JP2000352620A - 光学フィルム、偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 溶媒を使用することなく光学的、物理的に優
れ、特に寸法安定性に優れた光学フィルムを提供するこ
と。特にその中でもセルロースエステルフィルムを偏光
板保護フィルムとして採用した偏光板及び該偏光板を装
着した液晶表示装置を提供すること。 【解決手段】 溶融流延によって形成されたセルロース
エステルフィルムを有することを特徴とする光学フィル
ム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は溶融流延によって形
成されたセルロースエステルフィルムを有する光学フィ
ルム、及びそれを偏光板保護フィルムとして用いた偏光
板、及びその偏光板を含む液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置（ＬＣＤ）は低電圧、低消
費電力でＩＣ回路への直結が可能であり、そして特に薄
型化が可能であることから、ワードプロセッサやパーソ
ナルコンピュータ、テレビ、モニター、携帯情報端末等
の表示装置として広く採用されている。このＬＣＤは、
基本的な構成は例えば液晶セルの両側に偏光板を設けた
ものである。

【０００３】ところで偏光板は一定方向の偏波面の光だ
けを通すものである。従って、ＬＣＤは電界による液晶
の配向の変化を可視化させる重要な役割を担っている。
即ち、偏光板の性能によってＬＣＤの性能が大きく左右
される。

【０００４】偏光板の偏光子はヨウ素などを高分子フィ
ルムに吸着・延伸したものである。即ち、二色性物質
（ヨウ素）を含むＨインキと呼ばれる溶液を、ポリビニ
ルアルコールのフィルムに湿式吸着させた後、このフィ
ルムを一軸延伸することにより、二色性物質を一方向に
配向させたものである。

【０００５】偏光板の保護フィルムとしては、セルロー
ス樹脂、特にセルローストリアセテートが用いられてい
る。

【０００６】セルロースエステルフィルムは、光学的、
物理的に偏光板用の保護フィルムとして有用であるため
一般に広く用いられている。しかしながら、フィルムの
製造方法はハロゲン系の溶媒を用いた流延製膜法による
製造方法であるため、溶媒回収に要する費用は非常に大
きい負担となっていた。そのため、ハロゲン系以外の溶
媒が色々と試験されたが満足する溶解性の得られる代替
物はなかった。代替溶媒以外に、特開平１０−９５８６
１号記載の冷却法等新規溶解方法も試されたが、工業的
な実現が難しくさらなる検討が必要とされている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであり、その目的は溶媒を使用するこ
となく光学的、物理的に優れ、特に寸法安定性に優れた
光学フィルムを提供することである。更に別の目的とし
て、溶融流延法で得られるフィルムが持つ塗布性不良や
膜厚方向のレターデーションの不安定性を改善すること
にある。

【０００８】尚、本発明において光学フィルムとは、液
晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディ
スプレイ等の各種表示装置に用いられる機能フィルムの
ことであり、特に偏光板保護フィルム、位相差フィル
ム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、視野角拡大
等の光学補償フィルム等を含む。特にその中でも本発明
のセルロースエステルフィルムを偏光板保護フィルムと
して採用した偏光板及び該偏光板を装着した液晶表示装
置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は以下
の構成により達成される。

【００１０】１．溶融流延によって形成されたセルロー
スエステルフィルムを有することを特徴とする光学フィ
ルム。

【００１１】２．前記セルロースエステルフィルムが１
方向及びそれと直交する方向にそれぞれ１．００〜２．
５０倍、１．０１〜３．００倍に延伸されたフィルムで
あることを特徴とする上記１記載の光学フィルム。

【００１２】３．前記セルロースエステルフィルムが不
揮発性可塑剤を含有することを特徴とする上記１又は２
記載の光学フィルム。

【００１３】４．前記セルロースエステルフィルムが紫
外線吸収剤を含有することを特徴とする上記１〜３の何
れか１項記載の光学フィルム。

【００１４】５．前記セルロースエステルフィルムの溶
融温度が１１０〜２８０℃であることを特徴とする上記
１〜４の何れか１項記載の光学フィルム。

【００１５】６．前記セルロースエステルフィルムがセ
ルロースの低級脂肪酸エステルを含有することを特徴と
する上記１〜５の何れか１項記載の光学フィルム。

【００１６】７．前記セルロースエステルフィルムがセ
ルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セル
ロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネー
ト、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセ
テートフタレート、及びセルロースフタレートから選ば
れる少なくとも一種を有することを特徴とする上記１〜
６の何れか１項記載の光学フィルム。

【００１７】８．前記セルロースエステルフィルムの原
料セルロースが、木材パルプ及びリンターパルプの少な
くとも一方を含むことを特徴とする上記１〜７の何れか
１項記載の光学フィルム。

【００１８】９．前記セルロースエステルフィルムの１
０５℃、５時間での縦及び横の寸法変化率が±０．１％
以内であることを特徴とする上記１〜８の何れか１項記
載の光学フィルム。

【００１９】１０．前記セルロースエステルフィルムの
８０μｍ換算でのヘイズが０．６％以下であることを特
徴とする上記１〜９の何れか１項記載の光学フィルム。

【００２０】１１．前記セルロースエステルフィルムの
面内方向のレターデーションＲ０が１００ｎｍ以下であ
ることを特徴とする上記１〜１０の何れか１項記載の光
学フィルム。

【００２１】１２．前記セルロースエステルフィルムの
引っ張り強度が５０Ｎ／ｍｍ²以上であることを特徴と
する上記１〜１１の何れか１項記載の光学フィルム。

【００２２】１３．前記セルロースエステルフィルムの
弾性率が３ｋＮ／ｍｍ²以上であることを特徴とする上
記１〜１２の何れか１項記載の光学フィルム。

【００２３】１４．前記セルロースエステルフィルムの
動摩擦係数が０．４０以下であることを特徴とする上記
１〜１３の何れか１項記載の光学フィルム。

【００２４】１５．前記光学フィルムの遅相軸方向と製
膜方向とのなす角度θ₁が−３０°〜＋３０°、−６０
°〜−９０°或いは＋６０°〜＋９０°であることを特
徴とする上記１〜１４の何れか１項記載の光学フィル
ム。

【００２５】１６．前記光学フィルムの遅相軸方向と製
膜方向とのなす角度θ₁と面内方向のレターデーション
Ｒ０が下記の関係にあることを特徴とする上記１〜１５
の何れか１項記載の光学フィルム。

【００２６】Ｐ≦１−ｓｉｎ²（２θ₁）・ｓｉｎ²（π
Ｒ０／λ）Ｐは０．９９９、λはＲ０及びθ₁を求める
ための三次元屈折率測定の際の光の波長ｎｍを表す。

【００２７】１７．クロスニコル状態に配置された２枚
の偏光板の間に配置された光学フィルムを一方の偏光板
側から光を当てて他方の偏光板の側から観察するに当た
って、直径０．０１ｍｍ以上である輝点の数が２００個
／ｃｍ²以下であることを特徴とする上記１〜１６の何
れか１項記載の光学フィルム。

【００２８】１８．残留有機溶媒量が０．１質量％未満
であることを特徴とする上記１〜１７の何れか１項記載
の光学フィルム。

【００２９】１９．残留有機溶媒量が０．１質量％未満
であることを特徴とする光学フィルム。

【００３０】２０．長手方向が１００ｍ以上の巻きの状
態であることを特徴とする上記１〜１９の何れか１項記
載の光学フィルム。

【００３１】２１．前記セルロースエステルフィルムの
少なくとも一方の面にセルロースエステルを溶解もしく
は膨潤させる溶媒を含む塗布組成物によって塗設された
塗布層を有することを特徴とする上記１〜２０の何れか
１項記載の光学フィルム。

【００３２】２２．前記光学フィルムの少なくとも一方
の面に帯電防止層、硬化樹脂層、反射防止層、易接着
層、防眩層及び光学補償層から選択される少なくとも１
層を設けたことを特徴とする上記１〜２１の何れか１項
記載の光学フィルム。

【００３３】２３．上記１〜２２の何れか１項記載の光
学フィルムを少なくとも１方の面に用いたことを特徴と
する偏光板。

【００３４】２４．上記１〜２２の何れか１項記載の光
学フィルム、及び上記２３記載の偏光板の少なくとも一
方を用いたことを特徴とする液晶表示装置。

【００３５】本発明は光学フィルム、特に偏光板の保護
フィルムの材料としてセルロースエステルを使用する系
において、溶媒を使用しないでフィルム製膜する方法を
究明するためになされたもので、非溶媒使用系で製膜す
る方法を採用してセルロースエステルフィルムを製造す
るにはセルロースエステルを最適な温度で溶融・流延す
ることによって形成すればよいとの知見に基づき本発明
に至ったものである。そしてこの方法で得られたセルロ
ースエステルフィルムは光学的、物理的に優れ、特に寸
法安定性等の特性に優れていることも判明し、結果とし
てそれらの特徴を有する保護フィルムとして採用した偏
光板を得るに至った。

【００３６】以下、本発明を詳述する。本発明の光学フ
ィルムは溶融流延によって形成されたセルロースエステ
ルフィルムであることを特徴とする。

【００３７】本発明における溶融流延とは、溶媒を用い
ずセルロースエステルを流動性を示す温度まで加熱溶融
し、その後流動性のセルロースエステルをエンドレスベ
ルト、ドラム上に押し出し製膜することを意味する。

【００３８】流延に用いられる各種添加物を含んでもよ
い流動性セルロースエステルにはほとんど揮発性溶媒を
含まないが、一方でその溶融セルロースエステルを調製
する過程の一部では溶媒を使用してもよい。

【００３９】保護フィルムを構成するセルロースエステ
ルフィルムはセルロースの低級脂肪酸エステル製のもの
を使用するのが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エス
テルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪
酸を意味し、例えばセルロースアセテート、セルロース
プロピオネート、セルロースブチレート等がセルロース
の低級脂肪酸エステルの好ましいものとして挙げられ
る。その他にも、セルロースアセテートプロピオネート
やセルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エス
テルを用いることが出来る。最も好ましいセルロースの
低級脂肪酸エステルは炭素原子数２〜４のアシル基を置
換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピ
オニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式
（Ｉ）及び（II）を同時に満たすセルロースエステルを
含むセルロースエステルである。

【００４０】 式（Ｉ） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０ 式（II） ０≦Ｘ≦２．５ この内特にセルロースアセテートプロピオネートが好ま
しく用いられ、中でも１．９≦Ｘ≦２．５であり、０．
１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。アシル基で置換
されていない部分は通常水酸基として存在しているのも
のである。これらは公知の方法で合成することができ
る。

【００４１】本発明で用いられるセルロースエステル
は、重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．５
〜５．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは
２．０〜５．０であり、更に好ましくは２．５〜５．０
であり、更に好ましくは３．０〜５．０のセルロースエ
ステルが好ましく用いられる。

【００４２】本発明で用いられるセルロースエステルの
原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよ
く、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹
の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花
リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセ
ルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用す
ることができる。

【００４３】例えば、綿花リンター由来セルロースエス
テル：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースエステル：
木材パルプ（広葉樹）由来セルロースエステルの比率が
１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５
０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：
１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８
５：０：１５、４０：３０：３０で用いることが出来
る。

【００４４】又、本発明で用いられるセルロースエステ
ルはフィルムにしたときの輝点異物が少ないものである
ことが好ましい。輝点異物とは、２枚の偏光板を直交に
配置し（クロスニコル）、この間にセルロースエステル
フィルムを配置して、一方の面から光源の光を当てて、
もう一方の面からセルロースエステルフィルムを観察し
たときに、光源の光がもれて見える点のことである。こ
のとき評価に用いる偏光板は輝点異物がない保護フィル
ムで構成されたものであることが望ましく、偏光子の保
護にガラス板を使用したものが好ましく用いられる。輝
点異物はセルロースエステルに含まれる未酢化のセルロ
ースがその原因の１つと考えられ、輝点異物の少ないセ
ルロースエステルを用いることと、溶融したセルロース
エステルを濾過することによって除去し、低減すること
ができる。又、フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当
たりの輝点異物数は少なくなり、フィルムに含まれるセ
ルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異物は
少なくなる傾向がある。

【００４５】輝点異物は、輝点の直径０．０１ｍｍ以上
が２００個／ｃｍ²以下であることが好ましく、更に１
００個／ｃｍ²以下であることが好ましく、５０個／ｃ
ｍ²以下であることが好ましく、３０個／ｃｍ²以下であ
ることが好ましく、１０個／ｃｍ²以下であることが好
ましいが、皆無であることが最も好ましい。又、０．０
０５〜０．０１ｍｍ以下の輝点についても２００個／ｃ
ｍ²以下であることが好ましく、更に１００個／ｃｍ²以
下であることが好ましく、５０個／ｃｍ²以下であるこ
とが好ましく、３０個／ｃｍ²以下であることが好まし
く、１０個／ｃｍ²以下であることが好ましいが、皆無
であることが最も好ましい。

【００４６】輝点異物を濾過によって除去する場合、セ
ルロースエステルを単独で溶融させたものを濾過するよ
りも可塑剤を添加混合した組成物を濾過することが輝点
異物の除去効率が高く好ましい。紫外線吸収剤、その他
の添加物も適宜混合したものを濾過することができる。
濾過はセルロースエステルを含む溶融物の粘度が１００
００Ｐ以下で濾過されるこが好ましく、更に好ましくは
５０００Ｐ以下が好ましく、１０００Ｐ以下であること
が更に好ましく、５００Ｐ以下であることが更に好まし
い。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾
紙、四フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公
知のものが好ましく用いられるが、特にセラミックス、
金属等が好ましく用いられる。絶対濾過精度としては５
０μｍ以下のものが好ましく用いられ、３０μｍ以下の
ものが更に好ましく、１０μｍ以下のものが更に好まし
く、５μｍ以下のものが更に好ましく用いられる。これ
らは適宜組み合わせて使用することもできる。濾材はサ
ーフェースタイプでもデプスタイプでも用いることがで
きるが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好
ましく用いられる。

【００４７】別の実施態様では、原料のセルロースエス
テルは少なくとも一度溶媒に溶解させた後、溶媒を乾燥
させたセルロースエステルを用いることが好ましい。好
ましくは可塑剤、紫外線吸収剤及びマット剤の少なくと
も１つ以上と共に溶媒に溶解させた後、乾燥させたセル
ロースエステルを用いる。更に、溶解の過程で−２０℃
以下に冷却したものであることがより好ましい。このよ
うなセルロースエステルを添加することが溶融状態にし
たときの各添加物を均一にしやすいため好ましく、光学
特性を均一にするためにも優れている。特に全セルロー
スエステルの１質量％以上、より好ましくは５質量％以
上、更に好ましくは１０質量％以上、更に好ましくは３
０質量％以上、更に好ましくは５０質量％以上添加する
ことが好ましく、最も好ましくは全てのセルロースエス
テル原料が一度溶媒で溶解されたものであることが望ま
しい。

【００４８】本発明の光学フィルムはセルロースエステ
ル以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合
される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れ
るものが好ましく、フィルムにしたときの透過率が８０
％以上、更に好ましくは９０％以上、更に好ましくは９
２％以上であることが好ましい。

【００４９】以下に本発明の光学フィルムの製造方法を
更に詳しく説明するが、本発明はこれに限定されるもの
ではない。この中で、縦方向とは、フィルムの製膜方向
（長手方向）を、横方向（幅手方向）とはフィルムの製
膜方向と直角方向のことをいう。

【００５０】原料のセルロースエステルをペレット状に
成型し、熱風乾燥又は真空乾燥した後、溶融押出し、Ｔ
ダイよりシート状に押出して、静電印加法等により冷却
ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸シートを得
る。冷却ドラムの温度は９０〜１５０℃に維持されてい
ることが好ましい。

【００５１】本発明の光学フィルムを偏光板保護フィル
ムとして偏光板を作製した場合、該セルロースエステル
フィルムは、幅手方向もしくは製膜方向に延伸製膜され
たフィルムであることが特に好ましい。

【００５２】前述の冷却ドラムから剥離され、得られた
未延伸シートを複数のロール群及び／又は赤外線ヒータ
ー等の加熱装置を介してセルロースエステルのガラス転
移温度（Ｔｇ）からＴｇ＋１００℃の範囲内に加熱し、
一段又は多段縦延伸することが好ましい。

【００５３】次に、上記のようにして得られた縦方向に
延伸されたセルロースエステルフィルムを、Ｔｇ〜Ｔｇ
−２０℃の温度範囲内で横延伸し次いで熱固定すること
が好ましい。

【００５４】横延伸する場合、２つ以上に分割された延
伸領域で温度差を１〜５０℃の範囲で順次昇温しながら
横延伸すると巾方向の物性の分布が低減でき好ましい。
更に横延伸後、フィルムをその最終横延伸温度以下でＴ
ｇ−４０℃以上の範囲に０．０１〜５分間保持すると巾
方向の物性の分布が更に低減でき好ましい。

【００５５】熱固定は、その最終横延伸温度より高温
で、Ｔｇ−２０℃以下の温度範囲内で通常０．５〜３０
０秒間熱固定する。この際、２つ以上に分割された領域
で温度差を１〜１００℃の範囲で順次昇温しながら熱固
定することが好ましい。

【００５６】熱固定されたフィルムは通常Ｔｇ以下まで
冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし
巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ以上
の温度範囲内で、横方向及び／又は縦方向に０．１〜１
０％弛緩処理することが好ましい。又冷却は、最終熱固
定温度からＴｇまでを、毎秒１００℃以下の冷却速度で
徐冷することが好ましい。冷却、弛緩処理する手段は特
に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数の
温度領域で順次冷却しながらこれらの処理を行うことが
フィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。尚、冷却速
度は、最終熱固定温度をＴ₁、フィルムが最終熱固定温
度からＴｇに達するまでの時間をｔとしたとき、（Ｔ₁
−Ｔｇ）／ｔで求めた値である。

【００５７】これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件の
より最適な条件は、フィルムを構成するセルロースエス
テルにより異なるので、得られた二軸延伸フィルムの物
性を測定し、好ましい特性を有するように適宜調整する
ことにより決定すればよい。

