JP2000357405A - 光源ユニットの製造方法 - Google Patents
光源ユニットの製造方法Info
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- Fastening Of Light Sources Or Lamp Holders (AREA)
Abstract
る。 【解決手段】 一対の電極5を有する発光管1は、前
後、左右に移動できるようにリフレクタ2内に配置され
点灯される。リフレクタ2は、固定されている。発光管
1から放射され、リフレクタ2にとって反射された反射
光の光量を、実使用状態で用いられる光学系を介さずに
測定する。次に、その測定された光量によって発光管1
とリフレクタ2との位置調整を行って、発光管1をリフ
レクタ2内の所定の位置に固定する。
Description
用いる光源ユニットの製造方法に関するものである。
法では、図6に示すように、点光源に近い光源からの光
を高効率で取り出すために、電極5間の発光中心をミク
ロンオーダーでリフレクタ2の焦点に位置させる発光管
1の位置調整(以下、アライメントという)を実使用状
態で行っている。
では、例えば回転放物面鏡からなるリフレクタ2内に一
対の電極5を有する発光管1を配置し点灯装置10によ
って点灯した後、発光管1から放射され、リフレクタ2
によって反射された反射光を、スクリーン3上の輝度む
らを減少させるインテグレータレンズ16、フィールド
レンズ17、スクリーン3に拡大投影するプロジェクシ
ョンレンズ18を備えた光学系を介して、中心および四
隅に照度センサー19を設けたスクリーン3に照射す
る。次に、照度センサー19の照度値がバランスよく最
大値になるように、発光管1のみをマイクロメータ付き
精密xyステージ8によって前後、左右に動かしてアラ
イメントし、このアライメント後、発光管1をリフレク
タ2内に固定している。
ものでは、インテグレータレンズ16の採用により、ス
クリーン3上の照度むらが減少する一方、製造工程にお
いて、電極5間の発光中心がリフレクタ2内の焦点位置
からずれていても、スクリーン3上の照度変化が小さく
わかりにくいために、リフレクタ2内での発光管1の位
置調整が困難であるという問題があった。
行うために、装置が大型化するという問題があった。
光管1を点灯させて行うので、発光管1の光束が安定す
るまでに時間がかかり、作業効率が悪いという問題もあ
った。
になされたもので、発光管の位置調整が容易かつ正確
で、装置も小型化できる光源ユニットの製造方法を提供
するものである。
管の位置調整が行える光源ユニットの製造方法を提供す
るものである。
製造方法は、一対の電極を有する発光管から放射され、
リフレクタで反射された反射光の光量を、実使用状態で
用いられる光学系を介さずに測定し、その測定された光
量によって前記発光管と前記リフレクタとの位置調整を
行って前記発光管を前記リフレクタ内の所定位置に固定
する構成を有している。
介さないので、スクリーン上の照度変化をはっきりわか
りやすくすることができるために、発光管の位置調整を
容易にかつ正確に行うことができ、また装置を小型化す
ることができる。
は、リフレクタの外側に設けられ、発光管の発光中心位
置と前記リフレクタの焦点位置とを検出することができ
る位置検出手段を用いて、前記発光管を、その発光中心
位置が前記リフレクタの焦点位置と一致するように前記
リフレクタ内に固定する構成を有している。
管の位置調整を行うことができるので、短時間で発光管
の位置調整を行うことができる。
て、図面を用いて説明する。
ットの製造方法は、図1に示すように、発光部1aとこ
の発光部1aの両端部に設けられた封止部1bとを有
し、かつ石英ガラス製の全長75mm、最大外径11.
