JP2000501062A - 安定剤としての熱安定な立体障害アミン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、次式Ｉ ［式中、ＲはＨ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、フェニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）フェニル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基、ハロゲン原子、炭素原子数２ないし１２のアルキニル基または炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基を表し、ＸはＮＲ’、ＮＣＯＲ’またはＯを表し、またＹはＲ”またはＲ”−ＣＯ−を表し、ここでＲ”は炭素原子数２ないし６のアルケニル基または、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ’−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−またはフェニレン基によって中断された炭素原子数３ないし６のアルケニル基、または（炭素原子数１ないし４のアルケニル）フェニル基を表し、またＲ’はＨまたは炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表すか、または−Ｘ−Ｙは次式

Description

【発明の詳細な説明】 安定剤としての熱安定な立体障害アミン 本発明は、新規２，２，６，６−テトラメチルピペリジンであって、環窒素原 子について置換され、また、４位において、重合可能な二重結合を有する置換基 を含むものと、それらのホモポリマーおよびコポリマーと、光、酸素および／ま たは熱による損傷に対して有機材料を安定化するためのそれらの使用と、および 前記化合物または前記ポリマーによって安定化された有機材料とに関する。 ２，２，６，６−テトラメチルピペリジン型の立体障害アミンのいくつかは、 合成ポリマーのための添加剤として、特に光安定剤として既に開示されており、 これらは１−プロパルギル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの４−置 換誘導体を含む。例として、以下の刊行物がこれに関して挙げられる：ＵＳ−Ａ −４４７２５４７（Ｃ．Ａ．１０２：４６８３１ｚ）、ＥＰ−Ａ−１１０５１（ Ｃ．Ａ．９４：３９５１８ｒ）、ＤＥ−Ａ−２８０５８３８（Ｃ．Ａ．９０：２ ２８２０ｃ）。ＵＳ−Ａ−４３８６１２７（Ｃ．Ａ．９９：８９３８０ｐ）はま た、１−ブチニル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン をも開示する。 安定剤としての２，６−ジアリールピペリジニ−１−イル−置換２−ブテン型 のいくつかの化合物の使用もまた開示されている（ＵＳ−Ａ−５２０４４７４） 。 科学刊行物のいくつかは、１−ブチニル−２，２，６，６−テトラメチルピペ リジンであって、そのピペリジン環が４−位において未置換であるものと、およ び薬剤としてのそれらの可能な使用とを記載しており、例えばＭ．Ｅ．ツーヘア ー等、Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２７、９３（１９９２）（Ｃ．Ａ．１１ ７ ：２６４０５ｖ）、Ｊ．Ｍ．Ａ．アル−ラビ等、Ｏｒｇ．Ｍａｇｎ．Ｒｅｓｏ ｎ．１９、９１（１９８２）（Ｃ．Ａ．９７：１５５１３２ｗ）およびＯｒｇ． Ｍａｇｎ．Ｒｅｓｏｎ．１５、２８５（１９８１）（Ｃ．Ａ．９５：６０７８９ ｋ）、Ｂ．カレン等、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈ ｅｍ．１３、６５１（１９７０）（Ｃ．Ａ．７３：４４８５７ｗ）である。 １，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−１−イル）ヘキサ ジインであって、そのピペリジン環が４−位において未置換であるものは、薬学 的な活性化合物としてＵＳ−Ａ−３７５５５８６（Ｃ．Ａ．８０：１９５５０ｃ ）、Ｗ．Ｂ．ルッツ等、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２７、１６９５（１９６２）お よびＵＳ−Ａ−３０８５０９３（Ｃ．Ａ．５９：９９９８ｅ）において記載され る。 環窒素原子についてのβ−位における三重結合とピペリジン環についての４− 位における重合可能な二重結合の双方を含む２，２，６，６−テトラメチルピペ リジン型のある化合物は、有機材料のための安定剤として驚くほどに適している ことが今や見いだされた。それらはまた高い熱安定性をも有し、そして従って適 用におけるより高い加工温度および結果としてこの方法において安定化された生 成物のさらなる加工についてのより高い処理量を可能にする。 本発明は従って、次式Ｉ ［式中、 ＲはＨ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、フェニル基、（炭素原子数１な いし４のアルキル）フェニル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基 、ハロゲン原子、炭素原子数２ないし１２のアルキニル基または炭素原子数１な いし１２のアルコキシ基を表し、 ＸはＮＲ’、ＮＣＯＲ’またはＯを表し、また ＹはＲ”またはＲ”−ＣＯ−を表し、ここでＲ”は炭素原子数２ないし６のアル ケニル基または、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ’−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −またはフェニレン基によって中断された炭素原子数３ないし６のアルケニル基 、または（炭素原子数１ないし４のアルケニル）フェニル基を表し、また Ｒ’はＨまたは炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表すか、または −Ｘ−Ｙは次式 で表される基を表す。］で表される化合物に最初に関する。 炭素原子数１ないし１２のアルキル基であるＲおよびＲ’は、例えば、メチル 基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イ ソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチ ル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１ −メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テト ラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチ ル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３ ，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチ ルウンデシル基、ドデシル基、または１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘ キシル基である。アルキル基であるＲおよびＲ’は、特に、１ないし６個、好ま しくは、１ないし４個の炭素原子を含む。 炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基であるＲは、アルキル基によって 単一−または多重置換されたフェニル基を表す。この基は、例えば１ないし３個 、特に１または２個のアルキル置換基を含む。 炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基は、例えば、メチルフェニル基（ トリル基）、ジメチルフェニル基（キシリル基）、トリメチルフェニル基（メシ チル基）、エチルフェニル基、プロピルフェニル基またはブチルフェニル基であ ることができる。 フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基であるＲは、例えば、ベンジル 基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、α−メチルベンジル基またはα， α’−ジメチルベンジル基を表す。 炭素原子数２ないし１２のアルキニル基であるＲは、例えば、エチニル基、１ −プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブ チニル基等を表す。これらのアルキニル基は好ましくは２ないし４個の炭素原子 を有する。 炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基であるＲは、例えば、メトキシ基、エ トキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等を表す。これらのアルコキシ基は好まし くは１ないし６個、特に１ないし４個の炭素原子を有する。 ハロゲン原子はＦ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩ、好ましくはＣｌまたはＢｒ、しかし 特にＣｌである。 炭素原子数２ないし６のアルケニル基は、例えば、ビニル基、１−プロペニル 基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等を 表す。好ましいのは２ないし４個の炭素原子を有するアルケニル基である。好ま しいのは一般に１，２−位においてＣ＝Ｃ二重結合を含むアルケニル基である。 好ましいのは、式中、 ＲはＨ、炭素原子数１ないし８のアルキル基、フェニル基、（炭素原子数１ない し４のアルキル）フェニル基またはフェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル 基を表し、また Ｒ”は炭素原子数２ないし４のアルケニル基、炭素原子数３ないし４のアルケニ ル基であって−Ｏ−、−ＣＯ−または−ＮＲ’−によって中断された基、または ベンジル基またはフェニル基であって炭素原子数２ないし４のアルケニル基によ って置換された基を表すところの、式Ｉで表される化合物である。 特に興味深いのは、式中、 ＲはＨ、炭素原子数１ないし８のアルキル基またはフェニル基を表し、 ＸはＮＨ、Ｎ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基またはＯを表し、また Ｙは次式ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯ−、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）−ＣＯ−、で表される基を表すか、または −Ｘ−Ｙは次式 で表される基を表すところの、式Ｉで表される化合物である。 大変特に重要なのは、式中、 ＲはＨまたはメチル基を表し、 ＸはＯまたはＮＨを表し、また Ｙは次式ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ₂、ＣＯ−Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂で表される基またはビ ニルベンジル基を表すところの、式Ｉで表される化合物である。 本発明はさらに、式Ｉで表される１種以上の化合物の付加重合によって得られ るホモポリマーおよびコポリマーに関する。 これらの新規ホモポリマーおよびコポリマーは、好ましくは次式II ［式中、ｍは０または１を表し、 Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は、互いに独立して、Ｈまたは炭素原子数１ないし１０のア ルキル基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ’−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−また はフェニレン基によって中断された炭素原子数３ないし１０のアルキル基を表し 、 Ｚは直接結合、フェニレン基、フェニレン（炭素原子数１ないし４のアルキレン ）基、炭素原子数１ないし４のアルキレン基または、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ ’−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−またはフェニレン基によって中断された炭 素原子数３ないし４のアルキレン基を表し、但し、四つの基Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄およ びＺの全てにおける炭素原子の総数は、所望の中断基における炭素原子を除いて 、１０個を超えないか、または、Ｒ₂およびＲ₄がＨを表しかつｍが０を表す場合 、Ｒ₃、ＺおよびＸは一緒になって、 単位をも表すことができ、またＺおよびＲは式Ｉにおいて定義されたものを表し 、またｎは５ないし１００００の数を表し、そしてそれぞれの繰り返し単位にお ける一般記号は同一であるかまたは異なる。］に従う。 好ましいのは、式中、 Ｚは直接結合を表し、また Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は、互いに独立して、Ｈまたは炭素原子数１ないし４のアル キル基を表すところの化合物である。 式IIで表される化合物におけるｎは、好ましくは２ないし１０００、特に２な いし１００を表す。 本発明はさらに、式Ｉで表される化合物と、重合可能なエチレン性不飽和Ｃ＝ Ｃ二重結合を含む少なくとも１種のコモノマーとの付加重合によって得られるコ ポリマーに関する。 好ましいのは、コモノマーは、α−オレフィン、スチレン、α−メチルスチレ ン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリレート、メタクリレート、アクリルアミ ド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、酢酸ビニルまたは塩化ビニルからな る群よりの１種以上の化合物であるところのコポリマーである。 これらのコポリマーは、式IIで表される構造単位１ないし９９モル％と、およ び次式III ［式中、 Ｒ₅はＨ、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、フェニル基、−ＣＯＯＲ₇、− ＣＯＮＨ₂、−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃｌを表し、 Ｒ₆はＨまたは炭素原子数１ないし１０のアルキル基を表し、またＲ₇はＨまたは 炭素原子数１ないし１０のアルキル基を表す。］で表される構造単位９９ないし １モル％とを好ましく含む。 好ましいのは、式III中、 Ｒ₅は炭素原子数１ないし２のアルキル基、フェニル基、−ＣＯＯＲ₇、−ＣＯＮ Ｈ₂、−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃｌを表し、 Ｒ₆はＨまたはメチル基を表し、また Ｒ₇はＨまたは炭素原子数１ないし２のアルキル基を表すところのコポリマーで ある。 式Ｉで表される化合物とＣ＝Ｃ二重結合を含むコモノマーとからなるコポリマ ーは、５００ないし１００００００、好ましくは１０００ないし１０００００、 特に１０００ないし１００００の平均分子量Ｍ_nを好ましく有する。 式Ｉで表される化合物は、例えば、次式IVまたはＶ ［式中、ＲおよびＲ’は前記に定義されたものを表す。］で表される４−（アル キル）アミノ−または４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ ンを、不飽和の、重合可能なカルボン酸、カルボン酸クロライドまたはカルボン 酸エステル誘導体とそれ自体は既知の方法において反応させることにより、また は次式VI ［式中、ＸおよびＹは前記に定義されたものを表す。］で表される４−置換２， ２，６，６−テトラメチルピペリジンを、適当なアルキニル−ｐ−トルエンスル ホン酸化合物とそれ自体は既知の方法において反応させることにより製造される 。 製造は、式IVまたはＶ［式中、ＲはＨまたはＣＨ₃を表し、また Ｒ’は炭素原子数１ないし４のアルキル基またはＨを表す。］で表される化合物 を、例えば、アクリロイルクロライド、メタクリロイルクロライド、メタクリル 酸、メチルメタクリル酸またはビニルベンジルクロライドと反応させることによ り、または式VI［式中、ＸおよびＹは一緒になってＣＨ₂＝ＣＨＣＯＮＨ−また はＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＮＨ−を表す。］で表される化合物を、プロパルギル トシレートと反応させることにより好ましく行われる。 