JP2000323386A - 鏡筒の支持装置及び露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 架台側からの振動の伝達を制限しつつ、鏡筒
の内部の光学系の光学性能の低下を抑制可能な鏡筒の支
持装置を提供する。 【解決手段】 レンズ１９ａ，２０ａ、ミラー１９ｂ等
の光学素子を備えた第１鏡筒２１及び第２鏡筒２２を、
フランジ部３２により、その光軸方向が重力方向に沿う
ように架台１４上に支持する。フランジ部３２とは前記
光軸方向に離間した位置において、支持リング３３によ
り、各鏡筒２１，２２のその光軸とほぼ直交する方向へ
の移動を規制する。支持リング３３の各鏡筒２１，２２
と対向する部分には弾性膜３８を張設し、支持リング３
３の内部を所定の圧力の空気で満たすことにより、架台
１４側から各鏡筒２１，２２への振動の伝達を制限す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レンズやミラー等
の光学素子を内装した鏡筒の支持装置、及びその鏡筒の
支持装置を備えた露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】この種の光学装置においては、複数のレ
ンズやミラー等よりなる光学素子が鏡筒の内部に収容さ
れ、その鏡筒は、鏡筒外周面の一部に形成されたフラン
ジ部において架台上に支持されている。そして、前記各
光学素子の傾きや間隔を鏡筒内で微妙に調整することに
より、高い光学性能を実現するようになっている。特
に、マスク上に形成されたパターンの像を感光材料の塗
布された基板上に転写する露光装置においては、前記鏡
筒内に保持された複数の光学素子を投影光学系として用
い、正確な結像性能を実現するようになっている。

【０００３】また、最近、この露光装置では、スループ
ットの向上のため露光領域の拡大要求が高まっている。
この要求に対応するため、ウエハ等の基板を保持する基
板ステージと、基板に転写するためのパターンが形成さ
れたマスクを保持するマスクステージとを、前記投影光
学系の光軸と直交する方向に相対移動させつつ、前記マ
スク上のパターンの像の転写を行う走査露光型の露光装
置が提案されている。

【０００４】さらに、半導体素子の高度集積化のため、
投影光学系の高解像度化の要求が高まっている。この要
求に対応するため、露光光の一層の短波長化及び投影光
学系の開口数の拡大が必要となってきており、色収差が
生じにくい反射屈折型の投影光学系も提案されてきてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記従来構
成においては、前記投影光学系を収容した鏡筒がフラン
ジ部を介して架台上に支持されるという単純な支持構造
になっている。このため、前記基板ステージとマスクス
テージとの相対移動に伴って発生した振動が、前記鏡筒
に伝達されて、同鏡筒が振動するおそれがあった。これ
により、前記投影光学系の光軸が所定位置からずれてし
まい、精度のよい結像性能が得られなくなるという問題
があった。

【０００６】このような問題に対処するため、例えば鏡
筒を外周のフランジ部において架台上に支持したうえ
で、鏡筒の外周やフランジ部を架台に対して強固に締付
け保持することにより、鏡筒の振動を抑制するように構
成することも考えられる。しかしながら、このように構
成した場合には、締付部材等による強固な締付けに伴っ
て、鏡筒の外周に過大な応力や不均一な応力が作用し
て、鏡筒が応力変形するおそれがあった。それにより、
鏡筒内の光学素子にも応力が加わり、光学性能が低下す
るという問題が生じる可能性もある。

【０００７】さらに、前記反射屈折型の投影光学系にお
いては、その投影光学系を複数の鏡筒に分割して構成す
る可能性がある。前記各鏡筒に振動が伝達された場合に
は、それらの鏡筒間における各光軸の相対位置にずれが
生じて、結像性能の低下を招くという問題もあった。

【０００８】本発明は、このような従来の技術に存在す
る問題点に着目してなされたものである。その目的とし
ては、架台から鏡筒に伝達する振動を制限し、光学系の
光学性能の低下を抑制することができる鏡筒の支持装置
を提供することにある。

【０００９】また、本発明のその上の目的としては、鏡
筒を架台上に支持した際、鏡筒に作用する応力を検出す
ることができて、その検出結果に基づいて鏡筒に作用す
る応力を調整することにより、鏡筒に応力変形が発生す
るのを抑制することができる鏡筒の支持装置を提供する
ことにある。

【００１０】さらに、本発明のその他の目的としては、
鏡筒内における光学系の光学性能の低下を抑制すること
ができて、マスク上のパターンの像を基板上に正確に転
写することができる露光装置を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、鏡筒の支持装置に係る本願請求項１に記載の発明
は、少なくとも１つの光学素子（１９ａ，１９ｂ，２０
ａ，２６）を備えた鏡筒（２１，２２，６５）を架台上
に支持するための鏡筒（２１，２２，６５）の支持装置
において、前記鏡筒（２１，２２，６５）と前記架台
（１４）との間に配置され、前記架台（１４）から前記
鏡筒（２１，２２，６５）への振動の伝達を制限する制
振手段（３８，５７，６７）を有することを要旨とする
ものである。

【００１２】このため、本願請求項１の発明において
は、架台上から鏡筒に伝達する振動を、制振手段により
制限することができる。よって、鏡筒と架台との相対位
置がずれるおそれがなく、投影光学系の光学性能の低下
を抑制することができる。

【００１３】また、鏡筒の支持装置に係る本願請求項２
に記載の発明は、少なくとも１つの光学素子（１９ａ，
１９ｂ，２０ａ，２６）を備えた鏡筒（２１，２２，６
５）を架台（１４）上に支持するための鏡筒（２１，２
２，６５）の支持装置において、前記架台（１４）上へ
の支持により、前記鏡筒（２１，２２，６５）に作用す
る応力を検出する応力検出手段（４１，４２）を備えた
ことを要旨とするものである。

【００１４】このため、本願請求項２に記載の発明にお
いては、架台上に鏡筒が支持された状態で、応力検出手
段により鏡筒に作用する応力を検出することができる。
よって、その応力の検出結果に基づいて鏡筒に作用する
応力を調整することにより、鏡筒に応力変形が発生する
のを抑制することができる。

【００１５】また、本願請求項３に記載の発明は、前記
請求項１に記載の発明において、前記鏡筒（２１，２
２，６５）はその光軸方向が重力方向に沿うように前記
架台（１４）上に支持され、前記鏡筒（２１，２２，６
５）の支持部（３２，３３，５５，６２，６８）は前記
鏡筒（２１，２２，６５）を支持する第１支持部（３
２）と、その第１支持部（３２）とは前記光軸方向に離
間した位置で、前記鏡筒（２１，２２，６５）の前記光
軸とほぼ直交する方向への移動を規制する第２支持部
（３３，５５，６２，６８）とを含むことを要旨とする
ものである。

