JP2000351893A - 難燃性ポリカーボネート樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 機械的物性、難燃性及び低モールドデポジッ
ト性に優れると共に、耐候性にも優れた難燃性ポリカー
ボネート樹脂組成物を提供することを課題とする。 【解決手段】 （ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂１０
０重量部に、（ｂ）特定構造のホスファゼン化合物０．
５〜４０重量部、（ｃ）ポリフルオロエチレン樹脂０．
０１〜５重量部、（ｄ）耐衝撃性改良剤０．５〜３０重
量部及び（ｅ）紫外線吸収剤０．０１〜１重量部を配合
してなる難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、難燃性ポリカーボ
ネート樹脂組成物、更に詳しくは耐候性に優れた難燃性
ポリカーボネート樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリカーボネート樹脂組成物は、優れた
エンジニアリングプラスチックとして各種分野に使用さ
れてきており、難燃性を必要とする用途にも使用されて
きている。難燃性ポリカーボネート樹脂としては、非ハ
ロゲン材料として、燐酸エステルに代表されるリン系難
燃剤を添加した樹脂組成物が数多く開示され、特に成形
時のモールドデポジットの問題から、例えば、レゾルシ
ンから誘導される構造を有する縮合型燐酸エステルを使
用する例が見られる。

【０００３】また、特開平６−２２８４２６号公報や特
開平７−５３８７６号公報には、ポリカーボネート樹脂
等の熱可塑性樹脂にビスフェノールから誘導される構造
を有する縮合燐酸エステルを配合した樹脂組成物が開示
されており、ブリード性あるいは耐加水分解性を改善す
ることが開示されている。

【０００４】しかしながら、縮合型燐酸エステルを配合
したポリカーボネート樹脂組成物は、耐候性の点で満足
できるものではない。

【０００５】さらに、特開昭５１ー３７１４９号公報、
特開昭５３ー７７２４７号公報及び特開平７ー２９２２
３３号公報には、ポリカーボネート樹脂等の熱可塑性樹
脂にホスファゼン化合物を配合した組成物が開示されて
いるが、該組成物の耐候性についての記載はなく、また
本発明者が実際に調べたところでは該組成物の耐候性は
不十分であった。

【０００６】加えて、従来の樹脂組成物では、燃焼時に
樹脂が溶融滴下してドリッピングを生じるために、難燃
性を発現するのが困難である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、機械的物
性、難燃性及び低モールドデポジット性に優れると共
に、耐候性にも優れた難燃性ポリカーボネート樹脂組成
物を提供することを課題とする。

【０００８】本発明は、燃焼時でも樹脂が溶融滴下して
ドリッピングを生じることのないポリカーボネート樹脂
組成物を提供することを課題とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するために鋭意研究を重ねた結果、（ａ）芳香族ポ
リカーボネート樹脂１００重量部に、（ｂ）ホスファゼ
ン化合物０．５〜４０重量部、（ｃ）ポリフルオロエチ
レン０．０１〜５重量部、（ｄ）耐衝撃性改良剤０．５
〜３０重量部及び（ｅ）紫外線吸収剤０．０１〜２重量
部を配合してなる樹脂組成物が所望の難燃性ポリカーボ
ネート樹脂組成物になり得ることを見い出した。本発明
は、斯かる知見に基づき完成されたものである。

【００１０】即ち、本発明は、（ａ）芳香族ポリカーボ
ネート樹脂１００重量部に、（ｂ）ホスファゼン化合物
０．５〜４０重量部、（ｃ）ポリフルオロエチレン０．
０１〜５重量部、（ｄ）耐衝撃性改良剤０．５〜３０重
量部及び（ｅ）紫外線吸収剤０．０１〜２重量部を配合
してなる難燃性ポリカーボネート樹脂組成物に係る。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明における（ａ）芳香族ポリ
カーボネート樹脂としては、例えば芳香族ヒドロキシ化
合物又はこれと少量のポリヒドロキシ化合物をホスゲン
又は炭酸のジエステルと反応させることによって作られ
る分岐していてもよい熱可塑性芳香族ポリカーボネート
重合体又は共重合体を挙げることができる。斯かるポリ
カーボネート重合体又は共重合体の製造方法について
は、限定されるものではなく、ホスゲン法（界面重合
法）、溶融法（エステル交換法）等の従来公知の各種方
法で製造することができる。

【００１２】また、本発明においては、溶融法で製造さ
れた、末端基のＯＨ基量を調整した芳香族ポリカーボネ
ート樹脂を使用することができる。

【００１３】芳香族ジヒドロキシ化合物としては、２,
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（＝ビス
フェノールＡ）、テトラメチルビスフェノールＡ、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベン
ゼン、ハイドロキノン、レゾルシノール、４，４−ジヒ
ドロキシジフェニル等が挙げられ、好ましくはビスフェ
ノールＡが挙げられる。

【００１４】分岐した芳香族ポリカーボネート樹脂を得
るには、フロログルシン、４，６−ジメチル−２，４，
６−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ヘプテン−２、
４，６−ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシ
フェニル）ヘプタン、２，６−ジメチル−２，４，６−
トリ（４−ヒドロキシフェニルヘプテン−３、１，３，
５−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，
１，１−トリ（４−ヒドロキシフェニル）エタン等のポ
リヒドロキシ化合物、あるいは３，３−ビス（４−ヒド
ロキシアリール）オキシインドール（＝イサチンビスフ
ェノール）、５−クロルイサチン、５，７−ジクロルイ
サチン、５−ブロムイサチン等を前記芳香族ジヒドロキ
シ化合物の一部として用い、上記の方法に従えばよい。
これらの化合物の使用量は、芳香族ジヒドロキシ化合物
に対して通常０．０１〜１０モル％、好ましくは０．１
〜２モル％である。

【００１５】芳香族ポリカーボネート樹脂の分子量を調
節するには、一価芳香族ヒドロキシ化合物を用いればよ
く、ｍ−及びｐ−メチルフェノール、ｍ−及びｐ−プロ
ピルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール及び
ｐ−長鎖アルキル置換フェノール等が挙げられる。

