JP2000346875A - Probe card and IC testing device using the same - Google Patents
Probe card and IC testing device using the sameInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】プローブカードの熱変形による接触信頼性の低
下を防止するとともにスループットを高めることができ
るIC試験装置用プローブカードを提供する。
【解決手段】IC試験装置のテストヘッド1の基板に電
気的に接続され、ウェハWに電気的に接触する複数のニ
ードル211が一主面に設けられたプローブカード2で
あり、プローブカードの基板20に発熱パターン26が
設けられている。
An object of the present invention is to provide a probe card for an IC test apparatus capable of preventing a decrease in contact reliability due to thermal deformation of a probe card and improving a throughput. A probe card (2) electrically connected to a substrate of a test head (1) of an IC test apparatus and provided on one main surface thereof with a plurality of needles (21) electrically contacting a wafer (W) is provided. The heat generating pattern 26 is provided on 20.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路素
子などの各種電子部品(以下、代表的にICと称す
る。)をテストするためのIC試験装置に関し、特にテ
ストヘッドと被試験物とを接続するために用いられるプ
ローブカードに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an IC testing apparatus for testing various electronic components (hereinafter, typically referred to as ICs) such as semiconductor integrated circuit devices, and more particularly, to an IC testing apparatus for testing a test head and a device under test. The present invention relates to a probe card used for connection.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体集積回路素子は、シリコンウェハ
などに多数個造り込まれたのち、ダイシング、ワイヤボ
ンディングおよびパッケージングなどの諸工程を経て電
子部品として完成する。こうしたICにあっては、出荷
前に動作テストが行われ、このICのテストは、完成品
の状態でもウェハ状態でも行われる。2. Description of the Related Art After a large number of semiconductor integrated circuit devices are manufactured on a silicon wafer or the like, electronic devices are completed through various processes such as dicing, wire bonding, and packaging. For such an IC, an operation test is performed before shipment, and the test of the IC is performed both in a finished product state and in a wafer state.
【0003】ウェハ状態の被試験ICをテストするIC
試験装置としては、たとえば実開平5−15431号公
報に開示されたものが知られている。この種のウェハI
C試験装置では、ウェハチャックに被試験物であるウェ
ハを真空吸着し、プローブカードに設けられたニードル
(針状接点)をウェハに造り込まれた接点に接触させる
ことで試験が行われる。An IC for testing an IC under test in a wafer state
As a test apparatus, for example, one disclosed in Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-15431 is known. This kind of wafer I
In the C test apparatus, a test is performed by vacuum-absorbing a wafer to be tested on a wafer chuck and bringing a needle (needle-shaped contact) provided on a probe card into contact with a contact formed in the wafer.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
のウェハIC試験装置にあっては、ウェハチャックに埋
め込まれたヒータによりウェハに高温の熱ストレスを印
加して高温試験を行うので、ウェハの熱が主にニードル
を介してプローブカードにも伝わり、試験中においてニ
ードルおよびプローブカード基板が昇温することにな
る。However, in this type of wafer IC testing apparatus, a high temperature test is performed by applying a high temperature thermal stress to the wafer by a heater embedded in the wafer chuck. Is mainly transmitted to the probe card via the needle, and the temperature of the needle and the probe card substrate rises during the test.
【0005】これにより、試験中にプローブカード全体
が熱変形し、こうしたニードルの熱変形とプローブカー
ド基板の熱変形とによって、ウェハの接点とニードルと
の相対位置も変動する。このような状態でニードルをウ
ェハに繰り返し接触させると、ニードルがウェハに接触
する際の押圧力が変化して接触信頼性が低下するといっ
た問題があった。このため、従来のウェハIC試験装置
では、プローブカードが充分に昇温してニードルの熱変
形が安定するまで試験の開始を遅らせる必要があり、た
とえば100℃の高温試験においては1枚のウェハを測
定する度に30分前後のロスタイムが生じていた。[0005] As a result, the entire probe card is thermally deformed during the test, and the relative position between the contact point of the wafer and the needle fluctuates due to the thermal deformation of the needle and the probe card substrate. When the needle is repeatedly brought into contact with the wafer in such a state, there has been a problem that the pressing force at the time when the needle comes into contact with the wafer changes and the contact reliability is reduced. For this reason, in the conventional wafer IC test apparatus, it is necessary to delay the start of the test until the probe card is sufficiently heated to stabilize the thermal deformation of the needle. For example, in a high temperature test at 100 ° C., one wafer is required to be tested. A loss time of about 30 minutes occurred every time the measurement was performed.
