JP2000356791A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JP2000356791A
JP2000356791A JP17034199A JP17034199A JP2000356791A JP 2000356791 A JP2000356791 A JP 2000356791A JP 17034199 A JP17034199 A JP 17034199A JP 17034199 A JP17034199 A JP 17034199A JP 2000356791 A JP2000356791 A JP 2000356791A
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Hiroyuki Takahashi
裕幸 高橋
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高速応答性を有し、かつ良好な表示状態の液
晶表示装置、特に反射型の液晶表示装置の提供。 【解決手段】 基板との界面での液晶分子と基板とのな
す角が、両基板において略等しくなるように配向処理が
施された一対の透明電極基板間に、液晶層厚の3/4倍
以上の自然ねじれピッチを有する、誘電異方性が正であ
るカイラルネマティック液晶層を挟持し、初期状態(電
圧を印加しない状態)における厚み方向への液晶分子の
ねじれ角をφとした場合に、液晶層に電圧を印加してフ
レデリクス転移を生じさせた後の緩和状態として、厚み
方向への液晶分子のねじれ角がφ−180°である第一
の配向状態と、φ+180°である第二の配向状態の2
つの準安定状態を有するように構成された液晶セルと、
該セルの両外側に配設された偏光板と、該偏光板のさら
に外側に配設された反射板を少なくとも有する液晶表示
装置であって、非画素部における液晶層の厚み(d)を
画素部における液晶層の厚みより小さく設定したことを
特徴とする液晶表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高速応答性を有
し、かつ良好な双安定性を有する反射型の液晶表示装置
に関する。
【0002】
【従来技術】高速応答性を有する液晶の動作モードとし
て、双安定性を有するBTN(Bistable Tw
isted Nematic、双安定ねじれネマティッ
ク)方式に関する多くの提案がこれまでになされてお
り、その中には走査電極群と信号電極群によって形成さ
れる画素を時分割駆動する液晶表示装置の提案も含まれ
ている。液晶分子の配向状態とそれに対応する光学的状
態に着目すると、画素部では駆動電圧パルスにより、
(初期ツイスト角−180°)のツイスト角を有する第
1の準安定状態と、(初期ツイスト角+180°)のツ
イスト角を有する第2の準安定状態のどちらかに変化
し、通常の偏光板の角度配置ではそれぞれ明状態と暗状
態を示すが、画素間を含む非画素部には電圧が印加され
ないために配向状態は初期ツイスト角のままであり、明
状態と暗状態の中間的な光学状態を示す。BTNを透過
型として用いる場合には前記非画素部からの光抜けによ
るコントラスト低下を防ぐために、非画素部に遮光層を
形成したり、または非画素部の液晶層の厚みを画素部の
液晶層の厚みよりも大きくすることによって、配向状態
(ツイスト角)を上記第二の準安定状態と同様にして暗
状態にするという提案もなされているが(特開平6−2
35920)、反射型モードを対象としたものでない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高速応答性
を有し、かつ良好な表示状態の液晶表示装置、特に反射
型の液晶表示装置を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
【0005】本発明の特徴は、前記課題を解決するため
に、基板との界面での液晶分子と基板とのなす角が、両
基板において略等しくなるように配向処理が施された一
対の透明電極基板間に、液晶層厚の3/4倍以上の自然
ねじれピッチを有する、誘電異方性が正であるカイラル
ネマティック液晶層を挟持し、初期状態(電圧を印加し
ない状態)における厚み方向への液晶分子のねじれ角を
φとした場合に、液晶層に電圧を印加してフレデリクス
転移を生じさせた後の緩和状態として、厚み方向への液