【００１６】好ましい芳香族ポリカーボネート樹脂とし
ては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンから誘導されるポリカーボネート樹脂、又
は２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンと
他の芳香族ジヒドロキシ化合物とから誘導されるポリカ
ーボネート共重合体等が挙げられる。

【００１７】本発明では、これら芳香族ポリカーボネー
ト樹脂は、１種単独で、又は２種以上混合して使用でき
る。

【００１８】芳香族ポリカーボネート樹脂の分子量は、
溶媒としてメチレンクロライドを用い、温度２５℃で測
定された溶液粘度より換算した粘度平均分子量で、好ま
しくは１６０００〜３００００であり、より好ましくは
１８０００〜２６０００である。

【００１９】本発明における（ｂ）成分のホスファゼン
化合物としては、分子中にリン及び窒素を含む化合物で
あり、従来公知のものを広く使用することができる。

【００２０】ホスファゼン化合物としては、例えば、
(1) 一般式（１）

【００２１】

【化４】

【００２２】〔式中ｍは３〜２５の整数を示す。Ｐｈは
フェニル基を示す。〕で表される環状フェノキシホスフ
ァゼン、(2) 一般式（２）

【００２３】

【化５】

【００２４】〔式中Ｘ¹は基−Ｎ＝Ｐ（ＯＰｈ）₃又は基
−Ｎ＝Ｐ（Ｏ）ＯＰｈを示し、Ｙ¹は基−Ｐ（ＯＰｈ）₄
又は基−Ｐ（Ｏ）（ＯＰｈ）₂を示す。ｎは３〜１００
００の整数を示す。Ｐｈは前記に同じ。〕で表される鎖
状フェノキシホスファゼン、並びに(3) 前記環状フェノ
キシホスファゼン及び前記鎖状フェノキシホスファゼン
からなる群より選ばれる少なくとも１種のホスファゼン
化合物が、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−
フェニレン基及び一般式（３）

【００２５】

【化６】

【００２６】〔式中Ａは−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＳＯ
₂−、−Ｓ−又は−Ｏ−を示す。ａは０又は１を示
す。〕で表されるビスフェニレン基からなる群より選ば
れる少なくとも１種の架橋基により架橋されてなる化合
物であって、（ａ）該架橋基はホスファゼン化合物のフ
ェニル基が脱離した２個の酸素原子間に介在し、（ｂ）
フェニル基の含有割合が上記ホスファゼン化合物（１）
及び／又は（２）中の全フェニル基の総数を基準に５０
〜９９．９％であり、且つ（ｃ）分子内にフリーの水酸
基を有していない架橋フェノキシホスファゼン化合物等
を挙げることができる。

【００２７】上記一般式（１）で表される環状フェノキ
シホスファゼン化合物及び一般（２）で表される鎖状フ
ェノキシホスファゼン化合物は、例えば、Ｈ.Ｒ.Ａｌｌ
ｃｏｃｋ著、″Ｐｈｏｓｐｈｏｒｕｓ−Ｎｉｔｒｏｇｅ
ｎ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ″,Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅ
ｓｓ,（１９７２）、Ｊ.Ｅ.Ｍａｒｋ、Ｈ.Ｒ.Ａｌｌｃ
ｏｃｋ、Ｒ.Ｗｅｓｔ著、″Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｐｏ
ｌｙｍｅｒｓ″Ｐｒｅｎｔｉｃｅ−Ｈａｌｌ Ｉｎｔｅ
ｒｎａｔｉｏｎａｌ,Ｉｎｃ.（１９９２）等に記載され
ている方法で合成することができる。

【００２８】その合成例として、例えばクロルベンゼン
又はテトラクロルエタン等を溶媒とし、塩化アンモニウ
ムと五塩化リン、又は塩化アンモニウムと三塩化リンと
塩素とを、１２０〜１３０℃程度で反応して得た一般式
（１）及び（２）のＯＰｈが塩素原子（Ｃｌ）で表さ
れ、且つ、ｍ及びｎが３から２５の整数で表される環状
及び鎖状のジクロルホスファゼンオリゴマー混合物にフ
ェノールを置換し、製造することができる。

【００２９】また、上記で得られた環状及び鎖状のジク
ロルホスファゼンオリゴマー混合物から、蒸留又は再結
晶により、ヘキサクロルシクロトリホスファゼン、オク
タクロルシクロテトラホスファゼン及びデカクロルシク
ロペンタホスファゼン等の環状のジクロルホスファゼン
の単一物を取り出し、これにフェノールを置換したヘキ
サフェノキシシクロトリホスファゼン、オクタフェノキ
シシクロテトラホスファゼン、又はデカフェノキシシク
ロペンタホスファゼン等の環状フェノキシホスファゼン
化合物が挙げられる。

【００３０】また、ヘキサクロルシクロトリホスファゼ
ンを２２０〜２５０℃に加熱し、開環重合して得られる
一般式（２）のｎが３から１０,０００の整数で表され
る鎖状のジクロルホスファゼンにフェノールを置換した
鎖状フェノキシホスファゼン化合物を挙げることができ
る。

【００３１】ジクロルホスファゼンは、環状のジクロル
ホスファゼンと鎖状のジクロルホスファゼンとを混合し
たまま、又は分離して各々単独で、用いてもよい。

【００３２】架橋フェノキシホスファゼン化合物は、前
記一般式（１）及び／又は（２）で表される環状及び／
又は鎖状ホスファゼン化合物中のフェニル基の一部が、
分子内に１又は２個以上のベンゼン環を有し且つ２個の
ヒドロキシ基を有する芳香族ジヒドロキシ化合物で置き
換え、すなわち、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン
基、ｐ−フェニレン基及び前記一般式（３）で表される
（架橋）基で、架橋することで製造することができる。