【0006】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、プローブカードの熱変形に
よる接触信頼性の低下を防止するとともにスループット
を高めることができるIC試験装置用プローブカードを
提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and is a probe for an IC test apparatus capable of preventing a decrease in contact reliability due to thermal deformation of a probe card and increasing throughput. The purpose is to provide the card.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】(1) 上記目的を達成
するために、本発明のIC試験装置用プローブカード
は、IC試験装置のテストヘッド基板に電気的に接続さ
れ、被試験物に電気的に接触する複数の針状接点が一主
面に設けられたIC試験装置用プローブカードにおい
て、前記プローブカードの基板に発熱体が設けられてい
ることを特徴とする。(1) In order to achieve the above object, a probe card for an IC test apparatus according to the present invention is electrically connected to a test head substrate of the IC test apparatus and electrically connected to a device under test. In a probe card for an IC test device provided with a plurality of needle-like contacts on one main surface, a heating element is provided on the substrate of the probe card.
【0008】本発明のIC試験装置用プローブカードで
は、プローブカードの基板に発熱体が設けられているの
で、被試験物に高温熱ストレスを印加する際に発熱体に
よりプローブカードをも加熱すれば、プローブカード基
板は即座に熱変形し、その変形を維持したまま安定す
る。したがって、この状態で試験を行えば、試験中にお
いて針状接点と被試験物との相対位置が変動するのを防
止でき、接触信頼性が向上する。またこのとき、プロー
ブカード基板は短時間で昇温するので、IC試験装置の
スループットも向上する。In the probe card for an IC test apparatus according to the present invention, a heating element is provided on the substrate of the probe card. Therefore, when the high temperature thermal stress is applied to the device under test, the probe card is also heated by the heating element. As a result, the probe card substrate is immediately thermally deformed and stabilized while maintaining the deformation. Therefore, if the test is performed in this state, it is possible to prevent the relative position between the needle-like contact and the DUT from changing during the test, and to improve the contact reliability. At this time, the temperature of the probe card substrate rises in a short time, so that the throughput of the IC test apparatus is also improved.
【0009】しかも、発熱体がプローブカード基板に設
けられているので、IC試験装置に装着することなくプ
ローブカードの状態でプローブカード自体の熱変形を検
査することができる。すなわち、たとえば針状接点をプ
ローブカードに装着したのちに当該針状接点の針位置を
確認する検査をプローブカードの状態で行うことがで
き、著しく便利である。In addition, since the heating element is provided on the probe card substrate, the probe card itself can be inspected for thermal deformation in a state of the probe card without being mounted on an IC test apparatus. That is, for example, after attaching the needle-shaped contacts to the probe card, an inspection for confirming the needle positions of the needle-shaped contacts can be performed in the state of the probe card, which is extremely convenient.
【0010】(2)上記発明において、発熱体はプロー
ブカードの基板に設けられるが、特に好ましくは、請求
項2記載のように、前記発熱体は、前記プローブカード
の基板の前記針状接点の近傍に設けられる。(2) In the above invention, the heating element is provided on the substrate of the probe card. Particularly preferably, the heating element is formed on the needle-like contact on the substrate of the probe card. It is provided in the vicinity.
【0011】被試験物に対して印加された高温の熱スト
レスは、針状接点を介してプローブカード基板に伝熱す
ることから、発熱体により針状接点の近傍を加熱するこ
とで、試験中における伝熱が防止でき、これにより試験
中におけるプローブカード基板の熱変形を防止すること
ができる。[0011] The high-temperature thermal stress applied to the test object is transferred to the probe card substrate via the needle-shaped contacts. , The heat deformation of the probe card substrate during the test can be prevented.
