JP2000344778A - ガリウムフタロシアニンの製造方法、及び該ガリウムフタロシアニンを用いた電子写真感光体 - Google Patents
ガリウムフタロシアニンの製造方法、及び該ガリウムフタロシアニンを用いた電子写真感光体Info
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Abstract
ニン化合物の製造法を提供すること、及び該ガリウムフ
タロシアニン化合物を処理して得られるガリウムフタロ
シアニン結晶を用いて長波長の光源に対して極めて高い
光感度を有し、繰り返し使用時の電位変動が少なく、帯
電性が良好で画像欠陥の無い電子写真感光体、及び該電
子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び電子写
真装置を提供することにある。 【解決手段】 ガリウム化合物とフタロシアニン環を形
成する化合物を有機溶媒中で反応させてガリウムフタロ
シアニンを製造する工程において、ガリウム化合物とフ
タロシアニン環を形成する化合物との仕込み比が、フタ
ロシアニン環形成化合物4モルに対してガリウム化合物
を1.2〜3.5モルであるガリウムフタロシアニン化
合物の製造方法、該ガリウムフタロシアニンを用いた電
子写真感光体、及びその電子写真感光体を用いたプロセ
スカートリッジ及び電子写真装置。
Description
ニンの製造方法、及び該ガリウムフタロシアニンを用い
た電子写真感光体、該電子写真感光体を用いた電子写真
装置及びプロセスカートリッジに関する。
用途の他、電子写真感光体、太陽電池、センサー等に用
いられる電子材料として注目され、検討されている。
写真技術を応用したプリンターが広く普及してきてい
る。これらは、主としてレーザー光を光源とするレーザ
ービームプリンターであり、その光源としてはコスト、
装置の大きさ等の点から半導体レーザーが用いられる。
現在、主として用いられている半導体レーザーは、その
発振波長が650〜820nmと長波長のため、これら
長波長の光に十分な感度を有する電子写真感光体の開発
が進められてきた。
類によって異なり、長波長光に対して感度を有する電荷
発生材料として、近年、アルミニウムフタロシアニン、
インジウムフタロシアニン、オキシバナジルフタロシア
ニン、ガリウムフタロシアニン、マグネシウムフタロシ
アニン、オキシチタニルフタロシアニン等の金属フタロ
シアニンあるいは無金属フタロシアニン等についての研
究が多くなされている。
物では様々な結晶形の存在が知られており、例えばガリ
ウムフタロシアニンでは、特開平5−98181号公報
にクロロガリウムフタロシアニン結晶が、特開平5−2
63007号公報及び特開平6−93203号公報等に
数種類のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶が開示
されている。
は、結晶形が同じでも使用原料や溶剤といった製造法、
及び反応温度や仕込み比等の製造条件の差により電子写
真感光体として使用する場合、電子写真特性が著しく変
化し、特に、感度、帯電性に著しく違いが出ることがわ
かっている。
関しては、特開平8−100134号公報、特開平9−
111148号公報、特開平9−124967号公報、
特開平10−7927号公報及び特開平10−1778
4号公報等に開示されているが、これらのガリウムフタ
ロシアニン結晶を用いた電子写真感光体は、電子写真プ
ロセスの高速化、あるいは高画質化の観点からみて、感
度や繰り返し使用時の電位安定性、帯電性等の点で必ず
しも満足できるものでなく、及び製造法の収率、製造安
定性の面からみても必ずしも満足できるものではない。
率で安定生産できるガリウムフタロシアニン化合物の製
造法を提供すること、及び該ガリウムフタロシアニン化
合物を処理して得られるガリウムフタロシアニン結晶を
用いて長波長の光源に対して極めて高い光感度を有し、
繰り返し使用時の電位変動が少なく、帯電性が良好で画
像欠陥の無い電子写真感光体を提供すること、及び該電
子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び電子写
真装置を提供することにある。
ム化合物とフタロシアニン環を形成する化合物を有機溶
媒中で反応させてガリウムフタロシアニンを製造する工
程において、ガリウム化合物と該フタロシアニン環を形
成する化合物との仕込み比が、該フタロシアニン環形成
化合物4モルに対してガリウム化合物を1.2モル〜
3.5モルであるガリウムフタロシアニン化合物の製造
方法が提供される。
いて得られたクロロガリウムフタロシアニンをミリング
処理により結晶変換させ、CuKα特性X線回折におけ
るブラッグ角2θ±0.2°の7.4°、16.6°、
25.5°及び28.3°に強いピークを有するクロロ
ガリウムフタロシアニン結晶を得るクロロガリウムフタ