式IVおよび式VIで表される双方の化合物は、それ自体は既知の方法において次 式VIIで表される４−アルキルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ ンから製造されることができ、または式ＶまたはVIで表される化合物はそれ自体 は既知の方法において次式VIIIで表される４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テ トラメチルピペリジンおよび前記された適当な試薬から製造されることができ、 式で表される化合物は、市販で入手可能であるかまたは既知の方法によって簡単 に製造されることができる。 反応は好ましくは不活性有機溶媒中で行われる。用いられることができる溶媒 は、極性または非極性溶媒、例えば炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エステル、 エーテル、ケトン、アミド、ニトリル、第三アミンまたはスルホキシドであり、 適した溶媒の例はトルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、石油エー テル並びに他の炭化水素混合物、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、 ジオキサン、クロロホルム、ジエチルエーテル、ジメチルスルホキシドおよびア セトニトリルであり、特に好ましいのはアセトニトリルである。 反応の間の温度は、−５０ないし２００℃、好ましくは−２５ないし１６０℃ 、特に−１５ないし１４０℃の範囲であることができる。 反応混合物の温度は、反応の間沸騰範囲（還流）に保持されることができる。 終わりに、溶媒含有反応混合物は、一般に大気圧下で、沸点に昇温され、そして 蒸発させられた溶媒は適した冷却器を使用して凝縮され、そして反応混合物中に 送り返される。 反応は酸素の排除で、例えばアルゴンのような不活性ガスでフラッシュするこ とにより行われることができるが、しかしながら、酸素は常に妨害しないので、 この基準無しで反応を行うこともまた可能であり得る。 反応が完了したとき、仕上げは慣用の方法により行われることができる。混合 物は、例えば反応混合物を１ないし４倍の体積の（氷）水中に添加することによ って、都合よく最初に水で希釈される。生成物は続いて直接に分離されることが できるか、または例えば酢酸エチルまたはトルエンを都合よく使用して抽出され ることができる。抽出の場合には、生成物は溶媒の除去により慣用の方法におい て分離されることができる。これは、有機相の乾燥後に都合よく行われる。例え ば水性炭酸水素ナトリウムでの洗浄、活性炭の分散、シリカゲルによるクロマト グラフィー、ろ過、再結晶および／または蒸留のような他の精製段階を組み入れ ることもまた可能である。 式Ｉで表される化合物のホモポリマーおよびコポリマー、例えば式IIまたはII Iで表されるものは遊離ラジカル重合により製造される。 遊離ラジカル重合は様々な方法を使用して行われることができる。これらは、 例えばＳ．サンドラーおよびＷ．カロによるＰｏｌｙｍｅｒ Ｓｙｎｔｈｅｓｉ ｓ、１ないし３巻、アカデミックプレス、ニューヨーク１９６８において記載さ れる。慣用の重合方法の例は、バルク重合、溶媒重合、乳化重合、懸濁重合およ び沈殿重合である。 重合は一般に慣用の遊離ラジカル重合開始剤によって開始される。これらは、 例えばアゾイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）のようなアゾ化合物、例えばベンゾ イルペルオキシドのような過酸化物のような熱開始剤、鉄（III）アセチルアセ トネート、ベンゾインおよびベンゾイルペルオキシドの混合物ような酸化還元開 始剤系、およびベンゾインまたはベンジルメチルケタールのような化学線遊離ラ ジカル形成剤を含む。 開始剤は反応溶液中に、エチレン性不飽和モノマーの量に基づいて、０．１な いし５モル％、好ましくは０．５ないし３モル％の量で都合よく添加される。 分子量を制御するために、連鎖移動化合物は、例えば５ないし２０モル％の量 で添加されることができる。そのような化合物の例は、ジスルフィド、メルカプ タン、ハライド、ジブチルスルフィド他である。 重合は好ましくは溶液中で行われる。反応温度は一般に１０ないし２００℃、 好ましくは３０ないし１５０℃、特に４０ないし１００℃の範囲である。 あらゆる存在する溶媒は反応条件下で不活性でなければならない。適した溶媒 は芳香族炭化水素、ケトンおよびエーテルを含む。それらの例はベンゼン、トル エン、キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、メチルエチルケトン 、アセトン、シクロヘキサノン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラ ヒドロフランおよびジオキサンである。特に好ましいのはトルエンおよびテトラ ヒドロフランである。 重合は酸素の不在において、例えばアルゴン下または窒素下で好ましく行われ る。 式Ｉで表される化合物および新規ホモポリマー並びにそれらのコポリマーは、 熱、酸化または化学線崩壊に対して有機材料を安定化するために特に適している 。 それらの材料の例は以下のものである。 １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポ リイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポ リイソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペ ンテンまたはノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望に架橋されることが できる。）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高分子量ポ リエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および超高分子量ポリエチレン（ＨＤ ＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（Ｌ ＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、分岐低密度ポリエチレン（ ＢＬＤＰＥ）。 ポリオレフィン、すなわち前段落において例示されたモノオレフィンのポリマ ー、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは、異なった、また特に以下 の方法によって製造されることができる。 ａ）ラジカル重合（通常、高圧下および高温で）。 ｂ）触媒重合であって、通常１種またはそれ以上の周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂ またはVIII群の金属原子を含む触媒を使用するもの。これらの金属原子は通常１ 個またはそれ以上の、代表的にはπ−またはσ−配位され得るオキシド、ハライ ド、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび ／またはアリールのようなリガンドを有する。これらの金属錯体は遊離形態また は代表的には活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（III）、アルミナまたは酸 化ケイ素のような基材上に固定され得る。これらの触媒は重合媒体中に可溶また は不溶であり得る。触媒は重合においてそれら自身により使用されることができ 、または代表的には金属アルキル、金属ヒドライド、金属アルキルハライド、金 属アルキルオキシドまたは金属アルキルオキサンのような他の活性化剤が使用さ れることができ、該金属原子は周期表のＩａ、IIａおよび／またはIIIａ群の元 素である。活性化剤はさらなるエステル、エーテル、アミンまたはシリルエーテ ル基で都合よく変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス（Ｐｈｉｌ ｌｉｐｓ）、スタンダードオイルインディアナ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｉｌ Ｉ ｎｄｉａｎａ）、チグラー（−ナッタ）（Ｚｉｅｇｌｅｒ（−Ｎａｔｔａ））、 ＴＮＺ（デュポン（ＤｕＰｏｎｔ））、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ ｓｉｎｇｌｅ ｓｉｔｅ ｃａｔａｌｙｓｔ）（ＳＳＣ）と命名される。 ２．１）以下で前記されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソ ブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレン（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、 ＰＰ／ＬＤＰＥ）および異なる型のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／Ｈ ＤＰＥ）。 ３．モノオレフィンおよびジオレフィンの相互または他のビニルモノマーとのコ ポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ ＬＬＤＰＥ）およびそれらの低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロ ピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エ チレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン ／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オク テンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレ ンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキ ルメタクリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよびそ れらの一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよび それらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレンおよびヘキサジエン、 ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのター ポリマー、 およびそのようなコポリマー相互および１）において前記されたポリマーとの混 合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エ チレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コ ポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互また はランダムポリアルキレン／一酸化炭素コポリマーおよびそれらの例えばポリア ミドのような他のポリマーとの混合物。 ４．炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）であって、それらの水素化変 性物（例えば粘着付与剤）を含むもの、およびポリアルキレンおよび澱粉の混合 物。 ５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン） 。 ６．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル誘導体とのコポ リマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン ／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、ス チレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、ス チレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート、 スチレンコポリマーおよび他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリ マーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーの高衝撃強度性の混合物 、および スチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン ／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／プロピレン／スチ レンのようなスチレンのブロックコポリマー。 ７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタ ジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロ ニトリルコポリマーにスチレン、 ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタアクリロニトリ ル）、 ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタクリレート、 ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸、 ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレ イミド、 ポリブタジエンにスチレンおよびマレイミド、 ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートまたはメタクリレート、 エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル 、 ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレートにスチレンおよび アクリロニトリル、 アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、並び にそれらの６）以下に列挙されたコポリマーとの混合物、例えば、ＡＢＳ、ＭＢ Ｓ、ＡＳＡまたはＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。 ８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレ ン−イソプレンの塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化ま たはスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコポリマー、 エピクロロヒドリン ホモ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物 のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、 ポリフッ化ビニリデン、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビ ニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマ ー。 ９．α，β−不飽和酸から誘導されたポリマーおよびポリアクリレート並びにポ リメタクリレートのようなそれらの誘導体、 ブチルアクリレートで耐衝撃変性された（ｉｍｐａｃｔ−ｍｏｄｉｆｉｅｄ）ポ リメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル。 １０．９）以下で述べられたモノマーの相互または他の不飽和モノマーとのコポ リマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／ アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアク リレートまたはアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマーまたはアクリロニ トリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。 １１．不飽和アルコールおよびアミンから誘導されたポリマーまたはアシル誘導 体またはそれらのアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルアセテ ート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエー ト、ポリビニルブチラル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン、並 びに１）において前記されたオレフィンとのそれらのコポリマー。 １２．ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキ シドのような環式エーテルのホモポリマーおよびコポリマーまたはそれらのビス グリシジルエーテルとのコポリマー １３．ポリオキシメチレンのようなポリアセタールおよびコモノマーとしてエチ レンオキシドを含むそれらのポリオキシメチレン、 熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール 。 １４．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およびポリフェニレンオキシ ドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。 １５．一方の成分としてヒドロキシル末端基で終了されたポリエーテル、ポリエ ステルまたはポリブタジエン、および他方の成分として脂肪族または芳香族ポリ イソシアナートから誘導されたポリウレタン、並びにそれらの前駆物質。 １６．ジアミン並びにジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または対応 するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド ４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、 １２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびア ジピン酸から開始した芳香族ポリアミド、 ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸または／およびテレフタル酸から変 性剤としてエラストマーを用いてまたは用いずに製造されたポリアミド、例えば ポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ −フェニレンイソフタルアミド、およびまた 前記されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー または化学結合もしくはグラフトされたエラストマー、または ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレン グリコールのようなポリエーテルとのブロックコポリマー、並びに ＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性されたポリアミドまたはコポリアミド、および 加工の間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。 １７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリ エステルイミド、ポリヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。 １８．ジカルボン酸並びにジオールおよび／またはヒドロキシカルボン酸または 対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレ ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサ ンテレフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル末端 基で終了されたポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル、 およびまた ポリカーボネートまたはＭＢＳで変性されたポリエステル。 １９．ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネート。 ２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。 ２１．一方の成分としてアルデヒド、および他方の成分としてフェノール、尿素 およびメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデ ヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂 。 ２２．乾式および不乾式アルキド樹脂。 ２３．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールおよび架橋剤としてのビ ニル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、および また低燃焼性のそれらのハロゲン含有変性物。 ２４．置換されたアクリレートから誘導された架橋可能なアクリル樹脂、例えば エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルアクリレート 。 ２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアナート、イソシアヌレート、ポリイソ シアナートまたはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂お よびアクリレート樹脂。 ２６．脂肪族、環式脂肪族、ヘテロ環式または芳香族グリシジル化合物から誘導 された架橋エポキシ樹脂、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノールＦのジ グリシジルエーテルの生成物であって、無水物またはアミンのような慣用の硬化 剤と、促進剤を用いてまたは用いずに架橋されたもの。 ２７．セルロース、ゴム、ゼラチンのような天然ポリマーおよび化学変性された それらの同質誘導体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート およびセルロースブチレート、またはメチルセルロースのようなセルロースエー テル、並びにロジンおよびそれらの誘導体。 ２８．前記されたポリマーのブレンド（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ 、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶ Ｃ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、 ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可 塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰ Ｏ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ 、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳまたはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。 本発明は従ってさらに、ａ）酸化、熱および／または化学線崩壊／発生を受け やすい有機材料と、およびｂ）式Ｉで表される少なくとも１種の化合物および／ またはホモポリマー並びに／もしくはそれらのコポリマーを含む組成物と、およ び酸化、熱または化学線崩壊／発生に対して有機材料を安定化するための式Ｉで 表される化合物および／またはホモポリマー並びに／もしくはそれらのコポリマ ーの使用とに関する。本発明はまた、熱、酸化および／または化学線崩壊／発生 に対して有機材料を安定化する方法であって、式Ｉで表される少なくとも１種の 化合物および／またはホモポリマー並びに／もしくはそれらのコポリマーを前記 有機材料に添加することからなる方法にも関する。 特に興味深いのは、合成有機ポリマーおよび対応する組成物における安定剤と しての式Ｉで表される化合物の使用である。 保護される有機材料は、好ましくは天然、半合成または好ましくは合成有機材 料である。特に好ましいのは、合成有機ポリマーまたはそのようなポリマーの混 合物、特に熱可塑性ポリマー、例えばポリオレフィン、特にポリエチレン（ＰＥ ）およびポリプロピレン（ＰＰ）である。他の特に好ましい有機材料は塗料組成 物である。本発明に従って有利に安定化されることができる塗料組成物は、例え ば、Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉ ａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第５版、Ａ１８巻、頁３５９−４６４、ＶＣＨ フ ァーラグスゲゼルシャフト、ワインハイム１９９１において記載される。 新規化合物によって安定化されることができる他の材料は写真材料である。こ れらは、特にＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ １９９０、３１４２９ （頁４７４−４８０）において写真複写および他の複写方法について記載された ものを意味すると考えられる。 一般に、式Ｉで表される化合物は、安定化される組成物の総重量に基づいて、 ０．０１ないし１０％、好ましくは０．０１ないし５％、特に０．０１ないし２ ％の量で安定化される材料に添加される。新規化合物は特に好ましくは０．０５ ないし１．５％、より特に０．１ないし０．５％の量で使用される。 材料への混入は、例えば、式Ｉで表される化合物および、所望により、工業に おける通常の方法による他の添加剤を混入または適用することにより行われるこ とができる。材料がポリマー、特に合成ポリマーである場合、混入は成形の前ま たは間に、所要による引き続く溶媒の蒸発を伴って、溶解または分散された化合 物をポリマーに適用することによって行われることができる。エラストマーの場 合、これらは格子として安定化されることもできる。式Ｉで表される化合物をポ リマー中に混入する他の方法は、対応するモノマーの重合の前、間もしくは直後 、または架橋の前にそれらを添加することからなる。式Ｉで表される化合物は、 そのまま、またはさもなくばカプセル化形態（例えばワックス、油またはポリマ ー中）において添加されることができる。重合の前または間の添加の場合、式Ｉ で表される化合物はまた、ポリマーの鎖長についての調節剤（連鎖停止剤）とし て作用もできる。 式Ｉで表される化合物はまた、例えば２．５ないし２５重量％の濃度でこれら の化合物を含むマスターバッチの形態で、安定化されるプラスチックに添加され ることもできる。 式Ｉで表される化合物は以下の方法によって都合よく混入されることができる 。 −乳液または分散液として（例えば格子または乳液ポリマー） −他の成分の混合の間の乾燥混合物またはポリマー混合物として −加工装置中への直接添加によって（例えば、押出器、密閉式ミキサー等） −溶液または融解物として 新規ポリマー組成物は、様々な形態において、例えばフィルム、繊維、テープ 、成形組成物、異形材、塗料のためのバインダ、接着剤または接着セメントとし て使用されることができ、または様々な生成物に、例えばフィルム、繊維、テー プ、成形組成物、異形材に転換することができる。 式Ｉで表される化合物またはホモポリマー並びに／もしくはそれらのコポリマ ーに加えて、新規組成物は、さらなる成分（ｃ）として、１種またはそれ以上の 慣用の添加剤、例えば以下のものを含むことができる。１．酸化防止剤 １．１．アルキル化モノフェノール 、例えば、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、 ２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 ２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、 ２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、 ２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、 直鎖または側鎖において分岐鎖であるノニルフェノール、例えば、 ２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、 ２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、 ２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、 ２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよ びそれらの混合物。１．２．アルキルチオメチルフェノール 、例えば、 ２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、 ２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、 ２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、 ２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。１．３．ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン 、例えば、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、 ２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、 ２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、 ２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、 ２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、 ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、 ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、 ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。１．４．トコフェロール 、例えば、 α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェ ロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）。１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例えば、 ２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、 ２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、 ４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、 ４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、 ４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、 ４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。１．６．