JP2000357309A - 磁気ヘッドの位置調整装置および磁気ヘッドの位置調整方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気ヘッドの高さ位置を微細な調整を加えな
がら適正に行うことができる磁気ヘッドの位置調整装置
および磁気ヘッドの位置調整方法を提供すること。 【解決手段】 ベース２２の外部エネルギー供給対象部
位２４０，２５０に対して、外部エネルギーを与えるこ
とにより最低単位の高さ位置の調整を行うことで、ベー
ス２２を曲げて回転体１２に対する磁気ヘッド２０の高
さ位置を調整するための外部エネルギー供給手段８２
と、外部エネルギー供給手段８２をベースの外部エネル
ギー供給対象部位の所定の位置に移動して位置決めする
位置決め手段８４と、外部エネルギー供給手段８２によ
り変化する磁気ヘッド２０の高さ位置を画像で取得し
て、取得した現在の磁気ヘッド２０の高さ位置と、予め
設定されている磁気ヘッド２０の目標高さと比較するこ
とにより、残りの必要な高さ位置の調整量を得るための
処理手段８６を備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録ヘッドや再生
ヘッド等の磁気ヘッドの位置調整装置および磁気ヘッド
の位置調整方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】帯状の情報記録媒体に対して、情報を記
録したり、帯状の情報記録媒体に記録されている情報を
再生するために、回転磁気記録再生装置（回転ヘッドド
ラム装置あるいは回転磁気ヘッド装置等とも呼ぶ）を用
いる。この種の回転ヘッドドラム装置の磁気ヘッドは、
帯状の情報記録媒体、すなわち磁気テープに対してたと
えばヘリカルスキャン方式により、磁気的に情報を記録
したりあるいは磁気テープの情報を再生することができ
る。従来の回転ヘッドドラム装置では、磁気テープに対
してフォーマットを記録再生する磁気ヘッドの高さ調整
は、いわゆるペアリング調整と呼ばれており、この磁気
ヘッドは、磁気ヘッドの搭載されている回転上ドラムに
対する高さ位置を調整する必要がある。回転ヘッドドラ
ム装置には、回転上ドラムと固定下ドラムを有する形式
のものや、上ドラム、下ドラムおよび中ドラムを有する
形式のものや、上ドラム、下ドラムおよびスキャナーを
有する形式のものがある。この中ドラムやあるいはスキ
ャナーが、上ドラムや下ドラムに対して回転するように
なっており、中ドラムあるいはスキャナーに対して記録
再生用の磁気ヘッドが搭載されている。

【０００３】図１８は、回転ヘッドドラム装置を示して
おり、この回転ヘッドドラム装置１０００は、回転上ド
ラム１００１と固定下ドラム１００２およびモータ１０
０３を備えている。固定下ドラム１００２は、磁気テー
プを案内するためのリード部１００４を有している。回
転上ドラム１００１は、軸１００５を中心として、固定
下ドラム１００２に対して連続回転するようになってい
る。回転上ドラム１００１は、磁気ヘッド１００６を備
えている。この磁気ヘッド１００６は、図１９（Ａ）に
示すように、ベース１００８の先端に固定されている。
ベース１００８は、ねじ１００７により回転上ドラム１
００１に固定されている。このベース１００８は、別の
ねじ１００９を回転させることにより、磁気ヘッド１０
０６の高さ位置をＶ方向に沿って調整することができ
る。このように図１９（Ａ）の例では、磁気ヘッド１０
０６は高さ調整用のねじ１００９を用いてＶ方向に高さ
位置の調整を行う。

【０００４】図１９（Ｂ）の別の従来例では、高さ調整
用のねじ１００９とベース１００８の間にボール１０１
０が配置されている。この例でもねじ１００９を操作す
ることにより、磁気ヘッド１００６は、Ｖ方向に高さ調
整できる。図１９（Ｃ）のさらに別の従来例では、回転
上ドラム１００１に穴１０１１が形成されている。この
穴１０１１には、上から工具を差し込むことで、ベース
１００８に設けられているねじ１０１２を回転させるよ
うになっている。このねじ１０１２を回転させることに
より、磁気ヘッド１００６は、Ｖ方向に高さ調整可能で
ある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した従
来の磁気ヘッド１００６の高さ位置の調整方式では、次
のような問題がある。ヘリカルスキャン記録では、記録
密度と転送レートの向上のため、挟トラック化、マルチ
ヘッド化、および回転上ドラムの高速回転化が進んでい
る。このため、磁気ヘッドの高さ調整の際には、サブミ
クロンの調整を短時間に行うことが求められている。し
かしながら、このようなねじによる調整では、１μｍ以
下の微調整が難しい。また、高さ調整ねじ頭の偏芯や作
業時の弾性変形により、軸受けや回転上ドラムなどの構
造物に撓みが生じ、作業性が悪いという問題がある。

【０００６】磁気ヘッドのベースの先端を外部エネルギ
ー源（レーザ光など）により加熱して熱歪みを与えるこ
とにより行うヘッド高さ調整は、押しねじによる調整に
比べ、調整量を少くできるが、下記のような問題があっ
た。 （１）１度調整に使用して溶融させてしまった部分に、
エネルギーを与えても変化が起きない。 （２）目標量に対して高さ調整量の不足分のエネルギー
を与えていくことを繰り返して調整することで、調整最
低単位づつヘッド高さを送っていくステップ的な調整が
不可能である。 そこで、作業性能率がよく微調整量が管理できる調整シ
ステムの確立が望まれていた。本発明は上記課題を解消
し、磁気ヘッドの高さ位置を微細な調整を加えながら適
正に行うことができる磁気ヘッドの位置調整装置および
磁気ヘッドの位置調整方法を提供することを目的として
いる。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、磁気
ヘッドと前記磁気ヘッドを支持するベースを有する回転
体を回転することにより、帯状の記録媒体に対して移動
されるようになっている前記磁気ヘッドの前記回転体に
おける高さ位置を調整するための磁気ヘッドの位置調整
装置であり、前記ベースの外部エネルギー供給対象部位
に対して、外部エネルギーを与えることにより最低単位
の高さ位置の調整を行うことで、前記ベースを曲げて前
記回転体に対する前記磁気ヘッドの高さ位置を調整する
ための外部エネルギー供給手段と、前記外部エネルギー
供給手段を前記ベースの外部エネルギー供給対象部位の
所定の位置に移動して位置決めする位置決め手段と、前
記外部エネルギー供給手段により変化する前記磁気ヘッ
ドの高さ位置を画像で取得して、取得した現在の前記磁
気ヘッドの高さ位置と、予め設定されている磁気ヘッド
の目標高さと比較することにより、残りの必要な高さ位
置の調整量を得るための処理手段と、を備えることを特
徴とする磁気ヘッドの位置調整装置である。