【0012】この場合、特に限定はされないが、プロー
ブカード基板が積層基板で構成されているときは、針状
接点の装着位置に近接した内層、特に針状接点が装着さ
れた主面側の表面近傍層に発熱体をプリントパターンな
どで形成することが好ましい。また、プローブカード基
板の内層以外にも、たとえば針状接点が装着された主面
側の表面にシート状ヒータ等を貼り付けても良い。In this case, although not particularly limited, when the probe card substrate is formed of a laminated substrate, the inner layer close to the mounting position of the needle-like contact, especially the surface on the main surface side on which the needle-like contact is mounted. It is preferable that the heating element is formed in a nearby layer by a print pattern or the like. Further, in addition to the inner layer of the probe card substrate, for example, a sheet heater or the like may be attached to the surface on the main surface side on which the needle contacts are mounted.
【0013】さらに、上記発明においては特に限定され
ないが、プローブカードの基板の温度を検出するセンサ
と、前記センサからの検出温度に基づいて前記発熱体の
温度を制御するコントローラとをさらに備えることがよ
り好ましい。Further, although not particularly limited in the above invention, the apparatus may further include a sensor for detecting the temperature of the substrate of the probe card, and a controller for controlling the temperature of the heating element based on the temperature detected by the sensor. More preferred.
【0014】こうすることで、プローブカード基板の温
度を被試験物と同じ温度にコントロールすることができ
るので、試験中において温度勾配がなくなり熱変形が防
止できる。By doing so, the temperature of the probe card substrate can be controlled to the same temperature as that of the device under test, so that a temperature gradient is eliminated during the test and thermal deformation can be prevented.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図1は本発明のプローブカードが適
用されるIC試験装置のテストヘッドを示す要部分解斜
視図、図2は図1のプローブカードがテストヘッドに組
み付けられた状態を示す断面図、図3は図1のプローブ
カードを示す平面図、図4は本発明のプローブカードの
実施形態を示す要部断面図、図5は本発明のプローブカ
ードの他の実施形態を示す要部断面図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an exploded perspective view showing a main part of a test head of an IC test apparatus to which the probe card of the present invention is applied, FIG. 2 is a sectional view showing a state where the probe card of FIG. 1 is assembled to the test head, and FIG. 1 is a plan view showing the probe card of FIG. 1, FIG. 4 is a cross-sectional view of a main part showing an embodiment of the probe card of the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional view of main parts showing another embodiment of the probe card of the present invention.
【0016】図1に示すように、被試験物であるウェハ
IC(以下、単にウェハWともいう。)は、1枚のウェ
ハに多数の半導体回路が集積されたものであり、テスト
を行う場合にはウェハチャック3に真空吸着され、高精
度に位置出しされた状態で保持される。図示は省略する
が、ウェハWに所定の温度を印加して高温テストを実行
する場合には、ウェハチャック3に内装されたヒータを
介してウェハWが加熱されるようになっている。As shown in FIG. 1, a wafer IC (hereinafter, simply referred to as a wafer W), which is a device under test, has a large number of semiconductor circuits integrated on a single wafer. Is vacuum-sucked on the wafer chuck 3 and held in a state of being positioned with high precision. Although illustration is omitted, when a high temperature test is performed by applying a predetermined temperature to the wafer W, the wafer W is heated via a heater built in the wafer chuck 3.
【0017】ウェハチャック3の上部に位置するカード
ホルダ4は、中央に円形状通孔41が形成され、この通
孔41の周縁にプローブカード2を保持するための段部
42が形成されている。このカードホルダ4は、図2に
示すようにリングキャリア43に固定されており、後述
するトッププレート11に対する位置出しは、リングキ
ャリア43側に設けられたガイドピン44をトッププレ
ート11側に設けられたガイドブッシュ13に挿入する
ことにより行われる。The card holder 4 located above the wafer chuck 3 has a circular through hole 41 formed at the center, and a step 42 for holding the probe card 2 is formed at the periphery of the through hole 41. . As shown in FIG. 2, the card holder 4 is fixed to a ring carrier 43. Positioning of the card holder 4 with respect to the top plate 11, which will be described later, is performed by providing a guide pin 44 provided on the ring carrier 43 side on the top plate 11 side. This is performed by inserting the guide bush 13 into the guide bush 13.