アルキリデンビスフェノール 、例えば、 ２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、 ２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、 ２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェ ノール］、 ２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、 ２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、 ２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、 ２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、 ２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、 ２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール ］、 ２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェ ノール］、 ４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、 ４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、 １，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン 、 ２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４− メチルフェノール、 １，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル） ブタン、 １，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３− ｎ−ドデシルメルカプトブタン、 エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ フェニル）ブチレート］、 ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタ ジエン、 ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）− ６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、 １，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、 ２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、 ２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４− ｎ−ドデシルメルカプトブタン、 １，１，５，５−テトラキス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフ ェニル）ペンタン。１．７．Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物 、例えば、 ３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジル エーテル、 オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテー ト、 トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセ テート、 トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、 ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテ レフタレート、 ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、 イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトア セテート。１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート 、例えば、 ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベン ジル）マロネート、 ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル ）マロネート、 ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ ドロキシベンジル）マロネート、 ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス （３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物 、例えば、 １，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２ ，４，６−トリメチルベンゼン、 １，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３， ５，６−テトラメチルベンゼン、 ２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェ ノール。１．１０．トリアジン化合物 、例えば、 ２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ ドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、 ２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ キシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、 ２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ キシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、 ２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）− １，２，３−トリアジン、 １，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソ シアヌレート、 １，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン ジル）イソシアヌレート、 ２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル ）−１，３，５−トリアジン、 １，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピ オニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、 １，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イ ソシアヌレート。１．１１．ベンジルホスホネート 、例えば、 ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、 ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、 ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネー ト、 ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホ ネート、 ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエス テルのカルシウム塩。１．１２．アシルアミノフェノール 、例えば、 ４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、 オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメー ト。１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ ン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル 、 アルコール例、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、 ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、 １，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、 ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、 トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、 トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、 Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、 ３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、 トリメチロールプロパン、 ４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２． ２．２］オクタン。１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロ ピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル、 アルコール例、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、 ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、 １，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、 ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、 トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、 トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、 Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、 ３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、 トリメチロールプロパン、 ４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２． ２．２］オクタン。１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ オン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル、 アルコール例、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、 １，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、 １，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、 チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、 ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、 Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、 ３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、 トリメチロールプロパン、 ４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２． ２．２］オクタン。１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価 または多価アルコールとのエステル 、 アルコール例、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、 １，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、 １，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、 チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、 ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、 Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、 ３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、 トリメチロールプロパン、 ４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２． ２．２］オクタン。１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ ン酸のアミド 、例えば、 Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ ル）ヘキサメチレンジアミン、 Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ ル）トリメチレンジアミン、 Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ ル）ヒドラジン。１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ） 。１．１９．アミン酸化防止剤 、例えば、 Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、 Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、 Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、 Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン 、 Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、 Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、 Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、 Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、 Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、 Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、 Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、 Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、 ４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、 Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、 ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、 ４−イソプロポキシジフェニルアミン、 Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、 Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、 Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、 オクチル化ジフェニルアミン、例えば ｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、 ４−ｎ−ブチルアミノフェノール、 ４−ブチリルアミノフェノール、 ４−ノナノイルアミノフェノール、 ４−ドデカノイルアミノフェノール、 ４−オクタデカノイルアミノフェノール、 ビス（４−メトキシフェニル）アミン、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、 ２，４’−ジアミノジフェニルメタン、 ４，４’−ジアミノジフェニルメタン、 Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、 １，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、 １，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、 （ｏ−トリル）ビグアニド、 ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、 第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、 モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物 、 モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、 モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、 モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合 物、 モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、 ２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノ チアジン、 モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、 モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、 Ｎ−アリルフェノチアジン、 Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ， Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イル）ヘキサメチレ ンジアミン、 ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、 ２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、 ２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。