晶分子のねじれ角がφ−180°である第一の配向状態
と、φ+180°である第二の配向状態の2つの準安定
状態を有するように構成された液晶セルと、該セルの両
外側に配設された偏光板と、該偏光板のさらに外側に配
設された反射板を少なくとも有する液晶表示装置であっ
て、非画素部における液晶層の厚み(d)を画素部にお
ける液晶層の厚みより小さく設定したことを特徴とする
液晶表示装置を提供したことにある。
【0006】本発明の液晶表示装置の液晶セルにおいて
は、非画素部における液晶層の厚み(d)を、画素部に
おける液晶層の厚みよりも小さく設定することにより、
非画素部を常に光学的に明状態に保つことが可能とな
り、明るい反射型液晶表示装置が得られることを見出し
本発明に到達することができた。
【0007】上述の液晶表示装置の非画素部において、
液晶層の厚みを画素部における液晶層の厚みよりも小さ
くする手段としては、少なくとも一方の基板の透明電極
上の“両基板が重ね合わされて形成される画素”以外の
部分に、所定の厚みを有しかつ透明性が高い(透過率の
損失が少ない)絶縁性の構造物を設ければよい。具体的
には基板にフォトリソ法で透明電極を形成する場合に使
用するフォトマスクを用い、予め基板上に所定の厚みで
塗布した光硬化性樹脂材料(例えばアクリル系材料)層
に前記フォトマスクを用いて透明電極部分以外の部分が
硬化するように露光を行なった後に、未硬化部分を除去
することによって形成することができる。前記光硬化性
樹脂材料としてはモノアクリレート、あるいはジアクリ
レート、あるいは両者の混合物に重合開始剤を所定の濃
度で添加したものを用いることができる。露光光源とし
ては高圧水銀灯やメタルハライドランプ等が用いられ、
10mJ〜1J程度の露光量で露光すれば良い。未硬化
部分は適当な有機溶媒による洗浄で除去可能である。
【0008】前記透明性構造物は一方の基板のみに形成
してもよいし(一方の基板に、両基板用の2個のフォト
マスクを用いてそれぞれ露光を行なう)、両基板それぞ
れにその基板用のフォトマスクを用いて露光を行なって
透明性構造物を形成してもよい。ただし、後者の場合
(両基板それぞれに透明性構造物を形成する)、画素部
における液晶層の厚みの設定値が、非画素部における液
晶層の厚みの設定値の2倍以下であることが必要であ
る。そうでない場合は前者(一方の基板のみに透明性構
造物を形成)の方法を用いることになる。このようにし
て所定の厚みの透明性構造物を形成した基板上には配向
膜が形成されて配向処理が施され、スペーサを介して両
基板を重ね合わせて接着され、さらに乾燥後に液晶材料
が注入されることにより液晶セルを完成することができ
る。この液晶セルの両側に偏光板を所定の角度配置で配
設し、さらに一方の偏光板の外側に反射板を設けること
により液晶表示装置が完成される。
【0009】また、本発明者は、上述のBTN方式の液
晶表示素子において、種々のねじれ角および液晶層のリ
ターデーションを有する液晶表示装置を作製し、それぞ
れについて偏光板の角度配置と光学的状態の関係を詳細
に調べた結果、電圧を印加していない状態における配向
状態(液晶分子のツイスト角)はd/pと初期ツイスト
角(φ)に依存し、d/p<0.3+(φ−180°)
/300(φ:90°〜270°)においては、上に示
した偏光板の角度配置の場合、φ−180°ねじれの配
向状態で光学的に明状態、d/p>0.8+(φ−18
0°)/300においては、初期ツイス角+180°ね
じれの配向状態で光学的には暗状態、0.3+(φ−1
80°)/300≦d/p≦0.8+(φ−180°)
/300においては、初期ツイスト角のままの配向状態
であり、上述の明状態および暗状態の中間的な状態(ど
ちらかというと暗状態に近い)が得られること、また図
3を用いて後述する2つの準安定状態の選択は、もっと
も後者の、電圧を印加していない状態において初期ツイ
スト角のままの配向状態を有するd/p範囲内で行われ
ることになるので、表示装置における画素間を含む非画
素部も前述のd/p範囲内の値に設定され、光学的には
暗状態に近く、つまり反射型においては反射率が小さい
暗い状態になってしまう、と言うことを見出し、さらに
上述の表示装置をd/p<0.3+(φ−180°)/
300を満たすように設定することにより、非画素部の
配向状態を常に初期ツイスト角−180°ねじれの状態
