JP2000346238A - バルブ - Google Patents
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- JP2000346238A JP2000346238A JP11155540A JP15554099A JP2000346238A JP 2000346238 A JP2000346238 A JP 2000346238A JP 11155540 A JP11155540 A JP 11155540A JP 15554099 A JP15554099 A JP 15554099A JP 2000346238 A JP2000346238 A JP 2000346238A
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- valve
- gas
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/12—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
- F16K31/122—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a piston
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
- F16K3/02—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
- F16K3/0218—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with only one sealing face
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K41/00—Spindle sealings
- F16K41/10—Spindle sealings with diaphragm, e.g. shaped as bellows or tube
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
- Sliding Valves (AREA)
- Fluid-Driven Valves (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来のバルブは、バルブ本体のガス流路とな
る部分は防食対策が採られているが、その駆動機構側は
勿論のこと、駆動機構側をバルブ本体から遮断するシー
ル機構に関しても何等の防食対策が採られていないた
め、このシール機構等が腐食性ガスで腐食され、あるい
はシール機構等に反応生成物が付着されることによりバ
ルブの動作不良等生じる。 【解決手段】 本発明のバルブ１０は、バルブ本体１１
内を上下に移動してガス出入口１１Ａを開閉する弁体１
２と、この弁体１２を開閉駆動するためにバルブ本体１
１の貫通孔１１Ｂを貫通して弁体１２とバルブ本体１１
の外側のシリンダ１３を連結するロッド１４と、このロ
ッド１４と貫通孔１１Ｂの間の隙間を閉じるベローズ１
５とを備え、弁体１２による流路１１Ａの開放時にバル
ブ本体１１の内側から貫通孔１１Ｂを閉止する第２の弁
体１７をロッド１３に取り付けたことを特徴とする。
る部分は防食対策が採られているが、その駆動機構側は
勿論のこと、駆動機構側をバルブ本体から遮断するシー
ル機構に関しても何等の防食対策が採られていないた
め、このシール機構等が腐食性ガスで腐食され、あるい
はシール機構等に反応生成物が付着されることによりバ
ルブの動作不良等生じる。 【解決手段】 本発明のバルブ１０は、バルブ本体１１
内を上下に移動してガス出入口１１Ａを開閉する弁体１
２と、この弁体１２を開閉駆動するためにバルブ本体１