２．ＵＶ吸収剤および光安定剤 ２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール 、例えば、 ２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、 ２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア ゾール、 ２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、 ２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェ ニル）ベンゾトリアゾール、 ２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ −ベンゾトリアゾール、 ２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−ク ロロ−ベンゾトリアゾール、 ２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベン ゾトリアゾール、 ２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール 、 ２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア ゾール、 ２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェ ニル）ベンゾトリアゾール、 ２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカル ボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、 ２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボ ニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール 、 ２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニル エチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、 ２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニル エチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、 ２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカル ボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、 ２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニ ルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、 ２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリ アゾール、および ２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシ カルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、 ２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６ −ベンゾトリアゾリ−２−イルフェノール］、 ２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒ ドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３０ ０とのエステル交換生成物、 次式［Ｒ−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−］₂−［式中、Ｒは３’−第三ブチ ル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基を 表す。］で表されるもの。２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン 、例えば、 ４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、 ４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシお よび２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。２．３．置換および未置換安息香酸のエステル 、例えば、 ４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、 オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、 ２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン ゾエート、 ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、 オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、 ２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ ドロキシベンゾエート。２．４．アクリレート 、例えば、 エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、 イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、 メチルα−カルボメトキシシンナメート、 メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、 ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、 メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよび Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。２．５．ニッケル化合物 、例えば、 ２，２’−チオ−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノー ル］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、ｎ−ブチルアミ ン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのよう なさらなる配位子を伴うまたは伴わないもの、 ニッケルジブチルジチオカルバメート、 ４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエ ステル、例えばメチルまたはエチルエステルのニッケル塩、 例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのようなケト キシムのニッケル錯体、 １−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であ って、さらなる配位子を伴うまたは伴わないもの。２．６．立体障害アミン 、例えば、 ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、 ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、 ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、 ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） セバケート、 ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３， ５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、 １−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキ シピペリジンおよびコハク酸の縮合生成物、 Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチ レンジアミンおよび４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５− トリアジンの縮合生成物、 トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテ ート、 テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３， ４−ブタン−テトラカルボキシレート、 １，１’−（１，２−エタンジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペ ラジノン）、 ４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、 ４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、 ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２− （２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、 ３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピ ロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、 ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケ ート、 ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシ ネート、 Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチ レンジアミンおよび４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジ ンの縮合生成物、 ２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメ チルピペリジル）−１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビス（３−アミノプ ロピルアミノ）エタンの縮合生成物、 ２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペン タメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビス（３−アミ ノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、 ８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−ト リアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、 ３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリ ジン−２，５−ジオン、 ３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピ ロリジン−２，５−ジオン、 ４−ヘキサデシルオキシ−および４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テト ラメチルピペリジンの混合物、 Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチ レンジアミンおよび４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５ −トリアジンの縮合生成物、 １，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンおよび２，４，６−トリクロ ロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラ メチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ． ［１３６５０４− ９６−６］）、 Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシ ンイミド、 Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルス クシンイミド、 ２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ −４−オキソスピロ［４．５］デカン、 ７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８− ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンおよびエピクロロヒドリンの反応生 成物。２．７．