が加速空洞302の壁、又はアノード318などに衝
突することは避けられないため、長時間の使用では逆行
電子e- B によるスパッターで加速空洞302が汚染さ
れること、また逆行電子e- B を利用することができな
いため、この逆行電子e- B を利用した高効率化ができ
ないという問題があった。
1に示すように、逆行電子e- B がカソード306に衝
突せず、加速空洞302の壁、又はアノード318など
に衝突するように、磁場BC を補助磁石320等で若干
曲げ(磁場BC′)で用いている。しかし、逆行電子e-
B が加速空洞302の壁、又はアノード318などに衝
突することは避けられないため、長時間の使用では逆行
電子e- B によるスパッターで加速空洞302が汚染さ
れること、また逆行電子e- B を利用することができな
いため、この逆行電子e- B を利用した高効率化ができ
ないという問題があった。
【0008】そこで、本発明は、従来の問題点を解決す
るためになされたものであり、高周波発生部(クライス
トロン)の残留電子の一部を加速電子として再利用する
ことができる電子加速装置を提供することを目的として
いる。また、本発明は、高周波発生部と電子加速部とを
一体にすることによりコンパクト化を図った電子加速装
置を提供することを目的としている。さらに、本発明
は、加速空洞への電子導入の際の磁場配位を工夫するこ
とにより、逆行電子の衝突を防止でき且つ逆行電子を利
用することが可能となった電子加速装置を提供すること
を目的としている。
るためになされたものであり、高周波発生部(クライス
トロン)の残留電子の一部を加速電子として再利用する
ことができる電子加速装置を提供することを目的として
いる。また、本発明は、高周波発生部と電子加速部とを
一体にすることによりコンパクト化を図った電子加速装
置を提供することを目的としている。さらに、本発明
は、加速空洞への電子導入の際の磁場配位を工夫するこ
とにより、逆行電子の衝突を防止でき且つ逆行電子を利
用することが可能となった電子加速装置を提供すること
を目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、第1の発明は、高周波を利用して電子を加速する
電子加速装置であって、クライストロンと、このクライ
ストロンの一端側に設けられた電子を供給する電子供給
源と、クライストロン内の入口空洞から上記電子に高周
波を入射する高周波発振手段と、クライストロンの他端
側と連通すると共にクライストロンと一体的に接続され
た加速空洞と、クライストロン内の他端側の出口空洞か
ら増幅された高周波を導波手段を介して上記加速空洞に
入射する高周波入射手段と、クライストロン内の他端側
に設けられ増幅された高周波を放出した電子の一部を回
収して残りの電子を加速空洞に導入するコレクタ手段
と、を有することを特徴としている。
めに、第1の発明は、高周波を利用して電子を加速する
電子加速装置であって、クライストロンと、このクライ
ストロンの一端側に設けられた電子を供給する電子供給
源と、クライストロン内の入口空洞から上記電子に高周
波を入射する高周波発振手段と、クライストロンの他端
側と連通すると共にクライストロンと一体的に接続され
た加速空洞と、クライストロン内の他端側の出口空洞か
ら増幅された高周波を導波手段を介して上記加速空洞に
入射する高周波入射手段と、クライストロン内の他端側
に設けられ増幅された高周波を放出した電子の一部を回
収して残りの電子を加速空洞に導入するコレクタ手段
と、を有することを特徴としている。
【0010】第1の発明の電子加速装置は、更に、クラ
イストロンと加速空洞の接続部に設けられた第2の入口
空洞と、この第2の入口空洞に上記高周波発生手段から
高周波の一部を入射する第2の高周波入射手段と、を有
することが好ましい。
イストロンと加速空洞の接続部に設けられた第2の入口
空洞と、この第2の入口空洞に上記高周波発生手段から
高周波の一部を入射する第2の高周波入射手段と、を有
することが好ましい。
【0011】第2の発明は電子加速装置は、高周波を利
用して電子を加速する電子加速装置であって、電子を供
給する電子供給源と、高周波を入射して電子を加速させ
る加速空洞と、電子供給源の周りに配置され、磁力線に
沿って電子がその一端側から加速空洞内に導かれるよう
な磁場を発生する磁場発生手段と、加速空洞の他端側と
連通するように設けられ加速された電子ビームを搬送す
る第1の電子ビーム搬送手段と、加速空洞の一端側と連
通するように設けられ磁場の影響を受けない逆行電子を
搬送する第2の電子ビーム搬送手段と、を有することを
特徴としている。
用して電子を加速する電子加速装置であって、電子を供
給する電子供給源と、高周波を入射して電子を加速させ
る加速空洞と、電子供給源の周りに配置され、磁力線に
沿って電子がその一端側から加速空洞内に導かれるよう
な磁場を発生する磁場発生手段と、加速空洞の他端側と
連通するように設けられ加速された電子ビームを搬送す
る第1の電子ビーム搬送手段と、加速空洞の一端側と連
通するように設けられ磁場の影響を受けない逆行電子を
搬送する第2の電子ビーム搬送手段と、を有することを
特徴としている。
【0012】第2の発明の電子加速装置は、更に、加速
空洞の他端側に配置された第2の電子供給源と、この第
2の電子供給源の周りに配置され、磁力線に沿って電子
がその他端側から加速空洞内に導かれるような磁場を発
生する第2の磁場発生手段と、を有し、これにより、高
周波の全位相にわたって電子源及び第2の電子源からの
電子を電子ビーム搬送手段及び第2の電子ビーム搬送手
段に向って加速するようにすることが好ましい。第2の
発明の電子加速装置は、更に、電子供給源を磁場シール
ドする磁場シールド手段を有することが好ましい。
空洞の他端側に配置された第2の電子供給源と、この第
2の電子供給源の周りに配置され、磁力線に沿って電子
がその他端側から加速空洞内に導かれるような磁場を発
生する第2の磁場発生手段と、を有し、これにより、高
周波の全位相にわたって電子源及び第2の電子源からの
電子を電子ビーム搬送手段及び第2の電子ビーム搬送手
段に向って加速するようにすることが好ましい。第2の
発明の電子加速装置は、更に、電子供給源を磁場シール
ドする磁場シールド手段を有することが好ましい。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施形態を説明する。先ず、図1により、本発明の第
1実施形態を説明する。図1は、本発明の第1実施形態
を示す電子加速装置の概略縦断面図である。図1に示す
ように、電子加速装置1は、高周波発生部2と加速空洞
部4とを備え、これらの高周波発生部2と加速空洞部4
とが一体的に設けられている。また、加速空洞部4に
は、ビーム搬送管6が接続されている。これらの高周波
発生部2、加速空洞部4、及び、ビーム搬送管6は、真
空ポンプ(図示せず)で真空状態に保たれている。
の実施形態を説明する。先ず、図1により、本発明の第
1実施形態を説明する。図1は、本発明の第1実施形態
を示す電子加速装置の概略縦断面図である。図1に示す
ように、電子加速装置1は、高周波発生部2と加速空洞
部4とを備え、これらの高周波発生部2と加速空洞部4
とが一体的に設けられている。また、加速空洞部4に
は、ビーム搬送管6が接続されている。これらの高周波
発生部2、加速空洞部4、及び、ビーム搬送管6は、真