１の貫通孔１１Ｂを貫通して弁体１２とバルブ本体１１
の外側のシリンダ１３を連結するロッド１４と、このロ
ッド１４と貫通孔１１Ｂの間の隙間を閉じるベローズ１
５とを備え、弁体１２による流路１１Ａの開放時にバル
ブ本体１１の内側から貫通孔１１Ｂを閉止する第２の弁
体１７をロッド１３に取り付けたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、腐食性ガス及び／
または微粒子を含むガスが流れる配管に配設されるバル
ブに関し、更に詳しくは、耐食性、機能の持続性等を向
上させたバルブに関する。
または微粒子を含むガスが流れる配管に配設されるバル
ブに関し、更に詳しくは、耐食性、機能の持続性等を向
上させたバルブに関する。
【０００２】
【従来の技術】生産工場ではガスを給排するために種々
のガス配管が敷設されている。そして、ガス配管におけ
るガスの流量制御には多種類のバルブが用いられてい
る。特に腐食性ガスが流れるガス配管の流路には種々の
耐食性材料を用いるなどして様々な防食対策が施されて
いる。
のガス配管が敷設されている。そして、ガス配管におけ
るガスの流量制御には多種類のバルブが用いられてい
る。特に腐食性ガスが流れるガス配管の流路には種々の
耐食性材料を用いるなどして様々な防食対策が施されて
いる。
【０００３】例えば、半導体工場においても半導体ウエ
ハ等の被処理体を処理するために多くのプロセスガスが
用いられている。例えば、図３は成膜処理やエッチング
処理に用いられる処理装置を示す概念図である。図３に
示す処理装置は、例えば所定の真空雰囲気下で被処理体
に対して所定の処理を行う処理容器１と、処理容器１に
接続された複数のガス供給管２及びガス排気管３と、ガ
ス排気管３に取り付けられたバルブ４とを備え、複数の
ガス供給管２から複数種のプロセスガスを処理容器１内
へ供給し、処理容器１内で被処理体Ｗに対して所定の処
理を施した後、処理容器１内の未反応ガスや反応副生成
物等をガス排気管３から排気し、バルブ４を介して排気
流量を制御している。プロセスガスとしては腐食性ガス
が用いられることが多いため、処理容器１、ガス導入管
２、ガス排出管３及びバルブ４等のガス流路には万全の
防食対策が採られている。
ハ等の被処理体を処理するために多くのプロセスガスが
用いられている。例えば、図３は成膜処理やエッチング
処理に用いられる処理装置を示す概念図である。図３に
示す処理装置は、例えば所定の真空雰囲気下で被処理体
に対して所定の処理を行う処理容器１と、処理容器１に
接続された複数のガス供給管２及びガス排気管３と、ガ
ス排気管３に取り付けられたバルブ４とを備え、複数の
ガス供給管２から複数種のプロセスガスを処理容器１内
へ供給し、処理容器１内で被処理体Ｗに対して所定の処
理を施した後、処理容器１内の未反応ガスや反応副生成
物等をガス排気管３から排気し、バルブ４を介して排気
流量を制御している。プロセスガスとしては腐食性ガス
が用いられることが多いため、処理容器１、ガス導入管
２、ガス排出管３及びバルブ４等のガス流路には万全の
防食対策が採られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
バルブは、一般に、バルブ本体と、バルブ本体内でガス
流路を開閉する弁体と、弁体の駆動機構とを備え、バル
ブ本体のガス流路となる部分は防食対策が採られている
が、駆動機構は勿論のこと、駆動機構側をバルブ本体か
ら遮断するシール機構に対しても何等の防食対策が採ら
れていないため、このシール機構がプロセスガスや反応
生成物等の腐食性ガスで腐食され、ひいてはこの部分か
ら真空破壊が生じるという課題があった。また、ガス排
気管３を流れる副生成物の中にはパーティクルもあり、
このパーティクルがシール機構に詰まり、弁体の動作不
良を招いたり、真空破壊を招いたりすることがあった。
バルブは、一般に、バルブ本体と、バルブ本体内でガス
