JP2000344636A - 消臭剤組成物 - Google Patents
消臭剤組成物Info
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- JP2000344636A JP2000344636A JP11159329A JP15932999A JP2000344636A JP 2000344636 A JP2000344636 A JP 2000344636A JP 11159329 A JP11159329 A JP 11159329A JP 15932999 A JP15932999 A JP 15932999A JP 2000344636 A JP2000344636 A JP 2000344636A
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 ジメトール、パラクレジルアセテート、
エチルトリシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−２−イル
カルボキシレート、トリシクロデセニルアセテート、
３，３−ジメチルシクロヘキシルメチルケトン及びフェ
ニルエチルイソアミルエーテルから選ばれる１種以上を
含有するパーマネントウエーブ用消臭剤組成物。 【効果】 安定性に優れ、パーマネント処理中及び処理
後において、メルカプト化合物に由来する不快臭をマス
キングする効果が高い。
エチルトリシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−２−イル
カルボキシレート、トリシクロデセニルアセテート、
３，３−ジメチルシクロヘキシルメチルケトン及びフェ
ニルエチルイソアミルエーテルから選ばれる１種以上を
含有するパーマネントウエーブ用消臭剤組成物。 【効果】 安定性に優れ、パーマネント処理中及び処理
後において、メルカプト化合物に由来する不快臭をマス
キングする効果が高い。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、安定性に優れ、パ
ーマネント処理中及び処理後においても、メルカプト化
合物に由来する不快臭をマスキングする効果が高いパー
マネントウエーブ用消臭剤組成物に関する。
ーマネント処理中及び処理後においても、メルカプト化
合物に由来する不快臭をマスキングする効果が高いパー
マネントウエーブ用消臭剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】パーマネントウエーブ剤のメルカプト化
合物に由来する不快臭をマスキングするため、種々の香
料成分を用いた消臭組成物が検討されている（特開平8-
277210号、特開平4-247013号等）。しかし、パーマネン
トウエーブ第１剤は、チオグリコール酸等の還元剤が主
成分であり、アルカリ性であるため、これらの香料成分
を用いて消臭しようとしても、香料の安定性が悪く、マ
スキング効果も十分ではない。
合物に由来する不快臭をマスキングするため、種々の香
料成分を用いた消臭組成物が検討されている（特開平8-
277210号、特開平4-247013号等）。しかし、パーマネン
トウエーブ第１剤は、チオグリコール酸等の還元剤が主
成分であり、アルカリ性であるため、これらの香料成分
を用いて消臭しようとしても、香料の安定性が悪く、マ
スキング効果も十分ではない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、安定
性に優れ、メルカプト化合物に由来する不快臭をマスキ
ングする効果が高いパーマネントウエーブ用消臭剤組成
物を提供することにある。
性に優れ、メルカプト化合物に由来する不快臭をマスキ
ングする効果が高いパーマネントウエーブ用消臭剤組成
物を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、特定の６
種の香料が、他の香料にはない前記課題を解決した優れ
た特性を有し、パーマネントウエーブ用の消臭剤組成物
に好適であることを見出した。
種の香料が、他の香料にはない前記課題を解決した優れ
た特性を有し、パーマネントウエーブ用の消臭剤組成物
に好適であることを見出した。
【０００５】本発明は、ジメトール、パラクレジルアセ
テート、エチルトリシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−
２−イルカルボキシレート、トリシクロデセニルアセテ