空ポンプ(図示せず)で真空状態に保たれている。
【0014】高周波発生部2は、以下のように構成され
ている。クライストロン8内の下方には、電子を引き出
すためのカソード10及びアノード12が設けられ、さ
らに、これらのカソード10とアノード10の位置に相
当する位置のクライストロン8の外側には、収束磁場を
発生させるための電磁石14が設けられている。クライ
ストロン8内のアノード12のすぐ上方には、入力空洞
16が設けられ、この入力空洞16には、導波管(又は
同軸ケーブル)18を介して高周波パワー20を発生さ
せるための発振器22が連通して設けられている。クラ
イストロン8内の上方には、出力空洞24が設けられ、
この出力空洞24には、導波管26の一端が連通して設
けられている。この導波管26には、反射波をクライス
トロン8に戻らないようにするための高周波用アイソレ
ータ28が設けられている。クライストロン8内の最上
部には、高周波エネルギー30を放出した電子の一部を
回収するためのコレクター32が設けられている。クラ
イストロン8と加速空洞34との間には、接続管36と
プリバンチャー38が設けられている。さらに、接続管
36の外側には、ビームを再収束させるための再収束電
磁石40が設けられている。プリバンチャー38は、分
岐導波管42及びサーキュレータ44を介して導波管2
6と接続されている。
ている。クライストロン8内の下方には、電子を引き出
すためのカソード10及びアノード12が設けられ、さ
らに、これらのカソード10とアノード10の位置に相
当する位置のクライストロン8の外側には、収束磁場を
発生させるための電磁石14が設けられている。クライ
ストロン8内のアノード12のすぐ上方には、入力空洞
16が設けられ、この入力空洞16には、導波管(又は
同軸ケーブル)18を介して高周波パワー20を発生さ
せるための発振器22が連通して設けられている。クラ
イストロン8内の上方には、出力空洞24が設けられ、
この出力空洞24には、導波管26の一端が連通して設
けられている。この導波管26には、反射波をクライス
トロン8に戻らないようにするための高周波用アイソレ
ータ28が設けられている。クライストロン8内の最上
部には、高周波エネルギー30を放出した電子の一部を
回収するためのコレクター32が設けられている。クラ
イストロン8と加速空洞34との間には、接続管36と
プリバンチャー38が設けられている。さらに、接続管
36の外側には、ビームを再収束させるための再収束電
磁石40が設けられている。プリバンチャー38は、分
岐導波管42及びサーキュレータ44を介して導波管2
6と接続されている。
【0015】次に上述した第1実施形態の動作を説明す
る。カソード10からでた電子e-はアノード12で引
き出され、電磁石14により発生した収束磁場中を数1
0〜数100kVで伝播する。このとき、励起すべき高周
波パワー20を発振器22で発生させ導波管18により
入力空洞16から数100mW程度入射する。このパワ
ーは電子e- をバンチ(高周波の特定位相に電子が集ま
るように変調すること)させ電子ビームに貯えられる高
周波パワーを増幅する。十分バンチされた電子46が出
力空洞24を通過するときに、バンチにより電子ビーム
に貯えられた高周波エネルギー30が増幅された形で放
出される。反射波による高周波発生部2のダメージを避
けるために高周波用アイソレータ28が設置され反射波
がクライストロン8に戻らないようにしている。高周波
エネルギーを放出した電子は一部がコレクター32で回
収され、必要な電流を担う電子e- a が再収束電磁石4
0による磁場で収束されて、プリバンチャー38に入射
する。プリバンチャー38へは出力された高周波エネル
ギー30の一部がサーキュレータ44により分配され電
子の再バンチを行う。プリバンチャー38に必要なパワ
ーは電流量とバンチの程度から決める。ほとんどの高周
波エネルギー30は加速空洞10に導入され、プリバン
チャー38を通過した電子を加速する。電子の加速空洞
通過時間と、高周波のプリバンチャー38、加速空洞1
0への到達時間のタイミング調整は、導波管26の長さ
で予め調整しておく。尚、コレクター32で絞られる電
子e- aは電場レンズを用いて収束させてもよく、収束磁
場も多重極磁場レンズでもよい。
る。カソード10からでた電子e-はアノード12で引
き出され、電磁石14により発生した収束磁場中を数1
0〜数100kVで伝播する。このとき、励起すべき高周
波パワー20を発振器22で発生させ導波管18により
入力空洞16から数100mW程度入射する。このパワ
ーは電子e- をバンチ(高周波の特定位相に電子が集ま
るように変調すること)させ電子ビームに貯えられる高
周波パワーを増幅する。十分バンチされた電子46が出
力空洞24を通過するときに、バンチにより電子ビーム
に貯えられた高周波エネルギー30が増幅された形で放
出される。反射波による高周波発生部2のダメージを避
けるために高周波用アイソレータ28が設置され反射波
がクライストロン8に戻らないようにしている。高周波
エネルギーを放出した電子は一部がコレクター32で回
収され、必要な電流を担う電子e- a が再収束電磁石4
0による磁場で収束されて、プリバンチャー38に入射
する。プリバンチャー38へは出力された高周波エネル
ギー30の一部がサーキュレータ44により分配され電
子の再バンチを行う。プリバンチャー38に必要なパワ
ーは電流量とバンチの程度から決める。ほとんどの高周
波エネルギー30は加速空洞10に導入され、プリバン
チャー38を通過した電子を加速する。電子の加速空洞
通過時間と、高周波のプリバンチャー38、加速空洞1
0への到達時間のタイミング調整は、導波管26の長さ
で予め調整しておく。尚、コレクター32で絞られる電
子e- aは電場レンズを用いて収束させてもよく、収束磁
場も多重極磁場レンズでもよい。
【0016】次に、図2により、本発明の第2実施形態
を説明する。図2は、本発明の第2実施形態を示す電子
加速装置の概略縦断面図である。この第2実施形態にお
いて、第1実施形態と同一部分には同一符号を付しそれ
らの説明は省略する。図2に示すように、この第2実施
形態では、第1実施形態のプリバンチャ−38を設けな
いタイプのものであり、その分、エネルギー分解能が数
%程度劣るが、装置全体がより簡易な構造となる。
を説明する。図2は、本発明の第2実施形態を示す電子
加速装置の概略縦断面図である。この第2実施形態にお
いて、第1実施形態と同一部分には同一符号を付しそれ
らの説明は省略する。図2に示すように、この第2実施
形態では、第1実施形態のプリバンチャ−38を設けな
いタイプのものであり、その分、エネルギー分解能が数
%程度劣るが、装置全体がより簡易な構造となる。
【0017】この第2実施形態では、加速空洞34に入
射される電子はバンチしていないため、電子e- a が加
速空洞34に入射する時間の高周波の位相によっては、
電子は逆に加速され逆行電子e- B が発生し、図1の装
置ではクライストロン8を破壊する危険がある。そこ
で、第2実施形態では、コレクター32で絞られた電子
e- a を磁場又は電場で収束させた後偏向磁石50で角
度θだけ曲げるようにしている。加速されてエネルギー
の大きな逆行電子e- B は、偏向磁場で大きく曲げられ
ることがないため、ポート52から取り出すことができ
る。順方向に加速される電子e- F はそのまま利用する