【００３３】具体的には、前記のジクロルホスファゼン
化合物に、先ずフェノールのアルカリ金属塩及びジヒド
ロキシ化合物のアルカリ金属塩の混合物を反応させ、ク
ロルホスファゼン化合物の塩素が一部残存した部分置換
体を合成した後、次にフェノールのアルカリ金属塩を反
応することにより、ジヒドロキシ化合物の片端ヒドロキ
シ基が実質的になく、架橋構造によって高分子量化した
フェノキシホスファゼン化合物を得ることができる。ジ
クロルホスファゼン化合物と、フェノール及び／又は芳
香族ジヒドロキシ化合物のアルカリ金属塩との反応は、
通常、室温〜１５０℃程度の温度で、トルエン等の芳香
族炭化水素類、クロルベンゼン等のハロゲン化芳香族炭
化水素類等の溶媒中にて行われる。

【００３４】架橋ホスファゼン化合物の製造法を、さら
に詳しく説明すると、第一段目の反応において、ジクロ
ルホスファゼンオリゴマーに対するフェノールのアルカ
リ金属塩と芳香族ジヒドロキシ化合物のアルカリ金属塩
の使用量を、両アルカリ金属塩の合計量で、通常０．０
５〜０．９当量程度（ジクロルホスファゼンオリゴマー
の塩素量を基準として）、好ましくは０．１〜０．８当
量程度（塩素量を基準として）とすればよい。

【００３５】第一段目の反応において、ジクロルホスフ
ァゼンオリゴマーに対するフェノールのアルカリ金属塩
と芳香族ジヒドロキシ化合物のアルカリ金属塩の使用量
が０．０５当量より著しく少ないと、使用できる芳香族
ジヒドロキシ化合物の量が少なく、架橋化合物の効果が
低くなる。一方、使用量が０．９当量より大幅に大きく
なると、ジヒドロキシ化合物の片端ヒドルキシ基が実質
的にない架橋フェノキシホスファゼン化合物が得られ難
くなる。

【００３６】両アルカリ金属塩の使用比（芳香族ジヒド
ロキシ化合物のアルカリ金属塩／フェノールのアルカリ
金属塩、モル比）は特に制限はなく広い範囲から適宜選
択できるが、通常１／２０００〜１／４程度とすればよ
い。この範囲内で、所望の架橋フェノキシホスファゼン
化合物を得ることができる。この使用比が１／２０００
より著しく小さいと、架橋化合物の効果が低くなり、ポ
リカーボネート樹脂のドリッピングを防止することが困
難になる可能性がある。一方、使用比が、１／４より大
幅に大きくなると、架橋が進みすぎて、得られる架橋フ
ェノキシホスファゼン化合物が不溶、不融となり、樹脂
への分散が低下する虞が生ずる場合がある。

【００３７】次の第二段目の反応において、フェノール
のアルカリ金属塩の使用量を通常１〜１．５当量程度
（ジクロルホスファゼンオリゴマーの塩素量を基準とし
て）、好ましくは１〜１．２当量程度（塩素量を基準と
して）とすればよい。

【００３８】架橋ホスファゼン化合物の製造に用いられ
る芳香族ジヒドロキシ化合物としては、例えば、レゾル
シノール、ハイドロキノン、カテコール、４，４’−イ
ソプロピリデンジフェノール（ビスフェノール−Ａ、
４，４’−スルホニルジフェノール（ビスフェノール−
Ｓ）、４，４’−チオジフェノール、４，４’−オキシ
ジフェノール、４，４’−ジフェノール類を挙げること
ができる。また、芳香族ジヒドロキシ化合物及び／又は
フェノールのアルカリ金属塩としては、ナトリウム塩、
カリウム塩、リチウム塩等が好ましい。芳香族ジヒドロ
キシ化合物は、一種を単独で使用、又は２種以上を併用
することができる。

【００３９】架橋フェノキシホスファゼン化合物中のフ
ェニル基の含有量は、上記ホスファゼン化合物（１）及
び又は（２）中の全フェニル基の総数を基準に５０〜９
９．９％であり、好ましくは７０〜９０％である。

【００４０】斯くして本発明の（ｂ）成分として使用さ
れるホスファゼン化合物が、すなわち、一般式（１）で
表される環状ホスファゼン化合物、一般式（２）で表さ
れる鎖状ホスファゼン化合物、並びに、前記一般式
（１）及び／又は一般式（２）で表される環状及び鎖状
ホスファゼン化合物中のフェニル基の一部がｏ−フェニ
ル基、ｍ−フェニル基、ｐ−フェニル基及び前記一般式
（３）で表される架橋基で置き換えられた架橋フェノキ
シホスファゼン化合物が製造される。

【００４１】本発明の鎖状、環状及び架橋フェノキシホ
スファゼン化合物はハロゲンを含まないことから、分解
又は燃焼する際に、ハロゲン化水素等の生物に対する有
害ガスや煙を発生することがない。また、樹脂成形時に
金型の腐食や樹脂の劣化及び着色を起こすことはない。
また、上記フェノキシホスファゼン化合物は、樹脂の成
形温度を低下させることなく、揮発性が低く、混練時の
ブロッキングや滲みだし（ジューシング）、燃焼時のド
リッピング等の問題が生じることはない。

【００４２】また、本発明の架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物は、ジヒドロキシ化合物の片端ヒドロキシ基が
実質的にない架橋フェノキシホスファゼン化合物である
ことから、樹脂の分子量を低下させることがなく、耐衝
撃性等の機械的特性、耐熱性、成形加工性等の樹脂本来
の特性を低下させることがない。

【００４３】(ｂ)成分であるホスファゼン化合物の配合
量は、芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に対
し、０．５〜４０重量部である。ホスファゼン化合物の
添加量が０．５重量部未満であると難燃性が不十分であ
り、４０重量部を越えると機械的物性が低下しやすい。
ホスファゼン化合物の配合量は、芳香族ポリカーボネー
ト樹脂１００重量部に対し、好ましくは１〜３０重量
部、さらに好ましくは２〜２５重量部である。

【００４４】本発明において（ｃ）成分として用いられ
るポリフルオロエチレンとしては、例えばフィブリル形
成能を有するポリテトラフルオロエチレン等が挙げら
れ、重合体中に容易に分散し、且つ重合体同士を結合し
て繊維状材料を作る傾向を示すものである。フィブリル
形成能を有するポリテトラフルオロエチレンはＡＳＴＭ
規格でタイプ３に分類される。