【０００８】請求項１では、外部エネルギー供給手段
が、ベースの外部エネルギー供給対象部位に対して、外
部エネルギーを与えることにより最低単位の高さ位置の
調整を行うことで、ベースを曲げて回転体に対する磁気
ヘッドの高さ位置を調整する。位置決め手段は、外部エ
ネルギー供給手段をベースの外部エネルギー供給対象部
位の所定の位置に移動して位置決めする。処理手段は、
外部エネルギー供給手段により変化する磁気ヘッドの高
さ位置を画像で取得して、取得した現在の磁気ヘッドの
高さ位置と、予め設定されている磁気ヘッドの目標高さ
と比較することにより、残りの必要な高さ位置の調整量
を得る。これにより、残りの必要な高さ位置の調整量を
確認しながら、磁気ヘッドの高さ位置を適正に調整して
効率よく設定することができる。

【０００９】請求項２の発明は、請求項１に記載の磁気
ヘッドの位置調整装置において、前記最低単位の高さ位
置の調整は、粗調整と微調整を有し、前記ベースの外部
エネルギー供給対象部位は、前記粗調整用の対象部位
と、前記微調整用の対象部位を含む。請求項２では、最
低単位の高さ位置の調整が、粗調整と微調整を有してい
るので、必要に応じて粗調整と微調整を組み合わせるこ
とにより、磁気ヘッドの高さ位置の調整を的確に行うこ
とができる。

【００１０】請求項３の発明は、請求項２に記載の磁気
ヘッドの位置調整装置において、前記外部エネルギー供
給手段は、レーザ光を発生するレーザ光発生装置であ
り、前記レーザ光は、前記粗調整用の対象部位と前記微
調整用の対象部位を消失させる。請求項３では、レーザ
光を用いることにより粗調整用の対象部位と微調整用の
対象部位を適宜消失させることで、磁気ヘッドの高さ位
置の調整を的確に行うことができる。

【００１１】請求項４の発明は、請求項３に記載の磁気
ヘッドの位置調整装置において、前記粗調整用の対象部
位は、前記ベースに配列された凹部を形成する凸部であ
り、前記微調整用の対象部位は、前記ベースに配列され
た凹部を形成する凸部である。請求項４では、凸部に対
してレーザ光を照射することにより凸部の一部を消失さ
せれば、磁気ヘッドの高さ位置の調整を周りの部分に影
響を与えずに的確に行うことができる。

【００１２】請求項５の発明は、請求項４に記載の磁気
ヘッドの位置調整装置において、前記位置決め手段は、
前記外部エネルギー供給手段を、前記粗調整用の対象部
位用の凸部の配列ピッチ分、あるいは前記微調整用の対
象部位用の凸部の配列ピッチ分移動させる。請求項５で
は、位置決め手段が外部エネルギー供給手段を凸部の配
列ピッチ分づつ動かすことができるので、磁気ヘッドの
高さ調整作業において必要な調整分に対応して、消失さ
せようとする凸部に対して、外部エネルギー供給手段を
的確に移動させることができる。これにより段階的に正
しい磁気ヘッドの位置を調整してゆくことができる。

【００１３】請求項６の発明は、請求項４に記載の磁気
ヘッドの位置調整装置において、前記粗調整用の対象部
位用の凸部は、前記磁気ヘッドから離れた位置に配置さ
れており、前記微調整用の対象部位用の凸部は、前記磁
気ヘッドに近い位置に配置されており、前記位置決め手
段は、前記外部エネルギー供給手段を、前記粗調整用の
対象部位用の凸部と、前記微調整用の対象部位用の凸部
との間で移動して位置決め可能である。請求項６では、
粗調整用の凸部が磁気ヘッドから離れた位置に配置さ
れ、微調整用の凸部が磁気ヘッドの近い位置に配置され
ている。これにより、外部エネルギーを粗調整用の凸部
に供給することで磁気ヘッドの高さ位置の粗調整を行う
ことができ、外部エネルギーを微調整用の凸部に供給す
ることで、磁気ヘッドの高さ位置の微調整を行うことが
できる。この際に、位置決め手段は、外部エネルギー供
給手段を、微調整用の凸部、粗調整用の凸部のいずれに
も移動して位置決めさせることができる。これにより段
階的に正しい磁気ヘッドの位置を調整してゆくことがで
きる。

【００１４】請求項７の発明は、磁気ヘッドと前記磁気
ヘッドを支持するベースを有する回転体を回転すること
により、帯状の記録媒体に対して移動されるようになっ
ている前記磁気ヘッドの前記回転体における高さ位置を
調整するための磁気ヘッドの位置調整方法であり、前記
ベースの外部エネルギー供給対象部位に対して、外部エ
ネルギー供給手段から外部エネルギーを与えることによ
り最低単位の高さ位置の調整を行うことで、前記ベース
を曲げて前記回転体に対する前記磁気ヘッドの高さ位置
を調整する際に、位置決め手段を用いて、前記外部エネ
ルギー供給手段を前記ベースの外部エネルギー供給対象
部位の所定の位置に移動して位置決めし、前記外部エネ
ルギー供給手段により変化する前記磁気ヘッドの高さ位
置を画像で取得して、取得した現在の前記磁気ヘッドの
高さ位置と、予め設定されている磁気ヘッドの目標高さ
と比較することにより、残りの必要な高さ位置の調整量
を得る、ことを特徴とする磁気ヘッドの位置調整方法で
ある。

【００１５】請求項７では、外部エネルギー供給手段
が、ベースの外部エネルギー供給対象部位に対して、外
部エネルギーを与えることにより最低単位の高さ位置の
調整を行うことで、ベースを曲げて回転体に対する磁気
ヘッドの高さ位置を調整する。位置決め手段は、外部エ
ネルギー供給手段をベースの外部エネルギー供給対象部
位の所定の位置に移動して位置決めする。処理手段は、
外部エネルギー供給手段により変化する磁気ヘッドの高
さ位置を画像で取得して、取得した現在の磁気ヘッドの
高さ位置と、予め設定されている磁気ヘッドの目標高さ
と比較することにより、残りの必要な高さ位置の調整量
を得る。これにより、磁気ヘッドの高さ位置を適正に調
整して効率よく設定することができる。