ことができる。角度θは入射電子のエネルギー、加速さ
れる電子のエネルギー、及び、利用するシステムの配置
などから決めることができる。尚、この第2実施形態で
も、電子の加速空洞通過時間と、加速空洞34への到達
時間のタイミング調整は、導波管26の長さで予め調整
しておく。また、図1及び図2で示した第1及び第2の
いずれの実施形態でも、必要な電流をコレクター32に
より調整ができ、加速用電子発生装置及びそれに使用す
る電源を必要としない。
射される電子はバンチしていないため、電子e- a が加
速空洞34に入射する時間の高周波の位相によっては、
電子は逆に加速され逆行電子e- B が発生し、図1の装
置ではクライストロン8を破壊する危険がある。そこ
で、第2実施形態では、コレクター32で絞られた電子
e- a を磁場又は電場で収束させた後偏向磁石50で角
度θだけ曲げるようにしている。加速されてエネルギー
の大きな逆行電子e- B は、偏向磁場で大きく曲げられ
ることがないため、ポート52から取り出すことができ
る。順方向に加速される電子e- F はそのまま利用する
ことができる。角度θは入射電子のエネルギー、加速さ
れる電子のエネルギー、及び、利用するシステムの配置
などから決めることができる。尚、この第2実施形態で
も、電子の加速空洞通過時間と、加速空洞34への到達
時間のタイミング調整は、導波管26の長さで予め調整
しておく。また、図1及び図2で示した第1及び第2の
いずれの実施形態でも、必要な電流をコレクター32に
より調整ができ、加速用電子発生装置及びそれに使用す
る電源を必要としない。
【0018】上述した第1及び第2実施形態では、高周
波発生部であるクライストロン8のカソード10で発生
させる電子e- を高周波パワー20で増幅した後、コレ
クター32で回収しない一部の電子e- a を再度再収束
用電磁石12などのレンズで収束させて加速空洞34に
導入する。同時にクライストロン8で増幅した高周波エ
ネルギー30により加速空洞34に入射した電子e- a
を加速するものである。そのため、従来の電子加速装置
に比べ高周波と電子の供給を1つのクライストロンで同
時に行うことが可能となり、図10に示す加速用電子源
206及び電子源用電源234が不要となる。また、必
要な電子量は、一般的にクライストロン電流(電子)4
6の1/10以下であるためのコレクター32で必要電
子を十分調整して取り出すことが可能である。
波発生部であるクライストロン8のカソード10で発生
させる電子e- を高周波パワー20で増幅した後、コレ
クター32で回収しない一部の電子e- a を再度再収束
用電磁石12などのレンズで収束させて加速空洞34に
導入する。同時にクライストロン8で増幅した高周波エ
ネルギー30により加速空洞34に入射した電子e- a
を加速するものである。そのため、従来の電子加速装置
に比べ高周波と電子の供給を1つのクライストロンで同
時に行うことが可能となり、図10に示す加速用電子源
206及び電子源用電源234が不要となる。また、必
要な電子量は、一般的にクライストロン電流(電子)4
6の1/10以下であるためのコレクター32で必要電
子を十分調整して取り出すことが可能である。
【0019】以上説明したように、第1及び第2の実施
形態によれば、クライストロン8で高周波エネルギーを
取り出した後の電子をコレクター32で減少させること
により、その一部を加速用電子として利用することがで
きる。また、クライストロン8の電子を利用すること
で、加速用電子源(図10の電子源206)及び電子源
用電源(図10の電源234)が不要となり、その分、
低価格となる。さらに、電子発生部と電子加速部を一体
としたため、装置全体をコンパクトにすることができ、
X線シールドを含めた全システムを搬送可能で且つ低価
格とすることができる。
形態によれば、クライストロン8で高周波エネルギーを
取り出した後の電子をコレクター32で減少させること
により、その一部を加速用電子として利用することがで
きる。また、クライストロン8の電子を利用すること
で、加速用電子源(図10の電子源206)及び電子源
用電源(図10の電源234)が不要となり、その分、
低価格となる。さらに、電子発生部と電子加速部を一体
としたため、装置全体をコンパクトにすることができ、
X線シールドを含めた全システムを搬送可能で且つ低価
格とすることができる。
【0020】次に、図3により、本発明の第3実施形態
を説明する。図3は本発明の第3実施形態を示す概略縦
断面図である。なお、図1に示す第1実施形態と同一部
分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。図3
に示すように、この第3実施形態も、高周波発生部2
(クライストロン8)と加速空洞部4とが一体となって
いる。この第3実施形態は、低パワー高周波入力による
電子バンチを2回行うようにした電子加速装置である。
以下具体的に説明する。この実施形態では、励起すべき
高周波パワー20を発振器22で発生させ、導波管18
を分岐させ、分岐導波管54を設けている。クライスト
ロン8と加速空洞34とは、接続管56により接続さ
れ、接続管56の内部には、第2の入力空洞58及び電
子ビームを収束させるための電磁石60が設けられてい
る。分岐導波管54には、位相シフター62が設けられ
ている。
を説明する。図3は本発明の第3実施形態を示す概略縦
断面図である。なお、図1に示す第1実施形態と同一部
分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。図3
に示すように、この第3実施形態も、高周波発生部2
(クライストロン8)と加速空洞部4とが一体となって
いる。この第3実施形態は、低パワー高周波入力による
電子バンチを2回行うようにした電子加速装置である。
以下具体的に説明する。この実施形態では、励起すべき
高周波パワー20を発振器22で発生させ、導波管18
を分岐させ、分岐導波管54を設けている。クライスト
ロン8と加速空洞34とは、接続管56により接続さ
れ、接続管56の内部には、第2の入力空洞58及び電
子ビームを収束させるための電磁石60が設けられてい
る。分岐導波管54には、位相シフター62が設けられ
ている。
【0021】第3実施形態の動作を説明する。導波管1
8及び分岐導波管54から高周波パワー20及び64を
入力空洞16及び58に数100mW程度入射する。入
力空洞16から導入した高周波パワー20は電子e- を
バンチさせ電子ビームに貯えられる高周波パワーを増幅
する。十分バンチされた電子46が出力空洞24を通過
するときに、バンチとして電子ビームに貯えられた高周
波エネルギー30が増幅された形で放出される。必要な
電流を担う電子e- a が再収束電磁石40による磁場で
収束されて、再度第2の入力空洞58を通過し、高周波
パワー64を吸収する。入力空洞58へは、出力された
高周波エネルギー30と電子バンチの位相があうように
位相シフター62で位相を調整した高周波を入射する。
再バンチに必要なパワーは電流量、バンチの程度から決
める。再バンチされた電子66は電磁石60で収束させ
られ、加速空洞34に入射される。導波管26で加速空
洞34に入射された高周波エネルギー30は、加速空洞
34を通過する再バンチされた電子66を加速する。電
子の加速空洞通過時間と加速空洞34への到達時間のタ