【００５８】本発明の光学フィルムを偏光板保護フィル
ムとして偏光板を作製した場合、該セルロースエステル
フィルムのＴｇは１５０℃以上が好ましく、更に１８０
℃以上が好ましい。Ｔｇは示差走査熱量計で測定すると
ころのベースラインが偏奇し始める温度と、新たにベー
スラインに戻る温度との平均値として求められる。又、
溶融温度は１１０〜２８０℃の範囲であることが好まし
く、更に２００℃以上が好ましい。

【００５９】セルロースエステルフィルムの好ましい延
伸倍率は、一方向の延伸倍率が１．０１〜３．００倍に
延伸され、もう一方の延伸倍率が１．００〜２．５倍に
延伸製膜されたものであり、より好ましくは一方向の延
伸倍率が１．０１〜３．０倍に延伸され、もう一方の延
伸倍率が１．００〜２．５０倍に延伸されたものが好ま
しく、更に好ましくは一方向の延伸倍率が１．０１〜
３．０倍に延伸され、もう一方の延伸倍率が１．００〜
２．００倍に延伸されたものであり、更に好ましくは一
方向の延伸倍率が１．０１〜３．０倍に延伸され、もう
一方の延伸倍率が１．０１〜１．５０倍未満に延伸され
たものであり、更に好ましくは一方向の延伸倍率が１．
０１〜３．０倍に延伸され、もう一方の延伸倍率が１．
０１〜１．２５倍未満に延伸されたものであり、更に好
ましくは一方向の延伸倍率が１．０１〜２．５０倍に延
伸され、もう一方の延伸倍率が１．０１〜１．２５倍未
満に延伸されたものであり、最も好ましくは一方向の延
伸倍率が１．０１〜２．００倍に延伸され、もう一方の
延伸倍率が１．０１〜１．１０倍未満に延伸されたもの
である。これにより、光学的等方性に優れたセルロース
エステルフィルムを好ましく得ることができる。製膜工
程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸はテンターによ
って行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテ
ンターでもよい。

【００６０】本発明の光学フィルムを偏光板保護フィル
ムとした場合、該保護フィルムの厚さは１０〜５００μ
ｍが好ましい。特に２０μｍ以上、更には３５μｍ以上
が好ましい。又、１００μｍ以下、更には８５μｍ以下
が好ましい。特に好ましくは２０〜８０μｍが好まし
く、特に好ましくは３０〜６０μｍ、更に好ましくは３
０〜５０μｍである。

【００６１】本発明において、上記のようにして製膜さ
れたセルロースエステルフィルムの面内方向におけるレ
ターデーションＲ０ｎｍは小さいほど好ましく、特に５
００ｎｍ未満であることが好ましく、３００ｎｍ未満で
あることが好ましく、２００ｎｍ未満であることが更に
好ましく、１００ｎｍ以下であることが更に好ましく、
５０ｎｍ以下であることが更に好ましく、３０ｎｍ以下
であることが更に好ましい。１０ｎｍ以下であることが
特に好ましく０ｎｍであることが更に好ましい。

【００６２】本発明の光学フィルムの製膜方向（長手方
向に相当する）と、フィルムの遅相軸とのなす角度θ
（ここではθ₁）が０°、＋９０°もしくは−９０°に
近いほど好ましい。ただし、θ₁は製膜方向と遅相軸と
がなす狭い角度であり、＋９０°〜−９０°の範囲であ
る。特に偏光板保護フィルムとして用いる場合に、得ら
れる偏光板の偏光度向上に寄与する。ここで遅相軸とは
フィルム面内の屈折率が最も高くなる方向である。以
下、図１に従って好ましい範囲を説明する。

【００６３】図１は光学フィルムの製膜方向とフィルム
の遅相軸とのなす角度を模式的に説明した概略図であ
る。具体的には、θ₁が−３０°〜＋３０°（図１では
ｂ及びｃ）或いは＋６０°〜＋９０°（図１ではａ）又
は−６０°〜−９０°（図１ではｄ）にあることが好ま
しく、より好ましくはθ₁が−２０°〜＋２０°或いは
＋７０°〜＋９０°又は−７０°〜−９０°にあること
が好ましく、更に好ましくは−１５°〜＋１５°或いは
＋７５°〜＋９０°又は−７５°〜−９０°であること
が好ましく、更に好ましくは−１４°〜＋１４°或いは
＋８０°〜＋９０°又は−８０°〜−９０°であること
が好ましく、更に好ましくは−１０°〜＋１０°である
ことが好ましく、更に好ましくは−５°〜＋５°である
ことが好ましく、更に好ましくは−３°〜＋３°である
ことが好ましい。更に好ましくは−１°〜＋１°であ
り、０°であることが最も好ましい。

【００６４】尚、図１におけるａ′〜ｄ′の範囲は上記
のａ〜ｄの範囲と同義であり、各ａ〜ｄに含まれる。

【００６５】本発明の光学フィルムを偏光板保護フィル
ムとして用いた際、偏光板の偏光子と偏光板保護フィル
ムの関係は、偏光子の配向方向と偏光板保護フィルムの
遅相軸とのなす角度θ₂が０°、＋９０°もしくは−９
０°に近くなるように配置すると偏光板の偏光度が高く
なり好ましい。

【００６６】具体的には、θ₂が−３０°〜＋３０°或
いは＋６０°〜＋９０°又は−６０°〜−９０°にある
ことが好ましく、より好ましくはθ₂が−２０°〜＋２
０°或いは＋７０°〜＋９０°又は−７０°〜−９０°
にあることが好ましく、更に好ましくは−１５°〜＋１
５°或いは＋７５°〜＋９０°又は−７５°〜−９０°
であることが好ましく、更に好ましくは−１４°〜＋１
４°或いは＋８０°〜＋９０°又は−８０°〜−９０°
であることが好ましく、更に好ましくは−１０°〜＋１
０°であることが好ましく、更に好ましくは−５°〜＋
５°であることが好ましく、更に好ましくは−３°〜＋
３°であることが好ましい。更に好ましくは−１°〜＋
１°であり、０°であることが最も好ましい。

【００６７】更に好ましくはθと面内方向のレターデー
ションＲ０が下記の関係にあることがより好ましい。θ
は偏光板保護フィルムではθ₁であり、偏光板ではθ₂の
ことである。

【００６８】 Ｐ≦１−ｓｉｎ²（２θ）・ｓｉｎ²（πＲ０／λ） Ｐは０．９９９、λはＲ０及びθを求めるための三次元
屈折率測定の際の光の波長ｎｍである。更に好ましくは
Ｐが０．９９９５であるときにθとＲ０が上式を満たす
ことが好ましく、更に好ましくはＰが０．９９９８であ
るときにθとＲ０が上式を満たすことが好ましく、更に
好ましくはＰが０．９９９９であるときにθとＲ０が上
式を満たすことが好ましく、更に好ましくはＰが０．９
９９９５であるときにθとＲ０が上式を満たすことが好
ましく、更に好ましくはＰが０．９９９９８であるとき
にθとＲ０が上式を満たすことが好ましく、更に好まし
くはＰが０．９９９９９であるときにθとＲ０が上式を
満たすことが好ましい。

【００６９】更に本発明の実施態様では、残留有機溶媒
量が０．１質量％未満のセルロースエステルフィルムを
提供する。即ち、残留有機溶媒量が０．１質量％未満で
あると特に膜厚方向のレターデーションＲｔの値は安定
しており、取扱がしやすかった。偏光板保護フィルムで
は、Ｒｔの変動が少ないことが安定した光学特性を得る
ために求められている。Ｒｔの安定したセルロースエス
テルフィルムを得るため検討を重ねた結果、Ｒｔはセル
ロースエステルフィルム自身の残留有機溶媒量に依存し
て変動することが明らかとなった。製造されたセルロー
スエステルフィルムは長尺の巻物（ロール）の状態で保
管、輸送され、偏光板製造等に用いられる。巻きの状態
では、セルロースエステルフィルム自身からの残留有機
溶媒の揮散は乏しく、特に１００ｍ以上の長さで巻き取
られたものは中心にいくほど経時での残留有機溶媒の揮
散が少ないため、巻きの中心と最表面との残留有機溶媒
量に分布を持つことになる。このため、巻きの中でもＲ
ｔの分布を持ってしまうという問題があった。又、保管
期間或いは保管条件によっても残留有機溶媒量が変動し
ていくため、Ｒｔの安定した状態で、或いは安定したＲ
ｔ値を確認しながら偏光板を製造することが難しかっ
た。

【００７０】本発明の光学フィルムは製膜工程で実質的
に溶媒を使用することがないため、製膜後巻き取られた
セルロースエステルフィルムに含まれる残留有機溶媒量
は安定して０．１質量％未満であり、これによって従来
以上に安定したＲｔを持つセルロースエステルフィルム
を提供することが可能である。特に１００ｍ以上の長尺
の巻物においても安定したＲｔを持つセルロースエステ
ルフィルムを提供することが可能となった。該セルロー
スエステルフィルムは巻きの長さについては特に制限は
なく、１５００ｍ、２５００ｍ、５０００ｍであっても
好ましく用いられる。Ｒｔは５００ｎｍ以下、更に好ま
しくは３００ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは０〜
１５０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは３０〜１０
０ｎｍが好ましい。又、Ｒｔの変動や分布の幅は±５０
％未満であることが好ましく、±３０％未満であること
が好ましく、±２０％未満であることが好ましく、±１
５％未満であることが好ましく、±１０％未満であるこ
とが好ましく、±５％未満であることが好ましい。最も
好ましくはＲｔの変動がないことである。

【００７１】又、上記セルロースエステルフィルムは良
好な塗布性を有するものである。セルロースエステルフ
ィルムを用いた光学フィルムでは、各種機能を付与する
ために塗布工程で帯電防止層、硬化樹脂層、反射防止
層、易接着層、防眩層、光学補償層などを塗設すること
ができる。従来の溶液流延法によって製膜されたセルロ
ースエステルフィルムでは、製造後の経過時間によって
塗布性が変わることがあった。この問題を解決するため
鋭意検討を重ねた結果、セルロースエステルフィルムの
残留有機溶媒量が一因であることが判明した。

【００７２】特に、セルロースエステルを溶解もしくは
膨潤させる溶媒を含む塗布組成物によって塗設する際
に、セルロースエステルフィルムの残留有機溶媒量が多
いとブラッシングを起こしたり、塗膜に微細な亀裂が発
生することが確認された。これらの現象は塗布環境にも
依存することが判明しているが、完全に原因が特定され
てはいない。

【００７３】上記セルロースエステルフィルムでは、各
種機能を付与するために塗布工程で帯電防止層、硬化樹
脂層、反射防止層、防眩層、易接着層、光学補償層、配
向層などの機能層を塗設する際に、セルロースエステル
を溶解もしくは膨潤させる溶媒を含む塗布組成物によっ
て塗設しても、安定して良好な塗布性を得られることが
確認された。又、該セルロースエステルフィルムに塗布
層を設けた場合でも、塗布層の膜厚は通常セルロースエ
ステルフィルムの膜厚よりも薄いため、前述のＲｔ値は
安定した値を得ることができる。

【００７４】残留有機溶媒量が０．１質量％未満である
とそのような塗布故障が起こることは少なく、特に０．
０８質量％未満ではより少なくなり、０．０５質量％未
満であることが更に好ましく、０．０３質量％未満であ
ることが更に好ましい。特に巻物（ロール）の状態でそ
の中心から表面（外）にかけて上記範囲にあることが望
ましい。

【００７５】残留有機溶媒量は、ヘッドスペースガスク
ロ法により測定できる。即ち、既知量のセルロースエス
テルフィルムを密閉容器内で１２０℃で２０分間加熱
し、その密閉容器内の気相に含まれる有機溶媒をガスク
ロマトグラフにより定量する。この結果から残留有機溶
媒量（％）を算出することができる。

【００７６】残留有機溶媒量（％）＝残留有機溶媒質量
（ｇ）／加熱処理前のセルロースエステルフィルム
（ｇ） 或いは、加熱前後の質量変化から、下式により残留有機
溶媒量（％）を求めることも出来る。

【００７７】残留有機溶媒量（％）＝加熱処理前後のセ
ルロースエステルフィルムの質量差（ｇ）／加熱処理前
のセルロースエステルフィルム（ｇ） フィルムが水分を含む場合は、更にセルロースエステル
フィルムに含まれている水分量（ｇ）を別の方法で求
め、前記の加熱処理前後のセルロースエステルフィルム
の質量差（ｇ）から水分の質量（ｇ）を差し引いて求め
た値により、残留有機溶媒含有量（％）を求めることが
できる。

【００７８】溶液流延法で作製されたセルロースエステ
ルフィルムの残留有機溶媒量（％）を０．１質量％以下
とすることは困難であり、そのためには長い乾燥工程が
必要であるが、この方法によれば安いコストで極めて低
い残留有機溶媒含有量のセルロースエステルフィルムを
得ることが出来、偏光板保護フィルムとして優れた特性
を持つセルロースエステルフィルムを得ることができ
る。

【００７９】本発明の光学フィルムはセルロースエステ
ルの他に所望により可塑剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑
り剤及びマット剤等を含有させてもよい。

【００８０】可塑剤としては例えばトリフェニルホスフ
ェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニル
ホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフ
ェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェ
ート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェ
ート、トリキシリルオスフェート、トリスオルト−ビフ
ェニルホスフェート等のリン酸エステル系の可塑剤、ジ
エチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメ
チルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタ
レート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート等のフタル
酸エステル系の可塑剤、トリアセチン、トリブチリン、
ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエ
チルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレー
ト、ブチルフタリルブチルグリコレート等のグリコール
酸エステル系の可塑剤などが挙げられる。中でも、フタ
ル酸エステル系やグリコール酸エステル系の可塑剤は、
セルロースエステルの加水分解を引き起こし難いことか
ら好ましい。又、凝固点が２０℃以下の可塑剤が含まれ
ることが好ましい。このような可塑剤としては、例えば
トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェ
ート、トリブチルホスフェート、ジエチルフタレート、
ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチル
フタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、エチ
ルフタリルエチルグリコレートなどが挙げられる。

【００８１】又、特に可塑剤の中でも不揮発性を有する
ものが好ましく使用される。不揮発性可塑剤とは、２０
０℃における蒸気圧が１０ｍｍＨｇ以下の化合物であ
り、極めて低い蒸気圧を有し、かつ低い揮発度を有する
性質のものである。好ましくは５ｍｍＨｇ以下、更に好
ましくは１ｍｍＨｇ以下である。具体的には特表平６−
５０１０４０号に記載されている不揮発性燐酸エステル
が挙げられ、例えばアリーレンビス（ジアリールホスフ
ェート）エステルが好ましい。

【００８２】以下に本発明において好ましい可塑剤の具
体例を例示する。

【００８３】

【化１】

【００８４】以上の可塑剤の含有量は寸法安定性の観点
から、セルロースエステルに対して０．１〜３０質量％
が好ましく、特に０．５〜１５質量％が好ましい。

【００８５】尚、セルロースエステルフィルムの柔軟性
を向上させ、フィルムの加工性（スリット加工或いは打
抜加工であり、これらの加工性が悪いと、切断面が鋸状
になり、切り屑が発生する。そして、これらの屑がフィ
ルムに付着すると、液晶表示性能が悪くなる）が良くな
ることから、凝固点が２０℃以下、特に１４℃以下の可
塑剤が多い方が好ましい。

【００８６】紫外線吸収剤としては、液晶の劣化防止の
観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優
れ、かつ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上
の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば「高分
子添加剤の最新技術」１００頁（１９８７）シー・エム
・シー社刊のベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール
系、アクリレート系、サリシレート系、オキザニリド
系、ヒンダートアミン系、ニッケル系などが挙げられ
る。好ましくはベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール
系である。

【００８７】以下に紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、
本発明はこれらに限定されない。 ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾール ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，
４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）
−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェノール） ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェ
ノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１：Ｃｉｂａ製） ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチル
ヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵ
ＶＩＮ１０９：Ｃｉｂａ製） 又、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好まし
く用いることができ、特に特開平６−１４８４３０号記
載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられ
る。

【００８８】本発明においては、紫外線吸収剤は０．１
〜２０質量％添加することが好ましく、更に０．５〜１
０質量％添加することが好ましく、更に１〜５質量％添
加することが好ましい。

【００８９】以下に本発明において好ましい紫外線吸収
剤の具体例を例示する。

【００９０】

【化２】

【００９１】これらは２種以上を併用したほうが好まし
い効果があることが多いので、製造条件、使用条件等に
より適宜最適な組み合わせを探索するのが好ましい。使
用量は、セルロースエステルに対して、０．０１〜１０
質量％の範囲であり、好ましくは着色の点から０．１〜
５質量％である。紫外線吸収剤は熱安定性の高いものが
好ましい。

【００９２】本発明におけるセルロースエステルには、
滑り性を付与するためにマット剤等の微粒子を添加する
ことができる。微粒子としては、無機化合物の微粒子又
は有機化合物の微粒子が挙げられる。

【００９３】無機化合物としては、珪素を含む化合物、
二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭
酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケ
イ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミ
ニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が
好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や
酸化ジルコニウムであり、二酸化珪素が特に好ましく用
いられる。

【００９４】二酸化珪素の微粒子としては、例えば、ア
エロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、
２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ
６００（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使
用できる。

【００９５】酸化ジルコニウムの微粒子としては、例え
ば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロ
ジル（株）製）等の市販品が使用できる。

【００９６】有機化合物としては、例えばシリコーン樹
脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好まし
く、中でもシリコーン樹脂が好ましく用いられる。

【００９７】上記のシリコーン樹脂の中でも、特に三次
元の網状構造を有するものが好ましく、例えばトスパー
ル１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、
同３１２０及び同２４０（以上、東芝シリコーン（株）
製）等の商品名を有する市販品が使用できる。

【００９８】本発明に係る微粒子の１次平均粒子径とし
ては、ヘイズを低く抑えるという観点から２０ｎｍ以下
が好ましく、更に好ましくは１６〜５ｎｍであり、特に
好ましくは１２〜５ｎｍである。

【００９９】本発明に係る微粒子の１次平均粒子径の測
定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で
粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値
をもって１次平均粒子径とした。

