JP2000355566A - ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノン類の製造方法 - Google Patents

ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノン類の製造方法

Info

Publication number
JP2000355566A
JP2000355566A JP11163730A JP16373099A JP2000355566A JP 2000355566 A JP2000355566 A JP 2000355566A JP 11163730 A JP11163730 A JP 11163730A JP 16373099 A JP16373099 A JP 16373099A JP 2000355566 A JP2000355566 A JP 2000355566A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
trifluoromethyl
bis
compound
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11163730A
Other languages
English (en)
Inventor
Michio Ishida
道夫 石田
Makoto Koide
誠 小出
Koji Kume
孝司 久米
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Central Glass Co Ltd filed Critical Central Glass Co Ltd
Priority to JP11163730A priority Critical patent/JP2000355566A/ja
Publication of JP2000355566A publication Critical patent/JP2000355566A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
    • C07C45/511—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of singly bound oxygen functional groups to >C = O groups
    • C07C45/513—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of singly bound oxygen functional groups to >C = O groups the singly bound functional group being an etherified hydroxyl group

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】入手の容易な化合物を原料として、簡便な操作
で有用性の大きいビス（トリフルオロメチル）アセトフ
ェノン類を製造する。 【解決手段】ハロゲン置換ビス（トリフルオロメチル）
化合物をパラジウム化合物とホスフィン類と塩基の存在
下、ビニルエーテル類またはエタナミド類を反応させて
ビス（トリフルオロメチル）スチレン誘導体を得、次い
でこれらを加水分解してビス（トリフルオロメチル）ア
セトフェノン類を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、農薬、殺虫
剤、染料、香料の製造中間体やフッ素含有基導入試薬と
して有用なビス（トリフルオロメチル）アセトフェノン
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノ
ンの製造方法としては、文献(Tetrahedron Letters No.
53,PP.4647-4650,1970)に３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）ベンゾイルクロライドと銅試薬（リチウムジメ
チル銅またはリチウムジｎ−ブチル）をエーテル溶媒
中、０℃、窒素雰囲気で反応させて収率よく得る方法が
記載されている。
【０００３】一方、ベンゼン環に一個のトリフルオロメ
チル基を有するアセトフェノンの製造方法も知れてお
り、例えば、ＷＯ／９８５８８９５公報に３−ブロモ−
ベンゾトリフルオライドをプロピレンカーボネート溶媒
中でトリエチルアミンとビス−（ジベンザルアセトン）
−クロロホルム−パラジウムとトリフェニルホスフィン
の存在下に、ブチルビニルエーテルを１１０℃で２０時
間反応させ、得られた３−トリフルオロメチル−１−ブ
トキシスチレンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと塩酸
水溶液で加水分解して３−トリフルオロメチル−アセト
フェノンの得られることが記載されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】入手の容易な化合物を
原料として、簡便な操作で有用性の大きいビス（トリフ
ルオロメチル）アセトフェノン類を製造することのでき
る、工業的に適した方法を提供する。
【０００５】
【課題を解決するための具体的手段】本発明者らは、上
記課題を解決すべく検討を加えたところ、対応するビス
（トリフルオロメチル）ハロゲノベンゼンをパラジウム
化合物とホスフィン類と塩基の存在下、ビニルエーテル
類またはエタナミド類を反応させて一旦、対応するスチ
レン誘導体とし、これを加水分解することでビス（トリ
フルオロメチル）アセトフェノンが製造できることを見
いだし、本発明を完成した。
【０００６】すなわち、本発明は、一般式（１）、
【０００７】