イミング調整は、導波管26の長さで予め調整してお
く。尚、コレクター32で絞られる電子e- a 及び再バ
ンチされた電子66は電場レンズを用いて収束させても
よく、収束磁場も多重極磁場レンズでもよい。
8及び分岐導波管54から高周波パワー20及び64を
入力空洞16及び58に数100mW程度入射する。入
力空洞16から導入した高周波パワー20は電子e- を
バンチさせ電子ビームに貯えられる高周波パワーを増幅
する。十分バンチされた電子46が出力空洞24を通過
するときに、バンチとして電子ビームに貯えられた高周
波エネルギー30が増幅された形で放出される。必要な
電流を担う電子e- a が再収束電磁石40による磁場で
収束されて、再度第2の入力空洞58を通過し、高周波
パワー64を吸収する。入力空洞58へは、出力された
高周波エネルギー30と電子バンチの位相があうように
位相シフター62で位相を調整した高周波を入射する。
再バンチに必要なパワーは電流量、バンチの程度から決
める。再バンチされた電子66は電磁石60で収束させ
られ、加速空洞34に入射される。導波管26で加速空
洞34に入射された高周波エネルギー30は、加速空洞
34を通過する再バンチされた電子66を加速する。電
子の加速空洞通過時間と加速空洞34への到達時間のタ
イミング調整は、導波管26の長さで予め調整してお
く。尚、コレクター32で絞られる電子e- a 及び再バ
ンチされた電子66は電場レンズを用いて収束させても
よく、収束磁場も多重極磁場レンズでもよい。
【0022】上述した第3実施形態では、高周波発生部
2であるクライストロン8のカソード10で発生させる
電子e- を高周波パワー20で増幅した後、コレクター
32で回収しない一部の電子e- a を再度電磁石40な
どのレンズで収束させて、位相シフター62で位相調整
された低パワー高周波64で再バンチさせた後、加速空
洞34に導入する。同時にクライストロン8で増幅した
高周波エネルギー30を加速空洞34に入射して再バン
チした電子66を加速する。そのため、第1及び第2の
実施形態の作用効果に比べて、さらに、第1実施形態
(図1参照)におけるプリバンチャー38、高周波エネ
ルギー30の分岐用サーキュレーター44が不要とな
る。また、電子の再バンチも低パワー64で行うため、
高周波パワーの分岐、及び位相調整などが容易である。
そのため、バンチャーがなくてもエネルギー分解能が高
い。また、必要な電子量は一般的にクライストロン電流
46の1/10以下であるためコレクター32で必要電
子を十分調整して取り出すことが可能である。
2であるクライストロン8のカソード10で発生させる
電子e- を高周波パワー20で増幅した後、コレクター
32で回収しない一部の電子e- a を再度電磁石40な
どのレンズで収束させて、位相シフター62で位相調整
された低パワー高周波64で再バンチさせた後、加速空
洞34に導入する。同時にクライストロン8で増幅した
高周波エネルギー30を加速空洞34に入射して再バン
チした電子66を加速する。そのため、第1及び第2の
実施形態の作用効果に比べて、さらに、第1実施形態
(図1参照)におけるプリバンチャー38、高周波エネ
ルギー30の分岐用サーキュレーター44が不要とな
る。また、電子の再バンチも低パワー64で行うため、
高周波パワーの分岐、及び位相調整などが容易である。
そのため、バンチャーがなくてもエネルギー分解能が高
い。また、必要な電子量は一般的にクライストロン電流
46の1/10以下であるためコレクター32で必要電
子を十分調整して取り出すことが可能である。
【0023】次に、図4により、本発明の第4実施形態
を説明する。図4は、本発明の第4実施形態の電子加速
装置の概略平面断面図である。図4に示すように、本実
施形態による電子加速装置70は、カスプ型磁場を利用
して加速空洞へ電子導入するようにしている。即ち、電
子加速装置70は、電子を供給する電子源72、この電
子源72の周りに配置されカスプ型磁場(BC)を発生
させるための電磁石(又は永久磁石)74、電子発生用
の電源76、加速空洞78、加速空洞78からの加速さ
れたビームを収束させるためのビーム収束用電磁石8
0、ビームを搬送するためのビーム搬送管82,84、
及び、高周波搬送部86等から構成されている。電子源
72は、カソード88とアノード90から構成され、電
子源72は、単一でも複数でもよい。また、電源76、
アノード90及び加速空洞を含む容器全体は、アース9
2に接続されている。
を説明する。図4は、本発明の第4実施形態の電子加速
装置の概略平面断面図である。図4に示すように、本実
施形態による電子加速装置70は、カスプ型磁場を利用
して加速空洞へ電子導入するようにしている。即ち、電
子加速装置70は、電子を供給する電子源72、この電
子源72の周りに配置されカスプ型磁場(BC)を発生
させるための電磁石(又は永久磁石)74、電子発生用
の電源76、加速空洞78、加速空洞78からの加速さ
れたビームを収束させるためのビーム収束用電磁石8
0、ビームを搬送するためのビーム搬送管82,84、
及び、高周波搬送部86等から構成されている。電子源
72は、カソード88とアノード90から構成され、電
子源72は、単一でも複数でもよい。また、電源76、
アノード90及び加速空洞を含む容器全体は、アース9
2に接続されている。
【0024】次に第4実施形態の動作を説明する。本実
施形態による電子加速装置70では、カソード88から
放出された電子e-が、カスプ磁場BC の加速空洞78
に向かう磁力線に沿って加速空洞78内に導かれる。さ
らに、加速空洞78内に高周波94により発生した電場
Eで電子は加速され、その後、高エネルギー電子e- aと
してビーム搬送管84に放出され、収束磁場BC ′で収
束されながら搬送される。一方、エネルギーの高い逆行
電子e- B は磁場BC による影響をほとんど受けないた
め、ほぼ直進して逆方向に設置されたビーム搬送管82
に搬送され、電子ビームとして利用することができる。
施形態による電子加速装置70では、カソード88から
放出された電子e-が、カスプ磁場BC の加速空洞78
に向かう磁力線に沿って加速空洞78内に導かれる。さ
らに、加速空洞78内に高周波94により発生した電場
Eで電子は加速され、その後、高エネルギー電子e- aと
してビーム搬送管84に放出され、収束磁場BC ′で収
束されながら搬送される。一方、エネルギーの高い逆行
電子e- B は磁場BC による影響をほとんど受けないた
め、ほぼ直進して逆方向に設置されたビーム搬送管82
に搬送され、電子ビームとして利用することができる。
【0025】この第4実施形態によれば、電磁石74に
よるカスプ型磁場BC を利用することで、電子源72か
らの電子e-を加速空洞78に導入し、かつ加速電場E
によるエネルギーの高い逆行電子e- B がカソード88
に戻って衝突することがないためカソード88からのア
ウトガスをなくすことができ、かつカソード88の寿命
を延ばすことができる。一方、加速されたエネルギーの
高い逆行電子e- B は、カスプ型磁場BC の影響をほと
んど受けず、真空中を直進するため、ビーム搬送管82
で搬送して高エネルギー電子ビームとして利用すること
ができる。可能である。
よるカスプ型磁場BC を利用することで、電子源72か
らの電子e-を加速空洞78に導入し、かつ加速電場E
によるエネルギーの高い逆行電子e- B がカソード88