【０１００】これら微粒子の添加方法は常法によって混
練するなどにより行うことができるが、特に好ましくは
予め溶媒に分散した微粒子とセルロースエステル及び／
又は可塑剤及び／又は紫外線吸収剤を混合分散させた
後、溶媒を揮発させた固形物とし、これをセルロースエ
ステル溶融物の製造過程で用いることが均一な溶融物が
得られる点で等に好ましい。

【０１０１】上記の光学フィルムは、例えば米国特許第
２，４９２，９７８号、同第２，７３９，０７０号、同
第２，７３９，０６９号、同第２，４９２，９７７号、
同第２，３３６，３１０号、同第２，３６７，６０３
号、同第２，６０７，７０４号、英国特許第６４，０７
１号、同第７３５，８９２号、特公昭４５−９０７４
号、同４９−４５５４号、同４９−５６１４号、同６０
−２７５６２号、同６１−３９８９０号、同６２−４２
０８号に記載の方法を参照して製膜できる。

【０１０２】又、上記の光学フィルム製造に際し、延伸
の前及び／又は後で帯電防止層、ハードコート層、反射
防止層、易滑性層、接着層、防眩層、バリアー層等の機
能性層を塗設してもよい。この際、コロナ放電処理、プ
ラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて
施すことができる。

【０１０３】カットされたフィルム両端のクリップ把持
部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処
理や解重合・再重合等の処理を行った後、同じ品種のフ
ィルム用原料として又は異なる品種のフィルム用原料と
して再利用してもよい。又、前述の可塑剤、紫外線吸収
剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロースエステ
ルを含む組成物を共押し出しして、積層構造のセルロー
スエステルフィルムを作製することもできる。例えば、
スキン層／コア層／スキン層といった構成のセルロース
エステルフィルムを作ることが出来る。例えば、マット
剤は、スキン層に多く、又はスキン層のみに入れること
が出来る。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア
層に多くいれることができ、コア層のみにいれてもよ
い。又、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種
類を変更することもでき、例えば、スキン層に低揮発性
の可塑剤及び／又は紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可
塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外
線吸収剤を添加することもできる。スキン層とコア層の
Ｔｇが異なっていても良く、スキン層のＴｇよりコア層
のＴｇが低いことが好ましい。又、溶融流延時のセルロ
ースエステルを含む溶融物の粘度もスキン層とコア層で
異なっていても良く、スキン層の粘度＞コア層の粘度で
も、コア層の粘度≧スキン層の粘度でもよい。

【０１０４】本発明において、上記のようにして製膜さ
れたセルロースエステルフィルムを１０５℃、５時間と
いう条件下での縦及び横の寸法収縮率が±０．１％以下
であることが好ましい。又セルロースエステルフィルム
の８０μｍ換算でのヘイズが０．６％以下であることが
好ましく、特にそのヘイズ値が０．５％以下のものが好
ましく、更に好ましくは０．１％以下である。尚、ヘイ
ズ値の下限は特に限定されるものでは無い。又、本発明
の光学フィルムの引き裂き強度は１０ｇ以上であること
が好ましく１２ｇ以上であることがより好ましく、１５
ｇ以上であることが更に好ましく、１８ｇ以上であるこ
とが更に好ましく、２０ｇ以上であることが更に好まし
く、２２ｇ以上であることが更に好ましい。又セルロー
スエステルフィルムの引っ張り強度が５０Ｎ／ｍｍ²以
上であることが好ましく、又弾性率が３ｋＮ／ｍｍ²以
上であることが好ましい。又セルロースエステルフィル
ムの動摩擦係数が０．４０以下であることが好ましく、
更に好ましくは０．３５以下である。

【０１０５】本発明の光学フィルムは寸度安定性に優
れ、８０℃、９０％ＲＨにおける寸法収縮率が±０．５
％未満であり、更に好ましくは０．３％未満であり、更
に好ましくは０．１％未満であり、更に好ましくは０．
０８％未満であり、更に好ましくは０．０６％未満であ
り、更に好ましくは０．０４％未満である。

【０１０６】本発明の光学フィルム、或いは偏光板保護
フィルムとして使用して偏光板には帯電防止加工、クリ
アハードコート加工、防眩加工、反射防止加工、易接着
加工等を施すことが出来る。或いは配向膜を形成して液
晶層を設け、光学補償機能を付与することもできる。

【０１０７】帯電防止加工とは、樹脂フィルムの取扱の
際に、この樹脂フィルムが帯電するのを防ぐ機能を付与
するものであり、具体的には、イオン導電性物質や導電
性微粒子を含有する層を設けることによって行う。ここ
でイオン導電性物質とは電気伝導性を示し、電気を運ぶ
担体であるイオンを含有する物質のことであるが、例と
してはイオン性高分子化合物を挙げることができる。

【０１０８】イオン性高分子化合物としては、特公昭４
９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２
８９３７号に見られるようなアニオン性高分子化合物；
特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特
公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５
７−１８１７６号、同５７−５６０５９号などに見られ
るような、主鎖中に解離基を持つアイオネン型ポリマ
ー；特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６
号、同５３−４５２３１号、同５５−１４５７８３号、
同５５−６５９５０号、同５５−６７７４６号、同５７
−１１３４２号、同５７−１９７３５号、同５８−５６
８５８号、特開昭６１−２７８５３号、同６２−９３４
６号に見られるような、側鎖中にカチオン性解離基を持
つカチオン性ペンダント型ポリマー；等を挙げることが
できる。

【０１０９】これらのうち、好ましいのは導電性物質が
微粒子状をしており、上記樹脂中にこれらを微分散し添
加したものであって、これらに用いられる好ましい導電
性物質として、金属酸化物やこれらの複合酸化物からな
る導電性微粒子及び特開平９−２０３８１０号に記載さ
れているようなアイオネン導電性ポリマー或いは分子間
架橋を有する第４級アンモニウムカチオン導電性ポリマ
ー粒子などを含有することが望ましい。好ましい粒径と
しては５ｎｍ〜１０μｍの範囲であり、更に好ましい範
囲は用いられる微粒子の種類に依存する。

【０１１０】導電性微粒子である金属酸化物の例として
は、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、
ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₂、Ｖ₂Ｏ₅等、或いは
これらの複合酸化物が好ましく、特にＺｎＯ、ＴｉＯ₂
及びＳｎＯ₂が好ましい。異種原子を含む例としては、
例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ₂
に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、又ＳｎＯ₂に対して
は、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的であ
る。これら異種原子の添加量は０．０１〜２５ｍｏｌ％
の範囲が好ましいが、０．１〜１５ｍｏｌ％の範囲が特
に好ましい。

【０１１１】又、これらの導電性を有するこれら金属酸
化物粉体の体積抵抗率は１０⁷Ωｃｍ以下、特に１０⁵Ω
ｃｍ以下であって、１次粒子径が１００Å以上０．２μ
ｍ以下で、高次構造の長径が３０ｎｍ以上６μｍ以下で
ある特定の構造を有する粉体を導電層に体積分率で０．
０１％以上２０％以下含んでいることが好ましい。

【０１１２】又、分散性粒状ポリマーとしての架橋型カ
チオン性導電性ポリマーの特徴は、粒子内のカチオン成
分を高濃度、高密度に持たせることができるため、優れ
た導電性を有しているばかりでなく、低相対湿度下にお
いても導電性の劣化は見られず、粒子同志も分散状態で
はよく分散されているにもかかわらず、塗布後造膜過程
において粒子同志の接着性もよいため膜強度も強く、又
他の物質例えば支持体にも優れた接着性を有し、耐薬品
性に優れている。

【０１１３】帯電防止層に用いられるこれら架橋型のカ
チオン性導電性ポリマーである分散性粒状ポリマーは一
般に約１０ｎｍ〜０．３μｍの粒子サイズ範囲にあり、
好ましくは５０ｎｍ〜０．１５μｍの範囲の粒子サイズ
が用いられる。ここで用いる“分散性粒状性ポリマー”
とは、視覚的観察によって透明又はわずかに濁った溶液
に見えるが、電子顕微鏡の下では粒状分散物として見え
るポリマーである。下層塗布組成物に上層の膜厚に相当
する粒子径よりも大きなゴミ（異物）が実質的に含まれ
ない塗布組成物を用いることによって、上層の異物故障
を防止することができる。

【０１１４】該微粒子と樹脂の比率は微粒子１質量部に
対して、樹脂が０．５〜４質量部が密着性の点で好まし
く、特に紫外線照射後の密着性では微粒子１質量部に対
して、樹脂が１〜２質量部であることが好ましい。

【０１１５】ここで使用される樹脂は、例えばセルロー
スジアセテート、セルローストリアセテート、セルロー
スアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレ
ート、又はセルロースナイトレート等のセルロース誘導
体、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリブチレンテレフタレート、又はコポリブチレン
／テレ／イソフタレート等のポリエステル、ポリビニル
アルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタ
ール、ポリビニルブチラール、又はポリビニルベンザー
ル等のポリビニルアルコール誘導体、ノルボルネン化合
物を含有するノルボルネン系ポリマー、ポリメチルメタ
クリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリプロピル
チルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリ
メチルアクリレート等のアクリル樹脂もしくはアクリル
樹脂とその他樹脂との共重合体を用いることが出来るが
特にこれらに限定されるものではない。この中でセルロ
ース誘導体或いはアクリル樹脂が好ましく、更にアクリ
ル樹脂が最も好ましく用いられる。

【０１１６】帯電防止層等の樹脂層に用いられる樹脂と
しては、重量平均分子量が４０万を超え、ガラス転移点
が８０〜１１０℃である前述の熱可塑性樹脂が光学特性
及び塗布層の面品質の点で好ましい。

【０１１７】ガラス転移点はＪＩＳ Ｋ７１２１に記載
の方法にて求めることができる。ここで使用する樹脂は
下層で使用している樹脂全体の６０質量％以上、更に好
ましくは８０質量％以上であることが好ましく、必要に
応じて活性線硬化性樹脂或いは熱硬化樹脂を添加するこ
ともできる。これらの樹脂はバインダーとして前述の適
当な溶剤に溶解した状態で塗設される。

【０１１８】帯電防止層を塗設するための塗布組成物に
は、次の溶剤が好ましく用いられる。溶剤としては、炭
化水素、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコ
ールエーテル類、その他の溶媒（メチレンクロライド）
を適宜混合して使用することができるが特にこれらに限
定されるものではない。

【０１１９】これらの溶媒のうち、沸点が低い溶媒は蒸
発によって空気中の水分を結露させやすく、調液工程、
塗布工程にて塗布組成物中に水分を取り込みやすい。特
に、降雨時には外部の湿度上昇の影響を受けやすく、湿
度６５％ＲＨ以上の環境ではその影響が顕著となってく
る。特に調液工程で樹脂の溶解時間が長時間となった
り、塗布工程で塗布組成物が空気に暴露されている時間
が長くなったり、塗布組成物と空気との接触面積が広い
場合はその影響は大きくなる。

【０１２０】上記炭化水素類としては、ベンゼン、トル
エン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等が挙げら
れ、アルコール類としては、メタノール、エタノール、
ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコー
ル、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタ
ノール、ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、
シクロヘキサノール等が挙げられ、ケトン類としては、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等が挙げられ、エステル類として
は、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳酸
メチル等が挙げられ、グリコールエーテル（Ｃ１〜Ｃ
４）類としては、メチルセルソルブ、エチルセルソル
ブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ
Ｅ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピ
レングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレン
グリコールモノブチルエーテル、又はプロピレングリコ
ールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステル類と
しては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、その他の溶媒としてメチレンクロライド、Ｎ−
メチルピロリドンなどが挙げられる。特にこれらに限定
されるものではないが、これらを適宜混合した溶媒も好
ましく用いられる。

【０１２１】本発明における塗布組成物を塗布する方法
は、ドクターコート、エクストルージョンコート、スラ
イドコート、ロールコート、グラビアコート、ワイヤー
バーコート、リバースコート、カーテンコート、押し出
しコート或いは米国特許第２，６８１，２９４号に記載
のホッパーを使用するエクストルージョンコート方法等
により０．１〜１０μｍの乾燥膜厚となるように塗布す
ることが出来る。好ましくは通常０．１〜１μｍの乾燥
膜厚となるように塗布される。

【０１２２】本発明の光学フィルムには、クリアハード
コート層を設けることが出来る。クリアハードコート層
としては活性線硬化性樹脂或いは熱硬化樹脂が好ましく
用いられる。

【０１２３】活性線硬化性樹脂層とは紫外線や電子線の
ような活性線照射により架橋反応などを経て硬化する樹
脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化性樹脂とし
ては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的
なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性
線照射によって硬化する樹脂でもよい。紫外線硬化性樹
脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系
樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化
型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エ
ポキシ樹脂等を挙げることが出来る。

【０１２４】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物
に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタ
クリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表
示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水
酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させるこ
とによって容易に得ることが出来る（例えば、特開昭５
９−１５１１１０号）。

【０１２５】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキ
シエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系
のモノマーを反応させることによって容易に得ることが
出来る（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。

【０１２６】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマー
とし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反
応させたものを挙げることが出来る（例えば、特開平１
−１０５７３８号）。この光反応開始剤としては、ベン
ゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン
誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、１種もし
くは２種以上を選択して使用することが出来る。

【０１２７】又、紫外線硬化型ポリオールアクリレート
系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来
る。これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に使用され
る。

【０１２８】又上記光反応開始剤も光増感剤としても使
用出来る。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノ
ン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α
−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれら
の誘導体を挙げることが出来る。又、エポキシアクリレ
ート系の光反応剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリ
エチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤
を用いることが出来る。

【０１２９】塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫
外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤、又は光
増感剤は該組成物の２．５〜６質量％であることが特に
好ましい。２．５％未満では樹脂フィルムから溶出する
可塑剤及び／又は紫外線吸収剤によって硬化阻害を受
け、耐擦傷性が低下し、逆に６質量％を超えると相対的
に紫外線硬化性樹脂成分が減るため逆に耐擦傷性が低下
したり、塗布性が悪化するなどのため塗膜の面品質を悪
くすることがある。

【０１３０】樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二
重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニ
ル、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来
る。又不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、
エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコ
ールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シク
ロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジ
メチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リルエステル等を挙げることができる。

【０１３１】活性線硬化性樹脂層の塗布組成物の固形分
濃度は１０〜９５質量％であることが好ましく、塗布方
法により適当な濃度が選ばれる。

【０１３２】活性線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化
皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生す
る光源であれば何れでも使用出来る。例えば、低圧水銀
灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボン
アーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を
用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによ
って異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ
²程度あればよく、好ましくは５０〜２０００ｍＪ／ｃ
ｍ²である。近紫外線領域から可視光線領域にかけては
その領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって
使用出来る。

【０１３３】活性線硬化性樹脂層を塗設する際の溶媒と
して前述の樹脂層を塗設する溶媒、例えば、炭化水素
類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコール
エーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、或いは
混合されて利用できる。好ましくは、プロピレングリコ
ールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテル又はプロピレ
ングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエス
テルを５質量％以上、更に好ましくは５〜８０質量％以
上含有する溶媒が用いられる。

【０１３４】紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布装置
としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイ
ヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコータ
ー、押出コーター、エアードクターコーター等公知の装
置を用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚で０．
１〜３０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜１５μｍ
である。塗布速度は好ましくは１０〜６０ｍ／ｍｉｎで
行われる。

【０１３５】紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥された
後、紫外線を光源より照射するが、照射時間は０．５秒
〜５分がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率
とから３秒〜２分がより好ましい。

【０１３６】このような被膜層には滑り性を付与するた
めに、無機或いは有機の微粒子を加えることもできる。
例えば、無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、
酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム
等を挙げることができ、又有機微粒子としては、ポリメ
タアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルス
チレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉
末、シリコーン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、
ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉
末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、
ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリ
イミド系樹脂粉末、或いはポリ弗化エチレン系樹脂粉末
等を挙げることができ、紫外線硬化性樹脂組成物に加え
ることが出来る。これらの微粒子粉末の平均粒径として
は、体積平均粒径０．００５〜０．１μｍの粒子を樹脂
組成物１００質量部に対して０．１〜５質量部配合する
ことが望ましい。

【０１３７】又、同様な材質でより粒径の大きな０．１
〜１０μｍの粒子及び／又は前記の微粒子を添加して防
眩層とすることもできる。０．５〜２０質量％の微粒子
を添加することが好ましい。

【０１３８】前述したように、帯電防止層等の樹脂層の
上にこれら活性線硬化性樹脂層を設けることもできる。
帯電防止層或いはクリアハードコート層はそれぞれ単独
でもしくは積層して設けることができる。具体的には、
特願平１１−２９１７８４号、特開平６−１２３８０６
号、同９−１１３７２８号、同９−２０３８１０号等の
帯電防止付き光学フィルム、偏光板保護フィルム、セル
ロースエステルフィルム等のどちらかの面に直接もしく
は下引き層を介して設けることが出来るのである。

【０１３９】本発明の光学フィルムには、反射防止層を
設けることもできる。反射防止層の構成としては、単
層、多層等各種知られているが、多層のものとしては高
屈折率層、低屈折率層を交互に積層した構造のものが一
般的である。

【０１４０】構成の例としては、透明基材側から高屈折
率層／低屈折率層の２層の順のものや、屈折率の異なる
３層を、中屈折率層（透明基材或いはハードコート層よ
りも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）
／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等
があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案さ
れている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性
などから、ハードコート層を有する基材上に、高屈折率
層／中屈折率層／低屈折率層の順に塗布することが好ま
しい構成である。

【０１４１】基材面に（中屈折層を設ける場合もある）
高屈折率層、空気に向かって低屈折率層を順に積層し、
高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚光の波長に対しあ
る値に設定することにより光学干渉層を作り、反射防止
積層体としたものが反射防止層としては特に好ましく、
屈折率と膜厚は分光反射率の測定より計算して算出し得
る。

【０１４２】屈折率の高低はそこに含まれる金属或いは
化合物によってほぼ決まり、例えばＴｉは高く、Ｓｉは
低く、Ｆを含有する化合物は更に低く、このような組み
合わせによって屈折率が設定される。

