JP2000346307A

JP2000346307A - 火力プラントとその運転管理方法

Info

Publication number: JP2000346307A
Application number: JP11158227A
Authority: JP
Inventors: Mamoru Hirota; 広田　　守; Hiroshi Yamauchi; 博史山内; Takeshi Kanbayashi; 剛神林; Shigeto Murata; 重人村田; Nobuo Shimono; 展雄下野
Original assignee: Babcock Hitachi KK; Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Mitsubishi Power Ltd
Priority date: 1999-06-04
Filing date: 1999-06-04
Publication date: 2000-12-15
Anticipated expiration: 2019-06-04
Also published as: JP3992881B2

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、ボイラ循環水系への脱酸素剤の注入
量を腐食電位を測定することで必要な脱酸素剤濃度を明
らかにし、その結果を用いて脱酸素剤の注入量を決定で
きる耐腐食性に優れた火力プラントとその運転管理方法
を提供する。【解決手段】ボイラ、タービン及び覆水器を含む水循環
系を有する火力プラントにおいて、ボイラ水あるいは給
水と接している金属の腐食電位を測定する手段及びヒド
ラジンよりも低毒性の脱酸素剤の濃度が前記金属の脱気
時の腐食電位よりも低くなるように調整する手段を有す
る火力プラント、及びボイラ水あるいは給水と接してい
る金属の腐食電位を参照電極と電位差計を用いて測定
し、ヒドラジンより分子量が大きく、タンニンよりも分
子量が小さく水中で酸素と反応する脱酸素剤の濃度が前
記金属の脱気時の腐食電位よりも低くなるように調整す
る手段を有する火力プラントの運転管理方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は発電用プラント等の
ボイラを含む密閉系の循環水の酸素を取り除くために、
循環水へ脱酸素剤を添加する水処理手段を用いた火力プ
ラントとその運転管理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ボイラへの脱酸素剤の添加は、給水ある
いはボイラ水の酸素濃度を測定しそれに必要な理論的な
脱酸素剤量の数倍のを添加している。また、日本工業規
格ＪＩＳ-Ｂ８２２３はボイラ水の水質分析から酸素と
未反応な脱酸素剤の濃度をある一定値以上で、循環水の
水流が停止する保管時には運転時よりもはるかに高い脱
酸素剤の濃度とするように推奨している。

【０００３】また、特開平１０―３２５５０８号公報に
はボイラ給水に特開平６―１０９２０７号公報には亜燐
酸系の脱酸素剤を注入する方法の開示がある。特開平５
―９８４７６号公報には金属と水とが接触している系に
おいて、該金属の自然電位をモニタリングしてその値が
孔食電位未満になるように該系に腐食抑制剤を添加する
金属の腐食方法が開示されている。

【０００４】また、特開平６―１０９２０７号公報には
ボイラ給水にヒドラジンを０．５〜１．５ｐｐｍ注入す
る方法が開示されている。

【０００５】また、特開平６―１０９２０７号公報には
亜燐酸塩又は次亜燐酸塩と、白金の錯体とからなる脱酸
素剤が開示されているが、脱酸素剤を注入する時の濃度
管理に関する開示はない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ボイラ運転時において
脱酸素剤の添加量は過去の経験から理論的に必要な量の
数倍を用いており、低価格化の一つの障害となってい
る。

【０００７】また、ボイラが運転停止した状態でのボイ
ラ保管時には運転時以上に高い脱酸素剤の濃度でボイラ
の管理がなされている。それはボイラ保管時に循環水が
静止した状態で、脱酸素剤の濃度の把握が難しくなるた
め、脱酸素剤の不足による事故予防のために多量の脱酸
素剤を添加し酸素リークに対応している。これはボイ
ラ内に予想以上の酸素が混入する事態が発生した場合、
理論上必要とされる一定量の脱酸素剤の添加では脱酸素
剤が全て消費された後の残存酸素による腐食が発生する
ことがあるためである。

【０００８】現在、脱酸素剤としてはヒドラジンが主に
用いられている。ヒドラジンは毒性（ラットのＬＤ_５０
が５９ｍｇ／ｋｇ）が強く安全衛生の観点からプラント
設計等に制約を受ける。

