JP2000332042A - 半導体装置、半導体素子の実装構造、及び半導体装置の実装構造 - Google Patents
半導体装置、半導体素子の実装構造、及び半導体装置の実装構造Info
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- JP2000332042A JP2000332042A JP11136037A JP13603799A JP2000332042A JP 2000332042 A JP2000332042 A JP 2000332042A JP 11136037 A JP11136037 A JP 11136037A JP 13603799 A JP13603799 A JP 13603799A JP 2000332042 A JP2000332042 A JP 2000332042A
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/20—Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
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- H10W72/20—Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
- H10W72/221—Structures or relative sizes
- H10W72/227—Multiple bumps having different sizes
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- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体集積回路の高集積化に伴い半田バンプ
を微細化してもLSIチップの接続部の強度が十分に得
られ、半田付けの際に用いたフラックスを洗浄して取り
除くことが可能なLSIチップの実装構造を実現する。 【解決手段】 LSIチップ2の一面に形成された電源
用またはグランド用の複数の半田付けパッド5aがそれ
ぞれ、基板1の一面に形成された半田付けパッド4aと
半田バンプ6aを介して接続される。また、LSIチッ
プ2の一面に形成された信号用の複数の半田付けパッド
5bがそれぞれ、基板1の一面に形成された半田付けパ
ッド4bと半田バンプ6bを介して接続される。半田バ
ンプ6aの大きさが半田バンプ6bの大きさよりも大き
くなっていることで、半田バンプ6bを微細化しても半
田バンプ6bにより強度が充分に得られると共に、LS
Iチップ2と基板1とのギャップが確保される。
を微細化してもLSIチップの接続部の強度が十分に得
られ、半田付けの際に用いたフラックスを洗浄して取り
除くことが可能なLSIチップの実装構造を実現する。 【解決手段】 LSIチップ2の一面に形成された電源
用またはグランド用の複数の半田付けパッド5aがそれ
ぞれ、基板1の一面に形成された半田付けパッド4aと
半田バンプ6aを介して接続される。また、LSIチッ
プ2の一面に形成された信号用の複数の半田付けパッド
5bがそれぞれ、基板1の一面に形成された半田付けパ
ッド4bと半田バンプ6bを介して接続される。半田バ
ンプ6aの大きさが半田バンプ6bの大きさよりも大き
くなっていることで、半田バンプ6bを微細化しても半
田バンプ6bにより強度が充分に得られると共に、LS
Iチップ2と基板1とのギャップが確保される。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、LSIチップなど
の半導体素子と、その半導体素子を基板に実装するため
の、格子状に並べられた複数の半田バンプとを有する半
導体装置、半導体素子の実装構造、及び半導体素子を有
する半導体装置を、格子状に並べられた複数の半田バン
プにより基板に実装する半導体装置の実装構造に関す
る。
の半導体素子と、その半導体素子を基板に実装するため
の、格子状に並べられた複数の半田バンプとを有する半
導体装置、半導体素子の実装構造、及び半導体素子を有
する半導体装置を、格子状に並べられた複数の半田バン
プにより基板に実装する半導体装置の実装構造に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体素子の実装構造の一つとし
ては、格子状に並べられた複数の半田バンプによって、
すなわち複数の金属バンプによって、半導体素子である
LSIチップを基板に接続して実装する、いわゆるフリ
ップチップ実装構造がある。また、LSIチップを有す
る半導体装置としてのLSIパッケージと基板との接続
方法として、同様に格子状に並べられた複数の半田バン
プを介して接続するBGA(ボール・グリッド・アレ
イ)実装がある。BGA実装を行うための、半導体装置
であるBGAパッケージの中でも、特にLSIチップと
ほぼ同じサイズのものがCSP(チップ・サイズ・パッ
ケージ)と呼ばれることもある。
ては、格子状に並べられた複数の半田バンプによって、
すなわち複数の金属バンプによって、半導体素子である
LSIチップを基板に接続して実装する、いわゆるフリ
ップチップ実装構造がある。また、LSIチップを有す
る半導体装置としてのLSIパッケージと基板との接続
方法として、同様に格子状に並べられた複数の半田バン
プを介して接続するBGA(ボール・グリッド・アレ
イ)実装がある。BGA実装を行うための、半導体装置
であるBGAパッケージの中でも、特にLSIチップと
ほぼ同じサイズのものがCSP(チップ・サイズ・パッ
ケージ)と呼ばれることもある。
【0003】BGAパッケージは、半導体集積回路を有
する半導体素子としてのLSIチップ、そのLSIチッ
プと電気的に接続された複数の電極部、及びそれぞれの
電極部に形成された複数の半田バンプなどから構成され
ており、複数の電極部及び複数の半田バンプがBGAパ
ッケージの一面に格子状に並べられている。BGAパッ
ケージの一面に格子状に並べられた複数の半田バンプを
介してBGAパッケージが基板に実装される。BGAパ
ッケージが実装される基板には、BGAパッケージのそ
れぞれの電極部に対応する電極部が複数備えられてい
る。その基板にBGAパッケージを実装した際に、BG
Aパッケージと基板の互いの電極部同士の電気的な接続
が、BGAパッケージの複数の半田バンプによって複数
得られる。
する半導体素子としてのLSIチップ、そのLSIチッ
プと電気的に接続された複数の電極部、及びそれぞれの
電極部に形成された複数の半田バンプなどから構成され
ており、複数の電極部及び複数の半田バンプがBGAパ
ッケージの一面に格子状に並べられている。BGAパッ
ケージの一面に格子状に並べられた複数の半田バンプを
介してBGAパッケージが基板に実装される。BGAパ
ッケージが実装される基板には、BGAパッケージのそ
れぞれの電極部に対応する電極部が複数備えられてい
る。その基板にBGAパッケージを実装した際に、BG
Aパッケージと基板の互いの電極部同士の電気的な接続
が、BGAパッケージの複数の半田バンプによって複数
得られる。
【0004】これらの接続方法が用いられた半導体素子
の実装構造、及び半導体装置の実装構造では、接続端子
である半田バンプが2次元的に配置されているため、接
続端子の多ピン化に有利である。
の実装構造、及び半導体装置の実装構造では、接続端子
である半田バンプが2次元的に配置されているため、接
続端子の多ピン化に有利である。
【0005】図4は、従来の半導体素子の実装構造であ
るフリップチップ実装構造を示す断面図である。図4に
示されるように従来のフリップチップ実装構造では、半
導体集積回路を有する半導体素子であるLSIチップ1
02の一面に、電極部である半田付けパッド105が複
数形成されている。複数の半田付けパッド105は、全
て大きさが同じであり、LSIチップ102の一面に格
子状に並べられている。
るフリップチップ実装構造を示す断面図である。図4に
示されるように従来のフリップチップ実装構造では、半
導体集積回路を有する半導体素子であるLSIチップ1
02の一面に、電極部である半田付けパッド105が複
数形成されている。複数の半田付けパッド105は、全
て大きさが同じであり、LSIチップ102の一面に格
子状に並べられている。
【0006】このLSIチップ102が実装される基板
101の一面には、それぞれの半田付けパッド105に
対応する、電極部である半田付けパッド104が複数形
成されている。複数の半田付けパッド104の大きさは
全て同じである。複数の半田付けパッド104の配置と
しては、複数の半田付けパッド105の配置に対応して
基板101の一面に半田付けパッド104が格子状に並
べられている。
101の一面には、それぞれの半田付けパッド105に
対応する、電極部である半田付けパッド104が複数形
成されている。複数の半田付けパッド104の大きさは
全て同じである。複数の半田付けパッド104の配置と
しては、複数の半田付けパッド105の配置に対応して
基板101の一面に半田付けパッド104が格子状に並
べられている。
【0007】このような基板101の半田付けパッド1
04側の面にLSIチップ102の半田バンプ106側
の面が向けられて、それぞれの半田付けパッド105
が、それぞれの半田付けパッド105に対応する半田付