【０１４３】透明基材上に多層の反射防止層を逐次積層
して反射防止層を作製するには、反射防止層のうち少な
くとも１層を、高屈折率層としてはチタン、ジルコニウ
ム等の金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれ
る化合物、活性エネルギー線反応性化合物及び有機溶媒
を含有する組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射し
て形成された高屈折率層と、この上に（中屈折層を設け
る場合もある）、低屈折物質及び有機溶媒を含有する低
屈折率層組成物を塗布し低屈折率塗膜とした後に、活性
エネルギーを付与して低屈折率層を形成し反射防止層を
形成する。

【０１４４】本発明における好ましい高屈折率層は、透
明基材上の多層ある反射防止層のうち少なくとも１層
を、活性エネルギー線反応性基を有しない金属アルコキ
シド及びその加水分解物から選ばれる少なくとも一つ、
後述する一般式（II）で表される活性エネルギー線反応
性の金属アルコキシド化合物、又、好ましくは該一般式
（II）の化合物を除く活性エネルギー線反応性化合物を
含有しており、高屈折率組成物を該透明基体上に塗設
後、塗膜に活性エネルギー線を照射して任意の屈折率の
高屈折率層を形成するものである。

【０１４５】高屈折率層に使用される金属アルコキシド
及びその部分加水分解物から選ばれる少なくとも一つの
化合物、及び後述する一般式（II）の活性エネルギー線
反応性の金属アルコキシド化合物の何れの金属は同様な
ものであり、金属としてはＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎ
ｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、
Ｓｂ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｔａ、Ｔｌ、Ｗ、Ｃｅ及びＮｄを挙
げることが出来る。後述する一般式（II）の活性エネル
ギー線反応性の金属アルコキシド化合物の何れの金属化
合物は、特に紫外線照射により、これらを含有する層の
屈折率を変化させるのに役立つ。好ましい金属として
は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓ
ｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｌ、Ｗ及びＣｅであり、特に屈折率
を変化させ易い好ましい金属としてはＴｉ、Ｚｒ、Ｔ
ｌ、Ｉｎ（Ｉｎ−Ｓｎ錯体として）、Ｓｒ（Ｓｒ−Ｔｉ
Ｏ₂錯体として）である。Ｔｉの場合、光に反応するこ
とは知られているが、Ｔｉ化合物を含む層の屈折率を光
により変化させることについては知られていない。

【０１４６】屈折率を変化させるのに必要な活性エネル
ギー線量、特に紫外線照射量は、後述の紫外線反応性化
合物を反応硬化させる照射量と同程度でよい。又、活性
エネルギーとしてプラズマ照射、熱処理等によっても可
能である。

【０１４７】活性エネルギー線反応性基を有しない金属
アルコキシドとしては、炭素原子数１〜１０のものがよ
いが、好ましくは炭素原子数１〜４である。又金属アル
コキシドの加水分解物はアルコキシド基が加水分解を受
けて−金属原子−酸素原子−金属原子−のように反応
し、架橋構造を作り、硬化した層を形成する。

【０１４８】活性エネルギー線反応性基を有しない金属
アルコキシドの例として；Ａｌのアルコキシドとして
は、Ａｌ（Ｏ−ＣＨ₃）₃、Ａｌ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ａｌ
（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₃、Ａｌ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₃；Ｓｉ
の例としては、Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₄、Ｓｉ（ＯＣ
₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｓｉ（Ｏ−ｔ−Ｃ
₄Ｈ₉）₄；Ｔｉの例としては、Ｔｉ（ＯＣＨ₃）₄、Ｔｉ
（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−
ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄、Ｔｉ（Ｏ−
ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ
₃Ｈ₇）₄の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄の２
〜１０量体、Ｖの例としては、ＶＯ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃；Ｚ
ｎの例としては、Ｚｎ（ＯＣ₂Ｈ₅）₂；Ｙの例としては
Ｙ（ＯＣ₄Ｈ₉）₃；Ｚｒの例としては、Ｚｒ（ＯＣＨ₃）
₄、Ｚｒ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）４、Ｚ
ｒ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｚｒ（Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉）₄、Ｚ
ｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉） ₄の２〜１０量体；Ｉｎの例とし
ては、Ｉｎ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₃；Ｓｎの例としては、
Ｓｎ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄、Ｔａの例としてはＴａ（Ｏ
ＣＨ₃）₅、Ｔａ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₅、Ｔａ（Ｏ−ｉ−
Ｃ₃Ｈ₇）₅、Ｔａ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₅；Ｗの例として
は、Ｗ（ＯＣ₂Ｈ₅）₆；Ｃｅの例としては、Ｃｅ（ＯＣ₃
Ｈ₇）₃等が挙げられる。これらを単独で又は２種以上組
み合わせて用いることが出来る。中でも、Ｔｉ（Ｏ−ｎ
−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ
−Ｃ₄Ｈ₉）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄の２〜１０量
体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄の２〜１０量体；Ｚｒ
（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄；Ｓｉ
（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄が特に好まし
い。

【０１４９】上記金属アルコキシドを加水分解（部分又
は完全加水分解）させて使用してもよく、酸性触媒又は
塩基性触媒の存在下に例えば上記の金属アルコキシドを
有機溶媒中で加水分解することによって得られる。この
酸性触媒としては、例えば硝酸、塩酸等の鉱酸やシュウ
酸、酢酸等の有機酸がよく、又塩基性触媒としては、例
えばアンモニア等が挙げられる。

【０１５０】上記金属アルコキシド化合物を含む層は、
金属アルコキシド自身が自己縮合して架橋し網状結合す
るものである。その反応を促進するために触媒や硬化剤
を使用することが出来、それらには金属キレート化合
物、有機カルボン酸塩等の有機金属化合物や、アミノ基
を有する有機ケイ素化合物、光酸発生剤等がある。これ
らの触媒又は硬化剤の中で特に好ましいのは、アルミキ
レート化合物と光による酸発生剤（光酸発生剤）であ
り、アルミキレート化合物の例としてはエチルアセトア
セテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウ
ムトリスエチルアセトアセテート、アルキルアセトアセ
テートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウム
モノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテー
ト、アルミニウムトリスアセチルアセトネート等であ
り、他の光酸発生剤の例としてはベンジルトリフェニル
ホスホニウムヘキサフルオロホスフェートやその他のホ
スホニウム塩やトリフェニルホスホニウムヘキサフルオ
ロホスフェートの塩等を挙げることが出来る。

【０１５１】使用する活性エネルギー線反応性基を有し
ない金属アルコキシド及び／又はその加水分解物を含む
塗布組成物には、塗布液の保存安定化のためにβ−ジケ
トンと反応させてキレート化合物を添加することにより
安定な塗布組成物とすることが出来る。このβ−ジケト
ンの具体例として、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチ
ル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロ
ピル、アセチルアセトン等を挙げることが出来るが、特
に安定性の面から好ましいのは、アセト酢酸エチルであ
る。β−ジケトンは、上記金属アルコキシド又はその加
水分解物に対してモル比として０．５〜２の範囲で用い
られるが、より好ましい範囲は０．８〜１．２である。

【０１５２】高屈折率層に好ましく使用される、後述す
る一般式（II）の活性エネルギー線反応性の金属アルコ
キシドの化合物を除く、活性エネルギー線反応性化合物
は、重合可能なビニル基、アリル基、アクリロイル基、
メタクリロイル基、イソプロペニル基、エポキシ基等の
重合性基を二つ以上有するもので、活性エネルギー線照
射により架橋構造又は網目構造を形成するものが好まし
い。これらの活性基のうちアクリロイル基、メタクリロ
イル基又はエポキシ基が重合速度、反応性の点から好ま
しく、多官能モノマー又はオリゴマーがより好ましい。

【０１５３】アクリル基又はメタクリル基を有する上記
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、紫外線硬化型ア
クリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアク
リレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系
樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂等を
挙げることが出来る。

【０１５４】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物
に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタ
クリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表
示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水
酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させるこ
とによって容易に得ることが出来る（例えば、特開昭５
９−１５１１１０号）。

【０１５５】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシ
ル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジル
アクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応さ
せることによって容易に得ることが出来る（例えば、特
開昭５９−１５１１１２号）。

【０１５６】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリ
ル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノ
マーを反応させて得られる。

【０１５７】紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹
脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性
ジペンタエリスリトールペンタエリスリトール等を挙げ
ることが出来る。

【０１５８】上記活性エネルギー線反応性化合物を光重
合或いは光架橋反応を開始させるには上記活性エネルギ
ー線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が
長かったり重合開始が遅かったりするため、光増感剤や
光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早
めることが出来る。これらの光増感剤や光開始剤は公知
のものを使用し得る。具体的には、アセトフェノン、ベ
ンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン、α−アミロキシムエステル、テトラメチルウラム
モノサルファイド、チオキサントン等及びこれらの誘導
体を挙げることが出来る。

【０１５９】又、エポキシアクリレート基を有する活性
エネルギー線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等
の増感剤を用いることが出来る。光反応を開始するには
この活性エネルギー線反応性化合物に用いられる光反応
開始剤又は光増感剤の量は紫外線反応性化合物の１００
質量部に対して０．１〜１５質量部で十分であり、好ま
しくは１〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領
域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。

【０１６０】活性エネルギー線反応性エポキシ樹脂も好
ましく用いられる。活性エネルギー線反応性エポキシ樹
脂としては、芳香族エポキシ化合物（多価フェノールの
ポリグリシジルエーテル）、例えば、水素添加ビスフェ
ノールＡ又はビスフェノールＡとエピクロルヒドリンと
の反応物のグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹
脂、脂肪族エポキシ樹脂としては、脂肪族多価アルコー
ル又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジ
ルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエス
テル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレ
ートのホモポリマー、コポリマーなどがあり、その代表
例としては、エチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジエ
チレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレン
グリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリ
コールグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジ
グリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリ
シジルエーテル、ノナプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエー
テル、グリセリントリグリシジルエーテル、ジグリセロ
ールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールテトラグ
リシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシ
ジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエ
ーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテ
ル、ソルビトールのポリグリシジルエーテル、脂環式エ
ポキシ化合物、例えば、３，４−エポキシシクロヘキシ
ルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボ
キシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−
５，５−スピロ−３′，４′−エポキシ）シクロヘキサ
ン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンジ
オキサイド、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシク
ロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６
−メチルシクロヘキシル−３′，４′−エポキシ−６−
メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス
（３，４−エポキシシクロヘキサン）ジシクロペンタジ
エンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４
−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレン
ビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、トリス
（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジグリシ
ジルエーテル、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシ
アヌレートのトリグリシジルエーテル、ポリグリシジル
アクリレート、ポリグリシジルメタクリレート、グリシ
ジルアクリレート又はグリシジルメタクリレートと他の
モノマーとの共重合物、ポリ−２−グリシジルオキシエ
チルアクリレート、ポリ−２−グリシジルオキシエチル
メタクリレート、２−グリシジルオキシエチルアクリレ
ート、２−グリシジルオキシエチルアクリレート又は２
−グリシジルオキシエチルメタクリレートと他のモノマ
ーとの共重合物、ビス−２，２−ヒドロキシシクロヘキ
シルプロパンジグリシジルエーテル等を挙げることが出
来、単独又は２種以上組み合わせた付加重合物を挙げる
ことが出来る。本発明はこれらの化合物に限定せず、こ
れらから類推される化合物も含むものである。

【０１６１】活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹
脂は、エポキシ基を分子内に２つ以上有するもの以外
に、モノエポキサイドも所望の性能に応じて配合して使
用することが出来る。

【０１６２】活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹
脂はラジカル重合によるのではなく、カチオン重合によ
り重合、架橋構造又は網目構造を形成する。ラジカル重
合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好まし
い活性エネルギー線反応性樹脂である。

【０１６３】エチルスルホン酸銀、ポリ硼素酸銀等も好
ましく用いることが出来る。有用な活性エネルギー線反
応性エポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチ
オン重合を開始させる物質を放出する化合物を光重合開
始剤又は光増感剤により重合する。照射によりカチオン
重合させるルイス酸を放出するオニウム塩での複塩の一
群が特に好ましい。

【０１６４】かかる代表的なものは下記一般式（Ｉ）で
表される化合物である。 一般式（Ｉ） 〔（Ｒ₁）_a（Ｒ₂）_b（Ｒ₃）_c（Ｒ₄）_dＺ〕^+w〔Ｍｅ
Ｘ_v〕^-w 式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔ
ｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、
Ｂｒ、Ｃｌ）、又はＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ ₁、
Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は同一であっても異なっていてもよい有
機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数
であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅは
ハロゲン化物錯体の中心原子である金属又は半金属（ｍ
ｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆ
ｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓ
ｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであ
り、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖ
はハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
ｖから中心原子Ｍｅの価数を減じたものがｗとなる。

【０１６５】上記一般式（Ｉ）で表される化合物の陰イ
オン〔ＭｅＸ_v〕^-wの具体例としては、テトラフルオロ
ボレート（ＢＦ₄ ^-）、テトラフルオロホスフェート（Ｐ
Ｆ₄ ^-）、テトラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ₄ ^-）、
テトラフルオロアルセネート（ＡｓＦ₄ ^-）、ヘキサクロ
ロアンチモネート（ＳｂＣｌ₄ ^-）等を挙げることが出来
る。更に陰イオン〔ＭｅＸ_v〕^-wには（ＯＨ^-）の陰イオ
ンも用いることが出来る。又、その他の陰イオンとして
は過塩素酸イオン（ＣｌＯ₄ ^-）、トリフルオロメチル亜
硫酸イオン（ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-）、フルオロスルホン酸イオ
ン（ＦＳＯ₃ ^-）、トルエンスルホン酸イオン、トリニト
ロベンゼン酸陰イオン等を挙げることが出来る。

【０１６６】このようなオニウム塩の中でも特に芳香族
オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが特
に有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同
５０−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、
特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、
同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記
載のVIＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８
号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号
等に記載のオキソスルホニウム塩、特公昭４９−１７０
４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第
４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリウム塩等が
好ましい。又、アルミニウム錯体や光分解性ケイ素化合
物系重合開始剤等を挙げることが出来る。上記カチオン
重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、チオキサントンなどの光増感剤を併用する
ことが出来る。

【０１６７】活性エネルギー線硬化樹脂組成物におい
て、重合開始剤は、一般的には活性エネルギー線硬化性
エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質量部に対して好
ましくは０．１〜１５質量部、より好ましくは１〜１０
質量部の範囲で添加される。又エポキシ樹脂を上記ウレ
タンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型
樹脂等とも併用することも出来、この場合、活性エネル
ギー線ラジカル重合開始剤と活性エネルギー線カチオン
重合開始剤を併用することが好ましい。

【０１６８】活性エネルギー線硬化樹脂含有層には、公
知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂或いはゼラチンなどの
親水性樹脂等のバインダーを上記活性エネルギー線硬化
樹脂に混合して使用することが出来る。これら樹脂には
その分子中に極性基を持っていることが好ましく、極性
基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ₂、−ＮＲ
₃Ｘ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ₃Ｍ₂、−ＯＰＯ₃
Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金属又はアンモニ
ウム基を、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原
子、アルキル基を表す）等を挙げることが出来る。

【０１６９】次に一般式（II）の活性エネルギー線反応
性の金属アルコキシド化合物について説明する。

【０１７０】一般式（II） Ｍ（Ｒ₁）_m（Ｒ₂）_n（ＯＲ₃）_p ここで、Ｏは酸素原子、Ｒ₁は活性エネルギー線反応性
基で、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基を有する基を
表し、Ｒ₂は炭素原子数１〜４の脂肪族炭化水素基を表
し、Ｒ₃は炭素原子数１〜４の脂肪族炭化水素基又は水
素原子を表し、ｍ＋ｎ＋ｐ＝ｑで、ｑは金属の原子価
で、ｑ−１≧ｍ≧１、ｑ−１≧ｐ≧１、ｑ−１≧ｎ≧０
であり、ｍ、ｎ及びｐは正の整数を表す。

【０１７１】一般式（II）の活性エネルギー線反応性の
金属アルコキシド化合物のＲ₁は活性エネルギー線反応
性基で不飽和二重結合性の官能基を有しており、上記の
うちアクリロイル基、メタクリロイル基又はエポキシ基
が反応性の速さから好ましい。又反応する際、酸素の影
響を受けないエポキシ基が特に好ましい。Ｒ₃Ｏのアル
コキシ基は、前述の活性エネルギー線反応性基を有しな
い金属アルコキシドと同様に加水分解を受けながら金属
酸化物へと連鎖的に反応する。

【０１７２】この活性エネルギー線反応性の金属アルコ
キシド化合物は上記活性エネルギー線反応性基を有しな
い金属アルコキシド化合物とともに加水分解を受けなが
ら相互に反応し、金属酸化物マトリックスの中に組み込
まれ、結合し架橋する。

【０１７３】前記活性エネルギー線反応性の金属アルコ
キシド化合物は上記活性エネルギー線反応性基を有しな
い金属アルコキシド化合物とともに加水分解を受けなが
ら相互に反応し、金属酸化物マトリックスの中に組み込
まれ、結合し架橋する。

【０１７４】一方、活性エネルギー線反応性の金属アル
コキシド化合物の活性エネルギー線反応性基とこれ以外
の活性エネルギー線反応性化合物も、活性エネルギー線
により重合し、相互に架橋結合を形成する。

【０１７５】これら両方の架橋結合が相乗効果となって
これらを含有する層は非常に高い硬度を持つようにな
る。これらの架橋構造は、無機酸化物と有機ポリマーが
結合し合ったハイブリッドの状態になっていると考えら
れる。このようなハイブリッドの状態は金属酸化物と有
機物が混在する状態とは異なり、一体化しているため硬
度が高く、相分離が起きにくい。従って、均質な塗膜が
出来やすく、硬度が不足したり、白濁したり、透過率が
低下するなどの問題点を解決することが出来る。