【０００９】さらに、多量のヒドラジンを添加するとヒ
ドラジンは高温で分解してアンモニアを生成し、復水経
路に高濃度のアンモニアを含有することになりｐＨが上
昇し、復水器の銅系材料の腐食が加速される。

【００１０】近年、該ヒドラジンに代わる各種の脱酸素
剤が開発されている。しかし、それらの中には酸素との
反応が複雑で、酸素と反応した後の物質濃度に基ずき、
添加する脱酸素剤の濃度を管理することが困難な場合が
多い。

【００１１】例えば、エルソルビン酸等は高温で分解し
炭酸や硝酸等を生成しｐＨを低下させる。

【００１２】したがって、ヒドラジン代替えの脱酸素剤
には安全衛生上の問題が少なく、かつ低価格で脱酸素剤
の添加量を必要最小限にする管理方法が求められてい
る。

【００１３】本発明の目的は、ボイラ循環水系への脱酸
素剤の注入量を腐食電位を測定することで必要な脱酸素
剤濃度を明らかにし、その結果を用いてより腐食の少な
い火力プラントとその管理方法を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、ボイラ、ター
ビン及び覆水器を含む水循環系を有する火力プラントに
おいて、ボイラ水あるいは給水と接している金属の腐食
電位を測定する手段、ヒドラジンよりも低毒性、好まし
くはラットのＬＤ_５０が１００ｍｇ／ｋｇ以上の脱酸素
剤の濃度が前記金属の脱気時の腐食電位よりも低くなる
ように脱酸素剤の濃度を調整する手段を有することを特
徴とする火力プラントにある。

【００１５】また、本発明は、ボイラ、タービン及び覆
水器を含む水循環系を有する火力プラントの運転管理方
法において、ボイラ水あるいは給水と接している金属の
腐食電位を参照電極と電位差計を用いて測定し、ヒドラ
ジンより分子量が大きく、タンニンよりも分子量が小さ
く水中で酸素と反応する脱酸素剤の濃度が前記金属の脱
気時の腐食電位よりも低くなるように脱酸素剤の濃度を
調整することを特徴とする火力プラントの運転管理方法
にある。

【００１６】前記の火力プラントの運転管理方法はボイ
ラの運転時あるいは循環水流が停止した保管時に水質を
管理することを特徴とする。

【００１７】前述の発明において、前記脱酸素剤の添加
量を調整する手段が、ボイラ水あるいは給水と接してい
る金属の腐食電位を参照電極と電位差計を用いて測定
し、該腐食電位と未反応な該脱酸素剤の濃度の関係から
所定の該脱酸素剤の濃度に相当する腐食電位になるよう
に該脱酸素剤の添加量を制御、あるいは監視すること、
前記金属の脱気時の腐食電位は、ボイラ水あるいは給水
と接している金属の腐食電位を脱酸素剤を注入しない状
態で定期的に測定する手段、又は常時脱気時の腐食電位
は脱塩器出口又は脱気器出口の脱酸素剤を含まない給水
と接する部分の腐食電位を測定する手段を用いて測定す
る手段を用いること、又は脱塩器出口の給水にアンモニ
アを注入し、ボイラ水又は給水と接している金属の腐食
電位を参照電極と電位差計を用いて測定する部分と同等
の温度に制御し測定すること、前記脱酸素剤は、亜硫酸
塩、亜硫酸水素塩、ピロ亜硫酸塩、亜リン酸塩、メチル
エチルケトオキシム、エリソルビン酸、ジエチルヒドロ
キシルアミン、ハイドロキノン、カルボン酸アミン塩、
糖類の中から選ばれる化合物であって、該化合物はヒド
ラジンより分子量が大きく、タンニンよりも分子量が小
さく水中で酸素と反応する化合物であることを特徴とす
る火力プラントの運転管理方法である。

【００１８】また、本発明はボイラ、タービン及び覆水
器を含む水循環系を有する火力プラントにおいて、ボイ
ラ水あるいは給水と接している金属の腐食電位を測定す
る手段及び前記金属の腐食電位を該金属の脱気時の腐食
電位よりも低くなるように調整する脱酸素剤添加手段を
有することを特徴とする火力プラントにある。