オキサミド 、例えば、 ４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、 ２，２’−ジエトキシオキサニリド、 ２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、 ２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、 ２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、 Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド、および その２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合 物、および ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、および ｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン 、例えば、 ２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３ ，５−トリアジン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４ −ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、 ２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェ ニル）−１，３，５−トリアジン、 ２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４ −ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メ チルフェニル）−１，３，５−トリアジン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４ −ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２， ４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、 ２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、 ２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピル オキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリア ジン、 ２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ） −２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１ ，３，５−トリアジン、 ２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキ シ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト リアジン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル− １，３，５−トリアジン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３ ，５−トリアジン、 ２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ− プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、 ２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニ ル−１，３，５−トリアジン。３．金属奪活剤 、例えば、 Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、 Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、 Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、 Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ ル）ヒドラジン、 ３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、 ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、 オキサニリド、 イソフタロイルジヒドラジド、 セバコイルビスフェニルヒドラジド、 Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、 Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、 Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。４．ホスフィットおよびホスホナイト 、例えば、 トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、 フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、 トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット 、 ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジ ホスフィット、 ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジ ホスフィット、 ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホス フィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィット、 テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホス ホナイト、 ６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジ ベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、 ６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベン ズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、 ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、 ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット。５．ヒドロキシルアミン 、例えば、 Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、 Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、 Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、 Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、 Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、 Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、 Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、 Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、 Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、 水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。６．ニトロン 、例えば、 Ｎ−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、 Ｎ−エチルα−メチル−ニトロン、 Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、 Ｎ−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、 Ｎ−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、 Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、 Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、 Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、 Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、 Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、 Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、 水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘 導されたニトロン。７．チオ相乗剤 、例えば、 ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピネート。８．過酸化物捕捉剤 、例えば、 β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチ ルまたはトリデシルエステル、 メルカプトベンズイミダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛 塩、 亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。９．ポリアミド安定剤 、例えば、 ヨウ化物および／またはリン化合物と組み合せた銅塩および二価のマンガンの塩 。１０．塩基性補助安定剤 、例えば、 メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、 トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、 ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、 例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、 マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレートおよび カリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレートまたは 錫ピロカテコレート。１１．核剤 、例えば、 タルクのような無機材料、 二酸化チタン、酸化マグネシウムのような金属酸化物、 ホスフェート、カーボネートまたはサルフェートであって、好ましくはアルカリ 土類金属のもの、 モノ−またはポリカルボン酸のような有機化合物およびそれらの塩、例えば、 ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、 ナトリウムスクシネートまたはナトリウムベンゾエート、 イオン性コポリマー（“アイオノマー”）のようなポリマー性化合物。１２．充填剤および強化剤 、例えば、 炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、 タルク、カオリン、雲母、バリウムサルフェート、 金属オキシドおよびヒドロキシド、カーボンブラック、グラファイト、 木粉および他の天然生成物の粉末または繊維、合成繊維。１３．その他の添加剤 、例えば、 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、 難燃剤、帯電防止剤および発泡剤。１４．ベンゾフラノンおよびインドリノン 、例えば、 ＵＳ−Ａ−４３２５８６３、ＵＳ−Ａ−４３３８２４４、ＵＳ−Ａ−５１７５３ １２、ＵＳ−Ａ−５２１６０５２、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３、ＤＥ−Ａ−４３ １６６１１、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６、ＥＰ−Ａ −０５８９８３９またはＥＰ−Ａ−０５９１１０２において開示されるもの、ま たは ３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル− ベンゾフラノ−２−オン、 ５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェ ニル］−ベンゾフラノ−２−オン、 ３，３−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、 ５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オ ン、 ３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル −ベンゾフラノ−２−オン、 ３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三 ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。 これらのさらなる添加剤は、安定化されるポリマーに基づいて、０．１ないし １０重量％、例えば０．２ないし５重量％の量で都合よく用いられる。 以下の実施例はより詳細に本発明を説明する。実施例、残余の記載および請求 項における全ての部および百分率は、他に述べられない限り、重量部および重量 百分率を表す。以下の略語が実施例において使用される。 ＧＰＣ： ゲル浸透クロマトグラフィー¹ Ｈ−ＮＭＲ： 核¹Ｈの核磁気共鳴 Ｍ_n： 数平均モル質量（単位ｇ／モル） Ｍ_w： 重量平均モル質量（単位ｇ／モル） ＴＧＡ： 熱重量分析 ＴＨＦ： テトラヒドロフラン実施例１：プロパルギルトシレート トルエンスルホニルクロライド３８１ｇ（２モル）を、機械スターラー、温度 計および滴下漏斗を備えた２．５ｌスルホン化フラスコ中の塩化メチレン４００ ｍｌ中に溶解した。水１６０ｍｌ中のプロパルギルアルコール１１２ｇ（２モル ）の溶液をその中に注ぎ入れた。水１３２ｍｌ中に溶解された水酸化ナトリウム ８８ｇ（２．２モル）を、乳化液の温度が２５℃を超えないような速度で滴下添 加した。その後、混合物を一晩室温で攪拌し、そしてその後水４００ｍｌおよび 塩化メチレン２００ｍｌで希釈した。有機相を分離し、そして水で二回洗浄した 。溶媒を回転蒸発器で除去した。残渣をビグルックスカラム（Ｖｉｇｒｅｕｘ ｃｏｌｕｍｎ）に通して蒸留した。収量 ：沸点１０２℃／０．００８ｍｂａｒの液体３２５ｇ（７７％）。微量分析 ： 計算値 実測値 Ｃ ５７．１３ ５７．０７ Ｈ ４．７９ ４．８０ Ｓ １５．２５ １５．２４ ¹ Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）： ２．４５ｐｐｍ （３Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃ ２．４７−２．５３ｐｐｍ （１Ｈ，ｍ） ：≡Ｃ−Ｈ ４．６９−４．７０ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：≡Ｃ−ＣＨ₂−Ｏ 実施例２：１−プロパルギル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル ピペリジンの製造 ４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１９７ｇ（１．２ ５モル）、実施例１からの化合物１０５ｇ（０．５モル）およびアセトニトリル １．８ｌを、精密ガラススターラー、温度計および冷却器を備えた２．５ｌスル ホン化フラスコ中に導入した。懸濁液を昇温し、沸騰させた。７０℃を超えて初 めて透明溶液が得られた。３０分後、薄い懸濁液を形成した。混合物を１８時間 還流し、室温に冷却し、水５ｌで希釈し、そして酢酸エチルで三回抽出し、そし て結合された有機相を乾燥し、そして蒸発させた。固形残渣を酢酸エチルから再 結晶した。収量 ：７２．２ｇ（７４％） 融点：１５１℃微量分析 ： 計算値 実測値 Ｃ ７３．８０ ７３．７８ Ｈ １０．８４ １０．８３ Ｎ ７．１７ ７．２１ ¹ Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）： １．０７ｐｐｍおよび１．２６ｐｐｍ（１２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃ １．３８−１．４５ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．５４−１．５６ｐｐｍ （１Ｈ，ｄ） ：ＯＨ １．７９−１．８４ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） ２．１１−２．１２ｐｐｍ （１Ｈ，ｔ） ：Ｈ−Ｃ≡Ｃ ３．３２−３．３３ｐｐｍ （２Ｈ，ｄ） ：≡Ｃ−ＣＨ₂−Ｎ 実施例３：１−（ブチ−２−ニル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラ メチルピペリジンの製造 ２−ブチニルｐ−トルエンスルホネート［ランカスターシンセシスリミテッド 、ランカシャー ＬＡ３０Ｙ、イングランド］２７．２ｇ（０．１２モル）、４ −ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン４７．７ｇ（０．３モ ル）およびアセトニトリル０．５ｌを、磁気スターラーおよび冷却器を備えた１ ｌ丸底フラスコ中に導入した。混合物を昇温し、還流した。１９時間後、溶液を 氷上に注ぎ入れ、そして酢酸エチルで三回抽出した。有機相を乾燥し、そして蒸 発させた。粗生成物をｎ−ヘキサンから再結晶した。収量 ：２０ｇ（８０％） 融点：１０６℃微量分析 ： 計算値 実測値 Ｃ ７４．５９ ７４．４７ Ｈ １１．０８ １１．０４ Ｎ ６．６９ ６．８０ ¹ Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）： １．０７−１．