【0018】本実施形態のプローブカード2は、円形状
に形成された基板20を有し、その一主面(図1,2,
4および図5において下面)の略中央に、2個のICを
同時測定可能なように2対のニードル群21(本発明の
針状接点に相当する。)が設けられている。この2対の
ニードル群21は、図3に示すようにウェハICに集積
されたICの形状に応じた形状(図示する例では一つの
ものが正方形)のものが2個千鳥状(互い違い)に配置
されてなる。The probe card 2 of the present embodiment has a substrate 20 formed in a circular shape, and has one main surface (FIGS. 1, 2 and 2).
4 and FIG. 5, two pairs of needle groups 21 (corresponding to needle-shaped contacts of the present invention) are provided at substantially the center of the lower surface (in FIG. 5) so that two ICs can be measured simultaneously. As shown in FIG. 3, the two pairs of needle groups 21 have two staggered (alternating) shapes corresponding to the shape of the ICs integrated on the wafer IC (one is a square in the illustrated example). It is arranged.
【0019】このうちの一つのニードル群21は、ウェ
ハIC上に集積形成された1個のICの端子(ワイヤボ
ンディングする前の状態の接点)のそれぞれに接触する
数だけのニードル211が設けられてなり、図2および
図4,5に示すように、このニードル211の先端がウ
ェハIC側に向かうとともに、他端はプローブカード2
の基板20に固定されている。One of the needle groups 21 is provided with as many needles 211 as to be in contact with the terminals (contacts before wire bonding) of one IC integrated on the wafer IC. As shown in FIGS. 2 and 4 and 5, the tip of the needle 211 is directed toward the wafer IC and the other end is connected to the probe card 2.
Is fixed to the substrate 20.
【0020】ちなみに、2つのニードル群21を図示す
るように千鳥状に配置するのは、それぞれのニードル2
11が互いに干渉するのを回避するためである。また、
本実施形態では2個同時測定する例を挙げたが、本発明
のプローブカード2は同時測定個数には何ら限定され
ず、単数測定または3個以上の同時測定を行うタイプの
ものであっても良い。Incidentally, the two needle groups 21 are arranged in a staggered manner as shown in FIG.
11 to avoid interference with each other. Also,
In the present embodiment, an example of performing two simultaneous measurements has been described. However, the probe card 2 of the present invention is not limited to the number of simultaneous measurements, and may be a type that performs single measurement or three or more simultaneous measurements. good.
【0021】また、本実施形態のプローブカード2で
は、基板20の反対側の主面(図1および図2では上
面)の外周縁に、ゼロ挿抜力コネクタの一方22aがほ
ぼ等しい間隔で実装されている。In the probe card 2 of this embodiment, one of the zero insertion / removal force connectors 22a is mounted on the outer peripheral edge of the opposite main surface (the upper surface in FIGS. 1 and 2) of the substrate 20 at substantially equal intervals. ing.
【0022】このゼロ挿抜力コネクタ(Zero Insersion
Force Connector)とは、後述するコンタクトリング1
2に設けられた他方のゼロ挿抜力コネクタ22bと互い
に挿抜する際に、挿抜方向(本例では上下方向)に力を
加える必要がないタイプのコネクタをいい、たとえばコ
ネクタ内に長手方向に組み込まれているレールをシリン
ダにより前後に駆動させて、レールと係合しているカム
を上下させ、そのカムの上下によりピンコンタクトを挟
むソケットコンタクトの間隔を狭めたり広げたりする方
式、あるいはその他の方式のものを用いることができ
る。This zero insertion / extraction force connector (Zero Insersion
Force Connector) is a contact ring 1 described later
2 is a type of connector that does not need to apply a force in the insertion / removal direction (vertical direction in this example) when being inserted into / removed from the other zero insertion / removal force connector 22b provided in the connector 2b. The rail that is engaged with the rail is driven back and forth by the cylinder to raise and lower the cam that engages with the rail, and the pitch of the socket contact sandwiching the pin contact is narrowed or widened by the vertical movement of the cam, or other methods. Can be used.
