JP2000349430A - 基板の吸着・加熱装置 - Google Patents

基板の吸着・加熱装置

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JP2000349430A
JP2000349430A JP11154945A JP15494599A JP2000349430A JP 2000349430 A JP2000349430 A JP 2000349430A JP 11154945 A JP11154945 A JP 11154945A JP 15494599 A JP15494599 A JP 15494599A JP 2000349430 A JP2000349430 A JP 2000349430A
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heating
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Kinichi Onodera
欣一 小野寺
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ステージ・ブロックを上下に分割し、下側の
ステージ・ブロックに加熱ヒータや温度センサーを設
け、上側のステージブロックを、各サイズの基板に合わ
せて、交換することで、交換作業を簡素化し、また、交
換に際してのコストを大幅に低減できる構成の、基板の
吸着・加熱装置を提供する。 【解決手段】 吸着・加熱ステージ上に、PGAパッケ
ージ装着のための基板を配置し、吸着・加熱する装置で
あって、前記ステージは、前記温度センサーおよび加熱
手段を備えると共に、吸引源と連通する所定の吸引用流
通路を上面に開口した下側ステージ・ブロックと、前記
流通路に連通する通路部を下面に備えると共に、該通路
部を前記吸着用凹部に連通した上側ステージ・ブロック
とから構成されていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高密度実装される
基板への、ベアチップの装着に際して使用する、基板の
吸着・加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】高密度実装技術の一つであるLLC(L
ead Less Chip)工法は、金バンプが形成
されたベアチップを、インターポーザー基板上に、その
半田メッキされたパッド上へ前記金バンプを対応した状
態で、直接実装する方法である。この工法では、ベアチ
ップを搭載ヘッドにあるヒーターで、また、基板を搭載
する吸着・加熱ステージ(吸着加熱ステージ)にあるヒ
ーターで、それぞれ加熱して、金−半田接続を行ってい
る。この場合、搭載前後での基板の熱収縮が、品質に与
える影響が大きいことから、基板の加熱には、所要温度
の確実な制御を行わなければならず、上述の吸着・加熱
ステージは必需品である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】然るに、従来の吸着・
加熱ステージでは、基板サイズに対応するステージ・ブ
ロックを用意する必要があり、また、それぞれのステー
ジ・ブロック毎に、加熱ヒーターと温度センサーが取り
付けられているため、ステージ・ブロック自体が大型化
する上、基板サイズの変更毎にステージ交換を行うが、
その時に、合わせて、ヒーターやセンサーの配線変更作
業が必要となり、交換作業に時間が掛かり、その段取り
作業にも大きなロスが発生していた。
【0004】また、基板サイズに対応する専用ステージ
・ブロックを、新規に作製するのは、製作コスト上、不
利であり、その作製納期が長くなるといった問題もあっ
た。
【0005】本発明は、上記事情に基づいてなされたも
ので、その目的とするところは、ステージ・ブロックを
上下に分割し、下側のステージ・ブロックに加熱ヒータ
や温度センサーを設け、上側のステージブロックを、各
サイズの基板に合わせて、交換することで、交換作業を
簡素化し、また、交換に際してのコストを大幅に低減で
きる構成の、基板の吸着・加熱装置を提供するにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】このため、本発明では、
吸着・加熱ステージ上に、PGAパッケージ装着のため
の基板を配置し、前記ステージ上面に所要の配列で開口