ート、３，３−ジメチルシクロヘキシルメチルケトン及
びフェニルエチルイソアミルエーテルから選ばれる１種
以上を含有するパーマネントウエーブ用消臭剤組成物を
提供するものである。
テート、エチルトリシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−
２−イルカルボキシレート、トリシクロデセニルアセテ
ート、３，３−ジメチルシクロヘキシルメチルケトン及
びフェニルエチルイソアミルエーテルから選ばれる１種
以上を含有するパーマネントウエーブ用消臭剤組成物を
提供するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明で用いる香料は、前記の６
種から選ばれる１種以上を用いることができ、特にエチ
ルトリシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−２−イルカル
ボキシレートが好ましい。本発明の消臭剤組成物は、こ
れら香料成分のみからなっても良く、他の香料成分や、
希釈剤、溶剤等を含有していても良い。前記の６種から
選ばれる香料は、消臭剤組成物中に合計で０．０１〜１
００重量％、特に３０〜１００重量％、更に５０〜１０
０重量％配合するのが好ましい。
種から選ばれる１種以上を用いることができ、特にエチ
ルトリシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−２−イルカル
ボキシレートが好ましい。本発明の消臭剤組成物は、こ
れら香料成分のみからなっても良く、他の香料成分や、
希釈剤、溶剤等を含有していても良い。前記の６種から
選ばれる香料は、消臭剤組成物中に合計で０．０１〜１
００重量％、特に３０〜１００重量％、更に５０〜１０
０重量％配合するのが好ましい。
【０００７】前記以外の香料成分としては、例えばｐ−
サイメン、ターピノレン、α−ターピネン、γ−ターピ
ネン、α−フェランドレン、ミルセン、カンフェン、オ
シメン等の炭化水素テルペン；ヘプタナール、オクタナ
ール、ベンズアルデヒド、サリシリックアルデヒド、フ
ェニルアセトアルデヒド、シトロネラール、ハイドロト
ロピックアルデヒド、リグストラール（２，４−ジメチ
ル−３−シクロヘキセニルカルボキシアルデヒド）、シ
トラール、α−ヘキシルシンナミックアルデヒド、α−
アミノシンナミックアルデヒド、リリアール（ｐ−tert
−ブチル−α−メチル−ヒドロシンナミックアルデヒ
ド）、シクラメンアルデヒド（ｐ−イソプロピル−α−
メチル−ヒドロシンナミックアルデヒド）、リラール
（（４−ヒドロキシ−４−メチルペンチル）−３−シク
ロヘキセン−１−カルボキシアルデヒド）、ヘリオトロ
ピン、アニスアルデヒド、ヘリオナール、バニリン、エ
チルバニリン等のアルデヒド類；エチルフォルメート、
メチルアセテート、エチルアセテート、メチルプロピオ
ネート、ジアセチル、メチルイソブチレート、エチルイ
ソブチレート、エチルブチレート、プロピルブチレー
ト、イソブチルアセテート、イソブチルイソブチレー
ト、イソブチルブチレート、イソブチルイソバレレー
ト、イソアミルアセテート、イソアミルプロピオネー
ト、アミルプロピオネート、アミルイソブチレート、ア
ミルブチレート、アミルイソバレレート、アリルヘキサ
ノエート、エチルアセトアセテート、エチルヘプチレー
ト、ヘプチルアセテート、メチルベンゾエート、エチル
ベンゾエート、エチルオクチレート、スチラリルアセテ
ート、ベンジルアセテート、ノニルアセテート、ボロニ
ルアセテート、ジエチルフタレート、安息香酸リナリ
ル、エチルシンナメート、ヘキシルサリシレート、メチ
ニルアセテート、ターピニルアセテート、アニシルアセ
テート、フェニルエチルイソブチレート、ジヒドロジャ
スモン酸メチル、γ−ウンデカラクトン、γ−ノニルラ
クトン、クマリン等のエステル類；アニソール、ｐ−ク
レシルメチルエーテル、ジメチルハイドロキノン、メチ
ルオイゲノール、β−ナフトールメチルエーテル、β−
ナフトールエチルエーテル、アネトール、チモール、ジ
フェニルオキサイド、ガラクソリド（１，３，４，６，
７，８−ヘキサハイドロ−４，６，６，７，８，８−ヘ
キサメチルシクロペンタ−γ−２−ベンゾピラン）等の
エーテル類；イソプロピルアルコール、cis−３−ヘキ
セノール、ヘプタノール、２−オクタノール、プロピレ
ングリコール、リナロール、ベンジルアルコール、シト
ロネロール、ゲラニオール、ターピネオール、テトラハ