【００１６】請求項８の発明は、請求項７に記載の磁気
ヘッドの位置調整方法において、前記最低単位の高さ位
置の調整は、粗調整と微調整を有し、前記ベースの外部
エネルギー供給対象部位は、前記粗調整用の対象部位
と、前記微調整用の対象部位を含む。請求項８では、最
低単位の高さ位置の調整が、粗調整と微調整を有してい
るので、必要に応じて粗調整と微調整を組み合わせるこ
とにより、磁気ヘッドの高さ位置の調整を的確に行うこ
とができる。

【００１７】請求項９の発明は、請求項８に記載の磁気
ヘッドの位置調整方法において、前記外部エネルギー供
給手段は、レーザ光を発生するレーザ光発生装置であ
り、前記レーザ光は、前記粗調整用の対象部位と前記微
調整用の対象部位を消失させる。請求項９では、レーザ
光を用いることにより粗調整用の対象部位と微調整用の
対象部位を適宜消失させることで、磁気ヘッドの高さ位
置の調整を的確に行うことができる。

【００１８】請求項１０の発明は、請求項７に記載の磁
気ヘッドの位置調整方法において、前記粗調整用の対象
部位は、前記ベースに配列された凹部を形成する凸部で
あり、前記微調整用の対象部位は、前記ベースに配列さ
れた凹部を形成する凸部である。請求項１０では、凸部
に対してレーザ光を照射することにより凸部の一部を消
失させれば、磁気ヘッドの高さ位置の調整を周りの部分
に影響を与えずに的確に行うことができる。

【００１９】請求項１１の発明は、請求項１０に記載の
磁気ヘッドの位置調整方法において、前記位置決め手段
は、前記外部エネルギー供給手段を、前記粗調整用の対
象部位用の凸部の配列ピッチ分、あるいは前記微調整用
の対象部位用の凸部の配列ピッチ分移動させる。請求項
１１では、位置決め手段が外部エネルギー供給手段を凸
部の配列ピッチ分づつ動かすことができるので、磁気ヘ
ッドの高さ調整作業において必要な調整分に対応して、
消失させようとする凸部に対して、外部エネルギー供給
手段を的確に移動させることができる。これにより段階
的に正しい磁気ヘッドの位置を調整してゆくことができ
る。

【００２０】請求項１２の発明は、請求項１０に記載の
磁気ヘッドの位置調整方法において、前記粗調整用の対
象部位用の凸部は、前記磁気ヘッドから離れた位置に配
置されており、前記微調整用の対象部位用の凸部は、前
記磁気ヘッドに近い位置に配置されており、前記位置決
め手段は、前記外部エネルギー供給手段を、前記粗調整
用の対象部位用の凸部と、前記微調整用の対象部位用の
凸部との間で移動して位置決め可能である。請求項１２
では、粗調整用の凸部が磁気ヘッドから離れた位置に配
置され、微調整用の凸部が磁気ヘッドの近い位置に配置
されている。これにより、外部エネルギーを粗調整用の
凸部に供給することで磁気ヘッドの高さ位置の粗調整を
行うことができ、外部エネルギーを微調整用の凸部に供
給することで、磁気ヘッドの高さ位置の微調整を行うこ
とができる。この際に、位置決め手段は、外部エネルギ
ー供給手段を、微調整用の凸部、粗調整用の凸部のいず
れにも移動して位置決めさせることができる。これによ
り段階的に正しい磁気ヘッドの位置を調整してゆくこと
ができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、
技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明
の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨
の記載がない限り、これらの形態に限られるものではな
い。

【００２２】図１と図２は、本発明の磁気ヘッドの位置
調整装置により、磁気ヘッドの高さ調整を行う対象であ
る回転ヘッドドラム装置１０を示している。図１は、こ
の回転ヘッドドラム装置１０の軸方向の断面図であり、
図２は、回転ヘッドドラム装置１０の平面図である。図
１において、回転ヘッドドラム装置１０は、回転上ドラ
ム（回転体）１２と固定下ドラム１４およびモータ１６
を有している。回転上ドラム１２は、回転ドラムあるい
は上ドラム等と呼ばれており、本発明における回転体で
ある。固定下ドラム１４は、固定ドラムあるいは下ドラ
ム等とも呼ばれている。回転上ドラム１２は、軸１８の
上部に圧入等により固定されている。回転上ドラム１２
は、一つまたは複数の磁気ヘッド２０を有している。こ
の磁気ヘッド２０は、ヘッドベース２２に固定されてい
る。ヘッドベース２２は、ねじ２４により、回転上ドラ
ム１２の下側に固定されている。回転上ドラム１２は、
ねじ２４付近に穴２６を有している。この穴２６は、後
で説明するレーザ光Ｌをヘッドベース２２に対して通す
ための穴である。

【００２３】図２に示すように磁気ヘッド２０は、たと
えば９０度毎に４箇所設けられている。従って、ねじ２
４も４箇所設けられており、穴２６も回転上ドラム１２
の４箇所に設けられている。これらの磁気ヘッド２０
は、記録用の磁気ヘッドであったり、再生用の磁気ヘッ
ドであったりあるいは記録再生用の磁気ヘッドであった
りするが、その機種により磁気ヘッドの機能が選択して
設定される。図１の固定下ドラム１４は、サポート部３
０を有している。このサポート部３０の中にはベアリン
グ３２が配置されており、これらのベアリング３２は、
回転上ドラム１２の軸１８を回転可能に支持している。
固定下ドラム１４の周囲面には、磁気テープを磁気ヘッ
ド２０の付近に案内するためのリード部３４が形成され
ている。

【００２４】モータ１６はロータ３４とステータ３６を
有している。ステータ３６は固定下ドラム１４と一体に
設けられている。ステータ３６は鉄芯に巻かれたコイル
３８を有している。ロータ３４はロータヨーク４０、ボ
ス４２、マグネット４４を有している。ボス４２は軸１
８の下端部に圧入等により固定されている。ロータヨー
ク４０は磁性材料により作られておりボス４２にカシメ
等により固定されている。ロータヨーク４０の外周部の
内側には、駆動用のマグネット４４が配置されている。
この駆動用のマグネット４４は、Ｓ極とＮ極が交互に多
極着磁されたたとえばプラスチックマグネットである。