(光学的には明状態)に保ち、さらに明るい反射型液晶
表示装置を得ることができた。
【0010】本発明のさらなる特徴は、上述の構成例に
示したような装置において各偏光板が液晶層よりも手前
側に位置するように配置した場合の、奥側から手前側へ
の液晶のねじれの方向を正として、各偏光板の光透過軸
を、それぞれ接設する基板のラビング方向に対していず
れも略(180°−φ)/2−50°あるいは略(18
0°−φ)/2+40°の角度をなすように配置するこ
とである。
【0011】本発明者は、上述の液晶表示装置につい
て、種々の初期ツイスト角と偏光板の角度配置と光学的
状態の関係を詳細に調べたところ、いずれの初期ツイス
ト角の設定においても、各偏光板が液晶層よりも手前側
に位置するように配置した場合の、奥側から手前側への
液晶のねじれの方向を正として、各偏光板の光透過軸
を、それぞれ接設する基板のラビング方向に対していず
れも略(180°−φ)/2−50°あるいは略(18
0°−φ)/2+40°の角度をなすように配置した場
合に、コントラスト比が最大になり、そして初期ツイス
ト角−180°ねじれの配向状態における明るさがかな
り明るくなり、したがって非画素部における液晶層の厚
みを、画素部における液晶層の厚みよりも小さくし、非
画素部の配向状態を常に初期ツイスト角−180°ねじ
れの状態(光学的には明状態)にした場合においても同
様にかなり明るい状態が得られることがわかった。
【0012】また、本発明者は上述の液晶表示装置につ
いて、種々の初期ツイスト角と初期ツイスト角−180
°ねじれの配向状態における明るさを調べたところ、上
述の偏光板角度配置において、φ(電圧を印加しない状
態における厚み方向への液晶分子のねじれ角:初期ツイ
スト角)が140°〜200°の場合にかなり明るい状
態が得られ、したがって非画素部における液晶層の厚み
を、画素部における液晶層の厚みよりも小さくし、非画
素部の配向状態を常に初期ツイスト角180°ねじれの
状態(光学的には明状態)にした場合においても同様に
かなり明るい状態が得られることがわかった。
【0013】そして上述の場合、初期ツイスト角が略1
70°の場合にコントラスト比および明るさが最大にな
り、またBTN方式において重要な特性である2つの準
安定配向状態間のスイッチングが正常に行われるd/p
範囲(d:液晶層の厚み、p:液晶の自然ねじれピッ
チ。このd/p範囲を動作マージンと呼ぶ。)も、この
場合に最大になることがわかった。前記略170°とは
170°±5°の範囲のものを言う。
【0014】本発明にかかるBTN(双安定ねじれネマ
ティック)方式の液晶表示装置の構成を図面に基づいて
さらに説明する。図1に、本発明にかかるBTN(双安
定ねじれネマティック)方式の液晶表示装置の1例を示
す。ただし、本発明は以下の図面のものに限定されな
い。下基板11と上基板12間に液晶層30が挟持され
ている。21と22は液晶層に電圧を印加するための透
明電極、31と32は液晶を配向させるための配向膜で
ある。41と42は偏光板である。また、51は反射板
である。ここで用いる液晶層は、液晶層厚の3/4倍以
上の自然ピッチを有する誘電異方性が正のカイラルネマ
ティック液晶である。
【0015】前記カイラルネマティック液晶は配向処理
が施された配向膜によって基板面からわずかに傾斜した
方向に配向させられる。この傾斜角は約2゜から30゜
程度が好ましい。傾斜角が前記範囲より小さい場合には
双安定動作が不安定になり良好なスイッチングが行えな
くなる。また、傾斜角が前記範囲より大きすぎる場合に
は、表示特性の視野角依存性が大きくなるという問題を
生ずる。両基板の配向処理方向は、所望の初期ツイスト
角に対応して設定される。また、2枚の偏光板は所定の
角度配置によって配設される。
【0016】次に、一般的なBTNのスイッチング動作
について説明する。駆動波形としては、フレデリクス転
移を生じさせるための電圧パルス(以下、リセットパル
スとも呼ぶ)と、それに続く、2つの準安定状態のうち
の一方を選択するための電圧パルス(以下、2ndパル
スと呼ぶ)が印加される。リセットパルスは、初期状態
から2つの準安定状態のうちの少なくとも一方に変化さ
せるのに要する電圧しきい値(Vth)以上の電圧パル
スであり、2ndパルスは、2つの準安定状態の間の臨