した吸着用凹部に吸引力を働かせて、前記基板を吸着
し、前記ステージ側に設けた温度センサーで温度制御し
ながら、加熱手段で加熱するようにした、基板の吸着・
加熱装置において、前記ステージは、前記温度センサお
よび加熱手段を備えると共に、吸引源と連通する所定の
吸引用流通路を上面に開口した下側ステージ・ブロック
と、前記流通路に連通する通路部を下面に備えると共
に、該通路部を前記吸着用凹部に連通した上側ステージ
・ブロックとから構成されていることを特徴とする。
【0007】この場合、本発明では、その実施の形態と
して、前記下側ステージ・ブロックが、前記上側ステー
ジ・ブロックの通路部に対応しない前記吸引用流通路
に、閉栓部材を着脱自在に装着する構成になっているこ
と、更に、前記上側ステージ・ブロックが、吸着・加熱
される前記基板の大きさに対応して、その通路部が構成
されていることが、好ましい。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の基板の吸着・加熱
装置について、その実施の形態を、図面を参照して具体
的に説明する。ここでは、吸着・加熱ステージ上に、P
GAパッケージ装着のための基板1を配置し、前記ステ
ージ上面に所要の配列で開口した吸着用凹部12に吸引
力を働かせて、基板1を吸着し、前記ステージ側に設け
た温度センサー6で温度制御しながら、例えば、電熱ヒ
ーターなどの加熱手段5で加熱するようにしてあり、特
に、前記ステージは、前記温度センサー6および加熱手
段5を備えると共に、真空ポンプなどの吸引源(図示せ
ず)と連通する所定の吸引用流通路7を上面に開口した
下側ステージ・ブロック3(この実施の形態では、流通
路7は、下側ステージ・ブロック3の上面に配列した多
数の縦穴)と、流通路7に連通する通路部10を下面に
備えると共に、通路部10を吸着用凹部12に連通した
上側ステージ・ブロック2とから構成されている。
【0009】この場合、本発明の実施の形態としては、
下側ステージ・ブロック3が、上側ステージ・ブロック
2の通路部10に対応しない幾つかの吸引用流通路(符
号8で示す)に、閉栓部材9を着脱自在に装着する構成
になっている。また、上側ステージ・ブロック2が、吸
着・加熱される基板1の大きさに対応して、その通路部
10が構成されている。
【0010】具体的には、前記通路部10は、図4に示
すように、上側ステージ・ブロック2の下面に井桁状に
形成された溝条であり、縦穴11を介して、上面の吸着
用凹部12に連通している。なお、符号4は、上述のス
テージ・ブロックを支持する搭載台であって、吸引用流
通路7、8に吸引力を供給する通路4Aを備えている。
また、図中、符号14は下側ステージ・ブロック3に設
けた、上側ステージブロック2の、L字形の位置決め用
コーナー部材である。
【0011】本発明の特徴は、上側ステージ・ブロック
2と、下側ステージ・ブロック3との2段分割構造とし
た点であり、従って、基板1は、その基板サイズの変更
時には、上側ステージ・ブロックのみの交換で、段取り
替えができる要素を持っている。
【0012】具体的には、図2において、基板1の基板
サイズ(基板シート外形寸法、シート内面付け寸法)に
合わせて、上側ステージ・ブロック2を加工し、この上
側ステージ・ブロック2を、下側ステージ・ブロック3
上に配置し、適当な、ボルト結合手段などの結合手段
で、一体化するのである。なお、両者の接合面における
密着性については、吸着作用により、確実に行われるの
で問題無い。
【0013】このような構成の、上下に2段分割される
構造である、吸着・加熱ステージでは、基板1が上側ス
テージ・ブロック2の吸着用凹部12へ、通路部10を
経由して、下側ステージ・ブロック3にある吸引用流通
路7を介して、真空引きがなされる。このためには、真
空ポンプなどの吸引源が機能することになる。
【0014】そして、このような状態で、温度センサー
6で測定された温度が所要値になるまで、加熱手段5が
働き、下側ステージ・ブロック3を加熱し、伝熱作用
で、上側ステージ・ブロックへ、そして、最後に、基板
1に対して、加熱を行う。
【0015】なお、この実施の形態では、下側ステージ
・ブロック3に設けられる吸引用流通路7が、加熱手段
(ヒーター)5や温度センサー6の設置個所に干渉しな
いように、その配置が工夫されている。なお、上側ステ
ージ・ブロック2のサイズ外にある、下側ステージ・ブ
ロック3上の流通路8の開口部には、閉栓部材9が着脱
