JP2000352600A - 放射線像変換パネル - Google Patents
放射線像変換パネルInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 放射線像変換パネルの搬送耐久性を向上させ
る。 【解決手段】 支持体1の上に少なくとも1つの中間層
3を介して輝尽性蛍光体層2を備えてなる放射線像変換
パネル10において、中間層3を輝尽性蛍光体層2に隣
接させるとともに、中間層3の弾性率を0.1〜4.0×105P
aとする。
る。 【解決手段】 支持体1の上に少なくとも1つの中間層
3を介して輝尽性蛍光体層2を備えてなる放射線像変換
パネル10において、中間層3を輝尽性蛍光体層2に隣
接させるとともに、中間層3の弾性率を0.1〜4.0×105P
aとする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体を用
いた放射線像変換パネルに関するものである。
いた放射線像変換パネルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる方法とし
て、たとえば特開昭55−12145号などに記載されている
ような輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られ
ている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像
変換パネル(蓄積性蛍光体シートとも称する)を利用す
るもので、被写体を透過したあるいは被検体から発せら
れた放射線をこのパネルの輝尽性蛍光体に吸収させたの
ち、輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波(励
起光)で時系列的に励起することにより、輝尽性蛍光体
中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光(輝尽発光
光)として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電
気信号を得、得られた電気信号に基づいて被写体あるい
は被検体の放射線画像を可視像として再生するものであ
る。
て、たとえば特開昭55−12145号などに記載されている
ような輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られ
ている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像
変換パネル(蓄積性蛍光体シートとも称する)を利用す
るもので、被写体を透過したあるいは被検体から発せら
れた放射線をこのパネルの輝尽性蛍光体に吸収させたの
ち、輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波(励
起光)で時系列的に励起することにより、輝尽性蛍光体
中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光(輝尽発光
光)として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電
気信号を得、得られた電気信号に基づいて被写体あるい
は被検体の放射線画像を可視像として再生するものであ
る。
【0003】この放射線像変換方法は、従来の放射線写
真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写真法に
比較して、はるかに少ない被曝線量で情報量の豊富な放
射線画像を得ることができ、また、放射線像変換パネル
を繰り返し使用するので、資源保護、経済効率の面から
も有利である。従って、この方法は、特に医療診断を目
的とするX線撮影等の直接医療用放射線撮影において利
用価値の非常に高いものである。
真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写真法に
比較して、はるかに少ない被曝線量で情報量の豊富な放
射線画像を得ることができ、また、放射線像変換パネル
を繰り返し使用するので、資源保護、経済効率の面から
も有利である。従って、この方法は、特に医療診断を目
的とするX線撮影等の直接医療用放射線撮影において利
用価値の非常に高いものである。
【0004】放射線像変換方法に用いられる放射線像変
換パネルは、蛍光体層が自己支持性を有している場合は
別として、基本構造は、支持体とその片面に設けられた
輝尽性蛍光体層とからなるものである。また、この輝尽
性蛍光体層の支持体とは反対側の表面(支持体に面して
いない側の表面)には一般に、透明な保護膜が設けられ
ていて、蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃
から保護している。
換パネルは、蛍光体層が自己支持性を有している場合は
別として、基本構造は、支持体とその片面に設けられた
輝尽性蛍光体層とからなるものである。また、この輝尽
性蛍光体層の支持体とは反対側の表面(支持体に面して
いない側の表面)には一般に、透明な保護膜が設けられ
ていて、蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃
から保護している。
【0005】輝尽性蛍光体層は一般に、輝尽性蛍光体と
これを分散状態で含有支持する結合剤とからなるもので
あり、輝尽性蛍光体はX線などの放射線を吸収したのち
励起光の照射を受けると輝尽発光を示す性質を有するも
のである。従って、被写体を透過したあるいは被検体か
ら発せられた放射線は、その放射線量に比例して放射線
像変換パネルの輝尽性蛍光体層に吸収され、パネルには
被写体あるいは被検体の放射線像が放射線エネルギーの
蓄積像として形成される。この蓄積像は、上記励起光を
照射することにより輝尽発光光として放出させることが
でき、この輝尽発光光を光電的に読み取って電気信号に
変換することにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化
することが可能となる。
これを分散状態で含有支持する結合剤とからなるもので
あり、輝尽性蛍光体はX線などの放射線を吸収したのち
励起光の照射を受けると輝尽発光を示す性質を有するも
のである。従って、被写体を透過したあるいは被検体か
ら発せられた放射線は、その放射線量に比例して放射線
像変換パネルの輝尽性蛍光体層に吸収され、パネルには
被写体あるいは被検体の放射線像が放射線エネルギーの
蓄積像として形成される。この蓄積像は、上記励起光を
照射することにより輝尽発光光として放出させることが
でき、この輝尽発光光を光電的に読み取って電気信号に
変換することにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化
することが可能となる。
【0006】放射線像変換方法は上述のように非常に有
利な画像形成方法であるが、この方法に用いられる放射
線像変換パネルも従来の放射線写真法に用いられる増感
紙と同様に、高感度であってかつ画質(鮮鋭度、粒状性
など)の良好な画像を与えるものであることが望まれ
る。放射線像変換パネルの感度は、基本的にはパネルに