【0023】各ニードル211とゼロ挿抜力コネクタ2
2aの各接点とは、プローブカード2の基板20に形成
された配線パターン24やスルーホール25(図4、5
参照)により電気的に接続されている。Each needle 211 and zero insertion / extraction force connector 2
Each contact 2a refers to a wiring pattern 24 or a through-hole 25 formed on the substrate 20 of the probe card 2 (see FIGS. 4 and 5).
Reference).
【0024】なお、本発明のIC試験装置では、プロー
ブカード2とテストヘッド1とを電気的に接続する手段
は上述したゼロ挿抜力コネクタ22a,22bにのみ限
定されることはなく、他の種類のコネクタや接続端子で
あっても何ら問題はない。In the IC test apparatus of the present invention, the means for electrically connecting the probe card 2 and the test head 1 is not limited to the above-mentioned zero insertion / removal force connectors 22a and 22b, but other types. There is no problem even if the connector or connection terminal is used.
【0025】一方、ウェハチャック3の上部には、IC
試験装置のテストヘッド1が位置し、図示は省略するが
ここにパフォーマンスボードなどの各種基板が設けられ
ている。このテストヘッド1の最下面には、図1および
図2に示すようにトップパネル11が固定されており、
さらにこのトップパネル11の下面にコンタクトリング
12が固定されている。On the other hand, above the wafer chuck 3, an IC
A test head 1 of the test apparatus is located, and various substrates such as a performance board are provided here, although not shown. A top panel 11 is fixed to the lowermost surface of the test head 1 as shown in FIGS.
Further, a contact ring 12 is fixed to the lower surface of the top panel 11.
【0026】本実施形態のコンタクトリング12は、図
1に示すようにリング状に形成されてなり、外周に形成
された断片的な扇形の通孔121に、上述したゼロ挿抜
力コネクタの他方22bが固定されている。図2の断面
図にこのゼロ挿抜力コネクタ22bの取り付け状態を示
す。The contact ring 12 of the present embodiment is formed in a ring shape as shown in FIG. Has been fixed. The cross-sectional view of FIG. 2 shows the state of attachment of the zero insertion / extraction force connector 22b.
【0027】また、上述したプローブカード2とコンタ
クトリング12との位置出しは、プローブカード2側に
設けられたガイドピン23を、コンタクトリング12側
に設けられたガイドブッシュ122に係合させることに
より行われる。The positioning of the probe card 2 and the contact ring 12 described above is performed by engaging a guide pin 23 provided on the probe card 2 side with a guide bush 122 provided on the contact ring 12 side. Done.
【0028】ちなみに、図示は省略するが、コンタクト
リング12側に取り付けられたゼロ挿抜力コネクタ22
bと、テストヘッド1内のパフォーマンスボードとは多
数の配線あるいはドータボードにより電気的に接続され
る。Incidentally, although not shown, the zero insertion / removal force connector 22 attached to the contact ring 12 side is used.
b and the performance board in the test head 1 are electrically connected by a number of wires or daughter boards.
【0029】特に本実施形態のプローブカード2は、図
4に示すようにゼロ挿抜力コネクタ22aとニードル2
11とを電気的に接続するための配線パターン24およ
びスルーホール25が積層基板構造で形成されている
が、さらにニードル211が装着された主面(同図にお
いてプローブカード基板20の下面)の表面近傍に発熱
パターン26(本発明の発熱体に相当する。)が造り込
まれている。この発熱パターン26は、たとえば面状発
熱体等のように電流を流すことで発熱する抵抗体から構
成され、配線パターン24を印刷する際に同時に印刷法
等により形成される。発熱パターン26は、好ましくは
ニードル211の装着基部の周囲であって、プローブカ
ード基板20の下面に近い層内に形成されている。Particularly, as shown in FIG. 4, the probe card 2 of this embodiment has a zero insertion / removal force connector 22a and a needle 2
A wiring pattern 24 and a through hole 25 for electrically connecting the probe card 11 to the main surface 11 are formed in a laminated substrate structure. A heating pattern 26 (corresponding to a heating element of the present invention) is built in the vicinity. The heating pattern 26 is composed of a resistor that generates heat by passing an electric current, such as a sheet heating element, and is formed by a printing method or the like when the wiring pattern 24 is printed. The heating pattern 26 is preferably formed in a layer around the mounting base of the needle 211 and near the lower surface of the probe card substrate 20.