界値(Vc)を基準として選択される電圧パルスであ
る。
【0017】2ndパルス電圧が臨界値以下の場合、リ
セット状態(液晶分子の配列はホメオトロピック状態)
からの急激な緩和により生じるバックフローのため、液
晶分子は初期状態(電圧が印加されていない状態)から
さらに180゜多くねじれた準安定配向状態になる。一
方、2ndパルスの波高値がしきい値以上の場合は、前
記バックフローが抑制されるため、液晶分子はねじれが
初期状態より180゜小さい準安定状態になる。
【0018】例えば、初期ねじれ角が180゜の場合、
一方の偏光板の光透過軸がどちらかの基板のラビング方
向と45°の角度をなすように配設し、さらに他方の偏
光板の光透過軸が前記偏光板の光透過軸と直交するよう
に配設すると、初期ねじれ角より180°多くねじれた
準安定配向状態(この場合360°ねじれ)では反射光
強度が比較的小さな状態(暗状態)となり、一方、初期
ねじれ角より180°少なくねじれた準安定配向状態
(この場合0°ねじれ、つまりねじれなし)では反射光
強度が比較的大きな状態(明状態)となる。
【0019】各印加波形とそれに対する光学的応答を図
2に示す。図2(a)は単極性パルス波形で2ndパル
ス電圧が臨界値以下の場合、図2(b)は交流パルス波
形で2ndパルス電圧が臨界値以下の場合、図2(c)
は単極性パルス波形で2ndパルス電圧が臨界値以上の
場合、図2(d)は交流パルス波形で2ndパルス電圧
が臨界値以上の場合をそれぞれ示す。前記リセットパル
スおよび2ndパルスは交流パルスでも良いし、単極性
パルスでもよい。ただし、単極性パルスの場合は液晶層
に電荷が蓄積しないように周期的にその極性を変えて印
加したり、表示パネルを構成する走査電極1本あるいは
数本ごとに極性を変えて印加する必要がある。
【0020】図3にフレデリクス転移後に選択される準
安定状態に関するd/p(d:液晶層の厚み、p:液晶
の自然ねじれピッチ)と2ndパルス波高値の関係をモ
デル的に示した。リセットパルス条件およひ2ndパル
ス幅を固定した場合、フレデリクス転移後に選択される
準安定状態は、d/pおよび印加する波形条件に大きく
依存する。d/pについては、あるd/p値を境界とし
てd/pが大きい方の領域で略360°ねじれの準安定
状態、d/pが小さい方の領域で略0°の準安定状態と
なり、その境界d/p値は2ndパルス波高値によって
図3のような変化を示す。したがって図で液晶セルのd
/p値が前記d/p境界値を示すラインとの交点を臨界
値として、2ndパルス波高値をその臨界値よりも大き
い電圧にすれば略0°の準安定状態、臨界値よりも小さ
い電圧にすれは略360°ねじれの準安定状態が得ら
れ、2つの準安定状態を任意に選択することかできる。
以下、本発明の実施態様を示す。
【0021】
【実施態様】実施態様1 透明電極を有するガラス基板にポリイミドの配向膜(日
本合成ゴム製AL3046)を形成し、ラビングによる
配向処理を行なった。90°〜270°の範囲内で種々
の初期ツイスト角をもつように、基板の両端に設置した
2枚の厚みが異なるポリマーフィルムスペーサを介して
それぞれ重ね合わせた後、基板間の空隙に液晶を封入
し、セルギャップが連続的に変化する楔型の液晶セルを
作製した。液晶としては、メルク製のネマティツク液晶
ZLI1646(dn=0.0625)に右回りねじれ
を誘起するメルク製のカイラル剤S−811を添加して
ねじれピッチ(p)を3.1mmに調整した。この液晶
セルを挟むように2枚の偏光板を所定の角度で配設し
た。
【0022】この液晶セルに電圧を印加しない場合の、
液晶分子のツイスト角が不連続に変化する境界の位置の
セルギャップと液晶の自然ねじれピッチ(p)から、d
/p値を求めた。結果を図4に示す。図4で、各初期ツ
イスト角(φ)における、ねじれ角がφとφ−180°
の境界、およびφとφ+180°の境界を結ぶラインは
それぞれ、d/p=0.3+(φ−180°)/30
0、d/p=0.8+(φ−180°)/300で示さ
れる直線で表され、これは上述の液晶材料以外に数種の
異なる液晶材料でそれぞれ同様の実験を行なった場合、
結果はほとんど一致した。したがって、液晶層の厚み
(d)と、液晶の自然ねじれピッチ(p)、各初期ツイ
スト角(φ)が、d/p<0.3+(φ−180°)/
300を満たす条件にあれば、電圧を印加しない状態に