に戻って衝突することがないためカソード88からのア
ウトガスをなくすことができ、かつカソード88の寿命
を延ばすことができる。一方、加速されたエネルギーの
高い逆行電子e- B は、カスプ型磁場BC の影響をほと
んど受けず、真空中を直進するため、ビーム搬送管82
で搬送して高エネルギー電子ビームとして利用すること
ができる。可能である。
【0026】次に、図5により、本発明の第5実施形態
を説明する。図5は、本発明の第5実施形態を示す電子
加速装置の概略平面断面図である。この第5実施形態に
おいて、第4実施形態と同一部分には同一符号を付しそ
れらの説明は省略する。図5に示すように、第5実施形
態の電子加速装置100は、ビーム搬送管82の部分
に、加速空洞78と同様な構造を持つ加速空洞102及
びビーム収束用電磁石104を設置したものであり、2
個の加速空洞78,102を備えている。この電子加速
装置100においては、カスプ型磁場の中心Cに対して
対称にカソード88を設置することにより、カソード8
8から放出された電子e-が、カスプ型磁場BC の加速
空洞78,102の両方に向かう磁力線に沿って両加速
空洞78,102内に導かれ、カソードの簡単な設定
で、効率よく電子e-を利用することができる。
を説明する。図5は、本発明の第5実施形態を示す電子
加速装置の概略平面断面図である。この第5実施形態に
おいて、第4実施形態と同一部分には同一符号を付しそ
れらの説明は省略する。図5に示すように、第5実施形
態の電子加速装置100は、ビーム搬送管82の部分
に、加速空洞78と同様な構造を持つ加速空洞102及
びビーム収束用電磁石104を設置したものであり、2
個の加速空洞78,102を備えている。この電子加速
装置100においては、カスプ型磁場の中心Cに対して
対称にカソード88を設置することにより、カソード8
8から放出された電子e-が、カスプ型磁場BC の加速
空洞78,102の両方に向かう磁力線に沿って両加速
空洞78,102内に導かれ、カソードの簡単な設定
で、効率よく電子e-を利用することができる。
【0027】この実施形態によれば、第4実施形態と同
様な作用効果を奏することが出来ると共に、電子源72
と2個の加速空洞78,102を組み合わせることによ
り、電子e-を効率良く利用することが出来る。次に、
図6及び図7により、本発明の第6実施形態を説明す
る。図6は、本発明の第6実施形態を示す電子加速装置
の概略平面断面図であり、図7は、高周波により発生し
た電場による電子の加速を説明するための電場と位相の
関係を示し線図である。この第6実施形態において、第
4実施形態と同一部分には同一符号を付しそれらの説明
は省略する。
様な作用効果を奏することが出来ると共に、電子源72
と2個の加速空洞78,102を組み合わせることによ
り、電子e-を効率良く利用することが出来る。次に、
図6及び図7により、本発明の第6実施形態を説明す
る。図6は、本発明の第6実施形態を示す電子加速装置
の概略平面断面図であり、図7は、高周波により発生し
た電場による電子の加速を説明するための電場と位相の
関係を示し線図である。この第6実施形態において、第
4実施形態と同一部分には同一符号を付しそれらの説明
は省略する。
【0028】図6に示すように、第6実施形態の電子加
速装置110は、加速空洞78方向に向かう磁場BC に
沿って電子e-が加速空洞78に導入されるよう設置さ
れたカソード88を持つ電子源72と同様な構造の電子
源112を加速空洞78の他方にも配置したものであ
り、加速空洞78の両側に電子源72,112を備えて
いる。
速装置110は、加速空洞78方向に向かう磁場BC に
沿って電子e-が加速空洞78に導入されるよう設置さ
れたカソード88を持つ電子源72と同様な構造の電子
源112を加速空洞78の他方にも配置したものであ
り、加速空洞78の両側に電子源72,112を備えて
いる。
【0029】この実施形態の電子加速装置10では、高
周波94の全位相にわたって電子源72,112からの
電子e-をビーム搬送管82,84に向かって加速する
ことができる。そのため、高周波電力を効率よく使用す
ることが可能となる。この理由を図7により説明する。
先ず、上述した第4実施形態及び第5実施形態における
装置では、加速電場Eの位相R1領域の電子のみ加速空
洞に入射できるため、R2の領域の電場Eは加速に寄与
しない。図中、(+)はビーム搬送管84方向への加
速、(−)はビーム搬送管82方向への逆加速を示す。
第6実施形態では、電子源112からの電子はR1の領
域で加速され、電子源72からの電子はR2の領域で加
速される。すなわち、R1、R2を含めた加速電場全位
相での電子加速と、その電子の利用を可能となる。この
実施形態によれば、第4実施形態と同様な作用効果を奏
することが出来ると共に、2個の電子源72,112と
加速空洞78の組み合わせにより加速電場Eの全位相R
1、R2で加速が可能となる。
周波94の全位相にわたって電子源72,112からの
電子e-をビーム搬送管82,84に向かって加速する
ことができる。そのため、高周波電力を効率よく使用す
ることが可能となる。この理由を図7により説明する。
先ず、上述した第4実施形態及び第5実施形態における
装置では、加速電場Eの位相R1領域の電子のみ加速空
洞に入射できるため、R2の領域の電場Eは加速に寄与
しない。図中、(+)はビーム搬送管84方向への加
速、(−)はビーム搬送管82方向への逆加速を示す。
第6実施形態では、電子源112からの電子はR1の領
域で加速され、電子源72からの電子はR2の領域で加
速される。すなわち、R1、R2を含めた加速電場全位
相での電子加速と、その電子の利用を可能となる。この
実施形態によれば、第4実施形態と同様な作用効果を奏
することが出来ると共に、2個の電子源72,112と
加速空洞78の組み合わせにより加速電場Eの全位相R
1、R2で加速が可能となる。
【0030】次に、図8により、本発明の第7実施形態
を説明する。図8は本発明の第7実施形態の電子加速装
置を示す概略平面断面図である。図8に示すように、本
実施形態による電子加速装置120は、電子を供給する
電子源122、この電子源122の周りに配置されカス
プ型磁場であるビーム収束磁場BCを発生させるための
電磁石(又は永久磁石)(図示せず)、電子発生用の電
源126、加速空洞128、加速空洞128からの加速
されたビームを収束させるためのビーム収束用電磁石1
30、逆行電子のためのビーム収束用補助電磁石13
1、ビームを搬送するためのビーム搬送管132,13
4、及び、高周波搬送部136等から構成されている。
電子源122は、カソード138、アノード140及び
電子源122を覆うように配置された磁場シールド(軟
鉄、フェライトなど)142から構成されている。ま
た、電源126、アノード140及び加速空洞を含む容
器全体は、アース144に接続されている。さらに、ビ
ーム搬送管132には補助電極146が設けられてい
る。
を説明する。図8は本発明の第7実施形態の電子加速装
置を示す概略平面断面図である。図8に示すように、本
実施形態による電子加速装置120は、電子を供給する
電子源122、この電子源122の周りに配置されカス
プ型磁場であるビーム収束磁場BCを発生させるための
電磁石(又は永久磁石)(図示せず)、電子発生用の電
源126、加速空洞128、加速空洞128からの加速