けパッド104と、金属バンプである半田バンプ106
を介して接続されている。従って、LSIチップ102
は、格子状に並べられた複数の半田バンプ106を介し
て基板101の一面に接続されることにより基板101
に実装されている。複数の半田バンプ106の大きさは
全て同じになっている。このように複数の半田バンプ1
06を介してLSIチップ102と基板101とが接続
されることにより、半田バンプ105と104とが半田
バンプ106を介して電気的に接続されると共に、LS
Iチップ102が所定の強度で基板101に固定されて
LSIチップ102が物理的にも保持されている。
04側の面にLSIチップ102の半田バンプ106側
の面が向けられて、それぞれの半田付けパッド105
が、それぞれの半田付けパッド105に対応する半田付
けパッド104と、金属バンプである半田バンプ106
を介して接続されている。従って、LSIチップ102
は、格子状に並べられた複数の半田バンプ106を介し
て基板101の一面に接続されることにより基板101
に実装されている。複数の半田バンプ106の大きさは
全て同じになっている。このように複数の半田バンプ1
06を介してLSIチップ102と基板101とが接続
されることにより、半田バンプ105と104とが半田
バンプ106を介して電気的に接続されると共に、LS
Iチップ102が所定の強度で基板101に固定されて
LSIチップ102が物理的にも保持されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体素子では、LSIの高集積化が進み、多ピン化、
すなわちLSIチップの電極部の高密度化の要求がさら
に高まり、LSIチップを基板に実装するための半田バ
ンプが微細なものになってきている。半田バンプを微細
化すると、その半田バンプの強度が弱くなるので、半導
体素子を基板に実装した際の信頼性が低くなるという問
題点がある。半田バンプの微細化によって半田バンプの
強度が弱くなることを補うために、半田バンプの接続部
にエポキシ樹脂などを流し込んでその接続部を固める構
造もあるが、エポキシ樹脂などで固めてしまうと、LS
IチップまたはBGAパッケージの交換が非常に困難に
なるという問題点がある。
半導体素子では、LSIの高集積化が進み、多ピン化、
すなわちLSIチップの電極部の高密度化の要求がさら
に高まり、LSIチップを基板に実装するための半田バ
ンプが微細なものになってきている。半田バンプを微細
化すると、その半田バンプの強度が弱くなるので、半導
体素子を基板に実装した際の信頼性が低くなるという問
題点がある。半田バンプの微細化によって半田バンプの
強度が弱くなることを補うために、半田バンプの接続部
にエポキシ樹脂などを流し込んでその接続部を固める構
造もあるが、エポキシ樹脂などで固めてしまうと、LS
IチップまたはBGAパッケージの交換が非常に困難に
なるという問題点がある。
【0009】また、半田バンプを微細化することによ
り、LSIチップと基板との間のギャップ、またはBG
Aパッケージと基板との間のギャップが小さくなると、
半田付けに用いた、LSIチップと基板との間、または
BGAパッケージと基板との間のフラックスを洗浄する
場合に隙間に洗浄液が流れ込みづらくなるので、半田バ
ンプの微細化が洗浄性の悪化の原因にもなっているとい
う問題点がある。
り、LSIチップと基板との間のギャップ、またはBG
Aパッケージと基板との間のギャップが小さくなると、
半田付けに用いた、LSIチップと基板との間、または
BGAパッケージと基板との間のフラックスを洗浄する
場合に隙間に洗浄液が流れ込みづらくなるので、半田バ
ンプの微細化が洗浄性の悪化の原因にもなっているとい
う問題点がある。
【0010】本発明の目的は、半導体素子の半導体集積
回路の高集積化に伴い半田バンプを微細化しても、半田
バンプを介して半導体素子または半導体装置を基板に実
装した際に、半田バンプの接続部の強度が十分に得ら
れ、半田付けの際に用いたフラックスを洗浄液によって
取り除いて半田バンプの周囲を洗浄することが可能な半
導体装置、半導体素子の実装構造、及び半導体装置の実
装構造を提供することにある。
回路の高集積化に伴い半田バンプを微細化しても、半田
バンプを介して半導体素子または半導体装置を基板に実
装した際に、半田バンプの接続部の強度が十分に得ら
れ、半田付けの際に用いたフラックスを洗浄液によって
取り除いて半田バンプの周囲を洗浄することが可能な半
導体装置、半導体素子の実装構造、及び半導体装置の実
装構造を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、半導体集積回路と、該半導体集積回路と
電気的に接続された複数の電極部と、該電極部の表面に
それぞれ形成された複数の金属バンプとを有する半導体
装置において、前記複数の金属バンプのうち少なくとも
1つの金属バンプの大きさが他の金属バンプの大きさと
異なっている。
に、本発明は、半導体集積回路と、該半導体集積回路と
電気的に接続された複数の電極部と、該電極部の表面に
それぞれ形成された複数の金属バンプとを有する半導体
装置において、前記複数の金属バンプのうち少なくとも
1つの金属バンプの大きさが他の金属バンプの大きさと
異なっている。
【0012】上記の発明では、半導体装置の複数の金属
バンプのうち少なくとも1つの金属バンプの大きさが他
の金属バンプと異なっていることにより、その半導体装
置の複数の金属バンプを介して半導体装置を基板などに
実装する際に、半導体装置の半導体集積回路を高集積化
しても、金属バンプの高密度化が必要な部分で金属バン
プを微細化しつつ、微細化された金属バンプと異なる別
の金属バンプを大きくすることで、半導体装置を基板に
実装するための強度を上げることが可能となる。ここ
で、半導体装置の複数の電極部と、例えば基板に形成さ
れた複数の電極部との互いの電極部同士の電気的な接続
が複数得られるように、その基板に半導体装置の複数の
金属バンプを介して半導体装置が実装される。この時、
半導体装置と基板との接続部での強度を十分に確保する
ことができるので、その接続部において温度サイクルに
対する寿命が延びる。また、半導体装置と基板との接続
部での強度が上がることで、金属バンプの接続部を樹脂
等の封止材で固めて補強する必要がなくなる。従って、
金属バンプの接続部に樹脂を供給する工程を省略するこ
とが可能となると共に半導体装置の交換が容易になる。
さらに、半導体装置の複数の金属バンプのうちのいくつ
かを大きくすることにより、半導体装置を基板に実装し
た際に半導体装置と基板との間のギャップが、大きくし
た金属バンプにより確保されるので、半導体装置と基板
との間のギャップを洗浄液により洗浄することが容易に
なり、半導体装置を実装した後の洗浄性が向上する。例
えば、半導体装置の金属バンプとして半田バンプを用い
た場合に、その半田バンプのリフローにより半導体装置
を基板に実装する際に用いたフラックスを洗浄液によっ
て容易に取り除くことができる。ここで、基板に半導体
装置を実装するための、半田バンプのリフローの工程で
は、半導体集積回路の高集積化に伴って微細化された半
田バンプの形状を、その半田バンプの側面が内側に向か
ってへこむように凹状に湾曲した形状、いわゆる鼓形に
形成することができる。このような鼓形の半田バンプで
は応力が分散されるので、半導体装置と基板との接続部
での強度がさらに上がる。
バンプのうち少なくとも1つの金属バンプの大きさが他
の金属バンプと異なっていることにより、その半導体装
置の複数の金属バンプを介して半導体装置を基板などに
実装する際に、半導体装置の半導体集積回路を高集積化
しても、金属バンプの高密度化が必要な部分で金属バン
プを微細化しつつ、微細化された金属バンプと異なる別
の金属バンプを大きくすることで、半導体装置を基板に
実装するための強度を上げることが可能となる。ここ
で、半導体装置の複数の電極部と、例えば基板に形成さ
れた複数の電極部との互いの電極部同士の電気的な接続
が複数得られるように、その基板に半導体装置の複数の
金属バンプを介して半導体装置が実装される。この時、
半導体装置と基板との接続部での強度を十分に確保する
ことができるので、その接続部において温度サイクルに
対する寿命が延びる。また、半導体装置と基板との接続
部での強度が上がることで、金属バンプの接続部を樹脂
等の封止材で固めて補強する必要がなくなる。従って、
金属バンプの接続部に樹脂を供給する工程を省略するこ
とが可能となると共に半導体装置の交換が容易になる。
さらに、半導体装置の複数の金属バンプのうちのいくつ
かを大きくすることにより、半導体装置を基板に実装し
た際に半導体装置と基板との間のギャップが、大きくし
た金属バンプにより確保されるので、半導体装置と基板
との間のギャップを洗浄液により洗浄することが容易に
なり、半導体装置を実装した後の洗浄性が向上する。例
えば、半導体装置の金属バンプとして半田バンプを用い
た場合に、その半田バンプのリフローにより半導体装置
を基板に実装する際に用いたフラックスを洗浄液によっ
て容易に取り除くことができる。ここで、基板に半導体
装置を実装するための、半田バンプのリフローの工程で
は、半導体集積回路の高集積化に伴って微細化された半
田バンプの形状を、その半田バンプの側面が内側に向か
ってへこむように凹状に湾曲した形状、いわゆる鼓形に