【００４５】フィブリル形成能を有するポリテトラフル
オロエチレンとしては、例えば三井・デュポンフロロケ
ミカル（株）よりテフロン６Ｊ又はテフロン３０Ｊとし
て、あるいはダイキン工業（株）よりポリフロンとして
市販されている。

【００４６】ポリフルオロエチレンの配合量は、芳香族
ポリカーボネート樹脂１００重量部に対し、０．０１〜
５重量部である。ポリフルオロエチレンが０．０１重量
部未満であると難燃性が不十分であり、５重量部を越え
ると成形品外観の低下が起こりやすい。ポリフルオロエ
チレンの配合量は、芳香族ポリカーボネート樹脂１００
重量部に対し、好ましくは０．０２〜４重量部であり、
さらに好ましくは０．０５〜３重量部である。

【００４７】本発明において（ｄ）成分として用いられ
る耐衝撃性改良剤としては、例えばアクリル系ゴム、ス
チレン／水添ブタジエン／スチレンブロック共重合体、
スチレン／水添イソプレン／スチレンブロック共重合
体、ＡＥＳ樹脂、ＡＡＳ樹脂、ポリブタジエン、ブタジ
エン／スチレン共重合体、ポリイソプレン等が挙げら
れ、好ましくは、アクリル系ゴム、スチレン／水添ブタ
ジエン／スチレンブロック共重合体、スチレン／水添イ
ソプレン／スチレンブロック共重合体、ＡＥＳ樹脂、Ａ
ＡＳ樹脂等が挙げられ、より好ましくは、アクリル系ゴ
ム等が挙げられる。

【００４８】アクリル系ゴムとしては、例えば、アルキ
ル（メタ）アクリレート系重合体を含む多層構造重合体
等が挙げられる。アクリル酸アルキル重合体におけるア
ルキル基の炭素数は１〜８程度である。アクリル酸アル
キル重合体としては、例えば、アクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸エチルヘキシル等が挙げられ
る。アクリル酸アルキル重合体には、エチレン性不飽和
単量体等の架橋剤が用いられていてもよい。架橋剤とし
ては、例えば、アルキレンジオール、ジ（メタ）アクリ
レート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ジビニ
ルベンゼン、トリビニルベンゼン、シアヌル酸トリアリ
ル、（メタ）アクリル酸アリル等が挙げられる。

【００４９】アルキル（メタ）アクリレート系重合体を
含む多層構造重合体としては、例えば飽和あるいは不飽
和のゴム成分からなるコアとアルキル（メタ）アクリレ
ートからなるシェルとからなる多層構造重合体を挙げる
ことができる。ここでコアになる飽和あるいは不飽和の
ゴム成分としては、例えば、アルキルアクリレート、ブ
タジエン、ブタジエン／スチレン共重合体等が挙げられ
る。シェルになるアルキル（メタ）アクリレートとして
は、アルキル基の炭素数が１〜８程度のアルキル（メ
タ）アクリレート等が挙げられる。また、多層構造重合
体は、最内核層を芳香族ビニル単量体からなる重合体で
形成し、中間層をガラス転移温度の低いゴム状重合体で
形成し、さらに最外郭層をアルキル（メタ）アクリレー
ト系重合体で形成した多層構造重合体であってもよい。
このような多層構造重合体は、例えば先の段階の重合体
を後の段階の重合体が順次被覆するような連続した多段
階シード重合によって製造される。

【００５０】耐衝撃性改良剤の配合量は、芳香族ポリカ
ーボネート樹脂１００重量部に対し、０．５〜３０重量
部である。耐衝撃性改良剤が０．５重量部未満であると
耐衝撃性が不十分であり、３０重量部を越えると成形品
外観の低下が起こりやすい。耐衝撃性改良剤の配合量
は、芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に対し、
好ましくは１〜２５重量部であり、さらに好ましくは２
〜２０重量部である。

【００５１】本発明において（ｅ）成分として用いられ
る紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾト
リアゾール系、サリチル酸フェニル系、ヒンダードアミ
ン系等の従来公知の紫外線吸収剤等が挙げられる。

【００５２】ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、
例えば２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒド
ロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒド
ロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，
２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、
２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−ベン
ゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシ−
ベンゾフェノン等が挙げられる。

【００５３】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は、例えば２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ
−ブチル，５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
等が挙げられる。

【００５４】サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤として
は、例えばフェニルサルチレート、２，４−ジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル４
−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。

【００５５】ヒンダードアミン系紫外線吸収剤として
は、例えばビス（２，２，６，６−テトラメチルピペジ
ニル４）セパケート等が挙げられる。

【００５６】紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線
の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変
換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放
出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防
止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、
あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤
的に作用する光安定剤等も併用することができる。

【００５７】紫外線吸収剤の配合量は、芳香族ポリカー
ボネート樹脂１００重量部に対し、０．０１〜２重量部
である。紫外線吸収剤が０．０１重量部未満であると耐
侯性が不十分であり、２重量部を越えると黄味が強くな
り調色性に劣り、またブリードアウトの原因になりやす
い。紫外線吸収剤の配合量は、芳香族ポリカーボネート
樹脂１００重量部に対し、好ましくは０．０５〜１．８
重量部であり、さらに好ましくは０．１〜１．５重量部
である。

【００５８】本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成
物において任意成分として配合される酸化チタンは、成
形品の白色度、遮光性、光線反射率等を向上させる。酸
化チタンは、硫酸法又は塩素法により製造されるが、硫
酸法で製造された酸化チタンは、白色度の点で塩素法で
製造された酸化チタンに劣るので、塩素法で製造された
ものが好適である。酸化チタンの結晶形態にはルチル型
とアナターゼ型があり、白色度、光線反射率及び耐光性
の観点からはルチル型が優れており、結晶形態はルチル
型が好適である。

【００５９】酸化チタンは表面処理されていない場合
は、樹脂組成物を高温で溶融混練する際に、ポリカーボ
ネート樹脂の分子量低下や変色を引き起こしやすいの
で、表面処理されているものが好ましい。