含有されている輝尽性蛍光体の総輝尽発光量に依存し、
この総発光量は蛍光体自体の発光輝度によるのみなら
ず、蛍光体層における蛍光体の含有量によっても異な
る。蛍光体の含有量が多ければX線等の放射線に対する
吸収も大きいから、一層高い感度が得られ、同時に画質
(特に、粒状性)が向上する。一方、蛍光体層における
蛍光体の含有量が一定である場合には、蛍光体粒子が密
に充填されているほどその層厚を薄くすることができる
から、散乱による励起光の広がりを少なくすることがで
き、相対的に高い鮮鋭度を得ることができる。
利な画像形成方法であるが、この方法に用いられる放射
線像変換パネルも従来の放射線写真法に用いられる増感
紙と同様に、高感度であってかつ画質(鮮鋭度、粒状性
など)の良好な画像を与えるものであることが望まれ
る。放射線像変換パネルの感度は、基本的にはパネルに
含有されている輝尽性蛍光体の総輝尽発光量に依存し、
この総発光量は蛍光体自体の発光輝度によるのみなら
ず、蛍光体層における蛍光体の含有量によっても異な
る。蛍光体の含有量が多ければX線等の放射線に対する
吸収も大きいから、一層高い感度が得られ、同時に画質
(特に、粒状性)が向上する。一方、蛍光体層における
蛍光体の含有量が一定である場合には、蛍光体粒子が密
に充填されているほどその層厚を薄くすることができる
から、散乱による励起光の広がりを少なくすることがで
き、相対的に高い鮮鋭度を得ることができる。
【0007】蛍光体層を支持体上に形成し、そしてこの
蛍光体層を圧縮することにより得られる放射線像変換パ
ネルが特開昭59−126299号、特開昭59−126300号に開示
されている。ここに開示された放射線像変換パネルは、
蛍光体層を圧縮処理することで、蛍光体層中の蛍光体の
密度をそれまでの放射線像変換パネルよりも高くしたも
のであった。その結果、この放射線像変換パネルは鮮鋭
度においては向上したが、反面、圧縮処理により蛍光体
が一部破壊されるために粒状性という面ではむしろ劣化
してしまう場合があるという問題があった。
蛍光体層を圧縮することにより得られる放射線像変換パ
ネルが特開昭59−126299号、特開昭59−126300号に開示
されている。ここに開示された放射線像変換パネルは、
蛍光体層を圧縮処理することで、蛍光体層中の蛍光体の
密度をそれまでの放射線像変換パネルよりも高くしたも
のであった。その結果、この放射線像変換パネルは鮮鋭
度においては向上したが、反面、圧縮処理により蛍光体
が一部破壊されるために粒状性という面ではむしろ劣化
してしまう場合があるという問題があった。
【0008】そこで、特開平2-278197号では、蛍光体層
の結合剤として軟化温度または融点が30〜150℃ である
熱可塑性エラストマーを用いて、この蛍光体層を軟化温
度または融点以上の温度で圧縮することにより、優れた
鮮鋭度、粒状性を有する放射線像変換パネルが提案され
ている。
の結合剤として軟化温度または融点が30〜150℃ である
熱可塑性エラストマーを用いて、この蛍光体層を軟化温
度または融点以上の温度で圧縮することにより、優れた
鮮鋭度、粒状性を有する放射線像変換パネルが提案され
ている。
【0009】一方、放射線像変換方法の実施において、
放射線像変換パネルは、放射線の照射(放射線像の記
録)・励起光の照射(記録された放射線像の読出し)・
消去光の照射(残存する放射線像の消去)というサイク
ルで繰り返し使用され、放射線像変換パネルの撮影装置
内での各ステップへの移行はベルト、ローラーなどの搬
送手段により行なわれる。上記のような熱圧縮により得
られる放射線像変換パネルを上記撮影装置内において繰
り返し搬送を行うと、蛍光体層に亀裂が生じ易いという
問題がある。すなわち、蛍光体層に亀裂が入った放射線
像変換パネルを用いて、放射線の照射あるいは励起光の
照射を行なった場合、亀裂部分で光の散乱が起こり、画
質の低下をもたらし、画像診断時の判断が難しくなる。
このため、放射線像変換パネルの搬送耐久性の観点か
ら、特開平8−36099号において、蛍光体層に含まれる結
合剤を軟化温度または融点が30〜150℃であってかつ0.3
kgf/mm2 以下の弾性率を有する熱可塑性エラストマーを
用いることにより、優れた搬送耐久性を有する放射線像
変換パネルが提供されている。
放射線像変換パネルは、放射線の照射(放射線像の記
録)・励起光の照射(記録された放射線像の読出し)・
消去光の照射(残存する放射線像の消去)というサイク
ルで繰り返し使用され、放射線像変換パネルの撮影装置
内での各ステップへの移行はベルト、ローラーなどの搬
送手段により行なわれる。上記のような熱圧縮により得
られる放射線像変換パネルを上記撮影装置内において繰
り返し搬送を行うと、蛍光体層に亀裂が生じ易いという
問題がある。すなわち、蛍光体層に亀裂が入った放射線
像変換パネルを用いて、放射線の照射あるいは励起光の
照射を行なった場合、亀裂部分で光の散乱が起こり、画
質の低下をもたらし、画像診断時の判断が難しくなる。
このため、放射線像変換パネルの搬送耐久性の観点か
ら、特開平8−36099号において、蛍光体層に含まれる結
合剤を軟化温度または融点が30〜150℃であってかつ0.3
kgf/mm2 以下の弾性率を有する熱可塑性エラストマーを
用いることにより、優れた搬送耐久性を有する放射線像
変換パネルが提供されている。
【0010】しかし、医療現場においては、撮影間隔を
短縮するために撮影装置内の搬送速度をさらにあげたい
という要求があり、さらなる搬送耐久性の向上が要求さ
れている。
短縮するために撮影装置内の搬送速度をさらにあげたい
という要求があり、さらなる搬送耐久性の向上が要求さ
れている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑みなされたものであり、搬送耐久性に優れた放射線像
変換パネルを提供することを目的とするものである。詳
しくは、本発明は、撮影装置内にて繰り返し搬送を長期
間に亘って行なった場合でも、優れた画質の放射線像を
得ることができる放射線像変換パネルを提供することを
目的とするものである。
鑑みなされたものであり、搬送耐久性に優れた放射線像
変換パネルを提供することを目的とするものである。詳
しくは、本発明は、撮影装置内にて繰り返し搬送を長期
間に亘って行なった場合でも、優れた画質の放射線像を
得ることができる放射線像変換パネルを提供することを
目的とするものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の放射線像変換パ
ネルは、支持体上に少なくとも1つの中間層を介して輝
尽性蛍光体層を備えてなる放射線像変換パネルにおい
て、前記中間層のいずれかが 0.1〜4.0×105Paの弾性率
を有することを特徴とするものである。
ネルは、支持体上に少なくとも1つの中間層を介して輝
尽性蛍光体層を備えてなる放射線像変換パネルにおい
て、前記中間層のいずれかが 0.1〜4.0×105Paの弾性率
を有することを特徴とするものである。
【0013】すなわち、支持体上に少なくとも1つの中
間層を介して輝尽性蛍光体層を備えてなる放射線像変換
パネルについて、本発明者らは種々の検討を重ねた結