【化５】
【０００８】（式中、Ｘはハロゲン原子（塩素、臭素ま
たはヨウ素）、Ｙは不活性基であり、ｍは０〜３の整数
を表す。）で表されるビス（トリフルオロメチル）化合
物をパラジウム化合物とホスフィン類と塩基の存在下、
一般式（２） ＣＨ2＝ＣＨ−ＯＲ1 （２） （式中、Ｒ1は、Ｃ1〜Ｃ8のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ8のハ
ロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ8のアルケニル基、Ｃ1〜Ｃ8のハ
ロアルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6のシクロアルキル基、アリル
基、アリルオキシ基、アリル−Ｃ1〜Ｃ2アルキル基、ヘ
テロアリル基、ヘテロアリルオキシ基またはＣ1〜Ｃ8の
アシル基を表す）で表されるビニルエーテルまたは一般
式（３）、 ＣＨ2＝ＣＨ−Ｎ（Ｒ2）−ＣＯ−Ｒ3 （３） （式中、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ8のアルキ
ル基、Ｃ1〜Ｃ8のハロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ8のアルケニ
ル基、Ｃ1〜Ｃ8のハロアルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6のシクロ
アルキル基、アリル基、アリルオキシ基、アリル−Ｃ1
〜Ｃ2アルキル基、ヘテロアリル基、ヘテロアリルオキ
シ基またはＣ1〜Ｃ8のアシル基を表す）で表されるエタ
ナミドを反応させて一般式（４）、
【０００９】
【化６】
【００１０】（式中、Ｙ、Ｒ1は前記に同じ）で表され
る中間体、または一般式（５）、
【００１１】
【化７】
【００１２】（式中、Ｙ、Ｒ2、Ｒ3は前記に同じ）で表
される中間体を得て（以上を第一工程という）、次いで
これらの中間体を加水分解すること（第二工程という）
からなる一般式（６）、
【００１３】
【化８】
【００１４】（式中、Ｙは前記に同じ）で表されるビス
（トリフルオロメチル）アセトフェノン類の製造方法で
ある。
【００１５】以下に特に指摘しない限り第一工程につい
て説明する。
【００１６】本発明に使用する一般式（１）、
【００１７】
【化９】
【００１８】（式中、Ｘ、Ｙ、ｍは前記に同じ）で表さ
れるビストリフルオロメチル化合物は二個のトリフルオ
ロメチル基と本発明の方法に対して不活性な０〜３個の
官能基（Ｙ）を有し、さらに反応部位となるハロゲン
（塩素、臭素およびヨウ素）を有する化合物である。具
体的に、特に限定されないが、二個のトリフルオロメチ
ル基を有する化合物、例えば、１−ブロモ−２，４−ビ
ス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１−ヨード−２，
４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１−ブロモ
−３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）ブロモベンゼン］、１
−ヨード−３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼ
ン［３，５−ビス（トリフルオロメチル）ヨードベンゼ
ン］、２−ブロモ−１，３−ビス（トリフルオロメチ
ル）ベンゼン、２−ヨード−１，３−ビス（トリフルオ
ロメチル）ベンゼン、２−ブロモ−１，４−ビス（トリ
フルオロメチル）ベンゼン、２−ヨード−１，４−ビス
（トリフルオロメチル）ベンゼン、４−ブロモ−１，２
−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンなどが挙げられ
る。
【００１９】また、本発明に使用する一般式（１）で表
されるビス（トリフルオロメチル）化合物には、官能基
として、アルコキシ基、ニトロ基などを有する化合物、
例えば、１−ブロモ−２−メトキシ−３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）ベンゼン、１−ヨード−２−メトキ
シ−３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、２
−ブロモ−１−ニトロ−３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）ベンゼンなどが挙げられる。
【００２０】一般式（１）で表されるビス（トリフルオ
ロメチル）化合物としては、生成物の有用性の顕著なこ
とから３，５−ビス（トリフルオロメチル）ブロモベン
ゼンまたは３，５−ビス（トリフルオロメチル）ヨード
ベンゼンなどが最も好ましい。この場合、中間体として
３，５−ビス（トリフルオロメチル）１−アルコキシス
チレンまたは３，５−ビス（トリフルオロメチル）１−
アミドスチレンが得られ、これを加水分解すると３，５
−ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノンが得られ
る。
【００２１】本発明の方法に使用する一般式（２） ＣＨ2＝ＣＨ−ＯＲ1 （２） で表されるビニルエーテルまたは一般式（２）、 ＣＨ2＝ＣＨ−Ｎ（Ｒ2）−ＣＯ−Ｒ3 （３） で表されるエタナミドにおいて、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は反応
に著しい悪影響を及ぼさない限りいかなる官能基であっ
てもよいが、例えば、Ｃ1〜Ｃ8のアルキル基、Ｃ 1〜Ｃ8
のハロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ8のアルケニル基、Ｃ1〜Ｃ8
のハロアルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6のシクロアルキル基、ア
リル基、アリルオキシ基、アリル−Ｃ1〜Ｃ2アルキル
基、ヘテロアリル基、ヘテロアリルオキシ基またはＣ1
〜Ｃ8のアシル基などが挙げられる。また、これらは適
宜置換基を有していてもよい。これらのうち、一般式
（７） ＣＨ2＝ＣＨ−ＯＲ4 （７） （式中、Ｒ4はＣ1〜Ｃ6のアルキル基を表す）で表され
るビニルエーテルが好ましい例として挙げられる。
【００２２】本発明においては、パラジウムはパラジウ
ム塩、例えば、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、臭化
パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、或いはパラ
ジウム錯体、例えば、〔Ｐｄ（ＰＰｈ3）4〕、ビス（ジ
ベンザルアセトン）パラジウム、ＰｄＣｌ2〔Ｐ（Ｐ
ｈ）2ＣＨ2ＣＨ2Ｐ（Ｐｈ）2〕、ＰｄＣｌ2〔Ｐ（Ｐ
ｈ） 2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｐ（Ｐｈ）2〕、ＰｄＣｌ2〔Ｐ
（Ｐｈ）2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ 2Ｐ（Ｐｈ）2〕、ＰｄＣ
ｌ2（ｄｐｐｆ）、ＰｄＣｌ2［Ｐ（ｏ−Ｍｅ−Ｐ
ｈ）3］2、ＰｄＣｌ2［Ｐ（ｍ−Ｍｅ−Ｐｈ）3］2、Ｐ
ｄＣｌ2［Ｐ（ｐ−Ｍｅ−Ｐｈ）3］2、ＰｄＣｌ2（ＰＭ
ｅ3）2、ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2、ＰｄＢｒ2（ＰＰ
ｈ3）2、Ｐｄ（ＰＰｈ3）4、Ｐｄ（ＣＯ）（ＰＰ
ｈ3）3、ＰｈＰｄＩ（ＰＰｈ3）2、ＰｈＰｄＢｒ（ＰＰ
ｈ3）2、ＰｈＰｄＢｒ（ＰＭｅＰｈ2）2、ＰｄＣｌ
2（ＰＭｅＰｈ2）2、ＰｄＣｌ2（ＰＥｔ2Ｐｈ）2、Ｐｄ
Ｃｌ2（ＰＭｅ2Ｐｈ）2、Ｐｄ 2Ｂｒ4（ＰＰｈ3）2、Ｐ
ｄＣｌ2（ＰＥｔ3）2、Ｐｄ（ＯＡｃ）2（ＰＰｈ3）2、
ＰｄＣｌ2（ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）2、ＰｄＣｌ2
（ｂｅｎｚｏｎｉｔｒｉｌｅ）2、ＰｄＣｌ2（ｂｐｙ）
等が挙げられる。ここで、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチ
ル基、Ｐｈはフェニル基、ＯＡｃはアセタト配位子を表
す。これらのうち、パラジウム塩としては酢酸パラジウ
ム、塩化パラジウムなど、錯体としてはＰｄＣｌ2（Ｐ
Ｐｈ3）2、Ｐｄ（ＯＡｃ）2（ＰＰｈ3）2などが特に好
ましい。
【００２３】本発明の方法で配位子として使用されるホ
スフィンは特に限定されないが、具体例としては、例え
ば、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセ
ン（ｄｐｐｆ）、１，４−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）ブタン（ｄｐｐｂ）、１，３−ビス（ジフェニルホ
スフィノ）プロパン（ｄｐｐｐ）、１，２−ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）、トリフェニル
ホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリ−ｏ−
トリルホスフィン、トリ−ｍ−トリルホスフィン、トリ
−ｐ−トリルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィ
ン、トリエチルホスフィンなどが挙げられる。トリフェ
ニルホスフィンは特に好ましい。
【００２４】パラジウムの使用量は、原料である一般式
（１）で表されるビス（トリフルオロメチル）化合物１
モルに対して０．００００１〜０．５モル、好ましくは
０．００００５〜０．１モル、より好ましくは０．００
０１〜０．１モルである。０．００００１モルよりも少
ないと反応の進行が遅く実用的でないので好ましくな
く、また、０．５モルよりも多いことは反応の点では問
題はないが経済的に不利であるので好ましくない。
【００２５】また、ホスフィンはパラジウム１モルに対
し１モル以上使用し、１〜４モル程度でよく、好ましく
は１〜２モル程度を使用する。過剰に使用しても、反応
速度、収率などにはほとんど変化はなく、経済的に不利
なだけであり、好ましくない。
【００２６】本発明の反応は溶媒中で行われる。溶媒は
非プロトン性極性溶媒が用いられ、例えば、プロピレン
カーボネート、アニソール、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムア
ミド、テトラメチル尿素、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルイミダゾリジノンおよびジメチルスルホキシ
ドなどが挙げられる。
【００２７】塩基としては、アミン類；トリエチルアミ
ン、トリエチレンジアミン、シクロヘキシルアミン、Ｎ
−シクロヘキシル−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミン、ピリジ
ン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ−メ
チルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］ウンデカ−５−エン（ＤＢＵ）、アルカリ金属、ア
ルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン
酸塩、例えば、カリウムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素
