JP2000330254A - 密着プリンタ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】シャドウマスク製造用のコピーマスクを作製す
る際に用いる密着プリンタで、得られたコピーマスクに
パターンのボケや形状不良及びパターンの位置ズレを発
生させない密着プリンタを提供すること。 【解決手段】感光材料基板枠２０と原版マスク枠３０が
蝶番８０により連結された垂直型の密着プリンタで、感
光材料基板枠が感光材料基板枠の外枠２１、及びその外
枠によって支え台２３を介して鉛直に保持された組織が
緻密な花崗岩等の鉱物を材料とした定盤２２を、原版マ
スク枠が原版マスク枠の外枠３１，弾性体を材料とした
内枠３２、及び原版マスクの仮保持具３３を具備してい
ること。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、原版マスクからコ
ピーマスクを作製する際に用いる密着プリンタに関する
もので、特に、シャドウマスク製造の際に用いる大サイ
ズのコピーマスクを作製する垂直型の密着プリンタに関
する。

【０００２】

【従来の技術】フォトリソグラフィー法を用いて製造さ
れる製品を量産する際には、フォトマスクが使用中に破
損、消耗することを考慮して、フォトマスクは密着プリ
ンタにて原版マスクからコピーしたコピーマスクを用い
ることが多い。図７は、このような密着プリンタの一例
を説明する斜視図である。図７に示すように、密着プリ
ンタ（１）はガラス板（２ｂ）を保持した金枠（２ａ）
からなる定盤と金属性の原版マスク枠（３）が蝶番
（６）により連結されているものである。

【０００３】その使用に際しては、ガラス板（２ｂ）に
はコピーマスク用の感光材料基板（４）を装着し、原版
マスク枠（３）には原版マスク（５）を装着する。そし
て、点線矢印のように原版マスク枠（３）を閉じて、感
光材料基板（４）に原版マスク（５）を密着し、上方か
らの光照射（７）により露光するようになっている。

【０００４】このような金属性の水平型密着プリンタを
使用して、シャドウマスク製造用のフォトマスクのよう
に微細なパターンが大きな面積に配列されたフォトマス
クを、その原版マスクからコピーマスクを作製すると、
感光材料基板（４）と原版マスク（５）の密着状態は、
全面にわたっては必ずしも完全なものではなく、自重に
よるたわみ等を原因としてパターンのボケや形状不良及
びパターンの位置ズレが発生することがある。

【０００５】また、定盤である金属性の金枠（２ａ）や
金属性の原版マスク枠（３）は経年によって歪みが生
じ、上記パターンのボケや形状不良及びパターンの位置
ズレは密着プリンタの経年によって助長されることがあ
る。また、水平型密着プリンタにおいては、密着プリン
タの床面積が大きいため作業性は悪く、更には、作業場
の浮遊・降下塵の悪影響をコピーマスクが受けやすいも
のである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明における課題
は、微細なパターンが大きな面積に配列されたシャドウ
マスク製造用のコピーマスクを、その原版マスクから作
製する際に用いる密着プリンタにおいて、感光材料基板
と原版マスクの密着状態をその全面にわたって完全なも
のとし、得られたコピーマスクにパターンのボケや形状
不良及びパターンの位置ズレを発生させず、また、密着
プリンタの経年によりパターンのボケや形状不良及びパ
ターンの位置ズレが助長されることのない密着プリンタ
を提供するものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、シャドウマス
ク製造用のコピーマスクを作製する、感光材料基板枠と
原版マスク枠が蝶番により連結された垂直型の密着プリ
ンタであって、該感光材料基板枠が感光材料基板枠の外
枠、及びその外枠によって支え台を介して鉛直に保持さ
れた組織が緻密な花崗岩等の鉱物を材料とした定盤を具
備し、該原版マスク枠が原版マスク枠の外枠，弾性体を
材料とした内枠、及び原版マスクの仮保持具を具備して
いることを特徴とする密着プリンタである。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明を一実施の形態に基づいて
以下に説明する。図１は、本発明による密着プリンタの
一実施例の主要部分を説明する斜視図である。図１に示
すように、密着プリンタは金属性の感光材料基板枠（２
０）と金属性の原版マスク枠（３０）が蝶番（８０）に
より連結されているものである。感光材料基板枠（２
０）は感光材料基板枠の外枠（２１）、及びその外枠に
よって支え台（２３）を介して鉛直に保持された花崗岩
等の鉱物を材料とした定盤（２２）などで構成され、原
版マスク枠（３０）は原版マスク枠の外枠（３１），弾
性体を材料とした内枠（３２ａ、３２ｂ）、及び原版マ
スクの仮保持具（３３）などで構成されている。