果、中間層のいずれかを 0.1〜4.0×105Paの弾性率とす
ることにより、繰返しの搬送による亀裂の発生が見られ
なくなることを見いだしたものである。
間層を介して輝尽性蛍光体層を備えてなる放射線像変換
パネルについて、本発明者らは種々の検討を重ねた結
果、中間層のいずれかを 0.1〜4.0×105Paの弾性率とす
ることにより、繰返しの搬送による亀裂の発生が見られ
なくなることを見いだしたものである。
【0014】ここで中間層とは、支持体と輝尽性蛍光体
層との間にある層を意味し、下塗層、光反射層、光吸収
層、接着性付与層、帯電防止層などの層を意味する。中
間層のいずれかが、0.1〜4.0×105Paの弾性率、好まし
くは0.5〜4.0×105Pa、さらには1.0〜4.0×105Paの弾性
率を有することが好ましい。
層との間にある層を意味し、下塗層、光反射層、光吸収
層、接着性付与層、帯電防止層などの層を意味する。中
間層のいずれかが、0.1〜4.0×105Paの弾性率、好まし
くは0.5〜4.0×105Pa、さらには1.0〜4.0×105Paの弾性
率を有することが好ましい。
【0015】支持体の上に少なくとも1つの中間層を介
し輝尽性蛍光体層を備えてなる放射線像変換パネルにお
いては、何度も搬送が繰り返されると搬送機構中に屈曲
されることにより画像と密接な関係にある蛍光体層が割
れやすくなる。従って蛍光体層が割れることを防止する
ためには、蛍光体層を保護する観点から、上述したよう
な弾性率を有する中間層が蛍光体層と隣接して設けられ
ていることがより望ましい。このように中間層が蛍光体
層に隣接して設けられている場合には、上記に示した弾
性率は0〜50%小さくてもよい。
し輝尽性蛍光体層を備えてなる放射線像変換パネルにお
いては、何度も搬送が繰り返されると搬送機構中に屈曲
されることにより画像と密接な関係にある蛍光体層が割
れやすくなる。従って蛍光体層が割れることを防止する
ためには、蛍光体層を保護する観点から、上述したよう
な弾性率を有する中間層が蛍光体層と隣接して設けられ
ていることがより望ましい。このように中間層が蛍光体
層に隣接して設けられている場合には、上記に示した弾
性率は0〜50%小さくてもよい。
【0016】さらに、そのような弾性率を有する中間層
は0.1〜8.0×104 Pa・s、好ましくは0.5〜8.0×104Pa・
s、さらには1.0〜8.0×104Pa・sの粘度を有することが好
ましい。
は0.1〜8.0×104 Pa・s、好ましくは0.5〜8.0×104Pa・
s、さらには1.0〜8.0×104Pa・sの粘度を有することが好
ましい。
【0017】このような中間層に含まれる結合剤として
は、少なくとも熱可塑性エラストマーを含むものである
ことが望ましい。熱可塑性エラストマーとは、加熱する
と塑性変形しやすくなり冷却すると可逆的に硬化する、
常温付近で弾性の顕著な高分子物質を意味し、熱可塑性
エラストマーの例としては、ポリスチレン、ポリオレフ
ィン、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ
ブタジエン、エチレン酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、天
然ゴム、フッ素ゴム、ポリイソプレン、塩素化ポリエチ
レン、スチレン−ブタジエンゴム、シリコンゴムなどを
挙げることができ、特にビニル樹脂が好ましい。ビニル
樹脂とは、CH2=CH−基またはCH2=C=基をもつ
物質の重合体または共重合体及び、広くこれらから誘導
される合成樹脂の総称を意味し、特に(メタ)アクリル
酸のエステルまたは(メタ)アクリル酸から誘導された
部分を含むビニル樹脂が好ましい。中間層の結合剤は、
上記特定の熱可塑性エラストマー単独からなるものであ
っても良いし、上記特定の熱可塑性エラストマーと、そ
れ以外の熱可塑性エラストマーとからなる二種以上の混
合物でも良い。また、この熱可塑性エラストマー以外の
ポリマー(例、エポキシ樹脂、アクリル樹脂およびポリ
イミド樹脂)を、更に使用しても良い。
は、少なくとも熱可塑性エラストマーを含むものである
ことが望ましい。熱可塑性エラストマーとは、加熱する
と塑性変形しやすくなり冷却すると可逆的に硬化する、
常温付近で弾性の顕著な高分子物質を意味し、熱可塑性
エラストマーの例としては、ポリスチレン、ポリオレフ
ィン、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ
ブタジエン、エチレン酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、天
然ゴム、フッ素ゴム、ポリイソプレン、塩素化ポリエチ
レン、スチレン−ブタジエンゴム、シリコンゴムなどを
挙げることができ、特にビニル樹脂が好ましい。ビニル
樹脂とは、CH2=CH−基またはCH2=C=基をもつ
物質の重合体または共重合体及び、広くこれらから誘導
される合成樹脂の総称を意味し、特に(メタ)アクリル
酸のエステルまたは(メタ)アクリル酸から誘導された
部分を含むビニル樹脂が好ましい。中間層の結合剤は、
上記特定の熱可塑性エラストマー単独からなるものであ
っても良いし、上記特定の熱可塑性エラストマーと、そ
れ以外の熱可塑性エラストマーとからなる二種以上の混
合物でも良い。また、この熱可塑性エラストマー以外の
ポリマー(例、エポキシ樹脂、アクリル樹脂およびポリ
イミド樹脂)を、更に使用しても良い。
【0018】上記蛍光体層と支持体及び中間層はより強
固に互いを接着し、また蛍光体層の蛍光体粒子を密に充
填させるという観点から圧縮接着されることが望まし
い。
固に互いを接着し、また蛍光体層の蛍光体粒子を密に充
填させるという観点から圧縮接着されることが望まし
い。
【0019】
【発明の効果】本発明の、支持体上に少なくとも1つの
中間層を介して輝尽性蛍光体層を備えてなる放射線像変
換パネルは、中間層のいずれかが 0.1〜4.0×105Paの弾
性率を有することとしたので、搬送機構中で繰り返し屈
曲されても、中間層が弾性変形するため輝尽性蛍光体層
に割れがおきにくい。従って、放射線の照射、励起光の
照射、消去光の照射というサイクルで繰り返し使用し、
放射線像変換パネルの撮影装置内で繰り返し搬送して
も、輝尽性蛍光体層の亀裂に起因する、放射線の照射や
励起光の照射を行った場合に亀裂部分で光が散乱するこ
とがなく、画像にアーティファクトが生じるのを防ぐこ
とができる。
中間層を介して輝尽性蛍光体層を備えてなる放射線像変
換パネルは、中間層のいずれかが 0.1〜4.0×105Paの弾
性率を有することとしたので、搬送機構中で繰り返し屈
曲されても、中間層が弾性変形するため輝尽性蛍光体層
に割れがおきにくい。従って、放射線の照射、励起光の
照射、消去光の照射というサイクルで繰り返し使用し、
放射線像変換パネルの撮影装置内で繰り返し搬送して
も、輝尽性蛍光体層の亀裂に起因する、放射線の照射や
励起光の照射を行った場合に亀裂部分で光が散乱するこ
とがなく、画像にアーティファクトが生じるのを防ぐこ
とができる。
【0020】なお、このような弾性率を有する中間層を
蛍光体層と隣接させて放射線像変換パネルを作成するこ
とにより、また弾性率を有する中間層の粘度を 0.1〜8.