【００１６】このため、本願請求項３に記載の発明で
は、前記請求項１に記載の発明の作用に加えて、両支持
部により、鏡筒における光軸とほぼ直交する方向への位
置ずれの発生を抑制することができる。よって、前記鏡
筒を、架台上におけるふらつき等が生じることなく、安
定に支持することができる。

【００１７】また、本願請求項４に記載の発明は、前記
請求項３に記載の発明において、前記第２支持部（３
３，５５，６２，６８）には、架台（１４）側からの振
動の伝達を制限する制振手段（３８，５７，６７）を設
けたことを要旨とするものである。

【００１８】このため、本願請求項４に記載の発明で
は、前記請求項３に記載の発明の作用に加えて、基板ス
テージ及びマスクステージが光軸と直交する方向に相対
移動されて、架台が主として光軸と直交する方向に振動
された場合でも、その振動が鏡筒に伝達されるのを、第
２支持部の制振手段によって効果的に制限することがで
きる。

【００１９】また、本願請求項５に記載の発明は、前記
請求項４に記載の発明において、前記制振手段（３８，
５７，６７）は前記鏡筒（２１，２２，６５）のほぼ全
周にわたって均一な静応力を作用せしめるダンピング要
素（３８，６７）またはバネ要素（３８，５７）からな
り、前記架台（１４）上への支持により前記鏡筒（２
１，２２，６５）に作用する応力を検出する応力検出手
段（４０，４１）と、前記ダンピング要素（３８，６
７）またはバネ要素（３８，５７）には前記応力検出手
段（４０，４１）の検出結果に基づいて前記静応力を変
更する変更手段（３３，３８，４２，４３，５５，５
６，６２，６７，６８）とを設けたことを要旨とするも
のである。

【００２０】このため、本願請求項５に記載の発明にお
いては、前記請求項４に記載の発明の作用に加えて、鏡
筒がほぼ全周にわたって均一な静応力にて支持された状
態で、応力検出手段により同鏡筒に作用する応力が検出
されるとともに、その検出結果に基づいて変更手段によ
り前記静応力が変更される。よって、前記鏡筒に作用す
る応力が過大になったり不均一になったりすることはな
く、同鏡筒が応力変形するおそれを一層確実に抑制する
ことができる。

【００２１】また、露光装置に係る本願請求項６に記載
の発明は、マスク（Ｒ）上に形成されたパターンの像を
投影光学系（１３）を介して基板（Ｗ）上に転写する露
光装置において、前記投影光学系（１３）を収容する鏡
筒（２１，２２，６５）を請求項１〜請求項５のうちい
ずれか一項に記載の鏡筒（２１，２２，６５）の支持装
置（２３，５４，６２，６８）により支持したことを要
旨とするものである。

【００２２】このため、本願請求項６に記載の発明にお
いては、基板ステージ及びマスクステージの相対移動に
伴って発生した振動が架台から鏡筒に伝達されるのが制
限され、鏡筒に揺れが生じるのを抑制することができ
る。従って、架台と鏡筒との相対位置がずれるのを抑制
することができる。また、架台上への前記鏡筒の支持に
伴って鏡筒に作用する応力を低減することができる。よ
って、前記鏡筒内における投影光学系の光学性能の低下
を抑制することができ、マスク上のパターンの像を基板
上に正確に転写することができる。また、鏡筒の振動が
抑制されるため、前記基板ステージ及びマスクステージ
の相対移動を高速化することができて、スループットを
向上させることができる。

【００２３】

【発明の実施の形態】（第１実施形態）以下に、本発明
を半導体素子製造用の走査露光型の露光装置に具体化し
た第１実施形態について図１〜図５に基づいて説明す
る。

【００２４】図１に示すように、露光装置の基台１１上
には、照明光学系１２、基板としてのウエハＷを載置保
持するためのウエハステージＷＳＴ、及び、投影光学系
１３を支持するための架台１４が配設されている。その
架台１４上には、マスクとしてのレチクルＲを載置保持
するためのレチクルステージＲＳＴを支持する上部架台
１５が配設されている。

【００２５】前記照明光学系１２は、前記レチクルＲに
所定の波長の照明光を照射するものである。この照明光
としては、例えばＫｒＦ、ＡｒＦ、Ｆ₂等のエキシマレ
ーザ光、ＹＡＧレーザ、金属蒸気レーザ等の高調波、ｇ
線、ｈ線、ｉ線等の紫外光等が挙げられる。この照明に
より、前記レチクルＲ上のパターンの像が、前記投影光
学系１３を介して、前記ウエハＷ上に投影転写される。
この場合、ウエハステージＷＳＴ及びレチクルステージ
ＲＳＴが後述する前記投影光学系１３の一部を収容保持
する第１鏡筒２１及び第２鏡筒２２の光軸とほぼ直交す
る方向に相対移動されて、前記パターンの像の投影転写
が行われる。

【００２６】図１及び図２に示すように、前記投影光学
系１３は反射屈折型光学系からなり、レチクルＲ上のパ
ターンの中間像を形成する第１結像光学系１９と、中間
像をウエハＷ上に形成する第２結像光学系２０とを備え
ている。前記架台１４上には、鏡筒としての第１鏡筒２
１及び同じく鏡筒としての第２鏡筒２２がそれぞれ支持
装置２３を介して、前記架台１４の上面に対しほぼ垂直
状態に支持されている。また、前記架台１４上には、第
１鏡筒２１及び第２鏡筒２２を光学的に連結する第３鏡
筒２４が支持柱体２５を介してほぼ水平状態に支持され
ている。そして、第３鏡筒２４の一端が第１鏡筒２１の
上端外周から内部に遊嵌されるとともに、第３鏡筒２４
の他端が第２鏡筒２２の上端に対向配置されている。

【００２７】そして、レチクルＲ側に設けられる第１鏡
筒２１内には、第１結像光学系１９を構成する複数の光
学素子としてのレンズ１９ａや同じく光学素子としての
ミラー１９ｂが収容保持されている。ウエハＷ側に設け
られる第２鏡筒２２内には、第２結像光学系２０を構成
する光学素子としての複数のレンズ２０ａが収容保持さ
れている。また、第３鏡筒２４内には、光学素子として
の複数の反射用ミラー２６が収容保持されている。