【0030】なお、本発明の発熱体は、積層基板の層内
に発熱パターン26として形成する以外にも、図5に示
すように面状発熱体などのシート状ヒータ26aをプロ
ーブカード基板20の表面に貼り付けることで構成する
こともできる。この場合も、シート状ヒータ26aは、
好ましくはニードル211の装着基部の周囲であって、
プローブカード基板20の表面に貼り付けられる。The heating element according to the present invention is not limited to forming the heating pattern 26 in the layer of the laminated substrate, and a sheet-like heater 26a such as a sheet heating element as shown in FIG. It can also be configured by sticking to the surface. Also in this case, the sheet-like heater 26a
Preferably around the mounting base of the needle 211,
It is attached to the surface of the probe card substrate 20.
【0031】また、図4に示すようにプローブカード基
板20の温度を検出するための温度センサ27をプロー
ブカード基板20自体に設け、この温度センサ27によ
り検出された温度に基づいてコントローラ28から発熱
パターン26に流す電力を制御するように構成しても良
い。As shown in FIG. 4, a temperature sensor 27 for detecting the temperature of the probe card board 20 is provided on the probe card board 20 itself, and the controller 28 generates heat based on the temperature detected by the temperature sensor 27. The configuration may be such that the power supplied to the pattern 26 is controlled.
【0032】次に作用を説明する。ウェハICをテスト
する場合には、まずそのウェハWをウェハチャック3に
位置決めしながら吸着保持した状態で、目的とする2個
のICの接点にプローブカード2のニードル211が接
触するように、ウェハチャック3をX−Y平面において
位置出ししながら上昇させる。これにより、最初の2個
のICのテストが実行されるが、このテストを終了する
と、ウェハチャック3を僅かに下降させ、次の2個のI
Cの接点にプローブカード2のニードル211が接触す
るように、ウェハチャック3をX−Y平面において位置
出ししながら再び上昇させる。順次この動作を繰り返
し、全ての領域におけるウェハICのテストを行う。こ
のウェハWに対して高温テスト行う場合には、ウェハチ
ャック3に内装されたヒータを作動させてウェハWをた
とえば100℃まで加熱昇温させる。Next, the operation will be described. When testing a wafer IC, first, the wafer W is held by suction while being positioned on the wafer chuck 3 such that the needle 211 of the probe card 2 contacts the contact point of the two target ICs. The chuck 3 is raised while being positioned on the XY plane. As a result, the test of the first two ICs is executed. When the test is completed, the wafer chuck 3 is slightly lowered, and the next two ICs are tested.
The wafer chuck 3 is raised again while being positioned on the XY plane so that the needle 211 of the probe card 2 comes into contact with the contact point C. This operation is sequentially repeated to test wafer ICs in all regions. When performing a high-temperature test on the wafer W, the heater inside the wafer chuck 3 is operated to heat and raise the temperature of the wafer W to, for example, 100 ° C.
