JP2000343046A - 枚葉式洗浄装置 - Google Patents

枚葉式洗浄装置

Info

Publication number
JP2000343046A
JP2000343046A JP11155323A JP15532399A JP2000343046A JP 2000343046 A JP2000343046 A JP 2000343046A JP 11155323 A JP11155323 A JP 11155323A JP 15532399 A JP15532399 A JP 15532399A JP 2000343046 A JP2000343046 A JP 2000343046A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
cleaning liquid
cleaned
wafer
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11155323A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Morita
博志 森田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kurita Water Industries Ltd
Original Assignee
Kurita Water Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kurita Water Industries Ltd filed Critical Kurita Water Industries Ltd
Priority to JP11155323A priority Critical patent/JP2000343046A/ja
Publication of JP2000343046A publication Critical patent/JP2000343046A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】枚葉式スピン洗浄において、順次使用される複
数の洗浄液を、前後の洗浄液とほとんど混じり合うこと
なく、希釈されることもなく、分別回収することができ
る枚葉式洗浄装置を提供する。 【解決手段】被洗浄物を回転可能に保持する保持手段4
と、回転する被洗浄物に洗浄液を供給するノズル5と、
回転する被洗浄物に当接して周辺に放出される洗浄液を
受ける洗浄液回収容器9とを有する枚葉式洗浄装置にお
いて、回収容器は放出される洗浄液を受ける複数の回収
室10〜13が上下方向に設けられ、回収容器と保持手
段が相対的に上下動可能に設けられてなることを特徴と
する枚葉式洗浄装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、枚葉式洗浄装置に
関する。さらに詳しくは、本発明は、枚葉式スピン洗浄
において、順次使用される複数の洗浄液を、前後の洗浄
液とほとんど混じり合うことなく、希釈されることもな
く、分別回収することができる枚葉式洗浄装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】電子材料製造工場においては、半導体基
板などの表面を清浄にするためにウェット洗浄が行われ
る。従来のウェット洗浄工程では、時間当たりの処理量
を重視して、主にバッチ式の洗浄が行われてきた。これ
に対し、洗浄効果の向上、装置の小型化などの要求か
ら、近年基板を一枚ずつ洗う枚葉式スピン洗浄装置も使
われるようになってきた。従来の枚葉式スピン洗浄装置
は、基板を保持して回転するターンテーブルと、それを
囲む排液口と排気口を備えたカップからなる。排液口と
排気口は、通常兼用の排出口となっていてカップの下面
に備えられており、配管を経て気液分離装置で排液ライ
ンと排気ラインに分離されている。このような構造の枚
葉式洗浄装置でも、先に使用した洗浄液は早く、あとか
ら使用した洗浄液は遅く排出されるが、カップの中や下
部の配管中に滞留する間の混じり合いがあり、各々の洗
浄液を単一で回収することはできない。図1は、従来の
枚葉式洗浄装置の一例の模式図である。基板1は、モー
タ2により駆動される回転軸3の上端部に取り付けられ
た真空チャック型のターンテーブル4により、減圧吸着
保持されて回転し、基板上にノズル5より洗浄液6が供
給される。基板に当接した洗浄液は、基板の遠心力によ
り外方へ放出され、カップ7の内壁を伝って排出口8よ
り排出される。枚葉式洗浄には、他の基板からのクロス