3mmである発光管1と、前面に直径75mmの開口部
2aを有する回転放物面鏡のリフレクタ2と、このリフ
レクタ2の前方に、例えばリフレクタ2の開口部2a側
の先端からの距離Lが5mの位置に、リフレクタ2の光
軸に対して垂直になるように設けられた1m×1mのス
クリーン3と、このスクリーン3上の輝度分布を測定す
るCCDカメラ等からなる光量測定手段4とを用いてい
る。
らなる一対の電極5が封止されている。各電極5は、封
止部1bに封止されたモリブデン等からなる導入箔6を
介して外部リード線7にそれぞれ接続されている。ま
た、各電極5間のギャップは1.5mmである。
メータ付き精密xyステージ8(以下、xyステージと
いう)に設けられた治具9によって保持されながら、リ
フレクタ2内に配置された後、外部リード線7間に接続
された点灯装置10によって点灯される。リフレクタ2
は、リフレクタ固定具(図示せず)によって固定されて
いる。また、発光管1は、xyステージ8によって前
後、左右に移動することができる。
って反射された反射光は、スクリーン3に照射され、こ
の反射光を照射したスクリーン3上の輝度分布を光量測
定手段4によって画像認識する。この認識した画像を従
来から知られている画像処理装置(図示せず)によって
処理し、スクリーン3上の輝度最大点の輝度が最大にな
るように、画像処理装置(図示せず)からの信号によっ
てxyステージ8を動かして、発光管1の位置調整(以
下、アライメントという)を行う。このようにすること
で、電極5間の発光中心がリフレクタ2の焦点に位置す
ることとなる。このアライメント後、発光管1が接着剤
等(図示せず)によってリフレクタ2内に固定され、光
源ユニットが製造される。
ットの製造方法によれば、インテグレータレンズ等の複
雑な光学系を用いないので、電極5間の発光中心がリフ
レクタ2の焦点の位置からずれた場合でも、スクリーン
3上の照度むらがはっきりとわかるために、容易にかつ
正確にアライメントを行うことができるとともに、アラ
イメントの装置も小型化することができる。
の焦点との位置を正確にアライメントするために、リフ
レクタ2とスクリーン3との距離Lを一定以上、例えば
5m以上にすることが好ましい。
合には、リフレクタ2とスクリーン3との間に、UV−
IRカットフィルターおよびNDフィルターを設け、ス
クリーン3上に照射される照射光を減光してもよい。
が回転放物面鏡の場合について説明したが、回転楕円面
鏡等であっても、上記と同様の効果を得ることができ
る。ただし、この場合、スクリーン3を回転楕円面鏡の
リフレクタの第2焦点に設置することが好ましい。
源ユニットの製造方法を説明する。
クタ2の開口部2a側の先端とスクリーン3との距離L
を小さくし、約1mにした点を除いて本発明の第1の実
施の形態である光源ユニットの製造方法と同じ構成で行
われる。
ットの製造方法と同様にして、発光管1から放射され、
リフレクタ2によって反射された反射光は、スクリーン
3に照射される。このように反射光を照射したスクリー
ン3上の輝度分布を光量測定手段4によって画像認識す
る。この認識した画像を従来知られている画像処理装置
(図示せず)によって処理し、スクリーン3上の輝度最
大点の値が最大になるように、画像処理装置からの信号
によってxyステージ8を動かして、アライメントを行
う。このアライメント後、電極5間の発光中心とリフレ
クタ2の焦点との位置ずれを補正するため、一定量、例
えば500μmだけリフレクタ2側に発光管1を移動さ
せた後、発光管1を接着剤等(図示せず)によってリフ
レクタ2内に固定し、光源ユニットが製造される。
タ2とスクリーン3との距離Lが近い(5m未満)場
合、スクリーン3上の輝度最大点の値が最大になるとき
の、電極5間の発光中心の位置はリフレクタ2の焦点の
位置ではなく焦点の位置からリフレクタ2から遠ざかる
側にずれた位置になる。そこで、あらかじめ、本発明の
第2の実施の形態のようにリフレクタ2とスクリーン3
との距離が近い(5m未満)場合に、電極5間の発光中
心の位置と、焦点の位置とがどれだけずれるかを測定し
ておき、それを補正量、すなわち一定量として移動させ
て補正することにより、リフレクタ2とスクリーン3と
の距離が近くても、電極5間の発光中心を正確に焦点に
位置させることができる。
らなるリフレクタを用いた場合において、インテグレー
タレンズ等の複雑な光学系を用いないため、容易にかつ
正確にアライメントを行うことができるという上記本発
明の第1の実施の形態における効果に加えて、アライメ
ントの装置全体をより小型化することができるという格
別の効果を奏するものである。
合には、リフレクタ2とスクリーン3との間に、UV−
IRカットフィルターとNDフィルターとを設け、スク
リーン3上に照射される照射光を減光してもよい。
源ユニットの製造方法を説明する。
すように、本発明の第1の実施の形態である光源ユニッ
トの製造方法と同じ構成からなる発光管1およびリフレ
クタ2と、リフレクタ2の開口部2a側の先端から例え
ば300mm離れた位置に、リフレクタ2の光軸に対し
て垂直になるように設置された焦点距離100mm程度
の凸レンズからなる集光手段11と、集光手段11の焦