されたビームを収束させるためのビーム収束用電磁石1
30、逆行電子のためのビーム収束用補助電磁石13
1、ビームを搬送するためのビーム搬送管132,13
4、及び、高周波搬送部136等から構成されている。
電子源122は、カソード138、アノード140及び
電子源122を覆うように配置された磁場シールド(軟
鉄、フェライトなど)142から構成されている。ま
た、電源126、アノード140及び加速空洞を含む容
器全体は、アース144に接続されている。さらに、ビ
ーム搬送管132には補助電極146が設けられてい
る。
【0031】次に第7実施形態の動作を説明する。本実
施形態による電子加速装置120では、カソード138
から放出された電子e-は、磁場シールド142により
磁場の影響をほとんど受ける事なく磁場BC (図示せ
ず)の存在する領域に導かれ、加速空洞128付近の磁
場BC にトラップされる。電子e-は磁場BC に沿って
一部は加速空洞128内に導かれる。加速空洞128内
に高周波148により発生した電場Eで電子e-は加速
された後、高エネルギー電子e- a としてビーム搬送管
134に放出されて収束磁場BC’で収束されながら搬
送される。エネルギーの高い逆行電子e- B はほぼ直進
して逆方向に設置されたビーム搬送管132に搬送さ
れ、カソード138に衝突することなく電子ビームとし
て利用することができる。カソード138から収束磁場
BCに引き出された電子e-が、十分加速空洞128に導
かれない場合は、補助電極146に電源126でバイア
ス電圧をかけることで、電子e-を加速空洞128に導
くようにしている。なお、図8に示すものでは、電子が
加速方向に垂直に入射されるが、カソードと電子の加速
方向とが交わる角度は、垂直に限らず、本実施形態の効
果を失わない範囲であればよい。また、本実施形態にお
いても、第6実施形態のように、磁場シールド142を
備えた電子源122を加速空洞128の両端に設置して
高周波の全位相を有効に利用するようにしてもよい。
施形態による電子加速装置120では、カソード138
から放出された電子e-は、磁場シールド142により
磁場の影響をほとんど受ける事なく磁場BC (図示せ
ず)の存在する領域に導かれ、加速空洞128付近の磁
場BC にトラップされる。電子e-は磁場BC に沿って
一部は加速空洞128内に導かれる。加速空洞128内
に高周波148により発生した電場Eで電子e-は加速
された後、高エネルギー電子e- a としてビーム搬送管
134に放出されて収束磁場BC’で収束されながら搬
送される。エネルギーの高い逆行電子e- B はほぼ直進
して逆方向に設置されたビーム搬送管132に搬送さ
れ、カソード138に衝突することなく電子ビームとし
て利用することができる。カソード138から収束磁場
BCに引き出された電子e-が、十分加速空洞128に導
かれない場合は、補助電極146に電源126でバイア
ス電圧をかけることで、電子e-を加速空洞128に導
くようにしている。なお、図8に示すものでは、電子が
加速方向に垂直に入射されるが、カソードと電子の加速
方向とが交わる角度は、垂直に限らず、本実施形態の効
果を失わない範囲であればよい。また、本実施形態にお
いても、第6実施形態のように、磁場シールド142を
備えた電子源122を加速空洞128の両端に設置して
高周波の全位相を有効に利用するようにしてもよい。
【0032】この第7実施形態によれば、磁場BC を遮
蔽するシールド142を利用する電子源122及び必要
により補助電極146を用いることで、電子源126か
らの電子e-を加速空洞128に有効に導入し、かつ加
速電場Eによるエネルギーの高い逆行電子e- B がカソ
ード138にもどらないようになっている。そのため、
カソード138からのアウトガスをなくすことができ、
かつカソード138の寿命を延ばすことができる。加速
されたエネルギーの高い逆行電子e- B はカスプ型磁場
BC の影響をほとんど受けず、真空中を直進するためビ
ームとして利用することが可能である。また、2個の電
子源122と加速空洞128の組み合わせにより加速電
場Eの全位相R1、R2で電子の加速が可能となる。
蔽するシールド142を利用する電子源122及び必要
により補助電極146を用いることで、電子源126か
らの電子e-を加速空洞128に有効に導入し、かつ加
速電場Eによるエネルギーの高い逆行電子e- B がカソ
ード138にもどらないようになっている。そのため、
カソード138からのアウトガスをなくすことができ、
かつカソード138の寿命を延ばすことができる。加速
されたエネルギーの高い逆行電子e- B はカスプ型磁場
BC の影響をほとんど受けず、真空中を直進するためビ
ームとして利用することが可能である。また、2個の電
子源122と加速空洞128の組み合わせにより加速電
場Eの全位相R1、R2で電子の加速が可能となる。
【0033】次に、図9により、本発明の第8実施形態
を説明する。図9は、本発明の第8実施形態の電子加速
装置を示す概略平面断面図である。なお、第8実施形態
においては、第7実施形態と同一部分には同一符号を付
しこれらの説明は省略する。図9に示すように、この実
施形態の電子加速装置150は、磁場シールド142を
設置した第7実施形態(図8参照)と同様な構造の電子
源122を加速空洞128の中央に設置したものであ
る。電子源122は加速空洞128と同じ材質の金属板
152で囲まれており、金属板152が加速空洞128
を2個の空洞128a,128bに分けている。高周波
148はそれぞれの加速空洞128a,128bに導入
され、電子e-を加速する。それぞれの加速空洞128
a,128bに入射する高周波148の位相は位相シフ
ター154で調整することも可能である。この実施形態
では、磁場BC で左右いずれかの加速空洞128a,1
28bに電子e-は導かれるため、第7実施形態(図8
参照)のように補助電極148、電源126を使用する
ことなく、カソード138から取り出した電子e-を有
効に加速することが可能である。また、第7実施形態と
同様に、加速されたエネルギーの高い逆行電子e- B が
カソード138に衝突することがなく、電子ビームとし
て利用することが可能である。
を説明する。図9は、本発明の第8実施形態の電子加速
装置を示す概略平面断面図である。なお、第8実施形態
においては、第7実施形態と同一部分には同一符号を付
しこれらの説明は省略する。図9に示すように、この実
施形態の電子加速装置150は、磁場シールド142を
設置した第7実施形態(図8参照)と同様な構造の電子
源122を加速空洞128の中央に設置したものであ
る。電子源122は加速空洞128と同じ材質の金属板
152で囲まれており、金属板152が加速空洞128
を2個の空洞128a,128bに分けている。高周波
148はそれぞれの加速空洞128a,128bに導入
され、電子e-を加速する。それぞれの加速空洞128
a,128bに入射する高周波148の位相は位相シフ
ター154で調整することも可能である。この実施形態
では、磁場BC で左右いずれかの加速空洞128a,1
28bに電子e-は導かれるため、第7実施形態(図8
参照)のように補助電極148、電源126を使用する
ことなく、カソード138から取り出した電子e-を有
効に加速することが可能である。また、第7実施形態と
同様に、加速されたエネルギーの高い逆行電子e- B が