【００６０】酸化チタンの表面処理は、アルミナ水和
物、珪酸水和物から選ばれた１種以上の無機系表面処理
剤によって行われる。また、有機系表面処理剤、特に、
シリコーン系化合物で処理されている酸化チタンが好ま
しい。シリコーン系化合物としては、ポリオルガノシロ
キサン（特公昭６３ー２６１４０号公報参照）、ポリ炭
化水素シロキサン（特公昭６３ー３１５１３号公報参
照）、シランカップリング剤（特公平３ー２１８９号公
報参照）等が挙げられる。

【００６１】酸化チタンの平均粒子径は、好ましくは
０．０５〜０．５μｍである。平均粒子径が０．０５μ
ｍ未満であると得られる成形品の遮光性及び光線反射率
が不十分になりやすく、０．５μｍを越えると成形品の
遮光性及び光線反射率が不十分なりやすく、更に成形品
表面外観の低下や衝撃強度の低下を生じやすい。平均粒
子径は、より好ましくは０．０８〜０．４５μｍであ
り、最も好ましくは０．１〜０．４μｍである。

【００６２】酸化チタンの配合量は、ポリカーボネート
樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１〜２０重
量部である。酸化チタンを配合することで成形品の遮光
性が向上するが、２０重量部を越えると衝撃強度の低下
を生じやすい。酸化チタンの配合量は、ポリカーボネー
ト樹脂１００重量部に対して、より好ましくは１〜１５
重量部である。

【００６３】本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成
物の製造方法としては、特に制限はなく、例えば、芳香
族ポリカーボネート樹脂、ホスファゼン化合物、ポリテ
トラフルオロエチレン、耐衝撃性改良剤及び紫外線吸収
剤を一括溶融混練する方法、芳香族ポリカーボネート樹
脂、ホスファゼン化合物及びポリテトラフルオロエチレ
ンを予め混練後、耐衝撃性改良剤及び紫外線吸収剤を配
合し溶融混練する方法等が挙げられる。

【００６４】本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成
物には、必要に応じて、酸化防止剤等の安定剤、顔料、
染料、滑剤、その他難燃剤、離型剤、摺動性改良剤等の
添加剤、ガラス繊維、炭素繊維等の繊維状強化材、マイ
カ、タルク、ガラスフレーク等の板状強化材あるいはチ
タン酸カリウム、ホウ酸アルミニウム等のウィスカーを
添加配合することができる。

【００６５】本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成
物においては、その特性を損なわない範囲で、スチレン
系樹脂、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテ
レフタレートのようなポリエステル樹脂、ポリアミド樹
脂、ポリオレフィン樹脂等の熱可塑性樹脂を配合するこ
とができる。こうした熱可塑性樹脂の配合量は、好まし
くは本発明の樹脂組成物の４０重量％以下、より好まし
くは３０重量％以下である。

【００６６】本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成
物は、非ハロゲンホスファゼン化合物を配合してなる難
燃性ポリカーボネート樹脂組成物であり、本発明の樹脂
組成物において配合される成分は、それぞれ非塩素、非
臭素であることから、成形機や金型の腐食問題をなくす
上で好ましい材料である。

【００６７】本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成
物は、通常の成形手段を適用することにより、難燃性ポ
リカーボネート樹脂成形体とすることができる。

【００６８】

【発明の効果】本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組
成物は、衝撃強度、難燃性及び耐熱性に優れ、且つ耐候
性にも優れており、更に、成形時の金型及びスクリュー
等の腐食性の問題やモールドデポジットもなく成形性に
も優れている。

【００６９】また、本発明の難燃性ポリカーボネート樹
脂組成物は、燃焼時でも樹脂が溶融滴下してドリッピン
グを生じることはない。

【００７０】そのため、本発明の難燃性ポリカーボネー
ト樹脂組成物を成形して得られる成形体は、電気・電子
分野、自動車分野、一般工業分野のみならず耐候性の要
求される分野でも使用でき、耐候性の不足を補うための
塗装等の二次加工を必要とせず、製品の無塗装化が可能
であり工業的価値は大である。

【００７１】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。

【００７２】下記の実施例及び比較例においては次に記
載の原材料を用いた。

【００７３】（１）ポリカーボネート樹脂：ユーピロン
Ｓ−３０００、三菱エンジニアリングプラスチックス
（株）製、粘度平均分子量２１０００、ポリ−４，４−
イソプロピリデンジフェニルカーボネート（以下、「Ｐ
Ｃ」とも称する。）。

【００７４】（２）ホスファゼン：下記の合成例１〜４
に示す環状、鎖状及び架橋フェノキシホスファゼン化合
物 （３）燐酸エステル−１：燐酸エステルＴＰＰ、大八化
学工業（株）製。

【００７５】（４）燐酸エステル−２：下記式（４）で
示される縮合燐酸エステル（ｎ＝１．３）、ＣＲ−７３
３、大八化学工業（株）製。

【００７６】

【化７】

【００７７】（５）燐酸エステル−３：下記式（５）で
示される縮合燐酸エステル（ｎ＝１．０１）、ＦＰ−５
００、旭電化工業（株）製。

【００７８】

【化８】

【００７９】（６）燐酸エステル−４：下記式（６）で
示される縮合燐酸エステル（ｎ＝１．１）、ＣＲ−７４
７、大八化学工業（株）製。

【００８０】

【化９】

【００８１】（７）ポリテトラフルオロエチレン（以
下、ＰＴＦＥと記す。）：ポリフロンＦ−２０１Ｌ、ダ
イキン（株）。

【００８２】（８）耐衝撃性改良剤−１：アルキルアク
リレートコア／メチルアクリレートシェルの多層構造重
合体、ＥＸＬ２３１５、呉羽化学工業（株）製。

【００８３】（９）耐衝撃性改良剤−２：ブタジエンコ
ア／メチルアクリレートシェルの多層構造重合体、ＥＸ
Ｌ２６０３、呉羽化学工業（株）製。

【００８４】（１０）紫外線吸収剤：２−（２’−ヒド
ロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール。

【００８５】（１１）酸化チタン：表面処理酸化チタ
ン、ＰＣ−３ 石原産業（株）製、塩素法で製造され、
平均粒子径０．２８μｍで、無機系表面処理剤のアルミ
ナ水和物と珪酸水和物で表面処理された後、有機系表面
処理剤のオルガノ水素シロキサンで表面処理されたルチ
ル型酸化チタン。