コンタミネーションのおそれがないこと、面内均一性の
高い高精度な洗浄ができることなど、多くの利点があ
る。しかし、ウェットステーション方式によるバッチ式
の洗浄と異なり、洗浄に用いる複数の洗浄液が混じりあ
った状態で排出される点に、実用上の問題がある。ウェ
ットステーション方式のバッチ洗浄では、大量の洗浄液
を使用するものの、1種の洗浄液が使用されるのはその
洗浄液の専用槽のみなので、フィルターなどで異物を取
り除けば、長時間にわたって循環利用することができ
る。また、排出する際にも、他の洗浄液と分別すること
ができるので、後段の処理を設計しやすい。これに対し
て、枚葉式スピン洗浄の場合は、一枚の基板に対して複
数の洗浄液を順次使用していくので、排水はこれらが混
じり合った状態で排出され、後段の処理を困難にしてい
る。例えば、フッ酸を使った洗浄ステップを含む場合、
このフッ酸は前後の洗浄液と混ざって、フッ酸としては
著しく希釈された状態で排出されるので、回収処理が困
難となっている。このために、複数の洗浄液を、混合や
希釈を生ずることなく分別回収することができる枚葉式
洗浄装置が求められている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、枚葉式スピ
ン洗浄において、順次使用される複数の洗浄液を、前後
の洗浄液とほとんど混じり合うことなく、希釈されるこ
ともなく、分別回収することができる枚葉式洗浄装置を
提供することを目的としてなされたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、枚葉式スピン洗浄
において、複数の回収室を有する回収容器を用い、基板
保持手段と相対的に上下動させて、複数の洗浄液をそれ
ぞれの洗浄液に対応する回収室に受けることにより、洗
浄液の混合を防止し得ることを見いだし、この知見に基
づいて本発明を完成するに至った。すなわち、本発明
は、(1)被洗浄物を回転可能に保持する保持手段と、
回転する被洗浄物に洗浄液を供給するノズルと、回転す
る被洗浄物に当接して周辺に放出される洗浄液を受ける
洗浄液回収容器とを有する枚葉式洗浄装置において、回
収容器は放出される洗浄液を受ける複数の回収室が上下
方向に設けられ、回収容器と保持手段が相対的に上下動
可能に設けられてなることを特徴とする枚葉式洗浄装
置、を提供するものである。さらに、本発明の好ましい
態様として、(2)回収室が、洗浄に使用される複数の
洗浄液と同数又はそれ以上設けられてなる第(1)項記載
の枚葉式洗浄装置、(3)回収容器が、洗浄液の切り替
えに対応して上下動し、複数の洗浄液をそれぞれの洗浄
液に対応する回収室に受ける第(1)項記載の枚葉式洗浄
装置、及び、(4)隣接する回収室を仕切る仕切り板の
内縁部が、刃物状の形状である第(1)項記載の枚葉式洗
浄装置、を挙げることができる。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明の枚葉式洗浄装置は、被洗
浄物を回転可能に保持する保持手段と、回転する被洗浄
物に洗浄液を供給するノズルと、回転する被洗浄物に当
接して周辺に放出される洗浄液を受ける洗浄液回収容器
とを有する枚葉式洗浄装置において、回収容器は放出さ
れる洗浄液を受ける複数の回収室が上下方向に設けら
れ、回収容器と保持手段が相対的に上下動可能に設けら
れてなるものである。図2は、本発明の枚葉式洗浄装置
の一態様の模式図である。被洗浄物である基板1が、モ
ータ2により駆動される回転軸3の上端部に取り付けら
れた保持手段である真空チャック型のターンテーブル4
により、減圧吸着保持されて回転し、基板上にノズル5
より洗浄液6が供給される。本態様においては、洗浄液
回収容器9は、上下方向に設けられた第1の回収室1
0、第2の回収室11、第3の回収室12及び第4の回
収室13の4個の回収室を有する。回収容器9と保持手
段であるターンテーブル4は、相対的に上下動可能であ
る。図2に示す状態では、被洗浄物である基板は第1の
回収室の位置に存在し、この状態で基板に第1の洗浄液
を供給すると、洗浄液は基板に当接し、回転遠心力によ
り基板表面のエッジ部から、ほとんど水平方向に放出さ
れるので、第1の回収室によってのみ受けられ、第2、
第3、第4の回収室に入ることがない。第1の回収室に
受けられた洗浄液は、第1の排出口14から流出し、第
1の配管15を経由して気液分離装置を兼ねる第1の貯
槽16に貯留される。回収容器を上下動させる場合に
は、配管は可撓性のあるフレキシブルチューブなどで作
製することが好ましい。次いで、洗浄液を第2の洗浄液
