JP2000331921A - 露光装置、露光装置システムおよびデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 気圧等の測定手段が異常値を示した場合に、
その異常値が測定手段の故障によるものである場合を区
別し、さらには装置の他の部分の故障である場合を区別
できるようにする。また、異常値が測定手段の故障によ
るものである場合でも、装置の動作を続行できるように
する。 【解決手段】 装置における所定の測定対象についての
測定手段と、この測定結果に基づいて装置が異常な状態
の下で動作するのを防止するようにした露光装置５３に
おいて、他の装置５２、５３における測定結果をも参照
して装置の異常な状態での動作を防止する。さらにかか
る露光装置と管理装置とでコンピュータネットワークを
構成した露光装置システムにおいて、管理装置５２は、
各露光装置５３に対して所定の計測対象についての計測
を指示し、これに応じて計測された各露光装置における
計測値を受信して登録する。管理装置は各露光装置から
計測対象について計測値の問い合せがあったときは、こ
れに応じて、登録してある計測値のうちの最新のものを
その露光装置に送信する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、装置における所定
の測定対象について測定を行ない、この測定結果に基づ
いて装置が異常な状態の下で動作するのを防止するよう
にした露光装置、これを有する露光装置システムおよび
これらを用いることができるデバイス製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体デバイス
の高集積化に対する要求に応じて、その高集積化がます
ます加速度を増している。マスク（レチクル）の回路パ
ターン像を投影光学系により感光基板上に形成し、感光
基板をステップアンドリピート方式で露光する縮小型の
投影露光装置（ステッパ）においても解像度の向上のた
めに様々な改良がなされている。

【０００３】レチクル面上のパターンをウエハ面上に縮
小投影する投影光学系の光学性能（結像倍率や結像性
能）は環境変化、例えば気圧変化により種々に変化す
る。最近の高解像力が要望されている投影露光装置で
は、気圧の変化により発生する光学性能の誤差は大きな
問題点となっており、この光学性能の誤差を補正して投
影することが重要になっている。

【０００４】これを解決するため、特開平０６−３４２
７５５号公報においては、半導体ウエハが載置されるテ
ーブルと、照明光学系と、所望の転写パターンを有する
レチクルと、複数のレンズを含むレンズ群からなり、前
記転写パターンを前記半導体ウエハの一主面に投影する
投影光学系と、前記レチクルまたは前記投影光学系にお
ける前記レチクル側の前記レンズを移動させることで前
記半導体ウエハに対する前記転写パターンの投影倍率を
調整する倍率調整機構と、前記投影光学系の前記半導体
ウエハに対する焦点位置を調整する焦点位置調整機構と
を有する縮小投影露光装置を用いた縮小投影露光方法で
あって、大気圧または前記縮小投影露光装置の環境気圧
の変動を検出する第１の段階と、前記大気圧または環境
気圧の変動に応じて前記投影光学系と前記テーブルとの
距離を相対的に変化させる焦点位置調整機構により、前
記倍率調整機構による前記投影倍率の調整操作とは独立
に前記投影光学系の前記半導体ウエハに対する焦点位置
を調整する操作を行なう第２の段階と、前記レチクルの
前記転写パターンを前記半導体ウエハに転写する第３の
段階とからなることを特徴とする投影露光方法が提案さ
れている。

【０００５】また、特開平０８−３０５０３４号公報に
おいては、第１物体のパターンを投影光学系により第２
物体上に投影する装置において、前記投影光学系に関連
する気圧の変化を検出する気圧検出手段と、前記第１物
体のパターンの投影に用いる光の波長を変える波長変更
手段と、前記気圧検出手段の出力を受け、前記気圧の変
化による前記投影光学系の硝材の相対屈折率の変化を補
正するように前記第１物体のパターンの投影に用いる光
の波長を変える波長変更手段とを有することを特徴とす
る投影露光方法が提案されている。これらの方法によ
り、レチクル面上のパターンを投影光学系によってウエ
ハ面上に投影する際、日常の気圧変動や設置場所の大気
圧に対応する光学性能の変動を、適切に設定した気圧測
定手段や調整機構を用いることにより良好に補正し、高
い光学性能が容易に得られる投影露光装置およびそれを
用いたデバイスの製造方法を達成することができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、補正量
を決める上で基となる情報を提供する気圧測定手段が、
電気的なノイズなどの要因で、誤動作し、異常値を計測
してしまうことが希にある。それに気づかず、投影露光
装置が、気圧測定手段が計測した異常値に基づいて、焦
点調整機構や倍率調整機構を用いて、焦点位置や投影倍
率を補正してしまうと、半導体ウエハに転写したパター
ンが不良となってしまうという問題が発生する。また、
半導体露光装置は、非常に複雑かつ精密な装置であるた
め、半導体を露光する場合、気圧以外にも、装置内の温
度、湿度等の環境を一定範囲内に保つ必要がある。そこ
で、従来、それらの環境値が一定範囲外になった場合
は、装置に何らかの異常が発生したと判断しているが、
気圧、温度等の環境値は、天候やクリーンルーム環境
等、装置外の環境の影響を受ける場合があり、異常値に
なったとしても必ずしも当該装置の故障だとは限らな
い。かかる場合、現状では、装置外の環境の変化による
異常かどうかの判断を下すことは困難である。

【０００７】本発明の目的は、上述従来技術の問題点に
鑑み、露光装置、露光装置システムおよびデバイス製造
方法において、第１に、異常な状態における装置の稼動
を防止するために、気圧等の測定手段が異常値を示した
場合に、その異常値が測定手段の故障によるものである
場合を区別し、さらには装置の他の部分の故障である場
合を区別できるようにすることにある。第２に、異常値
が測定手段の故障によるものである場合でも、装置の動
作を停止させることなく、デバイス製造を続行できるよ
うにすることにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明の露光装置は、装置における所定の測定対象につ
いて測定を行なう測定手段と、この測定結果に基づいて
装置が異常な状態の下で動作するのを防止する異常動作
防止手段とを備えた露光装置において、前記異常動作防
止手段は、前記測定対象についての他の装置における測
定結果をも参照して前記装置の異常な状態での動作を防
止するものであることを特徴とする。この構成におい
て、測定手段が異常な測定値を示した場合、その原因
は、他の装置における測定結果をも参照して判断され、
この結果に基づいて、異常な状態下での動作の続行が防
止される。したがって、異常値が装置自身に起因するも
のか、装置外の原因によるものか等が適切に判断され、
異常値が装置の計測手段の異常による場合は他の装置に
おける測定結果を代替値として使用して動作を続行する
等の、適切な対応がなされる。