【0033】特に本実施形態のプローブカード2では、
高温テストを行う場合、発熱パターン26に電流を流す
ことでプローブカード基板20をウェハWの昇温値まで
加熱する。これにより、ウェハチャック3に内装された
ヒータによるウェハWの昇温と並行して、プローブカー
ド基板20もニードル211の装着基部の周囲から昇温
することになる。プローブカード基板20は、所定量の
熱量を吸収すると熱変形するが、熱変形が安定したとこ
ろでニードル211とウェハWの接点との相対位置を位
置出しし、この初期値に基づいてテストを実行する。こ
れにより、テスト中におけるプローブカード基板20の
熱変形による相対位置の変動が抑制され、ニードル21
1とウェハ接点との接触力が著しく安定することにな
る。すなわち本実施形態では、プローブカード2を試験
される温度に素早く昇温させ、熱変形させた状態でニー
ドル211とウェハWとの位置出しを行ったのち試験を
行うので、試験中にプローブカード基板20が変形する
ことがなくなりニードル211の接触力を均一に維持す
ることができるものである。In particular, in the probe card 2 of this embodiment,
In the case of performing a high-temperature test, the probe card substrate 20 is heated to a temperature rise value of the wafer W by passing a current through the heating pattern 26. As a result, the probe card substrate 20 also rises in temperature from around the mounting base of the needle 211 in parallel with the temperature rise of the wafer W by the heater provided in the wafer chuck 3. The probe card substrate 20 undergoes thermal deformation when absorbing a predetermined amount of heat. When the thermal deformation is stabilized, a relative position between the needle 211 and the contact point of the wafer W is located, and a test is executed based on the initial value. . This suppresses a change in relative position due to thermal deformation of the probe card substrate 20 during the test,
1 and the contact force between the wafer contacts will be remarkably stabilized. That is, in the present embodiment, the probe card 2 is quickly heated to the temperature to be tested, the needle 211 and the wafer W are positioned in a thermally deformed state, and then the test is performed. 20 is not deformed, and the contact force of the needle 211 can be kept uniform.
【0034】なかでも、温度センサ27によりプローブ
カード基板20の温度を検出しながらコントローラ28
により発熱パターンへの供給電力を制御すると、プロー
ブカード基板20をウェハWと同じ温度に正確に維持す
ることができ、ウェハWとの温度勾配がなくなるので、
試験中にニードル211を介して熱が伝導することが防
止される。In particular, while the temperature sensor 27 detects the temperature of the probe card
By controlling the power supplied to the heat generation pattern, the probe card substrate 20 can be accurately maintained at the same temperature as the wafer W, and the temperature gradient with the wafer W is eliminated.
Heat is prevented from conducting through the needle 211 during the test.
【0035】また、プローブカード基板20に発熱パタ
ーン26やシート状ヒータ26aを設けておけば、プロ
ーブカード基板20にニードル211を装着したのち、
当該プローブカード2単体で熱変形によるニードル位置
精度を検査することができ、IC試験装置に使用する前
にプローブカード2の良否を判断することができる。Further, if the heat generation pattern 26 and the sheet-like heater 26a are provided on the probe card substrate 20, after the needle 211 is mounted on the probe card substrate 20,
The needle position accuracy due to thermal deformation can be inspected by the probe card 2 alone, and the quality of the probe card 2 can be determined before using the probe card 2 in an IC test apparatus.
【0036】なお、以上説明した実施形態は、本発明の
理解を容易にするために記載されたものであって、本発
明を限定するために記載されたものではない。したがっ
て、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技
術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨
である。The embodiments described above are described for facilitating the understanding of the present invention, and are not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.
【0037】[0037]
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、試験
中において針状接点と被試験物との相対位置が変動する
ことが防止でき、接触信頼性が向上する。またこのと
き、プローブカード基板は短時間で昇温するので、IC
試験装置のスループットも向上する。As described above, according to the present invention, the relative position between the needle contact and the DUT during the test can be prevented from changing, and the contact reliability can be improved. At this time, the temperature of the probe card substrate rises in a short time.
The throughput of the test equipment is also improved.
【図1】本発明のプローブカードが適用されるIC試験
装置のテストヘッドを示す要部分解斜視図である。FIG. 1 is an exploded perspective view showing a main part of a test head of an IC test apparatus to which a probe card of the present invention is applied.
【図2】図1のプローブカードがテストヘッドに組み付
けられた状態を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a state where the probe card of FIG. 1 is assembled to a test head.
【図3】図1のプローブカードを示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing the probe card of FIG. 1;
【図4】本発明のプローブカードの実施形態を示す要部
断面図である。FIG. 4 is a sectional view of a main part showing an embodiment of the probe card of the present invention.
【図5】本発明のプローブカードの他の実施形態を示す
要部断面図である。FIG. 5 is a sectional view of a main part showing another embodiment of the probe card of the present invention.