に切り替えると同時に、被洗浄物を回転させつつ保持し
ている保持手段を、第2の回収室の位置に移動させる。
第2の洗浄液は、基板表面のエッジ部からほとんど水平
方向に放出され、第2の回収室11によってのみ受けら
れ、第2の排出口17から流出し、第2の配管18を経
由して第2の貯槽19に貯留される。以下、同様にし
て、第3の洗浄液は第3の回収室12により受けられて
第3の貯槽20に貯留され、リンス水は第4の回収室1
3により受けられて第4の貯槽21に貯留される。図2
に示す態様においては、各貯槽は気液分離装置を兼ね、
各貯槽より排出される排気は、共通の排気管22を経由
して排出される。
【0006】本発明装置において、排液口と排気口を兼
ねる排出口は、1個の回収室について複数個設けること
ができる。排出口の向きを被洗浄物の回転方向と同じ回
収室外周の接線方向とすることにより、排液及び排気の
滞留を生ずることなく排出することができる。複数の排
液排気配管は、全ての配管抵抗が同一になるように、気
液分離装置を経由して、装置外部の排液ライン及び排気
ラインに接続することが好ましい。あるいは、複数の配
管系統を装置の内部で一系統に合一させることもでき
る。回収容器と保持手段を相対的に上下動可能とする方
法に制限はなく、例えば、保持手段を定位置として回収
容器を上下動させることができ、回収容器を定位置とし
て保持手段を上下動させることもでき、あるいは、回収
容器と保持手段の両方を上下動させることもできる。保
持手段又は回収容器を上下動させる方法に特に制限はな
く、例えば、モータ駆動により上下動させることがで
き、あるいは、エア駆動により上下動させることもでき
る。図3は、本発明の枚葉式洗浄装置の一態様の模式図
である。本態様においては、放出される洗浄液を受ける
洗浄液回収容器が固定され、被洗浄物を回転可能に保持
する保持手段が昇降シリンダー23により上下動され
る。図4は、本発明の枚葉式洗浄装置の他の態様の模式
図である。本態様においては、被洗浄物を回転可能に保
持する保持手段が固定され、放出される洗浄液を受ける
洗浄液回収容器が巻き上げ機24により上下動される。
本発明装置において、保持手段と回収容器を相対的に上
下動させる方向に特に制限はなく、上述したように第1
の回収室から第4の回収室へ移動させることも、逆に第
4の回収室から第1の回収室へ移動させることもでき
る。また、被洗浄物の洗浄に、同一の洗浄液が2回以上
使用される場合には、回収容器を上向き及び下向きに移
動させて、同一の洗浄液を同じ回収室に受けさせること
ができる。さらに、水素ガス溶解水、オゾン溶解水など
の薬剤を含有しない機能性洗浄水を洗浄液として使用す
る場合のように、混合して回収しても回収水の再利用が
可能な場合には、同じ回収室を用いてまとめて回収する
こともできる。
【0007】本発明装置において、洗浄液を受ける回収
室の切り替えのための上下動の時間に特に制限はない
が、1秒以内であることが好ましく、0.5秒以内であ
ることがより好ましい。被洗浄物が電子材料である場
合、洗浄工程の途中で被洗浄物の表面が乾燥することは
好ましくないので、通常は複数の洗浄液とリンス水は、
間断なく連続的に切り替えられる。このために、上述し
た例においては、排出される第1の洗浄液には若干の第
2の洗浄液が混入し、第2の洗浄液には若干の第1の洗
浄液と第3の洗浄液が混入し、第3の洗浄液には若干の
第2の洗浄液が混入するとともにリンス水により僅かに
希釈される可能性がある。しかし、回収室の切り替えが
1秒以内で行われる限り、その影響は軽微である。ま
た、他の洗浄液の混入を絶対に避けたい場合には、回収
室の数をさらに増やして、第1の洗浄液、リンス水、第
2の洗浄液、リンス水、第3の洗浄液、リンス水のよう
に、洗浄液の切り替えの間にリンス水による洗浄を行う
ことができる。この方法によれば、回収される洗浄液
は、リンス水によって若干希釈される可能性はあるが、
2種の洗浄液間の混入は生じない。このために、洗浄工
程が長くなるが、洗浄液の分別回収を重視する場合に
は、各洗浄液による洗浄の間にリンスを行うことが好ま
しい。図5(a)は、本発明の枚葉式洗浄装置の他の態様
の側面模式図であり、図5(b)は、その平面模式図であ
る。本態様においては、被洗浄物である基板1は、保持
手段としての3個のチャック25により保持され、回転
される。また、回転軸3の内部に洗浄液の流路が設けら
れ、裏ノズル26より被洗浄物の裏面にも洗浄液が供給
される。図5に示す態様の枚葉式洗浄装置も、図2に示
す態様の枚葉式洗浄装置と同様に、回収容器9と保持手
段を相対的に上下動させることにより、第1の回収室1