【０１７６】活性エネルギー線反応性基は金属に直接結
合していてもよく、酸素原子を介して結合していてもよ
く、又オキシアルキル基を介していてもよい。

【０１７７】この活性エネルギー線反応性の金属アルコ
キシドの具体的例として、ビニルトリメトキシチタン、
ビニルトリ（β−メトキシ−エトキシ）チタン、ジビニ
ロキジメトキシチタン、グリシジルオキシエチルトリエ
トキシチタン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリ−
ｎ−プロピルチタン、γ−メタクリロイルオキシ−ｎ−
プロピルトリ−ｎ−プロピルチタン、ジ（γ−アクリロ
イルオキシ−ｎ−プロピル）ジ−ｎ−プロピルチタン、
アクリロイルオキシジメトキシエチルチタン、ビニルト
リメトキシジルコン、ジビニロキジメトキシジルコン、
アクリロイルオキシエチルトリエトキシジルコン、γ−
アクリロイルオキシ−ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロピル
ジルコン、γ−メタクリロイルオキシ−ｎ−プロピルト
リ−ｎ−プロピルジルコン、ジ（γ−アクリロイルオキ
シ−ｎ−プロピル）ジ−ｎ−プロピルジルコン、アクリ
ロイルオキシジメトキシエチルジルコン、ビニルジメト
キシタリウム、ビニルジ（β−メトキシ−エトキシ）タ
リウム、ジビニロキシメトキシタリウム、アクリロイル
オキシエチルジエトキシタリウム、γ−アクリロイルオ
キシ−ｎ−プロピルジ−ｎ−プロピルタリウム、γ−メ
タクリロイルオキシ−ｎ−プロピルジ−ｎ−プロピルタ
リウム、ジ（γ−アクリロイルオキシ−ｎ−プロピル）
−ｎ−プロピルタリウム、アクリロイルオキシメトキシ
エチルタリウム、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リ（β−メトキシ−エトキシ）シラン、ジビニロキジメ
トキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）−エチルトリアルコキシシラン、アクリロイルオキ
シエチルトリエトキシシラン、グリシジルオキシエチル
トリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシ−ｎ−プ
ロピルトリ−ｎ−プロピルシラン、γ−メタクリロイル
オキシ−ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロピルシラン、ジ
（γ−アクリロイルオキシ−ｎ−プロピル）ジ−ｎ−プ
ロピルシラン、アクリロイルオキシジメトキシエチルシ
ラン等を挙げることが出来る。

【０１７８】高屈折率層に使用する前記一般式（II）の
活性エネルギー線反応性基と、好ましく使用される該一
般式（II）を除く活性エネルギー線反応性化合物の反応
基に対する活性エネルギー線による光重合の挙動はほと
んど変わりなく、前述の一般式（II）を除く活性エネル
ギー線化合物の光増感剤や光開始剤などは同様なものが
用いられる。

【０１７９】活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ
線等で、化合物を活性させるエネルギー源であれば制限
なく使用出来るが、紫外線、電子線が好ましく、特に取
り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点
で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させ
る紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれ
ば何れでも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メ
タルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが
出来る。又、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレ
ーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用
いることができる。照射条件はそれぞれのランプによっ
て異なるが、照射光量は５０ｍＪ／ｍ²以上、好ましく
は１００ｍＪ／ｃｍ²以上、更に４００ｍＪ／ｃｍ²以上
が好ましい。紫外線は多層の反射防止層を１層ずつ照射
してもよいし、積層後照射してもよい。生産性の点か
ら、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。
又この際には酸素濃度が０．５％以下の条件で行うのが
効率的であり、硬化速度の点で好ましい。

【０１８０】又、電子線も同様に使用出来る。電子線と
しては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共
振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン
型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０
〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶの
エネルギーを有する電子線を挙げることが出来る。

【０１８１】本発明の光学フィルムには、プラズマ処理
も行うことができる。プラズマ処理を連続的に行うもの
が好ましく、これらの装置の例としては例えば、特願平
１１−１４３２０６号に記載のものが挙げられる。プラ
ズマ処理の時間等は条件により異なるので一概にはいえ
ないが、プラズマ処理の条件にはプラズマ処理ガス条件
（ガス種、ガス濃度、ガス封入条件、圧力等）、電界強
度、放電条件等がある。これらは適宜コントロールする
ことができる。

【０１８２】一般的に処理用ガスとしては、水素、酸
素、窒素、二酸化炭素、フッ素含有化合物ガス等の反応
性ガスが効果的である。

【０１８３】又プラズマ発生法では、真空プラズマ放電
処理に於いては、その雰囲気を６．６〜２．７×１０³
Ｐａの範囲に保つように、上記反応ガスを導入する必要
がある。処理速度を増加させる為には、対向電極になる
べく高圧側で高出力条件を採用するのが好ましいが、電
界強度を上げ過ぎると基材にダメージを与えることにな
る場合がある。

【０１８４】大気圧近傍でプラズマ放電を行う場合に
は、ヘリウムやアルゴン等の不活性ガスが必要であり、
上記反応ガスとの割合も６０％以上と不活性ガスの割合
を多くしないと電極間に安定な放電が発生しない。ここ
でも反応ガスの割合をなるべく多くし、高出力条件を採
用するのが処理速度を増加させる為には好ましいが同様
に電界強度を上げ過ぎると基材にダメージを与えること
になる。

【０１８５】しかし上記大気圧近傍でも対向電極間にパ
ルス化された電界を印加しプラズマを発生させる場合に
は、上記不活性ガスは必ずしも必要なく、反応ガス濃度
を増加させることができる。これにより反応速度は大き
く増加させることが可能になる。

【０１８６】パルス電圧波形は特に限定されず、例えば
特開平１０−１３０８５１号の図１（ａ）〜（ｄ）に記
載されたパルス波形であってもよい。しかしながら、パ
ルスの立ち上がり時間及び立ち下がり時間が短いほどプ
ラズマ発生の際のガスの電離が効率よく行われる。特
に、パルスの立ち上がり時間及び立ち下がり時間が４０
ｎｓ〜１００μｓであることが好ましい。４０ｎｓ未満
では現実的でなく、１００μｓを超えると放電状態がア
ークに移行しやすく不安定なものとなる。より好ましく
は５０ｎｓ〜５μｓである。尚、ここでいう「立ち上が
り時間」とは電圧変化が連続して正である時間、「立ち
下がり時間」とは電圧変化が連続して負である時間を指
すものとする。更に、パルス波形、立ち上がり時間、周
波数の異なるパルスを用いて変調を行ってもよい。この
ような変調は高速連続表面処理を行うのに適している。

【０１８７】パルス電界の周波数は、１ｋＨｚ〜１００
ｋＨｚであることが好ましい。１ｋＨｚ未満であると処
理に時間がかかりすぎ、１００ｋＨｚを超えるとアーク
放電が発生しやすくなる。又、一つのパルス電界が印加
される時間は、１〜１０００μｓであることが好まし
い。１μｓ未満であると放電が不安定なものとなり、１
０００μｓを超えるとアーク放電に移行しやすくなる。
より好ましくは、３〜２００μｓである。ここで「一つ
のパルス電界が印加される時間」とは、ＯＮ、ＯＦＦの
繰り返しからなるパルス電界における、一つのパルスの
連続するＯＮ時間を言う。

【０１８８】対向電極に印加する電圧の大きさは適宜決
められるが、電極に印加した際に電界強度が１〜１００
ｋＶ／ｃｍとなる範囲にすることが好ましい。１ｋＶ／
ｃｍ未満であると処理に時間がかかりすぎ、１００ｋＶ
／ｃｍを超えるとアーク放電が発生しやすくなる。又、
大きい程処理速度は増加するが上げ過ぎると基材にダメ
ージを与えるのは同様である。又、直流が重畳されたパ
ルス電界を印加してもよい。

【０１８９】本発明においては、表面処理に供されるシ
ート状基材は、対向電極間の空間を連続的に走行させる
ように処理容器内に導入され、排出される。上記シート
状基材の導入及び排出は、公知の方法により行うことが
できる。

【０１９０】処理ガス導入時に処理室内の気圧が６．６
〜２．７×１０³Ｐａの範囲に維持されていることが好
ましい。

【０１９１】これらの方法に於いては、減圧下の処理室
に導入する処理ガスとしては、窒素（Ｎ₂）ガス、水素
（Ｈ₂）ガス、酸素（Ｏ₂）ガス、二酸化炭素（ＣＯ₂）
ガス、アンモニア（ＮＨ₃）ガス、フッ素含有化合物ガ
ス、水蒸気の他、アルゴン等の不活性ガスなどを用いる
ことができる。

【０１９２】最表層としての低屈折率層には該層の屈折
率を低下させる為に下記のフッ素原子或いは珪素原子を
含有する低屈折率物質が含有されている。

【０１９３】低屈折率物質としては、フッ素含有樹脂、
シリケートオリゴマーから形成される化合物、及びＳｉ
Ｏ₂ゾルと反応性有機ケイ素化合物から形成される化合
物から選ばれる少なくとも１つの化合物が挙げられ、特
に特開平７−１２６５５２号、同７−１８８５８２号、
同８−４８９３５号、同８−１００１３６号、同９−２
２０７９１号、同９−２７２１６９号等に記載されてい
る化合物が好ましく用いられる。

【０１９４】本発明に好ましく使用し得るフッ素含有樹
脂としては、フッ素含有不飽和エチレン性単量体成分を
主として含有する重合物及びフッ素含有エポキシ化合物
を挙げることが出来る。

【０１９５】フッ素含有不飽和エチレン性単量体として
は、含フッ素アルケン、含フッ素アクリル酸エステル、
含フッ素メタクリル酸エステル、含フッ素ビニルエステ
ル、含フッ素ビニルエーテル等を挙げることが出来、例
えば、テトラフルオロエチレン、トリフルオロエチレ
ン、トリフルオロクロロエチレン、フッ化ビニリデン、
フッ化ビニル、トリフルオロプロピレン、ヘプタフルオ
ロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン、２−ブロモ
−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−
３，３−ジフルオロエチレン、３，３，４，４，５，
５，６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキセン、３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ト
リデカフルオロ−１−オクテン、４−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オン、ペンタ
デカフルオロオクチルアクリレート、テトラフルオロ−
３−（ヘプタフルオロプロポキシ）プロピルアクリレー
ト、テトラフルオロ−３−（ペンタフルオロエトキシ）
プロピルアクリレート、テトラフルオロ−３−トリフル
オロメトキシプロピルアクリレート、ウンデカフルオロ
ヘキシルアクリレート、ノナフルオロペンチルアクリレ
ート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ペンタフ
ルオロピロピルアクリレート、２−ヘプタフルオロブト
キシエチルアクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘ
キサフルオロブトキシアクリレート、トリフルオロエチ
ルアクリレート、２−（１，１，２，２−テトラフルオ
ロエトキシ）エチルアクリレート、トリフルオロイソプ
ロピルメタクリレート、（２，２，２−トリフルオロ−
１−メチル）エチルメタクリレート、２−トリフルオロ
エトキシエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタ
クリレート、２−トリフルオロメチル−３，３，３−ト
リフルオロプロピルアクリレート、３−トリフルオロメ
チル−４，４，４−トリフルオロブチルアクリレート、
１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロ
ピルアクリレート、１−メチル−２，２，３，３，４，
４，４−ヘプタウルオロブチルアクリレート、２，２，
２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，
３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、１，
１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルアク
リレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルア
クリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリ
レート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロ
ブチルアクリレート、２，２，３，３，４，４，５，
５，５−ノナフルオロペンチルアクリレート、２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオ
ロヘキシルアクリレート、２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチ
ルアクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオク
チルアクリレート、３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルアクリ
レート、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカ
フルオロデシルアクリレート、３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１
０−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、１，１，
１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレ
ート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリ
レート、２，２，３，３，４，４，４−ヘキサフルオロ
ブチルアクリレート（以上のアクリレートはメタクリレ
ート或いはα−フルオロアクリレートであってもよ
い）、ビニルトリフルオロアセテート、ビニル−２，
２，２−トリフルオロプロピオネート、ビニル−３，
３，３，２，２−ヘプタブチレート、２，２，２−トリ
フルオロエチルビニルエーテル、１−（トリフルオロメ
チル）エテニルアセテート、アリルトリフルオロアセテ
ート、アリル−１，１，２，２−テトラフルオロエチル
エーテル、アリル−１，２，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロピルエーテル、エチル−４，４，４−トリフルオ
ロクロトネート、イソプロピル−２，２，２−トリフル
オロエチルフマレート、イソプロピル−２，２，２，
３，３，３−ペンタフルオロプロピルフマレート、イソ
プロピル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオ
ロブチルフマレート、イソプロピル−２，２，３，３，
４，４，５，５，５−ノナプロピルペンチルフマレー
ト、イソプロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルフマレート、イ
ソプロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルフマレー
ト、イソプロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオク
チルフマレート、イソプロピル−３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオ
クチルフマレート、イソプロピル−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１
０，１０，１０−ノナデカフルオロデシルフマレート、
イソプロピル−３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフ
ルオロデシルフマレート、イソプロピル−２−トリフル
オロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルフマレ
ート、イソプロピル−３−トリフルオロメチル−４，
４，４−トリフルオロブチルフマレート、イソプロピル
−１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプ
ロピルフマレート、イソプロピル−１−メチル−２，
２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロオクチルフマ
レート、ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，３−ペン
チルフルオロプロピルヘマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−
２，２，３，３，４，４，４−ヘプタジュルオロブチル
フマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，
４，５，５，５−ノナフルオロペンチルフマレート、ｔ
ｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルフマレート、ｔ
ｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルフマレ
ート、ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフル
オロオクチルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデ
カフルオロオクチルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロ
デシルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１
０，１０−ヘプタデカフルオロデシルフマレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−トリフルオロメチル−３，３，３−
トリフルオロプロピルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−
３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロブ
チルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−２，
２，３，３，３−ペンチルフルオロプロピルフマレー
ト、ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−２，２，３，３，
４，４，４−ヘプタフルオロブチルフマレート等の含フ
ッ素不飽和エチレン性単量体を挙げることが出来るが、
これらに限定されない。又、共重合相手の単量体はフッ
素を含有しても、含有していなくとも何れでもよい。

【０１９６】上記フッ素含有単量体と共重合し得る単量
体としては、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、
酢酸ビニル、ビニルエチルエーテル、ビニルエチルケト
ン、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチ
ルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
メチル−α−フルオロアクリレート、エチル−α−フル
オロアクリレート、プロピル−α−フルオロアクリレー
ト、ブチル−α−フルオロアクリレート、シクロヘキシ
ル−α−フルオロアクリレート、ヘキシル−α−フルオ
ロアクリレート、ベンジル−α−フルオロアクリレー
ト、アクリル酸、メタクリル酸、α−フルオロアクリル
酸、スチレン、スチレンスルホン酸等を共重合させても
よいが、これらに限定されない。

【０１９７】上記フッ素含有エチレン性不飽和単量体の
単独の樹脂の屈折率は、ほぼ１．３３〜１．４２の範囲
にあり、又共重合し得るフッ素を含有しない単量体の単
独樹脂リマーの屈折率は、１．４４以上で、これらを任
意の割合で共重合して目的の屈折率のフッ素含有樹脂と
して用いることが出来、又、本発明のフッ素含有樹脂と
フッ素を含まない樹脂とを任意の割合で混合して目的の
屈折率のものとして使用してもよいが、本発明の低屈折
率物質のフッ素含有量は、５０質量％以上であることが
好ましく、ものによって異なるが、特に好ましくは６０
〜９０質量％である。フッ素含有重合体の場合は、フッ
素含有率がこのような範囲にあると有機溶媒に対して良
好な溶解性を有することで加工し易いばかりでなく、下
の基体や層に対する接着性が優れ、高い透明性と低い屈
折率の層を得ることが出来る。

【０１９８】使用する含フッ素のアルケン、アクリレー
ト、ビニルエステル或いはビニルエーテル等を重合させ
る重合開始剤は、通常のラジカル重合開始剤を用いるこ
とが出来る。重合開始剤の具体的な例として、アゾビス
イソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニ
トリル、アゾビスバレロニトリル等のアゾ系ラジカル重
合開始剤、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルヒドロパーオ
キサイド、クメンパーオキサイド、ジアシルパーオキサ
イド等の有機過酸化物系ラジカル重合開始剤、過硫酸ア
ンモニウム、過硫酸カリウム等の無機系ラジカル重合開
始剤、過酸化水素−硫酸第１鉄アンモニウム、過硫酸ア
ンモニウム−メタ亜硫酸ナトリウム等のレドックス系重
合開始剤等の各種ラジカル重合開始剤等を挙げることが
出来、これらを用いて溶液重合、塊状重合、乳化重合、
懸濁重合又は放射線重合等の公知のラジカル重合をする
ことが出来る。この際、反応温度は１０〜１００℃、反
応時間は１〜１００時間であることが好ましい。このよ
うにして得られるフッ素含有樹脂の数平均分子量は１０
００〜３０００００であることが望ましい。