形成することができる。このような鼓形の半田バンプで
は応力が分散されるので、半導体装置と基板との接続部
での強度がさらに上がる。
【0013】具体的には、前記半導体装置が、信号用の
複数の電極部と、電源用の電極部と、グランド用の電極
部とを有し、前記複数の金属バンプのうち、前記電源用
及び前記グランド用の電極部のそれぞれに形成された金
属バンプの大きさが、前記信号用の複数の電極部のそれ
ぞれに形成された金属バンプの大きさよりも大きくなっ
ていることが好ましい。
複数の電極部と、電源用の電極部と、グランド用の電極
部とを有し、前記複数の金属バンプのうち、前記電源用
及び前記グランド用の電極部のそれぞれに形成された金
属バンプの大きさが、前記信号用の複数の電極部のそれ
ぞれに形成された金属バンプの大きさよりも大きくなっ
ていることが好ましい。
【0014】上記のように、電源用及びグランド用の電
極部に、大きい方の金属バンプを割り当てることによ
り、半導体装置への電源の供給能力が向上し、半導体装
置がノイズに対して強くなる。
極部に、大きい方の金属バンプを割り当てることによ
り、半導体装置への電源の供給能力が向上し、半導体装
置がノイズに対して強くなる。
【0015】また、本発明は、半導体集積回路、および
該半導体集積回路と電気的に接続された複数の電極部を
有する半導体素子と、該半導体素子のそれぞれの電極部
に対応する電極部を複数有する基板との互いの電極部同
士の電気的な接続が複数得られるように、前記基板に複
数の金属バンプを介して前記半導体素子が実装された半
導体素子の実装構造において、前記複数の金属バンプの
うち少なくとも1つの金属バンプの大きさが他の金属バ
ンプの大きさと異なっている。
該半導体集積回路と電気的に接続された複数の電極部を
有する半導体素子と、該半導体素子のそれぞれの電極部
に対応する電極部を複数有する基板との互いの電極部同
士の電気的な接続が複数得られるように、前記基板に複
数の金属バンプを介して前記半導体素子が実装された半
導体素子の実装構造において、前記複数の金属バンプの
うち少なくとも1つの金属バンプの大きさが他の金属バ
ンプの大きさと異なっている。
【0016】上記の発明では、半導体素子と基板の互い
の電極部同士の電気的な接続が複数得られるように複数
の金属バンプを介して基板に半導体素子が実装された半
導体素子の実装構造で複数の金属バンプのうち少なくと
も1つの金属バンプの大きさが他の金属バンプの大きさ
と異なっていることにより、本発明の半導体装置につい
て上述したのと同様に、半導体素子の半導体集積回路を
高集積化しても、金属バンプの高密度化が必要な部分で
金属バンプを微細化しつつ、微細化された金属バンプと
異なる別の金属バンプを大きくすることで、半導体素子
を基板に実装するための強度を上げることが可能とな
る。従って、半導体素子と基板との接続部で温度サイク
ルに対する寿命が延び、また、金属バンプの接続部を樹
脂等の封止材で固めて補強する必要がなくなると共に、
半導体素子の交換が容易になる。さらに、半導体素子の
複数の金属バンプのうちのいくつかを大きくして半導体
素子と基板との間のギャップを確保することにより、半
導体素子を実装した後の洗浄性が向上する。例えば、半
導体素子の金属バンプとして半田バンプを用いた場合
に、その半田バンプのリフローの工程で用いたフラック
スを洗浄液によって容易に取り除くことができる。ここ
で、半田バンプのリフローの工程では、半導体集積回路
の高集積化に伴って微細化された半田バンプの形状を、
前述したいわゆる鼓形に形成することにより、微細化さ
れた半田バンプにおける応力を分散させることができる
ので、半導体素子と基板との接続部での強度がさらに上
がる。
の電極部同士の電気的な接続が複数得られるように複数
の金属バンプを介して基板に半導体素子が実装された半
導体素子の実装構造で複数の金属バンプのうち少なくと
も1つの金属バンプの大きさが他の金属バンプの大きさ
と異なっていることにより、本発明の半導体装置につい
て上述したのと同様に、半導体素子の半導体集積回路を
高集積化しても、金属バンプの高密度化が必要な部分で
金属バンプを微細化しつつ、微細化された金属バンプと
異なる別の金属バンプを大きくすることで、半導体素子
を基板に実装するための強度を上げることが可能とな
る。従って、半導体素子と基板との接続部で温度サイク
ルに対する寿命が延び、また、金属バンプの接続部を樹
脂等の封止材で固めて補強する必要がなくなると共に、
半導体素子の交換が容易になる。さらに、半導体素子の
複数の金属バンプのうちのいくつかを大きくして半導体
素子と基板との間のギャップを確保することにより、半
導体素子を実装した後の洗浄性が向上する。例えば、半
導体素子の金属バンプとして半田バンプを用いた場合
に、その半田バンプのリフローの工程で用いたフラック
スを洗浄液によって容易に取り除くことができる。ここ
で、半田バンプのリフローの工程では、半導体集積回路
の高集積化に伴って微細化された半田バンプの形状を、
前述したいわゆる鼓形に形成することにより、微細化さ
れた半田バンプにおける応力を分散させることができる
ので、半導体素子と基板との接続部での強度がさらに上
がる。
【0017】上記の半導体素子の実装構造において、前
記半導体素子が、信号用の複数の電極部と、電源用の電
極部と、グランド用の電極部とを有し、前記複数の金属
バンプのうち、前記電源用及び前記グランド用の電極部
のそれぞれに形成された金属バンプの大きさが、前記信
号用の複数の電極部のそれぞれに形成された金属バンプ
の大きさよりも大きくなっていることが好ましい。
記半導体素子が、信号用の複数の電極部と、電源用の電
極部と、グランド用の電極部とを有し、前記複数の金属
バンプのうち、前記電源用及び前記グランド用の電極部
のそれぞれに形成された金属バンプの大きさが、前記信
号用の複数の電極部のそれぞれに形成された金属バンプ
の大きさよりも大きくなっていることが好ましい。
【0018】さらに、本発明は、半導体集積回路を有す
る半導体素子、および前記半導体集積回路と電気的に接
続された複数の電極部を有する半導体装置と、該半導体
装置のそれぞれの電極部に対応する電極部を複数有する
基板との互いの電極部同士の電気的な接続が複数得られ
るように、前記基板に複数の金属バンプを介して前記半
導体装置が実装された半導体装置の実装構造において、
前記複数の金属バンプのうち少なくとも1つの金属バン
プの大きさが他の金属バンプの大きさと異なっている。
る半導体素子、および前記半導体集積回路と電気的に接
続された複数の電極部を有する半導体装置と、該半導体
装置のそれぞれの電極部に対応する電極部を複数有する
基板との互いの電極部同士の電気的な接続が複数得られ
るように、前記基板に複数の金属バンプを介して前記半
導体装置が実装された半導体装置の実装構造において、
前記複数の金属バンプのうち少なくとも1つの金属バン
プの大きさが他の金属バンプの大きさと異なっている。
【0019】上記の発明では、半導体装置と基板の互い
の電極部同士の電気的な接続が複数得られるように複数
の金属バンプを介して基板に半導体装置が実装された半
導体装置の実装構造で複数の金属バンプのうち少なくと
も1つの金属バンプの大きさが他の金属バンプの大きさ
と異なっていることにより、本発明の半導体装置につい
て上述したのと同様に、半導体素子の半導体集積回路を
高集積化しても、金属バンプの高密度化が必要な部分で
金属バンプを微細化しつつ、微細化された金属バンプと
異なる別の金属バンプを大きくすることで、半導体装置
を基板に実装するための強度を上げることが可能とな
る。従って、半導体装置と基板との接続部で温度サイク
ルに対する寿命が延び、また、金属バンプの接続部を樹
脂等の封止材で固めて補強する必要がなくなると共に、
半導体装置の交換が容易になる。さらに、半導体装置の
複数の金属バンプのうちのいくつかを大きくして半導体
装置と基板との間のギャップを確保することにより、半
導体装置を基板に実装した後の洗浄性が向上する。例え
ば、半導体装置の金属バンプとして半田バンプを用いた
場合に、その半田バンプのリフローの工程で用いたフラ
ックスを洗浄液によって容易に取り除くことができる。
ここで、半田バンプのリフローの工程では、半導体集積
回路の高集積化に伴って微細化された半田バンプの形状
を、前述したいわゆる鼓形に形成することにより、微細
化された半田バンプにおける応力を分散させることがで
きるので、半導体装置と基板との接続部での強度がさら
に上がる。
の電極部同士の電気的な接続が複数得られるように複数
の金属バンプを介して基板に半導体装置が実装された半
導体装置の実装構造で複数の金属バンプのうち少なくと
も1つの金属バンプの大きさが他の金属バンプの大きさ
と異なっていることにより、本発明の半導体装置につい
て上述したのと同様に、半導体素子の半導体集積回路を
高集積化しても、金属バンプの高密度化が必要な部分で
金属バンプを微細化しつつ、微細化された金属バンプと
異なる別の金属バンプを大きくすることで、半導体装置
を基板に実装するための強度を上げることが可能とな
る。従って、半導体装置と基板との接続部で温度サイク
ルに対する寿命が延び、また、金属バンプの接続部を樹
脂等の封止材で固めて補強する必要がなくなると共に、
半導体装置の交換が容易になる。さらに、半導体装置の
複数の金属バンプのうちのいくつかを大きくして半導体
装置と基板との間のギャップを確保することにより、半