【００２８】前記架台１４上には前記上部架台１５等に
よりチャンバとして作用する気密空間２７が区画形成さ
れ、この気密空間２７内は窒素、ヘリウム、ネオン、ア
ルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の不活性ガス
でパージされている。そして、投影光学系１３の各レン
ズ１９ａ，２０ａ及び各ミラー１９ｂ，２６が、この不
活性ガスの雰囲気中に配置されるようになっている。

【００２９】次に、前記第１鏡筒２１及び第２鏡筒２２
の支持装置２３について、詳細に説明する。図１〜図５
に示すように、前記架台１４には一対の挿通孔３１が形
成され、これらの挿通孔３１に前記第１鏡筒２１及び第
２鏡筒２２の下端部がそれぞれ挿通されている。前記各
鏡筒２１，２２の下端部寄りの外周には第１支持部とし
てのフランジ部３２が光軸と直交する方向に突出形成さ
れ、これらのフランジ部３２の下面が前記架台１４の上
面に当接されている。これにより、前記各鏡筒２１，２
２が前記架台１４上において、その光軸方向を重力方向
に沿わせるようにほぼ垂直状態で支持される。そして、
前記各鏡筒２１，２２の重量が、フランジ部３２を介し
て架台１４により受承されるようになっている。

【００３０】前記架台１４上には、前記各鏡筒２１，２
２を取り囲むように複数の支持柱体３４ａ，３４ｂが立
設されている。この支持柱体３４ａ，３４ｂは、例えば
前記各鏡筒２１，２２を中心とする円周上に等間隔（１
２０°ごと）に配置されている。すなわち、第１鏡筒２
１及び第２鏡筒２２の周囲に３つの支持柱体３４ａ，３
４ｂが存在することになる。その際、支持柱体３４ａは
第１鏡筒２１及び第２鏡筒２２の支持柱体として兼用さ
れる。その支持柱体３４ａ，３４ｂ上には支持台３５が
支持され、この支持台３５上に第２支持部及び変更手段
の一部を構成する２つの中空円環状をなす支持リング３
３が各鏡筒２１，２２の周りを囲むように配設されてい
る。

【００３１】この支持リング３３は、２つの単位部分３
３ａ，３３ｂに分割して構成され、一方の単位部分３３
ａが支持柱体３４ａの支持台３５に固定されている。他
方の単位部分３３ｂは、図示しないクランプ等により一
方の単位部分３３ａにシールリング３６を介して着脱可
能に取り付けられるとともに、各支持柱体３４ｂの支持
台３５に載置されている。

【００３２】そして、これらの支持リング３３には、前
記第１鏡筒２１及び第２鏡筒２２が前記フランジ部３２
から前記光軸方向に離間した上端部付近において挿通保
持されている。このように、前記各鏡筒２１，２２が、
その光軸とほぼ直交する方向への移動が規制された状態
で支持されるようになっている。

【００３３】この場合、前記支持リング３３による各鏡
筒２１，２２の保持位置は、同鏡筒２１，２２内の結像
光学系１９，２０への影響の少ない位置、すなわち鏡筒
２１，２２内にレンズ１９ａ，２０ａ等が保持されてい
ない位置となるように設定されている。また、この支持
リング３３による各鏡筒２１，２２の保持位置は、各鏡
筒２１，２２のほぼ中央部外周に取れ付けられる結像特
性調整装置（図示略）と干渉しない位置となるように設
定されている。そして、この結像特性調整装置によっ
て、鏡筒２１，２２内の各レンズ１９ａ，２０ａの相対
位置の調整や、各レンズ１９ａ，２０ａ間の空間の圧力
の調整が行われるようになっている。

【００３４】前記支持リング３３の各単位部分３３ａ，
３３ｂの内周面には開口部３７が形成され、これらの開
口部３７にはダンピング要素及びバネ要素並びに変更手
段の一部を構成するゴム膜等の弾性膜３８が張設されて
いる。支持リング３３の一方の単位部分３３ａの外周に
は空気排出口兼用の空気供給口３９が形成され、その空
気供給口３９には変更手段の一部を構成する空気供給源
４３が接続されている。

【００３５】そして、この空気供給源４３から前記空気
供給口３９を介して支持リング３３の内部に空気が供給
されることにより、弾性膜３８が各鏡筒２１，２２の外
周面に密着する。そして、弾性膜３８と支持リング３３
内部の空気とからなるエアパッドが構成され、それらの
鏡筒２１，２２のほぼ全周にわたって均一な静応力が付
与される。この状態では、架台１４を介して各鏡筒２
１，２２へ伝達される振動が弾性膜３８及び支持リング
３３内部の空気により吸収され、各鏡筒２１，２２への
振動の伝達が制限されるようになっている。また、支持
リング３３内部の空気の圧力を調整することにより、前
記弾性膜３３の剛性、つまりエアパッドの剛性が変更さ
れ、各鏡筒２１，２２に作用する応力も調整可能なよう
になっている。

【００３６】図２に示すように、前記第１鏡筒２１及び
第２鏡筒２２の外周のフランジ部３２と近接する位置に
は、応力検出手段としての一対の歪みゲージ４０が所定
間隔おきに対向配置されている。この歪みゲージ４０に
よって、架台１４上への各鏡筒２１，２２の支持に伴っ
てそれらの鏡筒２１，２２に作用する応力、特に鏡筒２
１，２２の傾き方向や捩じれ方向の応力が検出されるよ
うになっている。

【００３７】図２及び図３に示すように、前記各鏡筒２
１，２２の外周の支持リング３３と対応する位置には、
応力検出手段としての一対の力センサ４１が所定間隔お
きに配設されている。この力センサ４１によって、架台
１４上への各鏡筒２１，２２の支持に伴ってそれらの鏡
筒２１，２２に作用する応力、特に支持リング３３の弾
性膜３８の密着により鏡筒２１，２２の外周に付与され
る挟圧応力が検出されるようになっている。

【００３８】前記各支持リング３３上には変更手段の一
部を構成する圧力計４２が配設され、この圧力計４２に
より支持リング３３内の空気圧力が測定される。そし
て、前記歪みゲージ４０及び力センサ４１による応力の
検出結果に基づいて、この圧力計４２の測定値をチェッ
クしながら、前記空気供給源４３からの空気の供給量が
調整される。これにより、前記支持リング３３の弾性膜
３８を介して鏡筒２１，２２に付与される静応力が変更
されるようになっている。