【００１９】また、本発明はボイラ、タービン及び覆水
器を含む水循環系を有する火力プラントの運転管理方法
において、ボイラ水あるいは給水と接している金属の腐
食電位を参照電極と電位差計を用いて測定し、前記金属
の腐食電位を該金属の脱気時の腐食電位よりも低くなる
ように脱酸素剤の添加量を調整することを特徴とする火
力プラントの運転管理方法にある。

【００２０】

【発明の実施の形態】図２は本発明の火力プラントにお
ける腐食電位の測定位置を示す系統図である。

【００２１】本発明において、腐食電位を測定する場
合、腐食電位の測定位置は給水系では脱酸素剤の添加位
置より下流側に設けることが好ましく、脱気器４が或る
ボイラでは３箇所（５、６、７）に設けることが好ま
しい。

【００２２】すなわち、復水器３より下流で脱酸素剤が
添加された下流側で脱気器４手前の腐食電位測定位置５
にて測定する方法、脱気器４より下流でボイラ１手前の
腐食電位測定位置６で測定する方法、ボイラ１内の腐食
電位測定位置７で測定する方法がある。

【００２３】また、各腐食電位測定位置の手前には脱気
時の腐食電位測定位置８，９，１０がありその下流側に
脱酸素剤の注入ラインに取り付けられた脱酸素剤注入用
バルブ１１，１２，１３があり、その場所それぞれに脱
酸素剤制御装置１４，１５，１６を設置し脱酸素剤の注
入量を制御する。

【００２４】また、ボイラ１は運転時と同様に保管時に
も脱酸素剤の添加がなされる。一般に保管時は水の循環
がない静止保管となるが、腐食電位の測定は水の流動が
なくても測定は可能であり、ボイラ停止保管時にも脱酸
素剤の濃度の制御や監視も可能である。

【００２５】上記の５、６、７のそれぞれの位置におい
て腐食電位あるいは脱気時の腐食電位を測定する場合に
は、例えば次の方法がある。プラントの配管等の電位を
直接測定する方法、給水等を採取し所定の水質や温度に
調整した後に測定する方法である。

【００２６】図３は循環水経路の配管１７の腐食電位を
直接測定する方法の概略図である。

【００２７】配管１７などに参照電極１８を取り付け近
傍の配管等１７の腐食電位を電位差計１９で測定する方
法である。参照電極１８には外部参照電極や内部参照電
極があり、水素標準電位に変換できる標準電極ならどれ
でも良い。測定した腐食電位の信号は脱酸素剤の添加量
を制御する制御装置や監視する場所へ送られる。この方
法は運転時及び保管時に適用可能である。

【００２８】図４は給水等のサンプル水を採取し所定の
環境に制御し測定する方法の概略図である。

【００２９】図４は測定箇所のサンプル水を取り出し圧
力容器２０内で金属の腐食電位を測定する方法である。
図３の方法が不可能な場合は、測定したいボイラ水ある
いは給水を抽出し圧力容器２０に導き試験片２２の腐食
電位を参照電極２１と電位差計２３を用いて測定する。
電位差計２３で測定した信号は脱酸素剤の添加量の制御
や監視する制御装置へ送られる。この方法はボイラ運転
時及び保管時に適用可能である。ボイラの停止保管時に
適用するには圧力容器２０内のサンプル水をボイラ水と
同様な水質にするため、ポンプ等をとりつけサンプル水
を循環させる必要がある。ここで、試験片２２の材質は
高温水中で腐食電位が測定できるものであればよく、特
に限定されない。

【００３０】本発明によれば、ボイラ水あるいは給水に
接する金属の腐食電位を測定し、その電位を脱気時の腐
食電位よりも低く管理する。詳しくは、脱気時と脱酸素
剤添加時の電位差の関係から、脱酸素剤を適切な濃度で
ボイラの運転管理することでボイラの酸素による腐食を
抑制するボイラの運転管理方法である。