カソード138に衝突することがなく、電子ビームとし
て利用することが可能である。
【0034】この第8実施形態は第7実施形態と同様な
作用効果を奏することができるが、更に、磁場シールド
142を設けた電子源122を2個の加速空洞128
a,128bで挟むことにより、磁場BC で左右いずれ
かの加速空洞128に電子e-が導かれるため、補助電
極と電源を使用することなくカソード138から取り出
した電子e-を有効に加速することが可能である。
作用効果を奏することができるが、更に、磁場シールド
142を設けた電子源122を2個の加速空洞128
a,128bで挟むことにより、磁場BC で左右いずれ
かの加速空洞128に電子e-が導かれるため、補助電
極と電源を使用することなくカソード138から取り出
した電子e-を有効に加速することが可能である。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高周波発生部(クライストロン)の残留電子の一部を加
速電子として再利用することができ、また、高周波発生
部と電子加速部とを一体にすることによりコンパクト化
を図ることが出来る。さらに、本発明によれば、加速空
洞への電子導入の際の磁場配位を工夫することにより、
逆行電子の衝突を防止でき且つ逆行電子を利用すること
が可能となる。
高周波発生部(クライストロン)の残留電子の一部を加
速電子として再利用することができ、また、高周波発生
部と電子加速部とを一体にすることによりコンパクト化
を図ることが出来る。さらに、本発明によれば、加速空
洞への電子導入の際の磁場配位を工夫することにより、
逆行電子の衝突を防止でき且つ逆行電子を利用すること
が可能となる。
【図1】本発明の第1実施形態の電子加速装置を示す概
略縦断面図
略縦断面図
【図2】本発明の第2実施形態の電子加速装置を示す概
略縦断面図
略縦断面図
【図3】本発明の第3実施形態の電子加速装置を示す概
略縦断面図
略縦断面図
【図4】本発明の第4実施形態の電子加速装置を示す概
略平面断面図
略平面断面図
【図5】本発明の第5実施形態の電子加速装置を示す概
略平面断面図
略平面断面図
【図6】本発明の第6実施形態の電子加速装置を示す概
略平面断面図
略平面断面図
【図7】本発明の第6実施形態において、高周波により
発生した電場による電子の加速を説明するための電場と
位相の関係を示す線図
発生した電場による電子の加速を説明するための電場と
位相の関係を示す線図
【図8】本発明の第7実施形態の電子加速装置を示す概
略平面断面図
略平面断面図
【図9】本発明の第8実施形態の電子加速装置を示す概
略平面断面図
略平面断面図
【図10】第1のタイプの従来の電子加速装置を示す概
略縦断面図
略縦断面図
【図11】第2のタイプの従来の電子加速装置を示す概
略縦断面図
略縦断面図
1,70,100,110,120,150 電子加速
装置 2 高周波発生部 4 加速空洞部 6 ビーム搬送管 8 クライストロン 10,88,138 カソード 12,90,140 アノード 14,40,60,74,80,104,130,13
1 電磁石 16,58 入力空洞 18,26 導波管 22 発振器 24 出力空洞 28 アイソレータ 32 コレクター 34,78,102,128 加速空洞 36 接続管 38 プリバンチャー 42 分岐導波管 44 サーキュレータ 50 偏向磁石 52 ポート 54 分岐導波管 56 接続管 62,154 位相シフター 72,112,122 電子源 76,126 電源 82,84,132,134 ビーム搬送管 86,136 高周波搬送部 92,144 アース 142 磁場シールド 146 補助電極
装置 2 高周波発生部 4 加速空洞部 6 ビーム搬送管 8 クライストロン 10,88,138 カソード 12,90,140 アノード 14,40,60,74,80,104,130,13
1 電磁石 16,58 入力空洞 18,26 導波管 22 発振器 24 出力空洞 28 アイソレータ 32 コレクター 34,78,102,128 加速空洞 36 接続管 38 プリバンチャー 42 分岐導波管 44 サーキュレータ 50 偏向磁石 52 ポート 54 分岐導波管 56 接続管 62,154 位相シフター 72,112,122 電子源 76,126 電源 82,84,132,134 ビーム搬送管 86,136 高周波搬送部 92,144 アース 142 磁場シールド 146 補助電極
フロントページの続き (72)発明者 大屋 正志 広島県広島市西区観音新町4丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内 (72)発明者 若元 郁夫 広島県広島市西区観音新町4丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内 (72)発明者 桂 敏明 広島県広島市西区観音新町4丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内 Fターム(参考) 2G085 AA03 BA04 BE07 DA08
Claims (5)
- 【請求項1】高周波を利用して電子を加速する電子加速
装置であって、 クライストロンと、 このクライストロンの一端側に設けられた電子を供給す
る電子供給源と、 上記クライストロン内の入口空洞から上記電子に高周波
を入射する高周波発振手段と、 上記クライストロンの他端側と連通すると共にクライス
トロンと一体的に接続された加速空洞と、 上記クライストロン内の他端側の出口空洞から増幅され
た高周波を導波手段を介して上記加速空洞に入射する高
周波入射手段と、 上記クライストロン内の他端側に設けられ上記増幅され
た高周波を放出した電子の一部を回収して残りの電子を
上記加速空洞に導入するコレクタ手段と、 を有することを特徴とする電子加速装置。 - 【請求項2】更に、上記クライストロンと加速空洞の接
続部に設けられた第2の入口空洞と、この第2の入口空
洞に上記高周波発生手段から高周波の一部を入射する第
2の高周波入射手段と、を有する請求項1記載の電子加
速装置。 - 【請求項3】高周波を利用して電子を加速する電子加速
装置であって、 電子を供給する電子供給源と、 高周波を入射して電子を加速させる加速空洞と、 上記電子供給源の周りに配置され、磁力線に沿って上記
電子がその一端側から上記加速空洞内に導かれるような
磁場を発生する磁場発生手段と、 上記加速空洞の他端側と連通するように設けられ加速さ
れた電子ビームを搬送する第1の電子ビーム搬送手段
と、 上記加速空洞の一端側と連通するように設けられ上記磁
場の影響を受けない逆行電子を搬送する第2の電子ビー
ム搬送手段と、 を有することを特徴とする電子加速装置。 - 【請求項4】更に、上記加速空洞の他端側に配置された
第2の電子供給源と、この第2の電子供給源の周りに配
置され、磁力線に沿って上記電子がその他端側から上記
加速空洞内に導かれるような磁場を発生する第2の磁場
発生手段と、を有し、これにより、上記高周波の全位相
にわたって上記電子源及び第2の電子源からの電子を上
記電子ビーム搬送手段及び第2の電子ビーム搬送手段に
向って加速するようにした請求項3記載の電子加速装
置。 - 【請求項5】更に、上記電子供給源を磁場シールドする