２５ｐｐｍ （１２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃（ピペリジン） １．１６−１．１９ｐｐｍ （１Ｈ，ｄ） ：ＯＨ １．３８−１．４６ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．７８−１．９５ｐｐｍ （５Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） およびＣＨ₃−Ｃ≡ ３．２９ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：≡Ｃ−ＣＨ₂−Ｎ 実施例４：Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）アクリ ルアミドの製造 ４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン４６９ｇ（３モル）を 、精密ガラススターラー、温度計、滴下漏斗および冷却器を備えた１．５ｌスル ホン化フラスコ中のジエチルエーテル５００ｍｌ中に溶解した。アクリロイルク ロライド９０．５ｇ（１モル）を−１５℃で徐々に滴下添加した。滴下添加後、 混合物を室温に昇温させ、そして氷水中に注ぎ入れ、そして固形分を分離除去し 、そしてアセトニトリルから再結晶した。収量 ：６７ｇ（３２％） 融点：１２２℃微量分析 ： 計算値 実測値 Ｃ ６８．５３ ６８．６５ Ｈ １０．５４ １０．６１ Ｎ １３．３２ １３．２２ ¹ Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）： ０．６９ｐｐｍ （１Ｈ，ｓ） ：ＮＨ（ピペリジン） ０．９１−０．９９ｐｐｍ （２Ｈ，ｔ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．１３ｐｐｍおよび１．２７ｐｐｍ（１２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃（ピペリジン） １．９１−１．９６ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） ５．４６ｐｐｍ （１Ｈ，ｄ） ：−ＮＨ−ＣＯ− ５．６１−５．６５ｐｐｍ （１Ｈ，ｍ） ：ＣＯ−ＣＨ＝Ｃ ６．０２−６．３２ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：Ｃ＝ＣＨ₂ 実施例５：Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）メタク リルアミドの製造 ４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン３４４ｇ（２．２モル ）を、精密ガラススターラー、温度計および滴下漏斗を備えた２．５ｌスルホン 化フラスコ中の塩化メチレン１．５ｌ中に溶解した。混合物を−１０℃に冷却し 、そしてメタクリロイルクロライド１０４．５ｇ（１モル）を攪拌しながら滴下 添加した。混合物をその後さらに３時間室温で攪拌し、そして０．５Ｎ 水酸化 ナトリウム溶液２ｌ中に注ぎ入れ、有機相を分離除去し、水で洗浄し、そして乾 燥し、そして揮発性要素を蒸発によって除去した。残渣をｎ−ヘキサンから再結 晶した。収量 ：８７ｇ（３９％） 融点：１１９℃微量分析 ： 計算値 実測値 Ｃ ６９．６０ ６９．５２ Ｈ １０．７８ １０．７９ Ｎ １２．４９ １２．４２ ¹ Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）： ０．６９ｐｐｍ （１Ｈ，ｓ） ：ＮＨ（ピペリジン） ０．９１−０．９９ｐｐｍ （２Ｈ，ｔ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．１３ｐｐｍおよび１．２７ｐｐｍ（１２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃（ピペリジン） １．９１−１．９５ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．９６ｐｐｍ （３Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃ （メタクリレート） ５．３１ｐｐｍおよび５．６５ｐｐｍ （２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₂＝Ｃ ５．５５ｐｐｍ （１Ｈ，ｄ） ：−ＮＨ−ＣＯ−実施例６：４−アクリロイルオキシ−１−プロパルギル−２，２，６，６−テト ラメチルピペリジンの製造 実施例２において製造された化合物２９０ｇ（１．４８モル）、トリエチルア ミン１９５ｇ（１．９モル）およびジエチルエーテル２．７ｌを、アルゴン下で 、精密ガラススターラー、温度計および滴下漏斗を備えたプレーングラウンドジ ョイントを有する５ｌフラスコ中に導入した。この混合物を５℃に冷却し、そし てアクリロイルクロライド１６１ｇ（１．８モル）をその後攪拌しながら徐々に 滴下添加した。混合物をその後室温で約１８時間攪拌した。反応溶液を炭酸水素 ナトリウム溶液中に注ぎ入れ、そして有機相を分離除去した。水相を酢酸エチル で一回抽出した。結合された有機層を乾燥し、そして蒸発させた。残渣をｎ−ヘ キサンから再結晶した。収量 ：２０６．５ｇ（５６％） 融点：４８℃微量分析 ： 計算値 実測値 Ｃ ７２．２５ ７２．４０ Ｈ ９．３０ ９．３４ Ｎ ５．６２ ５．６４ ¹ Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）： １．１４ｐｐｍおよび１．２７ｐｐｍ（１２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃（ピペリジン） １．５４−１．６２ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．８３−１．８９ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） ２．１１−２．１３ｐｐｍ （３Ｈ，ｓ） ：Ｈ−Ｃ≡Ｃ ３．３３−３．３４ｐｐｍ （２Ｈ，ｄ） ：Ｎ−ＣＨ₂− ５．７８−５．８２ｐｐｍ （１Ｈ，ｄ） ：ＣＯ−ＣＨ＝Ｃ ６．０５−６．１４および ６．３４−６．４１ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：Ｃ＝ＣＨ₂ 実施例７：４−メタクリロイルオキシ−１−プロパルギル−２，２，６，６−テ トラメチルピペリジンの製造 実施例２において記載された化合物２４０ｇ（１．２５モル）、トリエチルア ミン２１７７ｇ（１．７５モル）およびジエチルエーテル１．７ｌを、アルゴン 下で、精密ガラススターラー、温度計および滴下漏斗を備えた２．５ｌスルホン 化フラスコ中に導入した。懸濁液を５℃に冷却し、そしてメタクリロイルクロラ イド１５６ｇ（１．５モル）をその後滴下添加した。混合物を室温に昇温させ、 さらに２０時間攪拌し、そして炭酸水素ナトリウム水性溶液中に注ぎ入れ、そし て有機相を分離除去し、乾燥し、そして蒸発させた。残渣をｎ−ヘキサンから再 結晶した。収量 ：１６３ｇ（５０％） 融点：４９℃微量分析 ： 計算値 実測値 Ｃ ７２．９７ ７２．２８ Ｈ ９．５７ ９．８０ Ｎ ５．３２ ５．２２ ¹ Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）： １．１３ｐｐｍおよび１．２７ｐｐｍ（１２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃（ピペリジン） １．４８−１．６８ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．８４−１．９０ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．９３ｐｐｍ （３Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃ （メタクリレート） ２．１１−２．１３ｐｐｍ （１Ｈ，ｔ） ：Ｈ−Ｃ≡Ｃ ３．３４−３．３５ｐｐｍ （２Ｈ，ｄ） ：Ｎ−ＣＨ₂ ５．５３ｐｐｍおよび６．０７ｐｐｍ （２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₂＝Ｃ実施例８：４−アクリロイルオキシ−１−ブチ−２−ニル−２，２，６，６−テ トラメチルピペリジンの製造 実施例３において製造された化合物１０．５ｇ（５０ミリモル）、トリエチル アミン５．６ｇ（５５ミリモル）およびジエチルエーテル６５ｍｌを、アルゴン 下で、精密ガラススターラー、温度計および滴下漏斗を備えた２５０ｍｌスルホ ン化フラスコ中に導入した。アクリル酸４．５ｇ（５０ミリモル）を５℃で滴下 添加した。混合物をその後室温でさらに２４時間攪拌し、炭酸水素ナトリウム溶 液で二回洗浄し、そして有機相を硫酸ナトリウムを使用して乾燥し、そして蒸発 させた。残渣を、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３：１を使用するシリカゲル６０ ［メルク、ダームスタッド］でクロマトグラフィーを行い、無色液状物１０．３ ｇ（７８％）を得た。微量分析 ： 計算値 実測値 Ｃ ７２．９７ ７２．７７ Ｈ ９．５７ ９．６３ Ｎ ５．３２ ５．１１ ¹ Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）： １．０６ｐｐｍおよび１．１８ｐｐｍ（１２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃（ピペリジン） １．４６−１．５４ｐｐｍ （２Ｈ，ｔ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．６９−１．７０ｐｐｍ （３Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₃（ブチン） １．７４−１．８０ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） ３．２１−３．２２ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：Ｃ≡Ｃ−ＣＨ₂−Ｎ 実施例９：４−（４−ビニルベンジルオキシ）−１−プロパルギル−２，２，６ ，６−テトラメチルピペリジンの製造 実施例２において製造された化合物３０ｇ（１５４ミリモル）、トルエン１５ ０ｍｌ、ポリエチレングリコール１０００ ７．７ｇ（７．７ミリモル）および 粉末水酸化カリウム４３．１ｇ（７７０モル）を、アルゴン下で、精密ガラスス ターラー、温度計および滴下漏斗を備えた３５０ｍｌスルホン化フラスコ中に導 入した。この懸濁液を８０℃に昇温し、そしてビニルベンジルクロライド［フル カ ＡＧ、ブッヒス］２５．９ｇ（１７０ミリモル）をその後滴下添加した。混 合物を８０℃でさらに４時間攪拌し、その後室温に冷却し、そして水中に注ぎ入 れた。有機相を分離し、そして２Ｎ ＨＣｌ溶液で抽出した。この水相をトルエ ンで洗浄し、そしてその後１Ｎ 水酸化ナトリウム溶液によって塩基性にした。 水相をトルエンで抽出し、そして有機相を硫酸ナトリウムを使用して乾燥し、そ して溶媒を完全に蒸発させた。１５０℃／０．０２ｍｂａｒでバルブ−チューブ 蒸留を行い、無色液体を得た。収量 ：２３．５ｇ（５１％）微量分析 ： 計算値 実測値 Ｃ ８０．９８ ８０．８９ Ｈ ９．３８ ９．３９ Ｎ ４．５０ ４．４７ ¹ Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）： １．０５ｐｐｍおよび１．２６ｐｐｍ（１２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃（ピペリジン） １．４６−１．５４ｐｐｍ （２Ｈ，ｔ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．８６−１．９２ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） ２．１０−２．１１ｐｐｍ （１Ｈ，ｔ） ：Ｈ−Ｃ≡Ｃ ３．３１−３．３２ｐｐｍ （２Ｈ，ｄ） ：Ｃ≡Ｃ−ＣＨ₂−Ｎ ４．５２ｐｐｍ （２Ｈ，ｓ） ：Ａｒ−ＣＨ₂−Ｏ−７．２１−７．３８ｐｐｍ （４Ｈ，ｍ） ：Ｈ−Ａｒ実施例１０：Ｎ−（１−プロパルギル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ ニ−４−イル）アクリルアミドの製造 実施例１からの化合物６５．５ｇ（０．３１モル）、実施例４において記載さ れた化合物１３１ｇ（０．６２モル）およびアセトニトリル９４０ｍｌを、磁気 スターラーおよび冷却器を備えた２ｌ丸底フラスコ中に導入した。混合物を昇温 し、還流し、透明溶液を形成した。混合物を６時間還流し、再び懸濁液を得た。 固形分をろ過除去し、そして溶液を蒸発させ、乾燥させた。残渣を酢酸エチルに よるシリカゲル６０［メルク］で精製し、そしてキシレンから再結晶した。収量 ：４７ｇ（６１％） 融点：１２５．３℃微量分析 ： 計算値 実測値 Ｃ ７２．５４ ７２．３９ Ｈ ９．７４ ９．７１ Ｎ １１．２８ １１．３０ ¹ Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）： １．１３ｐｐｍおよび１．２２ｐｐｍ（１２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃（ピペリジン） １．３０−１．３８ｐｐｍ （２Ｈ，ｔ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．７９−１．８４ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） ２．１１−２．１２ｐｐｍ （１Ｈ，ｔ） ：Ｈ−Ｃ≡Ｃ− ３．３２−３．３３ｐｐｍ （２Ｈ，ｄ） ：Ｃ≡Ｃ−ＣＨ₂−Ｎ ５．５０ｐｐｍ （１Ｈ，ｄ） ：−ＮＨ−ＣＯ− 実施例１１：Ｎ−（１−プロパルギル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ ニ−４−イル）メタクリルアミドの製造 実施例１からの化合物４０．２ｇ（０．１９モル）、実施例５において記載さ れた化合物８５．８ｇ（０．３８モル）およびアセトニトリル６００ｍｌを、磁 気スターラーおよび冷却器を備えた１ｌ丸底フラスコ中に導入した。溶液を昇温 し、還流し、６時間攪拌し、室温に冷却し、そして固形分を分離した。溶媒を蒸 発させた。残渣を酢酸エチルを使用するシリカゲル６０［メルク］で精製し、そ して引き続いてシクロヘキサンから再結晶した。収量 ：２５．４ｇ（５１％） 融点：１１７．４℃微量分析 ： 計算値 実測値 Ｃ ７３．２４ ７３．２１ Ｈ ９．９９ ９．９８ Ｎ １０．６８ １０．６５ ¹ Ｈ−ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）： １．１３ｐｐｍおよび１．２５ｐｐｍ（１２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃（ピペリジン） １．２９−１．３７ｐｐｍ （２Ｈ，ｔ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．８０−１．８５ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：ＣＨ₂（ピペリジン） １．９５ｐｐｍ （３Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₃ （メタクリレート） ２．１１−２．１２ｐｐｍ （１Ｈ，ｔ） ：Ｈ−Ｃ≡Ｃ− ３．３２−３．３３ｐｐｍ （２Ｈ，ｄ） ：Ｃ≡Ｃ−ＣＨ₂−Ｎ ５．３１ｐｐｍおよび５．６４ｐｐｍ （２Ｈ，ｓ） ：ＣＨ₂＝ ５．５２ｐｐｍ （１Ｈ，ｍ） ：−ＮＨ−ＣＯ−実施例１２：ポリ（４−アクリロイルオキシ−１−プロパルギル−２，２，６， ６−テトラメチルピペリジン）の製造 実施例６からのモノマー９０ｇ（０．３６モル）、アゾビスイソブチロニトリ ル（ＡＩＢＮ）１．１９ｇ（７．２ミリモル）、ブチルメルカプタン３．２ｇ（ ３６ミリモル）およびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２７０ｇを、アルゴン下で 、磁気スターラーを備えた５００ｍｌ丸底フラスコ中に導入した。溶液を酸素無 しとし、そして一晩７０℃でアルゴン下で重合した。反応溶液をメタノール中で 沈殿させ、そして固形分をＴＨＦ中で再溶解させ、そしてメタノール中で沈殿さ せた。白色ポリマー粉末を高真空下で乾燥し、ポリマー３３．１ｇ（３７％）を 得た。ＧＰＣ （ＴＨＦ）： Ｍ_n＝６７００ Ｍ_w＝１０６００ＴＧＡ （加熱速度２℃／分、空気） ： ３０３℃で１０％重量損失実施例１３：ポリ（４−メタクリロイルオキシ−１−プロパルギル−２，２，６ ，６−テトラメチルピペリジン）の製造 実施例７からのモノマー７０ｇ（０．２７モル）を、ＴＨＦ ２１０ｇ中のＡ ＩＢＮ ０．