ロシアニン結晶の製造方法が提供される。
いて得られた該ガリウムフタロシアニンをアシッドペー
スティング処理した後、ミリング処理により結晶変換さ
せ、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角2θ±
0.2°の7.4°及び28.2°に強いピークを有す
るヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を得るヒドロ
キシガリウムフタロシアニン結晶の製造方法が提供され
る。
感光層を有する電子写真感光体において、前記感光層に
上記ガリウムフタロシアニン結晶を含有する電子写真感
光体、及びその電子写真感光体を有するプロセスカート
リッジ及び電子写真装置が提供される。
細に説明する。
する化合物を有機溶媒中で反応させてガリウムフタロシ
アニンを製造する工程において、ガリウム化合物と該フ
タロシアニン環を形成する化合物との仕込み比が、該フ
タロシアニン環形成化合物4モルに対してガリウム化合
物を1.2モル〜3.5モルであることが高い反応収
率、及び該ガリウムフタロシアニンを処理して得られる
ガリウムフタロシアニン結晶を電子写真感光体に用いた
場合、極めて高い光感度を有し、繰り返し使用時の電位
変動が少なく、帯電性が良好で画像欠陥の無い電子写真
感光体が得られる。更に1.5モル〜3モルが特に好ま
しい。1.2モル未満の場合、反応収率が低く、また電
子写真感光体にした場合、帯電能が劣っており画像欠陥
が生じてしまう。逆に3.5モルを超えると、ガリウム
化合物が過剰の場合も反応収率が低下し、また電子写真
感光体にした場合、光感度の低下、及び帯電能の低下に
より画像欠陥が生じてしまう。
ム、三臭化ガリウム、三ヨウ化ガリウム、ガリウムトリ
メトキサイド、ガリウムトリエトキサイド等が挙げられ
る。これらの中でも、電子写真特性の面から三塩化ガリ
ウムが特に好ましい。
は、フタロニトリル、3−ニトロフタロニトリル、4−
ニトロフタロニトリル、3−クロルフタロニトリル、4
−クロルフタロニトリル、4−メチルフタロニトリル、
1,3−ジイミノイソインドリン、4−クロル−1,3
−ジイミノイソインドリン、4−ニトロ−1,3−ジイ
ミノイソインドリン等が挙げられる。これらの中でも、
電子写真特性の面からフタロニトリルが特に好ましい。
1−クロルナフタレン、2−クロルナフタレン、1,2
−ジクロルベンゼン、2−クロルアニソール、1−ブロ
モナフタレン、ニトロベンゼン、キノリン、ジメチルス
ルホキシド等が挙げられる。これらの中でもクロル化芳
香環化合物である、1−クロルナフタレン、2−クロル
ナフタレン、1,2−ジクロルベンゼン、2−クロルア
ニソールが好ましく、特に1−クロルナフタレンを用い
た場合が、該ガリウムフタロシアニンを処理して得られ
るガリウムフタロシアニン結晶を電子写真感光体に用い
た場合、極めて高い光感度を有し、繰り返し使用時の電
位変動が少なく、帯電性が良好で画像欠陥の無い電子写
真感光体が得られる。
℃に設定されるが、190℃未満では反応収率が上がり
難く、また210℃を超える温度では電子写真感光体に
用いた場合、光感度低下が起こり易いので、190℃〜
210℃の範囲に設定するのが反応収率、電子写真特性
の両立上好ましい。反応時間は、好ましくは1〜8時
間、より好ましくは2〜5時間の範囲である。
ムフタロシアニンをミリング処理により結晶変換させ、
CuKα特性X線回折におけるブラッグ角2θ±0.2
°の7.4°、16.6°、25.5°及び28.3°
に強いピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結
晶を得る方法を説明する。
乾式ミリングするか、また乾式ミリングに続いて湿式ミ
リングして得られる。ここで行う湿式ミリングに用いら
れる溶剤としては、例えば、ベンジルアルコール、フェ
ネチルアルコール等の芳香族アルコール系溶剤、N,N
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルホルムアミド、N−メチルアセトアミ
ド、N−メチルプロピオアミド等のアミド系溶剤、クロ
ロベンゼン、クロロホルム等のハロゲン系溶剤等が挙げ
られる。
タロシアニンをアシッドペースティング処理した後、ミ
リング処理により結晶変換させ、CuKα特性X線回折
におけるブラッグ角2θ±0.2°の7.4°及び2
8.2°に強いピークを有するヒドロキシガリウムフタ
ロシアニン結晶を得る方法を説明する。
スティング法により処理してぺースト状の含水ヒドロキ
シガリウムフタロシアニンを得る。次に、この含水ヒド
ロキシガリウムフタロシアニンを乾燥して低結晶性のヒ
ドロキシガリウムフタロシアニンとする。得られた低結
晶性のヒドロキシガリウムフタロシアニンを、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルホルムアミド、N−メチルアセトアミ
ド、N−メチルプロピオアミド等のアミド系溶剤、クロ
ロホルム等のハロゲン系溶剤、テトラヒドロフラン等の
エーテル系溶剤、ジメチルスルホキシド等のスルホキシ
ド系溶剤を用いてミリング処理を行うことにより得られ
る。
ラスビーズ、スチールビーズ、アルミナボール等の分散
剤と共に、サンドミル、ボールミル等のミリング装置を
用いて行う処理である。ミリング時間は、使用するミリ
ング装置により異なるため一概には言えないが4〜48
時間程度が好ましい。一番良い方法は、4〜8時間おき
にサンプルをとりブラッグ角を確認することである。ミ
リング処理で用いる分散剤の量は、重量基準でガリウム
フタロシアニンの10〜50倍が好ましい。また、湿式
ミリングの場合用いられる溶剤の量は、重量基準でガリ
ウムフタロシアニンの10〜30倍が好ましい。
り処理するとは、該ガリウムフタロシアニンを酸の中に
溶解又は分散させた後、大量の水に注加し、再沈したガ
リウムフタロシアニン固体をアルカリ水溶液、次いで洗
液の伝導度が20μS以下になるまでイオン交換水で洗
浄を繰り返す処理のことである。
酸、塩酸、トリフルオロ酢酸等が挙げられるが中でも濃
硫酸が好ましい。使用量は、重量基準でガリウムフタロ
シアニンの10〜40倍が好ましく、酸での溶解又は分
散温度は50度以下が該ガリウムフタロシアニンの分解
あるいは酸との反応の点で好ましい。
のX線回折の測定は、CuKα線を用い、次の条件で行
ったものである。
自動X線回折装置MXP18 X線管球:Cu 管電圧:50KV 管電流:300mA スキャン方法:2θ/θスキャン スキャン速度:2deg./min サンプリング間隔:0.020deg. スタート角度(2θ):5deg. ストップ角度(2θ):40deg. ダイバージェンススリット:0.5deg. スキャッタリングスリット:0.5deg. レジーピングスリット:0.3deg. 湾曲モノクロメーター使用
光導電体としての機能に優れ、電子写真感光体以外に
も、太陽電池、センサー、スイッチング素子等に適用す
ることができる。
晶を電子写真感光体における電荷発生材料として適用す
る場合を説明する。
は、導電性支持体上に電荷発生材料と電荷輸送材料を同
時に含有する単一層からなる感光層を有する層構成と、
導電性支持体上に電荷発生材料を含有する電荷発生層と
電荷輸送材料を含有する電荷輸送層を積層する感光層を
有する層構成がある。なお、電荷発生層と電荷輸送層の
積層関係は逆であってもよい。
性を有していれば、いずれのものでもよく、例えば、ア
ルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレ
ス、バナジウム、モリブデン、クロム、チタン、ニッケ
ル、インジウム、金及び白金を用いることができる。そ
の他には、アルミニウム、アルミニウム合金、酸化イン
ジウム、酸化スズ及び酸化インジウム−酸化スズ合金を
真空蒸着法によって被膜形成された層を有するプラスチ
ック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩
化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂
及びポリフッ化エチレン)、導電性粒子(例えば、アル
ミニウム粉末、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、カー
ボンブラック及び銀粒子等)を適当なバインダー樹脂と
共にプラスチック又は前記支持体の上に被覆した支持
体、導電性粒子をプラスチックや紙に含浸させた支持体
や導電性ポリマーを有するプラスチック等を用いること
ができる。
はバリヤー機能と接着機能を持つ下引き層を設けること
もできる。下引き層の材料としては、ポリビニルアルコ
ール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロース、メチ
ルセルロース、カゼイン、ポリアミド(ナイロン6、ナ
イロン66、ナイロン610、共重合ナイロン及びN−
アルコキシメチル化ナイロン等)、ポリウレタン、にか
わ、酸化アルミニウム及びゼラチン等が用いられる。そ
の膜厚は、好ましくは0.1〜10μm、より好ましく
は0.5〜5μmである。
発明のガリウムフタロシアニン結晶の電荷発生材料と電
荷輸送材料を過当なバインダー樹脂溶液中に混合して、
この混合液を導電性支持体上に塗布乾燥して形成され
る。
電荷発生層は、本発明のガリウムフタロシアニン結晶を
過当なバインダー樹脂溶液と共に分散し、この分散液を
塗布乾燥して形成する方法が挙げられるが、蒸着するこ
とによって層形成することもできる。
インダー樹脂とを溶剤中に溶解させた塗料を塗布乾燥し
て形成する。電荷輸送材料としては、各種のトリアリー
ルアミン系化合物、ヒドラゾン系化合物、スチルベン系
化合物、ピラゾリン系化合物、オキサゾール系化合物、
チアゾール系化合物、トリアリルメタン系化合物等が挙
げられる。
えば、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリビニルカルバ
ゾール、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリビニ
ルブチラール、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、
ポリサルホン、ポリアリレート、塩化ビニリデン、アク
リロニトリル共重合体、ポリビニルベンザール等の樹脂
が用いられる。
法、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング
法、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、
ビームコーティング法等の塗布方法を用いることができ
る。
mが好ましく、より好ましくは10〜30μmである。
積層構造の場合、電荷発生層の膜厚は0.01〜10μ
mが好ましく、より好ましくは0.1〜3μmであり、
電荷輸送層の膜厚は5〜40μmが好ましく、より好ま
しくは10〜30μmの範囲である。
して20〜90重量%が好ましく、より好ましくは50
〜80重量%である。電荷輸送材料の含有量は、電荷輸
送層に対して20〜80重量%が好ましく、より好まし
くは30〜70重量%である。
有量は、感光層に対して3〜30重量%が好ましい。電
荷輸送材料の含有量は感光層に対して30〜70重量%
が好ましい。
荷発生材料として用いる場合、その目的に応じて他の電
荷発生材料と混合して用いることもできる。この場合、
ガリウムフタロシアニンの割合は、全電荷発生材料に対
して50重量%以上が好ましい。
てもよい。保護層は、ポリビニルブチラール、ポリエス
テル、ポリカーボネート(ポリカーボネートZ、変性ポ
リカーボネート等)、ナイロン、ポリイミド、ポリアリ
レート、ポリウレタン、スチレン−ブタジエンコポリマ
ー、スチレン−アクリル酸コポリマー、スチレン−アク
リロニトリルコポリマー等の樹脂を適当な有機溶剤によ
って溶解し、感光層の上に塗布、乾燥して形成できる。
保護層の膜厚は、0.05〜20μmが好ましい。ま
た、保護層中に導電性粒子や紫外線吸収剤等を含ませて
もよい。導電性粒子としては、例えば酸化錫粒子等の金
属酸化物が好ましい。
子写真装置について説明する。
体であり軸1aを中心に矢印方向に所定の周速度で回転
駆動する。該感光体1は、その回転過程で帯電手段2に
よりその周面に正又は負の所定電位の均一帯電を受け、
次いで露光部3にて不図示の像露光手段により光像露光
L(スリット露光あるいはレーザービーム走査露光等)
を受ける。これにより感光体周面に露光像に対応した静
電潜像が順次形成されていく。その静電潜像は、次いで
現像手段4でトナー現像され、そのトナー現像像がコロ
ナ転写手段5により不図示の給紙部から感光体1と転写
手段5との間に感光体1の回転と同期取りされて給送さ
れた記録材9の面に順次転写されていく。像転写を受け
た記録材9は、感光体面から分離されて像定着手段8へ
導入されて像定着を受けて複写物(コピー)として機外
ヘプリントアウトされる。像転写後の感光体1の表面
は、クリーニング手段6にて転写残りトナーの除去を受
けて清浄面化され、前露光手段7により除電処理がされ
て繰り返して像形成に使用される。
光体1、帯電手段2及び現像手段4を容器20に納めて
プロセスカートリッジとし、このプロセスカートリッジ
を装置本件のレール等の案内手段12を用いて着脱自在
に構成している。クリーニング手段6は、容器20内に
配置しても配置しなくてもよい。
段として直接帯電部材10を用い、電圧印加された直接
帯電部材10を感光体1に接触させることにより感光体
1の帯電を行ってもよい(この帯電方法を、以下直接帯
電という)。図3及び図4に示す装置では、感光体1上
のトナー像も直接帯電部材23で記録材9に転写され
る。即ち、電圧印加された直接帯電部材23を記録材9
に接触させることにより感光体1上のトナー像を記録材
9に転写させる。
光体1及び直接帯電部材10を第1の容器21に納めて
第1のプロセスカートリッジとし、少なくとも現像手段
4を第2の容器22に納めて第2のプロセスカートリッ
ジとし、これら第1のプロセスカートリッジと、第2の
プロセスカートリッジとを着脱自在に構成している。ク
リーニング手段6は、容器21内に配置しても配置しな
くてもよい。
リンターとして使用する場合には、原稿からの反射光や
透過光を用いる、あるいは、原稿を読み取り信号化に従
って、この信号によりレーザービームの走査、発光ダイ
オードアレイの駆動、又は液晶シャッターアレイの駆動
等を行うことにより行われる。
「重量%」及び「重量部」を意味する。
部、三塩化ガリウム25部(フタロニトリルに対して2
倍モル:以下2倍モルと略す)、α−クロロナフタレン
300部を窒素雰囲気下200℃で4時間反応させた
後、130℃で生成物をろ過した。得られた生成物を
N,N−ジメチルホルムアミドを用いて140℃で2時
間分散洗浄した後、ろ過し、メタノールで洗浄後乾燥
し、クロロガリウムフタロシアニンを26.3部(収率
60.0%)得た。得られた結晶の粉末X線回折図を図
5に示す。また、このクロロガリウムフタロシアニンの
元素分析の結果を以下に示す。
部、三塩化ガリウム50部(3倍モル)、α−クロロナ
フタレン400部を窒素雰囲気下200℃で4時間反応
させた後、130℃で生成物をろ過した。得られた生成
物をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて140℃で
2時間分散洗浄した後、ろ過し、メタノールで洗浄後乾
燥し、クロロガリウムフタロシアニンを43.0部(収
率73.5%)得た。得られた結晶の粉末X線回折図を
図6に示す。また、このクロロガリウムフタロシアニン
の元素分析の結果を以下に示す。
部、三塩化ガリウム25部(1.5倍モル)、α−クロ
ロナフタレン400部を窒素雰囲気下200℃で4時間
反応させた後、130℃で生成物をろ過した。得られた
生成物をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて140
℃で2時間分散洗浄した後、ろ過し、メタノールで洗浄
後乾燥し、クロロガリウムフタロシアニンを31.3部
(収率53.4%)得た。得られた結晶の粉末X線回折
図を図7に示す。また、このクロロガリウムフタロシア
ニンの元素分析の結果を以下に示す。
部、三塩化ガリウム25部(2.5倍モル)、α−クロ
ロナフタレン240部を窒素雰囲気下200℃で4時間
反応させた後、130℃で生成物をろ過した。得られた
生成物をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて140
℃で2時間分散洗浄した後、ろ過し、メタノールで洗浄
後乾燥し、クロロガリウムフタロシアニンを23.1部
(収率66.0%)得た。得られた結晶の粉末X線回折
図を図8に示す。また、このクロロガリウムフタロシア
ニンの元素分析の結果を以下に示す。
部、三塩化ガリウム25部(2倍モル)、α−クロロナ
フタレン300部を窒素雰囲気下190℃で4時間反応
させた後、130℃で生成物をろ過した。得られた生成
物をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて140℃で
2時間分散洗浄した後、ろ過し、メタノールで洗浄後乾
燥し、クロロガリウムフタロシアニンを18.2部(収
率41.5%)得た。得られた結晶の粉末X線回折図を
図9に示す。また、このクロロガリウムフタロシアニン
の元素分析の結果を以下に示す。
部、三塩化ガリウム25部(2倍モル)、α−クロロナ
フタレン300部を窒素雰囲気下210℃で4時間反応
させた後、130℃で生成物をろ過した。得られた生成
物をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて140℃で
2時間分散洗浄した後、ろ過し、メタノールで洗浄後乾
燥し、クロロガリウムフタロシアニンを30.5部(収
率69.5%)得た。得られた結晶の粉末X線回折図を
図10に示す。また、このクロロガリウムフタロシアニ
ンの元素分析の結果を以下に示す。
部、三塩化ガリウム25部(2倍モル)、キノリン20
0部を窒素雰囲気下200℃で4時間反応させた後、1
30℃で生成物をろ過した。得られた生成物をN,N−
ジメチルホルムアミドを用いて140℃で2時間分散洗
浄した後、ろ過し、メタノールで洗浄後乾燥し、クロロ
ガリウムフタロシアニンを20.5部(収率46.7
%)得た。得られた結晶の粉末X線回折図を図11に示
す。また、このクロロガリウムフタロシアニンの元素分
析の結果を以下に示す。
リン50部、三塩化ガリウム30.4部(2倍モル)、
α−クロロナフタレン1000部を窒素雰囲気下200
℃で4時間反応させた後、130℃で生成物をろ過し
た。得られた生成物をN,N−ジメチルホルムアミドを
用いて140℃で2時間分散洗浄した後、ろ過し、メタ
ノールで洗浄後乾燥し、クロロガリウムフタロシアニン
を42.6部(収率80.2%)得た。得られた結晶の
粉末X線回折図を図12に示す。また、このクロロガリ
ウムフタロシアニンの元素分析の結果を以下に示す。
部、三臭化ガリウム50部(2倍モル)、α−クロロナ
フタレン200部を窒素雰囲気下200℃で4時間反応
させた後、130℃で生成物をろ過した。得られた生成
物をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて130℃で
2時間分散洗浄した後、ろ過し、メタノールで洗浄後乾
燥し、ブロモガリウムフタロシアニンを34.0部(収
率63.6%)得た。得られた結晶の粉末X線回折図を
図13に示す。また、このブロモガリウムフタロシアニ
ンの元素分析の結果を以下に示す。
三塩化ガリウム25部(1倍モル)、α−クロロナフタ
レン380部を窒素雰囲気下200℃で4時間反応させ
た後、130℃で生成物をろ過した。得られた生成物を
N,N−ジメチルホルムアミドを用いて140℃で2時
間分散洗浄した後、ろ過し、メタノールで洗浄後乾燥
し、クロロガリウムフタロシアニンを34部(収率3
8.8%)得た。得られた結晶の粉末X線回折図を図1
4に示す。また、このクロロガリウムフタロシアニンの
元素分析の結果を以下に示す。
部、三塩化ガリウム50部(4倍モル)、α−クロロナ
フタレン300部を窒素雰囲気下200℃で4時間反応
させた後、130℃で生成物をろ過した。得られた生成
物をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて140℃で
2時間分散洗浄した後、ろ過し、メタノールで洗浄後乾
燥し、クロロガリウムフタロシアニンを27.5部(収
率62.7%)得た。得られた結晶の粉末X線回折図を
図15に示す。また、このクロロガリウムフタロシアニ
ンの元素分析の結果を以下に示す。
ガリウムフタロシアニン15部を10℃の濃硫酸450
部に溶解させ、氷水2250部中に攪拌下に滴下して再
析出させてろ過した。2%アンモニア水で分散洗浄、次
いでイオン交換水で分散洗浄を4回行った後、凍結乾燥
機でフリーズドライ化して低結晶性のヒドロキシガリウ
ムフタロシアニンを13g得た。得られた結晶の粉末X
線回折図を図16に示す。
5、6、7、8及び9で、それぞれ得られたクロロガリ
ウムフタロシアニンを実施例10と同様に処理した。そ
れぞれ得られた結晶の粉末X線回折は図16と同様であ
った。
れぞれ得られたクロロガリウムフタロシアニンを実施例
7と同様に処理した。それぞれ得られた結晶の粉末X線
回折は図16と同様であった。
ガリウムフタロシアニン5部を1mmφのガラスビーズ
200部と共にサンドミルでミリング処理を24時間行
った。次いでベンジルアルコール95部を加え更にサン
ドミルでミリング処理を24時間行った。この分散液よ
り固形分を取り出し、メタノールで十分に洗浄、乾燥し
て、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角2θの
7.4°、16.6°、25.5°及び28.3°に強
いピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶を
4.5部得た。得られた結晶の粉末X線回折図を図17
に示す。
ガリウムフタロシアニン5部を1mmφのガラスビーズ
200部と共にサンドミルでミリング処理を24時間行
った。次いでN,N−ジメチルホルムアミド95部を加
え更にサンドミルでミリング処理を24時間行った。こ
の分散液より固形分を取り出し、メタノールで十分に洗
浄、乾燥して、クロロガリウムフタロシアニン結晶を
4.5部得た。得られた結晶の粉末X線回折は、図17
と同様であった。
5、6、7及び8で、それぞれ得られたクロロガリウム
フタロシアニンを実施例19と同様に処理した。それぞ
れ得られた結晶の粉末X線回折は、図17と同様であっ
た。
れぞれ得られたクロロガリウムフタロシアニンを実施例
19と同様に処理した。それぞれ得られた結晶の粉末X
線回折は、図17と同様であった。
ロキシガリウムフタロシアニン5g、N,N−ジメチル
ホルムアミド95gを1mmφのガラスビーズ200g
と共にボールミルでミリング処理を室温(22℃)下で
24時間行った。この分散液より固形分を取り出し、テ
トラヒドロフランで十分に洗浄、乾燥して、CuKα特
性X線回折におけるブラッグ角2θの7.3°及び2
8.2°に強いピークを有するヒドロキシガリウムフタ
ロシアニン結晶を4.5部得た。得られた結晶の粉末X
線回折図を図18に示す。
ロキシガリウムフタロシアニン5g、N,N−ジメチル
ホルムアミド95gを1mmφのガラスビーズ200g
と共にサンドミルでミリング処理を20℃で20時間行
った。この分散液より固形分を取り出し、テトラヒドロ
フランで十分に洗浄、乾燥して、CuKα特性X線回折
におけるブラッグ角2θの7.3°及び28.1°に強
いピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結
晶を4.5部得た。得られた結晶の粉末X線回折図を図
19に示す。
13、14、15、16、17及び18で、それぞれ得
られたヒドロキシガリウムフタロシアニンを実施例28
と同様に処理した。それぞれ得られた結晶の粉末X線回
折は、図18と同様であった。
れぞれ得られたヒドロキシガリウムフタロシアニンを実
施例28と同様に処理した。それぞれ得られた結晶の粉
末X線回折は、図18と同様であった。
含有する酸化スズで被覆した酸化チタン粉体50部、レ
ゾール型フェノール樹脂25部、メチルセロソルブ20
部、メタノール5部及びシリコーンオイル(ポリジメチ
ルシロキサン・ポリオキシアルキレン共重合体、平均分
子量3000)0.002部を1mmφガラスビーズを
用いたサンドミルで2時間分散して導電層用塗料を調製
した。アルミニウムシリンダー(φ30mm)上に、導
電層用塗料を浸漬塗布し、140℃で30分間乾燥さ
せ、膜厚20μmの導電層を形成した。
ポリアミド共重合体5部をメタノール70部/ブタノー
ル25部の混合溶媒に溶解した溶液を浸漬塗布、乾燥し
て、膜厚1μmの下引き層を形成した。
ムフタロシアニン結晶3.5部とポリビニルブチラール
樹脂(商品名:エスレックBH−S、積水化学工業社
製)1部をシクロヘキサノン120部に添加し、1mm
φガラスビーズを用いたサンドミルで3時間分散し、こ
れにメチルエチルケトン120部を加えて希釈して電荷
発生層用塗工液を調製した。下引き層上に、この電荷発
生層用塗工液を浸漬塗布し、100℃で10分間乾燥し
て、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
0、三菱ガス化学)10部をクロロベンゼン60部に溶
解し、電荷輸送層用塗工液を調製した。電荷発生層上に
電荷輸送層用塗工液を浸漬塗布し、140℃で30分間
乾燥して、膜厚28μmの電荷輸送層を形成した。こう
して電子写真感光体を作成した。
用いた電荷発生材料に代えて、実施例20、21、2
2、23、24、25、26、27、28、29、3
0、31、32、33、34、35、36及び37で製
造したガリウムフタロシアニン結晶を電荷発生材料とし
て用いた以外は、実施例38と同様にして電子写真感光
体を作成した。
8で製造したガリウムフタロシアニン結晶を電荷発生材
料として用いた他は、実施例38と同様にして電子写真
感光体を作成した。
成した電子写真感光体をレーザービームプリンター(商
品名:LBP−1760、キヤノン(株)製)を光量可
変にした改造機に設置して、暗部電位が−600(V)
になるように帯電設定し、これに波長780nmのレー
ザー光を照射して、−600(V)の電位を−140
(V)まで下げるのに必要な光量を測定し、感度とし
た。次に、温度35℃/湿度80%の高温高湿化での初
期画像評価を行った。以上の結果を表1にまとめた。
り生じる黒ポチ、カブリ等の画像欠陥の発生量を目視で
評価した値であり、○は黒ポチ、カブリの無い状態、△
はやや有り、×は有りを意味する。
生層のバインダー樹脂として用いたポリビニルブチラー
ル樹脂に代えて、ポリアリレート樹脂を用い膜厚0.1
1μmの電荷発生層を形成した以外は、実施例48と同
様にして電子写真感光体を作成した。
生層の膜厚を0.13μmに代えた以外は、実施例49
と同様にして電子写真感光体を作成した。
生層のバインダー樹脂として用いたポリビニルブチラー
ル樹脂に代えて、ベンザール樹脂を用いた以外は、実施
例58と同様にして電子写真感光体を作成した。
送材料に代えて下記構造式の化合物
以外は、実施例50と同様にして電子写真感光体を作成
した。
送材料に代えて下記構造式の化合物
以外は、実施例54と同様にして電子写真感光体を作成
した。
引き層を形成した後、実施例28で製造したヒドロキシ
ガリウムフタロシアニン結晶3.5部とポリビニルブチ
ラール樹脂(商品名:エスレックBM−S、積水化学工
業社製)1部をクロロベンゼン120部に添加し、1m
mφガラスビーズを用いたサンドミルで3時間分散し、
これに酢酸エチル120部を加えて希釈して電荷発生層
用塗工液を調製した。下引き層上に、この電荷発生層用
塗工液を浸漬塗布し、100℃で10分間乾燥して、膜
厚0.25μmの電荷発生層を形成した。
溶解し、電荷輸送層用塗料を調製した。電荷発生層上に
電荷輸送層用塗工液を浸漬塗布し、110℃で1時間乾
燥して、膜厚25μmの電荷輸送層を形成した。こうし
て電子写真感光体を作成した。
生層の膜厚を0.13μmに代えた以外は、比較例11
と同様にして電子写真感光体を作成した。
ービームプリンター(商品名:LBP−1760、キヤ
ノン(株)製)にて明部電位を−140Vになるように
電荷発生層の膜厚を調整して作成した電子写真感光体を
設置して、初期の明部電位を測定した後、連続5000
枚の通紙耐久試験を行って耐久後の明部電位の変動量Δ
Vlの測定を行った。以上の結果を表2に示した。ま
た、ΔVlにおける正記号は電位の上昇を表す。
るガリウムフタロシアニン化合物の製造法を提供するこ
とができ、及び該ガリウムフタロシアニン化合物を処理
して得られるガリウムフタロシアニン結晶を用いて長波
長の光源に対して極めて高い光感度を有し、繰り返し使
用時の電位変動が少なく、帯電性が良好で画像欠陥の無
い電子写真感光体を提供すること、及び該電子写真感光
体を用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提
供することが可能となった。
の概略構成図である。
トリッジを有する電子写真装置の概略構成図である。
トリッジを有する電子写真装置の概略構成図である。
トリッジを有する電子写真装置の概略構成図である。
Kα特性X線回折図である。
Kα特性X線回折図である。
Kα特性X線回折図である。
Kα特性X線回折図である。
Kα特性X線回折図である。
uKα特性X線回折図である。
uKα特性X線回折図である。
uKα特性X線回折図である。
uKα特性X線回折図である。
uKα特性X線回折図である。
uKα特性X線回折図である。
のCuKα特性X線回折図である。
uKα特性X線回折図である。
のCuKα特性X線回折図である。
のCuKα特性X線回折図である。
Claims (11)
- 【請求項1】 ガリウム化合物とフタロシアニン環を形
成する化合物を有機溶媒中で反応させてガリウムフタロ
シアニンを製造する工程において、ガリウム化合物と該
フタロシアニン環を形成する化合物との仕込み比が、該
フタロシアニン環形成化合物4モルに対してガリウム化
合物を1.2モル〜3.5モルであることを特徴とする
ガリウムフタロシアニン化合物の製造方法。 - 【請求項2】 前記有機溶媒がクロル化芳香族化合物で
ある請求項1に記載のガリウムフタロシアニン化合物の
製造方法。 - 【請求項3】 前記ガリウム化合物が三塩化ガリウムで
ある請求項1に記載のガリウムフタロシアニン化合物の
製造方法。 - 【請求項4】 前記フタロシアニン環を形成する化合物
がフタロニトリルである請求項1に記載のガリウムフタ
ロシアニン化合物の製造方法。 - 【請求項5】 前記ガリウムフタロシアニンを製造する
工程の反応温度が190℃〜210℃である請求項1に
記載のガリウムフタロシアニン化合物の製造方法。 - 【請求項6】 請求項1の製造方法によって得られたク
ロロガリウムフタロシアニンをミリング処理により結晶
変換させ、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角2
θ±0.2°の7.4°、16.6°、25.5°及び
28.3°に強いピークを有するクロロガリウムフタロ
シアニン結晶を得ることを特徴とするクロロガリウムフ
タロシアニン結晶の製造方法。 - 【請求項7】 請求項1において得られたガリウムフタ
ロシアニンをアシッドペースティング処理した後、ミリ
ング処理により結晶変換させ、CuKα特性X線回折に
おけるブラッグ角2θ±0.2°の7.4°及び28.
2°に強いピークを有するヒドロキシガリウムフタロシ
アニン結晶を得ることを特徴とするヒドロキシガリウム
フタロシアニン結晶の製造方法。 - 【請求項8】 導電性支持体上に感光層を有する電子写
真感光体において、該感光層に前記クロロガリウムフタ
ロシアニン結晶を含有することを特徴とする電子写真感
光体。 - 【請求項9】 導電性支持体上に感光層を有する電子写
真感光体において、該感光層に前記ヒドロキシガリウム
フタロシアニン結晶を含有することを特徴とする電子写
真感光体。 - 【請求項10】 請求項8又は9に記載の電子写真感光
体、該電子写真感光体を帯電させる帯電手段、静電潜像
の形成された電子写真感光体をトナーで現像する現像手
段、及び転写工程後の電子写真感光体上に残余するトナ
ーを回収するクリーニング手段からなる群より選ばれた
少なくとも一つの手段と共に一体に支持し、電子写真装
置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカー
トリッジ。 - 【請求項11】 請求項8又は9に記載の電子写真感光
体、該電子写真感光体を帯電させる帯電手段、帯電した
電子写真感光体に対し露光を行い静電潜像を形成する露
光手段、静電潜像の形成された電子写真感光体にトナー
で現像する現像手段、及び電子写真感光体上のトナー像
を転写材上に転写する転写手段を有することを特徴とす
る電子写真装置。
Priority Applications (1)
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Applications Claiming Priority (1)
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-
1999
- 1999-05-31 JP JP15162099A patent/JP4109796B2/ja not_active Expired - Fee Related
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