0×104 Pa・sにすることにより、さらに蛍光体層に亀裂
が生じることを効果的に防ぐことができる。また、中間
層に含まれる結合剤を少なくとも熱可塑性エラストマー
を含むもの、好ましくはビニル樹脂を用いることによ
り、より上記の中間層を得やすくなる。
蛍光体層と隣接させて放射線像変換パネルを作成するこ
とにより、また弾性率を有する中間層の粘度を 0.1〜8.
0×104 Pa・sにすることにより、さらに蛍光体層に亀裂
が生じることを効果的に防ぐことができる。また、中間
層に含まれる結合剤を少なくとも熱可塑性エラストマー
を含むもの、好ましくはビニル樹脂を用いることによ
り、より上記の中間層を得やすくなる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1は本発明の放射線像変
換パネルの構成を示す図である。
施の形態について説明する。図1は本発明の放射線像変
換パネルの構成を示す図である。
【0022】図1に示すように本発明の放射線像変換パ
ネル10は、支持体1と輝尽性蛍光体層2と支持体1と輝
尽性蛍光体層2の間の中間層3からなる。通常の放射線
像変換パネルにおいては、支持体1側とは反対側の蛍光
体層2の表面に、蛍光体層を物理的および化学的に保護
するための透明な保護膜4が設けられている。中間層3
は、たとえば下塗層、光反射層、接着性付与層、帯電防
止層などのいずれか、または放射線像変換パネルの用途
に応じ、これらの層を適宜組み合わされて2層以上積層
されている場合も含まれる。すなわち、公知の放射線像
変換パネルにおいて、支持体と蛍光体層の結合を強化す
るため、あるいは放射線像変換パネルとしての感度もし
くは画質(鮮鋭度、粒状性)を向上させるために、蛍光
体層が設けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分
子物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは二酸
化チタン、酸化ガドリニウムなどの光反射性物質からな
る光反射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性
物質からなる光吸収層などを設けることが知られている
が、中間層3はこのような支持体1と輝尽性蛍光体層2
の間の層を意味するものである。これらの各種の中間層
の構成は所望の放射線像変換パネルの目的、用途などに
応じて任意に選択することができる。
ネル10は、支持体1と輝尽性蛍光体層2と支持体1と輝
尽性蛍光体層2の間の中間層3からなる。通常の放射線
像変換パネルにおいては、支持体1側とは反対側の蛍光
体層2の表面に、蛍光体層を物理的および化学的に保護
するための透明な保護膜4が設けられている。中間層3
は、たとえば下塗層、光反射層、接着性付与層、帯電防
止層などのいずれか、または放射線像変換パネルの用途
に応じ、これらの層を適宜組み合わされて2層以上積層
されている場合も含まれる。すなわち、公知の放射線像
変換パネルにおいて、支持体と蛍光体層の結合を強化す
るため、あるいは放射線像変換パネルとしての感度もし
くは画質(鮮鋭度、粒状性)を向上させるために、蛍光
体層が設けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分
子物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは二酸
化チタン、酸化ガドリニウムなどの光反射性物質からな
る光反射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性
物質からなる光吸収層などを設けることが知られている
が、中間層3はこのような支持体1と輝尽性蛍光体層2
の間の層を意味するものである。これらの各種の中間層
の構成は所望の放射線像変換パネルの目的、用途などに
応じて任意に選択することができる。
【0023】本発明の放射線像変換パネルは、例えば、
次に述べるような方法により製造することができる。ま
ず、本発明の放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層に使
用される蛍光体について述べる。輝尽性蛍光体は、先に
述べたように放射線を照射した後、励起光を照射すると
輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な面からは波長
が400〜900nmの範囲にある励起光によって300〜500n
mの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが望ま
しい。本発明の放射線像変換パネルに用いられる輝尽性
蛍光体としては、二価ユーロピウム付活アルカリ土類金
属ハロゲン化物系蛍光体、セリウム付活アルカリ土類金
属ハロゲン化物系蛍光体およびセリウム付活希土類オキ
シハロゲン化物系蛍光体が、高輝度の輝尽発光を示すの
で好ましい。ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体
は、このような蛍光体に限られるものではなく、放射線
を照射したのちに励起光を照射した場合に輝尽発光を示
す蛍光体であればいかなるものであってもよい。
次に述べるような方法により製造することができる。ま
ず、本発明の放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層に使
用される蛍光体について述べる。輝尽性蛍光体は、先に
述べたように放射線を照射した後、励起光を照射すると
輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な面からは波長
が400〜900nmの範囲にある励起光によって300〜500n
mの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが望ま
しい。本発明の放射線像変換パネルに用いられる輝尽性
蛍光体としては、二価ユーロピウム付活アルカリ土類金
属ハロゲン化物系蛍光体、セリウム付活アルカリ土類金
属ハロゲン化物系蛍光体およびセリウム付活希土類オキ
シハロゲン化物系蛍光体が、高輝度の輝尽発光を示すの
で好ましい。ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体
は、このような蛍光体に限られるものではなく、放射線
を照射したのちに励起光を照射した場合に輝尽発光を示
す蛍光体であればいかなるものであってもよい。
【0024】上述のような輝尽性蛍光体を用いて蛍光体
層を形成するための塗布液は下記のように調製する。上
記輝尽性蛍光体と結合剤とを適当な溶剤に加え、これを
充分に混合して結合剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分
散した蛍光体層形成用塗布液を調製する。ここで使用さ
れる結合剤は、たとえば特開平8−36099号に記載されて
いるような、30〜150℃の軟化温度又は融点を有し、且
つ0.3kgf/mm2 以下の弾性率を有する熱可塑性エラスト
マーが主成分(好ましくは結合剤の60%以上)であるも
のを用いることができる。熱可塑性エラストマーは数種
用いた混合物であっても良いし、熱可塑性エラストマー
以外のポリマー(例、エポキシ樹脂、アクリル樹脂およ
びポリイミド樹脂)を、さらに使用しても良い。
層を形成するための塗布液は下記のように調製する。上
記輝尽性蛍光体と結合剤とを適当な溶剤に加え、これを
充分に混合して結合剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分
散した蛍光体層形成用塗布液を調製する。ここで使用さ