【０００９】また、本発明の露光装置システムは、コン
ピュータネットワークを構成している、露光装置および
これを管理する管理装置を備えた露光装置システムにお
いて、前記管理装置は、各露光装置に対して所定の計測
対象についての計測を指示する指示手段と、これに応じ
て計測された各露光装置における計測値を受信して登録
する登録手段とを具備することを特徴とする。この構成
において、管理装置が各露光装置から取得し、登録した
計測値は、種種の形態で利用される。例えば、ある露光
装置における所定の計測対象についての計測値が異常で
ある場合は、その代替値として、登録してある最新の計
測値がその露光装置に供給される。あるいは、登録して
ある測定値に基づき、ある露光装置における所定の計測
対象についての異常な計測値がその装置に起因するもの
かどうかが的確に判断される。

【００１０】また、本発明の別の露光装置システムは、
コンピュータネットワークを構成している、露光装置お
よびこれを管理する管理装置を備えた露光装置システム
において、前記管理装置は、所定の測定対象について測
定を行なう測定手段を備え、この測定手段による測定結
果を、前記ネットワークを介して、各露光装置に送信す
るものであることを特徴とする。この構成において、例
えば、ある露光装置における所定の計測対象についての
計測値が異常である場合は、その代替値として、管理装
置において測定した最新の計測値がその露光装置に供給
され、これにより、その露光装置は、動作を続行する。

【００１１】また、本発明のデバイス製造方法は、露光
装置における所定の測定対象について測定を行ない、こ
の測定結果に基づいて前記露光装置が異常な状態の下で
動作するのを防止しながら前記露光装置により露光を行
なうことによりデバイスを製造するデバイス製造方法に
おいて、前記測定対象についての他の露光装置または他
の装置における測定結果をも参照して前記露光装置の異
常な状態での動作を防止することを特徴とする。この構
成においても、本発明の露光装置と同様に、異常値が装
置自身に起因するものか、装置外の原因によるものか等
が適切に判断され、異常値が装置の計測手段の異常によ
る場合は他の装置における測定結果を代替値として使用
して動作を続行する等の、適切な対応がなされる。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の露光装置における好まし
い実施形態においては、前記他の装置は、ともにコンピ
ュータネットワークを構成している他の露光装置または
そのネットワークに含まれる露光装置を管理する管理装
置であり、異常動作防止手段は、管理装置が、前記ネッ
トワークに含まれる露光装置からあるいは自身の測定手
段により取得して保持している前記測定対象についての
最新の測定結果を参照する。測定対象には気圧が含ま
れ、異常動作防止手段は、管理装置から最新の気圧につ
いての測定結果の供給を受け、それに基づき、露光に際
しての投影倍率および焦点位置の補正を行なう。その際
に供給を受ける測定結果は、ネットワークに含まれる露
光装置間の機差が考慮されている。異常動作防止手段
は、測定手段が気圧を測定するものであり、その気圧の
測定結果が異常であり、かつその異常が測定手段による
ものであるときは、その異常な測定結果の代替値とし
て、前記測定結果の供給を受ける。また、測定対象につ
いての測定結果を管理装置に送信する送信手段を有し、
この送信手段は、測定結果の送信に際しては、装置の番
号および計測日時を含めて送信を行なう。測定対象に
は、前記気圧のほか、温度もしくは湿度、または被露光
基板を露光時に吸着し、保持するためのバキューム圧が
含まれる。

【００１３】さらに、異常動作防止手段は、測定手段に
よる測定結果に基づいて異常を検出する異常検出手段を
備える。この異常検出手段は、同種の測定対象について
測定を行なう２つの測定手段による測定値の差が所定の
範囲を超えた場合にその測定手段のうちのいずれかが異
常であると判断する。さらに、これら測定手段による今
回の測定結果と所定の期間前に行なった前回の測定結果
との差が所定の範囲を超えている場合にそれらの測定手
段が異常であると判断する。異常動作防止手段は、異常
検出手段が異常を検出した場合は、その旨の警告もしく
はエラーの出力または表示を行なう。

【００１４】あるいは、異常検出手段は、測定手段によ
るその測定対象についての測定結果および装置が属する
コンピュータネットワーク上の他の同種の露光装置にお
ける同種の測定対象についての測定結果に基づいて前記
異常の検出を行なう。これら同種の露光装置は同一のク
リーンルーム内に設置されており、異常検出手段は、装
置内の測定手段による測定結果および他の同種の露光装
置における同種の測定対象、あるいはさらに前記クリー
ンルームの環境を制御する環境制御装置における同種の
測定対象についての測定結果が同様に異常な変化を示し
ているときは装置外の異常であり、装置内の測定手段に
よる測定結果のみが異常な変化を示しているときは装置
内部における異常であると判断する。異常検出手段は、
装置内部における異常であると判断する場合において、
装置内の相互に関連する異なる測定対象についての複数
の測定手段による測定結果が同様に異常な変化を示して
いるときは、それらの測定手段が関係する装置内の部分
が異常であり、１つの測定手段による測定結果のみが異
常な変化を示しているときは、その測定手段が異常であ
ると判断する。

【００１５】本発明の露光装置システムにおける好まし
い実施形態においては、管理装置は、登録した各露光装
置の計測値に基づいて各投影露光装置間の計測値の機差
を求める手段を有する。また、管理装置は、各露光装置
から、計測対象についての最新の計測値の問い合せがあ
ったときは、これに応じて、登録手段により登録してあ
る計測値のうちの最新のものをその露光装置に送信す
る。その際、計測値に付随させて登録してある計測日時
の情報に基づいて最新の計測値を抽出する。そして、登
録してある計測値から得た各露光装置間での機差を考慮
した計測値を送信する。また、本発明の別の露光装置シ
ステムにおける好ましい実施形態においては、管理装置
は、各露光装置から測定対象についての測定結果の問い
合せがあった場合にその露光装置に対して、または常に
各露光装置に対して、測定結果の送信を行なうものであ
り、これらのうちのいずれの方法で送信を行なうかが設
定可能となっている。