1…テストヘッド 11…トッププレート 12…コンタクトリング 121…通孔 122…ガイドブッシュ 13…ガイドブッシュ 2…プローブカード 20…プローブカード基板 21…ニードル群 211…ニードル(針状接点) 22a…ゼロ挿抜力コネクタ(プローブカード側) 22b…ゼロ挿抜力コネクタ(コンタクトリング側) 23…ガイドピン 24…配線パターン 25…スルーホール 26…発熱パターン(発熱体) 26a…シート状ヒータ(発熱体) 3…ウェハチャック 4…カードホルダ 41…円形状通孔 42…段部 43…リングキャリア 44…ガイドピン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Test head 11 ... Top plate 12 ... Contact ring 121 ... Through hole 122 ... Guide bush 13 ... Guide bush 2 ... Probe card 20 ... Probe card board 21 ... Needle group 211 ... Needle (needle contact) 22a ... Zero insertion / extraction force Connector (probe card side) 22b Zero insertion / extraction force connector (contact ring side) 23 Guide pin 24 Wiring pattern 25 Through hole 26 Heating pattern (heating element) 26a Sheet heater (heating element) 3 Wafer chuck 4. Card holder 41. Circular through hole 42. Step 43. Ring carrier 44. Guide pin
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/66 G01R 31/28 K Fターム(参考) 2G003 AA07 AA10 AB01 AC03 AD03 AG04 AG10 AG12 AG16 AG20 AH04 2G011 AA02 AA17 AB10 AC06 AC14 AC21 AE03 AF06 2G032 AB01 AB13 AE03 AE11 AF02 AK03 AL03 AL11 4M106 AA01 AA02 BA01 BA14 CA60 DD03 DD04 DD10 DD13 DD16 DD30 DJ02 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) H01L 21/66 G01R 31/28 K F term (reference) 2G003 AA07 AA10 AB01 AC03 AD03 AG04 AG10 AG12 AG16 AG20 AH04 2G011 AA02 AA17 AB10 AC06 AC14 AC21 AE03 AF06 2G032 AB01 AB13 AE03 AE11 AF02 AK03 AL03 AL11 4M106 AA01 AA02 BA01 BA14 CA60 DD03 DD04 DD10 DD13 DD16 DD30 DJ02
Claims (6)
に接続され、被試験物に電気的に接触する複数の針状接
点が一主面に設けられたIC試験装置用プローブカード
において、前記プローブカードの基板に発熱体が設けら
れていることを特徴とするIC試験装置用プローブカー
ド。1. A probe card for an IC test apparatus, wherein a plurality of needle-like contacts electrically connected to a test head substrate of the IC test apparatus and electrically contacting a device under test are provided on one main surface. A probe card for an IC test apparatus, wherein a heating element is provided on a substrate of the probe card.
の前記針状接点の近傍に設けられていることを特徴とす
る請求項1記載のIC試験装置用プローブカード。2. The probe card for an IC test apparatus according to claim 1, wherein the heating element is provided on the substrate of the probe card near the needle contact.
の前記一主面の表面近傍に埋設されていることを特徴と
する請求項1または2記載のIC試験装置用プローブカ
ード。3. The probe card for an IC test apparatus according to claim 1, wherein said heating element is buried near a surface of said one main surface of said substrate of said probe card.
の前記一主面の表面に設けられていることを特徴とする
請求項1または2記載のIC試験装置用プローブカー
ド。4. The probe card for an IC test apparatus according to claim 1, wherein said heating element is provided on a surface of said one main surface of a substrate of said probe card.
るセンサと、前記センサからの検出温度に基づいて前記
発熱体の温度を制御するコントローラとをさらに備えた
ことを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載のIC試
験装置用プローブカード。5. The apparatus according to claim 1, further comprising: a sensor for detecting a temperature of a substrate of said probe card; and a controller for controlling a temperature of said heating element based on a temperature detected by said sensor. 5. The probe card for an IC test device according to any one of 4.
ードを備えたことを特徴とするIC試験装置。6. An IC test apparatus comprising the probe card according to claim 1.
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