れる結合剤は、たとえば特開平8−36099号に記載されて
いるような、30〜150℃の軟化温度又は融点を有し、且
つ0.3kgf/mm2 以下の弾性率を有する熱可塑性エラスト
マーが主成分(好ましくは結合剤の60%以上)であるも
のを用いることができる。熱可塑性エラストマーは数種
用いた混合物であっても良いし、熱可塑性エラストマー
以外のポリマー(例、エポキシ樹脂、アクリル樹脂およ
びポリイミド樹脂)を、さらに使用しても良い。
【0025】塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノ
ール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール
などの低級アルコール;メチレンクロライド、エチレン
クロライドなどの塩素原子含有炭化水素;アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケト
ン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂
肪酸と低級アルコールとのエステル;ジオキサン、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエー
テル;そして、それらの混合物を挙げることができる。
塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合比は、目
的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類など
によって異なるが、一般には結合剤と蛍光体との混合比
は、1:1〜1:100(重量比)の範囲から選ばれ、そ
して特に1:8〜1:40(重量比)の範囲から選ぶのが
好ましい。
ール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール
などの低級アルコール;メチレンクロライド、エチレン
クロライドなどの塩素原子含有炭化水素;アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケト
ン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂
肪酸と低級アルコールとのエステル;ジオキサン、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエー
テル;そして、それらの混合物を挙げることができる。
塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合比は、目
的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類など
によって異なるが、一般には結合剤と蛍光体との混合比
は、1:1〜1:100(重量比)の範囲から選ばれ、そ
して特に1:8〜1:40(重量比)の範囲から選ぶのが
好ましい。
【0026】なお、塗布液には、塗布液中における蛍光
体の分散性を向上させるための分散剤、また、形成後の
蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間の結合力を向
上させるための可塑剤などの種々の添加剤が混合されて
いてもよい。そのような目的に用いられる分散剤の例と
しては、フタル酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性
界面活性剤などを挙げることができる。そして可塑剤の
例としては、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸ジフェニルなどのリン酸エステル;フタル酸
ジエチル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エ
ステル;グリコール酸エチルフタリルエチル、グリコー
ル酸ブチルフタリルブチルなどのグリコール酸エステ
ル;そして、トリエチレングリコールとアジピン酸との
ポリエステル、ジエチレングリコールとコハク酸とのポ
リエステルなどのポリエチレングリコールと脂肪族二塩
基酸とのポリエステルなどを挙げることができる。
体の分散性を向上させるための分散剤、また、形成後の
蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間の結合力を向
上させるための可塑剤などの種々の添加剤が混合されて
いてもよい。そのような目的に用いられる分散剤の例と
しては、フタル酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性
界面活性剤などを挙げることができる。そして可塑剤の
例としては、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸ジフェニルなどのリン酸エステル;フタル酸
ジエチル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エ
ステル;グリコール酸エチルフタリルエチル、グリコー
ル酸ブチルフタリルブチルなどのグリコール酸エステ
ル;そして、トリエチレングリコールとアジピン酸との
ポリエステル、ジエチレングリコールとコハク酸とのポ
リエステルなどのポリエチレングリコールと脂肪族二塩
基酸とのポリエステルなどを挙げることができる。
【0027】上記のようにして調製された蛍光体と結合
剤とを含有する塗布液を、次に、シート形成用の仮支持
体の表面に均一に塗布することにより塗布液の塗膜を形
成する。この塗布操作は、通常の塗布手段、たとえば、
ドクターブレード、ロールコーター、ナイフコーターな
どを用いることにより行なうことができる。仮支持体
は、例えば、ガラス、金属の板、あるいは従来の放射線
写真法における増感紙(または増感用スクリーン)の支
持体として用いられている各種の材料、あるいは放射線
像変換パネルの支持体として公知の材料から任意に選ぶ
ことができる。そのような材料の例としては、セルロー
スアセテート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリ
カーボネートなどのプラスチック物質のフィルム、アル
ミニウム箔、アルミニウム合金箔などの金属シート、通
常の紙、バライタ紙、レジンコート紙、二酸化チタンな
どの顔料を含有するピグメント紙、ポリビニルアルコー
ルなどをサイジングした紙、アルミナ、ジルコニア、マ
グネシア、チタニアなどのセラミックスの板あるいはシ
ートなどを挙げることができる。仮支持体上に蛍光体層
形成用塗布液を塗布し、乾燥ののち、仮支持体からはが
して放射線像変換パネルの蛍光体層となる蛍光体シート
とする。従って、仮支持体の表面には予め離型剤を塗布
しておき、形成された蛍光体シートが仮支持体からはが
し易くなるようにしておくことが好ましい。
剤とを含有する塗布液を、次に、シート形成用の仮支持
体の表面に均一に塗布することにより塗布液の塗膜を形
成する。この塗布操作は、通常の塗布手段、たとえば、
ドクターブレード、ロールコーター、ナイフコーターな
どを用いることにより行なうことができる。仮支持体
は、例えば、ガラス、金属の板、あるいは従来の放射線
写真法における増感紙(または増感用スクリーン)の支
持体として用いられている各種の材料、あるいは放射線
像変換パネルの支持体として公知の材料から任意に選ぶ
ことができる。そのような材料の例としては、セルロー
スアセテート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリ
カーボネートなどのプラスチック物質のフィルム、アル
ミニウム箔、アルミニウム合金箔などの金属シート、通