0、第2の回収室11、第3の回収室12及び第4の回
収室13において、それぞれ第1の洗浄液、第2の洗浄
液、第3の洗浄液及びリンス水を回収し、配管を通じて
各貯槽に送り、異なる洗浄液間の混入をほとんど生ずる
ことなく、洗浄液を分別回収することができる。
【0008】本発明装置において、被洗浄物である基板
のエッジ部と回収室の仕切り板の内縁部の間のクリアラ
ンスは狭いことが好ましい。このクリアランスを狭くす
ることにより、回収室の上下方向の幅を狭くして、跳ね
返り防止用の排気量を低減することができ、また、装置
を小型化することもできる。例えば、直径200mmのい
わゆる8インチウェーハの洗浄のためには、回収室の仕
切り板の内縁部の直径が205〜300mmであることが
好ましい。本発明装置において、回収室の上下2枚の仕
切り板の間隔は、狭いほど排気量の低減のためには好ま
しいが、狭すぎると放出される洗浄液が一つの回収室に
収まらなくなってしまうので、被洗浄物のエッジ部と仕
切り板の内縁部とのクリアランス、被洗浄物の回転速
度、洗浄液流量などを考慮して適宜選択することが好ま
しい。クリアランスが10mm、回転速度が500rpm
で、液跳ねの原因となるチャックを使用しない場合は、
基板の表面より上下ともに各20mm程度の間隔を取れば
十分である。基板を保持するチャックが液跳ねの原因と
なるような場合は、それを考慮して上下仕切り板間隔を
さらに広く設定することが好ましい。本発明装置におい
ては、隣接する回収室を仕切る仕切り板の内縁部が、刃
物状の形状であることが好ましい。図6は、仕切り板の
内縁部の形状を示す部分模式図である。本図に示す態様
においては、仕切り板27の内縁部28は片刃の刃物状
となっている。上下の回収室を仕切る仕切り板は、被洗
浄物方向への洗浄液の跳ね返りを防止するために、薄い
ものであることが好ましい。しかし、薄板化には強度を
維持する上で限界があるので、刃物のように末端に近づ
くほど薄くなる形状とすることが好ましい。被洗浄物で
ある回転する基板1に供給された洗浄液6は、飛沫29
となって放出される。複数の洗浄液を間断なく連続的に
切り替えて供給する場合、洗浄液を供給しつつ回収容器
を上下動させるので、仕切り板の内縁部が飛沫となって
放出される洗浄液の流れを横切るときがある。このと
き、仕切り板の内縁部が刃物状の形状であると、洗浄液
の被洗浄物方向への跳ね返りが起こりにくく、跳ね返り
防止用の排気量を低減することができる。図7は、本発
明装置の回収容器の他の態様の模式図である。本態様に
おいては、排液及び排気を排出するための配管30が、
回収容器9の中に設けられている。図8は、本発明装置
に用いる気液分離装置と貯槽の他の態様の模式図であ
る。本態様においては、回収容器と貯槽31の中間に気
液分離装置32が設けられ、気液分離装置において排気
されたのち、排液が貯槽に送られて貯留される。
【0009】
【発明の効果】本発明の枚葉式洗浄装置を用いることに
より、枚葉式スピン洗浄において、順次使用される複数
の洗浄液を、前後の洗浄液とほとんど混じり合うことな
く、希釈されることもなく、分別回収することが可能と
なる。また、従来の装置に比べて少ない量の排気をとる
ことにより、排水の跳ね返りを起こさない高精度の枚葉
式スピン洗浄を行うことができ、洗浄装置を小型化する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、従来の枚葉式洗浄装置の一例の模式図
である。
【図2】図2は、本発明の枚葉式洗浄装置の一態様の模
式図である。
【図3】図3は、本発明の枚葉式洗浄装置の一態様の模
式図である。
【図4】図4は、本発明の枚葉式洗浄装置の他の態様の
模式図である。
【図5】図5は、本発明の枚葉式洗浄装置の他の態様の
模式図である。
【図6】図6は、仕切り板の内縁部の形状を示す部分模
式図である。
【図7】図7は、本発明装置の回収容器の他の態様の模
式図である。
【図8】図8は、本発明装置に用いる気液分離装置と貯
槽の他の態様の模式図である。
【符号の説明】
1 基板 2 モータ 3 回転軸 4 ターンテーブル 5 ノズル 6 洗浄液 7 カップ 8 排出口 9 洗浄液回収容器 10 第1の回収室 11 第2の回収室 12 第3の回収室 13 第4の回収室 14 第1の排出口 15 第1の配管 16 第1の貯槽 17 第2の排出口 18 第2の配管 19 第2の貯槽 20 第3の貯槽 21 第4の貯槽 22 排気管 23 昇降シリンダー 24 巻き上げ機 25 チャック 26 裏ノズル 27 仕切り板 28 内縁部 29 飛沫 30 配管 31 貯槽 32 気液分離装置