点に設けられた照度センサー等の光電変換素子からなる
光量測定手段12とを用いている。
ージ8に設けられた治具9によって保持されながら、リ
フレクタ2内に配置された後、外部リード線7間に接続
された点灯装置10によって点灯される。リフレクタ2
は、リフレクタ固定具(図示せず)によって固定されて
いる。また、発光管1は、xyステージ8によって前
後、左右に移動することができる。
って反射された平行な反射光は、集光手段11によって
集光手段11の焦点に集光される。集光された光量を光
量測定手段12で測定し、光量測定手段12の照度値が
最大となるように、すなわち電極5間の発光中心がリフ
レクタ2の焦点に位置するようにxyステージ8を動か
して、アライメントを行う。このアライメント後、発光
管1が接着剤等(図示せず)によってリフレクタ2内に
固定されて、光源ユニットが製造される。
らなるリフレクタを用いた場合において、インテグレー
タレンズ等の複雑な光学系やスクリーンを用いないの
で、容易にアライメントを行うことができるとともに、
集光手段11によって、平行な光を集光することができ
るのでアライメントの装置をより一層小型化することが
できる。
合には、リフレクタ2と集光手段11との間に、UV−
IRカットフィルターとNDフィルターとを設け、スク
リーン3上に照射される照射光を減光してもよい。
大きい場合には、直径が電極5間の距離程度の円形孔ス
リットを集光手段11と光量測定手段12との間に設け
ればよい。
1として凸レンズを用いた場合について説明したが、オ
ートコリメータを用いても上記同様の効果を得ることが
できる。
源ユニットの製造方法について説明する。
明の第1の実施の形態である光源ユニットの製造方法と
同じ構成からなる発光管1と、回転楕円面鏡からなる点
を除いて本発明の第1の実施の形態である光源ユニット
の製造方法と同じ構成からなるリフレクタ13と、回転
楕円面の第2焦点に設けられた照度センサー等の光電変
換素子からなる光量測定手段12とを用いている。
ージ8に設けられた治具9によって保持されながら、リ
フレクタ13内に配置された後、外部リード線7間に接
続された点灯装置10によって点灯される。リフレクタ
13は、リフレクタ固定具(図示せず)によって固定さ
れている。また、発光管1は、xyステージ8によって
前後、左右に移動することができる。
よって反射された平行な反射光は、回転楕円面の第2焦
点に集光される。集光された光の照度を光量測定手段1
2によって測定し、光量測定手段12の照度値が最大と
なるように、すなわち電極5間の発光中心がリフレクタ
13の焦点に位置するようにxyステージ8を動かし
て、アライメントを行う。このアライメント後、発光管
1が接着剤等(図示せず)によってリフレクタ13内に
固定され、光源ユニットが製造される。
らなるリフレクタを用いた場合において、容易にかつ正
確にアライメントを行うことができるとともに、アライ
メントの装置をより小型化することができる。
が強すぎる場合には、リフレクタ13と光量測定手段1
2との間に、UV−RカットフィルターとNDフィルタ
ーとを設け、光量測定手段12に照射される照射光を減
光してもよい。
源ユニットの製造方法について説明する。
明の第1の実施の形態である光源ユニットの製造方法と
同じ構成からなる発光管1と、回転放物面鏡または回転
楕円面鏡からなるリフレクタ13aと、電極5間の発光
中心を原点とし、かつリフレクタ13aの光軸をz軸と
した場合、このz軸に対するx軸およびy軸の上に設け
られたエックス線透視カメラ等のエックス線透視手段か
らなる位置検出手段14とを用いている。
ージ8に設けられた治具9によって保持されながら、リ
フレクタ13a内に配置されている。リフレクタ13a
は、リフレクタ固定具(図示せず)によって固定されて
いる。また、発光管1は、xyステージ8によって前
後、左右に移動することができる。
れた状態で、位置検出手段14によって、2方向からリ
フレクタ13aの断面形状を画像認識(そのリフレクタ
が例えば回転放物面鏡であるか回転楕円面鏡であるかの
判断)してリフレクタ13aの焦点の位置と電極5間の
発光中心の位置とを検出する。次に、電極5間の発光中
心がその焦点に位置するようにxyステージ8を動かし
て、アライメントを行う。このアライメント後、発光管
1が接着剤等(図示せず)によってリフレクタ13a内
に固定されて、光源ユニットが製造される。
させずにアライメントを行うことができるので、発光管
1の光束が安定するまでの時間が省け、短時間でアライ
メントを行うことができ、作業効率を向上させることが
できる。
源ユニットの製造方法について説明する。
明の第1の実施の形態である光源ユニットの製造方法と
同じ構成からなる発光管1と、あらかじめ焦点位置が既
知である回転放物面鏡からなるリフレクタ2と、リフレ
クタ2の焦点とその焦点から電極5間の半分の間隔をあ
けた2点とを通過する平行な3つのレーザー光を照射す
るレーザー光照射手段からなる位置検出手段15とを備
えている。
長を有することが好ましい。
ージ8に設けられた治具9によって保持されながら、リ
フレクタ内に配置されている。リフレクタ2は、リフレ
クタ固定具(図示せず)によって固定されている。ま