常の紙、バライタ紙、レジンコート紙、二酸化チタンな
どの顔料を含有するピグメント紙、ポリビニルアルコー
ルなどをサイジングした紙、アルミナ、ジルコニア、マ
グネシア、チタニアなどのセラミックスの板あるいはシ
ートなどを挙げることができる。仮支持体上に蛍光体層
形成用塗布液を塗布し、乾燥ののち、仮支持体からはが
して放射線像変換パネルの蛍光体層となる蛍光体シート
とする。従って、仮支持体の表面には予め離型剤を塗布
しておき、形成された蛍光体シートが仮支持体からはが
し易くなるようにしておくことが好ましい。
【0028】次に、上記のように形成した蛍光体シート
とは別に、放射線像変換パネルの支持体を用意する。こ
の支持体は、蛍光体シートを形成する際に用いる仮支持
体と同様の材料から任意に選ぶことができる。支持体上
には、上述した中間層を形成する。中間層は接着性付与
層、光反射層、光吸収層、下塗層などであるが、本発明
において用いられる中間層は、1つの中間層を有する放
射線像変換パネルにおいてはその中間層が、2種以上の
中間層を有する場合にはそのいずれかが0.1〜4.0×105P
aの弾性率、好ましくは0.5〜4.0×105Pa、さらには 1.0
〜4.0×105Paの弾性率を有することが好ましい。また、
2種以上の中間層を有する場合には、そのような弾性率
を有する中間層が蛍光体層と隣接するように設けられる
ことが好ましい。さらに、弾性率を有する中間層の粘度
は0.1〜8.0×104 Pa・s、好ましくは0.5〜8.0×104Pa・
s、さらには1.0〜8.0×104Pa・sの粘度を有することが好
ましい。また、特開昭58−200200号に記載されているよ
うに、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的で、接着
性付与層、光反射層あるいは光吸収層などの中間層3の
表面には微小の凹凸が形成されていてもよい。
とは別に、放射線像変換パネルの支持体を用意する。こ
の支持体は、蛍光体シートを形成する際に用いる仮支持
体と同様の材料から任意に選ぶことができる。支持体上
には、上述した中間層を形成する。中間層は接着性付与
層、光反射層、光吸収層、下塗層などであるが、本発明
において用いられる中間層は、1つの中間層を有する放
射線像変換パネルにおいてはその中間層が、2種以上の
中間層を有する場合にはそのいずれかが0.1〜4.0×105P
aの弾性率、好ましくは0.5〜4.0×105Pa、さらには 1.0
〜4.0×105Paの弾性率を有することが好ましい。また、
2種以上の中間層を有する場合には、そのような弾性率
を有する中間層が蛍光体層と隣接するように設けられる
ことが好ましい。さらに、弾性率を有する中間層の粘度
は0.1〜8.0×104 Pa・s、好ましくは0.5〜8.0×104Pa・
s、さらには1.0〜8.0×104Pa・sの粘度を有することが好
ましい。また、特開昭58−200200号に記載されているよ
うに、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的で、接着
性付与層、光反射層あるいは光吸収層などの中間層3の
表面には微小の凹凸が形成されていてもよい。
【0029】先に得られた蛍光体シートを、中間層が形
成された支持体上に載せ、ポリマーの軟化温度または融
点以上の温度で、圧縮しながら支持体上に接着する。本
発明の圧縮処理のために使用される圧縮装置の例として
は、カレンダーロール、ホットプレスなど一般に知られ
ているものを挙げることができる。たとえば、カレンダ
ーロールによる圧縮処理は、支持体上に上記蛍光体シー
トを載せ、ポリマーの軟化温度または融点以上に加熱し
たローラーの間を一定の速度で通過させることにより行
なわれる。ただし、本発明に用いられる圧縮装置はこれ
らのものに限られるものではなく、上記のようなシート
を加熱しながら圧縮することのできるものであればいか
なるものであってもよい。圧縮の際の圧力は、50kgw/cm
2 以上が一般的で、200〜700kgw/cm2 が好ましい。上下
のロール温度は、上記のように軟化温度または融点以上
が一般的であり、軟化温度より10〜50℃高い温度で行な
うことが好ましい。また、上と下のロール温度を一般に
同じ温度で行なうことが好ましい。送り速度は0.1〜5.0
m/分が好ましい。
成された支持体上に載せ、ポリマーの軟化温度または融
点以上の温度で、圧縮しながら支持体上に接着する。本
発明の圧縮処理のために使用される圧縮装置の例として
は、カレンダーロール、ホットプレスなど一般に知られ
ているものを挙げることができる。たとえば、カレンダ
ーロールによる圧縮処理は、支持体上に上記蛍光体シー
トを載せ、ポリマーの軟化温度または融点以上に加熱し
たローラーの間を一定の速度で通過させることにより行
なわれる。ただし、本発明に用いられる圧縮装置はこれ
らのものに限られるものではなく、上記のようなシート
を加熱しながら圧縮することのできるものであればいか
なるものであってもよい。圧縮の際の圧力は、50kgw/cm
2 以上が一般的で、200〜700kgw/cm2 が好ましい。上下
のロール温度は、上記のように軟化温度または融点以上
が一般的であり、軟化温度より10〜50℃高い温度で行な
うことが好ましい。また、上と下のロール温度を一般に
同じ温度で行なうことが好ましい。送り速度は0.1〜5.0
m/分が好ましい。
【0030】透明保護膜は、たとえば、酢酸セルロー
ス、ニトロセルロースなどのセルロース誘導体;あるい
はポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビ
ニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、フッ素系樹脂
(例、フルオロオレフィン・ビニルエーテル共重合体)
などの合成高分子物質のような透明な高分子物質を適当
な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の表面に塗布
する方法により形成することができる。また適宜、ポリ
イソシアネート等の架橋剤を使用することができる。あ
るいは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
アミドなどからなるプラスチックシート;および透明な
ガラス板などの保護膜形成用シートを別に形成して蛍光
体層の表面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方法
によっても形成することができる。保護膜の膜厚は一般
に約0.1〜20μmの範囲にある。
ス、ニトロセルロースなどのセルロース誘導体;あるい
はポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビ
ニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、フッ素系樹脂
(例、フルオロオレフィン・ビニルエーテル共重合体)
などの合成高分子物質のような透明な高分子物質を適当
な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の表面に塗布
する方法により形成することができる。また適宜、ポリ
イソシアネート等の架橋剤を使用することができる。あ
るいは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
アミドなどからなるプラスチックシート;および透明な
ガラス板などの保護膜形成用シートを別に形成して蛍光
体層の表面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方法
によっても形成することができる。保護膜の膜厚は一般