【００１６】

【実施例】［実施例１］図１は、本発明の第１の実施例
に係る投影露光装置の要部概略図である。同図におい
て、１は回路パターンが描かれたレチクル、２はレチク
ル１を吸着保持するレチクルチャック、３はレチクルチ
ャック２に取り付けたレチクル駆動装置、４はレチクル
駆動装置３を支持するレチクルステージ、５は縮小型の
投影レンズ系（投影光学系）、６Ａおよび６Ｂは各々投
影レンズ系５を構成する部分レンズ系のフィールドレン
ズ、７は投影レンズ系５の一部を構成している単一の硝
材より成るレンズ系、８はフィールドレンズ６Ａを投影
レンズ系５の光軸ＡＸ方向に移動させるレンズ駆動装
置、９はレジスト等の感光剤が塗布されたウエハ、１０
はウエハ９を吸着保持するウエハチャック、１１はウエ
ハチャック１０に取り付けたウエハ駆動装置、１２はウ
エハ駆動装置１１を支持し、投影レンズ系５の光軸ＡＸ
に直交する面内で移動可能なウエハステージである。

【００１７】レチクル駆動装置３およびウエハ駆動装置
１１はそれぞれ、圧電素子等から成り、レチクル駆動装
置３によりレチクルチャック２を投影レンズ系５の光軸
ＡＸ方向に変位させてレチクル１を光軸ＡＸ方向に移動
させ、ウエハ駆動装置１１によりウエハチャック１０を
投影レンズ系５の光軸ＡＸ方向に変位させてウエハ９を
光軸ＡＸ方向に移動させる。レンズ駆動装置８は空気圧
や圧電素子等を利用してフィールドレンズ６Ａを投影レ
ンズ系５の光軸ＡＸ方向に移動させる。レンズ駆動装置
８の具体的な構造としては、特開昭６２−３２６１３号
公報等に開示されているもの等を適用することができ
る。

【００１８】レチクル駆動装置３によるレチクルチャッ
ク２の駆動はレチクル駆動制御系１３からの信号に基づ
いて行なわれ、このときレチクル１の光軸ＡＸ方向の位
置がレチクル位置検出器１５により検出される。また、
同様にレンズ駆動装置８によるフィールドレンズ６Ａの
駆動はレンズ駆動制御系１６からの信号に基づいて行な
われ、このときフィールドレンズ６Ａの光軸ＡＸ方向の
位置がレンズ位置検出器１７により検出される。レチク
ル位置検出器１５とレンズ位置検出器１７は光学式エン
コーダ等の各種の位置検出器で構成することができる。

【００１９】ウエハ駆動装置１１によるウエハチャック
１０の駆動はウエハ駆動制御系１４からの信号に基づい
て行なわれ、このときウエハ９（の表面）の光軸ＡＸ方
向の位置はフォーカス検出器１８により検出される。フ
ォーカス検出器１８は、この種の投影露光装置で従来か
ら使用されてきた、例えばエアセンサや光学式センサで
構成されている。レチクル位置検出器１５、レンズ位置
検出器１７およびフォーカス位置検出器１８からの各信
号はマイクロプロセッサ２３へ入力される。

【００２０】投影レンズ系５の周囲の気圧、気温および
温度の変化を検出するために気圧センサ（気圧測定手
段）１９Ａおよび１９Ｂ、温度センサ２０ならびに湿度
センサ２１が設けられ、また、投影レンズ系５の光吸収
による温度変化を検出するためにレンズ温度センサ２２
が設けられており、これら各種センサ１９Ａ、１９Ｂ、
２０〜２２からの信号もマイクロプロセッサ２３へ入力
される。レチクル駆動制御系１３、レンズ駆動制御系１
６およびウエハ駆動制御系１４はマイクロプロセッサ２
３により制御される。以上のうち各要素１３〜１７は駆
動手段の一部を構成している。

【００２１】２４はレチクル１の回路パターンを均一な
照度で照明する照明系である。照明系２４は発振波長λ
＝２４８．４ｎｍのレーザ光を放射するＫｒＦエキシマ
レーザを露光用の光源として具備している。照明系２４
からのレーザ光はレチクル１と投影レンズ系５を介して
ウエハ９上に向けられ、ウエハ９上にレチクル１の回路
パターン像が縮小投影されることになる。

【００２２】照明系２４は、後述する波長選択素子駆動
制御系３２により発振波長が制御された光束を放射する
レーザ光源２７を備え、レーザ光源２７からの光束によ
り、コンデンサレンズ２５を介し、ミラー２６で反射さ
せてレチクル１面上を均一に照明する。レーザ光源２７
はレーザ共振器２８と波長選択素子２９を有する。３０
は波長選択素子２９を駆動する波長選択素子駆動装置、
３１は波長選択素子２９の角度を検出する波長選択素子
角度検出器、３２は波長選択素子２９の駆動を制御する
波長選択素子駆動制御系であり、これらの各要素は波長
可変手段の一要素を構成している。

【００２３】マイクロプロセッサ２３はそのメモリ４０
内に、２基の気圧センサ１９Ａおよび１９Ｂの平均の気
圧計測値に基づいて、投影レンズ系５のレンズ系間にお
ける空気の相対屈折率変化量を求めるための計算式がプ
ログラムされており、各々の計算式では気圧の予め決め
た基準値からの変動量が変数となっている。そして、気
圧変動に対応するために、処理すべきウエハが投影露光
装置に搬入される度に気圧を測定し、この測定結果に基
づいて投影露光波長を変化させて投影露光を行なうよう
にすることによって、気圧変動に対して投影光学系の像
性能が常に良好に保たれるようにしている。

【００２４】メモリ４０には、２基の気圧センサ１９Ａ
および１９Ｂによって計測された気圧値が記録され、ま
た、これらの気圧センサから得られた値に基づいて異常
か否かを判断するための閾値Ａの設定情報、任意の時間
間隔をおいてこれらの気圧センサによって計測された新
旧の気圧値に基づいて異常か否かを判断するための閾値
Ｂの設定情報、および気圧センサ１９Ａおよび１９Ｂの
機差が登録される。マイクロプロセッサ２３は、これら
のメモリ４０の情報と気圧センサ１９Ａおよび１９Ｂで
計測された気圧値に基づいて気圧の異常を検知する。そ
して、異常の場合は、アラーム装置４１により警告を行
なう。