イドロゲラニオール、アニスアルコール、フェニルエチ
ルアルコール等のアルコール類；メントン、アセトフェ
ノン、α−又はβ−ダマスコン（２，６，６−トリメチ
ル−trans−１−クロトニル−シクロヘキセン−１又は
−２）、α−又はβ−ダマセノン、α−、β−又はγ−
ヨノン、α−、β−又はγ−メチルヨノン、メチル−β
−ナフチルケトン、ベンゾフェノン、テンタローム（７
−アセチル−１，１，３，４，４，６−ヘキサメチルテ
トラハイドロナフタレン）、メチルセドリン、α−又は
β−イソメチルヨノン、α−、β−又はγ−イロン、マ
ルトール、エチルマルトール、cis−ジャスモン、ジヒ
ドロジャスモン、ｌ−カルボン等のケトン類などが挙げ
られる。また、希釈剤・溶剤としては、溶解性、汎用性
の点から、ジプロピレングリコール、エタノール、３−
メトキシ−３−プロパノールが好ましい。
サイメン、ターピノレン、α−ターピネン、γ−ターピ
ネン、α−フェランドレン、ミルセン、カンフェン、オ
シメン等の炭化水素テルペン；ヘプタナール、オクタナ
ール、ベンズアルデヒド、サリシリックアルデヒド、フ
ェニルアセトアルデヒド、シトロネラール、ハイドロト
ロピックアルデヒド、リグストラール（２，４−ジメチ
ル−３−シクロヘキセニルカルボキシアルデヒド）、シ
トラール、α−ヘキシルシンナミックアルデヒド、α−
アミノシンナミックアルデヒド、リリアール（ｐ−tert
−ブチル−α−メチル−ヒドロシンナミックアルデヒ
ド）、シクラメンアルデヒド（ｐ−イソプロピル−α−
メチル−ヒドロシンナミックアルデヒド）、リラール
（（４−ヒドロキシ−４−メチルペンチル）−３−シク
ロヘキセン−１−カルボキシアルデヒド）、ヘリオトロ
ピン、アニスアルデヒド、ヘリオナール、バニリン、エ
チルバニリン等のアルデヒド類；エチルフォルメート、
メチルアセテート、エチルアセテート、メチルプロピオ
ネート、ジアセチル、メチルイソブチレート、エチルイ
ソブチレート、エチルブチレート、プロピルブチレー
ト、イソブチルアセテート、イソブチルイソブチレー
ト、イソブチルブチレート、イソブチルイソバレレー
ト、イソアミルアセテート、イソアミルプロピオネー
ト、アミルプロピオネート、アミルイソブチレート、ア
ミルブチレート、アミルイソバレレート、アリルヘキサ
ノエート、エチルアセトアセテート、エチルヘプチレー
ト、ヘプチルアセテート、メチルベンゾエート、エチル
ベンゾエート、エチルオクチレート、スチラリルアセテ
ート、ベンジルアセテート、ノニルアセテート、ボロニ
ルアセテート、ジエチルフタレート、安息香酸リナリ
ル、エチルシンナメート、ヘキシルサリシレート、メチ
ニルアセテート、ターピニルアセテート、アニシルアセ
テート、フェニルエチルイソブチレート、ジヒドロジャ
スモン酸メチル、γ−ウンデカラクトン、γ−ノニルラ
クトン、クマリン等のエステル類；アニソール、ｐ−ク
レシルメチルエーテル、ジメチルハイドロキノン、メチ
ルオイゲノール、β−ナフトールメチルエーテル、β−
ナフトールエチルエーテル、アネトール、チモール、ジ
フェニルオキサイド、ガラクソリド（１，３，４，６，
７，８−ヘキサハイドロ−４，６，６，７，８，８−ヘ
キサメチルシクロペンタ−γ−２−ベンゾピラン）等の
エーテル類；イソプロピルアルコール、cis−３−ヘキ
セノール、ヘプタノール、２−オクタノール、プロピレ
ングリコール、リナロール、ベンジルアルコール、シト
ロネロール、ゲラニオール、ターピネオール、テトラハ
イドロゲラニオール、アニスアルコール、フェニルエチ
ルアルコール等のアルコール類；メントン、アセトフェ
ノン、α−又はβ−ダマスコン（２，６，６−トリメチ
ル−trans−１−クロトニル−シクロヘキセン−１又は
−２）、α−又はβ−ダマセノン、α−、β−又はγ−
ヨノン、α−、β−又はγ−メチルヨノン、メチル−β
−ナフチルケトン、ベンゾフェノン、テンタローム（７
−アセチル−１，１，３，４，４，６−ヘキサメチルテ
トラハイドロナフタレン）、メチルセドリン、α−又は
β−イソメチルヨノン、α−、β−又はγ−イロン、マ
ルトール、エチルマルトール、cis−ジャスモン、ジヒ
ドロジャスモン、ｌ−カルボン等のケトン類などが挙げ
られる。また、希釈剤・溶剤としては、溶解性、汎用性
の点から、ジプロピレングリコール、エタノール、３−
メトキシ−３−プロパノールが好ましい。
【０００８】本発明の消臭剤組成物は、パーマネントウ
エーブ第１剤、パーマネントウエーブ第２剤、シャンプ
ー、ヘアリンス、ヘアトリートメント、ヘアクリーム、