【００８６】なお、試験片の物性評価は次に記載のよう
に行った。

【００８７】（１２）燃焼性：０．８ｍｍ厚みのＵＬ規
格の試験片により垂直燃焼試験を行い、ＵＬ規格（ＵＬ
−９４）に準拠して評価した。

【００８８】（１３）色相（ＹＩ）及び反射率：９０ｍ
ｍ×５０ｍｍ×３ｍｍのプレートを成形し、色相を多光
源分光測色計ＭＳＣ−５Ｎ（スガ試験機製）で測定し、
反射率は分光光度計Ｕ−３４００（日立製作所製）によ
り波長５５０ｎｍにおける光線反射率を測定した。

【００８９】（１４）モールドデポジット性：各実験例
に記載された燃焼試験片の成形条件にて、５００ショッ
ト連続成形を行い、終了後金型の付着物の有無について
評価を行った。○：金型の付着物が少ない。×：金型の
付着物が多い。

【００９０】合成例１（環状フェノキシホスファゼン化
合物の合成） Ｈ．Ｒ．Ａｌｌｃｏｃｋ著、“Ｐｈｏｓｐｈｏｒｕｓ−
Ｎｉｔｒｏｇｅｎ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ“，Ａｃａｄｅ
ｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ，（１９７２）に記載の方法に準じ
て、環状フェノキシホスファゼン化合物を製造した。

【００９１】すなわち、ジクロルホスファゼンオリゴマ
ー（３量体６２％、４量体３８％の混合体）１．０ユニ
ットモル（１１５．９ｇ）を含む２０％クロルベンゼン
溶液５８０ｇに、ナトリウムフェノラートのトルエン溶
液を攪拌下で添加した後、１１０℃で４時間反応した。
生成後の加水分解塩素は０．０８％で、環状フェノキシ
ホスファゼン化合物を得た。

【００９２】合成例２（パラフェニレンによる架橋構造
を有するフェノキシホスファゼン化合物の合成） １．１モル（１０３．５ｇ）のフェノール、１．１モル
（４４．０ｇ）の水酸化ナトリウム、水５０ｇ、及びト
ルエン５００ｍｌの混合物を加熱還流し、水のみを系外
に取り除くことにより、ナトリウムフェノラートのトル
エン溶液を調製した。

【００９３】前記反応と並行し、２リットル四つ口フラ
スコに０．１５モル（１６．５ｇ）のハイドロキノン、
１．０モル（９４．１ｇ）のフェノール、１．３モル
（３１．１ｇ）の水酸化リチウム、水５２ｇ及びトルエ
ン６００ｍｌの混合物を入れ、加熱還流し、水のみを系
外に取り除くことにより、ハイドロキノンとフェノール
のリチウム塩のトルエン溶液を調製した。このトルエン
溶液にジクロルホスファゼンオリゴマー（３量体６２
％、４量体１２％、５量体及び６量体１１％、７量体３
％、８量体以上１２％の混合物）１．０ユニットモル
（１１５．９ｇ）を含む２０％クロルベンゼン溶液５８
０ｇを、攪拌下で３０℃以下で滴下した後、１１０℃で
３時間攪拌反応した。次に、先に調製したナトリウムフ
ェノラートのトルエン溶液を攪拌下で添加した後、１１
０℃で４時間反応を継続した。

【００９４】反応終了後、反応混合物を３％水酸化ナト
リウム水溶液１．０リットルで３回洗浄し、次に、水
１．０リットルで３回洗浄した後、有機層を減圧下で濃
縮した。得られた生成物を８０℃、３ｍｍＨｇ以下で１
１時間加熱真空乾燥して、２１１ｇの微黄色粉末を得
た。

【００９５】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物の加水分解塩素は０．０４％、重量平均分子量
（Ｍｗ）はポリスチレン換算（ＧＰＣ分析による）で１
０８０であり、リン含有率並びにＣＨＮ元素分析値より
最終物の組成は、［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−ｐ−Ｐｈ−Ｏ−）
_0.15（−Ｏ−Ｐｈ）_1.7］であった。重量平均分子量
（Ｍｗ）はポリスチレン換算（ＧＰＣ分析による）で１
１００であり、ＴＧ／ＤＴＡ分析では明確な融点は示さ
ず、分解開始温度は３０６℃、５％重量減少温度は３１
１℃であった。またアセチル化法によって残存ヒドロキ
シ基の定量を行った結果、検出限界（サンプル１ｇ当た
りのヒドロキシ当量として：１×１０^-6当量／ｇ以下）
以下であった。

【００９６】合成例３（２，２−ビス（ｐ−オキシフェ
ニル）イソプロピリデン基による架橋構造を有するフェ
ノキシホスファゼン化合物の合成） フェノール０．７モル（６５．９ｇ）及びトルエン５０
０ｍｌを１リットル四つ口フラスコに入れ、攪拌下、内
部の液温を２５℃に保ちつつ、金属ナトリウム０．６５
グラム原子（１４．９ｇ）を細かく裁断して投入した。
投入終了後７７〜１１３℃で金属ナトリウムが完全に消
失するまで８時間攪拌を続けた。

【００９７】前記反応と並行し、ビスフェノール−Ａ
０．２５モル（５７．１ｇ）、フェノール１．１モル
（１０３．５ｇ）及びテトラヒドルフラン（ＴＨＦ）８
００ｍｌを３リットル四つ口フラスコに入れ、攪拌下、
内部の液温を２５℃に保ちつつ、金属リチウム１．６グ
ラム原子（１１．１ｇ）を細かく裁断して投入した。投
入終了後、６１〜６８℃で金属リチウムが完全に消失す
るまで、８時間攪拌を続けた。このスラリー溶液にジク
ロルホスファゼンオリゴマー（濃度：３７％、クロルベ
ンゼン溶液３１３ｇ、組成：３量体７５％、４量体１７
％、５量体及び６量体６％、７量体１％、８量体以上１
％の混合体）１．０モル（１１５．９ｇ）を攪拌下、内
部の液温を２０℃以下に保ちつつ、１時間かけて滴下し
た後、８０℃で２時間反応した。次いで攪拌下、内部の
液温を２０℃に保ちつつ、別途調製したナトリウムフェ
ノラート溶液を１時間かけて添加した後、８０℃で５時
間反応した。