た、発光管1は、xyステージ8によって前後、左右に
移動することができる。
レクタ2の焦点を通過するレーザー光がそれぞれ透過
し、x軸およびy軸のそれぞれ2方向からの2つのレー
ザ−光が電極5によって反射されるように、すなわち電
極5間の発光中心がリフレクタ2の焦点に位置するよう
にxyステージ8を動かして、アライメントを行う。こ
のアライメント後、発光管1が接着剤等(図示せず)に
よってリフレクタ2内に固定されて、光源ユニットが製
造される。
させずにアライメントを行うことができるので、発光管
の光束が安定するまでの時間が省け、短時間でアライメ
ントを行うことができ、作業効率を向上させることがで
きる。
2が回転放物面鏡の場合について説明したが、回転楕円
面鏡等であっても、上記と同様の効果を得ることができ
る。
電極を有する発光管から放射され、リフレクタで反射さ
れた反射光の光量を、実使用状態で用いられる光学系を
介さずに測定し、その測定された光量によって前記発光
管と前記リフレクタとの位置調整を行って前記発光管を
前記リフレクタ内の所定位置に固定するものである。こ
のことにより、複雑な光学系を用いないので、電極間の
発光中心がリフレクタの焦点の位置からずれた場合で
も、スクリーン上の照度むらがはっきりとわかるため
に、容易にかつ正確にアライメントを行うことができる
とともに、アライメントの装置を小型化することができ
る光源ユニットの製造方法を提供することができる。
られ、発光管の発光中心位置と前記リフレクタの焦点位
置とを検出することができる位置検出手段を用いて、前
記発光管を、その発光中心位置が前記リフレクタの焦点
位置と一致するように前記リフレクタ内に固定するもの
である。このことにより、発光管を点灯させずにアライ
メントを行うことができるので、発光管の光束が安定す
るまでの時間が省け、短時間でアライメントを行うこと
ができ、作業効率を向上させることができる光源ユニッ
トの製造方法を提供することができるものである。
ニットの製造方法を示す図
の製造方法を示す図
の製造方法を示す図
の製造方法を示す図
の製造方法を示す図
Claims (10)
- 【請求項1】 一対の電極を有する発光管から放射さ
れ、リフレクタで反射された反射光の光量を、実使用状
態で用いられる光学系を介さずに測定し、その測定され
た光量によって前記発光管と前記リフレクタとの位置調
整を行って前記発光管を前記リフレクタ内の所定位置に
固定することを特徴とする光源ユニットの製造方法。 - 【請求項2】 前記リフレクタの前方に設けられたスク
リーン上に照射された前記反射光の光量分布のうち、も
っとも明るい部分の光量が最大となる最大光量位置で前
記発光管を前記リフレクタ内に固定する請求項1記載の
光源ユニットの製造方法。 - 【請求項3】 回転放物面鏡である前記リフレクタと前
記スクリーンとの位置関係に応じて、前記最大光量位置
から所定量の位置補正を行って前記発光管を前記リフレ
クタ内に固定する請求項2記載の光源ユニットの製造方
法。 - 【請求項4】 回転放物面鏡である前記リフレクタの前
方に設けられた集光手段によって集光された前記反射光
を、前記集光手段の焦点位置で測定し、前記反射光の光
量が最大となる位置で前記発光管を前記リフレクタ内に
固定する請求項1記載の光源ユニットの製造方法。 - 【請求項5】 回転楕円面鏡である前記リフレクタの第
2焦点位置で前記反射光を測定し、前記発光管の発光中
心が前記リフレクタの第1焦点位置に一致するようにし
て、前記発光管を前記リフレクタ内に固定する請求項1
記載の光源ユニットの製造方法。 - 【請求項6】 リフレクタの外側に設けられ、発光管の
発光中心位置と前記リフレクタの焦点位置とを検出する
ことができる位置検出手段を用いて、前記発光管を、そ
の発光中心位置が前記リフレクタの焦点位置と一致する
ように前記リフレクタ内に固定することを特徴とする光
源ユニットの製造方法。 - 【請求項7】 前記リフレクタの光軸と直交する平面内
の、互いに直交する2軸の方向に設けられた前記位置検
出手段により、前記発光管の発光中心位置と前記リフレ
クタの焦点位置とを検出する請求項6記載の光源ユニッ
トの製造方法。 - 【請求項8】 前記位置検出手段が、エックス線透視手
段である請求項7記載の光源ユニットの製造方法。 - 【請求項9】 前記位置検出手段が、前記発光管の電極
間距離の2分の1の間隔で隔てられた3本の平行なレー
ザー光線を照射する、3つのレーザー光照射手段である
請求項7記載の光源ユニットの製造方法。 - 【請求項10】 前記リフレクタが、回転放物面鏡また
は回転楕円面鏡である請求項6ないし請求項9のいずれ
かに記載の光源ユニットの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16791899A JP3307368B2 (ja) | 1999-06-15 | 1999-06-15 | 光源ユニットの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16791899A JP3307368B2 (ja) | 1999-06-15 | 1999-06-15 | 光源ユニットの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002078405A Division JP2002357866A (ja) | 2002-03-20 | 2002-03-20 | 光源ユニットの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000357405A true JP2000357405A (ja) | 2000-12-26 |