流路を開閉する弁体と、弁体の駆動機構とを備え、バル
ブ本体のガス流路となる部分は防食対策が採られている
が、駆動機構は勿論のこと、駆動機構側をバルブ本体か
ら遮断するシール機構に対しても何等の防食対策が採ら
れていないため、このシール機構がプロセスガスや反応
生成物等の腐食性ガスで腐食され、ひいてはこの部分か
ら真空破壊が生じるという課題があった。また、ガス排
気管３を流れる副生成物の中にはパーティクルもあり、
このパーティクルがシール機構に詰まり、弁体の動作不
良を招いたり、真空破壊を招いたりすることがあった。
【０００５】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、バルブ本体を駆動機構側から遮断するシー
ル機構や駆動機構の腐食を確実に防止したり、ガス中に
微粒子が含まれている場合にはパーティクルに起因する
動作不良を確実に防止することができ、ひいては配管系
の真空破壊やガス漏れを生じる虞がないバルブを提供す
ることを目的としている。
れたもので、バルブ本体を駆動機構側から遮断するシー
ル機構や駆動機構の腐食を確実に防止したり、ガス中に
微粒子が含まれている場合にはパーティクルに起因する
動作不良を確実に防止することができ、ひいては配管系
の真空破壊やガス漏れを生じる虞がないバルブを提供す
ることを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
のバルブは、腐食性ガスまたは微粒子を含むガスが流れ
る配管に配設されるバルブにおいて、バルブ本体と、こ
のバルブ本体内でガス出入口を開閉する弁体と、この弁
体を開閉駆動するために上記バルブ本体の貫通孔を貫通
して上記弁体と上記バルブ本体外側の駆動機構を連結す
るロッドと、このロッドと上記貫通孔の間の隙間を閉じ
るシール機構とを備え、上記弁体による上記流路の開放
時に上記バルブ本体の内側から上記貫通孔を閉止する第
２の弁体を上記ロッドに取り付けたことを特徴とするも
のである。
のバルブは、腐食性ガスまたは微粒子を含むガスが流れ
る配管に配設されるバルブにおいて、バルブ本体と、こ
のバルブ本体内でガス出入口を開閉する弁体と、この弁
体を開閉駆動するために上記バルブ本体の貫通孔を貫通
して上記弁体と上記バルブ本体外側の駆動機構を連結す
るロッドと、このロッドと上記貫通孔の間の隙間を閉じ
るシール機構とを備え、上記弁体による上記流路の開放
時に上記バルブ本体の内側から上記貫通孔を閉止する第
２の弁体を上記ロッドに取り付けたことを特徴とするも
のである。
【０００７】また、本発明の請求項２に記載のバルブ
は、請求項１に記載の発明において、上記シール機構が
ベローズからなることを特徴とするものである。
は、請求項１に記載の発明において、上記シール機構が
ベローズからなることを特徴とするものである。
【０００８】また、本発明の請求項３に記載のバルブ
は、請求項１に記載の発明において、上記シール機構が
Ｏリングからなることを特徴とするものである。
は、請求項１に記載の発明において、上記シール機構が
Ｏリングからなることを特徴とするものである。
【０００９】また、本発明の請求項４に記載のバルブ
は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の発明に
おいて、上記バルブ本体の内面または第２の弁体の上記
バルブ本体との接触面に上記貫通孔を遮断するシール部
材を設けたことを特徴とするものである。
は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の発明に
おいて、上記バルブ本体の内面または第２の弁体の上記
バルブ本体との接触面に上記貫通孔を遮断するシール部
材を設けたことを特徴とするものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図１、図２に示す実施形態