【０１９９】フッ素含有樹脂としてのフッ素含有エポキ
シ樹脂は、例えば下記のようなエポキシ化合物を常法で
反応させることによって得ることが出来る。

【０２００】フッ素含有エポキシ化合物としては、２−
フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリシジルエ
ーテルとして例えば、４，４，４−トリフルオロ−１，
２−ブタンジオールジグリシジルエーテル、４，４，
５，５，５−ペンタフルオロ−１，２−ペンタンジオー
ルジグリシジルエーテル、４，４，５，５，６，６，６
−ヘキサフルオロ−１，２−ヘキサンジオールジグリシ
ジルエーテル、４，４，５，５，６，６，７，７，７−
ノナフルオロ−１，２−ヘプタンジオールジグリシジル
エーテル、４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
８−ウンデカフルオロ−１，２−オクタンジオールジグ
リシジルエーテル、４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，９−トリデカフルオロ−１，２−ノナ
ンジオールジグリシジルエーテル、５，５，６，６，
７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−トリデカ
フルオロ−１，２−デカンジオールジグリシジルエーテ
ル、４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘププタデカフル
オロ−１，２−ウンデカンジオールジグリシジルエーテ
ル、４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１２−ノナ
デカフルオロ−１，２−ドデカジオールジグリシジルエ
ーテル、４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１１，１２，１２，１３，１３，
１３−エイコサフルオロ−１，２−トリデカンジオール
ジグリシジルエーテル、４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，
１２，１３，１３，１４，１４，１４−トリコサフルオ
ロ−１，２−テトラデカンジオールジグリシジルエーテ
ル、５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，
１０，１１，１１，１２，１２，１２−ヘプタデカフル
オロ−１，２−テトラデカンジオールジグリシジルエー
テル、４−トリフルオロメチル−５，５，５−トリフル
オロ−１，２−ヘプタンジオールジグリシジルエーテ
ル、５−トリフルオロメチル−６，６，６−トリフルオ
ロ−１，２−オクタンジオールジグリシジルエーテル、
６−トリフルオロメチル−４，４，５，５，６，６，
７，７，７−オクチルフルオロ−１，２−ノナンジオー
ルジグリシジルエーテル、８−トリフルオロメチル−
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９
−ドデカフルオロ−１，２−ノナンジオールジグリシジ
ルエーテル、１０−トリフルオロメチル−４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１
１，１１，１１−ヘキサデカフルオロ−１，２−ドデカ
ンジオールジグリシジルエーテル、１２−トリフルオロ
メチル−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，
１３，１３−エイコサフルオロ−１，２−テトラデカン
ジオールジグリシジルエーテル、３−ペルフルオロシク
ロペンチル−１，２−プロパンジオールジグリシジルエ
ーテル、３−ペルフルオロシクロヘキシル−１，２−プ
ロパンジオールジグリシジルエーテル、ペルフルオロシ
クロヘプチル−１，２−プロパンジオールジグリシジル
エーテル、ペルフルオロシクロオクチル−１，２−プロ
パンジオールジグリシジルエーテル；含フッ素アルカン
末端ジオールグリシジルエーテルとしては例えば、２，
２，３，３−テトラフルオロ−１，４−ブタンジオール
ジグリシジルエーテル、２，２，３，３，４，４，５，
５−オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジオールジグリ
シジルエーテル等を挙げることが出来るが、これらに限
定されない。これらの他にフッ素を含有しないエポキシ
化合物を屈折率があまり上がらない程度に少量使用して
もよい。ここで使用するフッ素含有エポキシ化合物の構
造には制限ないが、屈折率を高めるようなベンゼン核を
有するエポキシ化合物や脂環式のエポキシ化合物の使用
は少ない方がよい。

【０２０１】別の好ましい低屈折率物質は、シリケート
オリゴマーから形成される化合物である。

【０２０２】シリケートオリゴマーから形成される化合
物に使用するシリケートオリゴマーとしては、例えばテ
トラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプ
ロピオキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラア
ルコキシシラン、テトラ−２，２，２−トリフルオロエ
トキシシラン、テトラ−２−フルオロエトキシシラン、
テトラ−２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロピ
オキシシラン、テトラ−１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロ−２−プロピオキシシラン、テトラ−２，
２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロピオキシシ
ラン、テトラ−１，３−ジフルオロ−２−プロピオキシ
シラン、テトラ−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタ
フルオロ−１−ブトキシシラン、テトラ−２，２，３，
４，４，４−ヘキサフルオロ−１−ブトキシシラン、テ
トラシクロヘキシルオキシシラン又はテトラフェノキシ
シラン等を挙げることが出来、これらを加水分解するこ
とによりシリケートオリゴマーが得られる。

【０２０３】上記の如くテトラアルコキシシランに触
媒、水を添加して得られる加水分解物に溶媒を配合し、
次いで硬化触媒と水を添加する等の方法により硬化した
加水分解物が得られる。かかる溶媒としては、メタノー
ル、エタノールを１種又は２種使用するのが安価である
こと、及び得られる皮膜の特性が優れ硬度が良好である
ことから好ましい。イソプロパノール、ｎ−ブタノー
ル、イソブタノール、オクタノール等も用いることが出
来るが、得られた皮膜の硬度が低くなる傾向にある。溶
媒量は部分加水分解物１００質量部に対して５０〜４０
０質量部、好ましくは１００〜２５０質量部である。

【０２０４】硬化触媒としては、酸、アルカリ、有機金
属、金属アルコキシド等を挙げることが出来るが、酸、
特に酢酸、マレイン酸、シュウ酸、フマル酸等が好まし
く用いられる。添加量は部分加水分解物１００質量部に
対して１〜１０質量部、好ましくは１〜５質量部がよ
い。又、水添加量については部分加水分解物が理論上１
００％加水分解し得る量以上の量であればよく、１００
〜３００％相当量、好ましくは１００〜２００％相当量
を添加するのがよい。更に、本発明では、かかる熟成工
程により、テトラアルコキシシランの加水分解、縮合に
よる架橋が充分に進み、得られた皮膜の特性が優れたも
のとなる。熟成は、オリゴマー液を放置すればよく、放
置する時間は、上述の架橋が所望の膜特性を得るのに充
分な程度進行するのに必要な時間であり、具体的には用
いる触媒の種類にもよるが、塩酸では室温で１時間以
上、マレイン酸では数時間以上、特に好ましくは８時間
〜１週間程度で充分であり、通常３日前後である。熟成
を要する時間は又周囲の温度にも影響を与え、極寒地で
は２０℃付近まで加熱する手段をとった方がよいことも
ある。一般に高温では熟成が早く進むが１００℃以上に
加熱するとゲル化が起こるので、せいぜい５０〜６０℃
までの加熱が適切である。又、これらのシリケートオリ
ゴマーについては、上記の他に、例えばエポキシ基、ア
ミノ基、イソシアネート基、カルボキシル基等の官能基
を有する有機化合物（モノマー、オリゴマー、ポリマ
ー）等により変性した変性物であっても差し支えなく、
単独又は上記シリケートオリゴマーと併用することも可
能である。

【０２０５】このようにして、下記一般式（III）で示
されるシリケートオリゴマーが得られるが、シリケート
オリゴマー中のＳｉＯ₂含有量は１〜１００％、好まし
くは１０〜９９％であることが望まれる。このようなＳ
ｉＯ₂含有量が１％未満では耐久性の向上が見られなく
なり、本発明の効果を発揮しない。

【０２０６】

【化３】

【０２０７】Ｒは水素又は炭素数１〜４のアルキル基、
炭素数３〜６のフッ素含有シクロアルキル基、又はフェ
ニル基を表し、それぞれのＲは同一の基でも異なった基
であってもよい。ｇは１〜２０の整数である。

【０２０８】これらのシリケートオリゴマーからケイ素
層を形成させる方法については特に制限されないが、例
えばシリケートオリゴマーを光学フィルムの光学性能を
阻害しない溶媒、例えばアルコール（メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール等）、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、酢酸セロソルブ、メチルグリコールアセテート、メ
トキシブチルアセテート、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチレンクロラ
イド、トルエン、キシレン、ミネラムスピリット、クレ
ゾール、キシレノール、フフラール等で、これらでシリ
ケートオリゴマーを希釈し、バーコーター、ロールコー
ター、グラビアコーター、リバースコーター、リップコ
ーター等、公知の装置により基材に塗設、加熱処理すれ
ばよい。

【０２０９】更に別の好ましい低屈折率物質は、ＳｉＯ
₂ゾルと反応性有機ケイ素化合物から形成される化合物
であって、ＳｉＯ₂ゾルと反応性有機ケイ素化合物とを
含むゾル液を用い、ＳｉＯ₂ゲル膜として低屈折率層が
形成されるものである。ＳｉＯ₂ゾルは、ケイ素アルコ
キシドを塗布に適した有機溶媒に溶解し、一定量の水を
添加して加水分解を行って調製される。ＳｉＯ₂ゾルの
形成に使用するケイ素アルコキシドの好ましい例を下記
一般式（IV）に示す。

【０２１０】一般式（IV） （Ｒ′）_rＳｉ（ＯＲ″）_s 式中Ｒ′、Ｒ″は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表
し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｒ＋
ｓは４であり、ｒ及びｓはそれぞれ整数である。具体的
には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、
テトライソプロピオキシシラン、テトラ−ｎ−プロピオ
キシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔ−ブトキシシラン、
テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタイソプロピ
オキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロピオキシシラ
ン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ
−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔ−ブトキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、メチルトリプロピオキシシラン、メチルト
リブトキシシラン、ジメチルジメキメトキシシラン、ジ
メチルジエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジ
メチルエトキシシラン、ジメチルプロピオキシシラン、
ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等
が挙げられる。

【０２１１】上記アルキルケイ素アルコキシド又はケイ
素アルコキシドを適当な溶媒中に溶解することによりＳ
ｉＯ₂ゾルとすることが出来る。使用する溶媒として
は、例えばメチルエチルケトン、イソプロピルアルコー
ル、メタノール、エタノール、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチル、等のアルコール、ケト
ン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トルエン、キシ
レン、等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混合物が挙
げられる。アルキルケイ素アルコキシド又はケイ素アル
コキシドを、それらが１００％加水分解及び縮合したと
して生じるＳｉＯ₂換算で、濃度を０．１質量％以上、
好ましくは０．１〜１０質量％になるように上記溶媒中
に溶解する。ＳｉＯ₂ゾルの濃度が０．１質量％未満で
あると形成されるゾル膜が所望の特性が充分に発揮出来
ず、一方、１０質量％を超えると透明均質膜の形成が困
難となる。又、本発明においては、以上の固形分以内で
あるならば、有機物や無機物バインダーを併用すること
も可能である。

【０２１２】この溶液に加水分解に必要な量以上の水を
加え、１５〜３５℃、好ましくは２２〜２８℃の温度
で、０．５〜１０時間、好ましくは２〜５時間攪拌を行
う。上記加水分解においては、触媒を用いることが好ま
しく、これらの触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸又は酢
酸等の酸が好ましい。これらの酸を約０．００１〜４
０．０ｍｏｌ／ｌ、好ましくは０．００５〜１０．０ｍ
ｏｌ／ｌ程度の水溶液として加え、該水溶液中の水分を
加水分解用の水分とすることが出来る。

【０２１３】本発明においては、上記ＳｉＯ₂ゾルに有
機反応性ケイ素化合物又はその部分加水分解物を添加し
て得られる化合物を低屈折率物質として用いるものであ
るが、ＳｉＯ₂ゾルだけ塗布した場合には、非常に膜が
弱く、ひび割れし易く、ＳｉＯ₂皮膜を固定するものが
必要である。本発明においては、反応性有機ケイ素化合
物を併用することによって、ＳｉＯ₂とも架橋によって
結合され強い膜を形成し、得られたＳｉＯ₂ゾルは、無
色透明な液体であり、ポットライフが約１ヶ月の安定な
溶液である。ＳｉＯ₂ゾルは基材に対して濡れ性がよ
く、塗布性に優れている。

【０２１４】反応性有機ケイ素化合物は、前記の反応性
有機ケイ素化合物の他に、熱又は電離放射線によって反
応架橋する複数の基（活性エネルギー線反応性基）、例
えば重合性二重結合基、を有する分子量３０００以下の
有機反応性化合物が好ましいものである。このような反
応性有機ケイ素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラ
ン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能
ポリシロキサン、両末端ビニル官能ポリシロキサン、或
いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラ
ン、又はビニル官能性ポリシロキサン等を挙げることが
出来る。

【０２１５】その他、ビニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリ（β−メトキシ−エトキシ）シラン、ジビニロキ
ジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）−エチルトリアルコキシシラン、アクリロイルオ
キシエチルトリエトキシシラン、グリシジルオキシエチ
ルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシ−ｎ−
プロピルトリ−ｎ−プロピルシラン、γ−メタクリロイ
ルオキシ−ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロピルシラン、ジ
（γ−アクリロイルオキシ−ｎ−プロピル）ジ−ｎ−プ
ロピルシラン、アクリロイルオキシジメトキシエチルシ
ラン等を挙げることが出来る。

【０２１６】以上の如き反応性有機ケイ素化合物は、前
記ＳｉＯ₂ゾル（固形分）１００質量部当たり約０．１
〜５０質量部の割合で使用することが出来ることが好ま
しい。

【０２１７】上記ゾル溶液には、各種の添加剤を添加す
る事が出来る。添加剤としては、製膜を促進する硬化剤
が用いられ、これらの硬化剤としては、酢酸ナトリウ
ム、酢酸リチウム等の有機酸金属塩の酢酸、ギ酸等の有
機酸溶液が挙げられる。該有機溶媒溶液の濃度は約０．
０１〜０．１質量％程度であり、ゾル溶液に対する添加
量は、ゾル溶液中に存在するＳｉＯ₂ １００質量部に
対して上記有機酸塩として約０．１〜１質量部程度の範
囲が好ましい。

【０２１８】更に、最終的に得られるゲル膜は、反射防
止フィルムの低屈折率層として使用するが、その屈折率
の調整する必要がある場合もある。例えば、屈折率を下
げるためにフッ素系有機ケイ素化合物、屈折率を高める
ために有機ケイ素化合物、屈折率を更に高めるために硼
素系有機化合物を添加することが出来る。具体的には、
テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラ
プロピオキシシラン、テトラブトキシシラン、アルキル
トリアルコキシシラン、コルコート４０（コルコート社
製）、ＭＳ５１（三菱化学社製）、スノーテックス（日
産化学社製）、等の有機ケイ素化合物、ザフロンＦＣ−
１１０、２２０、２５０（東亜合成化学社製）、セクラ
ルコートＡ−４０２Ｂ（セントラル硝子社製）、ヘプタ
デカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフル
オロオクチルトリメトキシシラン、トリフルオロオクチ
ルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメト
キシシラン等のフッ素系化合物、硼酸トリエチル、硼酸
トリメチル、硼酸トリプロピル、硼酸トリブチル等の硼
酸系化合物が挙げられる。これらの添加剤は、ゾルの調
製時に加えてもよいし、ゾルの形成後に加えてもよい。
これらの添加剤を用いることによって、アルキルケイ素
アルコキシド又はケイ素アルコキシドの加水分解時、或
いはその後にシラノール基と反応して、更に均一に反応
して更に均一で透明なゾル溶液が得られ、且つ形成され
るゲル膜の屈折率をある程度の範囲で変化させることが
出来る。

【０２１９】次に、上記フッ素含有樹脂、シリケートオ
リゴマーから形成される化合物、及びＳｉＯ₂ゾルと反
応性有機ケイ素化合物から形成される化合物から選ばれ
る少なくとも一つの低屈折率物質を含有する低屈折率層
（前記高屈折率層の上に設けられている）には前記高屈
折率層のところで挙げられた活性エネルギー線反応性化
合物が添加されていてもよい。そのうち好ましく用いら
れるのはエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物であ
る。

【０２２０】エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物
は、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物で、
前記と同様の活性エネルギー線照射によりカチオン重合
を開始物質として放出することが可能な化合物である。

【０２２１】エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物
としては、 （イ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化
合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応
により得られ、重合度の異なる混合物として得られ
る）； （ロ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有
する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイ
ド及び／又はプロピレンオキサイドを反応させ末端にグ
リシジルエーテル基を有する化合物； （ハ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジル
エーテル； （ニ）ノボラック樹脂或いはレゾール樹脂のフェノール
フォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物； （ホ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス
（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレー
ト、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）ア
ジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシ
ルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル）ピメレート、３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘ
キシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シク
ロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチ
ルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ
−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エ
ポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキ
シレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−
５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘ
キサン−メタ−ジオキサン； （ヘ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグ
リシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグ
リシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサ
ヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート； （ト）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エ
チレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレング
リコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコール
ジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリ
シジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレン
グリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジ
オールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオー
ルジグリシジルエーテル； （チ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリ
アクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグ
リシジルエステル； （リ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、
グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトール
ジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリ
シジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジ
ルエーテル、グルコーズトリグリジルエーテル； （ヌ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグ
リシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素
含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例
と同様のもの； （ル）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテ
ルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ
素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの等
を挙げることが出来る。上記エポキシ化合物の分子量
は、平均分子量として２０００以下であり、好ましくは
１０００以下である。

【０２２２】エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物
をカチオン重合させる光重合開始剤又は光増感剤は、活
性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放出
することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射
によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオ
ニウム塩の一群の複塩である。これらについては、前記
一般式（Ｉ）と同様であるので、ここでは省略する。

【０２２３】これらの活性エネルギー線反応性化合物は
前記高屈折率層のところで述べられたようなものと同様
の紫外線や、電子線等の活性エネルギー線、又はプラズ
マ処理、或いは熱エネルギーの付与により硬化されるこ
とも同様である。

【０２２４】以上のようにして反射防止層を形成する。
本発明の光学フィルムは防眩層を設けることもできる。
防眩層は表面に凹凸を有する構造をもたせることによ
り、防眩層表面又は防眩層内部において光を散乱させる
ことにより防眩機能発現させる為、微粒子物質を層中に
含有した構成をとっている。

【０２２５】これらの層として好ましい構成は以下に示
される様なものである。これは膜厚０．５〜５．０μｍ
であって、平均粒径０．２５〜１０μｍの１種以上の微
粒子を含む層であり、平均粒径が当該膜厚の１．１から
２倍の酸化珪素粒子と平均粒径０．００５〜０．１μｍ
の酸化珪素微粒子を例えばジアセチルセルロースのよう
なバインダー中に含有する層であって、これによって防
眩機能を発揮することができる。

【０２２６】この「粒子」としては、無機粒子及び有機
粒子が挙げられる。本発明に使用することのできる無機
粒子としては酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウ
ム、酸化亜鉛、酸化錫、炭酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等が挙げられ
る。

【０２２７】有機粒子としては、ポリ（メタ）アクリレ
ート系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、アクリルスチレン系樹脂、ベ
ンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、更にポリオレ
フィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹
脂、ポリイミド系樹脂、ポリ弗化エチレン系樹脂等が使
用できる。

【０２２８】これらのうちでも、本発明の目的の一つで
ある防眩性を達成するには、シリカなどの酸化珪素が特
に好ましく用いられる。ここで好ましく用いられる酸化
珪素粒子は、合成非晶質シリカの中でも湿式法によって
作られる超微粉含水珪酸が光沢度を下げる効果が大きく
好ましい。湿式法とは珪酸ソーダと鉱酸及び塩類を水溶
液中で反応させる方法で、例えば富士シリシア化学
（株）製のサイリシアや日本シリカ（株）製のＮｉｐｓ
ｉｌ Ｅなどがある。