可能に装着されている。
【0016】そして、基板サイズが変更される場合に
は、例えば、図7〜8に示すように、基板1'上での、
PGAパッケージの組み込み配列に合わせて、上側ステ
ージ・ブロック2'のサイズおよび吸着用凹部12の配
列を、変更する。この場合、下側ステージ・ブロック3
は、その上側ステージ・ブロック2'のサイズに対応し
て、閉栓する流通路8の数が変化する場合に、閉栓部材
9の着脱操作をするだけであって、そのまま、使用でき
る。
【0017】
【発明の効果】本発明は、以上詳述したようになり、基
板サイズ変更時には、上側ステージ・ブロックのみの交
換で、対応することが可能となり、ステージ交換作業の
時間を大幅に短縮すると共に、新規ステージの作製時の
コストおよび作製納期を最小限にすることができるなど
の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す分解斜視図である。
【図2】同じく、本発明の機能を説明するための、要部
を示す縦断側面図である。
【図3】同じく、PGAパッケージの配列状態を示す基
板の平面図である。
【図4】同じく、上側ステージ・ブロックの平面、断
面、および、底面図である。
【図5】同じく、下側ステージ・ブロックの平面、断
面、および、底面図である。
【図6】本発明において、パッケージ配列の変更がなさ
れた基板について、対応するための状態を示す、要部の
縦断面図である。
【図7】同じく、その基板の状態を示す平面図である。
【図8】同じく、変更基板に対応して、交換する上側ス
テージ・ブロックの平面、断面、および、底面図であ
る。
【符号の説明】
1、1' 基板 2、2' 上側ステージ・ブロック 3 下側ステージ・ブロック 4 搭載台 4A 通路 5 加熱手段(電熱ヒーター) 6 温度センサー 7 吸引用導通路 8 閉塞される導通路 9 閉塞部材 10 通路部 11 縦穴 12 吸着用凹部 14 コーナー部材

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 吸着・加熱ステージ上に、PGAパッケ
    ージ装着のための基板を配置し、前記ステージ上面に所
    要の配列で開口した吸着用凹部に吸引力を働かせて、前
    記基板を吸着し、前記ステージ側に設けた温度センサー
    で温度制御しながら、加熱手段で加熱するようにした、
    基板の吸着・加熱装置において、前記ステージは、前記
    温度センサーおよび加熱手段を備えると共に、吸引源と
    連通する所定の吸引用流通路を上面に開口した下側ステ
    ージ・ブロックと、前記流通路に連通する通路部を下面
    に備えると共に、該通路部を前記吸着用凹部に連通した
    上側ステージ・ブロックとから構成されていることを特
    徴とする、基板の吸着・加熱装置。
  2. 【請求項2】 前記下側ステージ・ブロックは、前記上
    側ステージ・ブロックの通路部に対応しない前記吸引用
    流通路に、閉栓部材を着脱自在に装着する構成になって
    いることを特徴とする請求項1に記載の、基板の吸着・
    加熱装置。
  3. 【請求項3】 前記上側ステージ・ブロックは、吸着・
    加熱される前記基板の大きさに対応して、その通路部が
    構成されていることを特徴とする請求項1あるいは2に
    記載の、基板の吸着・加熱装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002217241A (ja) * 2001-01-16 2002-08-02 Murata Mfg Co Ltd 加熱ステージ
JP2008177520A (ja) * 2006-12-20 2008-07-31 Fujikura Ltd リフロー半田付け方法及びリフロー半田付け装置
JP2019195032A (ja) * 2018-05-02 2019-11-07 株式会社テックメイク 電子部品実装装置

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JP2008177520A (ja) * 2006-12-20 2008-07-31 Fujikura Ltd リフロー半田付け方法及びリフロー半田付け装置
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