磁場シールド手段を有する請求項3記載の電子加速装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11135460A JP2000323299A (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 電子加速装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11135460A JP2000323299A (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 電子加速装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000323299A true JP2000323299A (ja) | 2000-11-24 |
Family
ID=15152241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11135460A Withdrawn JP2000323299A (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 電子加速装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000323299A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008243375A (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-09 | Ihi Corp | 荷電粒子ビーム減速装置および方法とこれを用いたx線発生装置 |
| JP2009187705A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 高エネルギー電子ビーム発生装置及びx線装置 |
| CN115176526A (zh) * | 2019-12-19 | 2022-10-11 | 伊利克塔有限公司 | 放射治疗装置 |
-
1999
- 1999-05-17 JP JP11135460A patent/JP2000323299A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008243375A (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-09 | Ihi Corp | 荷電粒子ビーム減速装置および方法とこれを用いたx線発生装置 |
| US8138678B2 (en) | 2007-03-23 | 2012-03-20 | Ihi Corporation | Charged particle beam decelerating device and method, and X-ray generating apparatus using the same |
| JP2009187705A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 高エネルギー電子ビーム発生装置及びx線装置 |
| CN115176526A (zh) * | 2019-12-19 | 2022-10-11 | 伊利克塔有限公司 | 放射治疗装置 |
| CN115176526B (zh) * | 2019-12-19 | 2026-01-30 | 医科达(英国)有限公司 | 放射治疗装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4578901B2 (ja) | 極端紫外光源装置 | |
| EP3427553B1 (en) | Hybrid standing wave/traveling wave linear accelerators for providing accelerated charged particles or radiation beams and method with the same | |
| US7466085B2 (en) | Cyclotron having permanent magnets | |
| US10212796B2 (en) | X-ray pulse source and method for generating X-ray pulses | |
| CN106797101A (zh) | 用于euv的自由电子激光器辐射源 | |
| US6327339B1 (en) | Industrial x-ray/electron beam source using an electron accelerator | |
| JPS63218200A (ja) | 超伝導sor発生装置 | |
| US6744225B2 (en) | Ion accelerator | |
| Read et al. | Design of a gridded gun and PPM-focusing structure for a high-power sheet electron beam | |
| US3450931A (en) | Cyclotron motion linear accelerator | |
| JP2000323299A (ja) | 電子加速装置 | |
| Friedman et al. | Electron accelerators driven by modulated intense relativistic electron beams | |
| RU2278439C1 (ru) | Клистрон | |
| JP4756283B2 (ja) | 電子ビーム発生装置、x線発生装置及びx線利用装置 | |
| US20020060521A1 (en) | Apparatus for bunching relativistic electrons | |
| JP2011165544A (ja) | 電子加速器及びこれを備えたx線発生装置 | |
| US3249792A (en) | Traveling wave tube with fast wave interaction means | |
| JPH1064699A (ja) | 円形加速器 | |
| TW201632033A (zh) | 改良的射束導管 | |
| Yonezawa et al. | Development of a 100-MW S band pulse klystron | |
| JPH11176595A (ja) | 電子加速装置 | |
| US5038111A (en) | Particle accelerator | |
| Valentini et al. | Low-loss electron beam transport in a high-power, electrostatic free-electron maser | |
| US20260122757A1 (en) | Tesla valve protection of accelerator components | |
| Aghamir et al. | Saturnus: the UCLA high-gain infrared FEL project |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060801 |