に基づいて本発明を説明する。本発明のバルブは種々の
ガス配管に取り付けて使用されるが、本実施形態では例
えば図３に示す処理装置のガス排出管に取り付けて使用
する場合について説明する。
に基づいて本発明を説明する。本発明のバルブは種々の
ガス配管に取り付けて使用されるが、本実施形態では例
えば図３に示す処理装置のガス排出管に取り付けて使用
する場合について説明する。
【００１１】本実施形態のバルブ１０は、図１に示すよ
うに、薄い矩形状に形成されたバルブ本体１１と、バル
ブ本体１１内を上下に移動してガス出入口１１Ａを開閉
する弁体１２と、この弁体１２を開閉駆動するためにバ
ルブ本体１１の貫通孔１１Ｂを貫通して弁体１２とバル
ブ本体１１の外側の駆動機構（本実施形態ではシリン
ダ）１３を連結するロッド１４と、このロッド１４と貫
通孔１１Ｂの間の隙間を閉じるシール機構（本実施形態
ではベローズ）１５とを備え、ベローズ１５を介してバ
ルブ本体１１内の気密が保持された仕切弁として構成さ
れている。そして、ベローズ１５はシリンダ１３側に形
成された収納部１６内に収納されている。このベローズ
１５の上端はロッド１４に連結され、その下端は収納部
１６内の取付部材１６Ａに連結されている。
うに、薄い矩形状に形成されたバルブ本体１１と、バル
ブ本体１１内を上下に移動してガス出入口１１Ａを開閉
する弁体１２と、この弁体１２を開閉駆動するためにバ
ルブ本体１１の貫通孔１１Ｂを貫通して弁体１２とバル
ブ本体１１の外側の駆動機構（本実施形態ではシリン
ダ）１３を連結するロッド１４と、このロッド１４と貫
通孔１１Ｂの間の隙間を閉じるシール機構（本実施形態
ではベローズ）１５とを備え、ベローズ１５を介してバ
ルブ本体１１内の気密が保持された仕切弁として構成さ
れている。そして、ベローズ１５はシリンダ１３側に形
成された収納部１６内に収納されている。このベローズ
１５の上端はロッド１４に連結され、その下端は収納部
１６内の取付部材１６Ａに連結されている。
【００１２】しかし、上述のままではベローズ１５はバ
ルブ本体１１内を流れるプロセスガスに曝され、プロセ
スガスが腐食性ガスであればベローズ１５がプロセスガ
スによって腐食される。そこで、本実施形態では、バル
ブ本体１１のガス出入口１１Ａが開放されてプロセスガ
スがバルブ本体１１内を流れる時にはバルブ本体１１の
貫通孔１１Ｂを閉止し、ベローズ１５以遠をバルブ本体
１１から遮断し、プロセスガスがベローズ１５側へ到達
しないようにしてある。
ルブ本体１１内を流れるプロセスガスに曝され、プロセ
スガスが腐食性ガスであればベローズ１５がプロセスガ
スによって腐食される。そこで、本実施形態では、バル
ブ本体１１のガス出入口１１Ａが開放されてプロセスガ
スがバルブ本体１１内を流れる時にはバルブ本体１１の
貫通孔１１Ｂを閉止し、ベローズ１５以遠をバルブ本体
１１から遮断し、プロセスガスがベローズ１５側へ到達
しないようにしてある。
【００１３】即ち、上記ロッド１４には所定形状のプレ
ートが第２の弁体１７として取り付けられている。第２
の弁体１７は弁体１２によってバルブ本体１１のガス出
入口１１Ａを開放した時にバルブ本体１１の内面に密着
して貫通孔１１Ｂを閉止する位置に取り付けられてい
る。バルブ本体１１の内面には貫通孔１１Ｂを囲む溝１
１Ｃが形成され、この溝１１Ｃに対してＯリング１８が
装着されている。従って、第２の弁体１７が貫通孔１１
Ｂを閉じるとＯリング１８を介してベローズ１５をバル
ブ本体１１側からより確実に遮断し、プロセスガスがベ
ローズ１５に到達しないようになっている。
ートが第２の弁体１７として取り付けられている。第２
の弁体１７は弁体１２によってバルブ本体１１のガス出
入口１１Ａを開放した時にバルブ本体１１の内面に密着
して貫通孔１１Ｂを閉止する位置に取り付けられてい
る。バルブ本体１１の内面には貫通孔１１Ｂを囲む溝１
１Ｃが形成され、この溝１１Ｃに対してＯリング１８が