おいて液晶のねじれ角は常にφ−180°となり、一般
的な偏光板の角度配置において光学的に明状態を示すこ
とになる。以下、本発明の実施例を示す。
【0023】
【実施例】実施例1〜10、比較例1〜10 透明電極層(0.1mm厚)が形成された2枚のガラス
基板に、走査電極群用のフォトマスクおよび信号電極群
用のフォトマスクをそれぞれ用いてフォトリソ法によっ
て電極パターンを形成した(電極パターンは走査電極が
電極幅300μm、ピッチ330μmのストライプパタ
ーン、信号電極が電極幅90μm、ピッチ110μmの
ストライプパターン)。これらの基板上に、アクリル系
の光硬化樹脂材料(ジアクリレートに重合開始剤を3w
t%添加したもの)をスピンコートによって成膜し、高
圧水銀灯による露光後、未硬化部分をトルエンで除去し
た。これにより電極間部分に絶縁性透明構造物が形成さ
れた。該絶縁性透明構造物の高さについては、光硬化樹
脂材料のスピンコート条件により種々異なるものを作製
した。これらの基板上にさらに配向膜を形成し、ラビン
グによる配向処理を行なった後、2.0μmのビーズス
ペーサの散布、およびシール剤の印刷を経て、所望の初
期ツイスト角が得られるように両基板を重ね合わせて加
熱乾燥した。一方の基板の断面構造モデル図を図5に示
す。
【0024】この場合、各基板の電極パターンのフォト
マスクを用いてそれぞれの基板に絶縁性透明構造物を形
成したが、−方の基板に両方の電極パターンのフォトマ
スクを用いて順次露光を行ない、一方の基板にのみ絶縁
性透明構造物を形成してもよい。この場合の基板の断面
構造モデル図は図6のようになる。
【0025】その後、メルク製のネマティック液晶ZL
I1646(Δn=0.0625)に右回りねじれを誘
起するメルク製のカイラル剤S−811を添加して、そ
の添加濃度により所望のねじれピッチ(p)に調整した
液晶組成物を減圧注入して封止し、液晶セルを完成させ
た。これらのセルにおいて画素部のセルギャップはいず
れも2.1μmであり、2つの準安定配向状態を選択す
るための駆動波形をそれぞれ印加することにより、明状
態および暗状態のスイッチングが可能であった。非画素
部のギャップはそれぞれのセルにおける絶縁性透明構造
物の高さにより異なっている。
【0026】それぞれのセルにおける初期ツイスト角、
非画素部のギャップおよびd/p値、非画素部における
液晶分子のねじれ角および得られる光学的状態を表1お
よび表2に示す。いずれの初期ツイスト角においても、
非画素部のギャップ(d)と、液晶の自然ねじれピッチ
(p)、各初期ツイスト角(φ)が、d/p<0.3+
(φ−180°)/300を満たす場合、光学的状態は
明状態になって明るい反射型の液晶表示装置が得られる
ことが確認された。
【0027】
【表1】
【表2】
【0028】実施例11〜28 透明電極を有するガラス基板にポリイミドの配向膜(日
本合成ゴム製AL−3046)を形成し、ラビングによ
る配向処理を行なった。配向処理の方向は、90°〜2
70°の範囲内で種々の初期ツイスト角をもつように設
定され、それぞれ所定の粒径のシリカビーズスペーサを
散布後、一対の基板を重ね合わせた後、基板間の空隙に
液晶を封入して液晶セルを作製した。ここで、液晶層の
厚み(d)については、液晶分子の自然ねじれピッチ
(p)と初期ツイスト角(φ)に関し、d/p<0.3
+(φ−180°)/300の関係を満たすように設定
した。液晶としては、メルク製のネマティツク液晶ZL
I1646(Δn=0.0625)に右回りねじれを誘
起するメルク製のカイラル剤S−811を添加してねじ
れピッチ(p)を3.1μmに調整したものを用いた。
これらの液晶セルを挟むように2枚の偏光板を配置し、
一方の偏光板のさらに外側に反射板を配置した。各液晶
セルに電圧を印加しない状態で、表示面の法線方向と3
0°の角度をなす方向から測定光を入射させ、上記法線
方向への反射光強度を計測し、反射光強度が最大になる
偏光板角度配置を求めた。その結果を下表3に示す。
【0029】
【表3】
【0030】表3で、θpol.およびθana.は図
7に示した偏光板の角度配置を示す角度パラメータであ
る。この結果から、各初期ツイスト角において反射光強
度が最大になるのは、図7に示した偏光板の角度配置を
示す角度パラメータを用いた場合、θpol.およびθ
ana.がともに(180°−φ)/2+40°あるい