導体装置を基板に実装した後の洗浄性が向上する。例え
ば、半導体装置の金属バンプとして半田バンプを用いた
場合に、その半田バンプのリフローの工程で用いたフラ
ックスを洗浄液によって容易に取り除くことができる。
ここで、半田バンプのリフローの工程では、半導体集積
回路の高集積化に伴って微細化された半田バンプの形状
を、前述したいわゆる鼓形に形成することにより、微細
化された半田バンプにおける応力を分散させることがで
きるので、半導体装置と基板との接続部での強度がさら
に上がる。
【0020】上記の半導体装置の実装構造において、前
記半導体装置が、信号用の複数の電極部と、電源用の電
極部と、グランド用の電極部とを有し、前記複数の金属
バンプのうち、前記電源用及び前記グランド用の電極部
のそれぞれに形成された金属バンプの大きさが、前記信
号用の複数の電極部のそれぞれに形成された金属バンプ
の大きさよりも大きくなっていることが好ましい。
記半導体装置が、信号用の複数の電極部と、電源用の電
極部と、グランド用の電極部とを有し、前記複数の金属
バンプのうち、前記電源用及び前記グランド用の電極部
のそれぞれに形成された金属バンプの大きさが、前記信
号用の複数の電極部のそれぞれに形成された金属バンプ
の大きさよりも大きくなっていることが好ましい。
【0021】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
て図面を参照して説明する。
【0022】(第1の実施の形態)図1は、本発明の第
1の実施形態の半導体素子の実装構造が適用される半導
体素子の平面図である。図2は、図1に示した半導体素
子が用いられた、本発明の第1の実施形態の半導体素子
の実装構造を示す断面図である。
1の実施形態の半導体素子の実装構造が適用される半導
体素子の平面図である。図2は、図1に示した半導体素
子が用いられた、本発明の第1の実施形態の半導体素子
の実装構造を示す断面図である。
【0023】図1に示すように、本実施形態の半導体素
子の実装構造が適用される半導体素子としての板状のL
SIチップ2の一面には、格子状に配列された電極部と
しての半田付けパッド5b、およびLSIチップ2の縁
部の近傍に配置された電極部としての半田付けパッド5
aがそれぞれ複数形成されている。LSIチップ2内に
は半導体集積回路が形成されており、その半導体集積回
路と半田付けパッド5a,5bが電気的に接続されてい
る。
子の実装構造が適用される半導体素子としての板状のL
SIチップ2の一面には、格子状に配列された電極部と
しての半田付けパッド5b、およびLSIチップ2の縁
部の近傍に配置された電極部としての半田付けパッド5
aがそれぞれ複数形成されている。LSIチップ2内に
は半導体集積回路が形成されており、その半導体集積回
路と半田付けパッド5a,5bが電気的に接続されてい
る。
【0024】複数の半田付けパッド5aの大きさは全て
ほぼ同じであり、それぞれの半田付けパッド5aは電源
用またはグランド用の電極部として用いられる。複数の
半田付けパッド5bの大きさも全てほぼ同じであり、そ
れぞれの半田付けパッド5bは信号用の電極部として用
いられる。半田付けパッド5bの大きさよりも、半田付
けパッド5aの大きさ方が大きくなっている。LSIチ
ップ2の形状は矩形であり、LSIチップ2の一辺に沿
って4つの半田付けパッド5aが所定の間隔で一列に並
び、その一辺と平行な反対側の他辺に沿って4つの半田
付けパッド5aが所定の間隔で一列に並んでいる。
ほぼ同じであり、それぞれの半田付けパッド5aは電源
用またはグランド用の電極部として用いられる。複数の
半田付けパッド5bの大きさも全てほぼ同じであり、そ
れぞれの半田付けパッド5bは信号用の電極部として用
いられる。半田付けパッド5bの大きさよりも、半田付
けパッド5aの大きさ方が大きくなっている。LSIチ
ップ2の形状は矩形であり、LSIチップ2の一辺に沿
って4つの半田付けパッド5aが所定の間隔で一列に並
び、その一辺と平行な反対側の他辺に沿って4つの半田
付けパッド5aが所定の間隔で一列に並んでいる。
【0025】図2に示すように、本実施形態の半導体素
子の実装構造では、LSIチップ2の半田付けパッド5
a,5b側の面が基板1側に向けられて基板1にLSI
チップ2が実装されている。基板1の一面には、それぞ
れの半田付けパッド5aに対応する半田付けパッド4
a、及びそれぞれの半田付けパッド5bに対応する半田
付けパッド4bがそれぞれ複数形成されている。そし
て、それぞれの半田付けパッド5aが、それぞれの半田
付けパッド5aに対応する半田付けパッド4aと、金属
バンプである半田バンプ6aを介して接続されている。
また、それぞれの半田付けパッド5bが、それぞれの半
田付けパッド5bに対応する半田付けパッド4bと、金
属バンプである半田バンプ6bを介して接続されてい
る。
子の実装構造では、LSIチップ2の半田付けパッド5
a,5b側の面が基板1側に向けられて基板1にLSI
チップ2が実装されている。基板1の一面には、それぞ
れの半田付けパッド5aに対応する半田付けパッド4
a、及びそれぞれの半田付けパッド5bに対応する半田
付けパッド4bがそれぞれ複数形成されている。そし
て、それぞれの半田付けパッド5aが、それぞれの半田
付けパッド5aに対応する半田付けパッド4aと、金属
バンプである半田バンプ6aを介して接続されている。
また、それぞれの半田付けパッド5bが、それぞれの半
田付けパッド5bに対応する半田付けパッド4bと、金
属バンプである半田バンプ6bを介して接続されてい
る。
【0026】このように複数の半田バンプ6a,6bを
介してLSIチップ2と基板1とが接続されることによ
り、半田バンプ5aと4aとが半田バンプ6aを介して
電気的に接続されると共に、半田バンプ5bと4bとが
半田バンプ6bを介して電気的に接続される。また、半
田バンプ6a,6bによってLSIチップ2が所定の強
度で基板1に固定されてLSIチップ2が物理的にも保
持されている。従って、複数の半田バンプ6a,6bを
介して基板1にLSIチップ2が実装されることによ
り、半田バンプ5a,4a同士の電気的な接続、及び半
田バンプ5b,4b同士の電気的な接続がそれぞれ複数
得られている。
介してLSIチップ2と基板1とが接続されることによ
り、半田バンプ5aと4aとが半田バンプ6aを介して
電気的に接続されると共に、半田バンプ5bと4bとが
半田バンプ6bを介して電気的に接続される。また、半
田バンプ6a,6bによってLSIチップ2が所定の強
度で基板1に固定されてLSIチップ2が物理的にも保
持されている。従って、複数の半田バンプ6a,6bを
介して基板1にLSIチップ2が実装されることによ
り、半田バンプ5a,4a同士の電気的な接続、及び半
田バンプ5b,4b同士の電気的な接続がそれぞれ複数
得られている。
【0027】半田バンプ6a,6bの大きさとしては、
大きい方の半田バンプ6aの大きさが300μm、小さ
い方の半田バンプ6bの大きさが200μmとなってい
る。半田バンプ6a,6bのこれらの寸法は特にこの値
に制約されるものではなく、LSIチップ2及び基板1
の互いの半田付けパッド同士を確実に電気的に接続する
ことができ、基板1上でLSIチップ2を十分に保持す
ることができれば、半田バンプ6a,6bの寸法はどの
ようなものであってもよい。
大きい方の半田バンプ6aの大きさが300μm、小さ
い方の半田バンプ6bの大きさが200μmとなってい
る。半田バンプ6a,6bのこれらの寸法は特にこの値
に制約されるものではなく、LSIチップ2及び基板1
の互いの半田付けパッド同士を確実に電気的に接続する
ことができ、基板1上でLSIチップ2を十分に保持す
ることができれば、半田バンプ6a,6bの寸法はどの
ようなものであってもよい。
【0028】また、半田バンプ6a,6bの配置として
は、温度サイクル等で応力がかかりやすいLSIチップ
2の隅の近傍、すなわちLSIチップ2のコーナー付近
に、大きい方の半田バンプ6aを集中的に配置すること
が効果的であるが、半田バンプ6aを通してLSIチッ
プ2に電源を供給する場合には、LSIチップ2の一面
に半田バンプ6aを所定の間隔で均一に配置させてもよ
い。すなわち、半田バンプ6a,6bの配置は、図2に
示されるものに制約されない。
は、温度サイクル等で応力がかかりやすいLSIチップ
2の隅の近傍、すなわちLSIチップ2のコーナー付近
に、大きい方の半田バンプ6aを集中的に配置すること
が効果的であるが、半田バンプ6aを通してLSIチッ
プ2に電源を供給する場合には、LSIチップ2の一面
に半田バンプ6aを所定の間隔で均一に配置させてもよ
い。すなわち、半田バンプ6a,6bの配置は、図2に
示されるものに制約されない。
【0029】上述した半導体素子の実装構造では、実装
方法として、基板1にLSIチップ2をフェイスダウン
で実装するフリップ実装が用いられ、基板1に形成され
た半田付けパッド4a,4bと、LSIチップ2に形成
された5a,5bとがそれぞれ、半田バンプ6a,6b
を介して接続される構造が従来のものと同様であるが、
半田バンプ6aと6bとの大きさが異なっており、1つ
の半導体素子の実装構造でバンプの大きさが異なって混
在している。この場合、LSIチップ2及び基板1で信
号ピン(シグナルピン)などの多ピン化が必要なところ
では、微細化したバンプを用いて接続端子数を稼ぎ、電