【００３１】また、脱酸素剤を過多なく脱酸素剤を添加
し、余剰な脱酸素剤のコストを抑制、脱酸素剤と酸素の
反応が複雑な場合や、異なる種類の脱酸素剤を混合して
添加した場合などに、未反応物質濃度の管理が難しい場
合も脱気時と脱酸素剤添加時の電位差の関係から、未反
応の脱酸素剤濃度を腐食電位で管理することができる。

【００３２】さらに、ボイラ静止保管時に脱酸素剤濃度
の把握が従来困難であったが、配管等の腐食電位を停止
時に測定することで可能となり、従来非常に高濃度な脱
酸素剤が添加されていたが、それを削減することができ
脱酸素剤による価格を抑制できる。この時、使用される
脱酸素剤は水中で酸素と反応し脱気時よりも腐食電位が
低下する物質は全て適用できる。

【００３３】これらに対し、本発明である腐食電位を脱
気時の腐食電位よりも低くし運転することで、脱酸素剤
の反応が複雑であっても腐食電位で脱酸素剤の濃度を制
御して対応できる。

【００３４】また、何かの原因でボイラ内に酸素のリー
クが発生しボイラ水の酸素濃度が高くなっても、腐食電
位を管理することによりすぐに脱酸素剤の添加量を増す
ことで対応でき、酸素による腐食を回避できる。

【００３５】金属の腐食電位を測定することで循環水系
の水の酸化雰囲気あるいは還元雰囲気を検知することが
できる。純水を不活性なガスで置換した環境で測定した
腐食電位と酸素などの酸化作用のある物質が存在する場
合、腐食電位は貴側に変化する。逆にヒドラジンなどの
還元作用のある物質が存在する場合は卑側に変化する。

【００３６】ボイラの水処理に酸素除去を目的として使
用されているあらゆる脱酸素剤は金属の腐食電位を脱気
時の腐食電位よりも低くする効果がある。

【００３７】本発明で脱酸素剤濃度と脱気時と脱酸素剤
添加時の腐食電位差の関係から、目的とする脱酸素剤濃
度に腐食電位を監視して添加量を制御することができ
る。

【００３８】さらに、酸化剤となる溶存酸素が微量でも
存在すると著しく腐食電位は上昇し、脱酸素剤が不足し
ていることが瞬時に検知可能でより安全な運転管理が可
能となる。つまり、ボイラの運転時及び保管時にボイラ
水あるいは給水に接する配管等の腐食電位を測定するこ
とで、適正な脱酸素濃度に制御あるいは監視できるボイ
ラ運転管理方法を提供できる。

【００３９】本発明において、ヒドラジンよりも低毒性
であるラットのＬＤ_５０が１００ｍｇ／ｋｇ以上の脱酸
素剤としては、例えばメチルケチルオキシム：ＬＤ_５０
が３１００ｍｇ／ｋｇ、ジヒドロキシルアミン：ＬＤ
_５０が２１９０ｍｇ／ｋｇ及び亜硫酸ナトリウム：毒性
無し、等が挙げられる。

【００４０】

【実施例１〜６】及び

【比較例１〜１２】表１は脱酸素剤（化合物）の種類と
添加条件および１００時間経過後の炭素鋼の腐食電位を
示す。

【００４１】

【表１】

【００４２】腐食電位測定試験は、試験部の水質を制御
できる循環式のオートクレーブ装置を用いた。試験片は
炭素鋼（ＳＴＢ−３５）を用いた。試験温度は３００
℃、給水のｐＨはアンモニアを用いてｐＨ９．５に調整
し溶存酸素濃度は＜１ｐｐｂとした。表１の結果を図
１に示す。

【００４３】図１は炭素鋼の脱酸素剤添加時における腐
食電位変化を示す。比較例１は他の測定値の基準となる
値で、給水の酸素濃度１ｐｐｂ以下で脱酸素剤未添加の
条件である。その値は１００時間経過後では−４８１ｍ
Ｖ(vs ＳＨＥ)でほぼ安定していた。図中では基準とな
る腐食電位の差は０である。

【００４４】実施例１、２は亜硫酸ナトリウムを添加し
た場合である。酸素濃度４００ｐｐｂと理論的に反応す
る濃度を添加した実施例２の腐食電位は、脱気時の比較
例１と比較し約１８０ｍＶ低い。