はθpol.およびθana.がともに(180°−
φ)/2−50°の場合であることが確認され、したが
って非画素部における液晶層の厚みを、画素部における
液晶層の厚みよりも小さくし、非画素部の配向状態を常
に初期ツイスト角−180°ねじれの状態(光学的には
明状態)にした場合においても、明るさが最大になるこ
とが確認された。
【0031】実施例29〜42、比較例11〜22 前記実施例における液晶セルと同様な作製工程で、種々
の初期ツイスト角を持ち、セルギャップ(d)、液晶分
子の自然ねじれピッチ(p)、初期ツイスト角(φ)に
関し、d/p<0.3+(φ−180°)/300の関
係を満たすように設定された液晶セルを作製し、これら
の液晶セルを挟むように2枚の偏光板を配置し、一方の
偏光板のさらに外側に反射板を配置した。2枚の偏光板
はそれぞれの液晶セルに対して、図7に示した角度パラ
メータ:θpol.およぴθana.がともに(180
°−φ)/2+40°、あるいはθpol.およびθa
na.がともに(180°−φ)/2−50°となるよ
うに配置し、各液晶セルに電圧を印加しない状態で、表
示面の法線方向と30°の角度をなす方向から測定光を
入射させ、上記法線方向への反射光強度を計測した。そ
の結果を下表4および表5に示す。なお、反射光強度
は、測定で得られた最大強度を100とした相対強度で
表したものである。この結果から、いずれの偏光板角度
配置方法においても、初期ツイスト角が140°〜20
0°の範囲において大きな反射光強度が得られることが
確認され、したがって非画素部における液晶層の厚み
を、画素部における液晶層の厚みよりも小さくし、非画
素部の配向状態を常に初期ツイスト角−180°ねじれ
の状態(光学的には明状態)にした場合においても、明
るさが最大になることが確認された。
【0032】
【表4】
【0033】
【表5】
【0034】実施例43〜44、比較例23〜46 前記実施例において、θpol.およびθana.がと
もに(180°−φ)/2+40°、あるいはθpo
l.およびθana.がともに(180°−φ)/2−
50°のいずれの偏光板角度配置においても、初期ツイ
スト角が略170°の場合に、得られる反射光強度が最
大になることが確認された。さらに、実施例冒頭に記載
した、種々の初期ツイスト角を有する、セルギャップが
連続的に変化する楔型の液晶セルを用い、これらの液晶
セルに、2つの準安定配向状態のそれぞれを選択するよ
うに設定された駆動波形を印加し、2つの状態の境界位
置のセルギャップ(d)とねじれピッチ(p)から、こ
の2種の波形によって2つの準安定配向状態の選択が可
能になるd/p範囲(d/pマージン)を計算した。そ
の結果を表6および表7に示す。この結果から初期ツイ
スト角:φがおよそ170°の場合にd/pマージンも
最大になることが確認された。
【0035】
【表6】
【0036】
【表7】
【0037】
【効果】1.請求項1および2 本発明によれば、高速応答性を有し、かつ明るい表示が
可能な反射型の液晶表示が可能となる。また、種々の初
期ツイスト角に対応でき、素子設計の自由度も広がる。
さらに、表示装置の非画素部の厚みが、初期ツイスト角
で決まるある値より小さければよいので、精密な厚みの
制御が不要であることも大きなメリットである。 2.請求項3 電圧印加により明状態を選択された画素部、および電圧
が印加されない、画素間を含む非画素部の明るさを向上
させることが可能となる。 3.請求項4 電圧印加により明状態を選択された画素部および電圧が
印加されない、画素間を含む非画素部の明るさを向上さ
せることが可能となる。 4.請求項5 電圧印加により明状態を選択された画素部、および電圧
が印加されない画素間を含む非画素部の明るさを向上さ
せるとともに、2つの準安定配向状態間のスイッチング
を正常に行なうための動作マージンを充分に確保するこ
とが可能になり、セルギャップマージンを拡大できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるBTN(双安定ねじれネマティ
ック)方式の液晶表示装置の一構成例を示す模式断面図
である。
【図2】各印加波形とそれに対する光学的応答を示す図
である。 図2(a)は単極性パルス波形で2ndパルス電圧が臨
界値以下の場合 図2(b)は交流パルス波形で2ndパルス電圧が臨界