| JP3307368B2 JP3307368B2 (ja) | 2002-07-24 |
Family
ID=15858478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16791899A Expired - Lifetime JP3307368B2 (ja) | 1999-06-15 | 1999-06-15 | 光源ユニットの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3307368B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002055925A3 (en) * | 2001-01-11 | 2002-11-07 | Seiko Epson Corp | Light source apparatus, its manufacturing method and apparatus, reflector focal point locating method and apparatus, focal point locating light source, discharge lamp emittion position locating method and apparatus, and discharge lamp-refletor positioning method and apparatus |
| US7665867B2 (en) | 2003-05-22 | 2010-02-23 | Seiko Epson Corporation | Light source unit, method of manufacturing light source unit, and projector |
-
1999
- 1999-06-15 JP JP16791899A patent/JP3307368B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002055925A3 (en) * | 2001-01-11 | 2002-11-07 | Seiko Epson Corp | Light source apparatus, its manufacturing method and apparatus, reflector focal point locating method and apparatus, focal point locating light source, discharge lamp emittion position locating method and apparatus, and discharge lamp-refletor positioning method and apparatus |
| US7145665B2 (en) | 2001-01-11 | 2006-12-05 | Seiko Epson Corporation | Light source apparatus, its manufacturing method and apparatus, reflector focal position-locating method and apparatus, focal position-locating light source, discharge lamp emission position-locating method and apparatus, and discharge lamp-reflector positioning method and apparatus |
| US7665867B2 (en) | 2003-05-22 | 2010-02-23 | Seiko Epson Corporation | Light source unit, method of manufacturing light source unit, and projector |
| US7712921B2 (en) | 2003-05-22 | 2010-05-11 | Seiko Epson Corporation | Light source device, method of manufacturing light source, and projector |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3307368B2 (ja) | 2002-07-24 |
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