【００４５】比較例２、３はヒドラジンを添加した場合
である。酸素濃度４００ｐｐｂと理論的に反応する濃度
を添加した比較例３の場合は、比較例_1に比較し約９３
ｍＶ低い。

【００４６】実施例３、４はカルボヒドラジドを添加し
た場合の結果である。酸素濃度４００ｐｐｂと理論的に
反応する濃度を添加した実施例4ときの腐食電位は比較
例１に比較し２０５ｍＶ低い。

【００４７】実施例５、６はグルコースを添加したとき
の結果である。酸素濃度５００ｐｐｂと理論的に反応す
る濃度を添加した比較例６ときの腐食電位は、比較例1
に比較し１０７ｍＶ低い。比較例４は酸素濃度３５ｐｐ
ｂ添加し測定した結果である。腐食電位は比較例１に比
較し1０7ｍＶ高い。

【００４８】以上の結果から脱酸素剤が添加されると脱
気時の腐食電位よりも低くなり、添加量と低下する電位
は脱酸素剤により異なる。したがって、未反応な脱酸
素剤が存在すると脱気時の腐食電位よりも低い値を示
し、脱酸素剤の濃度と脱酸素剤の添加時と未添加時の腐
食電位差には相関性があり、この腐食電位差を測定し脱
酸素剤の濃度を制御あるいは監視することができる。

【００４９】さらに、比較例２のように溶存酸素が存在
すると著しく腐食電位は上昇し、脱酸素剤が不足してい
る場合も直ちに検知可能である。

【００５０】以上の手法は脱気時の腐食電位が経時変化
する場合である。この手法以外に、制御したい水の水質
が常に一定で脱気時の腐食電位に変化がない場合は、一
定の電位になるように脱酸素剤の添加を制御することも
できる。

【００５１】表２は炭素鋼（ＳＴＢ−３５）,低合金鋼
（ＳＴＢＡ−２２），ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）
を用いて脱酸素剤の有無による腐食電位の変化を測定し
た実験条件とその結果である。

【００５２】

【表２】

【００５３】試験は温度３００℃、給水のｐＨはアンモ
ニアを用いてｐＨ９．５に調整し溶存酸素は＜１ｐｐｂ
とした。

【００５４】脱酸素剤にはヒドラジンを用い消費可能な
酸素濃度２００ｐｐｂ相当を添加し、１００時間経過後
の腐食電位を測定した。脱酸素剤の未添加の腐食電位を
比較すると、比較例5の低合金鋼は比較例1の炭素鋼の腐
食電位よりも約２８ｍＶ高い、−４６１０ｍＶ(VS ＳＨ
Ｅ)であった。

【００５５】比較例7のステンレス鋼は比較例1の炭素鋼
より約１３０ｍＶ高い−３５１ｍＶ(VS ＳＨＥ)であっ
た。同じ材質で脱酸素剤の有無で比較すると、炭素鋼で
ある比較例２は比較例１と比較し７０ｍＶ低くなってい
る。低合金鋼である比較例６は比較例５と比較し６３ｍ
Ｖ低くなっている。ステンレス鋼である比較例８は比較
例７と比較し７５ｍＶ低くなっている。以上のことか
ら、どの材質でも未添加時と比較し６３〜７５ｍＶ低い
値となりあまり差がないことがわかる。また、材質が異
なり脱気時の腐食電位が異なっても、脱酸素剤が添加さ
れるとその腐食電位は低下する。

【００５６】表３は炭素鋼を用いて脱酸素剤の有無によ
る腐食電位の変化を温度を変えて調べた実験条件とその
結果である。

【００５７】

【表３】

【００５８】試験温度は１００，２００，３００℃、給
水のｐＨはアンモニアを用いてｐＨ９．５に調整し溶存
酸素は＜１ｐｐｂとした。脱酸素剤にはヒドラジンを用
い消費可能な酸素濃度２００ｐｐｂ相当を添加し、１０
０時間経過後の腐食電位を測定した。試験温度が１００
℃である比較例１０は未添加の比較例９に比較し腐食電
位が５５ｍＶ低い。試験温度２００℃でる比較例１２と
未添加の比較例１１と比べると腐食電位が６２ｍＶ低
い。試験温度が３００℃である実施例２は未添加の比較
例１と比較し腐食電位が７０ｍＶ低くい。以上から何れ
の温度領域でも脱酸素剤を添加すると腐食電位は低下す
るが、温度が低いほど脱酸素剤の添加時における腐食電
位の低下は小さい。