【０２２９】防眩層は、又バインダーとして活性線硬化
性樹脂を用いるのが特に好ましく、塗布後活性線照射に
より前記酸化珪素粒子や酸化珪素微粒子含有活性線硬化
性樹脂層を形成させる。偏光板表面の機械的強度を増す
ことができるという点においてはバインダーとして活性
線硬化性樹脂を用いた防眩層とするのがより好ましい。

【０２３０】ここで用いることのできる活性線硬化性樹
脂とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反
応などを経て硬化する樹脂をいう。

【０２３１】活性線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹
脂や電子線硬化性樹脂などが代表的具体例として挙げら
れるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化
する樹脂であってもよい。紫外線硬化性樹脂の例として
は紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外
線硬化性アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化性アクリ
ル酸エステル系樹脂、紫外線硬化性メタクリル酸エステ
ル系樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹
脂及び紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂など
が挙げられる。

【０２３２】本発明に用いることのできる紫外線硬化性
ポリオールアクリレート系樹脂としてはトリメチロール
プロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパン
テトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペン
タエリスリトールペンタエリスリトール等の光重合モノ
マーオリゴマーである。これらのポリオールアクリレー
ト系樹脂は高架橋性で硬化性が大きい、硬度が大きい、
硬化収縮が小さい、又低臭気性で低毒性であり安全性も
比較的高いのが特徴である。

【０２３３】上記の紫外線硬化性ポリオールアクリレー
ト系樹脂には、その効果を損なわない範囲で他の紫外線
硬化性樹脂、例えば紫外線硬化性エポキシ系樹脂を含有
して使用してもよい。アクリレート系樹脂は厚膜塗布し
た硬化塗膜は、硬化収縮によりカーリングが強くなり、
取り扱い作業上支障をきたす場合がある。エポキシ系樹
脂はアクリレート系樹脂と比べて一般に硬化収縮が小さ
く硬化塗膜のカーリングも小さい。ここで言う紫外線硬
化性エポキシ系樹脂とはエポキシ基を分子内に２個以上
含む化合物で、カチオン重合開始剤を含有し、紫外線を
照射することにより架橋反応するエポキシ樹脂である。

【０２３４】用いることのできる電子線硬化性樹脂の例
としては、好ましくは、アクリレート系の官能基を有す
るもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、
ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレ
タン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポ
リブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂などが挙
げられる。

【０２３５】中でも、紫外線硬化性樹脂を用いることが
好ましい。活性線硬化性樹脂の硬化は、電子線又は紫外
線のような活性線照射によって硬化することができる。
例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン
型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、
直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加
速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは
１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線等が
使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水
銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、
メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利
用できる。

【０２３６】膜厚は０．５〜５．０μｍであることが好
ましい。又、このうち特に２．０〜４．０μｍの場合が
好ましい。

【０２３７】これら、反射防止層又は防眩層とその基材
の反対側に易接着層を有する光学フィルムの各構成層の
硬化に用いられる活性輻射線の代わりに、活性エネルギ
ーを与える手段としてプラズマ処理、熱などの方法も好
ましい。プラズマ処理としては前述したような特願平１
１−１４３２０６号に記載の方法が好ましく用いること
が出来る。

【０２３８】又、活性エネルギーを付与する熱処理とし
ては、反射防止層又は防眩層の塗布乾燥後に熱処理する
ことも有効である。７０℃以上で３０秒以上１０分、よ
り好ましくは３０秒以上５分加熱することが好ましい。

【０２３９】これらの防眩層を設けることにより、可視
光の透過率が低下しないことが望ましく、ヘイズ値が３
％以上であることが好ましい。又、その時の透過率は５
５０ｎｍにおける透過率で９０％以上であることが好ま
しい。

【０２４０】防眩層の表面層は、臨界表面張力が２０×
１０^-6Ｎ／ｃｍ以下であることが好ましい。臨界表面張
力が２０×１０^-6Ｎ／ｃｍより大きい場合は、表面層に
付着した汚れが取れにくくなる。含フッ素系のフッ素材
料が汚れ防止の点において好ましい。

【０２４１】含フッ素材料としては、有機溶剤に溶解
し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共重
合体や、フルオロオレフィン／炭化水素オレフィン共重
合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアクリ
レート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシラ
ン、更に、ＴＥＦＲＯＮ ＡＦ１６００（デュポン社
製、ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社製、
ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社製、
屈折率ｎ＝１．３５）、ＬＲ２０１（日産化学工業
（株）社製、ｎ＝１．３８）等を挙げることができる。
これらは単独でも複数組み合わせて使用することも可能
である。

【０２４２】又、２−（パーフルオロデシル）エチルメ
タクリレート、２−（パーフロロ−７−メチルオクチ
ル）エチルメタクリレート、３−（パーフロロ−７−メ
チルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−（パーフロロ−９−メチルデシル）エチルメタ
クリレート、３−（パーフロロ−８−メチルデシル）２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含フッ素メタ
クリレート、３−パーフロロオクチル−２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エ
チルアクリレート、２−（パーフルオロ−９−メチルデ
シル）エチルアクリレート等の含フッ素アクリレート、
３−パーフルオロデシル１，２−エポキシプロパン、３
−（パーフロロ−９−メチルデシル）−１，２−エポキ
シプロパン等のエポキサイド、エポキシアクリレート等
の放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレ
ポリマー等を挙げることができる。これらは単独もしく
は複数種類混合して使用することも可能である。

【０２４３】本発明の光学フィルムには、カール防止加
工を施すこともできる。カール防止加工とは、これを施
した面を内側にして丸まろうとする機能を付与するもの
であるが、この加工を施すことによって、透明樹脂フィ
ルムの片面に何らかの表面加工を施したり、両面に異な
る程度・種類の表面加工を施した際に、その面を内側に
してカールしようとするのを防止する働きをするもので
ある。

【０２４４】カール防止層は基材の防眩層又は反射防止
層を有する側と反対側に設ける態様或いは、例えば透明
樹脂フィルムの片面に易接着層を塗設し、又逆面にカー
ル防止加工を塗設するような態様が挙げられる。

【０２４５】カール防止加工の具体的方法としては、溶
剤塗布によるもの、溶剤とセルローストリアセテートセ
ルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオ
ネート等の透明樹脂層を塗設するもの等が挙げられる。
溶剤による方法とは、具体的には偏光板用保護フィルム
として用いるセルロースエステルフィルムを溶解させる
溶剤又は膨潤させる溶剤を含む組成物を塗布することに
よって行われる。これらのカールを防止する機能を有す
る層の塗布液は従ってケトン系、エステル系の有機溶剤
を含有するものが好ましい。好ましいケトン系の有機溶
媒の例としてはアセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン、乳酸エチル、ア
セチルアセトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、
エチル−ｎ−ブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジ
エチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、メチルシクロ
ヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチル−ｎ−
プロピルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、メチル
−ｎ−へプチルケトン等、好ましいエステル系の有機溶
剤の例としては酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、
乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。しかしなが
ら、用いる溶剤としては溶解させる溶剤及び／又は膨潤
させる溶剤の混合物の他、更に溶解させない溶剤を含む
場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合や
樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗
布量を用いて行う。この他にも、クリアハード加工や帯
電防止加工を施してもカール防止機能を発揮する。

【０２４６】本発明の光学フィルムにおいては、基材の
防眩層又は反射防止層を有する側と反対側にカールを防
止する機能を有する層を設けることが好ましい。

【０２４７】又、こうして製造された光学フィルムは２
３℃、６０％ＲＨにおけるカール度が−１０以上＋１０
以下であることが望ましい。

【０２４８】カール度の測定は、以下の方法で行われ
る。当該フィルム試料を８０℃、９０％ＲＨ環境下で４
８時間放置後、該フィルムを幅手方向５０ｍｍ、長手方
向２ｍｍに切断する。更に、そのフィルム小片を２３℃
±２℃、５５％ＲＨ環境下で２４時間調湿し、曲率スケ
ールを用いて該フィルムのカール値を測定する。

【０２４９】カール値は１／Ｒで表され、Ｒは曲率半径
で単位はｍを用いる。カール値については、フィルムの
変形が少ないものが好ましく、変形方向は＋方向でも−
方向でもかまわない。即ち、カール値の絶対値が小さけ
れば良く、具体的には、該フィルムのカール値の絶対値
が１０より大きいと、該フィルムを用いて偏光板等を作
製した場合、高温高湿下（例えば、８０℃、９０％ＲＨ
で４８時間放置する）での反り等の変形が大きくなり使
用に耐えない。該フィルムのカール値が１０以下であれ
ば、該フィルムを用いて偏光板等を作製した場合、高温
高湿下（例えば、８０℃、９０％ＲＨで４８時間放置す
る）でも反りなどの変形が小さく使用することができ
る。

【０２５０】これらのカール防止層その他の層の塗設に
もかかわらず、本発明の光学フィルムはヘイズ値が３％
以上であり、かつ、５５０ｎｍにおける透過率が９０％
以上であることが好ましい。

【０２５１】又、これらの最表面層は、易接着層の偏光
子への貼合や、又、反射防止層面を保護層フィルム面に
貼り付けたりして使用するため、ある程度の親水性を有
している必要があり、特に易接着層の２３℃、６０％Ｒ
Ｈにおける水の接触角は５０度以下であることが好まし
い。

【０２５２】本発明の光学フィルムでは易接着層を塗設
することもできる。易接着層とは、偏光板用保護フィル
ムとその隣接層、代表的には偏光膜とを接着し易くする
機能を付与する層のことをいう。

【０２５３】本発明にて好ましく用いられる易接着層の
例としては、−ＣＯＯＭ（Ｍは水素原子又はカチオンを
表す）基を有する高分子化合物を含有する層を含むもの
であり、更に好ましい態様はフィルム基材側に−ＣＯＯ
Ｍ基を有する高分子化合物を含有する層を設け、それに
隣接させて偏光膜側に親水性高分子化合物を主たる成分
として含む層を設けたものである。ここでいう−ＣＯＯ
Ｍ基を有する高分子化合物としては例えば−ＣＯＯＭ基
を有するスチレン−マレイン酸共重合体や−ＣＯＯＭ基
を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル
−マレイン酸−無水マレイン酸共重合体などであり、特
に−ＣＯＯＭ基を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合
体を用いると好ましい。このような高分子化合物を単独
で又は２種以上併用して用い、好ましい重量平均分子量
としては５００〜５００，０００程度のものであると良
い。−ＣＯＯＭ基を有する高分子化合物の特に好ましい
例は特開平６−０９４９１５号、同７−３３３４３６号
記載のものが好ましく用いられる。

【０２５４】又親水性高分子化合物として好ましくは、
親水性セルロース誘導体（例えば、メチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシセルロース
等）、ポリビニルアルコール誘導体（例えば、ポリビニ
ルアルコール、酢酸ビニルービニルアルコール共重合
体、ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルベンザール等）、天然高分子化合物（例えば、
ゼラチン、カゼイン、アラビアゴム等）、親水性ポリエ
ステル誘導体（例えば、部分的にスルホン化されたポリ
エチレンテレフタレート等）、親水性ポリビニル誘導体
（例えば、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリアクリル
アミド、ポリビニルインダゾール、ポリビニルピラゾー
ル等）が挙げられ、単独或いは２種以上併用して用いら
れる。

【０２５５】本発明の光学フィルムにはブロッキング防
止加工も適用することができ、光学フィルムの取扱易さ
を付与するのに役立つ。

【０２５６】これらの易接着層には接着の際の密着性を
よくし貼合後に欠陥が生じないようにするために粗面化
するのが効果がある。又、本発明の光学フィルムにおい
て反射防止層或いは防眩層の更に上に保護膜フィルムを
貼りつける場合等には、最表層が粗面化されていること
が好ましい。この為に、最表層には平均粒径が１．０μ
ｍ以下の微粒子が添加されていることが好ましい。用い
られる微粒子としては前記防眩層において挙げられた無
機有機の微粒子が使用できる。このものの中より、１．
０μｍ以下の粒子を選択して用いればよい。これらの微
粒子としては、好ましくはシリカなどの酸化珪素、例え
ば富士シリシア化学（株）製のサイリシアや日本シリカ
（株）製のＮｉｐｓｉｌ Ｅなどがある。

【０２５７】このように本発明の光学フィルムは必要に
応じて、帯電防止層、クリアハードコート層、防眩層、
反射防止層、易接着層、配向層、液晶層及び下引き層を
塗設することが可能である。特にセルロースエステルフ
ィルムはこれらの各種機能層の塗布性及び接着性に優れ
る。

【０２５８】又、本発明の光学フィルムは必要に応じ
て、コロナ放電処理或いはプラズマ放電処理によって、
フィルム表面処理することもできる。

【０２５９】本発明の光学フィルムは特に偏光板保護フ
ィルム用として有用である。偏光板保護フィルムとして
用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般
的な方法で作製することができる。得られたセルロース
エステルフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコ
ールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光
子の両面に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液を用い
て貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特
開平６−９４９１５号、同６−１１８２３２号に記載さ
れているような易接着加工を施してもよい。

【０２６０】保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせ
るのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニル
アルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアル
コール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラ
テックス等が挙げられる。

【０２６１】偏光板は偏光子及びその両面を保護する保
護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面
にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルム
を貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレ
ートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏
光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテク
トフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合さ
れ、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられ
る。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層
をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合す
る面側に用いられる。

【０２６２】液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に
液晶を含む基板が配置されているが、本発明の光学フィ
ルムを適用した偏光板保護フィルムはどの部位に配置し
ても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示
側最表面の偏光板保護フィルムにはクリアハードコート
層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板
保護フィルムをこの部分に用いることが得に好ましい。

【０２６３】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、以下の
「部」は「質量部」を表す。

【０２６４】実施例１ （セルロースエステルフィルムの製造）セルロースアセ
テート（イーストマンケミカル社製ＣＡ−３９８−３）
を用いて８０μｍのフィルムを以下の表１記載の加工条
件で溶融製膜法により製造し、セルロースエステルフィ
ルム１を得た。

【０２６５】尚、熱安定剤としてエポキシ化タル油０．
６質量％、パラ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．４質
量％、ネオペンチルフェニルホスフィット０．０７質量
％、ストロンチウムナフトエート０．０２質量％及び二
酸化珪素部粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ）０．０５質量
％を添加した。

【０２６６】又セルロースエステルの種類及び膜厚を以
下の表１記載のように変更した他は同様にしてセルロー
スエステルフィルム２、３−１〜４、４−１、４−２、
及び５〜７を得た。

【０２６７】又セルロースアセテート（ＣＡＰ−４８２
−０．５）を塩化メチレンを用いて溶解し、溶媒による
溶液流延製膜法を採用して膜厚８０μｍのフィルムを製
造し、セルロースエステルフィルム８、９（比較例）を
得た。尚、セルロースエステルフィルム９は可塑剤とし
てエチルフタリルエチルグリコレートを使用した。これ
らセルロースエステルフィルム１、２、３−１〜４、４
−１、４−２、及び５〜９を試料１、２、３−１〜４、
４−１、４−２、及び５〜９とする。

【０２６８】

【表１】

【０２６９】表１におけるセルロースアセテートを以下
に示す。 ・セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ−５０
４−０．２、ＣＡＰ−４８２−０．５、ＣＡＰ−４８２
−２０（イーストマンケミカル社製）） セルロースアセテートプロピオネート（ヒドロキシ基の
酢酸基による置換度が１．９０、ヒドロキシ基のプロピ
オン酸基による置換度が０．７１、インヘレント濃度
１．５１） ・化合物１（特表平６−５０１０４０号の実施例 例Ｂ
記載の化合物） 以上のように作製した試料１、２、３−１〜４、４−
１、４−２、及び５〜９について、以下に記載した様な
評価を行った。その結果を表２に示す。

【０２７０】（評価） ・寸法安定性 寸法安定性は熱収縮率で表す。試料の縦方向及び横方向
より３０ｍｍ幅×１２０ｍｍ長さの試験片を各３枚採取
する。試験片の両端に６ｍｍφの穴をパンチで１００ｍ
ｍ間隔に開ける。これを２３±３℃、相対温度６５±５
％の室内で３時間以上調湿する。自動ピンゲージ（新東
科学（株）製）を用いてパンチ間隔の原寸（Ｌ₁）を最
小目盛り／１０００ｍｍまで測定する。次に試験片を８
０℃±１℃の恒温器に吊して３時間熱処理し、２３±３
℃、相対湿度６５±５％の室内で３時間以上調湿した
後、自動ピンゲージで熱処理後のパンチ間隔の寸法（Ｌ
₂）を測定する。そして以下の式により熱収縮率を算出
する。

【０２７１】熱収縮率＝（Ｌ₁−Ｌ₂／Ｌ₁）×１００ ・レターデーション（Ｒ０） 自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器
（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの条件下で測
定した。１０カ所測定しその平均値で示した。

【０２７２】・動摩擦係数 １００ｍｍ×２００ｍｍのフィルム上に７５ｍｍ×１０
０ｍｍのフィルムを載せ、これを固定した台の上に載
せ、更にフィルム上にフォームラバーで覆われた２００
ｇの重りを載せる。重りを水平方向に引っ張り、動き出
したときの力（Ｆ）を測定した。そして下記式より動摩
擦係数（μ）を求めた。

【０２７３】Ｆ＝μＷ（Ｗ：重りの重さ（ｋｇｆ）） ・引っ張り強度 ＪＩＳ Ｃ２３１８の測定法に従い測定する。その結果
から試料の厚さが８０μｍの場合の引っ張り強度の値に
換算した結果で示した。

【０２７４】・弾性率 東洋ボールドウィン製万能引っ張り試験機ＳＴＭ Ｔ
５０ＢＰを用い、２３℃・７０％雰囲気中、引っ張り速
度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、弾
性率を求めた。

【０２７５】・ヘイズ ヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を
用いて測定した結果から、試料の厚さが８０μｍの場合
のヘイズの値に換算して表示した。