塩、リン酸塩；カルボン酸塩、例えば、Ｃ2〜Ｃ4のカル
ボン酸のアルカリ金属塩などが挙げられる。これらのう
ち、トリエチルアミン、水酸化カリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素カリウム、リン酸カリウム、酢酸ナトリウ
ムが好ましく、トリエチルアミンがより好ましい。
【００２８】本発明の第一工程の反応の反応温度は３０
〜２００℃であり、７０〜１５０℃程度が好ましく、９
０〜１５０℃程度がより好ましい。
【００２９】第一工程の操作は、特に限定されず通常の
有機合成の手順で行えばよいが、例えば、それぞれ所定
量の一般式（１）で表されるビス（トリフルオロメチ
ル）化合物、反応溶媒、塩基、パラジウム化合物、ホス
フィンを反応容器に入れ、内部を不活性ガス、例えば、
窒素、アルゴン、水素、ヘリウムなどで置換し、攪拌し
ながら所定の温度まで昇温する。その後、所定量の一般
式（２）または（３）で表される化合物を一時に、連続
的に、または断続的に投入する。所定量の一般式（２）
または（３）で表される化合物は他の試剤と共に昇温前
に反応器に仕込んでもかまわない。投入終了後必要に応
じてさらに反応を継続する。反応が完結または終了した
後、内容物を取りだし精製操作に付るすことで一般式
（４）または（５）で表される化合物が得られる。
【００３０】本発明の第二工程の反応は、通常の加水分
解反応を適用して行うことができる。第一工程で得られ
た一般式（４）または（５）で表される化合物を溶媒と
共にまたは無溶媒で酸水溶液と０〜１００℃程度で接触
させる。酸としては例えば塩酸、硫酸、酢酸などが使用
でき、溶媒としては生成物を溶解できるものであれば特
に限定されない。
【００３１】
【実施例】以下に、本発明を実施例をもって詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施態様に限られない。
【００３２】［実施例１］３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）ブロモベンゼン１５．０ｇ、プロピレンカーボ
ネート４５ｍｌ、トリエチルアミン１０．４ｇ、酢酸パ
ラジウム０．２３ｇ、トリフェニルホスフィン０．８１
ｇを２００ｍｌ三ツ口フラスコに入れ、内部を窒素で置
換し、マグネチックスターラーで攪拌しながらオイルバ
スで１０５℃まで昇温した。その後、ｎ−ブチルビニル
エーテル溶液（ｎ−ブチルビニルエーテル５．１３ｇを
プロピレンカーボネート８ｍｌに溶解した溶液）を３．
５時間かけて滴下ロートよりフラスコ内に滴下した。滴
下終了後さらに４．５時間、１１５℃で攪拌を続け反応
を継続した。反応終了後、内容物を取りだし５０ｍｌの
エーテルを加え１００ｍｌの水で２回洗浄してエーテル
溶液を分取した。得られたエーテル溶液をガスクロマト
グラフで分析したところ、エーテル以外に１７．８％の
３，５−ビス（トリフルオロメチル）１−ブトキシスチ
レンと未反応原料３，５−ビス（トリフルオロメチル）
ブロモベンゼン７２．３％が含まれていた。
【００３３】このエーテル溶液に５Ｎの塩酸水溶液を加
え強く振盪し、さらに少量のエーテルを加えてエーテル
層を分取した。得られたエーテル溶液からエーテルを留
去し、残った有機物１４．０ｇをガスクロマトグラフで
分析したところ、１１．４％の３，５−ビス（トリフル
オロメチル）アセトフェノンと未反応原料３，５−ビス
（トリフルオロメチル）ブロモベンゼン７５．７％が含
まれていた。
【００３４】［実施例２］３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）ブロモベンゼン７．０ｇ、プロピレンカーボネ
ート２１ｍｌ、トリエチルアミン４．８ｇ、ｎ−ブチル
ビニルエーテル、酢酸パラジウム０．１０７ｇ、トリフ
ェニルホスフィン０．３８ｇをガラス製オートクレーブ
に入れ、内部を窒素で置換し、マグネチックスターラー
で攪拌しながらオイルバスで１３２℃まで昇温し、その
まま６時間反応を続けた。反応終了後、内容物を取りだ
し２５ｍｌのエーテルを加え５０ｍｌの水で２回洗浄し
てエーテル溶液を分取した。得られたエーテル溶液をガ
スクロマトグラフで分析したところ、エーテル以外に１
９．６％の３，５−ビス（トリフルオロメチル）１−ブ
トキシスチレンと未反応原料３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）ブロモベンゼン６４．７％が含まれていた。
【００３５】このエーテル溶液に５Ｎの塩酸水溶液を加
え強く振盪し、さらに少量のエーテルを加えてエーテル
層を分取した。得られたエーテル溶液からエーテルを留
去し、残った有機物６．５ｇをガスクロマトグラフで分
析したところ、１５．９％の３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）アセトフェノンと未反応原料３，５−ビス
（トリフルオロメチル）ブロモベンゼン７３．４％が含
まれていた。
【００３６】
【発明の効果】本発明の方法は、入手の容易な化合物を
原料として、有用性の大きなビス（トリフルオロメチ
ル）アセトフェノン類を工業的製造することができると
いう効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久米 孝司 山口県宇部市大字沖宇部5253番地 セント ラル硝子株式会社化学研究所内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC44 BA02 BA25 BA28 BA29 BA32 BA35 BA36 BA37 BA46 BA47 BA48 BA51 BB15 BB17 BB20 BB22 BB24 BC10 BM10 BM71 BR30 FE71 FE74 4H039 CA62 CD10 CE20