【００５９】表４は炭素鋼を用いて脱酸素剤の有無によ
る腐食電位の変化をｐＨを変えて調べた実験条件とその
結果である。

【００６０】

【表４】

【００６１】試験温度は３００℃、給水のｐＨはアンモ
ニアを用いてｐＨを調整し溶存酸素は＜１ｐｐｂとし
た。試験は脱酸素剤のヒドラジンを消費可能な酸素濃度
２００ｐｐｂ相当を添加し１００時間経過後の腐食電
位を測定した。試験ｐＨ８．０である比較例１４を未添
加の比較例１３と比較すると腐食電位が７２mＶ低い。
試験ｐＨ９．５である比較例２は比較例１と比較し腐食
電位が７０ｍＶ低い。以上から弱アルカリ領域において
脱酸素剤を添加すると腐食電位は低下し、その傾向は中
性付近ほど大きい。

【００６２】また、脱酸素剤を薬液タンクから注入する
場合、常温で反応が速い物質はタンクの酸素リークによ
り薬液タンク内で反応が進み脱酸素剤が消費されるた
め、有効に働く脱酸素剤の濃度が低下している場合があ
る。このような状態でもボイラ水あるいは給水に接して
いる金属の腐食電位を測定することで脱酸素剤の濃度を
適切に制御できる。

【００６３】

【発明の効果】本発明によれば、ボイラ水あるいは給水
に接している金属の腐食電位を酸素が存在しない脱気環
境で腐食電位を測定し、その腐食電位よりも低い腐食電
位になるように脱酸素剤の濃度を制御できる。

【００６４】各脱酸素剤の濃度と腐食電位の関係は、測
定する金属及びその温度ｐＨやその他に水に溶解してい
る物質に左右される。したがって、実機に適用する場合
は実機と同一の環境で脱気時の腐食電位を測定し、その
後脱酸素剤を添加し脱酸素剤と腐食電位の関係を明らか
にし調整したい脱酸素剤の濃度に対応する腐食電位にな
るように脱酸素剤を添加する。この脱酸素剤と腐食電位
の関係を実機で行う場合は、脱酸素剤の分析値と照らし
合わせて行うか、あるいは実際に脱気時の腐食電位を測
定し、その後脱酸素剤を添加し腐食電位と脱酸素濃度の
関係を求めることより達成できる。

【００６５】本発明は、従来経験に頼っていた脱酸素剤
の注入量を腐食電位を測定することで簡便に必要な脱酸
素剤濃度を明らかにし、その結果を用いて適切に脱酸素
剤の注入量を決定できるボイラの管理方法を提供する。