【００３９】次に、前記のように構成された露光装置に
おける鏡筒の支持装置２３についてその作用を説明す
る。さて、この前記第１鏡筒２１及び第２鏡筒２２の支
持装置２３においては、前記各鏡筒２１，２２を架台１
４上に支持した状態で、前記空気供給源４３から前記支
持リング３３の内部に空気を供給することにより、弾性
膜３８が各鏡筒２１，２２の外周面に密着する。そし
て、それらの鏡筒２１，２２のほぼ全周にわたって均一
な静応力が付与される。従って、前記各鏡筒２１，２２
に過大な応力や不均一な応力が作用することはほとんど
なく、各鏡筒２１，２２に応力変形が発生しにくくな
る。

【００４０】ここで、ウエハステージＷＳＴ及びレチク
ルステージＲＳＴが前記各鏡筒２１，２２の光軸と直交
する方向に相対移動しながら、レチクルＲ上のパターン
の像をウエハＷ上に投影転写する際には、前記相対移動
に伴って振動が発生することがある。この振動は、前記
光軸と直交する方向の振動が主成分となる。ウエハステ
ージＷＳＴ側で発生した振動は、基台１１を介して架台
１４に伝達され、レチクルステージＲＳＴ側で発生した
振動は、上部架台１５を介して架台１４に伝達される。
そして、前記架台１４が主として前記光軸と直交する方
向に振動されることになる。

【００４１】これに対して、本実施形態の支持装置２３
では、前記のように前記弾性膜３８が前記各鏡筒２１，
２２の外周面のほぼ全周にわたって密着し、各鏡筒２
１，２２をその径方向に支持した状態となっている。そ
して、前記弾性膜３８の張設された支持リング３３の内
部は、所定の圧力の空気で満たされている。このため、
架台１４から伝達される振動が、前記弾性膜３８及び支
持リング３３内部の空気のたわみにより吸収され、各鏡
筒２１，２２がフランジ部３２を起点として傾いたりす
ることが抑制される。特に、前記支持リング３３は、各
鏡筒２１，２２をその径方向に支持しているため、前記
のような各鏡筒２１，２２の光軸と直交する方向への振
動が効果的に吸収される。よって、前記各鏡筒２１，２
２の振動により、各鏡筒２１，２２の傾きや相対位置に
狂いが生じるおそれは少ない。

【００４２】さらに、各鏡筒２１，２２に傾き等が生じ
た場合には、一対の前記歪みゲージ４０にて検出される
歪み量に差が生じるとともに、一対の前記力センサ４１
にて検出される応力の値に差が生じる。そして、これら
の差に基づいて前記空気供給源４３からの空気の供給量
が加減されて、前記支持リング３３の内部圧力が調整さ
れる。これにより、支持リング３３の弾性膜３８を介し
て各鏡筒２１，２２に付与される静応力が変更されて、
鏡筒２１，２２に傾き等に伴う応力の不均衡が是正され
る。

【００４３】従って、本実施形態によれば、以下のよう
な効果を得ることができる。 （イ） 本実施形態の支持装置２３では、前記第１鏡筒
２１及び第２鏡筒２２と架台１４との間に支持リング３
３が配置されている。この支持リング３３は、その内部
に空気の満たされており、その弾性膜３８において前記
各鏡筒２１，２２に接している。そして、この弾性膜３
８により、架台１４側から鏡筒２１，２２への振動の伝
達が制限されるようになっている。

【００４４】従って、架台１４上に鏡筒２１，２２が支
持された状態で、ウエハステージＷＳＴ及びレチクルス
テージＲＳＴの相対移動等に伴って、架台１４に振動が
生じた場合でも、その振動が各鏡筒２１，２２に伝達さ
れるのを制限することができる。よって、各鏡筒２１，
２２の傾きや相対位置が前記振動により変化するおそれ
はなく、投影光学系１３に光学性能の低下が生じるのを
抑制することができる。また、架台側１４から鏡筒２
１，２２への振動の伝達を制限できるため、ウエハステ
ージＷＳＴ及びレチクルステージＲＳＴの相対移動を高
速化することができて、露光装置のスループットを向上
させることができる。

【００４５】（ロ） 本実施形態の支持装置２３では、
第１鏡筒２１及び第２鏡筒２２に歪みゲージ４０及び力
センサ４１がそれぞれ所定間隔をおいて配置されてい
る。これらの歪みゲージ４０及び力センサ４１により、
架台１４上への前記各鏡筒２１，２２の支持に伴つて、
各鏡筒２１，２２に作用する応力が検出されるようにな
っている。

【００４６】このため、架台１４上に各鏡筒２１，２２
が支持された状態で、各鏡筒２１，２２に作用する応力
を検出することができ、その応力の検出結果に基づいて
鏡筒２１，２２に作用する応力を調整することができ
る。従って、各鏡筒２１，２２に過大な応力や不均一な
応力が作用して、各鏡筒２１，２２に応力変形が発生す
るのを抑制することができる。よって、各鏡筒２１，２
２の応力変形により、各鏡筒２１，２２内のレンズ１９
ａ，２０ａ、ミラー１９ｂ等の光学素子の傾きや相対位
置が変化して、投影光学系１３に光学性能の低下が生じ
るのを抑制することができる。

【００４７】（ハ） 本実施形態の露光装置では、第１
鏡筒２１及び第２鏡筒２２が架台１４上において、その
光軸方向を重力方向に沿わせるように支持されている。
この各鏡筒２１，２２の重量は、フランジ部３２を介し
て架台１４で受承されている。そして、各鏡筒２１，２
２は、そのフランジ部３２とは前記光軸方向に離間した
位置で、支持リング３３により各鏡筒２１，２２の前記
光軸とほぼ直交する方向への移動が規制されている。従
って、フランジ部３２と支持リング３３の協働作用によ
り、各鏡筒２１，２２を架台１４上にふらつき等が生じ
ることなく安定に支持することができる。

【００４８】（ニ） 本実施形態の支持装置２３では、
その支持リング３３が弾性膜３８を介して各鏡筒２１，
２２のほぼ全周にわたって均一な静応力を作用させるダ
ンピング要素となっている。そして、前記架台１４上へ
の支持により各鏡筒２１，２２に作用する応力が歪みゲ
ージ４０及び力センサ４１により検出され、その検出結
果に基づいて、各鏡筒２１，２２に作用する静応力が変
更されるようになっている。従って、各鏡筒２１，２２
に作用する応力が過大になったり不均一になったりする
ことはなく、各鏡筒２１，２２における応力変形の発生
を一層確実に抑制することができる。