ヘアローション、ヘアフォーム等に配合して用いること
ができる。その場合の配合量は、全組成中に０．０１〜
５重量％、特に０．１〜１重量％であるのが好ましい。
特に、パーマネントウエーブ剤に配合して用いるのが、
処理中の臭いをマスキングできるので好ましい。
エーブ第１剤、パーマネントウエーブ第２剤、シャンプ
ー、ヘアリンス、ヘアトリートメント、ヘアクリーム、
ヘアローション、ヘアフォーム等に配合して用いること
ができる。その場合の配合量は、全組成中に０．０１〜
５重量％、特に０．１〜１重量％であるのが好ましい。
特に、パーマネントウエーブ剤に配合して用いるのが、
処理中の臭いをマスキングできるので好ましい。
【０００９】
【発明の効果】本発明のパーマネントウエーブ用消臭剤
組成物は、パーマネントウエーブ剤に配合しても安定性
に優れ、パーマネント処理中及び処理後において、メル
カプト化合物に由来する不快臭をマスキングする効果が
高いものである。
組成物は、パーマネントウエーブ剤に配合しても安定性
に優れ、パーマネント処理中及び処理後において、メル
カプト化合物に由来する不快臭をマスキングする効果が
高いものである。
【００１０】
【実施例】実施例１ 表３に示す組成の消臭剤組成物（香料成分１００％）に
ついて、表１に示すパーマネントウエーブ第１剤に０．
２重量％配合したときの安定性及びマスキング効果を評
価した。結果を表３に併せて示す。
ついて、表１に示すパーマネントウエーブ第１剤に０．
２重量％配合したときの安定性及びマスキング効果を評
価した。結果を表３に併せて示す。
【００１１】（評価方法） （１）安定性：各パーマネントウエーブ第１剤を４０℃
で３ヶ月保存した後の不快臭のマスキング効果を、以下
の基準で官能評価した。 Ａ；十分にマスキングされている。 Ｂ；マスキングがやや不十分。 Ｃ；マスキングが不十分。
で３ヶ月保存した後の不快臭のマスキング効果を、以下
の基準で官能評価した。 Ａ；十分にマスキングされている。 Ｂ；マスキングがやや不十分。 Ｃ；マスキングが不十分。
【００１２】（２）マスキング効果：各パーマネントウ
エーブ第１剤及び第２剤を用い、通常の方法により、パ
ーマネント処理を行った。処理前に容器を開けたときの
ボトル口での臭い、処理中（毛髪塗布直後）及び処理後
（毛髪乾燥時の残香）の臭いを、（１）と同様に官能評
価した。
エーブ第１剤及び第２剤を用い、通常の方法により、パ
ーマネント処理を行った。処理前に容器を開けたときの
ボトル口での臭い、処理中（毛髪塗布直後）及び処理後
（毛髪乾燥時の残香）の臭いを、（１）と同様に官能評
価した。
【００１３】
【表１】 （パーマネントウエーブ第１剤） （成分） エデト酸二ナトリウム ０．５（重量％） 塩化ステアリルトリメチルアンモニウム水溶液(28％) １．０ プロピレングリコール １．０ ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート （レオドールTW-L120） １．０ パラオキシ安息香酸メチル ０．１ チオグリコール酸アンモニウム(50％) １３．５ 強アンモニア水(28％) ２．０ クエン酸 ０．５ 重炭酸アンモニウム ２．５ 消臭剤組成物 ０．２ 精製水 バランス
【００１４】
【表２】 （パーマネントウエーブ第２剤） （成分） 臭素酸ナトリウム ８．０ ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム(2.5E.O.) ５．０ ポリオキシエチレントリデシルエーテル １．０ パルミチン酸イソプロピル ２．０ 塩化−オルト−(2−ヒドロキシ−3,8−トリメチル アンモニオ)プロピル ０．２ パラオキシ安息香酸メチル ０．１ 無水硫酸ナトリウム １．０ ４８％水酸化ナトリウム水溶液（pH調整剤） 適量 クエン酸（pH調整剤） 適量 精製水 バランス
【００１５】
【表３】
【００１６】表３の結果から明らかなように、本発明品
はいずれも、安定性に優れ、マスキング効果が高いもの
であった。
はいずれも、安定性に優れ、マスキング効果が高いもの
であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森 成夫 東京都墨田区文花２−１−３ 花王株式会 社研究所内 Ｆターム(参考） 3B038 FA07 4C083 AA011 AA012 AA122 AB032 AB082 AB312 AB332 AB352 AC032 AC122 AC172 AC182 AC211 AC212 AC302 AC341 AC342 AC352 AC402 AC482 AC532 AC692 AC772 AC782 AC812 AD532 CC34 DD23 DD27 EE21