【００９８】反応終了後、反応混合物を濃縮しＴＨＦを
除き、新たにトルエン１リットルを添加した。このトル
エン溶液を２％ＮａＯＨ １リットルで３回洗浄し、次
に、水１リットルで３回洗浄した後、有機層を減圧下で
濃縮した。得られた生成物を８０℃、３ｍｍＨｇ以下で
１１時間加熱真空乾燥して、２２９ｇの白色粉末を得
た。

【００９９】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物の加水分解塩素は０．０７％、リン含有率並び
にＣＨＮ元素分析値より最終物の組成は、［Ｎ＝Ｐ（−
Ｏ−Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ₃）₂−Ｐｈ−Ｏ−）_0.25（−Ｏ−Ｐ
ｈ）_1.50］であった。重量平均分子量（Ｍｗ）はポリス
チレン換算（ＧＰＣ分析による）で１１３０であり、Ｔ
Ｇ／ＤＴＡ分析では明確な融点は示さず、分解開始温度
は３０８℃、５％重量減少温度は３１３℃であった。ま
た、アセチル化法によって残存ヒドロキシル基の定量を
行った結果、検出限界（サンプル１ｇ当たりのヒドロキ
シル当量として：１×１０^-6当量／ｇ以下）以下であっ
た。

【０１００】合成例４（４，４−スルホニルジフェニレ
ン（ビスフェノール−Ｓ残基）による架橋構造を有する
フェノキシホスファゼン化合物の合成） フェノール０．４モル（３７．６ｇ）及びＴＨＦ ５０
０ｍｌを１リットル四つ口フラスコに入れ、攪拌下、内
部の液温を２５℃に保ちつつ、金属ナトリウム０．４５
グラム原子（９．２ｇ）を細かく裁断して投入した。投
入終了後６５〜７２℃で金属ナトリウムが完全に消失す
るまで５時間攪拌を続けた。

【０１０１】前記反応と並行し、１リットルの四つ口フ
ラスコで、フェノール１．７０モル（１６０．０ｇ）と
ビスフェノール−Ｓ ０．０５モル（１２．５ｇ）をテ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）５００ｍｌに溶解し、２５
℃以下で金属ナトリウム１．８グラム原子（４１．４
ｇ）を投入し、投入終了後１時間かけて６１℃まで昇
温、６１℃〜６８℃で６時間攪拌を続け、ナトリウムフ
ェノラート混合溶液を調製した。この溶液をジクロルホ
スファゼンオリゴマー（３量体６２％、４量体１２％、
５量体及び６量体１１％、７量体３％、８量体以上１２
％の混合体）１．０ユニットモル（１１５．９ｇ）を含
む２０％クロルベンゼン溶液５８０ｇに、２５℃以下の
冷却・攪拌下で滴下後、７１〜７３℃で５時間攪拌反応
した。

【０１０２】次に、先に調製したナトリウムフェノラー
ト混合溶液を滴下した後、７１〜７３℃で３時間反応を
継続した。

【０１０３】反応終了後、反応混合物を濃縮し、クロル
ベンゼン５００ｍｌに再溶解した後、５％ＮａＯＨ水洗
浄を３回、５％硫酸洗浄、５％重曹水洗浄、水洗３回を
行い、濃縮乾固して淡黄色のワックス状物２１８ｇを得
た。

【０１０４】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物の加水分解塩素は０．０１％以下であり、燐含
有率並びにＣＨＮ元素分析値より、この物の組成はほぼ
［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−ＳＯ₂−Ｐｈ-Ｏ−）_0.05（−Ｏ
−Ｐｈ）_1.90］と決定した。重量平均分子量（Ｍｗ）は
ポリスチレン換算で１０８０であり、ＴＧ／ＤＴＡ分析
による融解温度（Ｔｍ）は１０３℃、分解開始温度は３
２０℃、５％重量減少温度は３３４℃であった。また、
アセチル化法によって残存ヒドロキシ基の定量を行った
結果、検出限界（サンプル１ｇ当たりのヒドロキシ当量
として：１×１０^-6当量／ｇ以下）以下であった。

【０１０５】実施例１ ＰＣ樹脂１００重量部に、１１．８重量部のホスファゼ
ン化合物（合成例１にて製造）、５．９重量部の耐衝撃
性改良剤−１、０．３５重量部のＰＴＦＥ及び０．３５
重量部の紫外線吸収剤を配合し、タンブラーにて２０分
混合後、３０ｍｍ二軸押出機にてシリンダー温度２７０
℃でペレット化し、射出成形機にて、シリンダー温度２
８０℃にて０．８ｍｍ厚みの燃焼試験片を成形し、ＵＬ
試験法に従って評価した。さらに、シリンダー温度２８
０℃にて、５００ショット連続成形を行い、成形後の金
型付着物を目視判定した。さらに、２８０℃にてプレー
トを成形し、プレートにてサンシャインフェードで耐候
性評価（２００時間）を行いその前後の色相を評価し
た。アイゾット衝撃強度及び荷重撓み温度評価に使用す
る試験片についても、２８０℃にて成形を行い使用し
た。評価結果を表１に示す。

【０１０６】実施例２ 実施例１において、ホスファゼン化合物（合成例１にて
製造）をホスファゼン化合物（合成例２にて製造）に変
更する以外は実施例１と同様の方法でペレット化し、同
様に成形、評価を行った。結果を表１に示す。

【０１０７】実施例３ 実施例１において、ホスファゼン化合物（合成例１にて
製造）をホスファゼン化合物（合成例３にて製造）に変
更する以外は実施例１と同様の方法でペレット化し、同
様に成形、評価を行った。結果を表１に示す。

【０１０８】実施例４ 実施例１において、ホスファゼン化合物（合成例１にて
製造）をホスファゼン化合物（合成例４にて製造）に変
更する以外は実施例１と同様の方法でペレット化し、同
様に成形、評価を行った。結果を表１に示す。