【００４９】（ホ） 本実施形態の支持装置２３では、
その支持リング３３が各鏡筒２１，２２の周方向に２つ
の単位部分３３ａ，３３ｂに分割され、一方の単位部分
３３ｂが前記架台１４に対して着脱可能に形成されてい
る。このため、着脱可能な単位部分３３ｂを前記架台１
４から取り外した状態で、同架台１４に対して各鏡筒２
１，２２またはそれら鏡筒２１，２２内の各レンズ１９
ａ，２０ａ、ミラー１９ｂ等の光学素子の調整を行うこ
とができる。従って、各鏡筒２１，２２内のレンズ１９
ａ，２０ａ、ミラー１９ｂ等の光学素子の傾きや相対位
置を手動操作にて機械的に調整する場合、その調整操作
を容易に行うことができる。

【００５０】（ヘ） 本実施形態の露光装置では、投影
光学系１３が反射屈折光学系であって、その投影光学系
１３が第１結像光学系１９を収容保持する第１鏡筒２１
と第２結像光学系２０を収容保持する第２鏡筒２２とを
含んでいる。そして、各鏡筒２１，２２が、それぞれ架
台１４側から前記各鏡筒２１，２２への振動の伝達を制
限可能な支持装置２３を介して架台１４上に支持されて
いる。

【００５１】このため、前記振動により、各鏡筒２１，
２２にそれぞれ異なった方向への、またそれぞれ異なっ
た大きさの位置ずれを生じるおそれがほとんどなく、両
鏡筒２１，２２間の相対位置にずれが生じるのを抑制す
ることができる。従って、本実施形態の支持装置２３
は、構造の複雑な反射屈折型の投影光学系１３を備えた
露光装置に好適である。

【００５２】（第２実施形態）次に、本発明の第２実施
形態について、前記第１実施形態と異なる部分を中心に
説明する。

【００５３】この第２実施形態においては、図６〜図８
に示すように、前記第１実施形態における第３鏡筒２４
が省略され、光学素子としての一対の反射用ミラー２６
が第１鏡筒２１及び第２鏡筒２２の上部に分かれて保持
されている。また、前記第１鏡筒２１及び第２鏡筒２２
は、それぞれ分割可能な複数のサブ鏡筒２１ａ，２２ａ
からなっている。それらのサブ鏡筒２１ａ，２２ａは、
スペーサ５１を介して順に連結固定されている。

【００５４】前記第１鏡筒２１及び第２鏡筒２２のフラ
ンジ部３２の下面には、各３個の係合球体５２が同一円
周上で等間隔おきに固定配置されている。また、そのフ
ランジ部３２と対向する架台１４上の各挿通孔３１の開
口周縁には、各３個の断面ほぼＶ字状の位置決め溝５３
が、前記係合球体５２と同一円周上で等間隔おきに形成
されている。そして、前記係合球体５２が前記位置決め
溝５３に係合することにより、前記フランジ部３２が架
台１４上の所定位置に着脱可能に位置決め保持されるよ
うになっている。

【００５５】図７及び図８に示すように、前記各鏡筒２
１，２２を支持する支持装置５４の構成が前記第１実施
形態とは異なっている。すなわち、この支持装置５４に
おける第２支持部及び変更手段の一部を構成する支持リ
ング５５はリング状をなし、円周方向へ２つの単位部分
５５ａ，５５ｂに分割して形成されている。そして、一
方の単位部分５５ａが支持台３５上に固定配置されると
ともに、他方の単位部分５５ｂが図示しないクランプ等
により、一方の単位部分５５ａに着脱可能に取り付けら
れている。

【００５６】前記支持リング５５には、変更手段を構成
する４つの調節ネジ５６が等間隔おきで回動調節可能に
螺合されている。それらの調節ネジ５６と対向するよう
に、前記各鏡筒２１，２２の外周には、４つの前記力セ
ンサ４１がそれぞれ配設されている。各調節ネジ５６と
力センサ４１との間にはバネ要素としてのコイルバネ５
７がそれぞれ介装され、これらのバネ５７により各鏡筒
２１，２２のほぼ全周にわたって均一な静応力が付与さ
れるようになっている。

【００５７】なお、この第２実施形態においては、前記
第１実施形態における歪みセンサ４０が省略されてい
る。さて、この第２実施形態において、前記各鏡筒２
１，２２内のレンズ１９ａ，２０ａ、ミラー１９ｂ，２
６等の光学素子の傾きや相対位置を手動操作にて調整す
る場合には、前記第１実施形態と同様に、まず支持リン
グ５５の着脱可能な単位部分５５ｂを固定側の単位部分
５５ａから取り外す。そして、レンズ１９ａ，２０ａ、
ミラー１９ｂ，２６等の位置や傾きを調整し、再び前記
着脱可能な単位部分５５ｂを前記固定側の単位部分５５
ａに取着する。

【００５８】さらに、この第２実施形態においては、各
鏡筒２１，２２が架台１４上に支持された状態で、複数
のコイルバネ５７により、各鏡筒２１，２２のほぼ全周
にわたって均一な静応力が付与されている。このため、
各鏡筒２１，２２に傾き等が発生した場合には、前記各
力センサ４１にて検出される応力の値の分布が変化す
る。そして、このように検出された応力の値の分布に基
づいて、各力センサ４１と対応する調節ネジ５６の螺合
量を調節することにより、各鏡筒２１，２２に作用する
静応力の不均衡を容易に是正することができる。

【００５９】また、架台１４側から伝達される振動が、
前記コイルバネ５７のたわみにより吸収され、各鏡筒２
１，２２がフランジ部３２を起点として傾いたりするこ
とが抑制される。特に、前記コイルバネ５７は、各鏡筒
２１，２２をその径方向に支持しているため、前記振動
のような各鏡筒２１，２２の光軸と直交する方向への振
動が効果的に吸収される。よって、各鏡筒２１，２２の
振動により、各鏡筒２１，２２の傾きや相対位置に狂い
が生じるおそれは少ない。

【００６０】従って、本実施形態によれば、前記第１実
施形態における（ロ）、（ハ）、（ホ）及び（へ）に記
載の効果に加えて、以下のような効果を得ることができ
る。（ト） 本実施形態の支持装置５４では、前記第１
鏡筒２１及び第２鏡筒２２と架台１４との間に支持リン
グ５５が配置されている。前記各鏡筒２１，２２は、４
つのコイルバネ５７及び調節ネジ５６を介して前記支持
リング５５に支持されている。そして、このコイルバネ
５７により、架台１４側から各鏡筒２１，２２への振動
の伝達が制限されるようになっている。

【００６１】従って、前記（イ）に記載したのと同様
に、各鏡筒２１，２２の傾きや相対位置が前記振動によ
り変化するおそれはなく、投影光学系１３に光学性能の
低下が生じるのを抑制することができる。また、ウエハ
ステージＷＳＴ及びレチクルステージＲＳＴの相対移動
を高速化することができて、露光装置のスループットを
向上させることができる。