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式（１）、 【化１】 （式中、Ｘはハロゲン原子（塩素、臭素またはヨウ
    素）、Ｙは不活性基であり、ｍは０〜３の整数を表
    す。）で表されるビス（トリフルオロメチル）化合物を
    パラジウム化合物とホスフィン類と塩基の存在下、一般
    式（２） ＣＨ2＝ＣＨ−ＯＲ1 （２） （式中、Ｒ1は、Ｃ1〜Ｃ8のアルキル基、Ｃ1〜Ｃ8のハ
    ロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ8のアルケニル基、Ｃ1〜Ｃ8のハ
    ロアルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6のシクロアルキル基、アリル
    基、アリルオキシ基、アリル−Ｃ1〜Ｃ2アルキル基、ヘ
    テロアリル基、ヘテロアリルオキシ基またはＣ1〜Ｃ8の
    アシル基を表す）で表されるビニルエーテルまたは一般
    式（３）、 ＣＨ2＝ＣＨ−Ｎ（Ｒ2）−ＣＯ−Ｒ3 （３） （式中、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ独立に、Ｃ1〜Ｃ8のアルキ
    ル基、Ｃ1〜Ｃ8のハロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ8のアルケニ
    ル基、Ｃ1〜Ｃ8のハロアルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6のシクロ
    アルキル基、アリル基、アリルオキシ基、アリル−Ｃ1
    〜Ｃ2アルキル基、ヘテロアリル基、ヘテロアリルオキ
    シ基またはＣ1〜Ｃ8のアシル基を表す）で表されるエタ
    ナミドを反応させて一般式（４）、 【化２】 （式中、Ｙ、Ｒ1は前記に同じ）で表される中間体、ま
    たは一般式（５）、 【化３】 （式中、Ｙ、Ｒ2、Ｒ3は前記に同じ）で表される中間体
    を得て、次いでこれらの中間体の何れかを加水分解する
    ことからなる一般式（６）、 【化４】 （式中、Ｙは前記に同じ）で表されるビス（トリフルオ
    ロメチル）アセトフェノン類の製造方法。
  2. 【請求項２】パラジウム化合物とホスフィン類と塩基の
    存在下３０〜２００℃で、３，５−ビス（トリフルオロ
    メチル）ブロモベンゼンと一般式（７） ＣＨ2＝ＣＨ−ＯＲ4 （７） （式中、Ｒ4はＣ1〜Ｃ6のアルキル基を表す）で表され
    るビニルエーテルを反応させて３，５−ビス（トリフル
    オロメチル）１−アルコキシスチレンを得て、次いでこ
    れを加水分解することからなる３，５−ビス（トリフル
    オロメチル）アセトフェノンの製造方法。
JP11163730A 1999-06-10 1999-06-10 ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノン類の製造方法 Pending JP2000355566A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11163730A JP2000355566A (ja) 1999-06-10 1999-06-10 ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノン類の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11163730A JP2000355566A (ja) 1999-06-10 1999-06-10 ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノン類の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000355566A true JP2000355566A (ja) 2000-12-26