【０００９】その使用に際しては、感光材料基板枠（２
０）の定盤（２２）にはコピーマスク用の感光材料基板
（図示せず）を装着し、原版マスク枠（３０）の内枠
（３２ａ）には原版マスク（図示せず）を装着する。そ
して、点線矢印のように原版マスク枠（３０）を閉じ
て、感光材料基板に原版マスクを密着させ、光照射によ
り露光するようになっている。

【００１０】図２は、図１に示す斜視図における感光材
料基板枠（２０）の平面図である。また、図３は、図２
における感光材料基板枠（２０）のＡ−Ａ’断面を示す
断面図である。図２、及び図３に示すように、感光材料
基板枠（２０）は感光材料基板枠の外枠（２１）、及び
その外枠によって支え台（２３）を介して鉛直に保持さ
れた組織が緻密な花崗岩等の鉱物を材料とした定盤（２
２）などで構成され、感光材料基板枠の外枠（２１）の
右方には蝶番右側（８１）が設けられている。また、感
光材料基板枠の外枠（２１）の左右各部には支え具（２
４）が設けられており、点線で示す感光材料基板（２
７）に原版マスクを密着した際の加圧を支えるようにな
っている。また、この支え具（２４）は万一の際の定盤
（２２）の転倒防止を兼ねているものである。

【００１１】定盤（２２）の表面には、装着された感光
材料基板（２７）を保持するための真空吸引ミゾ（２
５）、及びエアー吸引孔（２６）が設けられており、感
光材料基板（２７）を吸引保持する際には、真空吸引ミ
ゾ（２５）、エアー吸引孔（２６）、エアー吸引通路
（図示せず）を経てエアー吸気装置（図示せず）が吸気
するようになっている。

【００１２】図４は、図１に示す斜視図における原版マ
スク枠（３０）の平面図である。また、図５は、図４に
おける原版マスク枠（３０）のＡ−Ａ’断面を示す断面
図である。図４、及び図５に示すように、原版マスク枠
（３０）は原版マスク枠の外枠（３１），弾性体を材料
とした内枠（３２ａ、３２ｂ）、及び原版マスクの仮保
持具（３３）などで構成され、外枠（３１）の左方には
蝶番左部（８２）が設けられている。そして、上記感光
材料基板枠の外枠（２１）の右方の蝶番右部（８１）と
原版マスク枠の外枠（３１）の左方の蝶番左部（８２）
とで、密着プリンタとして感光材料基板枠（２０）と原
版マスク枠（３０）を一体化し連結する蝶番（８０）を
形成するものである。

【００１３】原版マスクの仮保持具（３３）は、原版マ
スク枠の外枠（３１）に連結されており、点線で示す原
版マスク（３４）を仮保持するものであるが、原版マス
ク（３４）を感光材料基板（２７）に密着させる直前に
は、取り外されるようになっている。

【００１４】図６は、感光材料基板枠（２０）に対し、
原版マスク枠（３０）が図１に示す点線矢印に閉じられ
て、感光材料基板（２７）に原版マスク（３４）が密着
した状態を説明する断面図である。図６に示すように、
原版マスクの仮保持具（３３）は取り外され、感光材料
基板（２７）と原版マスク（３４）は、エアー吸引孔
（３７）を通じてエアー吸気装置（図示せず）が、内枠
（３２ａ、３２ｂ）によって密閉された内部のエアーを
吸気することで密着し、光照射（７０）により露光され
るようになっている。

【００１５】本発明においては、感光材料基板枠（２
０）を構成する、外枠によって支え台（２３）を介して
鉛直に保持された定盤（２２）の材料を組織が緻密な花
崗岩等の鉱物としたことを特徴とするものであるが、組
織が緻密な花崗岩等の鉱物は磨耗、反撥、押し込みなど
の各硬度、及び圧縮強度が高く、また、剛性が大きなも
のであり、且つ、経年変化の小さな物質であるため、密
着プリンタの定盤として好適なものである。

【００１６】この定盤（２２）の大きさは、具体的に
は、例えば、シャドウマスク製造用の原版マスクの大き
さが約８０×１００ｃｍの際に、約１１０×１１０ｃｍ
程度のものであり、厚さは約８ｃｍ程度のものである。
また、定盤（２２）の平面度は約１０μｍ程度のもので
ある。

【００１７】また、本発明においては、上記原版マスク
枠（３０）を構成する、内枠（３２ａ、３２ｂ）の材料
を弾性体としたことを特徴とするものであるが、弾性体
としては、例えば、柔軟性のあるシリコン等を素材とし
たものが利用できる。