【０２７６】

【表２】

【０２７７】Ａ：エチルフタリルエチルグリコレート 表２から明らかなように、本発明のセルロースエステル
フィルムである試料１、２、３−１〜４、４−１、４−
２、及び５〜７は光学的、物理的に優れており、特に寸
法安定性に優れていることが分かる。

【０２７８】（偏光板の作製）厚さ１２０μｍのポリビ
ニルアルコールフィルムを沃素１質量部、沃化カリウム
２質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液に浸漬し５０℃
で４倍に延伸し偏光子を作製した。

【０２７９】試料１、２、３−１〜４、４−１、４−
２、及び５〜９を４０℃の２．５Ｎ−水酸化ナトリウム
水溶液で６０秒間アルカリ処理し、更に水洗乾燥して表
面をアルカリ処理した。

【０２８０】前記偏光子の両面に、試料１、２、３−１
〜４、４−１、４−２、及び５〜９のアルカリ処理面
を、完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着
剤として両面から貼合し、保護フィルムが形成された偏
光板１、２、３−１〜４、４−１、４−２、及び５〜９
を作製した。

【０２８１】得られた偏光板１、２、３−１〜４、４−
１、４−２、及び５〜７は光学的、物理的に優れ、しか
も寸法安定性に優れている保護フィルムで両面が保護さ
れているため、非常に良好な偏光板の特性を有するとい
う顕著に優れた効果を奏する。

【０２８２】実施例２ 延伸比率を下記表３に示すごとく変更した以外は実施例
１の試料３−２と同様にして試料１０〜１２を作製し、
下記に示す測定による物性の光学フィルムが得られた。
ここでは比較用として実施例１における試料８を用意し
た。

【０２８３】

【表３】

【０２８４】・輝点異物の測定 直交状態（クロスニコル）に二枚の偏光板を配置して透
過光を遮断し、二枚の偏光板の間に各試料１０〜１２及
び実施例１における試料８を置く。偏光板はガラス製保
護板のものを使用した。片側から光を照射し、反対側か
ら光学顕微鏡（５０倍）で１ｃｍ²当たりの直径０．０
１ｍｍ以上の輝点の数をカウントした。

【０２８５】・残留有機溶媒量 各試料１０〜１２及び実施例１における試料８を２０ｍ
ｌの密閉ガラス容器に入れ、下記ヘッドスペース加熱条
件にて処理した後、下記ガスクロマトグラフにて測定を
行った。

【０２８６】機器：ＨＰ社 ５８９０ＳＥＲＩＥＳ II カラム：Ｊ＆Ｗ社 ＤＢ−ＷＡＸ（内径０．３２ｍｍ、
長さ３０ｍ） 検出：ＦＩＤ ＧＣ昇温条件：４０℃で５分間保持した後、８０℃／分
で１００℃まで昇温 ヘッドスペース加熱条件：１２０℃で２０ｍｉｎ ・レターデーション値（Ｒｔ、Ｒ０）及び遅相軸角度の
測定 自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器
（株）製）を用いて試料１０〜１２及び実施例１におけ
る試料８を２３℃、５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍ
の波長において３次元屈折率測定を行い、遅相軸角θ₁
及び屈折率Ｎｘ、Ｎｙ、Ｎｚを求めた。下記一般式
（１）及び（２）に従って厚み方向のレターデーション
値Ｒｔと面内方向のレターデーション値Ｒ０を算出し
た。

【０２８７】一般式（１） Ｒｔ値＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄ 一般式（２） Ｒ０値＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ 式中、Ｎｘはフィルムの製膜方向に平行な方向における
フィルムの屈折率、Ｎｙは製膜方向に垂直な方向におけ
るフィルムの屈折率、Ｎｚは厚み方向におけるフィルム
の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表
す。

【０２８８】・巻き内外Ｒｔ差 試料１０〜１２及び実施例１における試料８を１００ｍ
の長さで巻き取り、そのまま１ヶ月間常温で放置した
後、表面のフィルムのＲｔと内部のフィルムのＲｔを前
述の方法で求め、その差をＲｔ差として求めた。

【０２８９】表３から明らかなように、本発明の光学フ
ィルムである試料１０〜１２は光学的等方性に優れ、Ｒ
ｔも安定していることが確認された。又これら試料１０
〜１２を用いて実施例１と同様の方法で作製した偏光板
は、上記の良好な物性により優れた特性を有した。

【０２９０】実施例３ 下記の組成物を調整した。

【０２９１】 ・帯電防止層塗布組成物（１） ポリメチルメタアクリレート （重量平均分子量５５万、Ｔｇ：９０℃） ０．５部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ６０部 メチルエチルケトン １６部 乳酸エチル ５部 メタノール ８部 導電性ポリマー樹脂Ｐ−１（０．１〜０．３μｍ粒子） ０．５部

【０２９２】

【化４】

【０２９３】 ・ハードコート層塗布組成物（２） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０部 ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤 ６部 シリコーン系界面活性剤 １部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ７５部 メチルエチルケトン ７５部 ・カール防止層塗布組成物（３） アセトン ３５部 酢酸エチル ４５部 イソプロピルアルコール ５部 ジアセチルセルロース ０．５部 超微粒子シリカ２％アセトン分散液（アエロジル：２００Ｖ） （日本アエロジル（株）製） ０．１部 下記に従って、機能付与した偏光板保護フィルムを作製
した。

【０２９４】（偏光板保護フィルム）延伸比率を縦１．
２×横２．０とした以外は実施例１の試料３−２と同様
にして作製した光学フィルム試料１３の片面に、カール
防止層塗布組成物（３）をウェット膜厚１３μｍとなる
ようにグラビアコートし、乾燥温度８０±５℃にて乾燥
させた。これを光学フィルム試料１３Ａとする。このセ
ルロースエステルフィルムのもう１方の面に帯電防止層
塗布組成物（１）を２８℃、８２％ＲＨの環境下でウェ
ット膜厚で７μｍとなるようにフィルムの搬送速度３０
ｍ／ｍｉｎで塗布幅１ｍで塗布し、次いで８０±５℃に
設定された乾燥部で乾燥して乾燥膜厚で約０．２μｍの
樹脂層を設け、帯電防止層付きセルロースエステルフィ
ルムを得た。これを光学フィルム試料１３Ｂとする。

【０２９５】更にこの帯電防止層の上にハードコート層
塗布組成物（２）をウェット膜厚で１３μｍとなるよう
に塗設し、乾燥温度９０℃にて乾燥させた後、紫外線を
１５０ｍＪ／ｍ²となるように照射して、乾燥膜厚で５
μｍのクリアハードコート層を設けた。これを光学フィ
ルム試料１３Ｃとする。

【０２９６】得られた光学フィルム試料１３Ａ、試料１
３Ｂ、試料１３Ｃはともにブラッシングを起こすことも
なく、乾燥後の亀裂の発生も認められず、塗布性は良好
であった。光学フィルム試料１３に代えて、光学フィル
ム試料１０〜１２に変更した以外は同様の方法で塗布行
った。その結果何れも良好な塗布性が確認された。

【０２９７】比較として、光学フィルム試料８を溶液流
延で製造された残留有機溶媒量が１％のセルロースアセ
テートプロピオネートフィルムに代えた以外は同様の方
法で塗布を行った。

【０２９８】カール防止層塗布組成物（３）を塗布した
ものを試料８Ａ、更に帯電防止層塗布組成物（１）を塗
布したものを試料８Ｂ、更にこの帯電防止層の上にハー
ドコート層塗布組成物（２）を塗布したものを試料８Ｃ
とした。

【０２９９】その結果、高湿度環境で塗布したとき、試
料８Ａでブラッシングが起こった。又、試料８Ｂでは乾
燥後微細な亀裂が認められることがあり、試料８Ｃでは
乾燥後微細な亀裂が明確に認められた。

【０３００】又試料１０、１１、１２、１３、１０Ｃ、
１１Ｃ、１２Ｃ、１３Ｃを用いて、実施例１と同様の方
法で偏光板を作製した。得られた偏光板１０、１１、１
２、１３、１０Ｃ、１１Ｃ、１２Ｃ、１３Ｃは光学的、
物理的に優れ、良好な偏光度を有する偏光板であった。

【０３０１】（液晶表示装置としての特性評価）１５型
ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレーＬＡ−１５２９ＨＭ
（ＮＥＣ製）の偏光板を剥がし、上記で作製した各々の
偏光板を液晶セルのサイズに合わせて断裁した。液晶セ
ルを挟むようにして、前記作製した偏光板２枚を偏光板
の偏光軸がもとと変わらないように互いに直交するよう
に貼り付け、１５型ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレーを
作製し、セルロースエステルフィルムの偏光板としての
特性を評価したところ、本発明の偏光板１０〜１３、１
０Ｃ〜１３Ｃはコントラストも高く、優れた表示性を示
した。これにより、液晶ディスプレーなどの画像表示装
置用の偏光板として優れていることが確認された。

【０３０２】実施例４ （樹脂フィルム１０Ｄの作製）実施例２で作製した試料
１０の上に下記防眩塗布組成物をウェット膜厚で１３μ
ｍ塗布し、９０℃で乾燥後２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線
を照射して硬化して樹脂フィルム１０Ｄを作製した。こ
れを試料１０Ｄとする。

【０３０３】 ・防眩塗布組成物 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ２５ｇ ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 １０ｇ ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 １０ｇ １，４−ブタンジオールグリシジルエーテル ５ｇ ジエトキシベンゾフェノン（ＵＶ開始剤） １ｇ 芳香族スルホニウム塩系ＵＶ開始剤 ０．２５ｇ シリカ（サイシリア３５０：富士シリシア社製） １．３ｇ 親水性シリカ（アエロジル２００Ｖ：日本アエロジル社製） １ｇ メチルエチルケトン ３０ｇ 酢酸エチル ３０ｇ イソプロピルアルコール ３０ｇ 以上を高速攪拌機（ＴＫホモミキサー、特殊機化工業
（株）製）で攪拌し、その後衝突型分散機（マントンゴ
ーリン、ゴーリン（株）製）で分散した。

【０３０４】（樹脂フィルム１０Ｅの作製）試料１０の
上に下記反射防止層用塗布組成物１をウェット膜厚で１
０μｍ塗布し、乾燥後３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照
射した後（屈折率：１．８２、膜厚：７７ｎｍ）、下記
反射防止層用塗布組成物２をウェット膜厚で１０μｍ塗
布し、８０℃、３０分で乾燥し（屈折率は：１．４５
で、膜厚：９０ｎｍ）樹脂フィルム１０Ｅを作製し、こ
れを試料１０Ｅとする。試料１０に代えて、試料１０Ｃ
を用いた以外は同様にして下記反射防止層用塗布組成物
１、及び２を塗設して樹脂フィルム１０Ｆを作製した。
これを試料１０Ｆとする。

【０３０５】 ・反射防止層用塗布組成物１ チタンポリマー（日本曹達：Ｂ−４） １２５ｇ ブタノール １２００ｇ イソプロピルアルコール １２００ｇ ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ３ｇ ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 １ｇ ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 １ｇ ジエトキシベンゾフェノンＵＶ開始剤 ０．１ｇ γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン ５ｇ ・反射防止層用塗布組成物２ テトラエトキシシラン加水分解物＊ １８０ｇ γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン ５ｇ シクロヘキサノン ３２００ｇ ＊テトラエトキシシラン加水分解物の調整方法 テトラエトキシシラン２５０ｇにエタノール３８０ｇを
加え、この溶液に３ｇの濃塩酸を２３５ｇの水に溶解し
た塩酸水溶液を室温でゆっくり滴下した。滴下後、３時
間室温で撹拌して調整した。

【０３０６】試料１０Ｄ、試料１０Ｅ、試料１０Ｆとも
塗布性に優れ、試料１０Ｄは優れた防眩性を示し、試料
１０Ｅ及び試料１０Ｆは優れた反射防止性能を示した。

【０３０７】実施例５ 試料１〜８のセルロースエステルフィルムを裁断し、こ
れを加熱溶融して溶融流延法によるセルロースエステル
フィルムを作製し試料１４を得た。この方法はマット剤
及び可塑剤が均一に混合されたセルロースエステル溶融
物を短時間で簡便に得ることができるという顕著に優れ
た効果を奏する。得られた試料１４は残留有機溶媒量が
０．０１質量％以下であり、安定したＲｔを有してい
た。

【０３０８】

【発明の効果】本発明の偏光板は溶融流延によって形成
されたセルロースエステルフィルム（本発明の光学フィ
ルム）で保護されているため光学的、物理的、及び寸法
安定性に優れた特性を有し、非溶媒使用の製膜作製で得
られたものでありながら優れた特性を有しているという
顕著に優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】光学フィルムの製膜方向とフィルムの遅相軸と
のなす角度を模式的に説明した概略図。

【符号の説明】

θ 製膜方向と遅相軸とがなす狭い角度

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｃ０８Ｌ 1:08

Claims (24)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 溶融流延によって形成されたセルロース
   エステルフィルムを有することを特徴とする光学フィル
   ム。
2. 【請求項２】 前記セルロースエステルフィルムが１方
   向及びそれと直交する方向にそれぞれ１．００〜２．５
   ０倍、１．０１〜３．００倍に延伸されたフィルムであ
   ることを特徴とする請求項１記載の光学フィルム。
3. 【請求項３】 前記セルロースエステルフィルムが不揮
   発性可塑剤を含有することを特徴とする請求項１又は２
   記載の光学フィルム。
4. 【請求項４】 前記セルロースエステルフィルムが紫外
   線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１〜３の何
   れか１項記載の光学フィルム。
5. 【請求項５】 前記セルロースエステルフィルムの溶融
   温度が１１０〜２８０℃であることを特徴とする請求項
   １〜４の何れか１項記載の光学フィルム。
6. 【請求項６】 前記セルロースエステルフィルムがセル
   ロースの低級脂肪酸エステルを含有することを特徴とす
   る請求項１〜５の何れか１項記載の光学フィルム。
7. 【請求項７】 前記セルロースエステルフィルムがセル
   ロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロ
   ースブチレート、セルロースアセテートプロピオネー
   ト、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセ
   テートフタレート、及びセルロースフタレートから選ば
   れる少なくとも一種を有することを特徴とする請求項１
   〜６の何れか１項記載の光学フィルム。
8. 【請求項８】 前記セルロースエステルフィルムの原料
   セルロースが、木材パルプ及びリンターパルプの少なく
   とも一方を含むことを特徴とする請求項１〜７の何れか
   １項記載の光学フィルム。
9. 【請求項９】 前記セルロースエステルフィルムの１０
   ５℃、５時間での縦及び横の寸法変化率が±０．１％以
   内であることを特徴とする請求項１〜８の何れか１項記
   載の光学フィルム。
10. 【請求項１０】 前記セルロースエステルフィルムの８
    ０μｍ換算でのヘイズが０．６％以下であることを特徴
    とする請求項１〜９の何れか１項記載の光学フィルム。
11. 【請求項１１】 前記セルロースエステルフィルムの面
    内方向のレターデーションＲ０が１００ｎｍ以下である
    ことを特徴とする請求項１〜１０の何れか１項記載の光
    学フィルム。
12. 【請求項１２】 前記セルロースエステルフィルムの引
    っ張り強度が５０Ｎ／ｍｍ²以上であることを特徴とす
    る請求項１〜１１の何れか１項記載の光学フィルム。
13. 【請求項１３】 前記セルロースエステルフィルムの弾
    性率が３ｋＮ／ｍｍ ²以上であることを特徴とする請求
    項１〜１２の何れか１項記載の光学フィルム。
14. 【請求項１４】 前記セルロースエステルフィルムの動
    摩擦係数が０．４０以下であることを特徴とする請求項
    １〜１３の何れか１項記載の光学フィルム。
15. 【請求項１５】 前記光学フィルムの遅相軸方向と製膜
    方向とのなす角度θ ₁が−３０°〜＋３０°、−６０°
    〜−９０°或いは＋６０°〜＋９０°であることを特徴
    とする請求項１〜１４の何れか１項記載の光学フィル
    ム。
16. 【請求項１６】 前記光学フィルムの遅相軸方向と製膜
    方向とのなす角度θ ₁と面内方向のレターデーションＲ
    ０が下記の関係にあることを特徴とする請求項１〜１５
    の何れか１項記載の光学フィルム。 Ｐ≦１−ｓｉｎ²（２θ₁）・ｓｉｎ²（πＲ０／λ） Ｐは０．９９９、λはＲ０及びθ₁を求めるための三次
    元屈折率測定の際の光の波長ｎｍを表す。
17. 【請求項１７】 クロスニコル状態に配置された２枚の
    偏光板の間に配置された光学フィルムを一方の偏光板側
    から光を当てて他方の偏光板の側から観察するに当たっ
    て、直径０．０１ｍｍ以上である輝点の数が２００個／
    ｃｍ²以下であることを特徴とする請求項１〜１６の何
    れか１項記載の光学フィルム。
18. 【請求項１８】 残留有機溶媒量が０．１質量％未満で
    あることを特徴とする請求項１〜１７の何れか１項記載
    の光学フィルム。
19. 【請求項１９】 残留有機溶媒量が０．１質量％未満で
    あることを特徴とする光学フィルム。
20. 【請求項２０】 長手方向が１００ｍ以上の巻きの状態
    であることを特徴とする請求項１〜１９の何れか１項記
    載の光学フィルム。
21. 【請求項２１】 前記セルロースエステルフィルムの少
    なくとも一方の面にセルロースエステルを溶解もしくは
    膨潤させる溶媒を含む塗布組成物によって塗設された塗
    布層を有することを特徴とする請求項１〜２０の何れか
    １項記載の光学フィルム。
22. 【請求項２２】 前記光学フィルムの少なくとも一方の
    面に帯電防止層、硬化樹脂層、反射防止層、易接着層、
    防眩層及び光学補償層から選択される少なくとも１層を
    設けたことを特徴とする請求項１〜２１の何れか１項記
    載の光学フィルム。
23. 【請求項２３】 請求項１〜２２の何れか１項記載の光
    学フィルムを少なくとも１方の面に用いたことを特徴と
    する偏光板。
24. 【請求項２４】 請求項１〜２２の何れか１項記載の光
    学フィルム、及び請求項２３記載の偏光板の少なくとも
    一方を用いたことを特徴とする液晶表示装置。