源ピンやグランドピンなどでは大きいバンプを割り当て
ることにより、電源の供給能力が向上し、LSIチップ
2がノイズに対しても強くなると共に、LSIチップ2
の高集積化にも対応することが可能となる。
方法として、基板1にLSIチップ2をフェイスダウン
で実装するフリップ実装が用いられ、基板1に形成され
た半田付けパッド4a,4bと、LSIチップ2に形成
された5a,5bとがそれぞれ、半田バンプ6a,6b
を介して接続される構造が従来のものと同様であるが、
半田バンプ6aと6bとの大きさが異なっており、1つ
の半導体素子の実装構造でバンプの大きさが異なって混
在している。この場合、LSIチップ2及び基板1で信
号ピン(シグナルピン)などの多ピン化が必要なところ
では、微細化したバンプを用いて接続端子数を稼ぎ、電
源ピンやグランドピンなどでは大きいバンプを割り当て
ることにより、電源の供給能力が向上し、LSIチップ
2がノイズに対しても強くなると共に、LSIチップ2
の高集積化にも対応することが可能となる。
【0030】半田バンプ6a,6bを形成する方法とし
ては、従来のフリップチップ実装構造でバンプを形成す
るために半田付けパッドに半田を供給する方法と同様
に、半田ボールの供給、半田ペレットの供給、半田クリ
ームの印刷による半田の供給などがある。
ては、従来のフリップチップ実装構造でバンプを形成す
るために半田付けパッドに半田を供給する方法と同様
に、半田ボールの供給、半田ペレットの供給、半田クリ
ームの印刷による半田の供給などがある。
【0031】半田バンプを形成するための半田付けパッ
ド4a,4b,5a,5bの大きさとしては、形成する
半田バンプの大きさに対して最適化された寸法に設計の
段階で決定しておくことが望ましい。
ド4a,4b,5a,5bの大きさとしては、形成する
半田バンプの大きさに対して最適化された寸法に設計の
段階で決定しておくことが望ましい。
【0032】半田ボールの供給や、半田ペレットの供給
では、大きさの異なる半田ボール(半田ペレット)を供
給してもよいが、この場合、大きさの異なる半田ボール
(半田ペレット)を管理しなければならず、材料管理の
手間が増えることになる。従って、大きい方の半田バン
プ6a用の半田付けパッドに半田ボール(半田ペレッ
ト)を供給する際にも、小さい方の半田バンプ6a用の
半田付けパッドに半田ボール(半田ペレット)を供給す
る際にも、同じ大きさの半田ボール(半田ペレット)を
用い、大きい方の半田バンプ6aを形成する半田付けパ
ッドには、複数個の半田ボール(半田ペレット)を供給
することが好ましい。
では、大きさの異なる半田ボール(半田ペレット)を供
給してもよいが、この場合、大きさの異なる半田ボール
(半田ペレット)を管理しなければならず、材料管理の
手間が増えることになる。従って、大きい方の半田バン
プ6a用の半田付けパッドに半田ボール(半田ペレッ
ト)を供給する際にも、小さい方の半田バンプ6a用の
半田付けパッドに半田ボール(半田ペレット)を供給す
る際にも、同じ大きさの半田ボール(半田ペレット)を
用い、大きい方の半田バンプ6aを形成する半田付けパ
ッドには、複数個の半田ボール(半田ペレット)を供給
することが好ましい。
【0033】また、半田クリームの印刷により半田付け
パッドに半田を供給する場合には、半田クリームを印刷
するために用いられるスクリーンの開口面積を調整する
ことで、半田の供給量を制御することができる。
パッドに半田を供給する場合には、半田クリームを印刷
するために用いられるスクリーンの開口面積を調整する
ことで、半田の供給量を制御することができる。
【0034】また、LSIチップ2と基板1とを半田付
けする際のリフローの工程で、半田の量が多い半田バン
プ6aによってLSIチップ2が浮き上がってしまい、
微細な半田バンプ6bでは半田付けが不完全になる場合
があるが、基板1及びLSIチップ2に荷重を掛けなが
らリフローを行うことにより、LSIチップ2と基板1
との距離が規制され、半田バンプ6bを半田付けパッド
4b,5bと確実に接合させることが可能となる。
けする際のリフローの工程で、半田の量が多い半田バン
プ6aによってLSIチップ2が浮き上がってしまい、
微細な半田バンプ6bでは半田付けが不完全になる場合
があるが、基板1及びLSIチップ2に荷重を掛けなが
らリフローを行うことにより、LSIチップ2と基板1
との距離が規制され、半田バンプ6bを半田付けパッド
4b,5bと確実に接合させることが可能となる。
【0035】ここで、半田バンプ6a,6bとなる半田
が溶融しているうちにLSIチップ2及び基板1に加え
られている荷重を抜くと、大きい方の半田バンプ6aの
表面張力によりLSIチップ2が浮き上がり、微細な半
田バンプ6bでは、半田バンプ6bの側面が内側に向か
ってへこむように凹状に湾曲した、いわゆる鼓形の形状
に半田バンプ6bが形成される場合がある。これに対し
て、従来の半導体素子の実装構造において、格子状に配
置された、全てがほぼ同じ大きさの複数の半田バンプを
介して基板などに半導体素子を実装する場合や、図2に
示される大きい方の半田バンプ6aでは、半田バンプの
側面が外側に向かって膨らむように湾曲した、いわゆる
太鼓形の形状に半田バンプが形成される。このような太
鼓形の半田バンプと比較して、上述した鼓形の半田バン
プ6bでは、太鼓形の半田バンプよりも応力が分散さ
れ、半田バンプの接続部の信頼性が向上することにな
る。
が溶融しているうちにLSIチップ2及び基板1に加え
られている荷重を抜くと、大きい方の半田バンプ6aの
表面張力によりLSIチップ2が浮き上がり、微細な半
田バンプ6bでは、半田バンプ6bの側面が内側に向か
ってへこむように凹状に湾曲した、いわゆる鼓形の形状
に半田バンプ6bが形成される場合がある。これに対し
て、従来の半導体素子の実装構造において、格子状に配
置された、全てがほぼ同じ大きさの複数の半田バンプを
介して基板などに半導体素子を実装する場合や、図2に
示される大きい方の半田バンプ6aでは、半田バンプの
側面が外側に向かって膨らむように湾曲した、いわゆる
太鼓形の形状に半田バンプが形成される。このような太
鼓形の半田バンプと比較して、上述した鼓形の半田バン
プ6bでは、太鼓形の半田バンプよりも応力が分散さ
れ、半田バンプの接続部の信頼性が向上することにな
る。
【0036】上述したように、本実施形態の半導体素子
の実装構造では、LSIチップ2の一面に形成された複
数の金属バンプのうち少なくとも1つの金属バンプの大
きさが他の金属バンプと異なっていることにより、LS
Iチップ2の複数の金属バンプを介してLSIチップ2
を基板1に実装する際に、LSIチップ2の半導体集積
回路を高集積化しても、金属バンプの高密度化が必要な
部分で金属バンプを微細化しつつ、微細化された金属バ
ンプと異なる別の金属バンプを大きくすることで、LS
Iチップ2を基板1に実装するための強度を上げること
が可能となる。このように、LSIチップ2と基板1と
の接続部での強度を十分に確保することができるので、
その接続部において温度サイクルに対する寿命が延び
る。また、LSIチップ2と基板1との接続部での強度
が上がることで、半田バンプ6a,6bの接続部を樹脂
等の封止材で固めて補強する必要がなくなる。従って、
半田バンプ6a,6bの接続部に樹脂を供給する工程を
省略することが可能となると共にLSIチップ2の交換
が容易になる。
の実装構造では、LSIチップ2の一面に形成された複
数の金属バンプのうち少なくとも1つの金属バンプの大
きさが他の金属バンプと異なっていることにより、LS
Iチップ2の複数の金属バンプを介してLSIチップ2
を基板1に実装する際に、LSIチップ2の半導体集積
回路を高集積化しても、金属バンプの高密度化が必要な
部分で金属バンプを微細化しつつ、微細化された金属バ
ンプと異なる別の金属バンプを大きくすることで、LS
Iチップ2を基板1に実装するための強度を上げること
が可能となる。このように、LSIチップ2と基板1と
の接続部での強度を十分に確保することができるので、
その接続部において温度サイクルに対する寿命が延び
る。また、LSIチップ2と基板1との接続部での強度
が上がることで、半田バンプ6a,6bの接続部を樹脂
等の封止材で固めて補強する必要がなくなる。従って、
半田バンプ6a,6bの接続部に樹脂を供給する工程を
省略することが可能となると共にLSIチップ2の交換
が容易になる。
【0037】さらに、LSIチップ2に形成された複数
の半田バンプのうちのいくつかを大きくすることによ
り、LSIチップ2を基板1に実装した際にLSIチッ
プ2と基板1との間のギャップが、大きくした半田バン
プにより確保されるので、LSIチップ2と基板1との
間のギャップを洗浄液により洗浄することが容易にな
り、LSIチップ2を実装した後の洗浄性が向上する。
具体的には、半田バンプ6a,6bのリフローによりL
SIチップ2を基板1に実装する際に用いたフラックス
を洗浄液によって容易に取り除くことができる。ここ
で、基板1にLSIチップ2を実装するための、半田バ
ンプ6a,6bのリフローの工程では、LSIチップ2
の半導体集積回路の高集積化に伴って微細化された半田
バンプ6bの形状を、その半田バンプ6bの側面が内側
に向かってへこむように凹状に湾曲した形状、いわゆる
鼓形に形成することができる。このような鼓形の半田バ
ンプ6bでは応力が分散されるので、LSIチップ2と
基板1との接続部での強度がさらに上がる。
の半田バンプのうちのいくつかを大きくすることによ
り、LSIチップ2を基板1に実装した際にLSIチッ
プ2と基板1との間のギャップが、大きくした半田バン
プにより確保されるので、LSIチップ2と基板1との
間のギャップを洗浄液により洗浄することが容易にな
り、LSIチップ2を実装した後の洗浄性が向上する。
具体的には、半田バンプ6a,6bのリフローによりL
SIチップ2を基板1に実装する際に用いたフラックス
を洗浄液によって容易に取り除くことができる。ここ
で、基板1にLSIチップ2を実装するための、半田バ
ンプ6a,6bのリフローの工程では、LSIチップ2
の半導体集積回路の高集積化に伴って微細化された半田
バンプ6bの形状を、その半田バンプ6bの側面が内側
に向かってへこむように凹状に湾曲した形状、いわゆる
鼓形に形成することができる。このような鼓形の半田バ
ンプ6bでは応力が分散されるので、LSIチップ2と
基板1との接続部での強度がさらに上がる。
【0038】(第2の実施の形態)図3は、本発明の第
2の実施形態の半導体装置の実装構造について説明する
ための断面図である。本実施形態の半導体装置の実装構
造は、第1の実施形態の半導体素子の実装構造と比較し
て、第1の実施形態において図2に示したLSIチップ
2を、LSIチップを有する半導体装置としてのLSI
パッケージに置き換えたものである。
2の実施形態の半導体装置の実装構造について説明する
ための断面図である。本実施形態の半導体装置の実装構
造は、第1の実施形態の半導体素子の実装構造と比較し
て、第1の実施形態において図2に示したLSIチップ
2を、LSIチップを有する半導体装置としてのLSI
パッケージに置き換えたものである。
【0039】図3に示すように、本実施形態の半導体装
置の実装構造では、半導体装置である板状のBGA(ボ
ール・グリッド・アレイ)パッケージ12が基板11に
実装されている。BGAパッケージ12は、半導体集積
回路を有する半導体素子としてのLSIチップ、そのL
SIチップの半導体集積回路と電気的に接続された、電
極部としての複数の半田付けパット15a,15b、半
田付けパッド15aの表面にそれぞれ形成された金属バ
ンプである複数の半田バンプ16a、及び半田付けパッ
ド15bの表面にそれぞれ形成された金属バンプである
複数の半田バンプ16bなどから構成されたLSIパッ
ケージである。複数の半田バンプ16b及び複数の半田
バンプ16aは、BGAパッケージ12の一面で、第1
の実施形態の半田バンプ6a,6bと同様にほぼ格子状
に配列されている。
置の実装構造では、半導体装置である板状のBGA(ボ
ール・グリッド・アレイ)パッケージ12が基板11に
実装されている。BGAパッケージ12は、半導体集積
回路を有する半導体素子としてのLSIチップ、そのL
SIチップの半導体集積回路と電気的に接続された、電
極部としての複数の半田付けパット15a,15b、半
田付けパッド15aの表面にそれぞれ形成された金属バ
ンプである複数の半田バンプ16a、及び半田付けパッ
ド15bの表面にそれぞれ形成された金属バンプである
複数の半田バンプ16bなどから構成されたLSIパッ
ケージである。複数の半田バンプ16b及び複数の半田
バンプ16aは、BGAパッケージ12の一面で、第1
の実施形態の半田バンプ6a,6bと同様にほぼ格子状
に配列されている。
【0040】BGAパッケージの中でも特にLSIチッ
プとほぼ同じサイズのものをCSP(チップ・サイズ・
パッケージ)と称することもある。このようなCSPに
対しても本発明の半導体装置の実装構造を適用すること
ができ、本発明は、特に小型化されたCSPで効果を発
揮する。ここでは、格子状に配列された接続端子を有す
るLSIパッケージをBGAパッケージと称する。
プとほぼ同じサイズのものをCSP(チップ・サイズ・
パッケージ)と称することもある。このようなCSPに
対しても本発明の半導体装置の実装構造を適用すること
ができ、本発明は、特に小型化されたCSPで効果を発
揮する。ここでは、格子状に配列された接続端子を有す
るLSIパッケージをBGAパッケージと称する。
【0041】複数の半田付けパッド15aの大きさは全
て同じであり、それぞれの半田付けパッド15aは電源
用またはグランド用の電極部として用いられる。複数の
半田付けパッド15bの大きさも全て同じであり、それ
ぞれの半田付けパッド15bは信号用の電極部として用
いられる。半田付けパッド15bの大きさよりも半田付
けパッド15aの大きさの方が大きくなっている。BG
Aパッケージ12の一面に形成された複数の半田付けパ
ッド15a,15bは、第1の実施形態におけるLSI
チップ2の半田付けパッド5a,5bと同様な配列で格
子状に並べられている。BGAパッケージ12の形状は
矩形であり、BGAパッケージ12の一辺に沿って4つ
の半田付けパッド15bが所定の間隔で一列に並び、そ
の一辺と平行な反対側の他辺に沿って4つの半田付けパ
ッド15bが所定の間隔で一列に並んでいる。
て同じであり、それぞれの半田付けパッド15aは電源
用またはグランド用の電極部として用いられる。複数の
半田付けパッド15bの大きさも全て同じであり、それ
ぞれの半田付けパッド15bは信号用の電極部として用
いられる。半田付けパッド15bの大きさよりも半田付
けパッド15aの大きさの方が大きくなっている。BG
Aパッケージ12の一面に形成された複数の半田付けパ
ッド15a,15bは、第1の実施形態におけるLSI
チップ2の半田付けパッド5a,5bと同様な配列で格
子状に並べられている。BGAパッケージ12の形状は
矩形であり、BGAパッケージ12の一辺に沿って4つ
の半田付けパッド15bが所定の間隔で一列に並び、そ
の一辺と平行な反対側の他辺に沿って4つの半田付けパ
ッド15bが所定の間隔で一列に並んでいる。
【0042】本実施形態の半導体装置の実装構造では、
BGAパッケージ12の半田付けパッド15a,15b
側の面が基板11側に向けられて基板11にBGAパッ
ケージ12が実装されている。基板11の一面には、そ
れぞれの半田付けパッド15aに対応する半田付けパッ
ド14a、及びそれぞれの半田付けパッド15bに対応
する半田付けパッド14bがそれぞれ複数形成されてい
る。そして、それぞれの半田付けパッド15aが、それ
ぞれの半田付けパッド15aに対応する半田付けパッド
14aと半田バンプ16aを介して接続されている。ま
た、それぞれの半田付けパッド15bが、それぞれの半
田付けパッド15bに対応する半田付けパッド14bと
半田バンプ16bを介して接続されている。
BGAパッケージ12の半田付けパッド15a,15b
側の面が基板11側に向けられて基板11にBGAパッ
ケージ12が実装されている。基板11の一面には、そ
れぞれの半田付けパッド15aに対応する半田付けパッ
ド14a、及びそれぞれの半田付けパッド15bに対応
する半田付けパッド14bがそれぞれ複数形成されてい
る。そして、それぞれの半田付けパッド15aが、それ
ぞれの半田付けパッド15aに対応する半田付けパッド
14aと半田バンプ16aを介して接続されている。ま
た、それぞれの半田付けパッド15bが、それぞれの半
田付けパッド15bに対応する半田付けパッド14bと
半田バンプ16bを介して接続されている。
【0043】このように複数の半田バンプ16a,16
bを介してBGAパッケージ12と基板11とが接続さ
れることにより、半田バンプ15aと14aとが半田バ
ンプ16aを介して電気的に接続されると共に、半田バ
ンプ15bと14bとが半田バンプ16bを介して電気
的に接続される。また、半田バンプ16a,16bによ
ってBGAパッケージ12が所定の強度で基板11に固
定されてLSIチップ12が物理的にも保持されてい
る。従って、複数の半田バンプ16a,16bを介して
基板11にBGAパッケージ12が実装されることによ
り、半田バンプ15a,14a同士の電気的な接続、及
び半田バンプ15b,14b同士の電気的な接続がそれ
ぞれ複数得られている。
bを介してBGAパッケージ12と基板11とが接続さ
れることにより、半田バンプ15aと14aとが半田バ
ンプ16aを介して電気的に接続されると共に、半田バ
ンプ15bと14bとが半田バンプ16bを介して電気
的に接続される。また、半田バンプ16a,16bによ
ってBGAパッケージ12が所定の強度で基板11に固
定されてLSIチップ12が物理的にも保持されてい
る。従って、複数の半田バンプ16a,16bを介して
基板11にBGAパッケージ12が実装されることによ
り、半田バンプ15a,14a同士の電気的な接続、及
び半田バンプ15b,14b同士の電気的な接続がそれ
ぞれ複数得られている。
【0044】また、半田バンプ16aの配置としては、
温度サイクル等で応力がかかりやすいBGAパッケージ
12の隅の近傍、すなわちBGAパッケージ12のコー
ナー付近に、大きい方の半田バンプ16aを集中的に配
置することが効果的であるが、半田バンプ16aを通し
てBGAパッケージ12内のLSIチップに電源を供給
する場合には、BGAパッケージ12の一面に所定の間
隔で均一に配置させてもよい。
温度サイクル等で応力がかかりやすいBGAパッケージ
12の隅の近傍、すなわちBGAパッケージ12のコー
ナー付近に、大きい方の半田バンプ16aを集中的に配
置することが効果的であるが、半田バンプ16aを通し
てBGAパッケージ12内のLSIチップに電源を供給
する場合には、BGAパッケージ12の一面に所定の間
隔で均一に配置させてもよい。
【0045】上述したように本実施形態の半導体装置の
実装構造では、実装方法として、基板11にBGAパッ
ケージ12をフェイスダウンで実装するフリップ実装が
用いられ、基板11に形成された半田付けパッド14
a,14bと、BGAパッケージ12に形成された15
a,15bとがそれぞれ、半田バンプ16a,16bを
介して接続される構造が従来のものと同様であるが、半
田バンプ16aと16bとの大きさが異なっており、1
つの半導体装置の実装構造でバンプの大きさが異なって
混在している。この場合、BGAパッケージ12及び基
板11で信号ピン(シグナルピン)などの多ピン化が必
要なところでは、微細化したバンプを用いて接続端子数
を稼ぎ、電源ピンやグランドピンなどでは大きいバンプ
を割り当てることにより、電源の供給能力が向上し、B
GAパッケージ12がノイズに対しても強くなると共
に、BGAパッケージ12の高集積化にも対応すること
が可能となる。
実装構造では、実装方法として、基板11にBGAパッ
ケージ12をフェイスダウンで実装するフリップ実装が
用いられ、基板11に形成された半田付けパッド14
a,14bと、BGAパッケージ12に形成された15
a,15bとがそれぞれ、半田バンプ16a,16bを
介して接続される構造が従来のものと同様であるが、半
田バンプ16aと16bとの大きさが異なっており、1
つの半導体装置の実装構造でバンプの大きさが異なって
混在している。この場合、BGAパッケージ12及び基
板11で信号ピン(シグナルピン)などの多ピン化が必
要なところでは、微細化したバンプを用いて接続端子数
を稼ぎ、電源ピンやグランドピンなどでは大きいバンプ
を割り当てることにより、電源の供給能力が向上し、B
GAパッケージ12がノイズに対しても強くなると共
に、BGAパッケージ12の高集積化にも対応すること
が可能となる。
【0046】BGAパッケージ12内におけるLSIチ
ップの実装構造は、特にフリップ・チップ実装構造であ
る必要はなく、ワイヤー・ボンディング、TAB(tape
automated bonding)などによる実装構造であってもよ
い。また、BGAパッケージ12内には複数のLSIチ
ップまたはその他の部品が実装されていてもよい。
ップの実装構造は、特にフリップ・チップ実装構造であ
る必要はなく、ワイヤー・ボンディング、TAB(tape
automated bonding)などによる実装構造であってもよ
い。また、BGAパッケージ12内には複数のLSIチ
ップまたはその他の部品が実装されていてもよい。
【0047】以上で説明したように、本実施形態の半導
体装置の実装構造では、BGAパッケージ12と基板1
1の互いの電極部同士の電気的な接続が複数得られるよ
うに複数の半田バンプを介して基板11にBGAパッケ
ージ12を実装する際に、BGAパッケージに形成され
た複数の金属バンプのうち少なくとも1つの金属バンプ
の大きさが他の金属バンプの大きさと異なっていること
により、BGAパッケージ12内のLSIチップの半導
体集積回路を高集積化しても、金属バンプの高密度化が
必要な部分で金属バンプを微細化しつつ、微細化された
金属バンプと異なる別の金属バンプを大きくすること
で、BGAパッケージ12を基板11に実装するための
強度を上げることが可能となる。従って、BGAパッケ
ージ12と基板11との接続部で温度サイクルに対する
寿命が延びる。また、半田バンプ16a,16bの接続
部を樹脂等の封止材で固めて補強する必要がなくなり、
さらに、そのように樹脂で補強しないことによりBGA
パッケージ12の交換が容易になる。
体装置の実装構造では、BGAパッケージ12と基板1
1の互いの電極部同士の電気的な接続が複数得られるよ
うに複数の半田バンプを介して基板11にBGAパッケ
ージ12を実装する際に、BGAパッケージに形成され
た複数の金属バンプのうち少なくとも1つの金属バンプ
の大きさが他の金属バンプの大きさと異なっていること
により、BGAパッケージ12内のLSIチップの半導
体集積回路を高集積化しても、金属バンプの高密度化が
必要な部分で金属バンプを微細化しつつ、微細化された
金属バンプと異なる別の金属バンプを大きくすること
で、BGAパッケージ12を基板11に実装するための
強度を上げることが可能となる。従って、BGAパッケ
ージ12と基板11との接続部で温度サイクルに対する
寿命が延びる。また、半田バンプ16a,16bの接続
部を樹脂等の封止材で固めて補強する必要がなくなり、
さらに、そのように樹脂で補強しないことによりBGA
パッケージ12の交換が容易になる。
【0048】さらに、BGAパッケージ12に形成され
た複数の半田バンプのうちのいくつかを大きくしてBG
Aパッケージ12と基板11との間のギャップを確保す
ることにより、BGAパッケージ12を基板11に実装
した後の洗浄性が向上する。具体的には、半田バンプ1
6a,16bのリフローの工程で用いたフラックスを洗
浄液によって容易に取り除くことができる。ここで、半
田バンプ16a,16bのリフローの工程では、半導体
集積回路の高集積化に伴って微細化された半田バンプ1
6bの形状を、前述したいわゆる鼓形に形成することが
できる。そのように半田バンプ16bの形状を鼓形にす
ることにより、微細化された半田バンプ16bにおける
応力を分散させることができるので、BGAパッケージ
12と基板11との接続部での強度がさらに上がる。
た複数の半田バンプのうちのいくつかを大きくしてBG
Aパッケージ12と基板11との間のギャップを確保す
ることにより、BGAパッケージ12を基板11に実装
した後の洗浄性が向上する。具体的には、半田バンプ1
6a,16bのリフローの工程で用いたフラックスを洗
浄液によって容易に取り除くことができる。ここで、半
田バンプ16a,16bのリフローの工程では、半導体
集積回路の高集積化に伴って微細化された半田バンプ1
6bの形状を、前述したいわゆる鼓形に形成することが
できる。そのように半田バンプ16bの形状を鼓形にす
ることにより、微細化された半田バンプ16bにおける
応力を分散させることができるので、BGAパッケージ
12と基板11との接続部での強度がさらに上がる。
【0049】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、複数の金
属バンプを介して基板などに実装される半導体装置や、
半導体素子の実装構造、及び半導体装置の実装構造にお
いて、複数の金属バンプのうち少なくとも1つの金属バ
ンプの大きさが他の金属バンプの大きさと異なっている
ことにより、半導体素子の半導体集積回路を高集積化し
ても、金属バンプの高密度化が必要な部分で金属バンプ
を微細化しつつ、微細化された金属バンプと異なる別の
金属バンプを大きくすることで、半導体素子または半導
体装置を基板に実装するための強度を上げることができ
るので、半導体素子または半導体装置の、基板との接続
部で温度サイクルに対する寿命が延びるという効果があ
る。また、金属バンプの接続部を樹脂等の封止材で固め
て補強する必要がなくなると共に、半導体素子の交換が
容易になるという効果がある。さらに、複数の金属バン
プのうちのいくつかを大きくして半導体素子または半導
体装置と、基板との間のギャップを確保することによ
り、半導体素子または半導体装置を基板に実装した後の
洗浄性が向上するという効果がある。ここで、半田バン
プのリフローの工程で、半導体集積回路の高集積化に伴
って微細化された半田バンプの形状を、その半田バンプ
の側面が内側に向かってへこむように凹状に湾曲した形
状、いわゆる鼓形に形成することにより、半導体素子ま
たは半導体装置における基板との接続部での強度がさら
に上がるという効果がある。
属バンプを介して基板などに実装される半導体装置や、
半導体素子の実装構造、及び半導体装置の実装構造にお
いて、複数の金属バンプのうち少なくとも1つの金属バ
ンプの大きさが他の金属バンプの大きさと異なっている
ことにより、半導体素子の半導体集積回路を高集積化し
ても、金属バンプの高密度化が必要な部分で金属バンプ
を微細化しつつ、微細化された金属バンプと異なる別の
金属バンプを大きくすることで、半導体素子または半導
体装置を基板に実装するための強度を上げることができ
るので、半導体素子または半導体装置の、基板との接続
部で温度サイクルに対する寿命が延びるという効果があ
る。また、金属バンプの接続部を樹脂等の封止材で固め
て補強する必要がなくなると共に、半導体素子の交換が
容易になるという効果がある。さらに、複数の金属バン
プのうちのいくつかを大きくして半導体素子または半導
体装置と、基板との間のギャップを確保することによ
り、半導体素子または半導体装置を基板に実装した後の
洗浄性が向上するという効果がある。ここで、半田バン
プのリフローの工程で、半導体集積回路の高集積化に伴
って微細化された半田バンプの形状を、その半田バンプ
の側面が内側に向かってへこむように凹状に湾曲した形
状、いわゆる鼓形に形成することにより、半導体素子ま
たは半導体装置における基板との接続部での強度がさら
に上がるという効果がある。
【0050】また、半導体素子または半導体装置が、信
号用の複数の電極部と、電源用の電極部と、グランド用