【図面の簡単な説明】

【図１】炭素鋼の脱酸素剤添加時における腐食電位変化
を示す。

【図２】実機ボイラにおける腐食電位の測定位置を示す
火力プラントの系統図。

【図３】配管等の腐食電位を直接測定する方法を示す概
略図。

【図４】ボイラ水および給水を抽出して測定する方法を
示す概略図。

【符号の説明】

１…ボイラ、２…タービン、３…復水器、４…脱
気器、５腐食電位測定位置、６…腐食電位測定位
置、７…腐食電位測定位置、８…脱気時の腐食電位
測定位置、９…脱気時の腐食電位測定位置、１０…
脱気時の腐食電位測定位置、１１…脱酸素剤タンク、
１２…脱酸素剤タンク、１３…脱酸素剤タンク、
１４…脱酸素剤濃度制御装置、１５…脱酸素剤濃度制
御装置、１６…脱酸素剤濃度制御装置、１７…配
管、１８…参照電極、１９…電位差計、２０…圧
力容器、２１…参照電極、２２…電位を測定する
試験片、２３…電位差計。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者山内博史茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者神林剛茨城県日立市幸町三丁目１番１号株式会社日立茨城ビジネスエンジニアリング内 (72)発明者村田重人茨城県日立市幸町三丁目１番１号株式会社日立製作所日立工場内 (72)発明者下野展雄広島県呉市宝町６番９号バブコック日立株式会社呉工場内Ｆターム(参考） 4K062 AA03 AA05 BA08 BB04 BB06 BB07 BB12 BB15 BB18 CA05 CA10 DA01 EA04 FA05 FA06 GA08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ボイラ、タービン及び覆水器を含む水循環
系を有する火力プラントにおいて、ボイラ水あるいは給
水と接している金属の腐食電位を測定する手段及びヒド
ラジンよりも低毒性の脱酸素剤の濃度が前記金属の脱気
時の腐食電位よりも低くなるように調整する手段を有す
ることを特徴とする火力プラント。
【請求項２】ボイラ、タービン及び覆水器を含む水循環
系を有する火力プラントの運転管理方法において、ボイ
ラ水あるいは給水と接している金属の腐食電位を参照電
極と電位差計を用いて測定し、ヒドラジンより分子量が
大きく、タンニンよりも分子量が小さく水中で酸素と反
応する脱酸素剤の濃度が前記金属の脱気時の腐食電位よ
りも低くなるように調整することを特徴とする火力プラ
ントの運転管理方法。
【請求項３】請求項１又は請求項２において、前記脱酸
素剤の濃度を調整する手段が、ボイラ水あるいは給水と
接している金属の腐食電位を参照電極と電位差計を用い
て測定し、該腐食電位と未反応な該脱酸素剤の濃度の関
係から所定の該脱酸素剤の濃度に相当する腐食電位にな
るように該脱酸素剤の添加量を制御、あるいは監視する
ことを特徴とする火力プラントの運転管理方法。
【請求項４】請求項１又は請求項２において、前記金属
の脱気時の腐食電位は、ボイラ水あるいは給水と接して
いる金属の腐食電位を脱酸素剤を注入しない状態で定期
的に測定する手段、又は常時脱気時の腐食電位は脱塩器
出口又は脱気器出口の脱酸素剤を含まない給水と接する
部分の腐食電位を測定する手段を用いて測定する手段を
用いることを特徴とする火力プラントの運転管理方法。
【請求項５】請求項１又は請求項２において、前記金
属の脱気時の腐食電位は、脱塩器出口の給水にアンモニ
アを注入し、ボイラ水又は給水と接している金属の腐食
電位を参照電極と電位差計を用いて測定する部分と同等
の温度に制御し測定することを特徴とする火力プラント
の運転管理方法。
【請求項６】前記ボイラの運転管理方法はボイラ運転時
あるいは循環水流が停止した保管時に水質を管理するこ
とを特徴とする請求項１又は請求項２記載の火力プラン
トの運転管理方法。
【請求項７】請求項１又は請求項２において、前記脱酸
素剤は、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、ピロ亜硫酸塩、亜リ
ン酸塩、メチルエチルケトオキシム、エリソルビン酸、
ジエチルヒドロキシルアミン、ハイドロキノン、カルボ
ン酸アミン塩、糖類の中から選ばれる化合物であって、
該化合物はヒドラジンより分子量が大きく、タンニンよ
りも分子量が小さく水中で酸素と反応する化合物である
ことを特徴とする火力プラントの運転管理方法。
【請求項８】ボイラ、タービン及び覆水器を含む水循環
系を有する火力プラントにおいて、ボイラ水あるいは給
水と接している金属の腐食電位を測定する手段及び前記
金属の腐食電位を該金属の脱気時の腐食電位よりも低く
なるように調整する脱酸素剤添加手段を有することを特
徴とする火力プラント。
【請求項９】ボイラ、タービン及び覆水器を含む水循環
系を有する火力プラントの運転管理方法において、ボイ
ラ水あるいは給水と接している金属の腐食電位を参照電
極と電位差計を用いて測定し、前記金属の腐食電位を該
金属の脱気時の腐食電位よりも低くなるように脱酸素剤
の添加量を調整することを特徴とする火力プラントの運
転管理方法。