【０１０９】比較例１ 実施例１において、ホスファゼン化合物（合成例１にて
製造）を燐酸エステル−２に変更する以外は実施例１と
同様の方法でペレット化し、同様に成形、評価を行っ
た。結果を表１に示す。

【０１１０】比較例２ 実施例１において、ホスファゼン化合物（合成例１にて
製造）を燐酸エステル−３に変更する以外は実施例１と
同様の方法でペレット化し、同様に成形、評価を行っ
た。結果を表１に示す。

【０１１１】比較例３ 実施例１において、ホスファゼン化合物（合成例１にて
製造）を燐酸エステル−４に変更する以外は実施例１と
同様の方法でペレット化し、同様に成形、評価を行っ
た。結果を表１に示す。

【０１１２】実施例５ 実施例１における組成に、さらに酸化チタンを１６．２
重量部添加し、実施例１と同様の方法でペレット化し、
同様に成形、評価を行った。評価においては、耐候性評
価前後のプレートでの反射率も測定した。結果を表１に
示す。

【０１１３】実施例６ 実施例５において、耐衝撃性改良剤−１を耐衝撃性改良
剤−２に変更する以外は実施例１と同様の方法でペレッ
ト化し、同様に成形、評価を行った。結果を表１に示
す。

【０１１４】比較例４ 実施例５において、ホスファゼン化合物（合成例１にて
製造）を燐酸エステル−１に変更した以外は、実施例１
と同様の方法でペレット化し、同様に成形、評価を行っ
た。結果を表１に示す。

【０１１５】比較例５ 実施例５において、ホスファゼン化合物（合成例１にて
製造）を燐酸エステル−２に変更した以外は、実施例１
と同様の方法でペレット化し、同様に成形、評価を行っ
た。結果を表１に示す。

【０１１６】比較例６ 実施例５において、ホスファゼン化合物（合成例１にて
製造）を燐酸エステル−３に変更した以外は、実施例１
と同様の方法でペレット化し、同様に成形、評価を行っ
た。結果を表１に示す。

【０１１７】比較例７ 実施例５において、ホスファゼン化合物（合成例１にて
製造）を燐酸エステル−４に変更した以外は、実施例１
と同様の方法でペレット化し、同様に成形、評価を行っ
た。結果を表１に示す。

【０１１８】

【表１】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） (Ｃ０８Ｌ 69/00 85:02 27:18 33:10） (72)発明者 石井 一彦 神奈川県平塚市東八幡５丁目６番２号 三 菱エンジニアリングプラスチックス株式会 社技術センター内 (72)発明者 多田 祐二 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚化 学株式会社徳島研究所内 Ｆターム(参考） 4J002 BD15Y BG04Z CG011 CG031 CQ01X DE138 EE037 EH127 EU077 EU177 EW156 FB078 FB098 FD057 FD130 GN00 GQ00 4J030 BA26 BA42 BB65 BB73 BC02 BC08 BD01 BD06 BF15 BG04 BG14 BG27 CA02 CB48 CD03 CD05 CE02 CF02 CG01 CG22

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂１０
   ０重量部に、（ｂ）ホスファゼン化合物０．５〜４０重
   量部、（ｃ）ポリフルオロエチレン０．０１〜５重量
   部、（ｄ）耐衝撃性改良剤０．５〜３０重量部及び
   （ｅ）紫外線吸収剤０．０１〜２重量部を配合してなる
   難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
2. 【請求項２】 （ｂ）成分のホスファゼン化合物が一般
   式（１） 【化１】 〔式中ｍは３〜２５の整数を示す。Ｐｈはフェニル基を
   示す。〕で表される環状フェノキシホスファゼン、一般
   式（２） 【化２】 〔式中Ｘ¹は基−Ｎ＝Ｐ（ＯＰｈ）₃又は基−Ｎ＝Ｐ
   （Ｏ）ＯＰｈを示し、Ｙ¹は基−Ｐ（ＯＰｈ）₄又は基−
   Ｐ（Ｏ）（ＯＰｈ）₂を示す。ｎは３〜１００００の整
   数を示す。Ｐｈは前記に同じ。〕で表される鎖状フェノ
   キシホスファゼン、並びに前記環状フェノキシホスファ
   ゼン及び前記鎖状フェノキシホスファゼンからなる群よ
   り選ばれる少なくとも１種のホスファゼン化合物が、ｏ
   −フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基
   及び一般式（３） 【化３】 〔式中Ａは−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＳＯ₂−、−Ｓ−又は
   −Ｏ−を示す。ａは０又は１を示す。〕で表されるビス
   フェニレン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の
   架橋基により架橋されてなる化合物であって、（ａ）該
   架橋基はホスファゼン化合物のフェニル基が脱離した２
   個の酸素原子間に介在し、（ｂ）フェニル基の含有割合
   が上記ホスファゼン化合物（１）及び／又は（２）中の
   全フェニル基の総数を基準に５０〜９９．９％であり、
   且つ（ｃ）分子内にフリーの水酸基を有していない架橋
   フェノキシホスファゼン化合物の群から選ばれた少なく
   とも１種であることを特徴とする請求項１に記載の難燃
   性ポリカーボネート樹脂組成物。
3. 【請求項３】 （ｄ）成分の耐衝撃性改良剤がアクリル
   系ゴムであることを特徴とする請求項１に記載の難燃性
   ポリカーボネート樹脂組成物。
4. 【請求項４】 アクリル系ゴムがアルキル（メタ）アク
   リレート系重合体を含む多層構造重合体であることを特
   徴とする請求項３に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂
   組成物。
5. 【請求項５】 （ａ）成分の芳香族ポリカーボネート樹
   脂の粘度平均分子量が１６０００〜３００００であるこ
   とを特徴とする請求項１に記載の難燃性ポリカーボネー
   ト樹脂組成物。
6. 【請求項６】 （ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂１０
   ０重量部に対して、（ｆ）表面処理された酸化チタン
   ０．１〜２０重量部を更に配合してなることを特徴とす
   る請求項１に記載の難燃性ポリカーボネート樹脂組成
   物。