【００６２】（チ） 本実施形態の支持装置５４では、
４つの力センサ４１が各鏡筒２１，２２の周方向に所定
の間隔をおいて設けられるとともに、コイルバネ５７が
各力センサ４１と対応するように設けられている。そし
て、各コイルバネ５７毎に対向する力センサ４１の検出
結果に基づいて、静応力を変更可能なようになってい
る。

【００６３】このため、力センサ４１により、各鏡筒２
１，２２に作用する応力の分布を検出することができ、
その応力分布の検出結果に基づいて、各コイルバネ５７
から各鏡筒２１，２２に付与される静応力を各調節ネジ
５６別に変更することができる。従って、各鏡筒２１，
２２に作用する応力の分布をキャンセルすることができ
て、各鏡筒２１，２２の傾き等を正確に補正することが
できる。

【００６４】（リ） 本実施形態の支持装置５４では、
各鏡筒２１，２２のフランジ部３２の係合球体４６及び
架台１４上の位置決め溝４７よりなる位置決め構成が施
されている。これにより、前記フランジ部３２が前記架
台１４上の所定位置に位置決めされるようになってい
る。

【００６５】このため、ウエハステージＷＳＴとレチク
ルステージＲＳＴとの相対移動に伴う振動によって、各
鏡筒２１，２２と前記架台１４との相対位置に前記振動
方向におけるずれが生じたりするのが抑制される。特
に、前記架台１４上に複数の複数の鏡筒２１，２２が支
持された反射屈折型の露光装置においては、各鏡筒２
１，２２間の相対位置にずれが生じるのを一層確実に抑
制することができる。

【００６６】（ヌ） 本実施形態の露光装置では、第１
鏡筒２１及び第２鏡筒２２がそれぞれ分割可能に連結固
定された複数のサブ鏡筒２１ａ，２２ａにより構成され
ている。このため、各鏡筒２１，２２内に収容保持され
た各レンズ１９ａ，２０ａ及びミラー１９ｂ，２６の傾
き及び相対位置を手動操作にて機械的に調節する場合に
おいて、各鏡筒２１，２２を各サブ鏡筒２１ａ，２２ａ
に分割して行うことができる。従って、その調整操作を
一層容易に行うことができる。

【００６７】（ヲ） 本実施形態の露光装置では、第１
実施形態における第３鏡筒２４が省略され、一対のミラ
ー２６は前記第１鏡筒２１と第２鏡筒２２との別々に保
持されている。このため、前記第３鏡筒２４を架台１４
上に支持するための支持柱体２５も省略することがで
き、構成の簡素化を図ることができる。また、前記第３
鏡筒２４と前記第１鏡筒２１及び第２鏡筒２２との相対
位置のずれに伴う投影光学系１３の光学性能の低下が生
じることがなく、投影光学系１３における調整要因を減
らすことができる。

【００６８】（第３実施形態）次に、本発明の第３実施
形態について、前記第１実施形態と異なる部分を中心に
説明する。

【００６９】図９に示すように、この第３実施形態の支
持装置６１においては、第２支持部第２支持部及び変更
手段の一部を構成する中空円環状の支持リング６２が４
つの単位部分６２ａ〜６２ｄに分割して構成されてい
る。そして、２つの単位部分６２ａ，６２ｂが支持台３
５上に固定されるとともに、残りの２つの単位部分６２
ｃ，６２ｄが着脱可能になっている。また、各単位部分
６２ａ〜６２ｄ内にそれぞれ独立した空気室６３が形成
され、各単位部分６２ａ〜６２ｄの外周に突設された空
気供給口３９を介して空気供給源４３から各空気室６３
内へそれぞれ独立して空気が供給されるようになってい
る。

【００７０】さらに、前記支持リング６２の各単位部分
６２ａ〜６２ｄの内周には開口部３７が形成され、それ
らの開口部３７には前記弾性膜３８がそれぞれ張設され
ている。そして、これらの弾性膜３８と対応するよう
に、第１鏡筒２１及び第２鏡筒２２の外周には各４つの
前記力センサ４１が配設されている。

【００７１】さて、この第３実施形態においては、各鏡
筒２１，２２に傾き等が発生した場合に、前記各力セン
サ４１にて検出される応力の値の分布に基づいて、それ
らの力センサ４１と対応する単位部分６２ａ〜６２ｄの
空気室６３に対する空気の供給量が調整される。これに
より、各鏡筒２１，２２の外周に対する各単位部分６２
ａ〜６２ｄの弾性膜３８の密着力が変更されるようにな
っている。

【００７２】従って、本実施形態によれば、前記第１実
施形態における（イ）〜（ヘ）に記載の効果に加えて、
以下のような効果を得ることができる。 （ワ） 本実施形態の支持装置６１では、支持リング６
２が４つの単位部分６２ａ〜６２ｄに分割され、そのそ
れぞれに独立した空気室６３が形成されている。そし
て、各空気室６３内に対応した力センサ４１で検出され
た応力値の分布に基づいて、前記各空気室６３内に供給
される空気量がそれぞれ独立して調節される。

【００７３】このため、各鏡筒２１，２２に作用する静
応力の分布に基づいて、各弾性膜３８から各鏡筒２１，
２２に付与される静応力をそれぞれ独立して変更するこ
とができる。従って、各鏡筒２１，２２に作用する静応
力の分布をキャンセルすることができ、各鏡筒２１，２
２の傾き等を正確に補正することができる。

【００７４】（変更例）なお、本発明の前記各実施形態
は、例えば以下のように変更してもよい。 ・ 前記各実施形態では、本発明の支持装置２３，５
４，６１を、反射屈折型の投影光学系１３を有する露光
装置の鏡筒支持装置に具体化したが、図１０に示すよう
に屈折型の投影光学系を収容する鏡筒６５を有する露光
装置に適用してもよい。この場合、支持リング３３は、
前記鏡筒６５を取り囲むように立設された、例えば３本
の支持柱体３４ｂ上の支持台３５に対して固定される。
また、反射型の投影光学系を有する露光装置に適用して
もよい。このようにした場合にも、前記各実施形態にお
ける効果とほぼ同様の効果が得られる。 ・ 前記各実施形態では、第１鏡筒２１及び第２鏡筒２
２を支持する支持リング３３，５５，６２をそれぞれ別
体に形成したが、この２つの支持リング３３，５５，６
２を、例えば横８の字状等に一体的に連結形成してもよ
い。このようにした場合、前記各実施形態における
（イ）〜（ワ）に記載の効果に加えて、部品点数の削減
を図ることができるという効果が得られる。

【００７５】・ 前記各実施形態では、支持リング３
３，５５，６２に対応して各鏡筒２１，２２の外周に複
数の力センサ４１を配設したが、これを圧電素子、歪み
ゲージ等に変更してもよい。このようにした場合にも、
前記各実施形態における効果とほぼ同様の効果が得られ
る。

【００７６】・ 前記第１実施形態では、中空円環状の
支持リング３３の内周に弾性膜３８を張設した構成とな
っているが、これを例えば図１１に示すように、支持装
置６６の構成に変更してもよい。

【００７７】すなわち、第１鏡筒２１と第２鏡筒２２と
の少なくとも一方に環状のダンピング要素及びバネ要素
を構成するゴムチューブ６７を予め挿通しておき、その
外周に断面ほぼ横Ｕ字状の円環状をなす支持リング６８
を被覆装着する。この場合、前記ゴムチューブ６７及び
支持リング６８により第２支持部及び変更手段の一部が
構成されている。この状態で、空気供給口３９からゴム
チューブ６７内に空気を供給することにより、そのゴム
チューブ６７が膨らんで各鏡筒２１，２２の外周に密着
し、各鏡筒２１，２２に静応力が付与されるように構成
する。

【００７８】このようにした場合、前記第１実施形態に
おける（イ）〜（ヘ）に記載の効果に加えて、各鏡筒２
１，２２の全周にわたって更に均一な静応力が生じ、各
鏡筒２１，２２が応力変形するおそれを一層確実に抑制
することができるという効果が得られる。

【００７９】・ 前記第１及び第３実施形態では、前記
支持リング３３，６２に空気排出口を兼用する空気供給
口３９が突設されているが、空気排出口を空気供給口３
９と別に設けてもよい。このようにした場合、前記第１
実施形態における（イ）〜（ヘ）及び第３実施形態にお
ける（ワ）に記載の効果に加えて、圧力調整の応答性が
向上するという効果が得られる。

【００８０】・ 前記第１及び第３実施形態では、支持
リング３３，６２内に空気が供給されるようになってい
るが、この供給圧力流体を、空気とは異なる他の気体、
例えば窒素、ヘリウム、アルゴン等、あるいは水やオイ
ル等の液体に変更してもよい。このようにした場合に
も、前記第１及び第３実施形態における効果と同様の効
果が得られる。

【００８１】・ 前記第２実施形態では、バネ要素とし
てコイルバネ５７を使用したが、これを板バネ等に変更
してもよい。このようにした場合にも、前記第２実施形
態における効果と同様の効果が得られる。

【００８２】・ 前記第２実施形態では、各４個の調節
ネジ５６、コイルバネ５７及び力センサ４１を対向配置
したが、これらの数を３個または５個以上に変更しても
よい。このようにした場合にも、前記第２実施形態にお
ける効果と同様の効果が得られる。

【００８３】・ 前記第２実施形態では、第１実施形態
における歪みセンサ４０が省略されているが、第２実施
形態の構成において、第１実施形態と同様に歪みセンサ
４０を設けてもよい。このようにした場合、前記第２実
施形態における効果に加えて、歪みセンサ４０及び力セ
ンサ４１の検出結果に基づいて、第１鏡筒２１及び第２
鏡筒２２に作用する静応力を一層均一に調整することが
できるという効果が得られる。

【００８４】・ 前記各実施形態では、本発明を半導体
製造用の露光装置に具体化したが、本発明は、例えばフ
ォトマスク上の回路パターンをガラスプレート上に投影
転写する液晶表示素子用の露光装置の他、撮像素子、薄
膜磁気ヘッド等のマイクロデバイス製造用の露光装置、
さらにはレチクル、フォトマスク等を製造するための露
光装置にも具体化することができる。

【００８５】前記各実施形態に記載の鏡筒の支持装置２
３，５４，６１，６６は、前述した機能を達成するため
に、装置を構成する各要素が機械的（配管を含む）に結
合されて組み上げられるものである。同様に、前記支持
装置２３，５４，６１，６６を備える露光装置は、前述
した機能を達成するために、装置を構成する各要素が機
械的（配管を含む）、電気的（配線を含む）、光学的
（光学調整を含む）に結合されて組み上げられるもので
ある。

【００８６】次に、前記各実施形態及び変更例から把握
できる請求項に記載した発明以外の技術的思想につい
て、それらの効果と共に以下に記載する。 （１） 前記応力検出手段を前記鏡筒の周方向に所定の
間隔をおいて複数設け、前記ダンピング要素を各応力検
出手段と対応するように複数に分割し、各ダンピング要
素毎に対応する各応力検出手段の検出結果に基づいて前
記静応力を変更するようにした請求項５に記載の鏡筒の
支持機構。

【００８７】この（１）に記載の発明によれば、各応力
検出手段毎に検出された応力の値に基づいて、各ダンピ
ング要素から鏡筒に付与される静応力をそれぞれ独立し
て変更することができる。従って、前記鏡筒に作用する
応力の分布をキャンセルすることができて、前記鏡筒の
傾き等を正確に補正することができるという効果が得ら
れる。

【００８８】（２） 前記応力検出手段を前記鏡筒の周
方向に所定の間隔をおいて少なくとも３つ設け、前記バ
ネ要素を各応力検出手段と対応するように少なくとも３
つ設け、前記各バネ要素毎に対応する各応力検出手段の
検出結果に基づいて前記静応力を変更するようにした請
求項５に記載の鏡筒の支持機構。

【００８９】この（２）に記載の発明によれば、各応力
検出手段毎に検出された応力の値に基づいて、各バネ要
素から鏡筒に付与される静応力をそれぞれ独立して変更
することができる。よって、鏡筒に作用する応力の分布
をキャンセルすることができて、鏡筒の傾き等を正確に
補正することができるという効果が得られる。

【００９０】（３） 前記第２支持部を前記鏡筒の周方
向に複数の単位に分割し、少なくとも１つの単位を前記
架台に対して着脱可能に形成した請求項３〜請求項５、
前記（１）及び前記（２）のうちいずれか一項に記載の
鏡筒の支持装置。

【００９１】この（３）に記載の発明によれば、鏡筒内
の光学素子の傾きや相対位置を手動操作にて機械的に調
整する場合、前記少なくとも１つの単位を取り外して、
その調整操作を容易に行うことができるという効果が得
られる。