装着されている。従って、第２の弁体１７が貫通孔１１
Ｂを閉じるとＯリング１８を介してベローズ１５をバル
ブ本体１１側からより確実に遮断し、プロセスガスがベ
ローズ１５に到達しないようになっている。
【００１４】次に、動作について説明する。処理装置が
稼働する時には、まずバルブ１０が閉じた状態で真空引
きを行い、バルブ本体１１、ベローズ１５内の大気を排
気する。次いで、ガス排出管のバルブ１０を開放する。
バルブ１０を開放する時にシリンダ１３が駆動すると、
ロッド１４を介して弁体１２が仮想線位置から実線位置
まで移動してバルブ本体１１のガス出入口１１Ａを開放
すると共に、第２の弁体１７でバルブ本体１１の貫通孔
１１Ｂを密閉する。この状態で処理容器内を所定の真空
度まで真空引きした後、ガス供給管からプロセスガスを
供給し、処理容器内で被処理体Ｗに対して所定の処理を
施すと、ガス排出管を介して未反応のプロセスガス、副
生成物等のガス及びパーティクルが排気ガスとして排出
され、バルブ本体１１内を通過する。
稼働する時には、まずバルブ１０が閉じた状態で真空引
きを行い、バルブ本体１１、ベローズ１５内の大気を排
気する。次いで、ガス排出管のバルブ１０を開放する。
バルブ１０を開放する時にシリンダ１３が駆動すると、
ロッド１４を介して弁体１２が仮想線位置から実線位置
まで移動してバルブ本体１１のガス出入口１１Ａを開放
すると共に、第２の弁体１７でバルブ本体１１の貫通孔
１１Ｂを密閉する。この状態で処理容器内を所定の真空
度まで真空引きした後、ガス供給管からプロセスガスを
供給し、処理容器内で被処理体Ｗに対して所定の処理を
施すと、ガス排出管を介して未反応のプロセスガス、副
生成物等のガス及びパーティクルが排気ガスとして排出
され、バルブ本体１１内を通過する。
【００１５】この際、バルブ本体１１内が排気ガスで充
満してもベローズ１５は第２の弁体１７によってバルブ
本体１１から遮断されているため、排気ガスがベローズ
１５側に廻り込む虞はない。従って、排気ガス中に腐食
性ガスが含まれていてもベローズ１５が腐食される虞は
なく、また、反応生成物の付着も発生せず、ひいてはベ
ローズ１５に腐食に起因する真空破壊を生じる虞もな
く、況してベローズ１５以遠のシリンダ１３が腐食され
る虞もない。
満してもベローズ１５は第２の弁体１７によってバルブ
本体１１から遮断されているため、排気ガスがベローズ
１５側に廻り込む虞はない。従って、排気ガス中に腐食
性ガスが含まれていてもベローズ１５が腐食される虞は
なく、また、反応生成物の付着も発生せず、ひいてはベ
ローズ１５に腐食に起因する真空破壊を生じる虞もな
く、況してベローズ１５以遠のシリンダ１３が腐食され
る虞もない。
【００１６】以上説明したように本実施形態によれば、
弁体１２によるガス出入口１１Ａの開放時にバルブ本体
１１の内側から貫通孔１１Ｂを閉止する第２の弁体１７
をロッド１４に取り付けたため、バルブ本体１１内をガ
スが流れる時には貫通孔１１Ｂを閉止してベローズ１５
をガスから遮断することができ、腐食性ガスが流れる場
合にはベローズ１５を防食することができると共に反応
生成物の付着を防止することができ、ひいてはガス排出
管の真空破壊を防止することができる。また、バルブ本
体１１の内面には貫通孔１１Ｂを囲むＯリング１８が装
着されているため、第２の弁体１７で貫通孔１１Ｂを閉
止した時にＯリング１８を介してバルブ本体１１内をベ
ローズ１５側からより確実に遮断することができる。
弁体１２によるガス出入口１１Ａの開放時にバルブ本体
１１の内側から貫通孔１１Ｂを閉止する第２の弁体１７
をロッド１４に取り付けたため、バルブ本体１１内をガ
スが流れる時には貫通孔１１Ｂを閉止してベローズ１５
をガスから遮断することができ、腐食性ガスが流れる場
合にはベローズ１５を防食することができると共に反応
生成物の付着を防止することができ、ひいてはガス排出
管の真空破壊を防止することができる。また、バルブ本
体１１の内面には貫通孔１１Ｂを囲むＯリング１８が装
着されているため、第２の弁体１７で貫通孔１１Ｂを閉
止した時にＯリング１８を介してバルブ本体１１内をベ
ローズ１５側からより確実に遮断することができる。
【００１７】図２は本発明の他の実施形態のバルブの要
部を示す図である。本実施形態のバルブ２０は、図２に
示すように、薄い矩形状に形成されたバルブ本体２１
と、バルブ本体２１内を上下に移動してガス出入口２１
Ａを開閉する弁体２２と、この弁体２２を開閉駆動する
ためにバルブ本体１１の貫通孔１１Ｂを貫通して弁体２
２とバルブ本体２１の外側の駆動機構（図示せず）を連
結するロッド２４と、このロッド２４と貫通孔２１Ｂの
間の隙間を閉じるシール機構（本実施形態ではＯリン
グ）１５とを備え、Ｏリング２５を介してバルブ本体１
１内の気密が保持された仕切弁として構成されている。
また、駆動機構側の隔壁２６にはロッド２４が貫通する
貫通孔２６Ａが形成されている。この貫通孔２６Ａの内
周面には全周に渡って溝２６Ｂが形成され、この溝２６
Ｂに上記Ｏリング２５が装着されている。従って、弁体
２２で流路２１Ａを開閉操作する時には、ロッド２３が
Ｏリング２５を摺動し、バルブ本体２１内の気密を保持
するようになっている。
部を示す図である。本実施形態のバルブ２０は、図２に
示すように、薄い矩形状に形成されたバルブ本体２１
と、バルブ本体２１内を上下に移動してガス出入口２１
Ａを開閉する弁体２２と、この弁体２２を開閉駆動する
ためにバルブ本体１１の貫通孔１１Ｂを貫通して弁体２
２とバルブ本体２１の外側の駆動機構（図示せず）を連
結するロッド２４と、このロッド２４と貫通孔２１Ｂの
間の隙間を閉じるシール機構（本実施形態ではＯリン
グ）１５とを備え、Ｏリング２５を介してバルブ本体１
１内の気密が保持された仕切弁として構成されている。
また、駆動機構側の隔壁２６にはロッド２４が貫通する
貫通孔２６Ａが形成されている。この貫通孔２６Ａの内
周面には全周に渡って溝２６Ｂが形成され、この溝２６
Ｂに上記Ｏリング２５が装着されている。従って、弁体
２２で流路２１Ａを開閉操作する時には、ロッド２３が
Ｏリング２５を摺動し、バルブ本体２１内の気密を保持
するようになっている。
【００１８】上記ロッド２３には上記実施形態と同様の
第２の弁体２７が取り付けられ、弁体２２によってバル
ブ本体２１のガス出入口２１Ａを開放した時に第２の弁
体２７によってバルブ本体２１の貫通孔２１Ｂを閉止す
るようにしてある。バルブ本体２１には上記実施形態と
同様に貫通孔２１Ｂを囲む溝２１Ｃ内にＯリング２８が
装着されている。
第２の弁体２７が取り付けられ、弁体２２によってバル
ブ本体２１のガス出入口２１Ａを開放した時に第２の弁
体２７によってバルブ本体２１の貫通孔２１Ｂを閉止す
るようにしてある。バルブ本体２１には上記実施形態と
同様に貫通孔２１Ｂを囲む溝２１Ｃ内にＯリング２８が
装着されている。
【００１９】従って、本実施形態においてもバルブ本体
２１内が排気ガスで充満してもＯリング２５は第２の弁
体２７によってバルブ本体２１から遮断されているた
め、排気ガスが駆動機構側の隔壁２６の貫通孔２６Ａに
到達することがない。従って、排気ガス中に腐食性ガス
やパーティクルが含まれていてもＯリング２５が腐食さ
れる虞はなく、Ｏリング２５の腐食や反応生成物の付着
に起因する真空破壊を生じる虞もない。また、貫通孔２
６ＡやＯリング２５にパーティクルが付着しないため、
ロッド２３が摺動する際にパーティクルがロッド２３と
Ｏリング２５間に詰まる虞がなく、パーティクルの詰ま
りに起因する真空破壊や動作不良を生じる虞もない。
２１内が排気ガスで充満してもＯリング２５は第２の弁
体２７によってバルブ本体２１から遮断されているた
め、排気ガスが駆動機構側の隔壁２６の貫通孔２６Ａに
到達することがない。従って、排気ガス中に腐食性ガス
やパーティクルが含まれていてもＯリング２５が腐食さ
れる虞はなく、Ｏリング２５の腐食や反応生成物の付着
に起因する真空破壊を生じる虞もない。また、貫通孔２
６ＡやＯリング２５にパーティクルが付着しないため、
ロッド２３が摺動する際にパーティクルがロッド２３と
Ｏリング２５間に詰まる虞がなく、パーティクルの詰ま
りに起因する真空破壊や動作不良を生じる虞もない。
【００２０】尚、上記各実施形態ではシリンダ及びロッ
ドを介して弁体を駆動する仕切弁を例に挙げて説明した
が、操作用のロッドがバルブ本体を貫通している全ての
バルブに対して本発明を適用することができ、また、シ
リンダ及びロッド以外の駆動機構及び動力伝達機構を用
いたバルブについても本発明を適用することができる。
また、上記各実施形態では半導体工場の処理装置の減圧
下の配管に適用されたバルブについて説明したが、その
他、ガスを圧送するガス配管に取り付けられるバルブに
ついて広く適用することができる。
ドを介して弁体を駆動する仕切弁を例に挙げて説明した
が、操作用のロッドがバルブ本体を貫通している全ての
バルブに対して本発明を適用することができ、また、シ
リンダ及びロッド以外の駆動機構及び動力伝達機構を用
いたバルブについても本発明を適用することができる。
また、上記各実施形態では半導体工場の処理装置の減圧
下の配管に適用されたバルブについて説明したが、その
他、ガスを圧送するガス配管に取り付けられるバルブに
ついて広く適用することができる。
【００２１】
【発明の効果】本発明の請求項１〜請求項４に記載の発
明によれば、バルブ本体を駆動機構側から遮断するシー
ル機構や駆動機構の腐食を確実に防止したり、ガス中に
微粒子が含まれている場合にはパーティクルに起因する
動作不良を確実に防止することができ、ひいては配管系
の真空破壊やガス漏れを生じる虞がないバルブを提供す
ることができる。
明によれば、バルブ本体を駆動機構側から遮断するシー
ル機構や駆動機構の腐食を確実に防止したり、ガス中に
微粒子が含まれている場合にはパーティクルに起因する
動作不良を確実に防止することができ、ひいては配管系
の真空破壊やガス漏れを生じる虞がないバルブを提供す
ることができる。
【図１】本発明のバルブの一実施形態の要部を中心に概
念的に示す断面図である。
念的に示す断面図である。
【図２】本発明のバルブの他の実施形態の要部を示す断
面図である。
面図である。
【図３】半導体ウエハ等の処理装置を示す概念図であ
る。
る。
１０、２０ バルブ １１、２１ バルブ本体 １１Ａ、２１Ａ 流路 １１Ｂ、２１Ｂ 貫通孔 １２、２２ 弁体 １３ シリンダ １４、２４ ロッド １５ ベローズ（シール機構） １７、２７ 第２の弁体 １８、２８ Ｏリング（シール部材） ２５ Ｏリング（シール機構）
Claims (4)
- 【請求項１】 腐食性ガス及び／または微粒子を含むガ
スが流れる配管に配設されるバルブにおいて、バルブ本
体と、このバルブ本体内でガス出入口を開閉する弁体
と、この弁体を開閉駆動するために上記バルブ本体の貫
通孔を貫通して上記弁体と上記バルブ本体外側の駆動機
構を連結するロッドと、このロッドと上記貫通孔の間の
隙間を閉じるシール機構とを備え、上記弁体による上記
流路の開放時に上記バルブ本体の内側から上記貫通孔を
閉止する第２の弁体を上記ロッドに取り付けたことを特
徴とするバルブ。 - 【請求項２】 上記シール機構がベローズからなること
を特徴とする請求項１に記載のバルブ。 - 【請求項３】 上記シール機構がＯリングからなること
を特徴とする請求項１に記載のバルブ。 - 【請求項４】 上記バルブ本体の内面または第２の弁体
の上記バルブ本体との接触面に上記貫通孔を遮断するシ
ール部材を設けたことを特徴とする請求項１〜請求項３
のいずれか１項に記載のバルブ。
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