の電極部とを有し、電源用及びグランド用の電極部に形
成された金属バンプの大きさが、信号用の複数の電極部
のそれぞれに形成された金属バンプの大きさよりも大き
くなっており、電源用及びグランド用の電極部に、大き
い方の金属バンプが割り当てられていることにより、半
導体素子または半導体装置への電源の供給能力が向上
し、半導体素子または半導体装置がノイズに対して強く
なるという効果がある。
号用の複数の電極部と、電源用の電極部と、グランド用
の電極部とを有し、電源用及びグランド用の電極部に形
成された金属バンプの大きさが、信号用の複数の電極部
のそれぞれに形成された金属バンプの大きさよりも大き
くなっており、電源用及びグランド用の電極部に、大き
い方の金属バンプが割り当てられていることにより、半
導体素子または半導体装置への電源の供給能力が向上
し、半導体素子または半導体装置がノイズに対して強く
なるという効果がある。
【図1】本発明の第1の実施形態の半導体素子の実装構
造が適用される半導体素子の平面図である。
造が適用される半導体素子の平面図である。
【図2】図1に示した半導体素子が用いられた、本発明
の第1の実施形態の半導体素子の実装構造を示す断面図
である。
の第1の実施形態の半導体素子の実装構造を示す断面図
である。
【図3】本発明の第2の実施形態の半導体装置の実装構
造について説明するための断面図である。
造について説明するための断面図である。
【図4】従来の半導体素子の実装構造であるフリップチ
ップ実装構造を示す断面図である。
ップ実装構造を示す断面図である。
1、11 基板 2 LSIチップ 4a、4b、5a、5b、14a、14b、15a、1
5b 半田付けパッド 6a、6b、16a、16b 半田バンプ 12 BGAパッケージ
5b 半田付けパッド 6a、6b、16a、16b 半田バンプ 12 BGAパッケージ
Claims (6)
- 【請求項1】 半導体集積回路と、該半導体集積回路と
電気的に接続された複数の電極部と、該電極部の表面に
それぞれ形成された複数の金属バンプとを有する半導体
装置において、 前記複数の金属バンプのうち少なくとも1つの金属バン
プの大きさが他の金属バンプの大きさと異なっているこ
とを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 前記半導体装置が、信号用の複数の電極
部と、電源用の電極部と、グランド用の電極部とを有
し、前記複数の金属バンプのうち、前記電源用及び前記
グランド用の電極部のそれぞれに形成された金属バンプ
の大きさが、前記信号用の複数の電極部のそれぞれに形
成された金属バンプの大きさよりも大きい請求項1に記
載の半導体装置。 - 【請求項3】 半導体集積回路、および該半導体集積回
路と電気的に接続された複数の電極部を有する半導体素
子と、該半導体素子のそれぞれの電極部に対応する電極
部を複数有する基板との互いの電極部同士の電気的な接
続が複数得られるように、前記基板に複数の金属バンプ
を介して前記半導体素子が実装された半導体素子の実装
構造において、 前記複数の金属バンプのうち少なくとも1つの金属バン
プの大きさが他の金属バンプの大きさと異なっているこ
とを特徴とする半導体素子の実装構造。 - 【請求項4】 前記半導体素子が、信号用の複数の電極
部と、電源用の電極部と、グランド用の電極部とを有
し、前記複数の金属バンプのうち、前記電源用及び前記
グランド用の電極部のそれぞれに形成された金属バンプ
の大きさが、前記信号用の複数の電極部のそれぞれに形
成された金属バンプの大きさよりも大きい請求項3に記
載の半導体素子の実装構造。 - 【請求項5】 半導体集積回路を有する半導体素子、お
よび前記半導体集積回路と電気的に接続された複数の電
極部を有する半導体装置と、該半導体装置のそれぞれの
電極部に対応する電極部を複数有する基板との互いの電
極部同士の電気的な接続が複数得られるように、前記基
板に複数の金属バンプを介して前記半導体装置が実装さ
れた半導体装置の実装構造において、 前記複数の金属バンプのうち少なくとも1つの金属バン
プの大きさが他の金属バンプの大きさと異なっているこ
とを特徴とする半導体装置の実装構造。 - 【請求項6】 前記半導体装置が、信号用の複数の電極
部と、電源用の電極部と、グランド用の電極部とを有
し、前記複数の金属バンプのうち、前記電源用及び前記
グランド用の電極部のそれぞれに形成された金属バンプ
の大きさが、前記信号用の複数の電極部のそれぞれに形
成された金属バンプの大きさよりも大きい請求項5に記
載の半導体装置の実装構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11136037A JP2000332042A (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 半導体装置、半導体素子の実装構造、及び半導体装置の実装構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11136037A JP2000332042A (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 半導体装置、半導体素子の実装構造、及び半導体装置の実装構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000332042A true JP2000332042A (ja) | 2000-11-30 |
Family
ID=15165713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11136037A Pending JP2000332042A (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 半導体装置、半導体素子の実装構造、及び半導体装置の実装構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000332042A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002353272A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-06 | Fujitsu Ltd | はんだバンプの形成方法および半導体装置 |
| JP2006074007A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-03-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 発光光源、発光光源の製造方法、照明装置及び表示装置 |
| JP2007149828A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Fujifilm Corp | 電子部品実装用基板 |
| JP2007242782A (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Fujikura Ltd | 半導体装置及び電子装置 |
| JP2007317754A (ja) * | 2006-05-24 | 2007-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
| CN104425415A (zh) * | 2013-08-27 | 2015-03-18 | 力领科技股份有限公司 | 芯片凸块结构 |
-
1999
- 1999-05-17 JP JP11136037A patent/JP2000332042A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002353272A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-06 | Fujitsu Ltd | はんだバンプの形成方法および半導体装置 |
| JP2006074007A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-03-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 発光光源、発光光源の製造方法、照明装置及び表示装置 |
| JP2007149828A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Fujifilm Corp | 電子部品実装用基板 |
| JP2007242782A (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Fujikura Ltd | 半導体装置及び電子装置 |
| JP2007317754A (ja) * | 2006-05-24 | 2007-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
| CN104425415A (zh) * | 2013-08-27 | 2015-03-18 | 力领科技股份有限公司 | 芯片凸块结构 |
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