【００２５】これによりステータ基板４６を介して外部
からコイル３８に対して通電することにより、コイル３
８が発生する磁気とマグネット４４の磁気が相互に作用
して、ロータ３４がステータ３６に対して回転する。こ
のロータ３４の回転により、回転上ドラム１２が軸１８
を中心として固定下ドラム１４に対して連続回転するよ
うになっている。回転上ドラム１２が連続回転すること
で、磁気ヘッド２０が磁気テープＴに対して、いわゆる
ヘリカルスキャン方式で走行して、磁気テープＴに対し
て磁気的に情報を記録したり、あるいは磁気テープＴの
情報を磁気的に再生することができる。

【００２６】回転上ドラム１２は、ロータリトランスの
ロータコア５０を有している。固定下ドラム１４は、ロ
ータリトランスのステータコア５２を有している。ロー
タコア５０とステータコア５２の間では、磁気的に非接
触で信号のやり取りを行う。たとえば磁気ヘッド２０で
磁気テープＴに対して記録する記録信号は、外部からス
テータコア５２、ロータコア５０を介して磁気ヘッド２
０に供給される。また磁気テープＴの情報を磁気ヘッド
２０が再生する場合には、再生信号は磁気ヘッド２０か
らロータコア５０を介してステータコア５２を通じて外
部に供給される。図１と図２に示す回転ヘッドドラム装
置１０は、回転上ドラム１２と固定下ドラム１４を有す
る、いわゆる２ドラム形式のものである。しかし、これ
に限らず、中ドラムあるいはスキャナーが回転し、上ド
ラムと下ドラムが固定されている、いわゆる３層式の回
転ヘッドドラム装置であっても勿論構わない。

【００２７】次に、図３は、図１と図２に示す回転ヘッ
ドドラム装置１０における磁気ヘッド２０のＶ方向に関
する位置の調整装置の好ましい実施の形態を示してい
る。この磁気ヘッドの高さの調整はベアリング調整とも
呼んでおり、回転ヘッドドラム装置１０は、ドラムベー
ス７０に設定されるようになっている。固定下ドラム１
４がドラムベース７０に対して着脱可能に固定されてい
る。図３に示す磁気ヘッドの位置調整装置８０は、次の
ような構成になっている。この磁気ヘッドの位置調整装
置８０は、概略的には外部エネルギー供給手段８２、位
置決め手段８４、処理手段８６、メインベース８８、ド
ラムベース７０および回転上ドラムのインデックス手段
９０を有している。

【００２８】図３のインデックス手段９０について説明
する。インデックス手段９０は、ドラムベース７０に搭
載されている回転ヘッドドラム装置１０の回転上ドラム
１２を回転することにより、高さ位置を調整しようとす
る磁気ヘッド２０を、処理手段８６の対物レンズ９２に
対してインデックスするための装置である。このために
インデックス手段９０は、ヘッドインデックスモータ９
４、ローラ９６、インデックスモータドライバ９８を有
している。ヘッドインデックスモータ９４は、ドラムベ
ース７０の上に搭載されており、ヘッドインデックスモ
ータ９４はローラ９６を回転することで、回転上ドラム
１２を軸１８を中心としてインデックスする。インデッ
クスモータドライバ９８は、演算および制御部１００か
らの指令に基づいて、ヘッドインデックスモータ９４を
ドライブする。

【００２９】図３の外部エネルギー供給手段８２は、レ
ーザ制御部１０２、発信器１０４、照射ノズル１０６を
有している。レーザ制御部１０２は、処理手段８６の演
算および制御部１００からの指令に基づいて、発信器１
０４を動作させる。発信器１０４が動作すると、照射ノ
ズル１０６からレーザ光Ｌを垂直下向きに照射させる。

【００３０】ここで、このレーザ光Ｌの種類の一例につ
いて説明する。図１に示す磁気ヘッド２０のヘッドベー
ス２２の材質は、たとえば真ちゅう、アルミニウム、ス
テンレス等である。一例として、そのヘッドベース２２
の幅がたとえば４ｍｍで、厚みが０．６ｍｍであるとす
ると、たとえばレーザとしては、ＹＡＧレーザを使用す
ることができる。この場合のレーザ光Ｌを発振する場合
のパルス幅ｔは、たとえば１ｍｓであり、レーザ光Ｌの
スポット径は０．３ｍｍである。これらの条件の元に、
実際に高さ調整を行う前の前処理として、レーザ光のエ
ネルギーを０．０１Ｊ／Ｐで照射することで埃等を除去
する。その後、ヘッドベース２２に対して、磁気ヘッド
２０の必要とする高さ調整に応じたレーザ光のエネルギ
ーを照射する。たとえばヘッドベース２２の先端から３
ｍｍの距離の位置にレーザ光Ｌを照射する場合には、磁
気ヘッド２０の高さ調整幅が１．５μｍならば約１Ｊ／
Ｐのエネルギーを照射してやればよい。

【００３１】図４には、ヘッドベース２２の材料がＣ２
６８０−１／２Ｈの場合と、ＳＵＳ３０４−２Ｂの場合
の、ベース厚さに対する変形量の例を示している。な
お、図４の例は平坦なヘッドベースの場合を示してお
り、後で説明するスリワリ溝が付いたヘッドベース２２
を使用する場合には、図４（１）あるいは図４（２）の
変形量を達成するには、使用するエネルギーは図４
（１）又は図４（２）の約６〜７割程度で済む。

【００３２】次に、図３の位置決め手段８４について説
明する。位置決め手段８４は、図３と図５に示すよう
に、ＸＹステージドライバ１１０、Ｘステージ１１２、
Ｙステージ１１４を有している。Ｘステージ１１２は、
固定部１１６のレール１１８に配置されている。モータ
１２０が作動すると、Ｘステージ１１２は、レール１１
８に沿って、Ｘ方向に移動して位置決め可能である。Ｙ
ステージ１１４は、Ｘステージ１１２のレール１２２に
配置されている。モータ１２４が作動すると、Ｙステー
ジ１１４は、レール１２２に沿って移動して位置決め可
能である。レーザ光Ｌの照射ノズル１０６は、このＹス
テージ１１４に取り付けられており、レーザ光Ｌはこの
照射ノズル１０６から垂直下方向（Ｚ方向）に照射され
る。照射されたレーザ光Ｌは、図５のように回転上ドラ
ム１２のインデックス済みのヘッドベース２２の所定位
置に対して穴２６を通って直接照射される。ヘッドベー
ス２２の外部エネルギー供給対象部位（ヘッドベース２
２の上面）２２Ａは、穴２６を介してＣＣＤカメラ（電
荷結合素子カメラ）１３０により映像を取得できるよう
になっている。ＣＣＤカメラ１３０により得たヘッドベ
ース２２の上面２２Ａの状態は、モニター１３２により
拡大して表示される。

【００３３】次に、図３の処理手段８６について説明す
る。この処理手段８６は、演算および制御部１００、画
像処理部１４０、画像取り込み部１４２、ＣＣＤドライ
バ１４４、モニター１４６、ＣＣＤカメラ１４８、鏡筒
部１５０、オートフォーカスステージ１５２、対物レン
ズ９２、ステージドライバ１５４および光源１５６を有
している。対物レンズ９２は、インデックスされた磁気
ヘッド２０のヘッド摺動面１７０を光学的に捕らえるレ
ンズである。対物レンズ９２で捕らえた磁気ヘッド２０
のヘッド摺動面の映像は、鏡筒部１５０を介してＣＣＤ
カメラ１８４において、光／電気変換されて、ＣＣＤド
ライバ１４４により、モニター１４６に拡大表示され
る。モニター１４６基準ラインＬＬのところには、磁気
ヘッド２０のヘッド摺動面１７０が表示される。

【００３４】光源１５６は、鏡筒部１５０を介して対物
レンズ９２より磁気ヘッド２０のヘッド摺動面１７０に
対して光を供給する。鏡筒部１５０とＣＣＤカメラ１４
８は、オートフォーカスステージ１５２に搭載されてい
る。オートフォーカスステージ１５２は、メインベース
８８に対して、モータ１５２Ａを作動することで、鏡筒
部１５０とＣＣＤカメラ１４８をＸ方向に移動して位置
決めする。これにより対物レンズ９２の焦点がヘッド摺
動面１７０に合うようにする。演算および制御部１００
は、ステージドライバ１５４に指令を与えると、ステー
ジドライバ１５４はこのモータ１５２Ａを作動させて、
オートフォーカス動作をさせる。ＣＣＤドライバ１４４
からの映像信号は、画像取り込み部１４２を介して画像
処理部１４０と演算および制御部１００に対して供給さ
れる。

【００３５】図６は、図１あるいは図５に示すヘッドベ
ース２２および磁気ヘッドの形状の一例を示している。
ヘッドベース２２は、広い部分２００と狭い部分２１０
を有している。広い部分２００と狭い部分２１０は、上
面２２Ａを形成している。狭い部分２１０は広い部分２
００に対するオーバハング部分である。ヘッドベース２
２の狭い部分２１０の先端部には、ヘッドチップである
磁気ヘッド２０が接着等により固定されている。ヘッド
ベース２２の狭い部分２１０には、粗調整用の外部エネ
ルギー供給対象部位２４０と微調整用の外部エネルギー
供給対象部位２５０を有している。外部エネルギー供給
対象部位２４０は、粗調整用の複数のスリワリ２４１を
有している。同様にして微調整用の外部エネルギー供給
対象部位２５０には複数のスリワリ２５１が形成されて
いる。これらのスリワリ２４１，２５１は、同じ大きさ
の溝であり、図７に示すＡ−Ａ線断面図のように、同じ
ピッチＰで形成されている。スリワリ２４１は粗調整用
の凹部であり、スリワリ２５１は微調整用の凹部であ
る。隣接するスリワリ２４１，２４１は、凸部２６１に
より区分されている。同様にして隣接するスリワリ２５
１，２５１も、凸部２７１により区分されている。スリ
ワリ２４１，２５１は、図８に示すようにたとえば同じ
幅ｗと同じ長さｅおよび同じ深さｆを有している。

【００３６】図６の広い部分２００には、ヘッドベース
取り付け穴３００を有している。広い部分２００の取り
付け面２００Ａは、図９と図１０に示すように、回転上
ドラム１２の下面１２Ｅに対して、座金１２Ｆを介して
固定されている。図６のように、粗調整用のスリワリ２
４１は、磁気ヘッド２０から離れた位置に形成されてい
る。これに対して、微調整用のスリワリ２５１は磁気ヘ
ッド２０に対して近い位置に形成されている。このよう
にするのは、粗調整用のスリワリ２４１の間の凸部２６
１をレーザ光Ｌで消失させることにより、図９に示すよ
うに磁気ヘッド２０を大きい最低単位の変化量Ｄ１で高
さ位置調整できるようにするためである。これに対し
て、微調整用のスリワリ２５１側の凸部２７１に対して
レーザ光Ｌを照射することにより、図９に示す大きい変
化量Ｄ１に比べて、小さい最低単位の変化量Ｄ２の分だ
け、磁気ヘッド２０を高さ調整させる。

【００３７】図１１は、スリワリ２４１，２５１および
凸部２６１，２７１の例を示している。凸部２６１は、
たとえば凸部２６１Ａ，２６１Ｂ，２６１Ｃ，２６１
Ｄ，２６１Ｅを有している。同様にして凸部２７１は、
凸部２７１Ａ，凸部２７１Ｂ，凸部２７１Ｃ，凸部２７
１Ｄ，凸部２７１Ｅを有している。図１２は、図３の位
置決め手段８４を操作することにより、照射ノズル１０
６をＸ方向に沿って、凸部１６１と凸部１７１に各々位
置決めしている例を示している。図１３は、図３の位置
決め手段８４を用いて、照射ノズル１０６のレーザ光Ｌ
を、凸部に対応して所定のピッチｐ毎に移動している例
を示している。

【００３８】図１４は、粗調整用のスリワリ２４１側の
凸部２６１に対して、レーザ光Ｌを照射する様子を示し
ている。図１４（Ａ）のようなヘッドベース２２の粗調
整用の凸部２６１Ａに対してレーザ光Ｌを図１４（Ｂ）
のように照射すると、図１４（Ｃ）のように、凸部２６
１Ａには消失部分３５０が形成される。これにより、図
９に示すような粗調整による磁気ヘッド２０の大きい最
低単位の変化量Ｄ１を設定することができる。

【００３９】また図１５（Ａ）は、粗調整用の凸部２７
１Ａに対してレーザ光Ｌを照射した例を示している。こ
の場合においても、図１５（Ｂ）および図１５（Ｃ）に
示すように、凸部２７１Ａには、消失部分３７０が形成
されることになる。このような消失部分３７０が形成さ
れると、図１０に示すように磁気ヘッド２０の高さの微
調整を行うための小さい最低単位の変化量Ｄ２を設定す
ることができる。

【００４０】次に、上述した磁気ヘッドの位置調整装置
により、磁気ヘッドの高さの位置の調整を行う例を説明
する。なお、図５に示すモータ１２０，１２４は、たと
えばステッピングモータを使用することができる。図３
のＣＣＤカメラ１４８は、高解像度のものであり、たと
えば画素数が１００万以上であるのが望ましい。

【００４１】図１７を参照しながら、磁気ヘッド２０の
高さ位置の調整方法について説明する。図３に示すよう
に、すでに回転上ドラム１２の磁気ヘッド２０が、イン
デックスされて対物レンズ９２に対面している。これに
より、対物レンズ９２は磁気ヘッド２０の摺動面１７０
をモニター１４６に表示させることができる。図１７の
ステップＳ１では、磁気ヘッド２０のヘッド摺動面１７
０の基準位置の検出を行う。すなわちヘッド摺動面１７
０が対物レンズ９２を介してＣＣＤカメラ１４８に取り
込まれる。ＣＣＤカメラ１４８は、光／電気変換して画
像信号をＣＣＤドライバ１４４を通じてモニター１４６
にヘッド摺動面１７０を表示させるとともに、ヘッド摺
動面１７０の位置情報を画像取り込み部１４２を介して
画像処理部１４０と演算および制御部１００に対して供
給する。

【００４２】モニター１４６に表示されたヘッド摺動面
１７０は、作業者が目視観察するために用いる。ステッ
プＳ２において、画像処理部１４０は、磁気ヘッド２０
の基準位置となるヘッド摺動面１７０の下エッジ１７１
の位置検出を行う。画像処理部で検出した下エッジ１７
１の画素の位置から演算部は、下エッジ１７１と基準ラ
インＬＬ間における磁気ヘッドの高さｈを算出する。こ
の磁気ヘッド２０の高さｈと、予め定められている高さ
位置の目標値の差から、次に調整すべき磁気ヘッドの高
さ調整量を、演算および制御部１００が算出して、演算
および制御部１００は、それに基づいて、レーザ制御部
１０２、ＸＹステージドライバ１１０等に指令を与えて
さらに磁気ヘッド２０の高さ調整を追加して行うのであ
る。

【００４３】この時に、図１６に示すように、予め実験
的に図６に示す粗調整用の外部エネルギー供給対象部位
２４０と微調整用の外部エネルギー供給対象部位２５０
に対してそれぞれレーザ光Ｌを照射した時の、磁気ヘッ
ドの高さの変化量（図９と図１０に示す大きい最低単位
の変化量Ｄ１と小さい最低単位の変化量Ｄ２）をそれぞ
れ求めてある。図１６（１）では、粗調整部での変化量
が、調整すべき調整量よりも小さいと、粗調整作業を行
う。図１６（２）のように、微調整部での変化量Ｄ２
が、調整すべき調整量よりも小さく、粗調整部での変化
量Ｄ１が調整すべき調整量よりも大きい場合には、微調
整作業を行う。図１６（３）のように、調整すべき調整
量が、微調整部での変化量Ｄ２よりも小さい場合には、
調整を行うことができないので調整を中止する。図１６
に示す手順で、磁気ヘッド２０の高さ位置は予め定めら
れている正しい高さ位置に追い込んでいくのである。

【００４４】図１７のステップＳ２において、上述した
ように磁気ヘッドの高さを算出して、目標値との差から
次に調整すべき調整量を算出した後に、図１６のような
調整のやり方で、粗調整を行うか微調整を行うかを判断
する。粗調整を行う場合には、ステップＳ３に移り、ス
テップＳ４において、所定の粗調整部分に対してレーザ
光照射位置を位置決めする。すなわち、図１３のように
して最初にレーザ光Ｌが粗調整用のスリワリ２４１の中
央の凸部２６１Ａ（図１１参照）に位置決めされる。そ
して、図１１に示すような粗調整用の中央の凸部２６１
Ａにレーザ光を位置決めしたことを、図３のＣＣＤ１３
０を通してモニター１３２において、作業者が目視で確
認する。レーザ光Ｌが凸部２６１Ａに照射されると、図
１４（Ｃ）に示すように消失部分３５０が形成される。
つまり凸部２６１Ａの中央部分が溶融されて、消失され
るのである。これにより、図９に示すように磁気ヘッド
２０は、大きい最低単位の変化量Ｄ１でＶ方向に高さ変
化をする。

【００４５】図１７のステップＳ５において、さらに粗
調整が必要かどうかを図３の演算および制御部１００が
判断し、さらに粗調整が必要であれば、次の粗調整部分
にレーザ光照射位置の位置決めを変える。すなわち、た
とえば図１１に示す凸部２６１Ａの次の凸部２６１Ｂに
レーザ光Ｌが位置決めされる。ステップＳ６において、
この粗調整が必要回数繰り返される場合には、凸部２６
１Ａ，２６１Ｂ，２６１Ｃ，２６１Ｄ，２６１Ｅの順に
順次レーザ光Ｌが照射されて、図９に示す大きい最低単
位の変化量Ｄ１が次々と加算されていくのである。

【００４６】次に、ステップＳ７で示すように、微調整
が必要かどうかを判断し、微調整が必要な場合にはステ
ップＳ８の微調整工程に入る。ステップＳ９では、図１
１に示す中央の微調整用の凸部２７１Ａ（図１１参照）
にレーザ光が位置決めされる。そしてレーザ光が凸部２
７１Ａに照射されると、図１５に示すように消失部分３
７０が形成されることになる。従って、図１０に示すよ
うに磁気ヘッド２０は小さい最低単位の変化量Ｄ２分だ
けＶ方向に高さ調整が行える。図１７に示すステップＳ
１０においてさらに微調整が必要かどうかを、図３の演
算および制御部１００が判断し、必要であればステップ
Ｓ１１において、図１１の凸部２７１Ｂに対してレーザ
光を位置決めし、そしてレーザ光をこの凸部２７１Ｂに
照射する。複数回微調整が必要であるならば、レーザ光
は、凸部２７１Ａ，２７１Ｂ，２７１Ｃ，２７１Ｄ，２
７１Ｅの順に順次位置決めして照射されることになる。

【００４７】粗調整側の凸部２６１から微調整側の凸部
２７１側にレーザ光を移動する場合には、図１２に示す
ように、照射ノズル１０６が移動して位置決めされる。
これに対して、粗調整用の凸部間を移動したり、微調整
用の凸部間を移動する場合には、図１３に示すように、
照射ノズル１０６は、所定のピッチＰ分づつ移動させる
ことになる。このようにして所定量の磁気ヘッドの高さ
調整が終了すると、ステップＳ１２において、次の磁気
ヘッドの高さ調整を行うかを判断し、必要な場合には、
図３においてヘッドインデックスモータ９４が作動し
て、回転上ドラム１２が、たとえば９０度あるいは１８
０度あるいは２７０度インデックスされて、次の磁気ヘ
ッド２０が対物レンズ９２に対面する。なお、１つの磁
気ヘッド２０の高さ調整が終わるまでは、このヘッドイ
ンデックスモータ９４は作動させない。

【００４８】本発明の実施の形態では、微調整、粗調整
時に照射するレーザ光の照射条件は常に一定で行われ
る。組立て部品の累積公差から予測される磁気ヘッドの
高さのばらつきと、最終的に要求される精度から、起こ
り得るヘッド高さの粗調整量と微調整量を吸収できるレ
ーザ光の照射条件（ピークパワー、パルス幅など）やヘ
ッドベースの設計（ベース材質、ベース厚、スリワリの
幅＆間隔＆長さなど）は事前に実験的に検証しておく必
要がある。

【００４９】本発明の実施の形態は、微細なヘッド高さ
調整が外部エネルギーによりヘッド高さを操作する機能
とヘッド高さを自動計測する機能を組み合わせたシステ
ムにより、自動的に調整可能である。外部エネルギーに
よりヘッド高さを操作する機能部分には、上記凹凸の凸
部１つづつにレーザ光などの外部エネルギーを与えるた
めに、凹凸のピッチ分送る機構をもち、同じ場所に２度
照射することを避けられるので、磁気ヘッドは常に同じ
調整量を動かすことができる。ヘッドベースのオーバー
ハングの根元部分に設けられた粗調整用の凹凸群と先端
に設けられた微調整用の凹凸群に外部エネルギーを与え
るために前後凹凸群に送る機構があるので、残る調整量
に応じて粗微調整ができ、高精度の高さ調整作業の能率
よく実現できる。また、照射するレーザ条件は常に一定
にできるので、条件変更によるレーザ光のばらつきを抑
えて、ランプ寿命を延ばすことができる。

【００５０】本発明の実施の形態は、回転磁気ヘッド装
置の組み立て調整において、外部エネルギーにより最低
単位の高さ変化を生じさせる工夫を複数ヘッドベースに
設け、その１つ１つを外部エネルギーにより操作する機
構とヘッド高さを自動計測できる。

【００５１】本発明の実施の形態では、回転磁気ヘッド
装置のヘッドベース部分に外部エネルギーによりヘッド
ベースを曲げるための調整構造（例えばスリワリによる
凹凸）が複数設けられており、外部エネルギーによる変
化の起きる部分を制限することにより、最低単位の高さ
調整が可能で再現性の良い調整を実現する。高さ調整時
にはベース内に設けた複数の調整構造の凸部１つづつ
に、レーザなどの外力により凸部を消失させる最小エネ
ルギーが与えられ、ヘッドベースには希望の最小調整量
以下の曲げ変化を与える。この作業を複数回繰り返し行
うことにより、高さ調整を行っていく。この高さの調整
作業の際には、外部エネルギーによりヘッド高さを操作
する機能とヘッド高さを自動計測する機能を組み合わせ
たシステムにより、毎回の調整による高さ変化を自動的
に測定し、目標高さに対する調整量を計算し残りの必要
な粗調整、微調整の回数を設定し、調整を継続し目標高
さに到達させる。

【００５２】ところで本発明は上記実施の形態に限定さ
れるものではない。ヘッドベースに形成されたスリワリ
は、図示の例では直方体形状になっているが、これに限
らず、断面が三角形状のものであっても構わない。すな
わち粗調整用の凸部および微調整用の凸部が断面で見て
三角形であっても勿論構わない。外部エネルギー供給手
段は、ＹＡＧ、ＣＯ₂ あるいはエキシマレーザ等のレー
ザ光を発生するものに限らず、放電加工を採用すること
もできる。

【００５３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
磁気ヘッドの高さ位置を微細な調整を加えながら適正に
行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の調整しようとする磁気ヘッドを有する
回転ヘッドドラム装置の例を示す断面図。

【図２】図１の回転ヘッドドラム装置の平面図。

【図３】磁気ヘッドの高さ調整を行う磁気ヘッドの位置
調整装置の好ましい実施の形態を示す図。

【図４】レーザ光を用いた場合の磁気ヘッドの高さ調整
方法におけるヘッドベースの材質等を示す図。

【図５】位置決め手段とヘッドベースおよび磁気ヘッド
等を示す図。

【図６】磁気ヘッドおよびヘッドベースの好ましい例を
示す斜視図。

【図７】図６のヘッドベースのＡ−Ａ線における断面
図。

【図８】スリワリの形状の一例を示す斜視図。

【図９】粗調整の際にレーザ光を照射する例を示す図。

【図１０】微調整の際にレーザ光を照射する例を示す
図。

【図１１】粗調整用と微調整用の凸部およびスリワリを
示す平面図。

【図１２】レーザ光を粗調整用の凸部と微調整用の凸部
の間で移動する例を示す図。

【図１３】レーザ光を微調整用の凸部間で移動したり、
粗調整用の凸部間で移動する例を示す図。

【図１４】粗調整用の凸部に対してレーザ光を照射して
溶融し消失させる例を示す図。

【図１５】レーザ光を照射することにより、微調整用の
凸部を溶融して消失させる例を示す図。

【図１６】粗調整を行うか微調整を行うかあるいは調整
を行わないかの区別を示す図。

【図１７】粗調整および微調整の作業工程例を示す図。

【図１８】従来の回転ヘッドドラム装置を示す断面図。

【図１９】従来の回転ヘッドドラム装置における磁気ヘ
ッドの高さ調整例を示す図。

【符号の説明】

１０・・・回転ヘッドドラム装置、２０・・・磁気ヘッ
ド、２２・・・ヘッドベース（ベース）、２６・・・レ
ーザ光Ｌを通すための穴、８０・・・磁気ヘッドの位置
調整装置、８２・・・外部エネルギー供給手段、８４・
・・位置決め手段、８６・・・処理手段、９０・・・イ
ンデックス手段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江口 典稔 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 5D036 AA14 AA16 BB02 GG05 5D042 AA05 BA07 CA01 CA04 CA08 DA20

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁気ヘッドと前記磁気ヘッドを支持する
   ベースを有する回転体を回転することにより、帯状の記
   録媒体に対して移動されるようになっている前記磁気ヘ
   ッドの前記回転体における高さ位置を調整するための磁
   気ヘッドの位置調整装置であり、 前記ベースの外部エネルギー供給対象部位に対して、外
   部エネルギーを与えることにより最低単位の高さ位置の
   調整を行うことで、前記ベースを曲げて前記回転体に対
   する前記磁気ヘッドの高さ位置を調整するための外部エ
   ネルギー供給手段と、 前記外部エネルギー供給手段を前記ベースの外部エネル
   ギー供給対象部位の所定の位置に移動して位置決めする
   位置決め手段と、 前記外部エネルギー供給手段により変化する前記磁気ヘ
   ッドの高さ位置を画像で取得して、取得した現在の前記
   磁気ヘッドの高さ位置と、予め設定されている磁気ヘッ
   ドの目標高さと比較することにより、残りの必要な高さ
   位置の調整量を得るための処理手段と、を備えることを
   特徴とする磁気ヘッドの位置調整装置。
2. 【請求項２】 前記最低単位の高さ位置の調整は、粗調
   整と微調整を有し、 前記ベースの外部エネルギー供給対象部位は、前記粗調
   整用の対象部位と、前記微調整用の対象部位を含む請求
   項１に記載の磁気ヘッドの位置調整装置。
3. 【請求項３】 前記外部エネルギー供給手段は、レーザ
   光を発生するレーザ光発生装置であり、前記レーザ光
   は、前記粗調整用の対象部位と前記微調整用の対象部位
   を消失させる請求項２に記載の磁気ヘッドの位置調整装
   置。
4. 【請求項４】 前記粗調整用の対象部位は、前記ベース
   に配列された凹部を形成する凸部であり、前記微調整用
   の対象部位は、前記ベースに配列された凹部を形成する
   凸部である請求項３に記載の磁気ヘッドの位置調整装
   置。
5. 【請求項５】 前記位置決め手段は、前記外部エネルギ
   ー供給手段を、前記粗調整用の対象部位用の凸部の配列
   ピッチ分、あるいは前記微調整用の対象部位用の凸部の
   配列ピッチ分移動させる請求項４に記載の磁気ヘッドの
   位置調整装置。
6. 【請求項６】 前記粗調整用の対象部位用の凸部は、前
   記磁気ヘッドから離れた位置に配置されており、前記微
   調整用の対象部位用の凸部は、前記磁気ヘッドに近い位
   置に配置されており、 前記位置決め手段は、前記外部エネルギー供給手段を、
   前記粗調整用の対象部位用の凸部と、前記微調整用の対
   象部位用の凸部との間で移動して位置決め可能である請
   求項４に記載の磁気ヘッドの位置調整装置。
7. 【請求項７】 磁気ヘッドと前記磁気ヘッドを支持する
   ベースを有する回転体を回転することにより、帯状の記
   録媒体に対して移動されるようになっている前記磁気ヘ
   ッドの前記回転体における高さ位置を調整するための磁
   気ヘッドの位置調整方法であり、 前記ベースの外部エネルギー供給対象部位に対して、外
   部エネルギー供給手段から外部エネルギーを与えること
   により最低単位の高さ位置の調整を行うことで、前記ベ
   ースを曲げて前記回転体に対する前記磁気ヘッドの高さ
   位置を調整する際に、 位置決め手段を用いて、前記外部エネルギー供給手段を
   前記ベースの外部エネルギー供給対象部位の所定の位置
   に移動して位置決めし、 前記外部エネルギー供給手段により変化する前記磁気ヘ
   ッドの高さ位置を画像で取得して、取得した現在の前記
   磁気ヘッドの高さ位置と、予め設定されている磁気ヘッ
   ドの目標高さと比較することにより、残りの必要な高さ
   位置の調整量を得る、ことを特徴とする磁気ヘッドの位
   置調整方法。
8. 【請求項８】 前記最低単位の高さ位置の調整は、粗調
   整と微調整を有し、 前記ベースの外部エネルギー供給対象部位は、前記粗調
   整用の対象部位と、前記微調整用の対象部位を含む請求
   項７に記載の磁気ヘッドの位置調整方法。
9. 【請求項９】 前記外部エネルギー供給手段は、レーザ
   光を発生するレーザ光発生装置であり、前記レーザ光
   は、前記粗調整用の対象部位と前記微調整用の対象部位
   を消失させる請求項８に記載の磁気ヘッドの位置調整方
   法。
10. 【請求項１０】 前記粗調整用の対象部位は、前記ベー
    スに配列された凹部を形成する凸部であり、前記微調整
    用の対象部位は、前記ベースに配列された凹部を形成す
    る凸部である請求項７に記載の磁気ヘッドの位置調整方
    法。
11. 【請求項１１】 前記位置決め手段は、前記外部エネル
    ギー供給手段を、前記粗調整用の対象部位用の凸部の配
    列ピッチ分、あるいは前記微調整用の対象部位用の凸部
    の配列ピッチ分移動させる請求項１０に記載の磁気ヘッ
    ドの位置調整方法。
12. 【請求項１２】 前記粗調整用の対象部位用の凸部は、
    前記磁気ヘッドから離れた位置に配置されており、前記
    微調整用の対象部位用の凸部は、前記磁気ヘッドに近い
    位置に配置されており、 前記位置決め手段は、前記外部エネルギー供給手段を、
    前記粗調整用の対象部位用の凸部と、前記微調整用の対
    象部位用の凸部との間で移動して位置決め可能である請
    求項１０に記載の磁気ヘッドの位置調整方法。