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被洗浄物を回転可能に保持する保持手段
    と、回転する被洗浄物に洗浄液を供給するノズルと、回
    転する被洗浄物に当接して周辺に放出される洗浄液を受
    ける洗浄液回収容器とを有する枚葉式洗浄装置におい
    て、回収容器は放出される洗浄液を受ける複数の回収室
    が上下方向に設けられ、回収容器と保持手段が相対的に
    上下動可能に設けられてなることを特徴とする枚葉式洗
    浄装置。
JP11155323A 1999-06-02 1999-06-02 枚葉式洗浄装置 Pending JP2000343046A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11155323A JP2000343046A (ja) 1999-06-02 1999-06-02 枚葉式洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11155323A JP2000343046A (ja) 1999-06-02 1999-06-02 枚葉式洗浄装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000343046A true JP2000343046A (ja) 2000-12-12

Family

ID=15603389

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11155323A Pending JP2000343046A (ja) 1999-06-02 1999-06-02 枚葉式洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000343046A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005530605A (ja) * 2002-06-25 2005-10-13 エスイーゼツト・アクチエンゲゼルシヤフト 円板状物体を液体処理するための装置
US7584760B2 (en) 2002-09-13 2009-09-08 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate processing apparatus
CN107946214A (zh) * 2017-11-21 2018-04-20 长江存储科技有限责任公司 晶圆清洗装置
CN111640689A (zh) * 2019-03-01 2020-09-08 北京北方华创微电子装备有限公司 清洗装置及清洗腔室
CN117943365A (zh) * 2024-03-21 2024-04-30 通威微电子有限公司 刷片包装一体机

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005530605A (ja) * 2002-06-25 2005-10-13 エスイーゼツト・アクチエンゲゼルシヤフト 円板状物体を液体処理するための装置
US7584760B2 (en) 2002-09-13 2009-09-08 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate processing apparatus
CN107946214A (zh) * 2017-11-21 2018-04-20 长江存储科技有限责任公司 晶圆清洗装置
CN111640689A (zh) * 2019-03-01 2020-09-08 北京北方华创微电子装备有限公司 清洗装置及清洗腔室
CN117943365A (zh) * 2024-03-21 2024-04-30 通威微电子有限公司 刷片包装一体机

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20220189782A1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP5913167B2 (ja) 液処理装置および洗浄方法
US20040226655A1 (en) Substrate processing apparatus
US7476290B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
US11788200B2 (en) Fluid recovery in semiconductor processing
EP1696475A1 (en) Substrate treatment device and substrate treatment method
US20070130716A1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP4223293B2 (ja) 基板処理装置
US7045018B2 (en) Substrate brush scrubbing and proximity cleaning-drying sequence using compatible chemistries, and method, apparatus, and system for implementing the same
KR101017102B1 (ko) 습식 기판 세정 장치 및 그 세정 방법
JP4293830B2 (ja) 基板処理装置およびその処理方法
US20070125400A1 (en) In-line wafer cleaning system and method
KR100998849B1 (ko) 매엽식 세정장치
JP2002299305A (ja) 基板周縁処理装置および基板周縁処理方法
JP6203893B2 (ja) 液処理装置および洗浄方法
US7584761B1 (en) Wafer edge surface treatment with liquid meniscus
JPH10340875A (ja) 処理装置及び処理方法
JP4849958B2 (ja) 基板処理ユニットおよび基板処理方法
JP2023102823A (ja) 処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法
JP7252003B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2001316878A (ja) 液処理装置および液処理システムならびに液処理方法
JP2002270592A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP3532837B2 (ja) 回転式基板処理装置
JP2000294531A (ja) 枚葉化学処理装置とその運転方法
CN117497448A (zh) 基板处理装置、供给系统、基板处理方法以及供给方法