【００１８】この原版マスク枠（３０）を構成する内枠
（３２ａ）の外側は、原版マスク枠の外枠（３１）の内
側に固定されるものであるが、内枠（３２ａ）の内側
は、原版マスク（３４）を保持するものではあるが、原
版マスク（３４）を固定するものではなく、内枠（３２
ａ）の弾性によって原版マスク（３４）が鉛直に近い状
態にて、左右の移動、或いは揺動することが出来るよう
になっており、感光材料基板（２７）に原版マスク（３
４）が密着される直前までは原版マスクの仮保持具（３
３）によって仮保持されているものである。

【００１９】この原版マスクの仮保持具（３３）は、例
えば、吸引盤のように原版マスク（３４）を吸引して保
持する機能を有するものであり、原版マスク枠の外枠
（３１）に連結されており原版マスク（３４）を仮保持
しているが、上記のように原版マスク（３４）を感光材
料基板（２７）に密着させる直前には、取り外されるよ
うになっている。

【００２０】従って、感光材料基板枠（２０）に対し、
原版マスク枠（３０）が図１に示す点線矢印に閉じられ
て、感光材料基板（２７）に原版マスク（３４）が密着
する際には、圧縮強度が高く、剛性が大きな、鉛直に保
持された定盤（２２）に装着された感光材料基板（２
７）に対し、内枠（３２ａ）及び仮保持具（３３）によ
って鉛直に近い状態に仮保持され、内枠（３２ａ）の弾
性によって微動することが出来るようになっている原版
マスク（３４）は、他からの応力などの影響を受けるこ
となく、例えば、蝶番（８０）側から密着を開始し、順
次に全面にわたって完全に密着することになる。

【００２１】このようにして得られたシャドウマスク製
造用のコピーマスクは、パターンのボケや形状不良及び
パターンの位置ズレを発生させず、また、密着プリンタ
の経年によりパターンのボケや形状不良及びパターンの
位置ズレが助長されることのないものとなる。また、こ
のような垂直型の密着プリンタは、密着プリンタの床面
積が小さいため作業性は良く、更には、作業場の浮遊・
降下塵の悪影響をコピーマスクが受けにくいものであ
る。

【００２２】

【発明の効果】本発明は、シャドウマスク製造用のコピ
ーマスクを作製する、感光材料基板枠と原版マスク枠が
蝶番により連結された垂直型の密着プリンタにおいて、
感光材料基板枠が感光材料基板枠の外枠、及びその外枠
によって支え台を介して鉛直に保持された組織が緻密な
花崗岩等の鉱物を材料とした定盤を具備し、原版マスク
枠が原版マスク枠の外枠，弾性体を材料とした内枠、及
び原版マスクの仮保持具を具備し、定盤に装着された感
光材料基板に対し、弾性体によって微動可能に保持され
た原版マスクは、他からの応力などの影響を受けること
なく、順次に全面にわたって定盤に完全に密着するの
で、信頼性が恒久的な定盤の精度に支障なく沿うことが
でき、コピーマスクにパターンのボケや形状不良及びパ
ターンの位置ズレを発生させず、また、密着プリンタの
経年によりパターンのボケや形状不良及びパターンの位
置ズレが助長されることのない密着プリンタとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による密着プリンタの一実施例の主要部
分を説明する斜視図である。

【図２】図１に示す斜視図における感光材料基板枠の平
面図である。

【図３】図２における感光材料基板枠のＡ−Ａ’断面を
示す断面図である。

【図４】図１に示す斜視図における原版マスク枠の平面
図である。

【図５】図４における原版マスク枠のＡ−Ａ’断面を示
す断面図である。

【図６】感光材料基板に原版マスクが密着した状態を説
明する断面図である。

【図７】密着プリンタの一例を説明する斜視図である。

【符号の説明】

１…密着プリンタ ２ａ…金枠 ２ｂ…ガラス板 ３、３０…原版マスク枠 ４、２７…感光材料基板 ５、３４…原版マスク ６、８０…蝶番 ７、７０…光照射 ２０…感光材料基板枠 ２１…感光材料基板枠の外枠 ２２…定盤 ２３…支え台 ２４…支え具 ２５…真空吸引ミゾ ２６、３７…エアー吸引孔 ３１…原版マスク枠の外枠 ３２ａ、３２ｂ…弾性体を材料とした内枠 ３３…原版マスクの仮保持具

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】シャドウマスク製造用のコピーマスクを作
   製する、感光材料基板枠と原版マスク枠が蝶番により連
   結された垂直型の密着プリンタであって、該感光材料基
   板枠が感光材料基板枠の外枠、及びその外枠によって支
   え台を介して鉛直に保持された組織が緻密な花崗岩等の
   鉱物を材料とした定盤を具備し、該原版マスク枠が原版
   マスク枠の外枠，弾性体を材料とした内枠、及び原版マ
   スクの仮保持具を具備していることを特徴とする密着プ
   リンタ。