Claims (1)
- 【請求項１】 ジメトール、パラクレジルアセテート、
エチルトリシクロ［５.２.１.０2,6］デカン−２−イル
カルボキシレート、トリシクロデセニルアセテート、
３，３−ジメチルシクロヘキシルメチルケトン及びフェ
ニルエチルイソアミルエーテルから選ばれる１種以上を
含有するパーマネントウエーブ用消臭剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11159329A JP2000344636A (ja) | 1999-06-07 | 1999-06-07 | 消臭剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11159329A JP2000344636A (ja) | 1999-06-07 | 1999-06-07 | 消臭剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000344636A true JP2000344636A (ja) | 2000-12-12 |
Family
ID=15691449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11159329A Pending JP2000344636A (ja) | 1999-06-07 | 1999-06-07 | 消臭剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000344636A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010018569A (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-28 | Hoyu Co Ltd | 毛髪化粧料組成物 |
| JP2010018570A (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-28 | Hoyu Co Ltd | 反応臭抑制方法 |
| JP2012510982A (ja) * | 2008-12-05 | 2012-05-17 | レキット アンド コールマン （オーバーシーズ） リミテッド | 脱毛用組成物 |
| JP2015067557A (ja) * | 2013-09-27 | 2015-04-13 | 長谷川香料株式会社 | 毛髪パーマネント処理用香料組成物 |
| JP2019089742A (ja) * | 2017-11-17 | 2019-06-13 | 花王株式会社 | バイオフィルム分散除去剤 |
-
1999
- 1999-06-07 JP JP11159329A patent/JP2000344636A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010018569A (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-28 | Hoyu Co Ltd | 毛髪化粧料組成物 |
| JP2010018570A (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-28 | Hoyu Co Ltd | 反応臭抑制方法 |
| JP2012510982A (ja) * | 2008-12-05 | 2012-05-17 | レキット アンド コールマン （オーバーシーズ） リミテッド | 脱毛用組成物 |
| JP2015067557A (ja) * | 2013-09-27 | 2015-04-13 | 長谷川香料株式会社 | 毛髪パーマネント処理用香料組成物 |
| JP2019089742A (ja) * | 2017-11-17 | 2019-06-13 | 花王株式会社 | バイオフィルム分散除去剤 |
| JP7039260B2 (ja) | 2017-11-17 | 2022-03-22 | 花王株式会社 | バイオフィルム分散除去剤 |
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