Family

ID=15779585

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11163730A Pending JP2000355566A (ja) 1999-06-10 1999-06-10 ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノン類の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000355566A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002173458A (ja) * 2000-12-04 2002-06-21 Asahi Glass Co Ltd トリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法
CN111302916A (zh) * 2020-03-18 2020-06-19 湖南复瑞生物医药技术有限责任公司 一种3,5-双三氟甲基苯乙酮的制备方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002173458A (ja) * 2000-12-04 2002-06-21 Asahi Glass Co Ltd トリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法
CN111302916A (zh) * 2020-03-18 2020-06-19 湖南复瑞生物医药技术有限责任公司 一种3,5-双三氟甲基苯乙酮的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0231694B2 (ja)
JP2000204076A (ja) アリ―ルピリジンの製造方法
JP2001081065A (ja) ［ビス−（トリフルオロメチル）−フェニル］−酢酸及びそのアルキルエステル及びジアルキル［ビス−（トリフルオロメチル）−フェニル］−マロネートを製造する方法
US6878663B2 (en) Method for producing palladium complex compound
JP5859807B2 (ja) 置換または非置換のトリフルオロメチル化アリールおよびヘテロアリール化合物を製造するための銅触媒による方法
US20050176987A1 (en) Method for producing vinyl, aryl and heteroaryl acetic acids and derivatives thereof
CN102753513A (zh) 制备芳基和杂芳基乙酸衍生物的方法
JP4649733B2 (ja) トリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法
JP2000191612A (ja) 安息香酸アミド類の製造方法
KR20040039430A (ko) (2-니트로페닐)아세토니트릴 유도체의 제조방법 및 그합성중간체
JP2000302697A (ja) ビフェニル誘導体の製造方法
JP2001302582A (ja) トリフルオロメチルフェニル酢酸の製造方法
AU5329800A (en) Process for the synthesis of 1-(3,5-bis(trifluoromethyl)-phenyl)ethan-1-one
JP2706554B2 (ja) ４―トリフルオロメチルアニリン誘導体及びその製造法
JP4131023B2 (ja) α，α−ビス（トリフルオロメチル）アリール酢酸エステルの製造法
ITMI990749A1 (it) Metodo per la sintesi di derivati dell'acido 2-4-metilfenil benzoico
JP2003055285A (ja) ４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４’−ハロゲノビフェニルおよびその製法、並びに４−ハロゲノ−４’−ヒドロキシビフェニルの製法
JP2001213816A (ja) ２−メチルフェニル基置換α，α，α−トリフルオロトルエンの製造方法
KR100639705B1 (ko) 1-메톡시-2-데옥시-엘-리보스의 제조방법
JP4435447B2 (ja) メトキシメチルトリアリールホスホニウムクロライドの製造法
JP2004067595A (ja) トリフルオロメチルフェニル安息香酸エステル誘導体の製造方法
JPH06239766A (ja) ビアリール化合物の製造方法
JP2001247563A (ja) ３−メチル−２−チオフェンカルボン酸類の製造方法
JP2008303170A (ja) ２−ｔ−アミロキシ−６−ハロナフタレンおよびその製造方法、ならびに２−ｔ−アミロキシ−６−ビニルナフタレンおよびその製造方法
JPH0841005A (ja) ４−フルオルアルコキシシンナモニトリル類の製法

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20060421

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060620

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060711

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20061107