値以下の場合 図2(c)は単極性パルス波形で2ndパルス電圧が臨
界値以上の場合 図2(d)は交流パルス波形で2ndパルス電圧が臨界
値以上の場合
【図3】選択される準安定状態に関するd/pと2nd
パルスの関係を示す図である。
【図4】d/p=0.3+(φ−180°)/300と
d/p=0.8+(φ−180°)/300で示される
直線を示す図である。
【図5】実施例1〜10、比較例1〜10の液晶セルの
一方の基板の断面構造モデル図である。
【図6】実施例1〜10、比較例1〜10の図5に示す
基板とは別の基板の断面構造モデル図である。
【図7】偏光板の光透過軸方向と基板のラビング方向を
示す図である。
【符号の説明】
11 下基板 12 上基板 21 液晶層に電圧を印加するための透明電極 22 液晶層に電圧を印加するための透明電極 30 液晶層 31 液晶を配向させるためための配向膜 32 液晶を配向させるためための配向膜 41 偏光板 42 偏光板 51 反射板 θpol. 下基板のラビング方向に対して下偏光板の
光透過軸がなす角度 θana. 上基板のラビング方向に対して上偏光板の
光透過軸がなす角度 φ 初期ねじれ角(φの矢印の向きは、奥側から手前へ
の液晶のねじれの方向を示す)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板との界面での液晶分子と基板とのな
    す角が、両基板において略等しくなるように配向処理が
    施された一対の透明電極基板間に、液晶層厚の3/4倍
    以上の自然ねじれピッチを有する、誘電異方性が正であ
    るカイラルネマティック液晶層を挟持し、初期状態(電
    圧を印加しない状態)における厚み方向への液晶分子の
    ねじれ角をφとした場合に、液晶層に電圧を印加してフ
    レデリクス転移を生じさせた後の緩和状態として、厚み
    方向への液晶分子のねじれ角がφ−180°である第一
    の配向状態と、φ+180°である第二の配向状態の2
    つの準安定状態を有するように構成された液晶セルと、
    該セルの両外側に配設された偏光板と、該偏光板のさら
    に外側に配設された反射板を少なくとも有する液晶表示
    装置であって、非画素部における液晶層の厚み(d)を
    画素部における液晶層の厚みより小さく設定したことを
    特徴とする液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 φが90°〜270°で、かつ液晶層の
    厚み(d)と液晶の自然ねじれピッチ(p)の比(d/
    p)が、下記(1)の要件を満足するものである請求項
    1記載の液晶表示装置。 【数1】 (d/p)<0.3+(φ−180°)/300 (1)
  3. 【請求項3】 各偏光板が液晶層よりも手前側に位置す
    るように配置した場合の奥側から手前側への液晶層のね
    じれの方向を正として、各偏光板の光透過軸を、該偏光
    板それぞれが接設する基板のラビング方向に対していず
    れも(180°−φ)/2+40°あるいは(180°
    −φ)/2−50°の角度をなすように配置されている
    請求項1〜2のいずれかに記載の液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 φが140°〜200°である請求項3
    記載の液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 φが170°±5°である請求項4記載
    の液晶表示装置。
  6. 【請求項6】 液晶表示装置が反射型である請求項1〜
    5のいずれかに記載の液晶表示装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005501295A (ja) * 2001-08-29 2005-01-13 ネモプティック 改善された光学マスクを備える双安定ネマチック液晶ディスプレイデバイス
CN100510858C (zh) * 2005-04-18 2009-07-08 胜华科技股份有限公司 一种双稳态液晶显示装置及其驱动方法

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