に約0.1〜20μmの範囲にある。
【0031】さらに、得られる画像の鮮鋭度を向上させ
る目的で、上記の少なくともいずれかの層に励起光を吸
収し、輝尽発光光は吸収しないような着色層を加えても
よい(特公昭59−23400号参照)。次に本発明の実施例
を記載する。ただし、これらの各実施例は本発明を制限
するものではない。
る目的で、上記の少なくともいずれかの層に励起光を吸
収し、輝尽発光光は吸収しないような着色層を加えても
よい(特公昭59−23400号参照)。次に本発明の実施例
を記載する。ただし、これらの各実施例は本発明を制限
するものではない。
【0032】 [実施例1] (1)蛍光体シート(蛍光体層)の形成 蛍光体 : BaFBr0.85I0.15:Eu2+ 200g 結合剤 : ポリウレタンエラストマー 7.4g 架橋剤 : ポリイソシアネート 0.6g 添加剤 : エポキシ樹脂 2g ポリウレタンエラストマーは製品名T5265H(大日本イン
キ化学工業(株)製)、ポリイソシアネートは製品名コ
ロネートHX(日本ポリウレタン(株)製)エポキシ樹脂
は製品名EP1001(油化シェルエポキシ製)を用いた。上
記蛍光体シート組成の材料を、メチルエチルケトンに加
え、プロペラミキサーで分散させて、粘度が30PS(25
℃)の塗布液を調製した。これをシリコン系離型剤が塗
布されているポリエチレンテレフタレート(仮支持体、
厚み 180μm)上に塗布し、乾燥した後、仮支持体から
剥離して蛍光体シート(厚み 270μm)を形成した。
キ化学工業(株)製)、ポリイソシアネートは製品名コ
ロネートHX(日本ポリウレタン(株)製)エポキシ樹脂
は製品名EP1001(油化シェルエポキシ製)を用いた。上
記蛍光体シート組成の材料を、メチルエチルケトンに加
え、プロペラミキサーで分散させて、粘度が30PS(25
℃)の塗布液を調製した。これをシリコン系離型剤が塗
布されているポリエチレンテレフタレート(仮支持体、
厚み 180μm)上に塗布し、乾燥した後、仮支持体から
剥離して蛍光体シート(厚み 270μm)を形成した。
【0033】 (2)中間層の形成(中間層が光反射層) 光反射フィラー:酸化ガドリニウム(Gd2O3 )の微細粒子 15g 結合剤 :軟質アクリル樹脂 150g 添加剤 :フタル酸エステル 7.0g 導電剤 :ZnOウイスカー 10g 着色剤 :群青 0.4g 酸化ガドリニウム(Gd2O3 )の微細粒子は全粒子の90重
量%の粒子の粒子径が1〜5μmの範囲にあるものを、
また、軟質アクリル樹脂は製品名クリスコートP-1018GS
(20%溶液)(大日本インキ化学工業(株)製)を用い
た。上記組成の材料をメチルエチルケトンに加え、プロ
ペラミキサーを用いて分散、混合して、粘度が5〜10PS
(20℃)の中間層形成用塗布液を調製した。厚さ300μm
の硫酸バリウム練り混みポリエチレンテレフタレート
(支持体)をガラス板上に水平に置き、上記の下塗層形
成用塗布液をドクターブレードを用いて支持体上に均一
塗布した後、塗布膜の乾燥を行ない、支持体上に中間層
(層厚23μm)を形成した。
量%の粒子の粒子径が1〜5μmの範囲にあるものを、
また、軟質アクリル樹脂は製品名クリスコートP-1018GS
(20%溶液)(大日本インキ化学工業(株)製)を用い
た。上記組成の材料をメチルエチルケトンに加え、プロ
ペラミキサーを用いて分散、混合して、粘度が5〜10PS
(20℃)の中間層形成用塗布液を調製した。厚さ300μm
の硫酸バリウム練り混みポリエチレンテレフタレート
(支持体)をガラス板上に水平に置き、上記の下塗層形
成用塗布液をドクターブレードを用いて支持体上に均一
塗布した後、塗布膜の乾燥を行ない、支持体上に中間層
(層厚23μm)を形成した。
【0034】支持体上に形成された中間層上に、先に作
製しておいた蛍光体シートを載せ、圧縮を行った。圧縮
は、カレンダーロールを用いて、450kgw/cm2 の圧力、
上ロール温度を90℃、下ロール温度を75℃、そして送り
速度を0.5m/分の条件にて連続的に行なった。この圧
縮により、蛍光体シートと支持体とは完全に融着した。
融着後の蛍光体層の厚さは205μmであった。
製しておいた蛍光体シートを載せ、圧縮を行った。圧縮
は、カレンダーロールを用いて、450kgw/cm2 の圧力、
上ロール温度を90℃、下ロール温度を75℃、そして送り
速度を0.5m/分の条件にて連続的に行なった。この圧
縮により、蛍光体シートと支持体とは完全に融着した。
融着後の蛍光体層の厚さは205μmであった。
【0035】融着後、ポリエステル計接着剤が片面に塗
布されているポリエチレンテレフタレートの透明フィル
ム(厚さ6μm)を接着剤層が蛍光体表面と接合するよう
に熱圧着することにより透明保護膜を形成した。
布されているポリエチレンテレフタレートの透明フィル
ム(厚さ6μm)を接着剤層が蛍光体表面と接合するよう
に熱圧着することにより透明保護膜を形成した。
【0036】[実施例2]実施例1において、中間層の
光反射フィラーを添加せず、添加剤のフタル酸エステル
を8gに変え、厚み19μmの下塗層を中間層として形成
した以外は実施例1と同様に放射線像変換パネルを製造
した。
光反射フィラーを添加せず、添加剤のフタル酸エステル
を8gに変え、厚み19μmの下塗層を中間層として形成
した以外は実施例1と同様に放射線像変換パネルを製造
した。
【0037】[比較例1]実施例1において、中間層の
光反射フィラーとして粉末のBaFBr(平均粒径2μm)を
60g、添加剤のフタル酸エステルを3.5gに変え、厚み22
μmの下塗層を中間層として形成した以外は実施例1と
同様に放射線像変換パネルを製造した。
光反射フィラーとして粉末のBaFBr(平均粒径2μm)を
60g、添加剤のフタル酸エステルを3.5gに変え、厚み22
μmの下塗層を中間層として形成した以外は実施例1と
同様に放射線像変換パネルを製造した。
【0038】[比較例2]実施例1において、中間層の
光反射フィラーとして酸化ガドリニウム(Gd2O3)の微
細粒子を30g、添加剤のフタル酸エステルを3.5gに変
え、厚み16μmの下塗層を中間層として形成した以外は
実施例1と同様に放射線像変換パネルを製造した。
光反射フィラーとして酸化ガドリニウム(Gd2O3)の微
細粒子を30g、添加剤のフタル酸エステルを3.5gに変
え、厚み16μmの下塗層を中間層として形成した以外は
実施例1と同様に放射線像変換パネルを製造した。
【0039】[比較例3]実施例1において、中間層の
光反射フィラーとして酸化ガドリニウム(Gd2O3)の微
細粒子を60g、結合剤のポリウレタンエラストマーを24
g、添加剤のフタル酸エステルをエポキシ樹脂(製品名
EP1001、油化シェルエポキシ製)6.0gに変え、導電剤と
してK2O・nTiO2の導電性ウイスカー(SnO2,InO2により導
電処理されたもの)10gに変え、厚み30μmの下塗層を
中間層として形成した以外は実施例1と同様に放射線像
変換パネルを製造した。
光反射フィラーとして酸化ガドリニウム(Gd2O3)の微
細粒子を60g、結合剤のポリウレタンエラストマーを24
g、添加剤のフタル酸エステルをエポキシ樹脂(製品名
EP1001、油化シェルエポキシ製)6.0gに変え、導電剤と
してK2O・nTiO2の導電性ウイスカー(SnO2,InO2により導
電処理されたもの)10gに変え、厚み30μmの下塗層を
中間層として形成した以外は実施例1と同様に放射線像
変換パネルを製造した。
【0040】上記実施例および比較例の放射線像変換パ
ネルの製造に使用した中間層の粘弾性を下記のようにし
て求めた。
ネルの製造に使用した中間層の粘弾性を下記のようにし
て求めた。
【0041】1)試験片の作製 中間層塗布液を離型剤が塗布されているポリエチレンテ