【００９２】（４） 前記第１支持部には、その第１支
持部を前記架台の所定位置に位置決めする位置決め手段
を設けた請求項３〜請求項５及び前記（１）〜前記
（３）のうちいずれか一項に記載の鏡筒の支持装置。

【００９３】この（４）に記載の発明によれば、架台側
の振動にかかわらず第１支持部を常に所定の位置に位置
決めすることができる。従って、特に架台上に複数の鏡
筒が支持されている場合には、各鏡筒間の相対位置のず
れを効果的に抑制することができるという効果が得られ
る。

【００９４】（５） 前記投影光学系は反射屈折光学系
であって、同投影光学系は前記マスク上のパターンの中
間像を形成する第１結像光学系と、前記中間像を前記基
板上に形成する第２結像光学系とを含み、前記鏡筒は前
記第１結像光学系を収容する第１鏡筒と前記第２結像光
学系を収容する第２鏡筒とを含む請求項６に記載の露光
装置。

【００９５】この（５）に記載の発明によれば、架台側
から複数の鏡筒に振動が伝達されるのを制限することが
できて、複数の鏡筒間で相対位置にずれが生じるのを抑
制することができる。よって、反射屈折型の投影光学系
を備えた露光装置に好適であるという効果が得られる。

【００９６】

【発明の効果】以上詳述したように、本願請求項１の発
明によれば、架台側からの振動の伝達を制限した状態で
鏡筒を架台上に支持することができ、鏡筒の傾きや相対
位置が変化して、その内部の光学系の光学性能が低下す
るのを抑制することができる。

【００９７】また、本願請求項２の発明によれば、鏡筒
が架台上に支持された状態で、鏡筒に作用する応力を検
出することができて、その検出結果に基づいて鏡筒に作
用する応力を調整することにより、鏡筒に応力変形が発
生するおそれを抑制することができる。

【００９８】また、本願請求項３の発明によれば、前記
請求項１に記載の発明の効果に加えて、第１支持部と第
２支持部との協働作用により、鏡筒を架台上においてふ
らつき等が生じることなく安定に支持することができ
る。

【００９９】また、本願請求項４の発明によれば、前記
請求項３に記載の発明の効果に加えて、基板ステージ及
びマスクステージが光軸と直交する方向に相対移動に伴
って、架台が主として光軸と直交する方向に振動された
場合でも、その振動がさらに鏡筒に伝達されるのを効果
的に制限することができる。

【０１００】また、本願請求項５の発明によれば、前記
請求項４に記載の発明の効果に加えて、鏡筒に作用する
応力が過大になったり不均一になったりするのを抑制す
ることができて、鏡筒が応力変形するおそれを一層確実
に抑制することができる。

【０１０１】また、本願請求項６の発明によれば、鏡筒
内における光学系の光学性能の低下を抑制することがで
きて、マスク上のパターンの像を基板上に正確に転写す
ることができる。また、基板ステージとマスクステージ
との相対移動を高速化することができ、露光装置のスル
ープットを向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 第１実施形態の鏡筒の支持装置を含む露光装
置の概略構成図。

【図２】 図１の投影光学系及び鏡筒の支持装置を拡大
して示す断面図。

【図３】 図２の支持リングを示す平面図。

【図４】 図３の４−４線における部分拡大断面図。

【図５】 図２の支持リングの接合部分を拡大して示す
部分断面図。

【図６】 第２実施形態の投影光学系及び鏡筒の支持装
置を示す断面図。

【図７】 図６の支持リングを拡大して示す断面図。

【図８】 図７の８−８線における部分拡大断面図。

【図９】 第３実施形態の支持リングを示す部分破断平
面図。

【図１０】 露光装置における鏡筒の支持装置の変更例
を示す断面図。

【図１１】 支持リングの変更例を示す断面図。

【符号の説明】

１３…投影光学系、１６…架台、１９ａ，２０ａ…光学
素子としてのレンズ、１９ｂ，２６…光学素子としての
ミラー、２１…鏡筒としての第１鏡筒、２２…鏡筒とし
ての第２鏡筒、２３，５４，６１，６６…支持装置、３
２…第１支持部を構成するフランジ部、３３，５５，６
２，６８…第２支持部及び変更手段の一部を構成する支
持リング、３８…ダンピング要素及びバネ要素並びに変
更手段の一部を構成する弾性膜、４０…応力検出手段と
しての歪みゲージ、４１…応力検出手段としての力セン
サ、４２…変更手段の一部を構成する圧力計、４３…変
更手段の一部を構成する空気供給源、５６…変更手段を
構成する調節ネジ、５７…バネ要素としてのコイルバ
ネ、６５…鏡筒、６７…ダンピング要素及びバネ要素並
びに変更手段の一部を構成するゴムチューブ、Ｒ…マス
クとしてのレチクル、Ｗ…基板としてのウエハ。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも１つの光学素子を備えた鏡筒
   を架台上に支持するための鏡筒の支持装置において、 前記鏡筒と前記架台との間に配置され、前記架台から前
   記鏡筒への振動の伝達を制限する制振手段を有する鏡筒
   の支持装置。
2. 【請求項２】 少なくとも１つの光学素子を備えた鏡筒
   を架台上に支持するための鏡筒の支持装置において、 前記架台上への支持により、前記鏡筒に作用する応力を
   検出する応力検出手段を備えた鏡筒の支持装置。
3. 【請求項３】 前記鏡筒はその光軸方向が重力方向に沿
   うように前記架台上に支持され、前記鏡筒の支持部は前
   記鏡筒を支持する第１支持部と、その第１支持部とは前
   記光軸方向に離間した位置で、前記鏡筒の前記光軸とほ
   ぼ直交する方向への移動を規制する第２支持部とを含む
   請求項１に記載の鏡筒の支持装置。
4. 【請求項４】 前記第２支持部には、架台側からの振動
   の伝達を制限する制振手段を設けた請求項３に記載の鏡
   筒の支持装置。
5. 【請求項５】 前記制振手段は前記鏡筒のほぼ全周にわ
   たって均一な静応力を作用せしめるダンピング要素また
   はバネ要素からなり、前記架台上への支持により前記鏡
   筒に作用する応力を検出する応力検出手段と、前記ダン
   ピング要素またはバネ要素には前記応力検出手段の検出
   結果に基づいて前記静応力を変更する変更手段とを設け
   た請求項４に記載の鏡筒の支持機構。
6. 【請求項６】 マスク上に形成されたパターンの像を投
   影光学系を介して基板上に転写する露光装置において、 前記投影光学系を収容する鏡筒を請求項１〜請求項５の
   うちいずれか一項に記載の鏡筒の支持装置により支持し
   た露光装置。