【００２５】図３は、このような投影露光装置５３を複
数備えた露光装置システムの概略を示すブロック図であ
る。各投影露光装置５３は、ネットワーク５１を介し
て、集中管理装置５２に接続されており、双方のデータ
授受ができるような構成となっている。集中管理装置５
２は、同時刻において、各投影露光装置５３に対して気
圧計測を指示するリモートコマンドにより、各投影露光
装置に対して気圧計測を実行させることができる。そし
て、集中管理装置５２は、同時刻において各投影露光装
置５３で計測された気圧値を各投影露光装置５３から受
信し、それを集中管理装置内５２にあるメモリ５４に登
録する。また、集中管理装置側５２は、メモリ５４に登
録された同時刻における各投影露光装置５３の気圧値に
基づき、事前に、各投影露光装置５３間における気圧計
の機差を算出し、メモリ５４に登録する。各投影露光装
置５３から最新の気圧値の問い合せを受けたときには、
その投影露光装置５３に対し、最新の気圧値に前記各投
影露光装置５３間の機差を加算した値を送信する。

【００２６】図２は、図１の装置の動作を示すフローチ
ャートである。この装置において、気圧変動に対する補
正は、ウエハ搬入時やフォーカス補正時などに実施され
る。また、装置未稼動状態の場合も考慮し、定期的に気
圧計測を実施し、その結果をメモリ４０に登録するよう
にしている。

【００２７】図２に示すように、ジョブが開始されると
（ステップＳ１０１）、まず、ステップＳ１０２〜Ｓ１
０４において、ウエハ搬入およびフォーカス補正を行な
うとともに、ウエハ搬入時やフォーカス補正時に、２基
の気圧計１９Ａおよび１９Ｂを用いて気圧計測を行な
う。ただし、この２基の機差は、事前に測定してあり、
オフセットとしてメモリ４０に格納して管理している。

【００２８】次に、ステップＳ１０５において、気圧計
１９Ａおよび１９Ｂによって計測した気圧値を比較し、
両者の計測値の差がメモリ４０に設定された閾値Ａ以上
か否かを判定する。計測値の差が閾値Ａ以上であると判
定した場合は、いずれかの気圧計が異常な状態にあると
判断されるため、ステップＳ１１０へ進む。計測値の差
が閾値Ａ以上でないと判定した場合はステップＳ１０６
へ進む。

【００２９】ステップＳ１０６では、メモリ４０に記憶
されている前回の気圧値を読み込んで、前回の気圧値
と、ステップＳ１０４で計測した今回の気圧値との差が
装置に設定されている閾値Ｂ以上であるか否かを判定す
る。前回の気圧値とは、ウエハ搬入時やフォーカス補正
時において、もしくは、一定時間間隔、例えば１０分間
隔で計測された値のうちの最新の値である。そして、前
回と今回の気圧値の差が閾値Ｂ以上であると判定した場
合は、気圧計１９Ａおよび１９Ｂの双方が異常な状態で
あると判断されるため、ステップＳ１１０へ進む。前回
と今回の気圧値の差が閾値Ｂ以上でないと判定した場合
は、今回計測した気圧値は正常と判断されるため、ステ
ップＳ１０７へ進む。

【００３０】ステップＳ１０７では、今回の気圧値、装
置番号、および日時を、ネットワーク５１を介して集中
管理装置５２へ送信する。集中管理装置５２は、これを
受信すると、メモリ５４に登録する。集中管理装置５２
は、このようにして、常に最新の気圧値を各投影露光装
置５３から受信し、メモリ５４に記録している。

【００３１】次に、ステップＳ１０８において、ステッ
プＳ１０４で計測した気圧値に基づいて焦点位置および
投影倍率の補正を実行し、そして、ステップＳ１０９に
おいて回路パターンの露光を行ない、ジョブを終了す
る。

【００３２】一方、ステップＳ１１０へ進んだ場合は、
アラームを出力する。次に、ステップＳ１１１におい
て、集中管理装置５２に対し、メモリ５４に登録されて
いる最新の気圧値の問い合せを行ない、最新の気圧値に
各投影露光装置５３間の機差を加算した値を集中管理装
置５２から受信する。次に、ステップＳ１１２におい
て、受信した気圧値によって、ステップＳ１０４で計測
した気圧値を置き換え、ステップＳ１０８へ進む。した
がって、ステップＳ１０８およびＳ１０９では、置き換
えられた気圧値に基づいて焦点位置および投影倍率の補
正を行ない、回路パターンの露光を行なうことになる。

【００３３】このような処理を採用した理由は次のとお
りである。気圧は、長期的には大きな変動はみられる
が、短期的に大きく変動することはない。また、クリー
ンルーム内で生じる気圧変動は、そのクリーンルーム内
の各投影露光装置においてもほぼ同様の気圧変動を生じ
させるものと推測することができる。ところが、投影露
光装置内において、ケーブル・コネクタの接触不良など
の何らかのトラブルによってノイズが発生したりする
と、気圧計がそのノイズを拾って誤動作し、短時間に
１．５ｈｐａも変化することがある。このような変化は
明らかに、誤動作とみなすことが可能である。

【００３４】そこで、本実施例では、計測して得た短期
間における気圧の変動量をチェックし、変動量がある一
定以上となった場合は、気圧計１９Ａおよび１９Ｂの異
常とみなすようにしている。すなわち、異常を判断する
際には、投影露光装置内の２基の気圧計１９Ａおよび１
９Ｂによる計測値の差、および今回と前回の計測値の差
を用いることにより、気圧の計測値の変動が計器自体の
故障によるものか、または外的要因によるものかを判断
するようにしている（ステップＳ１０５およびＳ１０
６）。これは、その後の原因究明に役立つと共に、故障
復帰までの時間を短くする一情報としての役割を担って
いる。

【００３５】しかし、気圧計１９Ａおよび／または１９
Ｂが異常であると判断された時点ですぐに装置を停止さ
せ、生産を停止させることは、生産性を低下させること
に繋がる。その結果、生産予定を達成できないことにな
りかねない。そこで、本実施例ではさらに、装置の停止
を回避させるために、一定期間、もしくは一時的に、他
の露光装置の気圧値を代用して（ステップＳ１１１およ
びＳ１１２）、焦点位置補正および投影倍率補正を行な
うことにより、処理続行を可能としている。