レフタレート(仮支持体、厚み180μm)上に塗布し、乾
燥した後、仮支持体から剥ぎ取って中間層シートを形成
し、それを剥がし重ね合わせて厚み約500μmの試験片を
作製した。
レフタレート(仮支持体、厚み180μm)上に塗布し、乾
燥した後、仮支持体から剥ぎ取って中間層シートを形成
し、それを剥がし重ね合わせて厚み約500μmの試験片を
作製した。
【0042】2)測定方法 試験装置として、粘弾性装置(レオストレスRS75、PP20
Hセンサー使用 HAAKE社製)を使用した。試験片を直径2
0mmに切り取り、厚さに対する歪を0.5%、振動数1Hz、
室温(25℃)の条件下において弾性率、粘度、tanデル
タの測定を行った。その結果を表1に示す。
Hセンサー使用 HAAKE社製)を使用した。試験片を直径2
0mmに切り取り、厚さに対する歪を0.5%、振動数1Hz、
室温(25℃)の条件下において弾性率、粘度、tanデル
タの測定を行った。その結果を表1に示す。
【0043】
【表1】
【0044】得られた放射線像変換パネルの搬送耐久性
について、下記のように評価した。放射線像変換パネル
を 100mm×250mm の大きさに切断し、得られた試験片
を、図2に示す試験用の搬送装置内にて搬送させた。ま
ず、搬入口11から試験片を挿入し、ガイド板12及びニッ
プロール(直径25mm)13の間を移動させ、搬送用ベルト
14により、ゴムロール(直径40mm)15に沿って内側に曲
げ、次いで外側に曲げた後、更にガイド板及びニップロ
ール間を移動させた。この搬送操作を繰り返し行ない、
試験片の蛍光体層の損傷(亀裂)を観察した。上記結果
を表2に示す。
について、下記のように評価した。放射線像変換パネル
を 100mm×250mm の大きさに切断し、得られた試験片
を、図2に示す試験用の搬送装置内にて搬送させた。ま
ず、搬入口11から試験片を挿入し、ガイド板12及びニッ
プロール(直径25mm)13の間を移動させ、搬送用ベルト
14により、ゴムロール(直径40mm)15に沿って内側に曲
げ、次いで外側に曲げた後、更にガイド板及びニップロ
ール間を移動させた。この搬送操作を繰り返し行ない、
試験片の蛍光体層の損傷(亀裂)を観察した。上記結果
を表2に示す。
【0045】
【表1】
【0046】上記の結果から明らかなように、実施例1
及び2で得られた本発明の放射線像変換パネルは、支持
体と輝尽性蛍光体層との間の中間層が 0.1〜4.0×105Pa
の弾性率を有するので、パネルの搬送操作を繰り返した
場合も蛍光体層に亀裂等が発生することがない。即ち、
搬送による曲げや衝撃が繰り返し加えられた場合、従来
の蛍光体層(比較例1〜3)では、蛍光体層の蛍光体と
結合剤との界面に曲げや衝撃により大きな引張り応力が
生ずるため、蛍光体層に亀裂が発生するが、本発明の蛍
光体層は、支持体と輝尽性蛍光体層との間の中間層のい
ずれかが0.1〜4.0×105 Paの弾性率を有するので、引張
り応力がほとんど生ずることがなく、亀裂も発生しない
と考えられる。尚、比較例1〜3で見られた亀裂は、蛍
光体層及び保護膜の両方に見られたが、これは、蛍光体
層の亀裂が、保護膜にも亀裂を発生させたものであっ
た。
及び2で得られた本発明の放射線像変換パネルは、支持
体と輝尽性蛍光体層との間の中間層が 0.1〜4.0×105Pa
の弾性率を有するので、パネルの搬送操作を繰り返した
場合も蛍光体層に亀裂等が発生することがない。即ち、
搬送による曲げや衝撃が繰り返し加えられた場合、従来
の蛍光体層(比較例1〜3)では、蛍光体層の蛍光体と
結合剤との界面に曲げや衝撃により大きな引張り応力が
生ずるため、蛍光体層に亀裂が発生するが、本発明の蛍
光体層は、支持体と輝尽性蛍光体層との間の中間層のい
ずれかが0.1〜4.0×105 Paの弾性率を有するので、引張
り応力がほとんど生ずることがなく、亀裂も発生しない
と考えられる。尚、比較例1〜3で見られた亀裂は、蛍
光体層及び保護膜の両方に見られたが、これは、蛍光体
層の亀裂が、保護膜にも亀裂を発生させたものであっ
た。
【図1】本発明の放射線像変換パネルの構成を示す図
【図2】放射線像変換パネルの搬送耐久性を評価するた
めの装置の模式図
めの装置の模式図
1 支持体 2 輝尽性蛍光体層 3 中間層
Claims (6)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも1つの中間層を介
して輝尽性蛍光体層を備えてなる放射線像変換パネルに
おいて、前記中間層のいずれかが0.1〜4.0×105Paの弾
性率を有することを特徴とする放射線像変換パネル。 - 【請求項2】 前記弾性率を有する中間層が前記蛍光体
層と隣接していることを特徴とする請求項1記載の放射
線像変換パネル。 - 【請求項3】 前記弾性率を有する中間層の粘度が0.1
〜8.0×104 Pa・sであることを特徴とする請求項1また
は2記載の放射線像変換パネル。 - 【請求項4】 前記蛍光体層と前記支持体と前記中間層
が圧縮接着されていることを特徴とする請求項1、2ま
たは3記載の放射線像変換パネル。 - 【請求項5】 前記弾性率を有する中間層に含まれる結
合剤が、少なくとも熱可塑性エラストマーを含むもので
あることを特徴とする請求項1から4いずれか1項記載
の放射線像変換パネル。 - 【請求項6】 前記熱可塑性エラストマーがビニル樹脂
であることを特徴とする請求項1から5いずれか1項記
載の放射線像変換パネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16467699A JP2000352600A (ja) | 1999-06-11 | 1999-06-11 | 放射線像変換パネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16467699A JP2000352600A (ja) | 1999-06-11 | 1999-06-11 | 放射線像変換パネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000352600A true JP2000352600A (ja) | 2000-12-19 |
Family
ID=15797734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16467699A Pending JP2000352600A (ja) | 1999-06-11 | 1999-06-11 | 放射線像変換パネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000352600A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009122059A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-04 | Toshiba Corp | 放射線検出装置 |
-
1999
- 1999-06-11 JP JP16467699A patent/JP2000352600A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009122059A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-04 | Toshiba Corp | 放射線検出装置 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20060627 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |