JP2000357347A - 記録媒体の製造システム及び記録媒体の製造方法 - Google Patents
記録媒体の製造システム及び記録媒体の製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】1つの工程で複数の製造装置を並行して使用し
た場合においても、複数の製造装置毎の歩留まりや工程
毎の歩留まりを容易にかつ確実に把握できるようにす
る。 【解決手段】第1の検査画面524は、生産データ表示
部520と欠陥内訳表示部522とで構成されている。
生産データ表示部520は、全数と直近100に区分さ
れ、光ディスクDの全数に関する良品数、不良品数及び
歩留まりがそれぞれ成形機別に区分されて表示され、更
に、光ディスクDの直近100に関する良品数、不良品
数及び歩留まりがそれぞれ成形機別に区分されて表示さ
れるようになっている。欠陥内訳表示部522は、第1
及び第2の成形設備12A及び12Bで成形されたそれ
ぞれの基板202に関する各種欠陥の数と歩留まりが6
つのスピンコート装置別に区分されて表示されるように
なっている。この欠陥内訳表示部522においても、全
数と直近100に区分されている。
た場合においても、複数の製造装置毎の歩留まりや工程
毎の歩留まりを容易にかつ確実に把握できるようにす
る。 【解決手段】第1の検査画面524は、生産データ表示
部520と欠陥内訳表示部522とで構成されている。
生産データ表示部520は、全数と直近100に区分さ
れ、光ディスクDの全数に関する良品数、不良品数及び
歩留まりがそれぞれ成形機別に区分されて表示され、更
に、光ディスクDの直近100に関する良品数、不良品
数及び歩留まりがそれぞれ成形機別に区分されて表示さ
れるようになっている。欠陥内訳表示部522は、第1
及び第2の成形設備12A及び12Bで成形されたそれ
ぞれの基板202に関する各種欠陥の数と歩留まりが6
つのスピンコート装置別に区分されて表示されるように
なっている。この欠陥内訳表示部522においても、全
数と直近100に区分されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、記録媒体の製造シ
ステム及び記録媒体の製造方法に関し、特に、レーザ光
を用いて情報の記録及び再生を行うことができるヒート
モード型の光情報記録媒体に用いて好適な記録媒体の製
造システム及び記録媒体の製造方法に関する。
ステム及び記録媒体の製造方法に関し、特に、レーザ光
を用いて情報の記録及び再生を行うことができるヒート
モード型の光情報記録媒体に用いて好適な記録媒体の製
造システム及び記録媒体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、レーザ光により1回限りの情報
の記録が可能な光情報記録媒体(光ディスク)として
は、追記型CD(いわゆるCD−R)やDVD−Rなど
があり、従来のCD(コンパクトディスク)の作製に比
べて少量のCDを手頃な価格でしかも迅速に市場に供給
できるという利点を有しており、最近のパーソナルコン
ピュータなどの普及に伴ってその需要も増している。
の記録が可能な光情報記録媒体(光ディスク)として
は、追記型CD(いわゆるCD−R)やDVD−Rなど
があり、従来のCD(コンパクトディスク)の作製に比
べて少量のCDを手頃な価格でしかも迅速に市場に供給
できるという利点を有しており、最近のパーソナルコン
ピュータなどの普及に伴ってその需要も増している。
【0003】CD−R型の光情報記録媒体の代表的な構
造は、厚みが約1.2mmの透明な円盤状基板上に有機
色素からなる記録層、金や銀などの金属からなる光反射
層、更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである
(例えば特開平6−150371号公報参照)。
造は、厚みが約1.2mmの透明な円盤状基板上に有機
色素からなる記録層、金や銀などの金属からなる光反射
層、更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである
(例えば特開平6−150371号公報参照)。
【0004】また、DVD−R型の光情報記録媒体は、
2枚の円盤状基板(厚みが約0.6mm)を各情報記録
面をそれぞれ内側に対向させて貼り合わせた構造を有
し、記録情報量が多いという特徴を有する。
2枚の円盤状基板(厚みが約0.6mm)を各情報記録
面をそれぞれ内側に対向させて貼り合わせた構造を有
し、記録情報量が多いという特徴を有する。
【0005】そして、これら光情報記録媒体への情報の
書き込み(記録)は、近赤外域のレーザ光(CD−Rで
は通常780nm付近、DVD−Rでは635nm付近
の波長のレーザ光)を照射することにより行われ、色素
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
し、物理的あるいは化学的な変化(例えばピットの生
成)が生じて、その光学的特性を変えることにより情報
が記録される。
書き込み(記録)は、近赤外域のレーザ光(CD−Rで
は通常780nm付近、DVD−Rでは635nm付近
の波長のレーザ光)を照射することにより行われ、色素
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
し、物理的あるいは化学的な変化(例えばピットの生
成)が生じて、その光学的特性を変えることにより情報
が記録される。
【0006】一方、情報の読み取り(再生)も、通常、
記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射すること
により行われ、色素記録層の光学的特性が変化した部位
(ピットの生成による記録部分)と変化しない部位(未
記録部分)との反射率の違いを検出することにより情報
が再生される。
記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射すること
により行われ、色素記録層の光学的特性が変化した部位
(ピットの生成による記録部分)と変化しない部位(未
記録部分)との反射率の違いを検出することにより情報
が再生される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記光情報
記録媒体においては、少なくとも基板の成形、色素塗布
及び光反射層の形成等の処理を経て作製される。これら
の処理では、基板の成形や色素塗布などにおいては、生
産効率を上げるため、複数の成形機や複数の塗布装置を
用いて並行に行うようにしている。
記録媒体においては、少なくとも基板の成形、色素塗布
及び光反射層の形成等の処理を経て作製される。これら
の処理では、基板の成形や色素塗布などにおいては、生
産効率を上げるため、複数の成形機や複数の塗布装置を
用いて並行に行うようにしている。
【0008】複数の成形機や複数の塗布装置を使用すれ
ば、確かに生産効率は向上するが、複数の成形機毎や複
数の塗布装置毎の歩留まりや工程毎の歩留まりを把握す
ることが困難になり、光情報記録媒体に関する信頼性の
ある製造履歴を得ることが難しかった。
ば、確かに生産効率は向上するが、複数の成形機毎や複
数の塗布装置毎の歩留まりや工程毎の歩留まりを把握す
ることが困難になり、光情報記録媒体に関する信頼性の
ある製造履歴を得ることが難しかった。
【0009】本発明はこのような課題を考慮してなされ
たものであり、1つの工程で複数の製造装置を並行して
使用した場合においても、複数の製造装置毎の歩留まり
や工程毎の歩留まりを容易にかつ確実に把握することが
でき、信頼性の高い記録媒体の製造履歴に基づいて記録
媒体を製造することができる記録媒体の製造システム及
び記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
たものであり、1つの工程で複数の製造装置を並行して
使用した場合においても、複数の製造装置毎の歩留まり
や工程毎の歩留まりを容易にかつ確実に把握することが
でき、信頼性の高い記録媒体の製造履歴に基づいて記録
媒体を製造することができる記録媒体の製造システム及
び記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明に係る記録媒体の
製造システムは、記録媒体として完成する前のワークの
製造に係わる複数の製造装置と、製造過程におけるワー
クの製造状態を検査する複数の検査装置と、前記複数の
製造装置及び前記複数の検査装置を集中監視し、少なく
とも所定の検査画面を表示するモニタが接続された少な
くとも1つの監視装置とを具備し、前記検査画面とし
て、前記複数の製造装置による製造履歴に基づいて項目
分けされ、かつ、該製造履歴に関する項目毎にワークの
検査結果が表示された形態とすることを特徴とする。
製造システムは、記録媒体として完成する前のワークの
製造に係わる複数の製造装置と、製造過程におけるワー
クの製造状態を検査する複数の検査装置と、前記複数の
製造装置及び前記複数の検査装置を集中監視し、少なく
とも所定の検査画面を表示するモニタが接続された少な
くとも1つの監視装置とを具備し、前記検査画面とし
て、前記複数の製造装置による製造履歴に基づいて項目
分けされ、かつ、該製造履歴に関する項目毎にワークの
検査結果が表示された形態とすることを特徴とする。
【0011】また、本発明の記録媒体の製造方法は、記
録媒体として完成する前のワークの製造に係わる複数の
製造装置と、製造過程におけるワークの製造状態を検査
する複数の検査装置とを集中監視し、前記複数の製造装
置による製造履歴に基づいて項目分けされ、かつ、該製
造履歴に関する項目毎にワークの検査結果が表示された
形態を有する検査画面を前記監視装置のモニタに映し出
しながら前記記録媒体を製造することを特徴とする。
録媒体として完成する前のワークの製造に係わる複数の
製造装置と、製造過程におけるワークの製造状態を検査
する複数の検査装置とを集中監視し、前記複数の製造装
置による製造履歴に基づいて項目分けされ、かつ、該製
造履歴に関する項目毎にワークの検査結果が表示された
形態を有する検査画面を前記監視装置のモニタに映し出
しながら前記記録媒体を製造することを特徴とする。
【0012】これにより、1つの工程で複数の製造装置
を並行して使用した場合においても、複数の製造装置毎
の歩留まりや工程毎の歩留まりを容易にかつ確実に把握
することができ、信頼性の高い記録媒体の製造履歴に基
づいて記録媒体を製造することができる。
を並行して使用した場合においても、複数の製造装置毎
の歩留まりや工程毎の歩留まりを容易にかつ確実に把握
することができ、信頼性の高い記録媒体の製造履歴に基
づいて記録媒体を製造することができる。
【0013】そして、前記製造システム又は製造方法に
おいて、前記複数の製造装置及び前記複数の検査装置と
前記監視装置とをネットワークで結ぶようにしてもよ
い。これにより、監視装置において、前記複数の製造装
置及び前記複数の検査装置を集中監視することができ、
ワークの検査結果が表示された形態を有する検査画面を
前記監視装置のモニタに映し出すことが容易になる。
おいて、前記複数の製造装置及び前記複数の検査装置と
前記監視装置とをネットワークで結ぶようにしてもよ
い。これにより、監視装置において、前記複数の製造装
置及び前記複数の検査装置を集中監視することができ、
ワークの検査結果が表示された形態を有する検査画面を
前記監視装置のモニタに映し出すことが容易になる。
【0014】また、前記監視装置において、前記複数の
検査装置での検査結果を、使用された製造装置の情報と
共にワーク毎にデータファイルに登録し、作成された前
記データファイルに基づいて、製造履歴に関する項目毎
にワークの検査結果を表示するようにしてもよい。
検査装置での検査結果を、使用された製造装置の情報と
共にワーク毎にデータファイルに登録し、作成された前
記データファイルに基づいて、製造履歴に関する項目毎
にワークの検査結果を表示するようにしてもよい。
【0015】この場合、最新の所定枚数のワークに関す
る検査結果を一括表示するようにすれば、製造装置の故
障等の工程上の不具合を早期に検出することができる。
また、所定枚数毎のワークの検査結果を時系列で表示す
るようにすれば、記録媒体に関する歩留まりの推移を簡
単に把握することができる。
る検査結果を一括表示するようにすれば、製造装置の故
障等の工程上の不具合を早期に検出することができる。
また、所定枚数毎のワークの検査結果を時系列で表示す
るようにすれば、記録媒体に関する歩留まりの推移を簡
単に把握することができる。
【0016】そして、前記検査画面における前記製造履
歴に関する項目としては、少なくとも前記ワークの基板
を成形する成形機に関する項目であってもよいし、少な
くとも前記ワークに対して色素塗布を行うための複数の
スピンコート装置に関する項目であってもよい。
歴に関する項目としては、少なくとも前記ワークの基板
を成形する成形機に関する項目であってもよいし、少な
くとも前記ワークに対して色素塗布を行うための複数の
スピンコート装置に関する項目であってもよい。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る記録媒体の製
造システム及び製造方法を例えばCD−R等の光ディス
クを製造するシステムに適用した実施の形態例(以下、
単に実施の形態に係る製造システムと記す)を図1〜図
32を参照しながら説明する。
造システム及び製造方法を例えばCD−R等の光ディス
クを製造するシステムに適用した実施の形態例(以下、
単に実施の形態に係る製造システムと記す)を図1〜図
32を参照しながら説明する。
【0018】本実施の形態に係る製造システム10は、
図1に示すように、例えば射出成形、圧縮成形又は射出
圧縮成形によって基板を作製する2つの成形設備(第1
及び第2の成形設備12A及び12B)と、基板の一主
面上に色素塗布液を塗布して乾燥させることにより、該
基板上に色素記録層を形成する塗布設備14と、基板の
色素記録層上に光反射層を例えばスパッタリングにより
形成し、その後、光反射層上にUV硬化液を塗布した
後、UV照射して前記光反射層上に保護層を形成する後
処理設備16とを有して構成されている。
図1に示すように、例えば射出成形、圧縮成形又は射出
圧縮成形によって基板を作製する2つの成形設備(第1
及び第2の成形設備12A及び12B)と、基板の一主
面上に色素塗布液を塗布して乾燥させることにより、該
基板上に色素記録層を形成する塗布設備14と、基板の
色素記録層上に光反射層を例えばスパッタリングにより
形成し、その後、光反射層上にUV硬化液を塗布した
後、UV照射して前記光反射層上に保護層を形成する後
処理設備16とを有して構成されている。
【0019】第1及び第2の成形設備12A及び12B
は、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮
成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝
又はアドレス信号等の情報を表す凹凸(グルーブ)が形
成された基板を作製する成形機20と、該成形機20か
ら取り出された基板を冷却する冷却部22と、冷却後の
基板を段積みして保管するためのスタックポール24が
複数本設置された集積部26(スタックポール回転台)
とを有する。
は、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮
成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝
又はアドレス信号等の情報を表す凹凸(グルーブ)が形
成された基板を作製する成形機20と、該成形機20か
ら取り出された基板を冷却する冷却部22と、冷却後の
基板を段積みして保管するためのスタックポール24が
複数本設置された集積部26(スタックポール回転台)
とを有する。
【0020】塗布設備14は、3つの処理部30、32
及び34から構成され、第1の処理部30には、前記第
1及び第2の成形設備12A及び12Bから搬送された
スタックポール24を収容するためのスタックポール収
容部40と、該スタックポール収容部40に収容された
スタックポール24から1枚ずつ基板を取り出して次工
程に搬送する第1の搬送機構42と、該第1の搬送機構
42によって搬送された1枚の基板に対して静電気の除
去を行う静電ブロー機構44とを有する。
及び34から構成され、第1の処理部30には、前記第
1及び第2の成形設備12A及び12Bから搬送された
スタックポール24を収容するためのスタックポール収
容部40と、該スタックポール収容部40に収容された
スタックポール24から1枚ずつ基板を取り出して次工
程に搬送する第1の搬送機構42と、該第1の搬送機構
42によって搬送された1枚の基板に対して静電気の除
去を行う静電ブロー機構44とを有する。
【0021】第2の処理部32は、第1の処理部30に
おいて静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送
する第2の搬送機構46と、該第2の搬送機構46によ
って搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素塗布液
を塗布する色素塗布機構48と、色素塗布処理を終えた
基板を1枚ずつ次工程に搬送する第3の搬送機構50と
を有する。この色素塗布機構48は6つのスピンコート
装置52を有して構成されている。
おいて静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送
する第2の搬送機構46と、該第2の搬送機構46によ
って搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素塗布液
を塗布する色素塗布機構48と、色素塗布処理を終えた
基板を1枚ずつ次工程に搬送する第3の搬送機構50と
を有する。この色素塗布機構48は6つのスピンコート
装置52を有して構成されている。
【0022】第3の処理部34は、前記第3の搬送機構
50にて搬送された1枚の基板の裏面を洗浄する裏面洗
浄機構54と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬送す
る第4の搬送機構56と、該第4の搬送機構56によっ
て搬送された基板に対してロット番号等の刻印をインク
ジェット印刷にて行う番号付与機構58と、ロット番号
等の刻印を終えた基板を次工程に搬送する第5の搬送機
構60と、該第5の搬送機構60によって搬送された基
板に対して欠陥の有無並びに色素記録層の膜厚の検査を
行う第1の欠陥検査装置62と、該第1の欠陥検査装置
62での検査結果に応じて基板を正常品用のスタックポ
ール64あるいはNG用のスタックポール66に選別す
る選別機構68とを有する。
50にて搬送された1枚の基板の裏面を洗浄する裏面洗
浄機構54と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬送す
る第4の搬送機構56と、該第4の搬送機構56によっ
て搬送された基板に対してロット番号等の刻印をインク
ジェット印刷にて行う番号付与機構58と、ロット番号
等の刻印を終えた基板を次工程に搬送する第5の搬送機
構60と、該第5の搬送機構60によって搬送された基
板に対して欠陥の有無並びに色素記録層の膜厚の検査を
行う第1の欠陥検査装置62と、該第1の欠陥検査装置
62での検査結果に応じて基板を正常品用のスタックポ
ール64あるいはNG用のスタックポール66に選別す
る選別機構68とを有する。
【0023】第1の処理部30と第2の処理部32との
間に第1の仕切板70が設置され、第2の処理部32と
第3の処理部34との間にも同様に第2の仕切板72が
設置されている。第1の仕切板70の下部には、第2の
搬送機構46による基板の搬送経路を塞がない程度の開
口(図示せず)が形成され、第2の仕切板72の下部に
は、第3の搬送機構50による基板の搬送経路を塞がな
い程度の開口(図示せず)が形成されている。
間に第1の仕切板70が設置され、第2の処理部32と
第3の処理部34との間にも同様に第2の仕切板72が
設置されている。第1の仕切板70の下部には、第2の
搬送機構46による基板の搬送経路を塞がない程度の開
口(図示せず)が形成され、第2の仕切板72の下部に
は、第3の搬送機構50による基板の搬送経路を塞がな
い程度の開口(図示せず)が形成されている。
【0024】後処理設備16は、塗布設備14から搬送
された正常品用のスタックポール64を収容するための
スタックポール収容部80と、該スタックポール収容部
80に収容されたスタックポール64から1枚ずつ基板
を取り出して次工程に搬送する第6の搬送機構82と、
該第6の搬送機構82によって搬送された1枚の基板に
対して静電気の除去を行う第1の静電ブロー機構84
と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送す
る第7の搬送機構86と、該第7の搬送機構86によっ
て搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリング
にて形成するスパッタ機構88と、光反射層のスパッタ
リングを終えた基板を次工程に順次搬送する第8の搬送
機構90と、該第8の搬送機構90によって搬送された
基板の周縁(エッジ部分)を洗浄するエッジ洗浄機構9
2とを有する。
された正常品用のスタックポール64を収容するための
スタックポール収容部80と、該スタックポール収容部
80に収容されたスタックポール64から1枚ずつ基板
を取り出して次工程に搬送する第6の搬送機構82と、
該第6の搬送機構82によって搬送された1枚の基板に
対して静電気の除去を行う第1の静電ブロー機構84
と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送す
る第7の搬送機構86と、該第7の搬送機構86によっ
て搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリング
にて形成するスパッタ機構88と、光反射層のスパッタ
リングを終えた基板を次工程に順次搬送する第8の搬送
機構90と、該第8の搬送機構90によって搬送された
基板の周縁(エッジ部分)を洗浄するエッジ洗浄機構9
2とを有する。
【0025】また、この後処理設備16は、エッジ洗浄
を終えた基板に対して静電気の除去を行う第2の静電ブ
ロー機構94と、静電ブロー処理を終えた基板の一主面
に対してUV硬化液を塗布するUV硬化液塗布機構96
と、UV硬化液の塗布を終えた基板を高速回転させて基
板上のUV硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構98
と、UV硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板に対
して紫外線を照射することによりUV硬化液を硬化させ
て基板の一主面に保護層を形成するUV照射機構100
と、前記基板を第2の静電ブロー機構94、UV硬化液
塗布機構96、スピン機構98及びUV照射機構100
にそれぞれ搬送する第9の搬送機構102と、UV照射
された基板を次工程に搬送する第10の搬送機構104
と、該第10の搬送機構104によって搬送された基板
に対して記録層塗布面と保護層面の欠陥を検査するため
の第2の欠陥検査装置106と、基板に形成されたグル
ーブによる信号特性を検査するための特性検査機構10
8と、これら第2の欠陥検査装置106及び特性検査機
構108での検査結果に応じて基板を正常品用のスタッ
クポール110あるいはNG用のスタックポール112
に選別する選別機構114とを有する。
を終えた基板に対して静電気の除去を行う第2の静電ブ
ロー機構94と、静電ブロー処理を終えた基板の一主面
に対してUV硬化液を塗布するUV硬化液塗布機構96
と、UV硬化液の塗布を終えた基板を高速回転させて基
板上のUV硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構98
と、UV硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板に対
して紫外線を照射することによりUV硬化液を硬化させ
て基板の一主面に保護層を形成するUV照射機構100
と、前記基板を第2の静電ブロー機構94、UV硬化液
塗布機構96、スピン機構98及びUV照射機構100
にそれぞれ搬送する第9の搬送機構102と、UV照射
された基板を次工程に搬送する第10の搬送機構104
と、該第10の搬送機構104によって搬送された基板
に対して記録層塗布面と保護層面の欠陥を検査するため
の第2の欠陥検査装置106と、基板に形成されたグル
ーブによる信号特性を検査するための特性検査機構10
8と、これら第2の欠陥検査装置106及び特性検査機
構108での検査結果に応じて基板を正常品用のスタッ
クポール110あるいはNG用のスタックポール112
に選別する選別機構114とを有する。
【0026】また、本実施の形態に係る製造システム1
0は、図1に示すように、第1及び第2の成形設備12
A及び12B、塗布設備14及び後処理設備16を制御
する第1のコンピュータ300と、第1の欠陥検査装置
62を制御して、該第1の欠陥検査装置62からのデー
タを処理する第2のコンピュータ302と、第2の欠陥
検査装置106を制御して、該第2の欠陥検査装置10
6からのデータを処理する第3のコンピュータ304
と、特性検査機構108を制御して、該特性検査機構1
08からのデータを処理する第4のコンピュータ306
と、端末装置308と、サーバ310とがハブ312を
介してネットワークとして結ばれている。オペレータは
端末装置308に接続された入力装置314を通じてデ
ータの入力操作ができるようになっており、また、端末
装置308に接続されたモニタ316を通じて本実施の
形態に係る製造システム10の制御状態を監視できるよ
うになっている。
0は、図1に示すように、第1及び第2の成形設備12
A及び12B、塗布設備14及び後処理設備16を制御
する第1のコンピュータ300と、第1の欠陥検査装置
62を制御して、該第1の欠陥検査装置62からのデー
タを処理する第2のコンピュータ302と、第2の欠陥
検査装置106を制御して、該第2の欠陥検査装置10
6からのデータを処理する第3のコンピュータ304
と、特性検査機構108を制御して、該特性検査機構1
08からのデータを処理する第4のコンピュータ306
と、端末装置308と、サーバ310とがハブ312を
介してネットワークとして結ばれている。オペレータは
端末装置308に接続された入力装置314を通じてデ
ータの入力操作ができるようになっており、また、端末
装置308に接続されたモニタ316を通じて本実施の
形態に係る製造システム10の制御状態を監視できるよ
うになっている。
【0027】ここで、1つのスピンコート装置52の構
成について図2〜図6を参照しながら説明する。
成について図2〜図6を参照しながら説明する。
【0028】このスピンコート装置52は、図2及び図
3に示すように、塗布液付与装置400、スピナーヘッ
ド装置402及び飛散防止壁404を有して構成されて
いる。塗布液付与装置400は、塗布液が充填された加
圧タンク(図示せず)と、該加圧タンクからノズル40
6に引き回されたパイプ(図示せず)と、ノズル406
から吐出される塗布液の量を調整するための吐出量調整
バルブ408とを有し、塗布液は前記ノズル406を通
してその所定量が基板202の表面上に滴下されるよう
になっている。この塗布液付与装置400は、ノズル4
06を下方に向けて支持する支持板410と該支持板4
10を水平方向に旋回させるモータ412とを有するハ
ンドリング機構414によって、待機位置から基板20
2の上方の位置に旋回移動できるように構成されてい
る。
3に示すように、塗布液付与装置400、スピナーヘッ
ド装置402及び飛散防止壁404を有して構成されて
いる。塗布液付与装置400は、塗布液が充填された加
圧タンク(図示せず)と、該加圧タンクからノズル40
6に引き回されたパイプ(図示せず)と、ノズル406
から吐出される塗布液の量を調整するための吐出量調整
バルブ408とを有し、塗布液は前記ノズル406を通
してその所定量が基板202の表面上に滴下されるよう
になっている。この塗布液付与装置400は、ノズル4
06を下方に向けて支持する支持板410と該支持板4
10を水平方向に旋回させるモータ412とを有するハ
ンドリング機構414によって、待機位置から基板20
2の上方の位置に旋回移動できるように構成されてい
る。
【0029】スピナーヘッド装置402は、前記塗布液
付与装置400の下方に配置されており、着脱可能な固
定具420により基板202が水平に保持されると共
に、駆動モータ(図示せず)により軸回転が可能とされ
ている。
付与装置400の下方に配置されており、着脱可能な固
定具420により基板202が水平に保持されると共
に、駆動モータ(図示せず)により軸回転が可能とされ
ている。
【0030】固定具420により水平に保持された状態
で回転している基板202上に、上記の塗布液付与装置
400のノズル406から滴下した塗布液は、基板20
2の表面上を外周側に流延する。そして、余分の塗布液
は基板202の外周縁部で振り切られ、その外側に放出
され、次いで塗膜が乾燥されることにより、基板202
の表面上に塗膜(色素記録層204)が形成される。
で回転している基板202上に、上記の塗布液付与装置
400のノズル406から滴下した塗布液は、基板20
2の表面上を外周側に流延する。そして、余分の塗布液
は基板202の外周縁部で振り切られ、その外側に放出
され、次いで塗膜が乾燥されることにより、基板202
の表面上に塗膜(色素記録層204)が形成される。
【0031】飛散防止壁404は、基板202の外周縁
部から外側に放出された余分の塗布液が周辺に飛散する
のを防止するために設けられており、上部に開口422
が形成されるようにスピナーヘッド装置402の周囲に
配置されている。飛散防止壁404を介して集められた
余分の塗布液はドレイン424を通して回収されるよう
になっている。
部から外側に放出された余分の塗布液が周辺に飛散する
のを防止するために設けられており、上部に開口422
が形成されるようにスピナーヘッド装置402の周囲に
配置されている。飛散防止壁404を介して集められた
余分の塗布液はドレイン424を通して回収されるよう
になっている。
【0032】また、第2の処理部32(図1参照)にお
ける各スピンコート装置52の局所排気は、前記飛散防
止壁404の上方に形成された開口422から取り入れ
た空気を基板202の表面上に流通させた後、各スピナ
ーヘッド装置402の下方に取り付けられた排気管42
6を通じて排気されるようになっている。
ける各スピンコート装置52の局所排気は、前記飛散防
止壁404の上方に形成された開口422から取り入れ
た空気を基板202の表面上に流通させた後、各スピナ
ーヘッド装置402の下方に取り付けられた排気管42
6を通じて排気されるようになっている。
【0033】塗布液付与装置400のノズル406は、
図4及び図5に示すように、軸方向に貫通孔430が形
成された細長い円筒状のノズル本体432と、該ノズル
本体432を支持板410(図3参照)に固定するため
の取付部434を有する。ノズル本体432は、その先
端面及びその先端面から1mm以上の範囲の外側又は内
側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表面を
有する。このフッ素化合物としては、例えばポリテトラ
フルオロエチレンやポリテトラフルオロエチレン含有物
等を使用することができる。
図4及び図5に示すように、軸方向に貫通孔430が形
成された細長い円筒状のノズル本体432と、該ノズル
本体432を支持板410(図3参照)に固定するため
の取付部434を有する。ノズル本体432は、その先
端面及びその先端面から1mm以上の範囲の外側又は内
側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表面を
有する。このフッ素化合物としては、例えばポリテトラ
フルオロエチレンやポリテトラフルオロエチレン含有物
等を使用することができる。
【0034】この実施の形態で用いられる好ましいノズ
ル406の例としては、例えば、図5に示すように、ノ
ズル本体432の先端面及びその先端面から1mm以上
の範囲をフッ素化合物を用いて形成したノズル406
や、図6に示すように、ノズル本体432の先端面44
0及びその先端面440から1mm以上の範囲の外側又
は内側、あるいは両方の壁面442及び444をフッ素
化合物を用いて被覆したノズル406を挙げることがで
きる。
ル406の例としては、例えば、図5に示すように、ノ
ズル本体432の先端面及びその先端面から1mm以上
の範囲をフッ素化合物を用いて形成したノズル406
や、図6に示すように、ノズル本体432の先端面44
0及びその先端面440から1mm以上の範囲の外側又
は内側、あるいは両方の壁面442及び444をフッ素
化合物を用いて被覆したノズル406を挙げることがで
きる。
【0035】ノズル本体432の先端面及びその先端面
から1mm以上の範囲をフッ素化合物で形成する場合、
強度などを考慮すると、実用的には、例えばノズル本体
432をステンレススチールで形成し、その先端面及び
その先端面から最大で5mmの範囲をフッ素化合物で形
成することが好ましい。
から1mm以上の範囲をフッ素化合物で形成する場合、
強度などを考慮すると、実用的には、例えばノズル本体
432をステンレススチールで形成し、その先端面及び
その先端面から最大で5mmの範囲をフッ素化合物で形
成することが好ましい。
【0036】また、図6に示すように、ノズル本体43
2の先端面440及びその先端面440から1mm以上
の範囲の外側又は内側、あるいは両方の壁面442及び
444をフッ素化合物で被覆する場合、ノズル本体43
2の先端面440から10mm以上、更に好ましくは、
ノズル本体432の全領域をフッ素化合物で被覆するこ
とが好ましい。被覆する場合のその厚みは、特に制限は
ないが、5〜500μmの範囲内が適当である。また、
ノズル本体432の材質としては、上記のように、ステ
ンレススチールが好ましい。ノズル本体432に形成さ
れた貫通孔430の径は一般に0.5〜1.0mmの範
囲である。
2の先端面440及びその先端面440から1mm以上
の範囲の外側又は内側、あるいは両方の壁面442及び
444をフッ素化合物で被覆する場合、ノズル本体43
2の先端面440から10mm以上、更に好ましくは、
ノズル本体432の全領域をフッ素化合物で被覆するこ
とが好ましい。被覆する場合のその厚みは、特に制限は
ないが、5〜500μmの範囲内が適当である。また、
ノズル本体432の材質としては、上記のように、ステ
ンレススチールが好ましい。ノズル本体432に形成さ
れた貫通孔430の径は一般に0.5〜1.0mmの範
囲である。
【0037】次に、この製造システム10によって光デ
ィスクを製造する過程について図7A〜図8Bの工程図
も参照しながら説明する。
ィスクを製造する過程について図7A〜図8Bの工程図
も参照しながら説明する。
【0038】まず、第1及び第2の成形設備12A及び
12Bにおける成形機20において、ポリカーボネート
などの樹脂材料が射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形
されて、図7Aに示すように、一主面にトラッキング用
溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸(グルーブ)2
00が形成された基板202が作製される。
12Bにおける成形機20において、ポリカーボネート
などの樹脂材料が射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形
されて、図7Aに示すように、一主面にトラッキング用
溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸(グルーブ)2
00が形成された基板202が作製される。
【0039】前記基板202の材料としては、例えばポ
リカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化
ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフ
ィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望に
よりそれらを併用してもよい。上記の材料の中では、耐
湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネー
トが好ましい。また、グルーブ200の深さは、0.0
1〜0.3μmの範囲内であることが好ましく、その半
値幅は、0.2〜0.9μmの範囲内であることが好ま
しい。
リカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化
ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフ
ィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望に
よりそれらを併用してもよい。上記の材料の中では、耐
湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネー
トが好ましい。また、グルーブ200の深さは、0.0
1〜0.3μmの範囲内であることが好ましく、その半
値幅は、0.2〜0.9μmの範囲内であることが好ま
しい。
【0040】成形機20から取り出された基板202
は、後段の冷却部22において冷却された後、一主面が
下側に向けられてスタックポール24に積載される。ス
タックポール24に所定枚数の基板202が積載された
段階で、スタックポール24はこの成形設備12A及び
12Bから取り出されて、次の塗布設備14に搬送さ
れ、該塗布設備14におけるスタックポール収容部40
に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自
走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。
は、後段の冷却部22において冷却された後、一主面が
下側に向けられてスタックポール24に積載される。ス
タックポール24に所定枚数の基板202が積載された
段階で、スタックポール24はこの成形設備12A及び
12Bから取り出されて、次の塗布設備14に搬送さ
れ、該塗布設備14におけるスタックポール収容部40
に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自
走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。
【0041】スタックポール24がスタックポール収容
部40に収容された段階で、第1の搬送機構42が動作
し、スタックポール24から1枚ずつ基板202を取り
出して、後段の静電ブロー機構44に搬送する。静電ブ
ロー機構44に搬送された基板202は、該静電ブロー
機構44において静電気が除去された後、第2の搬送機
構46を介して次の色素塗布機構48に搬送され、6つ
のスピンコート装置52のうち、いずれか1つのスピン
コート装置52に投入される。スピンコート装置52に
投入された基板202は、その一主面上に色素塗布液が
塗布された後、高速に回転されて塗布液の厚みが均一に
された後、乾燥処理が施される。これによって、図7B
に示すように、基板202の一主面上に色素記録層20
4が形成されることになる。
部40に収容された段階で、第1の搬送機構42が動作
し、スタックポール24から1枚ずつ基板202を取り
出して、後段の静電ブロー機構44に搬送する。静電ブ
ロー機構44に搬送された基板202は、該静電ブロー
機構44において静電気が除去された後、第2の搬送機
構46を介して次の色素塗布機構48に搬送され、6つ
のスピンコート装置52のうち、いずれか1つのスピン
コート装置52に投入される。スピンコート装置52に
投入された基板202は、その一主面上に色素塗布液が
塗布された後、高速に回転されて塗布液の厚みが均一に
された後、乾燥処理が施される。これによって、図7B
に示すように、基板202の一主面上に色素記録層20
4が形成されることになる。
【0042】即ち、スピンコート装置52に投入された
基板202は、図2に示すスピナーヘッド装置402に
装着され、固定具420により水平に保持される。次
に、加圧式タンクから供給された塗布液は、吐出量調整
バルブ408によって所定量が調整され、基板202上
の内周側にノズル406を通して滴下される。
基板202は、図2に示すスピナーヘッド装置402に
装着され、固定具420により水平に保持される。次
に、加圧式タンクから供給された塗布液は、吐出量調整
バルブ408によって所定量が調整され、基板202上
の内周側にノズル406を通して滴下される。
【0043】このノズル406は、上述したように、そ
の先端面及びその先端面から1mm以上の範囲の外側又
は内側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表
面を有しているため、塗布液の付着が生じにくく、ま
た、これが乾燥して色素の析出やその堆積物が生じにく
く、従って、塗膜を塗膜欠陥などの障害を伴うことなく
スムーズに形成させることができる。
の先端面及びその先端面から1mm以上の範囲の外側又
は内側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表
面を有しているため、塗布液の付着が生じにくく、ま
た、これが乾燥して色素の析出やその堆積物が生じにく
く、従って、塗膜を塗膜欠陥などの障害を伴うことなく
スムーズに形成させることができる。
【0044】なお、塗布液としては色素を適当な溶剤に
溶解した色素溶液が用いられる。塗布液中の色素の濃度
は一般に0.01〜15重量%の範囲内、好ましくは
0.1〜10重量%の範囲内、特に好ましくは0.5〜
5重量%の範囲内、最も好ましくは0.5〜3重量%の
範囲内である。
溶解した色素溶液が用いられる。塗布液中の色素の濃度
は一般に0.01〜15重量%の範囲内、好ましくは
0.1〜10重量%の範囲内、特に好ましくは0.5〜
5重量%の範囲内、最も好ましくは0.5〜3重量%の
範囲内である。
【0045】駆動モータによってスピナーヘッド装置4
02は高速回転が可能である。基板202上に滴下され
た塗布液は、スピナーヘッド装置402の回転により、
基板202の表面上を外周方向に流延し、塗膜を形成し
ながら基板202の外周縁部に到達する。外周縁部に到
達した余分の塗布液は、更に遠心力により振り切られ、
基板202の縁部の周囲に飛散する。飛散した余分の塗
布液は飛散防止壁404に衝突し、更にその下方に設け
られた受皿に集められた後、ドレイン424を通して回
収される。塗膜の乾燥はその形成過程及び塗膜形成後に
行われる。塗膜(色素記録層)204の厚みは、一般に
20〜500nmの範囲内、好ましくは50〜300n
mの範囲内に設けられる。
02は高速回転が可能である。基板202上に滴下され
た塗布液は、スピナーヘッド装置402の回転により、
基板202の表面上を外周方向に流延し、塗膜を形成し
ながら基板202の外周縁部に到達する。外周縁部に到
達した余分の塗布液は、更に遠心力により振り切られ、
基板202の縁部の周囲に飛散する。飛散した余分の塗
布液は飛散防止壁404に衝突し、更にその下方に設け
られた受皿に集められた後、ドレイン424を通して回
収される。塗膜の乾燥はその形成過程及び塗膜形成後に
行われる。塗膜(色素記録層)204の厚みは、一般に
20〜500nmの範囲内、好ましくは50〜300n
mの範囲内に設けられる。
【0046】色素記録層204に用いられる色素は特に
限定されない。使用可能な色素の例としては、シアニン
系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノキサリン
系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、ア
ズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Cr
などの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系
色素、オキソノール系色素、アミニウム系色素、ジイン
モニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができ
る。これらの色素のうちでは、シアニン系色素、フタロ
シアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム
系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサリン
系色素が好ましい。
限定されない。使用可能な色素の例としては、シアニン
系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノキサリン
系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、ア
ズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Cr
などの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系
色素、オキソノール系色素、アミニウム系色素、ジイン
モニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができ
る。これらの色素のうちでは、シアニン系色素、フタロ
シアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム
系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサリン
系色素が好ましい。
【0047】色素記録層204を形成するための塗布剤
の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテー
トなどのエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;ジクロル
メタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルムなどの
塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミドなどのアミド;
シクロヘキサンなどの炭化水素;テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル;エタノー
ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノ
ール、ジアセトンアルコールなどのアルコール;2,
2,3,3−テトラフロロ−1−プロパノールなどのフ
ッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル
類などを挙げることができる。
の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテー
トなどのエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;ジクロル
メタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルムなどの
塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミドなどのアミド;
シクロヘキサンなどの炭化水素;テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル;エタノー
ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノ
ール、ジアセトンアルコールなどのアルコール;2,
2,3,3−テトラフロロ−1−プロパノールなどのフ
ッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル
類などを挙げることができる。
【0048】前記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮し
て単独または二種以上を適宜併用することができる。好
ましくは、2,2,3,3−テトラフロロ−1−プロパ
ノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中に
は、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよい
し、更に酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、そして潤滑
剤など各種の添加剤を、目的に応じて添加してもよい。
て単独または二種以上を適宜併用することができる。好
ましくは、2,2,3,3−テトラフロロ−1−プロパ
ノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中に
は、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよい
し、更に酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、そして潤滑
剤など各種の添加剤を、目的に応じて添加してもよい。
【0049】退色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平
2−300288号、同3−224793号、及び同4
−146189号等の各公報に記載されている。
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平
2−300288号、同3−224793号、及び同4
−146189号等の各公報に記載されている。
【0050】結合剤の例としては、ゼラチン、セルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子を挙げることができる。
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子を挙げることができる。
【0051】結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量
は、色素100重量部に対して、一般に20重量部以下
であり、好ましくは10重量部以下、更に好ましくは5
重量部以下である。
は、色素100重量部に対して、一般に20重量部以下
であり、好ましくは10重量部以下、更に好ましくは5
重量部以下である。
【0052】なお、色素記録層204が設けられる側の
基板表面には、平面性の改善、接着力の向上および記録
層の変質防止などの目的で、下塗層が設けられてもよ
い。
基板表面には、平面性の改善、接着力の向上および記録
層の変質防止などの目的で、下塗層が設けられてもよ
い。
【0053】下塗層の材料としては例えば、ポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニ
ルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビ
ニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子
物質;およびシランカップリング剤などの表面改質剤を
挙げることができる。
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニ
ルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビ
ニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子
物質;およびシランカップリング剤などの表面改質剤を
挙げることができる。
【0054】下塗層は、前記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して塗布液を調整した後、この塗布液をスピン
コート、ディップコート、エクストルージョンコートな
どの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形
成することができる。下塗層の層厚は一般に0.005
〜20μmの範囲内、好ましくは0.01〜10μmの
範囲内に設けられる。
たは分散して塗布液を調整した後、この塗布液をスピン
コート、ディップコート、エクストルージョンコートな
どの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形
成することができる。下塗層の層厚は一般に0.005
〜20μmの範囲内、好ましくは0.01〜10μmの
範囲内に設けられる。
【0055】色素記録層204が形成された基板202
は、第3の搬送機構50を介して次の裏面洗浄機構54
に搬送され、基板202の一主面の反対側の面(裏面)
が洗浄される。その後、基板202は、第4の搬送機構
56を介して次の番号付与機構58に搬送され、基板2
02の一主面又は裏面に対してロット番号等の刻印が行
われる。
は、第3の搬送機構50を介して次の裏面洗浄機構54
に搬送され、基板202の一主面の反対側の面(裏面)
が洗浄される。その後、基板202は、第4の搬送機構
56を介して次の番号付与機構58に搬送され、基板2
02の一主面又は裏面に対してロット番号等の刻印が行
われる。
【0056】その後、基板202は、第5の搬送機構6
0を介して次の第1の実施の形態に係る欠陥検査装置6
2に搬送され、基板202の欠陥の有無や色素記録層2
04の膜厚の検査が行われる。この検査は、基板202
の裏面から光を照射してその光の透過状態を例えばCC
Dカメラで画像処理することによって行われる。この欠
陥検査装置62での検査結果は次の選別機構68に送ら
れる。この欠陥検査装置62の構成及びその処理動作の
説明は、後で詳述する。
0を介して次の第1の実施の形態に係る欠陥検査装置6
2に搬送され、基板202の欠陥の有無や色素記録層2
04の膜厚の検査が行われる。この検査は、基板202
の裏面から光を照射してその光の透過状態を例えばCC
Dカメラで画像処理することによって行われる。この欠
陥検査装置62での検査結果は次の選別機構68に送ら
れる。この欠陥検査装置62の構成及びその処理動作の
説明は、後で詳述する。
【0057】上述の検査処理を終えた基板202は、そ
の検査結果に基づいて選別機構68によって正常品用の
スタックポール64か、NG用のスタックポール66に
搬送選別される。
の検査結果に基づいて選別機構68によって正常品用の
スタックポール64か、NG用のスタックポール66に
搬送選別される。
【0058】正常品用のスタックポール64に所定枚数
の基板202が積載された段階で、正常品用のスタック
ポール64はこの塗布設備14から取り出されて、次の
後処理設備16に搬送され、該後処理設備16のスタッ
クポール収容部80に収容される。この搬送は、台車で
行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにし
てもよい。
の基板202が積載された段階で、正常品用のスタック
ポール64はこの塗布設備14から取り出されて、次の
後処理設備16に搬送され、該後処理設備16のスタッ
クポール収容部80に収容される。この搬送は、台車で
行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにし
てもよい。
【0059】正常品用のスタックポール64がスタック
ポール収容部80に収容された段階で、第6の搬送機構
82が動作し、スタックポール64から1枚ずつ基板2
02を取り出して、後段の第1の静電ブロー機構84に
搬送する。第1の静電ブロー機構84に搬送された基板
202は、該第1の静電ブロー機構84において静電気
が除去された後、第7の搬送機構86を介して次のスパ
ッタ機構88に搬送される。スパッタ機構88に投入さ
れた基板202は、図7Cに示すように、その一主面
中、周縁部分(エッジ部分)206を除く全面に光反射
層208がスパッタリングによって形成される。
ポール収容部80に収容された段階で、第6の搬送機構
82が動作し、スタックポール64から1枚ずつ基板2
02を取り出して、後段の第1の静電ブロー機構84に
搬送する。第1の静電ブロー機構84に搬送された基板
202は、該第1の静電ブロー機構84において静電気
が除去された後、第7の搬送機構86を介して次のスパ
ッタ機構88に搬送される。スパッタ機構88に投入さ
れた基板202は、図7Cに示すように、その一主面
中、周縁部分(エッジ部分)206を除く全面に光反射
層208がスパッタリングによって形成される。
【0060】光反射層208の材料である光反射性物質
はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例と
しては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、N
b、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、
Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、A
u、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、T
e、Pb、Po、Sn、Biなどの金属及び半金属ある
いはステンレス鋼を挙げることができる。
はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例と
しては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、N
b、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、
Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、A
u、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、T
e、Pb、Po、Sn、Biなどの金属及び半金属ある
いはステンレス鋼を挙げることができる。
【0061】これらのうち、好ましいものは、Cr、N
i、Pt、Cu、Ag、Au、Al及びステンレス鋼で
ある。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上を組み合わせて用いてもよい。または合金とし
て用いてもよい。特に好ましくはAu、Agもしくはそ
の合金である。
i、Pt、Cu、Ag、Au、Al及びステンレス鋼で
ある。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上を組み合わせて用いてもよい。または合金とし
て用いてもよい。特に好ましくはAu、Agもしくはそ
の合金である。
【0062】光反射層208は、例えば、前記光反射性
物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティン
グすることにより記録層の上に形成することができる。
反射層の層厚は、一般的には10〜800nmの範囲
内、好ましくは20〜500nmの範囲内、更に好まし
くは50〜300nmの範囲内に設けられる。
物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティン
グすることにより記録層の上に形成することができる。
反射層の層厚は、一般的には10〜800nmの範囲
内、好ましくは20〜500nmの範囲内、更に好まし
くは50〜300nmの範囲内に設けられる。
【0063】光反射層208が形成された基板202
は、第8の搬送機構90を介して次のエッジ洗浄機構9
2に搬送され、図8Aに示すように、基板202の一主
面中、エッジ部分206が洗浄されて、該エッジ部分2
06に形成されていた色素記録層204が除去される。
その後、基板202は、第9の搬送機構102を介して
次の第2の静電ブロー機構94に搬送され、静電気が除
去される。
は、第8の搬送機構90を介して次のエッジ洗浄機構9
2に搬送され、図8Aに示すように、基板202の一主
面中、エッジ部分206が洗浄されて、該エッジ部分2
06に形成されていた色素記録層204が除去される。
その後、基板202は、第9の搬送機構102を介して
次の第2の静電ブロー機構94に搬送され、静電気が除
去される。
【0064】その後、基板202は、同じく前記第9の
搬送機構102を介してUV硬化液塗布機構96に搬送
され、基板202の一主面の一部分にUV硬化液が滴下
される。その後、基板202は、同じく前記第9の搬送
機構102を介して次のスピン機構98に搬送され、高
速に回転されることにより、基板202上に滴下された
UV硬化液の塗布厚が基板全面において均一にされる。
搬送機構102を介してUV硬化液塗布機構96に搬送
され、基板202の一主面の一部分にUV硬化液が滴下
される。その後、基板202は、同じく前記第9の搬送
機構102を介して次のスピン機構98に搬送され、高
速に回転されることにより、基板202上に滴下された
UV硬化液の塗布厚が基板全面において均一にされる。
【0065】その後、基板202は、同じく前記第9の
搬送機構102を介して次のUV照射機構100に搬送
され、基板202上のUV硬化液に対して紫外線が照射
される。これによって、図8Bに示すように、基板20
2の一主面上に形成された色素記録層204と光反射層
208を覆うようにUV硬化樹脂による保護層210が
形成されて光ディスクDとして構成されることになる。
搬送機構102を介して次のUV照射機構100に搬送
され、基板202上のUV硬化液に対して紫外線が照射
される。これによって、図8Bに示すように、基板20
2の一主面上に形成された色素記録層204と光反射層
208を覆うようにUV硬化樹脂による保護層210が
形成されて光ディスクDとして構成されることになる。
【0066】保護層210は、色素記録層204などを
物理的及び化学的に保護する目的で光反射層208上に
設けられる。保護層210は、基板202の色素記録層
204が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高め
る目的で設けることができる。保護層210で使用され
る材料としては、例えば、SiO、SiO2 、Mg
F 2 、SnO2 、Si3 N4 等の無機物質、及び熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂、そしてUV硬化性樹脂等の有機
物質を挙げることができる。
物理的及び化学的に保護する目的で光反射層208上に
設けられる。保護層210は、基板202の色素記録層
204が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高め
る目的で設けることができる。保護層210で使用され
る材料としては、例えば、SiO、SiO2 、Mg
F 2 、SnO2 、Si3 N4 等の無機物質、及び熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂、そしてUV硬化性樹脂等の有機
物質を挙げることができる。
【0067】保護層210は、例えば、プラスチックの
押出加工で得られたフイルムを接着剤を介して光反射層
208上及び/または基板202上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調整したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥させることによっても形成すること
ができる。
押出加工で得られたフイルムを接着剤を介して光反射層
208上及び/または基板202上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調整したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥させることによっても形成すること
ができる。
【0068】UV硬化性樹脂の場合には、上述したよう
に、そのまま、もしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を
調整したのちこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬
化させることによって形成することができる。これらの
塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収
剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護
層210の層厚は一般には0.1〜100μmの範囲内
に設けられる。
に、そのまま、もしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を
調整したのちこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬
化させることによって形成することができる。これらの
塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収
剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護
層210の層厚は一般には0.1〜100μmの範囲内
に設けられる。
【0069】その後、光ディスクDは、第10の搬送機
構104を介して次の第2の実施の形態に係る欠陥検査
装置106と特性検査機構108に搬送され、色素記録
層204の面と保護層210の面における欠陥の有無や
光ディスクDの基板202に形成されたグルーブ200
による信号特性が検査される。これらの検査は、光ディ
スクDの両面に対してそれぞれ光を照射してその反射光
を例えばCCDカメラで画像処理することによって行わ
れる。これらの欠陥検査装置106及び特性検査機構1
08での各検査結果は次の選別機構114に送られる。
第2の実施の形態に係る欠陥検査装置106の構成及び
その処理動作は、後で詳述する。
構104を介して次の第2の実施の形態に係る欠陥検査
装置106と特性検査機構108に搬送され、色素記録
層204の面と保護層210の面における欠陥の有無や
光ディスクDの基板202に形成されたグルーブ200
による信号特性が検査される。これらの検査は、光ディ
スクDの両面に対してそれぞれ光を照射してその反射光
を例えばCCDカメラで画像処理することによって行わ
れる。これらの欠陥検査装置106及び特性検査機構1
08での各検査結果は次の選別機構114に送られる。
第2の実施の形態に係る欠陥検査装置106の構成及び
その処理動作は、後で詳述する。
【0070】上述の欠陥検査処理及び特性検査処理を終
えた光ディスクDは、各検査結果に基づいて選別機構1
14によって正常品用のスタックポール110か、NG
用のスタックポール112に搬送選別される。
えた光ディスクDは、各検査結果に基づいて選別機構1
14によって正常品用のスタックポール110か、NG
用のスタックポール112に搬送選別される。
【0071】正常品用のスタックポール110に所定枚
数の光ディスクDが積載された段階で、該スタックポー
ル110が後処理設備16から取り出されて図示しない
ラベル印刷工程に投入される。
数の光ディスクDが積載された段階で、該スタックポー
ル110が後処理設備16から取り出されて図示しない
ラベル印刷工程に投入される。
【0072】次に、第1及び第2の欠陥検査装置62及
び106について図9〜図13を参照しながら説明す
る。
び106について図9〜図13を参照しながら説明す
る。
【0073】これら第1及び第2の欠陥検査装置62及
び106は共に同様の構成を有し、図9に示すように、
基板202の下方に設置された光源500から出射され
た光L1のうち、基板202の下面(基板面)202a
で反射した光成分(反射光)Lr1を受光してその受光
量に応じた電気信号(検出信号S1)に変換する第1の
CCDユニット502と、前記光源500から出射され
た光L1のうち、基板202を透過した光成分(透過
光)Ltを受光してその受光量に応じた電気信号(検出
信号S2)に変換する第2のCCDユニット504と、
基板202の上方に設置された光源506から出射され
た光L2のうち、基板202の上面(第1の欠陥検出装
置62では色素記録面202b、第2の欠陥検出装置1
06では保護層面202c)で反射した光成分(反射
光)Lr2を受光してその受光量に応じた電気信号(検
出信号S3)に変換する第3のCCDユニット508と
を有して構成されている。
び106は共に同様の構成を有し、図9に示すように、
基板202の下方に設置された光源500から出射され
た光L1のうち、基板202の下面(基板面)202a
で反射した光成分(反射光)Lr1を受光してその受光
量に応じた電気信号(検出信号S1)に変換する第1の
CCDユニット502と、前記光源500から出射され
た光L1のうち、基板202を透過した光成分(透過
光)Ltを受光してその受光量に応じた電気信号(検出
信号S2)に変換する第2のCCDユニット504と、
基板202の上方に設置された光源506から出射され
た光L2のうち、基板202の上面(第1の欠陥検出装
置62では色素記録面202b、第2の欠陥検出装置1
06では保護層面202c)で反射した光成分(反射
光)Lr2を受光してその受光量に応じた電気信号(検
出信号S3)に変換する第3のCCDユニット508と
を有して構成されている。
【0074】次に、この第1及び第2の実施の形態に係
る欠陥検査装置62及び106の処理動作について説明
する。
る欠陥検査装置62及び106の処理動作について説明
する。
【0075】まず、第1の実施の形態に係る欠陥検査装
置62においては、基板202が第5の搬送機構60
(図1参照)を介して第1の欠陥検査装置62に搬送さ
れた段階で、各光源500及び506から光L1及びL
2が出射され、基板202の基板面202a及び色素記
録面202bに照射される。
置62においては、基板202が第5の搬送機構60
(図1参照)を介して第1の欠陥検査装置62に搬送さ
れた段階で、各光源500及び506から光L1及びL
2が出射され、基板202の基板面202a及び色素記
録面202bに照射される。
【0076】この製造段階においては、色素記録層20
4(図7B参照)の上に光反射層208(図8A参照)
が形成されていないため、光源500からの光L1のう
ち、基板202を透過した光が透過光Ltとして第2の
CCDユニット504に入射される。
4(図7B参照)の上に光反射層208(図8A参照)
が形成されていないため、光源500からの光L1のう
ち、基板202を透過した光が透過光Ltとして第2の
CCDユニット504に入射される。
【0077】また、基板202の基板面202aで反射
した光成分は、反射光Lr1として第1のCCDユニッ
ト502に入射され、基板202の色素記録面202b
で反射した光成分は、反射光Lr2として第3のCCD
ユニット508に入射される。
した光成分は、反射光Lr1として第1のCCDユニッ
ト502に入射され、基板202の色素記録面202b
で反射した光成分は、反射光Lr2として第3のCCD
ユニット508に入射される。
【0078】そして、第1〜第3のCCDユニット50
2、504及び508において、前記入射された反射光
Lr1、透過光Lt及び反射光Lr2の各光量に応じた
例えば電圧レベルを有する検出信号S1〜S3が取り出
される。
2、504及び508において、前記入射された反射光
Lr1、透過光Lt及び反射光Lr2の各光量に応じた
例えば電圧レベルを有する検出信号S1〜S3が取り出
される。
【0079】一方、第2の欠陥検査装置106において
は、基板202が第10の搬送機構104(図1参照)
を介して当該欠陥検査装置106に搬送された段階で、
各光源500及び506からそれぞれ光L1及びL2が
出射され、基板202の基板面202a及び保護層面2
02cに照射される。
は、基板202が第10の搬送機構104(図1参照)
を介して当該欠陥検査装置106に搬送された段階で、
各光源500及び506からそれぞれ光L1及びL2が
出射され、基板202の基板面202a及び保護層面2
02cに照射される。
【0080】この製造段階においては、色素記録層20
4の上に光反射層208(図8A参照)が形成されてい
るため、光源506からの光L2は光反射層208と保
護層210との界面で反射し、反射光Lr2として第3
のCCDユニット508に入射される。また、基板20
2の基板面202aで反射した光成分は、反射光Lr1
として第1のCCDユニット502に入射される。
4の上に光反射層208(図8A参照)が形成されてい
るため、光源506からの光L2は光反射層208と保
護層210との界面で反射し、反射光Lr2として第3
のCCDユニット508に入射される。また、基板20
2の基板面202aで反射した光成分は、反射光Lr1
として第1のCCDユニット502に入射される。
【0081】そして、第1及び第3のCCDユニット5
02及び508において、前記入射された反射光Lr1
及びLr2の各光量に応じた例えば電圧レベルを有する
検出信号S1及びS3が取り出される。
02及び508において、前記入射された反射光Lr1
及びLr2の各光量に応じた例えば電圧レベルを有する
検出信号S1及びS3が取り出される。
【0082】この実施の形態では、CCDセンサによる
検査方式を用いているため、例えば図10Aに示すよう
に、基板202をライン状にスキャンし、透過率あるい
は反射率の変動を検知してハレー欠陥1002や異物1
000、ピンホール1004等の有無を判断することが
できる。
検査方式を用いているため、例えば図10Aに示すよう
に、基板202をライン状にスキャンし、透過率あるい
は反射率の変動を検知してハレー欠陥1002や異物1
000、ピンホール1004等の有無を判断することが
できる。
【0083】例えば指紋等による通常の欠陥1006に
対しては、図10Bに示すように、検出レベルが基準レ
ベルVoよりも僅かに低く、かつ、広範囲にわたった波
形w1となり、異物1000による欠陥に対しては、検
出レベルが局部的に大きな振幅で低くなるという負のイ
ンパルス的な波形w2となる。
対しては、図10Bに示すように、検出レベルが基準レ
ベルVoよりも僅かに低く、かつ、広範囲にわたった波
形w1となり、異物1000による欠陥に対しては、検
出レベルが局部的に大きな振幅で低くなるという負のイ
ンパルス的な波形w2となる。
【0084】また、異物1000を核とするハレー欠陥
1002に対しては、検出レベルが局部的に大きな振幅
で低くなるという負のインパルス的な波形と検出レベル
が基準レベルよりも僅かに高く、かつ広範囲にわたった
波形とが混在した波形w3を有する。
1002に対しては、検出レベルが局部的に大きな振幅
で低くなるという負のインパルス的な波形と検出レベル
が基準レベルよりも僅かに高く、かつ広範囲にわたった
波形とが混在した波形w3を有する。
【0085】このように、上述の各種欠陥は、検出信号
S1及びS3のプロファイルが異なるため、簡単に区別
することができる。また、局部的に色素記録層204が
形成されていないピンホール1004による欠陥は、図
10Cに示すように、検出信号S2によって簡単に検出
することができる。この場合、検出レベルが局部的に大
きな振幅で高くなるという正のインパルス的な波形w4
となる。そして、検出信号S1〜S3から各種欠陥の個
数を検出することが可能となる。
S1及びS3のプロファイルが異なるため、簡単に区別
することができる。また、局部的に色素記録層204が
形成されていないピンホール1004による欠陥は、図
10Cに示すように、検出信号S2によって簡単に検出
することができる。この場合、検出レベルが局部的に大
きな振幅で高くなるという正のインパルス的な波形w4
となる。そして、検出信号S1〜S3から各種欠陥の個
数を検出することが可能となる。
【0086】そして、この製造システム10において
は、端末装置308に接続されているモニタ316を通
じて、図11〜図13に示すような検査画面が表示され
るようになっている。
は、端末装置308に接続されているモニタ316を通
じて、図11〜図13に示すような検査画面が表示され
るようになっている。
【0087】この検査画面は、図11に示すように、生
産データ表示部520と欠陥内訳表示部522とで構成
された第1の検査画面524と、図12に示すように、
生産データ表示部520とCCD種別表示部526とで
構成された第2の検査画面528と、図13に示すよう
に、100枚単位の検査結果の推移をグラフ化して示し
た第3の検査画面530とがある。
産データ表示部520と欠陥内訳表示部522とで構成
された第1の検査画面524と、図12に示すように、
生産データ表示部520とCCD種別表示部526とで
構成された第2の検査画面528と、図13に示すよう
に、100枚単位の検査結果の推移をグラフ化して示し
た第3の検査画面530とがある。
【0088】生産データ表示部520は、例えば図11
に示すように、全数と直近100に区分されている。全
数とは、この製造システム10が稼働を開始してからこ
の生産データ表示部520を表示させた段階までに生産
された光ディスクDの枚数を示し、直近100とは、こ
の生産データ表示部520を表示させた際の最も新しく
生産された100枚を示す。
に示すように、全数と直近100に区分されている。全
数とは、この製造システム10が稼働を開始してからこ
の生産データ表示部520を表示させた段階までに生産
された光ディスクDの枚数を示し、直近100とは、こ
の生産データ表示部520を表示させた際の最も新しく
生産された100枚を示す。
【0089】そして、この生産データ表示部520は、
光ディスクDの全数に関する良品数、不良品数及び歩留
まりがそれぞれ成形機別に区分されて表示され、更に、
光ディスクDの直近100に関する良品数、不良品数及
び歩留まりがそれぞれ成形機別に区分されて表示される
ようになっている。
光ディスクDの全数に関する良品数、不良品数及び歩留
まりがそれぞれ成形機別に区分されて表示され、更に、
光ディスクDの直近100に関する良品数、不良品数及
び歩留まりがそれぞれ成形機別に区分されて表示される
ようになっている。
【0090】欠陥内訳表示部522は、図11に示すよ
うに、第1及び第2の成形設備12A及び12Bで成形
されたそれぞれの基板202に関する各種欠陥の数と歩
留まりが6つのスピンコート装置別に区分されて表示さ
れるようになっている。
うに、第1及び第2の成形設備12A及び12Bで成形
されたそれぞれの基板202に関する各種欠陥の数と歩
留まりが6つのスピンコート装置別に区分されて表示さ
れるようになっている。
【0091】この欠陥内訳表示部522においても、全
数と直近100に区分され、端末装置308に接続され
た入力装置314を通じての全数指定又は直近100指
定に応じて表示内容が切り替わるようになっている。図
11は、全数に関する欠陥内訳表示部522を示す。図
11において、欠陥Dは指紋等による通常の欠陥100
6を示し、欠陥Aは異物1000による欠陥を示し、欠
陥Kはピンホール1004による欠陥を示し、欠陥Hは
ハレー欠陥1002を示す。
数と直近100に区分され、端末装置308に接続され
た入力装置314を通じての全数指定又は直近100指
定に応じて表示内容が切り替わるようになっている。図
11は、全数に関する欠陥内訳表示部522を示す。図
11において、欠陥Dは指紋等による通常の欠陥100
6を示し、欠陥Aは異物1000による欠陥を示し、欠
陥Kはピンホール1004による欠陥を示し、欠陥Hは
ハレー欠陥1002を示す。
【0092】図12に示すCCD種別表示部526は、
第1及び第2の成形設備12A及び12Bで成形された
それぞれの基板202に関する各種欠陥の数が第1〜第
3のCCDユニット502、504及び508の種別に
対応して区分されて表示されるようになっている。この
CCD種別表示部526においても、全数と直近100
に区分され、端末装置308に接続された入力装置31
4を通じての全数指定又は直近100指定に応じて表示
内容が切り替わるようになっている。図12は、全数に
関する欠陥内訳表示部522を示す。
第1及び第2の成形設備12A及び12Bで成形された
それぞれの基板202に関する各種欠陥の数が第1〜第
3のCCDユニット502、504及び508の種別に
対応して区分されて表示されるようになっている。この
CCD種別表示部526においても、全数と直近100
に区分され、端末装置308に接続された入力装置31
4を通じての全数指定又は直近100指定に応じて表示
内容が切り替わるようになっている。図12は、全数に
関する欠陥内訳表示部522を示す。
【0093】図13に示す第3の検査画面530は、第
1及び第2の成形設備12A及び12Bで形成されたそ
れぞれの基板202に関する各種欠陥の発生推移並びに
歩留まりと良品/不良品を100枚単位で表示したグラ
フであって、欠陥D、欠陥A、欠陥K及び欠陥Hについ
ては、スピンコート装置別に線種あるいは色を変えてグ
ラフが表示されるようになっている。
1及び第2の成形設備12A及び12Bで形成されたそ
れぞれの基板202に関する各種欠陥の発生推移並びに
歩留まりと良品/不良品を100枚単位で表示したグラ
フであって、欠陥D、欠陥A、欠陥K及び欠陥Hについ
ては、スピンコート装置別に線種あるいは色を変えてグ
ラフが表示されるようになっている。
【0094】また、歩留まり、良品/不良品についても
それぞれ線種あるいは色を変えてグラフが表示されるよ
うになっている。図13の例では、歩留まりの推移が実
線、良品の数の推移が一点鎖線、不良品の数の推移が破
線となっている。
それぞれ線種あるいは色を変えてグラフが表示されるよ
うになっている。図13の例では、歩留まりの推移が実
線、良品の数の推移が一点鎖線、不良品の数の推移が破
線となっている。
【0095】次に、第1〜第3の検査画面524、52
8及び530を表示させるための処理について図14〜
図32を参照しながら説明する。
8及び530を表示させるための処理について図14〜
図32を参照しながら説明する。
【0096】この第1〜第3の検査画面524、528
及び530を表示させるための処理は、図14に示すよ
うに、端末装置308のコンピュータ上で動作する第1
〜第4のファイル処理手段600、602、604及び
606、表示データ作成手段608並びに検査結果表示
処理手段610によって実現される。
及び530を表示させるための処理は、図14に示すよ
うに、端末装置308のコンピュータ上で動作する第1
〜第4のファイル処理手段600、602、604及び
606、表示データ作成手段608並びに検査結果表示
処理手段610によって実現される。
【0097】第1のファイル処理手段600は、第1及
び第2の成形設備12A及び12Bから運搬されてきた
スタックポール24に集積された基板202を順次塗布
工程に投入するという機械的作業の間に端末装置308
のコンピュータ上で行われるファイル処理であって、当
該基板202が塗布処理されるスピンコート装置52の
番号を第iの検査結果ファイルFile#iに登録する
と共に、基板202の検索に用いられるインデックスの
値を第1の更新ファイル612に順次登録するという処
理を行う。
び第2の成形設備12A及び12Bから運搬されてきた
スタックポール24に集積された基板202を順次塗布
工程に投入するという機械的作業の間に端末装置308
のコンピュータ上で行われるファイル処理であって、当
該基板202が塗布処理されるスピンコート装置52の
番号を第iの検査結果ファイルFile#iに登録する
と共に、基板202の検索に用いられるインデックスの
値を第1の更新ファイル612に順次登録するという処
理を行う。
【0098】検査結果ファイルは、第1及び第2の成形
設備12A及び12Bに合わせて2つ存在し(第1及び
第2の検査結果ファイルFile#1及びFile#
2)、代表的に図15に示すように、各レコードには、
良品/不良品を示す情報、使用されたスピンコート装置
の番号、基板面の欠陥の数(欠陥D、欠陥A及び欠陥
H)、ピンホールの数(欠陥K)、基板面の欠陥の数
(欠陥D、欠陥A及び欠陥H)及び保護層の欠陥(欠陥
A)がそれぞれ登録されるようになっている。
設備12A及び12Bに合わせて2つ存在し(第1及び
第2の検査結果ファイルFile#1及びFile#
2)、代表的に図15に示すように、各レコードには、
良品/不良品を示す情報、使用されたスピンコート装置
の番号、基板面の欠陥の数(欠陥D、欠陥A及び欠陥
H)、ピンホールの数(欠陥K)、基板面の欠陥の数
(欠陥D、欠陥A及び欠陥H)及び保護層の欠陥(欠陥
A)がそれぞれ登録されるようになっている。
【0099】また、第1の更新ファイル612は、FI
FO形式で書込みと読出しが行えるシーケンシャルファ
イルにて構成され、最終レコードにはEOF(End of F
ile)を示すコードが格納されるようになっている。
FO形式で書込みと読出しが行えるシーケンシャルファ
イルにて構成され、最終レコードにはEOF(End of F
ile)を示すコードが格納されるようになっている。
【0100】そして、この第1のファイル処理手段60
0は、図16に示すように、塗布設備14等を制御する
コンピュータ300に対して基板202の取出しや搬
送、塗布処理を指示するための制御信号を出力する制御
信号出力手段620と、6個のスピンコート装置52の
うち、空いているスピンコート装置52を検索する装置
検索手段622と、選択された検査結果ファイルFil
e#1又はFile#2にデータを格納、登録するデー
タ登録手段624と、第1の更新ファイル612にポイ
ンタ(インデックスレジスタjの値)を順次登録するポ
インタ登録手段626と、所定の処理が完了したか否か
を判別する処理完了判別手段628とを有する。
0は、図16に示すように、塗布設備14等を制御する
コンピュータ300に対して基板202の取出しや搬
送、塗布処理を指示するための制御信号を出力する制御
信号出力手段620と、6個のスピンコート装置52の
うち、空いているスピンコート装置52を検索する装置
検索手段622と、選択された検査結果ファイルFil
e#1又はFile#2にデータを格納、登録するデー
タ登録手段624と、第1の更新ファイル612にポイ
ンタ(インデックスレジスタjの値)を順次登録するポ
インタ登録手段626と、所定の処理が完了したか否か
を判別する処理完了判別手段628とを有する。
【0101】第2のファイル処理手段602は、図14
に示すように、塗布処理を終えた基板202に対して検
査を行うという機械的作業の間に端末装置308のコン
ピュータ上で行われるファイル処理であって、当該基板
202の検査結果を第iの検査結果ファイルFile#
iに登録するという処理を行う。
に示すように、塗布処理を終えた基板202に対して検
査を行うという機械的作業の間に端末装置308のコン
ピュータ上で行われるファイル処理であって、当該基板
202の検査結果を第iの検査結果ファイルFile#
iに登録するという処理を行う。
【0102】この第2のファイル処理手段602は、図
17に示すように、第1の更新ファイル612からポイ
ンタを順次読み出すポインタ読出し手段630と、第1
の更新ファイル612から全てのポインタを読み出した
か否かを判別するEOF判別手段632と、選択された
検査結果ファイルFile#1又はFile#2にデー
タを格納、登録するデータ登録手段634と、所定の処
理が完了したか否かを判別する処理完了判別手段636
とを有する。
17に示すように、第1の更新ファイル612からポイ
ンタを順次読み出すポインタ読出し手段630と、第1
の更新ファイル612から全てのポインタを読み出した
か否かを判別するEOF判別手段632と、選択された
検査結果ファイルFile#1又はFile#2にデー
タを格納、登録するデータ登録手段634と、所定の処
理が完了したか否かを判別する処理完了判別手段636
とを有する。
【0103】第3のファイル処理手段604は、図14
に示すように、塗布設備14から運搬されてきた正常品
用のスタックポール64に集積された基板202を順次
後処理工程に投入するという機械的作業の間に端末装置
308のコンピュータ上で行われるファイル処理であっ
て、第iの検査結果ファイルFile#iに登録された
レコードから有効なレコード番号を第2の更新ファイル
640に順次登録するという処理を行う。
に示すように、塗布設備14から運搬されてきた正常品
用のスタックポール64に集積された基板202を順次
後処理工程に投入するという機械的作業の間に端末装置
308のコンピュータ上で行われるファイル処理であっ
て、第iの検査結果ファイルFile#iに登録された
レコードから有効なレコード番号を第2の更新ファイル
640に順次登録するという処理を行う。
【0104】この第3のファイル処理手段604は、図
18に示すように、選択された検査結果ファイルFil
e#1又はFile#2から該当レコードを読み出すフ
ァイル読出し手段650と、処理対象の基板202が良
品か否かを判別する良品判別手段652と、第2の更新
ファイル640にポインタ(インデックスレジスタjの
値)を順次登録するポインタ登録手段654と、後処理
設備16等を制御する第1のコンピュータ300に対し
て基板202の取出しや搬送、後処理を指示するための
制御信号を出力する制御信号出力手段656と、所定の
処理が完了したか否かを判別する処理完了判別手段65
8とを有する。
18に示すように、選択された検査結果ファイルFil
e#1又はFile#2から該当レコードを読み出すフ
ァイル読出し手段650と、処理対象の基板202が良
品か否かを判別する良品判別手段652と、第2の更新
ファイル640にポインタ(インデックスレジスタjの
値)を順次登録するポインタ登録手段654と、後処理
設備16等を制御する第1のコンピュータ300に対し
て基板202の取出しや搬送、後処理を指示するための
制御信号を出力する制御信号出力手段656と、所定の
処理が完了したか否かを判別する処理完了判別手段65
8とを有する。
【0105】第4のファイル処理手段606は、図14
に示すように、後処理を終えた基板202に対して検査
を行うという機械的作業の間に端末装置308のコンピ
ュータ上で行われるファイル処理であって、当該基板2
02の検査結果を第iの検査結果ファイルFile#i
に登録するという処理を行う。
に示すように、後処理を終えた基板202に対して検査
を行うという機械的作業の間に端末装置308のコンピ
ュータ上で行われるファイル処理であって、当該基板2
02の検査結果を第iの検査結果ファイルFile#i
に登録するという処理を行う。
【0106】この第4のファイル処理手段606は、図
19に示すように、第2の更新ファイル640からポイ
ンタを順次読み出すポインタ読出し手段670と、第2
の更新ファイル640から全てのポインタを読み出した
か否かを判別するEOF判別手段672と、選択された
検査結果ファイルFile#1又はFile#2にデー
タを格納、登録するデータ登録手段674と、検査結果
ファイルFile#1及びFile#2を別の記憶領域
に複写するファイル複写手段676と、表示データ作成
手段608を起動するプログラム起動手段678と、所
定の処理が完了したか否かを判別する処理完了判別手段
680とを有する。
19に示すように、第2の更新ファイル640からポイ
ンタを順次読み出すポインタ読出し手段670と、第2
の更新ファイル640から全てのポインタを読み出した
か否かを判別するEOF判別手段672と、選択された
検査結果ファイルFile#1又はFile#2にデー
タを格納、登録するデータ登録手段674と、検査結果
ファイルFile#1及びFile#2を別の記憶領域
に複写するファイル複写手段676と、表示データ作成
手段608を起動するプログラム起動手段678と、所
定の処理が完了したか否かを判別する処理完了判別手段
680とを有する。
【0107】一方、表示データ作成手段608は、第4
のファイル処理手段606のファイル複写手段676を
通じて別の記憶領域に複写された第1及び第2の検査結
果ファイルFile#1及びFile#2に登録された
データに基づいて表示データを作成する。
のファイル処理手段606のファイル複写手段676を
通じて別の記憶領域に複写された第1及び第2の検査結
果ファイルFile#1及びFile#2に登録された
データに基づいて表示データを作成する。
【0108】この表示データ作成手段608は、図20
に示すように、選択された検査結果ファイルFile#
1又はFile#2の該当レコードを読み出すファイル
読出し手段690と、直近100に関する表示を行うた
めのファイル群700を作成する直近用ファイル作成手
段692と、全数に関する表示を行うためのファイル群
710を作成する全数用ファイル作成手段694と、グ
ラフを表示するための推移ファイル群720を作成する
推移ファイル作成手段696と、所定の処理が完了した
か否かを判別する処理完了判別手段698とを有する。
に示すように、選択された検査結果ファイルFile#
1又はFile#2の該当レコードを読み出すファイル
読出し手段690と、直近100に関する表示を行うた
めのファイル群700を作成する直近用ファイル作成手
段692と、全数に関する表示を行うためのファイル群
710を作成する全数用ファイル作成手段694と、グ
ラフを表示するための推移ファイル群720を作成する
推移ファイル作成手段696と、所定の処理が完了した
か否かを判別する処理完了判別手段698とを有する。
【0109】直近用ファイル群700は、第1及び第2
の直近用不良内訳ファイル700#1及び700#2
と、第1及び第2の直近用CCD種別ファイル702#
1及び702#2と、第1及び第2の直近用生産データ
ファイル704#1及び704#2とを有する。
の直近用不良内訳ファイル700#1及び700#2
と、第1及び第2の直近用CCD種別ファイル702#
1及び702#2と、第1及び第2の直近用生産データ
ファイル704#1及び704#2とを有する。
【0110】全数用ファイル群710は、第1及び第2
の全数用不良内訳ファイル710#1及び710#2
と、第1及び第2の全数用CCD種別ファイルファイル
712#1及び712#2と、第1及び第2の全数用生
産データファイルファイル714#1及び714#2と
を有する。
の全数用不良内訳ファイル710#1及び710#2
と、第1及び第2の全数用CCD種別ファイルファイル
712#1及び712#2と、第1及び第2の全数用生
産データファイルファイル714#1及び714#2と
を有する。
【0111】各直近用不良内訳ファイル700#1及び
700#2と各全数用不良内訳ファイル710#1及び
710#2は、図21に示すように、スピンコート装置
52の数に合わせて6レコード有し、各レコードに良品
数、不良品数、歩留まり、欠陥Dの数、欠陥Aの数、欠
陥Kの数及び欠陥Hの数がそれぞれ登録できるようにな
っている。
700#2と各全数用不良内訳ファイル710#1及び
710#2は、図21に示すように、スピンコート装置
52の数に合わせて6レコード有し、各レコードに良品
数、不良品数、歩留まり、欠陥Dの数、欠陥Aの数、欠
陥Kの数及び欠陥Hの数がそれぞれ登録できるようにな
っている。
【0112】各直近用CCD種別ファイル702#1及
び702#2と各全数用CCD種別ファイル712#1
及び712#2は、図22に示すように、CCDユニッ
トの種別に合わせて3レコード有し、各レコードに欠陥
Dの数、欠陥Aの数、欠陥Kの数及び欠陥Hの数がそれ
ぞれ登録できるようになっている。
び702#2と各全数用CCD種別ファイル712#1
及び712#2は、図22に示すように、CCDユニッ
トの種別に合わせて3レコード有し、各レコードに欠陥
Dの数、欠陥Aの数、欠陥Kの数及び欠陥Hの数がそれ
ぞれ登録できるようになっている。
【0113】各直近用生産データファイル704#1及
び704#2と各全数用生産データファイル714#1
及び714#2は、図23に示すように、良品数、不良
品数及び歩留まりがそれぞれ登録できるようになってい
る。
び704#2と各全数用生産データファイル714#1
及び714#2は、図23に示すように、良品数、不良
品数及び歩留まりがそれぞれ登録できるようになってい
る。
【0114】推移ファイル群720は、例えば10個の
ファイル720#1、720#2・・・で構成され、各
ファイル720#1、720#2・・・は、図24に示
すように、スピンコート装置52の数に合わせて6レコ
ード有し、各レコードに良品数、不良品数、歩留まり、
欠陥Dの数、欠陥Aの数、欠陥Kの数及び欠陥Hの数が
それぞれ登録できるようになっている。
ファイル720#1、720#2・・・で構成され、各
ファイル720#1、720#2・・・は、図24に示
すように、スピンコート装置52の数に合わせて6レコ
ード有し、各レコードに良品数、不良品数、歩留まり、
欠陥Dの数、欠陥Aの数、欠陥Kの数及び欠陥Hの数が
それぞれ登録できるようになっている。
【0115】また、検査結果表示処理手段610は、各
種検査画面を要求に応じて表示するものであって、図2
5に示すように、端末装置308に接続された入力装置
314からの要求を解析する要求判別手段800と、第
1及び第2の検査画面524及び528のうち、生産デ
ータ表示部520をモニタ316に表示するための生産
データ表示手段802と、第1の検査画面524のう
ち、不良内訳表示部522をモニタ316に表示するた
めの不良内訳表示手段804と、第2の検査画面528
のうち、CCD種別表示部526をモニタ316に表示
するためのCCD種別表示手段806と、第3の検査画
面530をモニタ316に表示するための推移グラフ表
示手段808とを有する。
種検査画面を要求に応じて表示するものであって、図2
5に示すように、端末装置308に接続された入力装置
314からの要求を解析する要求判別手段800と、第
1及び第2の検査画面524及び528のうち、生産デ
ータ表示部520をモニタ316に表示するための生産
データ表示手段802と、第1の検査画面524のう
ち、不良内訳表示部522をモニタ316に表示するた
めの不良内訳表示手段804と、第2の検査画面528
のうち、CCD種別表示部526をモニタ316に表示
するためのCCD種別表示手段806と、第3の検査画
面530をモニタ316に表示するための推移グラフ表
示手段808とを有する。
【0116】ここで、第1〜第4のファイル処理手段6
00、602、604及び606、表示データ作成手段
608並びに検査結果表示処理手段610での各処理動
作、を図26〜図32のフローチャートに基づいて説明
する。これら第1〜第4のファイル処理手段600、6
02、604及び606、表示データ作成手段608並
びに検査結果表示処理手段610は、それぞれマルチタ
スク方式で動作するようになっている。
00、602、604及び606、表示データ作成手段
608並びに検査結果表示処理手段610での各処理動
作、を図26〜図32のフローチャートに基づいて説明
する。これら第1〜第4のファイル処理手段600、6
02、604及び606、表示データ作成手段608並
びに検査結果表示処理手段610は、それぞれマルチタ
スク方式で動作するようになっている。
【0117】まず、第1のファイル処理手段600は、
図26のステップS1において、成形設備12A及び1
2Bの検索に用いられるインデックスレジスタiに初期
値「1」を格納して、該インデックスレジスタiを初期
化する。
図26のステップS1において、成形設備12A及び1
2Bの検索に用いられるインデックスレジスタiに初期
値「1」を格納して、該インデックスレジスタiを初期
化する。
【0118】次に、ステップS2において、基板202
の検索に用いられるインデックスレジスタjに初期値
「1」を格納して、該インデックスレジスタjを初期化
する。
の検索に用いられるインデックスレジスタjに初期値
「1」を格納して、該インデックスレジスタjを初期化
する。
【0119】次に、ステップS3において、制御信号出
力手段620を通じて、コンピュータ300に対して第
iの成形設備12A又は12Bから運搬されたスタック
ポール24からj番目の基板202を取り出す旨の制御
信号を出力する。
力手段620を通じて、コンピュータ300に対して第
iの成形設備12A又は12Bから運搬されたスタック
ポール24からj番目の基板202を取り出す旨の制御
信号を出力する。
【0120】次に、ステップS4において、装置検索手
段622を通じて、6個のスピンコート装置52のう
ち、空いているスピンコート装置52を検索した後、ス
テップS5において、データ登録手段624を通じて、
前記検索したスピンコート装置52の番号を第iの検査
結果ファイルFile#iのjレコード目に格納する。
段622を通じて、6個のスピンコート装置52のう
ち、空いているスピンコート装置52を検索した後、ス
テップS5において、データ登録手段624を通じて、
前記検索したスピンコート装置52の番号を第iの検査
結果ファイルFile#iのjレコード目に格納する。
【0121】次に、ステップS6において、制御信号出
力手段620を通じて、コンピュータ300に対してj
番目の基板202を塗布工程に投入する旨の制御信号を
出力した後、ステップS7において、ポインタ登録手段
626を通じて、インデックスレジスタjの値をFIF
O形式の第1の更新ファイル612に格納する。
力手段620を通じて、コンピュータ300に対してj
番目の基板202を塗布工程に投入する旨の制御信号を
出力した後、ステップS7において、ポインタ登録手段
626を通じて、インデックスレジスタjの値をFIF
O形式の第1の更新ファイル612に格納する。
【0122】次に、ステップS8において、インデック
スレジスタjの値を+1更新した後、次のステップS9
において、処理完了判別手段628を通じて、100枚
の基板202を処理したか否かが判別される。この判別
は、インデックスレジスタjが100よりも大きいかど
うかで行われる。
スレジスタjの値を+1更新した後、次のステップS9
において、処理完了判別手段628を通じて、100枚
の基板202を処理したか否かが判別される。この判別
は、インデックスレジスタjが100よりも大きいかど
うかで行われる。
【0123】100枚の基板202の処理が完了してい
なければ、前記ステップS3に戻り、次の基板202に
ついての処理が行われ、100枚の基板202の処理が
完了していれば、次のステップS10に進み、処理完了
判別手段628を通じて、第1の欠陥検査装置62での
100枚の基板202に対する検査終了を待つ。
なければ、前記ステップS3に戻り、次の基板202に
ついての処理が行われ、100枚の基板202の処理が
完了していれば、次のステップS10に進み、処理完了
判別手段628を通じて、第1の欠陥検査装置62での
100枚の基板202に対する検査終了を待つ。
【0124】検査が終了した段階で、次のステップS1
1に進み、インデックスレジスタiの値を+1更新した
後、ステップS12において、処理完了判別手段628
を通じて、2つの検査結果ファイルFile#1及びF
ile#2に対する処理が終了したか否かが判別され
る。この判別は、インデックスレジスタiの値が2より
も大きいか否かで行われる。
1に進み、インデックスレジスタiの値を+1更新した
後、ステップS12において、処理完了判別手段628
を通じて、2つの検査結果ファイルFile#1及びF
ile#2に対する処理が終了したか否かが判別され
る。この判別は、インデックスレジスタiの値が2より
も大きいか否かで行われる。
【0125】2つの検査結果ファイルFile#1及び
File#2に対する処理が終了していなければ、前記
ステップS2に戻り、次の検査結果ファイルに対する処
理が行われる。2つの検査結果ファイルFile#1及
びFile#2の処理が終了していれば、次のステップ
S13に進み、処理完了判別手段628を通じて、この
第1のファイル処理手段600での処理動作に対するプ
ログラム終了要求(例えば電源断やメンテナンスのため
の一部停止の要求)がなされているか否かが判別され
る。
File#2に対する処理が終了していなければ、前記
ステップS2に戻り、次の検査結果ファイルに対する処
理が行われる。2つの検査結果ファイルFile#1及
びFile#2の処理が終了していれば、次のステップ
S13に進み、処理完了判別手段628を通じて、この
第1のファイル処理手段600での処理動作に対するプ
ログラム終了要求(例えば電源断やメンテナンスのため
の一部停止の要求)がなされているか否かが判別され
る。
【0126】プログラムの終了要求がなければ、前記ス
テップS1に戻り、該第1のファイル処理手段600で
の処理動作が繰り返され、プログラムの終了要求があれ
ば、この第1のファイル処理手段600での処理動作が
終了する。
テップS1に戻り、該第1のファイル処理手段600で
の処理動作が繰り返され、プログラムの終了要求があれ
ば、この第1のファイル処理手段600での処理動作が
終了する。
【0127】次に、第2のファイル処理手段602の処
理動作について図17及び図27を参照しながら説明す
る。
理動作について図17及び図27を参照しながら説明す
る。
【0128】この第2のファイル処理手段602は、図
27のステップS101において、成形設備12A及び
12Bの検索に用いられるインデックスレジスタiに初
期値「1」を格納して該インデックスレジスタiを初期
化する。
27のステップS101において、成形設備12A及び
12Bの検索に用いられるインデックスレジスタiに初
期値「1」を格納して該インデックスレジスタiを初期
化する。
【0129】次に、ステップS102において、ポイン
タ読出し手段630を通じて、第1の更新ファイル61
2からポインタを取り出し、該ポインタの値をインデッ
クスレジスタjに格納する。
タ読出し手段630を通じて、第1の更新ファイル61
2からポインタを取り出し、該ポインタの値をインデッ
クスレジスタjに格納する。
【0130】次に、ステップS103において、EOF
判別手段632を通じて、第1の更新ファイル612が
空であるか否かが判別される。空でなければ、次のステ
ップS104に進み、データ登録手段634を通じて、
第iの検査結果ファイルFile#iのjレコード目に
検査結果を格納する。
判別手段632を通じて、第1の更新ファイル612が
空であるか否かが判別される。空でなければ、次のステ
ップS104に進み、データ登録手段634を通じて、
第iの検査結果ファイルFile#iのjレコード目に
検査結果を格納する。
【0131】次に、ステップS105において、第iの
検査結果ファイルFile#iのjレコード目に良品/
不良品の結果を登録する。その後、前記ステップS10
2に戻り、ステップS102〜S105の処理を第1の
更新ファイル612が空になるまで行う。
検査結果ファイルFile#iのjレコード目に良品/
不良品の結果を登録する。その後、前記ステップS10
2に戻り、ステップS102〜S105の処理を第1の
更新ファイル612が空になるまで行う。
【0132】第1の更新ファイル612が空になった段
階で、ステップS106に進み、処理完了判別手段63
6を通じて、前記第1のファイル処理手段600による
第1の更新ファイル612への登録処理が終了したか否
かが判別される。
階で、ステップS106に進み、処理完了判別手段63
6を通じて、前記第1のファイル処理手段600による
第1の更新ファイル612への登録処理が終了したか否
かが判別される。
【0133】終了していなければ、前記ステップS10
2に戻り、再び、ステップS102〜S105の処理を
繰り返す。そして、第1の更新ファイル612への登録
処理が終了した段階で、ステップS107に進み、デー
タ登録手段634を通じて、第iの検査結果ファイルF
ile#iの並びを逆転する。
2に戻り、再び、ステップS102〜S105の処理を
繰り返す。そして、第1の更新ファイル612への登録
処理が終了した段階で、ステップS107に進み、デー
タ登録手段634を通じて、第iの検査結果ファイルF
ile#iの並びを逆転する。
【0134】その後、ステップS108において、イン
デックスレジスタiの値を+1更新した後、ステップS
109において、2つの検査結果ファイルFile#1
及びFile#2に対する処理が終了したか否かが判別
される。この判別は、インデックスレジスタiの値が2
よりも大きいか否かで行われる。
デックスレジスタiの値を+1更新した後、ステップS
109において、2つの検査結果ファイルFile#1
及びFile#2に対する処理が終了したか否かが判別
される。この判別は、インデックスレジスタiの値が2
よりも大きいか否かで行われる。
【0135】2つの検査結果ファイルFile#1及び
File#2に対する処理が終了していなければ、前記
ステップS102に戻り、次の検査結果ファイルに対す
る処理が行われる。2つの検査結果ファイルFile#
1及びFile#2の処理が終了していれば、次のステ
ップS110に進み、処理完了判別手段636を通じ
て、この第2のファイル処理手段602での処理動作に
対するプログラム終了要求がなされているか否かが判別
される。
File#2に対する処理が終了していなければ、前記
ステップS102に戻り、次の検査結果ファイルに対す
る処理が行われる。2つの検査結果ファイルFile#
1及びFile#2の処理が終了していれば、次のステ
ップS110に進み、処理完了判別手段636を通じ
て、この第2のファイル処理手段602での処理動作に
対するプログラム終了要求がなされているか否かが判別
される。
【0136】プログラムの終了要求がなければ、前記ス
テップS101に戻り、該第2のファイル処理手段60
2での処理動作が繰り返され、プログラムの終了要求が
あれば、この第2のファイル処理手段602での処理動
作が終了する。
テップS101に戻り、該第2のファイル処理手段60
2での処理動作が繰り返され、プログラムの終了要求が
あれば、この第2のファイル処理手段602での処理動
作が終了する。
【0137】次に、第3のファイル処理手段604の処
理動作について図18及び図28を参照しながら説明す
る。この第3のファイル処理手段604は、図28のス
テップS201において、成形設備12A及び12Bの
検索に用いられるインデックスレジスタiに初期値
「1」を格納して、該インデックスレジスタiを初期化
する。
理動作について図18及び図28を参照しながら説明す
る。この第3のファイル処理手段604は、図28のス
テップS201において、成形設備12A及び12Bの
検索に用いられるインデックスレジスタiに初期値
「1」を格納して、該インデックスレジスタiを初期化
する。
【0138】次に、ステップS202において、基板2
02の検索に用いられるインデックスレジスタjに初期
値「1」を格納して、該インデックスレジスタjを初期
化する。
02の検索に用いられるインデックスレジスタjに初期
値「1」を格納して、該インデックスレジスタjを初期
化する。
【0139】次に、ステップS203において、制御信
号出力手段656を通じて、コンピュータ300に対し
て塗布設備14から運搬されたスタックポール64から
j番目の基板202を取り出す旨の制御信号を出力す
る。
号出力手段656を通じて、コンピュータ300に対し
て塗布設備14から運搬されたスタックポール64から
j番目の基板202を取り出す旨の制御信号を出力す
る。
【0140】次に、ステップS204において、ファイ
ル読出し手段650を通じて、第iの検査結果ファイル
File#iのjレコードを読み出す。
ル読出し手段650を通じて、第iの検査結果ファイル
File#iのjレコードを読み出す。
【0141】次に、ステップS205において、良品判
別手段652を通じて、当該jレコード目に関する基板
202が良品であるか否かが判別される。この判別は、
前記読み出されたjレコードに登録されている良品/不
良品の情報に基づいて行われる。
別手段652を通じて、当該jレコード目に関する基板
202が良品であるか否かが判別される。この判別は、
前記読み出されたjレコードに登録されている良品/不
良品の情報に基づいて行われる。
【0142】良品であれば、次のステップS206に進
み、ポインタ登録手段654を通じて、jの値をFIF
O形式の第2の更新ファイル640に格納した後、次の
ステップS207において、制御信号出力手段656を
通じて、コンピュータ300に対してj番目の基板を後
処理工程に投入する旨の制御信号を出力する。
み、ポインタ登録手段654を通じて、jの値をFIF
O形式の第2の更新ファイル640に格納した後、次の
ステップS207において、制御信号出力手段656を
通じて、コンピュータ300に対してj番目の基板を後
処理工程に投入する旨の制御信号を出力する。
【0143】前記ステップS207での処理が終了した
段階、あるいはステップS205において不良品と判別
された場合は、次のステップS208に進み、インデッ
クスレジスタjの値を+1更新した後、ステップS20
9において、処理完了判別手段658を通じて、100
枚の基板202を処理したか否かが判別される。この判
別は、インデックスレジスタjの値が100よりも大き
いかどうかで行われる。
段階、あるいはステップS205において不良品と判別
された場合は、次のステップS208に進み、インデッ
クスレジスタjの値を+1更新した後、ステップS20
9において、処理完了判別手段658を通じて、100
枚の基板202を処理したか否かが判別される。この判
別は、インデックスレジスタjの値が100よりも大き
いかどうかで行われる。
【0144】100枚の基板202の処理が完了してい
なければ、前記ステップS203に戻り、次の基板20
2についての処理が行われ、100枚の基板202につ
いて処理が完了していれば、次のステップS210に進
み、処理完了判別手段658を通じて、第2の欠陥検査
装置106での100枚の基板202に対する検査終了
を待つ。
なければ、前記ステップS203に戻り、次の基板20
2についての処理が行われ、100枚の基板202につ
いて処理が完了していれば、次のステップS210に進
み、処理完了判別手段658を通じて、第2の欠陥検査
装置106での100枚の基板202に対する検査終了
を待つ。
【0145】検査が終了した段階で、次のステップS2
11に進み、インデックスレジスタiの値を+1更新し
た後、ステップS212において、処理完了判別手段6
58を通じて、2つの検査結果ファイルFile#1及
びFile#2に対する処理が終了したか否かが判別さ
れる。この判別は、インデックスレジスタiの値が2よ
りも大きいか否かで行われる。
11に進み、インデックスレジスタiの値を+1更新し
た後、ステップS212において、処理完了判別手段6
58を通じて、2つの検査結果ファイルFile#1及
びFile#2に対する処理が終了したか否かが判別さ
れる。この判別は、インデックスレジスタiの値が2よ
りも大きいか否かで行われる。
【0146】2つの検査結果ファイルFile#1及び
File#2に対する処理が終了していなければ、前記
ステップS202に戻り、次の検査結果ファイルに対す
る処理が行われる。2つの検査結果ファイルFile#
1及びFile#2の処理が終了していれば、次のステ
ップS213に進み、処理完了判別手段658を通じ
て、この第3のファイル処理手段604での処理動作に
対するプログラム終了要求がなされているか否かが判別
される。
File#2に対する処理が終了していなければ、前記
ステップS202に戻り、次の検査結果ファイルに対す
る処理が行われる。2つの検査結果ファイルFile#
1及びFile#2の処理が終了していれば、次のステ
ップS213に進み、処理完了判別手段658を通じ
て、この第3のファイル処理手段604での処理動作に
対するプログラム終了要求がなされているか否かが判別
される。
【0147】プログラムの終了要求がなければ、前記ス
テップS201に戻り、該第3のファイル処理手段60
4での処理動作が繰り返され、プログラムの終了要求が
あれば、この第3のファイル処理手段604での処理動
作が終了する。
テップS201に戻り、該第3のファイル処理手段60
4での処理動作が繰り返され、プログラムの終了要求が
あれば、この第3のファイル処理手段604での処理動
作が終了する。
【0148】次に、第4のファイル処理手段606の処
理動作について図19及び図29を参照しながら説明す
る。この第4のファイル処理手段606は、図29のス
テップS301において、成形設備12A及び12Bの
検索に用いられるインデックスレジスタiに初期値
「1」を格納して、該インデックスレジスタiを初期化
する。
理動作について図19及び図29を参照しながら説明す
る。この第4のファイル処理手段606は、図29のス
テップS301において、成形設備12A及び12Bの
検索に用いられるインデックスレジスタiに初期値
「1」を格納して、該インデックスレジスタiを初期化
する。
【0149】次に、ステップS302において、ポイン
タ読出し手段670を通じて、第2の更新ファイル64
0からポインタを取り出し、該ポインタの値をインデッ
クスレジスタjに格納する。
タ読出し手段670を通じて、第2の更新ファイル64
0からポインタを取り出し、該ポインタの値をインデッ
クスレジスタjに格納する。
【0150】次に、ステップS303において、EOF
判別手段672を通じて、第2の更新ファイル640が
空であるか否かが判別される。空でなければ、次のステ
ップS304に進み、データ登録手段674を通じて、
第iの検査結果ファイルFile#iのjレコード目に
検査結果を格納する。
判別手段672を通じて、第2の更新ファイル640が
空であるか否かが判別される。空でなければ、次のステ
ップS304に進み、データ登録手段674を通じて、
第iの検査結果ファイルFile#iのjレコード目に
検査結果を格納する。
【0151】次に、ステップS305において、第iの
検査結果ファイルFile#iのjレコード目に良品/
不良品の結果を登録する。その後、前記ステップS30
2に戻り、ステップS302〜S305の処理を第2の
更新ファイル640が空になるまで行う。
検査結果ファイルFile#iのjレコード目に良品/
不良品の結果を登録する。その後、前記ステップS30
2に戻り、ステップS302〜S305の処理を第2の
更新ファイル640が空になるまで行う。
【0152】第2の更新ファイル640が空になった段
階で、ステップS306に進み、処理完了判別手段68
0を通じて、前記第3のファイル処理手段604による
第2の更新ファイル640への登録処理が終了したか否
かが判別される。
階で、ステップS306に進み、処理完了判別手段68
0を通じて、前記第3のファイル処理手段604による
第2の更新ファイル640への登録処理が終了したか否
かが判別される。
【0153】終了していなければ、前記ステップS30
2に戻り、再び、ステップS302〜S305の処理を
繰り返す。そして、第2の更新ファイル640への登録
処理が終了した段階で、ステップS307に進み、デー
タ登録手段674を通じて、第iの検査結果ファイルF
ile#iの並びを逆転する。
2に戻り、再び、ステップS302〜S305の処理を
繰り返す。そして、第2の更新ファイル640への登録
処理が終了した段階で、ステップS307に進み、デー
タ登録手段674を通じて、第iの検査結果ファイルF
ile#iの並びを逆転する。
【0154】その後、ステップS308において、イン
デックスレジスタiの値を+1更新した後、ステップS
309において、2つの検査結果ファイルFile#1
及びFile#2に対する処理が終了したか否かが判別
される。この判別は、インデックスレジスタiの値が2
よりも大きいか否かで行われる。
デックスレジスタiの値を+1更新した後、ステップS
309において、2つの検査結果ファイルFile#1
及びFile#2に対する処理が終了したか否かが判別
される。この判別は、インデックスレジスタiの値が2
よりも大きいか否かで行われる。
【0155】2つの検査結果ファイルFile#1及び
File#2に対する処理が終了していなければ、前記
ステップS302に戻り、次の検査結果ファイルに対す
る処理が行われる。2つの検査結果ファイルFile#
1及びFile#2の処理が終了していれば、次のステ
ップS310に進み、ファイル複写手段676を通じ
て、第1及び第2の検査結果ファイルFile#1及び
File#2を別の記憶領域に複写する。その後、ステ
ップS311において、プログラム起動手段678を通
じて、表示データ作成手段608を起動する。
File#2に対する処理が終了していなければ、前記
ステップS302に戻り、次の検査結果ファイルに対す
る処理が行われる。2つの検査結果ファイルFile#
1及びFile#2の処理が終了していれば、次のステ
ップS310に進み、ファイル複写手段676を通じ
て、第1及び第2の検査結果ファイルFile#1及び
File#2を別の記憶領域に複写する。その後、ステ
ップS311において、プログラム起動手段678を通
じて、表示データ作成手段608を起動する。
【0156】次に、ステップS312において、処理完
了判別手段680を通じて、この第4のファイル処理手
段606での処理動作に対するプログラム終了要求がな
されているか否かが判別される。
了判別手段680を通じて、この第4のファイル処理手
段606での処理動作に対するプログラム終了要求がな
されているか否かが判別される。
【0157】プログラムの終了要求がなければ、前記ス
テップS301に戻り、該第4のファイル処理手段60
6での処理動作が繰り返され、プログラムの終了要求が
あれば、この第4のファイル処理手段606での処理動
作が終了する。
テップS301に戻り、該第4のファイル処理手段60
6での処理動作が繰り返され、プログラムの終了要求が
あれば、この第4のファイル処理手段606での処理動
作が終了する。
【0158】次に、表示データ作成手段608での処理
動作について図20、図30及び図31を参照しながら
説明する。
動作について図20、図30及び図31を参照しながら
説明する。
【0159】この表示データ作成手段608は、まず、
図30のステップS401において、成形設備12A及
び12Bの検索に用いられるインデックスレジスタiに
初期値「1」を格納して、該インデックスレジスタiを
初期化する。
図30のステップS401において、成形設備12A及
び12Bの検索に用いられるインデックスレジスタiに
初期値「1」を格納して、該インデックスレジスタiを
初期化する。
【0160】次に、ステップS402において、基板2
02の検索に用いられるインデックスレジスタjに初期
値「1」を格納して、該インデックスレジスタjを初期
化する。
02の検索に用いられるインデックスレジスタjに初期
値「1」を格納して、該インデックスレジスタjを初期
化する。
【0161】次に、ステップS403において、ファイ
ル読出し手段690を通じて、第iの検査結果ファイル
File#iのjレコードを読み出す。
ル読出し手段690を通じて、第iの検査結果ファイル
File#iのjレコードを読み出す。
【0162】次に、ステップS404において、直近用
ファイル作成手段692を通じて、第iの直近用不良内
訳ファイル700#iのうち、スピンコート装置52の
番号に対応するレコードに良品数、不良数、各種欠陥数
を加算し、更に、ステップS405において、第iの直
近用CCD種別ファイル702#iに基板面202a、
ピンホール1004及び色素記録面202bの各種欠陥
数を加算する。次いで、ステップS406において、第
iの直近用生産データファイル704#iに良品数、不
良品数を加算する。
ファイル作成手段692を通じて、第iの直近用不良内
訳ファイル700#iのうち、スピンコート装置52の
番号に対応するレコードに良品数、不良数、各種欠陥数
を加算し、更に、ステップS405において、第iの直
近用CCD種別ファイル702#iに基板面202a、
ピンホール1004及び色素記録面202bの各種欠陥
数を加算する。次いで、ステップS406において、第
iの直近用生産データファイル704#iに良品数、不
良品数を加算する。
【0163】その後、ステップS407において、イン
デックスレジスタjの値を+1更新した後、ステップS
408において、処理完了判別手段698を通じて、1
00枚の基板202を処理したか否かが判別される。こ
の判別は、インデックスレジスタjの値が100よりも
大きいかどうかで行われる。
デックスレジスタjの値を+1更新した後、ステップS
408において、処理完了判別手段698を通じて、1
00枚の基板202を処理したか否かが判別される。こ
の判別は、インデックスレジスタjの値が100よりも
大きいかどうかで行われる。
【0164】100枚の基板202の処理が完了してい
なければ、前記ステップS403に戻り、次の基板20
2についての処理が行われ、100枚の基板202につ
いて処理が完了していれば、次のステップS409に進
み、直近用ファイル作成手段692を通じて、第iの直
近用不良内訳ファイル700#iに登録された各良品
数、不良品数から歩留まりを求め、登録する。
なければ、前記ステップS403に戻り、次の基板20
2についての処理が行われ、100枚の基板202につ
いて処理が完了していれば、次のステップS409に進
み、直近用ファイル作成手段692を通じて、第iの直
近用不良内訳ファイル700#iに登録された各良品
数、不良品数から歩留まりを求め、登録する。
【0165】次に、ステップS410において、処理完
了判別手段698を通じて、推移ファイル群720への
データ登録が満杯か否かが判別される。この判別は、推
移用インデックスレジスタki(k1及びk2のうち、
iの値に対応するインデックスレジスタ)の値が例えば
10よりも大きいか否かで行われる。
了判別手段698を通じて、推移ファイル群720への
データ登録が満杯か否かが判別される。この判別は、推
移用インデックスレジスタki(k1及びk2のうち、
iの値に対応するインデックスレジスタ)の値が例えば
10よりも大きいか否かで行われる。
【0166】インデックスレジスタkiの値が10より
も大きければ、次のステップS411において、インデ
ックスレジスタkiに初期値「1」が格納されて、該イ
ンデックスレジスタkiが初期化される。
も大きければ、次のステップS411において、インデ
ックスレジスタkiに初期値「1」が格納されて、該イ
ンデックスレジスタkiが初期化される。
【0167】前記ステップS411での処理が完了した
段階、あるいはステップS410においてインデックス
レジスタkiの値が10以下である場合は、図31のス
テップS412において、推移ファイル作成手段696
を通じて、第iの直近用不良内訳ファイル700#iに
登録された各欠陥数の平均値を求め、良品数、不良品数
及び歩留まりと共に第kiの推移ファイル720#ki
に登録する。
段階、あるいはステップS410においてインデックス
レジスタkiの値が10以下である場合は、図31のス
テップS412において、推移ファイル作成手段696
を通じて、第iの直近用不良内訳ファイル700#iに
登録された各欠陥数の平均値を求め、良品数、不良品数
及び歩留まりと共に第kiの推移ファイル720#ki
に登録する。
【0168】次に、ステップS413において、インデ
ックスレジスタkiの値を+1更新した後、ステップS
414において、直近用ファイル作成手段692を通じ
て、第iの直近用生産データファイル704#iに登録
された良品数、不良品数から歩留まりを求め、登録す
る。
ックスレジスタkiの値を+1更新した後、ステップS
414において、直近用ファイル作成手段692を通じ
て、第iの直近用生産データファイル704#iに登録
された良品数、不良品数から歩留まりを求め、登録す
る。
【0169】次に、ステップS415において、インデ
ックスレジスタiの値を+1更新した後、ステップS4
16において、処理完了判別手段698を通じて、2つ
の検査結果ファイルFile#1及びFile#2に対
する処理が終了したか否かが判別される。この判別は、
インデックスレジスタiの値が2よりも大きいか否かで
行われる。
ックスレジスタiの値を+1更新した後、ステップS4
16において、処理完了判別手段698を通じて、2つ
の検査結果ファイルFile#1及びFile#2に対
する処理が終了したか否かが判別される。この判別は、
インデックスレジスタiの値が2よりも大きいか否かで
行われる。
【0170】2つの検査結果ファイルFile#1及び
File#2に対する処理が終了していなければ、図3
0の前記ステップS402に戻り、次の検査結果ファイ
ルに対する処理が行われる。2つの検査結果ファイルF
ile#1及びFile#2の処理が終了していれば、
図31のステップS417に進み、インデックスレジス
タiに初期値「1」を格納して、該インデックスレジス
タiを初期化する。
File#2に対する処理が終了していなければ、図3
0の前記ステップS402に戻り、次の検査結果ファイ
ルに対する処理が行われる。2つの検査結果ファイルF
ile#1及びFile#2の処理が終了していれば、
図31のステップS417に進み、インデックスレジス
タiに初期値「1」を格納して、該インデックスレジス
タiを初期化する。
【0171】次に、ステップS418において、全数用
ファイル作成手段694を通じて、第iの直近用不良内
訳ファイル700#iに登録されたデータ(歩留まりを
除く)と第iの全数用不良内訳ファイル710#iに登
録されたデータとを加算して、該第iの全数用不良内訳
ファイル710#iに登録する。
ファイル作成手段694を通じて、第iの直近用不良内
訳ファイル700#iに登録されたデータ(歩留まりを
除く)と第iの全数用不良内訳ファイル710#iに登
録されたデータとを加算して、該第iの全数用不良内訳
ファイル710#iに登録する。
【0172】次に、ステップS419において、全数用
ファイル作成手段694を通じて、新たに加算された良
品数と不良品数に基づいて歩留まりを求め、第iの全数
用不良内訳ファイル710#iに登録する。
ファイル作成手段694を通じて、新たに加算された良
品数と不良品数に基づいて歩留まりを求め、第iの全数
用不良内訳ファイル710#iに登録する。
【0173】次に、ステップS420において、全数用
ファイル作成手段694を通じて、第iの直近用CCD
種別ファイル702#iに登録されたデータと第iの全
数用CCD種別ファイル712#iに登録されたデータ
とを加算して、該第iの全数用CCD種別ファイル71
2#iに登録する。
ファイル作成手段694を通じて、第iの直近用CCD
種別ファイル702#iに登録されたデータと第iの全
数用CCD種別ファイル712#iに登録されたデータ
とを加算して、該第iの全数用CCD種別ファイル71
2#iに登録する。
【0174】次に、ステップS421において、全数用
ファイル作成手段694を通じて、第iの直近用生産デ
ータファイル704#iに登録されたデータ(歩留まり
を除く)と第iの全数用生産データファイル714#i
に登録されたデータとを加算して、該第iの全数用生産
データファイル714#iに登録する。
ファイル作成手段694を通じて、第iの直近用生産デ
ータファイル704#iに登録されたデータ(歩留まり
を除く)と第iの全数用生産データファイル714#i
に登録されたデータとを加算して、該第iの全数用生産
データファイル714#iに登録する。
【0175】次に、ステップS422において、全数用
ファイル作成手段694を通じて、新たに加算された良
品数と不良品数に基づいて歩留まりを求め、第iの全数
用生産データファイル714#iに登録する。
ファイル作成手段694を通じて、新たに加算された良
品数と不良品数に基づいて歩留まりを求め、第iの全数
用生産データファイル714#iに登録する。
【0176】次に、ステップS423において、インデ
ックスレジスタiの値を+1更新した後、ステップS4
24において、処理完了判別手段698を通じて、2つ
の検査結果ファイルFile#1及びFile#2に対
する処理が終了したか否かが判別される。この判別は、
インデックスレジスタiの値が2よりも大きいか否かで
行われる。
ックスレジスタiの値を+1更新した後、ステップS4
24において、処理完了判別手段698を通じて、2つ
の検査結果ファイルFile#1及びFile#2に対
する処理が終了したか否かが判別される。この判別は、
インデックスレジスタiの値が2よりも大きいか否かで
行われる。
【0177】2つの検査結果ファイルFile#1及び
File#2に対する処理が終了していなければ、前記
ステップS418に戻り、次の検査結果ファイルに対す
る処理が行われる。2つの検査結果ファイルFile#
1及びFile#2の処理が終了していれば、この表示
データ作成手段608での処理動作が終了する。
File#2に対する処理が終了していなければ、前記
ステップS418に戻り、次の検査結果ファイルに対す
る処理が行われる。2つの検査結果ファイルFile#
1及びFile#2の処理が終了していれば、この表示
データ作成手段608での処理動作が終了する。
【0178】次に、検査結果表示処理手段610での処
理動作について図25及び図32を参照しながら説明す
る。
理動作について図25及び図32を参照しながら説明す
る。
【0179】この検査結果表示処理手段610は、ま
ず、図32のステップS501において、要求判別手段
800を通じて、表示要求を待つ。
ず、図32のステップS501において、要求判別手段
800を通じて、表示要求を待つ。
【0180】表示要求があった場合、ステップS502
において、要求判別手段800を通じて、第1の検査画
面524の表示要求であるか否かが判別される。第1の
検査画面524の表示要求であれば、次のステップS5
03に進み、生産データ表示手段802は、第1及び第
2の全数用生産データファイル714#1及び714#
2並びに第1及び第2の直近用生産データファイル70
4#1及び704#2に登録された各データに基づい
て、図11に示すように、モニタ316の画面上に生産
データ表示部520を表示する。
において、要求判別手段800を通じて、第1の検査画
面524の表示要求であるか否かが判別される。第1の
検査画面524の表示要求であれば、次のステップS5
03に進み、生産データ表示手段802は、第1及び第
2の全数用生産データファイル714#1及び714#
2並びに第1及び第2の直近用生産データファイル70
4#1及び704#2に登録された各データに基づい
て、図11に示すように、モニタ316の画面上に生産
データ表示部520を表示する。
【0181】次に、ステップS504において、要求判
別手段800を通じて、全数表示の要求であるか否かが
判別される。全数表示の要求であれば、ステップS50
5に進み、不良内訳表示手段804は、第1及び第2の
全数用不良内訳ファイル710#1及び710#2に登
録された各データに基づいて、図11に示すように、モ
ニタ316の画面上に全数の不良内訳表示部522を表
示する。
別手段800を通じて、全数表示の要求であるか否かが
判別される。全数表示の要求であれば、ステップS50
5に進み、不良内訳表示手段804は、第1及び第2の
全数用不良内訳ファイル710#1及び710#2に登
録された各データに基づいて、図11に示すように、モ
ニタ316の画面上に全数の不良内訳表示部522を表
示する。
【0182】前記ステップS504において、直近10
0の要求であると判別された場合は、ステップS506
に進み、不良内訳表示手段804は、第1及び第2の直
近用不良内訳ファイル700#1及び700#2に登録
された各データに基づいて、図11に示すように、モニ
タ316の画面上に直近100の不良内訳表示部522
を表示する。
0の要求であると判別された場合は、ステップS506
に進み、不良内訳表示手段804は、第1及び第2の直
近用不良内訳ファイル700#1及び700#2に登録
された各データに基づいて、図11に示すように、モニ
タ316の画面上に直近100の不良内訳表示部522
を表示する。
【0183】前記ステップS505あるいはステップS
506での処理が終了した段階、又は前記ステップS5
02において、第1の検査画面524の表示要求でない
と判別された場合は、次のステップS507に進み、要
求判別手段800を通じて、今度は、第2の検査画面5
28の表示要求であるか否かが判別される。第2の検査
画面528の表示要求であれば、次のステップS508
に進み、生産データ表示手段802は、第1及び第2の
直近用生産データファイル704#1及び704#2並
びに第1及び第2の全数用生産データファイル714#
1及び714#2に登録された各データに基づいて、図
12に示すように、モニタ316の画面上に生産データ
表示部520を表示する。
506での処理が終了した段階、又は前記ステップS5
02において、第1の検査画面524の表示要求でない
と判別された場合は、次のステップS507に進み、要
求判別手段800を通じて、今度は、第2の検査画面5
28の表示要求であるか否かが判別される。第2の検査
画面528の表示要求であれば、次のステップS508
に進み、生産データ表示手段802は、第1及び第2の
直近用生産データファイル704#1及び704#2並
びに第1及び第2の全数用生産データファイル714#
1及び714#2に登録された各データに基づいて、図
12に示すように、モニタ316の画面上に生産データ
表示部520を表示する。
【0184】次に、ステップS509において、要求判
別手段800を通じて、全数表示の要求であるか否かが
判別される。全数表示の要求であれば、ステップS51
0に進み、CCD種別表示手段806は、第1及び第2
の全数用CCD種別ファイル712#1及び712#2
に登録された各データに基づいて、図12に示すよう
に、モニタ316の画面上に全数のCCD種別表示部5
26を表示する。
別手段800を通じて、全数表示の要求であるか否かが
判別される。全数表示の要求であれば、ステップS51
0に進み、CCD種別表示手段806は、第1及び第2
の全数用CCD種別ファイル712#1及び712#2
に登録された各データに基づいて、図12に示すよう
に、モニタ316の画面上に全数のCCD種別表示部5
26を表示する。
【0185】前記ステップS509において、直近10
0の要求であると判別された場合は、ステップS511
に進み、CCD種別表示手段806は、第1及び第2の
直近用CCD種別ファイル702#1及び702#2に
登録された各データに基づいて、図12に示すように、
モニタ316の画面上に直近100のCCD種別表示部
526を表示する。
0の要求であると判別された場合は、ステップS511
に進み、CCD種別表示手段806は、第1及び第2の
直近用CCD種別ファイル702#1及び702#2に
登録された各データに基づいて、図12に示すように、
モニタ316の画面上に直近100のCCD種別表示部
526を表示する。
【0186】前記ステップS510あるいはステップS
511での処理が終了した段階、又は前記ステップS5
07において、第2の検査画面528の表示要求でない
と判別された場合は、次のステップS512に進み、要
求判別手段800を通じて、今度は、第3の検査画面5
30の表示要求であるか否かが判別される。第3の検査
画面530の表示要求であれば、次のステップS513
に進み、推移グラフ表示手段808は、第1〜第10の
推移ファイル720#1〜720#10に登録された各
データに基づいて欠陥の内訳に関するグラフと、良品、
不良品及び歩留まりに関するグラフを表示する。
511での処理が終了した段階、又は前記ステップS5
07において、第2の検査画面528の表示要求でない
と判別された場合は、次のステップS512に進み、要
求判別手段800を通じて、今度は、第3の検査画面5
30の表示要求であるか否かが判別される。第3の検査
画面530の表示要求であれば、次のステップS513
に進み、推移グラフ表示手段808は、第1〜第10の
推移ファイル720#1〜720#10に登録された各
データに基づいて欠陥の内訳に関するグラフと、良品、
不良品及び歩留まりに関するグラフを表示する。
【0187】前記ステップS513での処理が終了した
段階で、次のステップS514に進み、処理完了判別手
段680を通じて、この検査結果表示処理手段610で
の処理動作に対するプログラム終了要求がなされている
か否かが判別される。
段階で、次のステップS514に進み、処理完了判別手
段680を通じて、この検査結果表示処理手段610で
の処理動作に対するプログラム終了要求がなされている
か否かが判別される。
【0188】プログラムの終了要求がなければ、前記ス
テップS501に戻り、該検査結果表示処理手段610
での処理動作が繰り返され、プログラムの終了要求があ
れば、この検査結果表示処理手段610での処理動作が
終了する。
テップS501に戻り、該検査結果表示処理手段610
での処理動作が繰り返され、プログラムの終了要求があ
れば、この検査結果表示処理手段610での処理動作が
終了する。
【0189】このように、本実施の形態に係る製造シス
テムにおいては、光ディスクの製造に係わる少なくとも
第1及び第2の成形設備、塗布設備及び後処理設備と、
製造過程における基板の製造状態、特に欠陥を検査する
第1及び第2の欠陥検査装置とをネットワークで結び、
これら第1及び第2の成形設備、塗布設備及び後処理設
備並びに第1及び第2の欠陥検査装置をネットワークに
接続された端末装置で集中監視するようにしている。
テムにおいては、光ディスクの製造に係わる少なくとも
第1及び第2の成形設備、塗布設備及び後処理設備と、
製造過程における基板の製造状態、特に欠陥を検査する
第1及び第2の欠陥検査装置とをネットワークで結び、
これら第1及び第2の成形設備、塗布設備及び後処理設
備並びに第1及び第2の欠陥検査装置をネットワークに
接続された端末装置で集中監視するようにしている。
【0190】そして、この端末装置に接続されたモニタ
上に、第1〜第3の検査画面を表示させ、第1〜第3の
検査画面において、第1及び第2の成形設備毎の製造履
歴、また、6つのスピンコート装置毎の製造履歴に基づ
いて項目分けし、これら製造履歴に関する項目毎に基板
の検査結果を表示するようにしている。
上に、第1〜第3の検査画面を表示させ、第1〜第3の
検査画面において、第1及び第2の成形設備毎の製造履
歴、また、6つのスピンコート装置毎の製造履歴に基づ
いて項目分けし、これら製造履歴に関する項目毎に基板
の検査結果を表示するようにしている。
【0191】そのため、1つの工程で第1及び第2の成
形設備や6つのスピンコート装置等を並行して使用した
場合においても、これら第1及び第2の成形設備や6つ
のスピンコート装置毎の歩留まりや工程毎の歩留まりを
容易にかつ確実に把握することができ、信頼性の高い光
ディスクの製造履歴に基づいて光ディスクを製造するこ
とができる。
形設備や6つのスピンコート装置等を並行して使用した
場合においても、これら第1及び第2の成形設備や6つ
のスピンコート装置毎の歩留まりや工程毎の歩留まりを
容易にかつ確実に把握することができ、信頼性の高い光
ディスクの製造履歴に基づいて光ディスクを製造するこ
とができる。
【0192】なお、この発明に係る記録媒体の製造シス
テム及び記録媒体の製造方法は、上述の実施の形態に限
らず、この発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成
を採り得ることはもちろんである。
テム及び記録媒体の製造方法は、上述の実施の形態に限
らず、この発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成
を採り得ることはもちろんである。
【0193】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る記録
媒体の製造システム及び記録媒体の製造方法によれば、
1つの工程で複数の製造装置を並行して使用した場合に
おいても、複数の製造装置毎の歩留まりや工程毎の歩留
まりを容易にかつ確実に把握することができ、信頼性の
高い記録媒体の製造履歴に基づいて記録媒体を製造する
ことができる。
媒体の製造システム及び記録媒体の製造方法によれば、
1つの工程で複数の製造装置を並行して使用した場合に
おいても、複数の製造装置毎の歩留まりや工程毎の歩留
まりを容易にかつ確実に把握することができ、信頼性の
高い記録媒体の製造履歴に基づいて記録媒体を製造する
ことができる。
【図1】本実施の形態に係る製造システムの一例を示す
構成図である。
構成図である。
【図2】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す
構成図である。
構成図である。
【図3】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図4】スピンコート装置のノズルを示す平面図であ
る。
る。
【図5】スピンコート装置のノズルの一例を示す側面図
である。
である。
【図6】スピンコート装置のノズルの他の例を一部省略
して示す拡大断面図である。
して示す拡大断面図である。
【図7】図7Aは基板にグルーブを形成した状態を示す
工程図であり、図7Bは基板上に色素記録層を形成した
状態を示す工程図であり、図7Cは基板上に光反射層を
形成した状態を示す工程図である。
工程図であり、図7Bは基板上に色素記録層を形成した
状態を示す工程図であり、図7Cは基板上に光反射層を
形成した状態を示す工程図である。
【図8】図8Aは基板のエッジ部分を洗浄した状態を示
す工程図であり、図8Bは基板上に保護層を形成した状
態を示す工程図である。
す工程図であり、図8Bは基板上に保護層を形成した状
態を示す工程図である。
【図9】第1及び第2の欠陥検査装置を概略的に示す構
成図である。
成図である。
【図10】図10Aは基板上に付着した異物と、異物に
基づくハレー欠陥、指紋等による通常の欠陥並びにピン
ホールによる欠陥を示す説明図であり、図10Bはこれ
ら欠陥を第1及び第3のCCDユニットにて撮像した場
合の検出信号の波形を示す説明図であり、図10Cはピ
ンホールによる欠陥を第2のCCDユニットにて撮像し
た場合の検出信号の波形を示す説明図である。
基づくハレー欠陥、指紋等による通常の欠陥並びにピン
ホールによる欠陥を示す説明図であり、図10Bはこれ
ら欠陥を第1及び第3のCCDユニットにて撮像した場
合の検出信号の波形を示す説明図であり、図10Cはピ
ンホールによる欠陥を第2のCCDユニットにて撮像し
た場合の検出信号の波形を示す説明図である。
【図11】第1の検査画面を示す説明図である。
【図12】第2の検査画面を示す説明図である。
【図13】第3の検査画面を示す説明図である。
【図14】第1〜第3の検査画面を表示させるための処
理手段を示す機能ブロック図である。
理手段を示す機能ブロック図である。
【図15】第1及び第2の検査結果ファイルの内訳を示
す説明図である。
す説明図である。
【図16】第1のファイル処理手段の構成を示す説明図
である。
である。
【図17】第2のファイル処理手段の構成を示す説明図
である。
である。
【図18】第3のファイル処理手段の構成を示す説明図
である。
である。
【図19】第4のファイル処理手段の構成を示す説明図
である。
である。
【図20】表示データ作成手段の構成を示す説明図であ
る。
る。
【図21】直近用不良内訳ファイルと全数用不良内訳フ
ァイルの内訳を示す説明図である。
ァイルの内訳を示す説明図である。
【図22】直近用CCD種別ファイルと全数用CCD種
別ファイルの内訳を示す説明図である。
別ファイルの内訳を示す説明図である。
【図23】直近用生産データファイルと全数用生産デー
タファイルの内訳を示す説明図である。
タファイルの内訳を示す説明図である。
【図24】推移ファイルを示す説明図である。
【図25】検査結果表示処理手段の構成を示す機能ブロ
ック図である。
ック図である。
【図26】第1のファイル処理の処理動作を示すフロー
チャートである。
チャートである。
【図27】第2のファイル処理の処理動作を示すフロー
チャートである。
チャートである。
【図28】第3のファイル処理の処理動作を示すフロー
チャートである。
チャートである。
【図29】第4のファイル処理の処理動作を示すフロー
チャートである。
チャートである。
【図30】表示データ作成手段の処理動作を示すフロー
チャート(その1)である。
チャート(その1)である。
【図31】表示データ作成手段の処理動作を示すフロー
チャート(その2)である。
チャート(その2)である。
【図32】検査結果表示処理手段の処理動作を示すフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
10…製造システム 12A…第1
の成形設備 12B…第2の成形設備 14…塗布設
備 16…後処理設備 52…スピン
コート装置 62…第1の欠陥検査装置 106…第2
の欠陥検査装置 202…基板 202a…基
板面 202b…色素記録面 202c…保
護層面 308…端末装置 310…サー
バ 312…ハブ 314…入力
装置 316…モニタ 520…生産
データ表示部 522…欠陥内訳表示部 524…第1
の検査画面 526…CCD種別表示部 528…第2
の検査画面 530…第3の検査画面 600…第1
のファイル処理手段 602…第2のファイル処理手段 604…第3
のファイル処理手段 606…第4のファイル処理手段 608…表示
データ作成手段 610…検査結果表示処理手段 D…光ディス
ク
の成形設備 12B…第2の成形設備 14…塗布設
備 16…後処理設備 52…スピン
コート装置 62…第1の欠陥検査装置 106…第2
の欠陥検査装置 202…基板 202a…基
板面 202b…色素記録面 202c…保
護層面 308…端末装置 310…サー
バ 312…ハブ 314…入力
装置 316…モニタ 520…生産
データ表示部 522…欠陥内訳表示部 524…第1
の検査画面 526…CCD種別表示部 528…第2
の検査画面 530…第3の検査画面 600…第1
のファイル処理手段 602…第2のファイル処理手段 604…第3
のファイル処理手段 606…第4のファイル処理手段 608…表示
データ作成手段 610…検査結果表示処理手段 D…光ディス
ク
Claims (14)
- 【請求項1】記録媒体として完成する前のワークの製造
に係わる複数の製造装置と、 製造過程におけるワークの製造状態を検査する複数の検
査装置と、 前記複数の製造装置及び前記複数の検査装置を集中監視
し、少なくとも所定の検査画面を表示するモニタが接続
された少なくとも1つの監視装置とを具備し、 前記検査画面は、前記複数の製造装置による製造履歴に
基づいて項目分けされ、かつ、該製造履歴に関する項目
毎にワークの検査結果が表示された形態であることを特
徴とする記録媒体の製造システム。 - 【請求項2】請求項1記載の記録媒体の製造システムに
おいて、 前記複数の製造装置及び前記複数の検査装置と前記監視
装置とがネットワークで結ばれていることを特徴とする
記録媒体の製造システム。 - 【請求項3】請求項1又は2記載の記録媒体の製造シス
テムにおいて、 前記監視装置は、前記複数の検査装置での検査結果を、
使用された製造装置の情報と共にワーク毎にデータファ
イルに登録するファイル処理手段と、 作成された前記データファイルに基づいて、製造履歴に
関する項目毎にワークの検査結果を表示する検査結果表
示手段とを有することを特徴とする記録媒体の製造シス
テム。 - 【請求項4】請求項1〜3のいずれか1項に記載の記録
媒体の製造システムにおいて、 最新の所定枚数のワークに関する検査結果を一括表示す
ることを特徴とする記録媒体の製造システム。 - 【請求項5】請求項1〜3のいずれか1項に記載の記録
媒体の製造システムにおいて、 所定枚数毎のワークの検査結果を時系列で表示すること
を特徴とする記録媒体の製造システム。 - 【請求項6】請求項1〜5のいずれか1項に記載の記録
媒体の製造システムにおいて、 前記検査画面における前記製造履歴に関する項目は、少
なくとも前記ワークの基板を成形する成形機に関する項
目であることを特徴とする記録媒体の製造システム。 - 【請求項7】請求項1〜6のいずれか1項に記載の記録
媒体の製造システムにおいて、 前記検査画面における前記製造履歴に関する項目は、少
なくとも前記ワークに対して色素塗布を行うための複数
のスピンコート装置に関する項目であることを特徴とす
る記録媒体の製造システム。 - 【請求項8】記録媒体として完成する前のワークの製造
に係わる複数の製造装置と、製造過程におけるワークの
製造状態を検査する複数の検査装置とを集中監視し、 前記複数の製造装置による製造履歴に基づいて項目分け
され、かつ、該製造履歴に関する項目毎にワークの検査
結果が表示された形態を有する検査画面を前記監視装置
のモニタに映し出しながら前記記録媒体を製造すること
を特徴とする記録媒体の製造方法。 - 【請求項9】請求項8記載の記録媒体の製造方法におい
て、 前記複数の製造装置及び前記複数の検査装置と前記監視
装置とをネットワークで結んで、前記記録媒体を製造す
ることを特徴とする記録媒体の製造方法。 - 【請求項10】請求項8又は9記載の記録媒体の製造方
法において、 前記監視装置での処理は、前記複数の検査装置での検査
結果を、使用された製造装置の情報と共にワーク毎にデ
ータファイルに登録するファイル処理ステップと、作成
された前記データファイルに基づいて、製造履歴に関す
る項目毎にワークの検査結果を表示する検査結果表示ス
テップとを有することを特徴とする記録媒体の製造方
法。 - 【請求項11】請求項8〜10のいずれか1項に記載の
記録媒体の製造方法において、 最新の所定枚数のワークに関する検査結果を一括表示す
ることを特徴とする記録媒体の製造方法。 - 【請求項12】請求項8〜10のいずれか1項に記載の
記録媒体の製造方法において、 所定枚数毎のワークの検査結果を時系列で表示すること
を特徴とする記録媒体の製造方法。 - 【請求項13】請求項8〜12のいずれか1項に記載の
記録媒体の製造方法において、 前記検査画面における前記製造履歴に関する項目は、少
なくとも前記ワークの基板を成形する成形機に関する項
目であることを特徴とする記録媒体の製造方法。 - 【請求項14】請求項8〜13のいずれか1項に記載の
記録媒体の製造方法において、 前記検査画面における前記製造履歴に関する項目は、少
なくとも前記ワークに対して色素塗布を行うための複数
のスピンコート装置に関する項目であることを特徴とす
る記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11167507A JP2000357347A (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | 記録媒体の製造システム及び記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11167507A JP2000357347A (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | 記録媒体の製造システム及び記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000357347A true JP2000357347A (ja) | 2000-12-26 |
Family
ID=15850971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11167507A Pending JP2000357347A (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | 記録媒体の製造システム及び記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000357347A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006351103A (ja) * | 2005-06-15 | 2006-12-28 | Origin Electric Co Ltd | 光ディスクの製造装置 |
| US8130627B2 (en) | 2005-03-11 | 2012-03-06 | Origin Electric Company, Limited | Optical disc production apparatus |
-
1999
- 1999-06-14 JP JP11167507A patent/JP2000357347A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8130627B2 (en) | 2005-03-11 | 2012-03-06 | Origin Electric Company, Limited | Optical disc production apparatus |
| JP2006351103A (ja) * | 2005-06-15 | 2006-12-28 | Origin Electric Co Ltd | 光ディスクの製造装置 |
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