【００３６】［実施例２］上記第１の実施例では、集中
管理装置５２は、各投影露光装置５３からの気圧値を登
録し、最新の気圧値に各投影露光装置５３間の機差を加
算した値を、問い合せのあった半導体露光装置５３に送
信するようにしているが、この代わりに、本実施例で
は、図３の集中管理装置５２に気圧センサ５５を設け、
全ての投影露光装置５３に対して、同一の気圧値を送信
するようにしている。そして、集中管理装置５２に接続
されている気圧センサ５５により計測された気圧値を、
常に各投影露光装置５３に送信するか、各投影露光装置
５３の気圧値が異常時のみ集中管理装置５２で管理して
いる最新の気圧値を送信するかどうかを選択できる手段
を備えており、その設定に従って各投影露光装置５３に
気圧値を送信する。

【００３７】［実施例３］図４は、本発明の第３の実施
例に係る半導体露光装置の外観を示す斜視図である。同
図に示すように、この半導体露光装置は、装置本体の環
境温度制御を行なう温調チャンバ１０１、その内部に配
置され、装置本体の制御を行なうＣＰＵを有するＥＷＳ
本体１０６、ならびに、装置における所定の情報を表示
するＥＷＳ用ディスプレイ装置１０２、装置本体におい
て撮像手段を介して得られる画像情報を表示するモニタ
ＴＶ１０５、装置に対し所定の入力を行なうための操作
パネル１０３、ＥＷＳ用キーボード１０４等を含むコン
ソール部を備えている。図中、１０７はＯＮ−ＯＦＦス
イッチ、１０８は非常停止スイッチ、１０９は各種スイ
ッチ、マウス等、１１０はＬＡＮ通信ケーブル、１１１
はコンソール機能からの発熱の排気ダクト、そして１１
２はチャンバの排気装置である。半導体露光装置本体は
チャンバ１０１の内部に設置される。

【００３８】ＥＷＳ用ディスプレイ１０２は、ＥＬ、プ
ラズマ、液晶等の薄型フラットタイプのものであり、チ
ャンバ１０１前面に納められ、ＬＡＮケーブル１１０に
よりＥＷＳ本体１０６と接続される。操作パネル１０
３、キーボード１０４、モニタＴＶ１０５等もチャンバ
１０１前面に設置し、チャンバ１０１前面から従来と同
様のコンソール操作が行なえるようにしてある。

【００３９】図５は、図４の装置の内部構造を示す図で
ある。同図においては、半導体露光装置としてのステッ
パが示されている。図中、２０２はレチクル、２０３は
ウエハであり、光源装置２０４から出た光束が照明光学
系２０５を通ってレチクル２０２を照明するとき、投影
レンズ２０６によりレチクル２０２上のパターンをウエ
ハ２０３上の感光層に転写することができる。レチクル
２０２はレチクル２０２を保持、移動するためのレチク
ルステージ２０７により支持されている。ウエハ２０３
はウエハチャック２９１により真空吸着された状態で露
光される。ウエハチャック２９１はウエハステージ２０
９により各軸方向に移動可能である。レチクル２０２の
上側にはレチクルの位置ずれ量を検出するためのレチク
ル光学系２８１が配置される。ウエハステージ２０９の
上方に、投影レンズ２０６に隣接してオフアクシス顕微
鏡２８２が配置されている。オフアクシス顕微鏡２８２
は内部の基準マークとウエハ２０３上のアライメントマ
ークとの相対位置検出を行なうのが主たる役割である。
また、これらステッパ本体に隣接して、周辺装置である
レチクルライブラリ２２０やウエハキャリアエレベータ
２３０が配置され、必要なレチクルやウエハはレチクル
搬送装置２２１およびウエハ搬送装置２３１によってス
テッパ本体に搬送される。

【００４０】チャンバ１０１は、主に空気の温度調節を
行なう空調機室２１０および微小異物を濾過し清浄空気
の均一な流れを形成するフィルタボックス２１３、なら
びに装置環境を外部と遮断するブース２１４によって構
成されている。チャンバ１０１内では、空調機室２１０
内にある冷却器２１５および再熱ヒータ２１６により温
度調節された空気が、送風機２１７によりエアフィルタ
ｇを介してブース２１４内に供給される。このブース２
１４に供給された空気はリターン口ｒａより再度空調機
室２１０に取り込まれ、チャンバ１０１内を循環する。
通常、このチャンバ１０１は厳密には完全な循環系では
なく、ブース２１４内を常時陽圧に保つために、循環空
気量の約１割のブース２１４外の空気を空調機室２１０
に設けられた外気導入口ｏａより送風機を介して導入し
ている。このようにしてチャンバ１０１は本装置の置か
れる環境温度を一定に保ち、かつ空気を清浄に保つこと
を可能にしている。また光源装置２０４には超高圧水銀
灯の冷却やレーザ異常時の有毒ガス発生に備えて吸気口
ｓａと排気口ｅａが設けられ、ブース２１４内の空気の
一部が光源装置２０４を経由し、空調機室２１０に備え
られた専用の排気ファンを介して工場設備に強制排気さ
れている。また、空気中の化学物質を除去するための化
学吸着フィルタｃｆを、空調機室２１０の外気導入口ｏ
ａおよびリターン口ｒａにそれぞれ接続して備えてい
る。

【００４１】図６は、図４の装置の電気回路構成を示す
ブロック図である。同図において、３０１は装置全体の
制御を司る本体ＣＰＵであり、マイクロコンピュータま
たはミニコンピュータ等の中央演算装置からなる。３０
２はウエハステージ駆動装置、３０３はオフアクシス顕
微鏡等のアライメント検出系、３０４はレチクルステー
ジ駆動装置、３０５は光源装置等の照明系、３０６はシ
ャッタ駆動装置、３０７はフォーカス検出系、３０８は
Ｚ駆動装置であり、これらは、本体ＣＰＵ３０１により
制御されている。３０９はレチクル搬送装置、ウエハ搬
送装置等の搬送系、３１０は気圧センサ、３１１は温度
センサ、３１２は湿度センサである。

【００４２】３００は補助記憶装置３１４、ディスプレ
イ３１７、キーボード３１６、および外部記憶装置３１
５を有するコンソールユニットであり、本体ＣＰＵ３１
３にこの露光装置の動作に関する各種のコマンドやパラ
メータを与えるためのものである。すなわち、オペレー
タとの間で情報の授受を行なうためのものである。補助
記憶装置３１４は、例えばハードディスクであり、内部
にデータベースが構築されており、各種パラメータおよ
びその管理データ等が記録されている。外部記憶装置３
１５としてはＦＤＤ（フロッピーディスクドライブ）や
ＭＯＤ（光磁気ディスクドライブ）といったものが考え
られる。３１８はネットワークインターフェイスであ
り、通信を行なう場合のプロトコルとしてはＴＣＰ／Ｉ
Ｐ等の標準的ネットワークプロトコルが用いられること
が多いが、ＮｅｔＷａｒｅ等の一般的に普及しているプ
ロトコルを用いてもかまわない。プログラムおよびデー
タは、外部記憶装置３１５からメディアに格納したデー
タを読み出して、補助記憶装置３１４に保存される。

【００４３】この半導体露光装置は、高精度な半導体露
光をするために、装置内の気圧、温度、湿度等の環境値
を一定に保たなければならない。しかし、これらの環境
値は天候による気圧の変化やクリーンルーム内の室温、
湿度の変化等の露光装置外の環境の影響を受けやすい。
そのため、露光装置内のこれらの環境値が異常値を示し
たとしても、露光装置内の空調機等の環境をコントロー
ル装置や、気圧センサ３１０等の計測センサの故障なの
か、露光装置外の環境変化によるものなのかを即座に判
断することが、従来は困難であった。

【００４４】そこで、本実施例では、図７に示すよう
に、クリーンルーム４０１内に設置された同一機種の複
数の半導体露光装置４０４をネットワークインターフェ
イス３１８を介して、ネットワーク通信網４０２で接続
し、各露光装置４０４間で互いの気圧、温度、湿度等の
環境値をチェックし合うようにしている。そして、全て
の露光装置４０４の環境値が同じように変化した場合
は、その環境値の変化は露光装置４０４外の環境変化に
起因するものと判断してオペレータに露光装置４０４外
の環境に異常が生じたことを知らせ、特定の露光装置４
０４のみ環境値が変化している場合は、その露光装置４
０４内に異常が発生したと判断し、オペレータにその露
光装置４０４内で異常が生じたことを知らせる。また、
ある露光装置４０４における気圧、温度、湿度等の複数
の環境値が他の露光装置４０４と異なる値を示した場合
は、その露光装置４０４のチャンバの機能に異常が発生
したと判断し、オペレータにその露光装置４０４内で異
常が生じたことを知らせる。なお、半導体露光装置４０
４は、図４〜６を用いて説明したものである。

【００４５】図８は、このような処理を行なうための露
光装置４０４の動作を示すフローチャートである。同図
に示すように、処理を開始すると、ステップ５０１にお
いて、ネットワーク上にある全ての同一機種の露光装置
４０４から一定時間毎に気圧、温度、湿度等の環境変化
の影響を受ける環境値を取得し、ステップ５０２におい
て、全ての露光装置の環境値が同じように変化している
かどうかを判定する。全ての露光装置４０４の環境値が
同じように変化していると判定した場合は、ステップ５
１０へ進み、露光装置外の環境が変化しているかまた
は、露光装置外の環境制御設備に異常が生じている可能
性が高いことをオペレータに知らせ、処理を終了する。
例えば、全露光装置４０４の気圧が同じ割合で変化して
いる場合は、天候の変化が起こっていると判断し、温度
が同じ割合で変化している場合はクリーンルーム４０１
の環境制御に異常が発生している可能性があると判断す
る。

【００４６】ステップ５０２において、全ての露光装置
の環境値が同じように変化しているのではないと判定し
た場合は、ステップ５０３へ進み、他の露光装置と異な
る環境値があるか否かを判定する。ここで、他の露光装
置と異なる環境値はないと判定した場合はステップ５０
１へ戻り、異なる環境値があると判定した場合は、ステ
ップ５０４へ進む。ステップ５０４では、他の環境値に
ついても他の露光装置と異なっているかどうかを判定す
る。他の環境値も異なっていれば、ステップ５０５にお
いて、露光装置内の環境制御装置に異常が発生したと判
断し、ステップ５０７へ進む。そうでなければ、ステッ
プ５０６において、その環境値を計測するセンサの異常
であると判断し、ステップ５０７へ進む。

【００４７】例えば、ステップ５０３において露光装置
内の温度が異常値であると判定した場合において、ステ
ップ５０４において湿度も異常値であると判定したとき
は、ステップ５０６において空調をコントロールするチ
ャンバ装置が異常であり、ステップ５０４において湿度
は正常であると判定したときはステップ５０６において
温度センサが異常であると判断する。

【００４８】ステップ５０７では、他の露光装置におけ
る環境値との差が一定値以内であるか否かを判定し、一
定値以内であればステップ５０８ヘ進んで警告メッセー
ジを表示し、一定値以内でなければステップ５０９にお
いてエラーメッセージを表示してから処理を終了する。

【００４９】図９はウエハを吸着するバキューム圧値に
ついての処理を示すフローチャートである。同図に示す
ように、処理を開始すると、ステップ６０１において、
ネットワーク上にある全ての同一機種の露光装置から一
定時間毎にバキューム圧を取得し、ステップ６０２にお
いて、全ての露光装置のバキューム圧が同じように変化
しているかどうかを判定する。同じように変化していれ
ば、ステップ６１０へ進み、クリーンルーム内のバキュ
ーム圧を制御するコンプレッサに異常が生じている可能
性が高いことをオペレータに知らせ、処理を終了する。
同じように変化しているのでなければ、ステップ６０３
へ進み、露光装置内のバキューム圧が他の露光装置と異
なる値を示したか否かを判定する。異なる値を示さなか
った場合はステップ６０１へ戻り、異なる値を示した場
合は、ステップ６０４において、バキューム配管圧が他
の露光装置と異なるかどうかを判定する。異なっていれ
ば、ステップ６０５において露光装置内のバキューム機
構に異常が発生したと判断してステップ６０７へ進み、
異なっていなければステップ６０６においてバキューム
圧計測センサの異常であると判断してからステップ６０
７へ進む。

【００５０】ステップ６０７では、他の露光装置とのバ
キューム圧の差が一定値以下かどうかを判定し、一定値
以下であればステップ６０８において警告メッセージを
表示して処理を終了し、一定値以下でなければステップ
６０９でエラーメッセージを表示してから処理を終了す
る。

【００５１】＜デバイス製造方法の実施例＞次に上記説
明した露光装置あるいは露光装置システムを利用したデ
バイス製造方法の実施例を説明する。図１０は微小デバ
イス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、Ｃ
ＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフ
ローを示す。ステップ１（回路設計）ではデバイスのパ
ターン設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設
計したパターンを形成したマスクを製作する。一方、ス
テップ３（ウエハ製造）ではシリコンやガラス等の材料
を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセ
ス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを
用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回
路を形成する。次のステップ５（組立て）は後工程と呼
ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半
導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイ
シング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ
封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）ではステッ
プ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐
久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て、半
導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）され
る。

【００５２】図１１は上記ウエハプロセス（ステップ
４）の詳細なフローを示す。ステップ１１（酸化）では
ウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）で
はウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極
形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ス
テップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち
込む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハにレジ
ストを塗布する。ステップ１６（露光）では上記説明し
た露光装置または露光方法によってマスクの回路パター
ンをウエハの複数のショット領域に並べて焼付露光す
る。ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像す
る。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト
像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥
離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取
り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによっ
て、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。本実
施例の生産方法を用いれば、従来は製造が難しかった大
型のデバイスを低コストに製造することができる。

【００５３】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、他
の装置における測定結果をも参照して異常な状態での動
作を防止するようにしたため、測定手段が異常な測定値
を示した場合、その原因を的確に判断し、異常な状態下
での動作の続行を的確に防止することができる。例え
ば、気圧の測定手段が異常な値を示した場合において
も、異常値が露光装置内の空調機等の環境のコントロー
ル装置や気圧センサ等の計測センサの故障なのか、露光
装置外の環境変化によるものなのか等を適切かつ即座に
判断して異常な値による誤った補正を防止するととも
に、管理装置等から得られる最新の気圧値を代替として
用いることにより、装置を停止させることなく、処理を
続行することができる。

【００５４】また、管理装置により、最新の測定結果を
各露光装置に供給できるようにしたため、各露光装置に
おける所定の計測対象についての計測値が異常である場
合には、その代替値として、登録してある最新の計測値
をその露光装置に供給し、その露光装置の動作を停止さ
せることなく、デバイス製造を続行させることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施例に係る投影露光装置の
要部概略図である。

【図２】 図１の装置の動作を示すフローチャートであ
る。

【図３】 図１の投影露光装置を複数備えた露光装置シ
ステムの概略を示すブロック図である。

【図４】 本発明の第３の実施例に係る半導体露光装置
の外観を示す斜視図である。

【図５】 図４の装置の内部構造を示す図である。

【図６】 図４の装置の電気回路構成を示すブロック図
である

【図７】 図４の装置を含む露光装置システムの概略を
示すブロック図である。

【図８】 図７のシステムにおける露光装置の動作を示
すフローチャートである。

【図９】 図７のシステムにおける露光装置でのウエハ
を吸着するバキューム圧値についての処理を示すフロー
チャートである。

【図１０】 本発明の露光装置を利用できるデバイス製
造方法を示すフローチャートである。

【図１１】 図１０中のウエハプロセスの詳細なフロー
チャートである。

【符号の説明】

１：レチクル、２：レチクルチャック、３：レチクル駆
動装置、４：レチクルステージ、５：投影レンズ系、６
Ａ，６Ｂ：フィールドレンズ、７：レンズ系、８：レン
ズ駆動装置、９：ウエハ、１０：ウエハチャック、１
１：ウエハ駆動装置、１２：ウエハステージ、１３：レ
チクル駆動制御系、１４：ウエハ駆動制御系、１５：レ
チクル位置検出器、１６：レンズ駆動制御系、１７：レ
ンズ位置検出器、１８：フォーカス位置検出器、１９
Ａ，１９Ｂ：気圧センサ、２０：温度センサ、２１：湿
度センサ、２２：レンズ温度センサ、２３：マイクロプ
ロセッサ、２４：照明系、２５：コンデンサレンズ、２
６：ミラー、２７：レーザ光源、２８：レーザ共振器、
２９：波長選択素子、３０：波長選択素子駆動装置、３
１：波長選択素子角度検出器、３２：波長選択素子駆動
制御系、４０：メモリ装置、４１：アラーム装置、５
１：ネットワーク、５２：集中管理装置、５３：投影露
光装置、５４：メモリ装置、５５：気圧センサ、３０
０：コンソールユニット、３０１：本体ＣＰＵ、３１
３：コンソールＣＰＵ、３１７：ディスプレイ、３１
０：気圧センサ、３１１：温度センサ、３１２：湿度セ
ンサ、３１８：ネットワークインターフェイス、４０
１：クリーンルーム、４０２：ネットワーク通信網、４
０４：半導体露光装置。

Claims (25)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 装置における所定の測定対象について測
   定を行なう測定手段と、この測定結果に基づいて装置が
   異常な状態の下で動作するのを防止する異常動作防止手
   段とを備えた露光装置において、前記異常動作防止手段
   は、前記測定対象についての他の装置における測定結果
   をも参照して前記装置の異常な状態での動作を防止する
   ものであることを特徴とする露光装置。
2. 【請求項２】 前記他の装置は、ともにコンピュータネ
   ットワークを構成している他の露光装置またはそのネッ
   トワークに含まれる露光装置を管理する管理装置である
   ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 【請求項３】 前記異常動作防止手段は、前記管理装置
   が、前記ネットワークに含まれる露光装置からあるいは
   自身の測定手段により取得して保持している前記測定対
   象についての最新の測定結果を参照するものであること
   を特徴とする請求項２に記載の露光装置。
4. 【請求項４】 前記測定対象には気圧が含まれ、前記異
   常動作防止手段は、前記管理装置から最新の気圧につい
   ての測定結果の供給を受け、それに基づき、露光に際し
   ての投影倍率および焦点位置の補正を行なうものである
   ことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
5. 【請求項５】 前記供給を受ける測定結果は、前記ネッ
   トワークに含まれる露光装置間の機差が考慮されている
   ことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
6. 【請求項６】 前記測定手段は気圧を測定するものであ
   り、前記異常動作防止手段は、前記測定手段による気圧
   の測定結果が異常であり、その異常が前記測定手段によ
   るものである場合は、その代替として、前記測定結果の
   供給を受けるものであることを特徴とする請求項４また
   は５に記載の露光装置。
7. 【請求項７】 前記測定対象についての測定結果を前記
   管理装置に送信する送信手段を有することを特徴とする
   請求項２〜６のいずれか１項に記載の露光装置。
8. 【請求項８】 前記送信手段は、前記測定結果の送信に
   際しては、装置の番号および計測日時を含めて送信を行
   なうものであることを特徴とする請求項７に記載の露光
   装置。
9. 【請求項９】 前記測定対象には、気圧、温度もしくは
   湿度、または被露光基板を露光時に吸着し、保持するた
   めのバキューム圧が含まれることを特徴とする請求項１
   〜８のいずれか１項に記載の露光装置。
10. 【請求項１０】 前記異常動作防止手段は、前記測定手
    段による測定結果に基づいて異常を検出する異常検出手
    段を備えることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１
    項に記載の露光装置。
11. 【請求項１１】 前記測定手段は同種の測定対象につい
    て測定を行なう２つの測定手段であり、前記異常検出手
    段は、これらの測定手段による測定値の差が所定の範囲
    を超えた場合にその測定手段のうちのいずれかが異常で
    あると判断するものであることを特徴とする請求項１０
    に記載の露光装置。
12. 【請求項１２】 前記異常検出手段は、前記測定手段に
    よる今回の測定結果と所定の期間前に行なった前回の測
    定結果との差が所定の範囲を超えている場合に前記測定
    手段が異常であると判断するものであることを特徴とす
    る請求項１０または１１に記載の露光装置。
13. 【請求項１３】 前記異常動作防止手段は、前記異常検
    出手段が異常を検出した場合は、その旨の警告もしくは
    エラーの出力または表示を行なうものであることを特徴
    とする請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の露光装
    置。
14. 【請求項１４】 前記異常検出手段は、前記測定手段に
    よるその測定対象についての測定結果、および装置が属
    するコンピュータネットワーク上の他の同種の露光装置
    における前記測定対象と同種の測定対象についての測定
    結果に基づいて前記異常の検出を行なうものであること
    を特徴とする請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の
    露光装置。
15. 【請求項１５】 前記同種の露光装置は同一のクリーン
    ルーム内に設置されており、前記異常検出手段は、装置
    内の前記測定手段による測定結果および前記同種の露光
    装置における同種の測定対象、あるいはさらに前記クリ
    ーンルームの環境を制御する環境制御装置における同種
    の測定対象についての測定結果が同様に異常な変化を示
    しているときは装置外の異常であり、装置内の前記測定
    手段による測定結果のみが異常な変化を示しているとき
    は装置内部における異常であると判断するものであるこ
    とを特徴とする請求項１４に記載の露光装置。
16. 【請求項１６】 前記異常検出手段は、前記装置内部に
    おける異常であると判断する場合において、装置内の相
    互に関連する異なる測定対象についての複数の前記測定
    手段による測定結果が同様に異常な変化を示していると
    きは、それらの測定手段が関係する装置内の部分が異常
    であり、１つの測定手段による測定結果のみが異常な変
    化を示しているときは、その測定手段が異常であると判
    断するものであることを特徴とする請求項１５に記載の
    露光装置。
17. 【請求項１７】 コンピュータネットワークを構成して
    いる、露光装置およびこれを管理する管理装置を備えた
    露光装置システムにおいて、前記管理装置は、各露光装
    置に対して所定の計測対象についての計測を指示する指
    示手段と、これに応じて計測された各露光装置における
    計測値を受信して登録する登録手段とを具備することを
    特徴とする露光装置システム。
18. 【請求項１８】 前記管理装置は、登録した各露光装置
    の計測値に基づいて各投影露光装置間の計測値の機差を
    求める手段を有することを特徴とする請求項１７に記載
    の露光装置システム。
19. 【請求項１９】 前記管理装置は、各露光装置から、前
    記計測対象についての最新の計測値の問い合せがあった
    ときは、これに応じて、前記登録手段により登録してあ
    る計測値のうちの最新のものをその露光装置に送信する
    ものであることを特徴とする請求項１７または１８に記
    載の露光装置システム。
20. 【請求項２０】 前記管理装置は、前記計測値に付随さ
    せて登録してある計測日時の情報に基づいて前記最新の
    計測値を抽出するものであることを特徴とする請求項１
    ９に記載の露光装置システム。
21. 【請求項２１】 前記管理装置は、前記計測値の送信を
    行なう際には、前記登録してある計測値から得た各露光
    装置間での機差を考慮した計測値を送信するものである
    ことを特徴とする請求項１９または２０に記載の露光装
    置システム。
22. 【請求項２２】 コンピュータネットワークを構成して
    いる、露光装置およびこれを管理する管理装置を備えた
    露光装置システムにおいて、前記管理装置は、所定の測
    定対象について測定を行なう測定手段を備え、この測定
    手段による測定結果を、前記ネットワークを介して、各
    露光装置に送信するものであることを特徴とする露光装
    置システム。
23. 【請求項２３】 前記管理装置は、各露光装置から前記
    測定対象についての測定結果の問い合せがあった場合に
    その露光装置に対して、または常に各露光装置に対し
    て、前記測定結果の送信を行なうものであり、これらの
    うちのいずれの方法で前記送信を行なうかが設定可能で
    あることを特徴とする請求項２２に記載の露光装置シス
    テム。
24. 【請求項２４】 前記露光装置は、請求項１〜１６のい
    ずれかの露光装置であることを特徴とする請求項１７〜
    ２３のいずれか１項に記載の露光装置システム。
25. 【請求項２５】 露光装置における所定の測定対象につ
    いて測定を行ない、この測定結果に基づいて前記露光装
    置が異常な状態の下で動作するのを防止しながら前記露
    光装置により露光を行なうことによりデバイスを製造す
    るデバイス製造方法において、前記測定対象についての
    他の露光装置または他の装置における測定結果をも参照
    して前記露光装置の異常な状態での動作を防止すること
    を特徴とするデバイス製造方法。