８７ｇ（５．３ミリモル）およびブチルメルカプタン３．６ｇ（４ ０ミリモル）で、実施例１２において記載したように重合した。収量 ：白色ポリマー粉末４０．３ｇ（５８％）ＧＰＣ （ＴＨＦ）： Ｍ_n＝６１００ Ｍ_w＝９９００ＴＧＡ （加熱速度２℃／分、空気） ： ２９８℃で１０％重量損失実施例１４：ポリ（４−アクリロイルオキシ−１−ブチ−２−ニル−２，２，６ ，６−テトラメチルピペリジン）の製造 実施例８からのモノマー２０ｇ（７６ミリモル）を、トルエン６３ｇ中のＡＩ ＢＮ ０．１２ｇ（０．７６ミリモル）およびブチルメルカプタン０．６８ｇ（ ７．５ミリモル）で、実施例１２において記載したように重合した。収量 ：ポリマー７ｇ（３５％）ＧＰＣ （ＴＨＦ）： Ｍ_n＝４４００ Ｍ_w＝５６００ＴＧＡ （加熱速度２℃／分、空気） ： ２７８℃で１０％重量損失実施例１５：ポリ［Ｎ−（１−プロパルギル−２，２，６，６−テトラメチルピ ペリジニ−４−イル）アクリルアミド］の製造 実施例１０からのモノマー４２ｇ（１６９ミリモル）を、ＴＨＦ １２０ｇ中 のＡＩＢＮ ２８０ｍｇ（１．７ミリモル）およびブチルメルカプタン３．０５ ｇ（３３．８ミリモル）で、実施例１２において記載したように重合した。 ポリマーをｎ−ヘキサン中で沈殿させた。収量 ：白色ポリマー３２．５ｇ（７７％）ＧＰＣ （ＴＨＦ）： Ｍ_n＝１５００ Ｍ_w＝４１００ＴＧＡ （加熱速度２℃／分、空気） ： ３１５℃で１０％重量損失実施例１６：ポリ［Ｎ−（１−プロパルギル−２，２，６，６−テトラメチルピ ペリジニ−４−イル）メタクリルアミド］の製造 実施例１１からのモノマー２５ｇ（９５ミリモル）を、ＴＨＦ ７５ｇ中のＡ ＩＢＮ １５６ｍｇ（０．９５ミリモル）およびブチルメルカプタン１．７１ｇ （１９ミリモル）で、実施例１２において記載したように重合した。 ポリマーをｎ−ヘキサン中で沈殿させた。収量 ：白色ポリマー１４ｇ（５６％）ＧＰＣ （ＴＨＦ）： Ｍ_n＝１５００ Ｍ_w＝４０００ＴＧＡ （加熱速度２℃／分、空気） ： ３２１℃で１０％重量損失物質のｐＫ_aの決定 ジオキサン中の０．１Ｎ ＨＣｌＯ₄を使用するアセトニトリル／クロロホル ム＝１：１中での滴定。半中和点（ＨＮＰ）は２−アミノピリジンに基づく（＝ ０ｍＶ）。 実施例１７：ポリ（４−ビニルベンジルオキシ−１−プロパルギル−２，２，６ ，６−テトラメチルピペリジン）の製造 実施例９からのモノマー２９ｇ（９７ミリモル）、アゾビスイソブチロニトリ ル（ＡＩＢＮ）０．６４ｇ（３．９ミリモル）およびトルエン１１６ｇを、磁気 スターラーおよび還流冷却器を備えた２５０ｍｌ丸底フラスコ中に導入した。溶 液を酸素無しとし、そして一晩７０℃でアルゴン下で攪拌した。 粘稠溶液をメタノール中に注ぎ入れた。沈殿物をトルエン中に投入し、そして メタノール中で再沈殿させた。ポリマーを高真空下で乾燥した。収量 ：２４ｇ（８３％） ＭＡＬＤＩ−ＭＳ（マトリックスアシステッドレーザー脱離／イオン化−質量分 析計）： Ｍ_n ＝６０００ Ｍ_w ＝８５００ＴＧＡ （加熱速度２℃／分、空気） ： ３１６℃で１０％重量損失実施例１８：ポリプロピレン繊維の光安定化 実施例１２ないし１４からの新規安定剤それぞれ２．５ｇを、トリス（２，４ −ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット１ｇ、カルシウムモノエチル３，５− ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート１ｇ、カルシウムステア レート１ｇおよびＴｉＯ₂（クロノスＲＮ５７）２．５ｇと共に、ポリプロピレ ン粉末（メルトフローインデックス１２ｇ／１０分、２３０℃／２．１６ｋｇで 測定）１０００ｇとターボミキサー中で混合した。混合物を２００ないし２３０ ℃で押出し、ペレットを与え、それを引き続いて試験プラント（レオナルド、ス ミラゴ／ＶＡ、イタリア）を使用して、以下の条件下で繊維に転換した。 押出温度 ： １９０ないし２３０℃ ヘッド温度 ： ２５５ないし２６０℃ 延伸率 ： １：３．５ 延伸温度 ： １００℃ 繊維 ： １２ｄｅｎ この方法において製造した繊維を、ＡＳＴＭ Ｄ ２５６５−８５に従って、 白色バックグラウンドに対して６５ＷＲ型ウエザー−オー−メーター^R（アトラ ス コーポレーション）において黒色パネル温度６３℃で暴露した。様々な暴露 時間後、試料の残余の引張強さを測定した。測定は、試料の引張強さが半分とな る暴露時間Ｔ₅₀を計算するために使用した。 比較目的のために、新規安定剤無しに他は同一の条件下で製造した繊維を試験 した。試験結果を表１に示す。 本発明に従って安定化された繊維は優れた強度の持続性を有した。実施例１９：二層ペイントの安定化 実施例１０からの光安定剤をキシレン５ないし１０ｇ中に混入し、そして以下 の組成のワニスにおいて試験した。 シンサクリル^RＳＣ３０３¹⁾ ２７．５１ｇ シンサクリル^RＳＣ３７０²⁾ ２３．３４ｇ マプレナル^RＭＦ６５０³⁾ ２７．２９ｇ 酢酸ブチル／ブタノール（３７／８） ４．３３ｇ イソブタノール ４．８７ｇ ソルベッソ^R１５０⁴⁾ ２．７２ｇ クリスタルオイルＫ−３０⁵⁾ ８．７４ｇ流れ調節剤バイシル^RＭＡ⁶⁾ １．２０ｇ １００．００ｇ １）アクリル樹脂、ヘキストＡＧ、キシレン／ブタノール２６：９中の６５％溶 液 ２）アクリル樹脂、ヘキストＡＧ、ソルベッソ^R１００⁴⁾中の７５％溶液 ３）メラミン樹脂、ヘキストＡＧ、イソブタノール中の５５％溶液 ４）製造者：エッソ ５）製造者：シェル ６）ソルベッソ^R１５０中の１％、製造者：バイヤーＡＧ ワニスを、ワニスの固形分含有量に基づいて、実施例１０からの安定剤１％と 混合した。対照は光安定剤を含まないワニスであった。 ワニスを噴霧稠度にソルベッソ^R１００で希釈し、そして準備されたアルミニ ウムシート（コイルコート、フィラー、シルバー−メタリックベースコート）上 に噴霧し、そして３０分間１３０℃で焼き付けし、４０ないし５０μｍの乾燥フ ィルム厚を得た。 試料をその後、アトラス コーポレーションからのＵＶＣＯＮ^R耐候試験装置 （ＵＶＢ−３１３ランプ）において、６０℃での４時間のＵＶ照射および５０℃ での４時間の凝縮のサイクルで耐候試験を行った。 試料をひび割れについて定期的に評価した。 新規安定剤を含む試料は、高いひび割れ耐性を有した。実施例２０：写真材料の安定化 次式 で表される黄色カップラー０．０８７ｇを、酢酸エチル（２．２５ｇ／１００ｍ ｌ）中の実施例６からの新規安定剤の溶液２．０ｍｌ中に溶解した。ｐＨ６．５ に調節された２．３％水性ゼラチン溶液９．０ｍｌおよび次式 で表される湿潤剤１．７４４ｇ／ｌを、この溶液１．０ｍｌに添加した。 ６．０ｇ／ｌの銀含有量を有する臭化銀乳液２ｍｌおよび次式 で表される硬化剤の０．７％水溶液１．０ｍｌを、生じたカップラー乳液５．０ ｍｌに添加し、そして混合物を１３×１８ｃｍ樹脂コート紙の上に注型した。７ 日の硬化時間後、試料を銀ステップウエッジの後ろの１２５ルックスに暴露し、 そして引き続いてコダックエクタプリント２^R法によって処理した。 得られた黄色のウエッジを、ＵＶフィルター（コダック２Ｃ）の後ろでアトラ ス ウエザー−オー−メーター^Rにおいて２５００Ｗキセノンランプを使用して 全部で６０ｋＪ／ｃｍ²で照射した。 安定剤無しの試料を、標準として同じ方法において処理した。 照射で起こる黄色染料の吸収最大での色密度の低下を、マクベスＴＲ９２４Ａ デンシトメーターを使用して測定した。 光安定化効果は色密度の低下から明らかである。密度の低下がより小さくなる につれ、光安定化有効性はより大きくなる。 新規安定剤は良い光安定化作用を有した。実施例２１：ポリプロピレンテープの安定化 実施例９からの新規安定剤１．０ｇを、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェ ニル）ホスフィット１ｇ、ペンタエリトリチルテトラキス（３−［３’，５’− ジ−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル］プロピオネート）０．５ｇおよび カルシウムステアレート１ｇと共に、ポリプロピレン粉末（ＳＴＡＴＯＩＬＭＦ 、メルトフローインデックス４．０ｇ／１０分、２３０℃／２．１６ｋｇで測定 ）１０００ｇとターボミキサー中で混合した。 混合物を２００ないし２３０℃で押出し、ペレットを与え、それを試験プラン ト（レオナルド、スミラゴ／ＶＡ、イタリア）を使用して、以下の条件下で２． ５ｍｍ巾および５０μｍ厚の延伸テープに転換した。 押出温度 ： ２１０ないし２３０℃ ヘッド温度 ： ２４０ないし２６０℃ 延伸率 ： １：６ 延伸温度 ： １１０℃ この方法において製造したテープを、ＡＳＴＭ Ｄ ２５６５−８５に従って 、白色バックグラウンドに対して６５ＷＲ型ウエザー−オー−メーター^R（アト ラスコーポレーション）において黒色パネル温度６３℃で暴露した。様々な暴露 時間後、試料の残余の引張強さを測定した。測定は、試料の引張強さが半分とな る暴露時間Ｔ₅₀を計算するために使用した。 比較目的のために、新規安定剤無しに他は同一の条件下で製造したテープを試 験した。 本発明に従って安定化された試料は優れた強度の持続性を有した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｆ 20/34 Ｃ０８Ｆ 20/34 20/40 20/40 22/40 22/40 246/00 246/00 Ｃ０８Ｋ 5/3435 Ｃ０８Ｋ 5/3435 Ｃ０８Ｌ 57/12 Ｃ０８Ｌ 57/12 // Ｃ０９Ｄ 7/12 Ｃ０９Ｄ 7/12 Ａ Ｄ０１Ｆ 6/46 Ｄ０１Ｆ 6/46 Ｂ Ｇ０３Ｃ 7/392 Ｇ０３Ｃ 7/392 Ａ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，Ｓ Ｚ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＵ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＥＥ，ＧＥ，ＨＵ， ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＰ，ＫＲ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，Ｌ Ｔ，ＬＶ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ ，ＲＯ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＳ， ＵＺ，ＶＮ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 次式Ｉ ［式中、 ＲはＨ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、フェニル基、（炭素原子数１な いし４のアルキル）フェニル基、フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基 、ハロゲン原子、炭素原子数２ないし１２のアルキニル基または炭素原子数１な いし１２のアルコキシ基を表し、 ＸはＮＲ’、ＮＣＯＲ’またはＯを表し、また ＹはＲ”またはＲ”−ＣＯ−を表し、ここでＲ”は炭素原子数２ないし６のアル ケニル基または、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ’−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −またはフェニレン基によって中断された炭素原子数３ないし６のアルケニル基 、または（炭素原子数２ないし６のアルケニル）フェニル基を表し、また Ｒ’はＨまたは炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表すか、または −Ｘ−Ｙは次式 で表される基を表す。］で表される化合物。 ２． 式中、ＲはＨ、炭素原子数１ないし８のアルキル基、フェニル基、（炭素 原子数１ないし４のアルキル）フェニル基またはフェニル−炭素原子数１ないし ４のアルキル基を表し、また Ｒ”は炭素原子数２ないし４のアルケニル基、−Ｏ−、−ＣＯ−または−ＮＲ’ −によって中断された炭素原子数３ないし４のアルケニル基、またはベンジル基 またはフェニル基であって炭素原子数２ないし４のアルケニル基によって置換さ れた基を表すところの、請求項１に記載の化合物。 ３． 式中、ＲはＨ、炭素原子数１ないし８のアルキル基またはフェニル基を表 し、 ＸはＮＨ、Ｎ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基またはＯを表し、また Ｙは次式ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯ−、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）−ＣＯ−、 で表される基を表すか、または −Ｘ−Ｙは次式 で表される基を表すところの、請求項１に記載の化合物。 ４． 式中、ＲはＨまたはＣＨ₃を表し、 Ｘは−ＮＨ−または−Ｏ−を表し、また Ｙは次式ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯ−またはＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）−ＣＯ−で表される基 またはビニルベンジル基を表すところの、請求項１に記載の化合物。 ５． 式Ｉで表される１種以上の化合物の付加重合によって得られるホモポリマ ーまたはコポリマー。 ６． 一般式II ［式中、ｍは０または１を表し、 Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は、互いに独立して、Ｈまたは炭素原子数１ないし１０のア ルキル基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ’−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−また はフェニレン基によって中断された炭素原子数３ないし１０のアルキル基を表し 、 Ｚは直接結合、フェニレン基、フェニレン（炭素原子数１ないし４のアルキレン ）基、炭素原子数１ないし４のアルキレン基または、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ ’−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−またはフェニレン基によって中断された炭 素原子数３ないし４のアルキレン基を表し、但し、四つの基Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄およ びＺの全てにおける炭素原子の総数は、所望の中断基における炭素原子を除いて 、１０個を超えないか、または、Ｒ₂およびＲ₄がＨを表しかつｍが０を表す場合 、Ｒ₃、ＺおよびＸは一緒になって、 単位をも表すことができ、またＺおよびＲは式Ｉにおいて定義されたものを表し 、またｎは５ないし１００００の数を表し、そしてそれぞれの繰り返し単位にお ける一般記号は同一であるかまたは異なる。］に従う、請求項５に記載のポリマ ー。 ７． 式中、Ｚは直接結合を表し、また Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は、互いに独立して、Ｈまたは炭素原子数１ないし４のアル キル基を表すところの、請求項６に記載のポリマー。 ８． 式Ｉで表される化合物と、重合可能なエチレン性不飽和Ｃ＝Ｃ二重結合を 含む少なくとも１種のコモノマーとの付加重合によって得られるコポリマー。 ９． コモノマーは、α−オレフィン、スチレン、α−メチルスチレン、アクリ ル酸、メタクリル酸、アクリレート、メタクリレート、アクリルアミド、メタク リルアミド、アクリロニトリル、酢酸ビニルおよび塩化ビニルからなる群からの １種以上の化合物よりなるところの、請求項８に記載のコポリマー。 １０． 請求項６に記載の式IIで表される構造単位１ないし９９モル％と、およ び次式III ［式中、 Ｒ₅はＨ、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、フェニル基、−ＣＯＯＲ₇、− ＣＯＮＨ₂、−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃｌを表し、 Ｒ₆はＨまたは炭素原子数１ないし１０のアルキル基を表し、また Ｒ₇はＨまたは炭素原子数１ないし１０のアルキル基を表す。］で表される構造 単位９９ないし１モル％とからなる、請求項８に記載のコポリマー。 １１． 式III中、 Ｒ₅は炭素原子数１ないし２のアルキル基、フェニル基、−ＣＯＯＲ₇、−ＣＯＮ Ｈ₂、−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃｌを表し、 Ｒ₆はＨまたはメチル基を表し、また Ｒ₇はＨまたは炭素原子数１ないし２のアルキル基を表すところの、請求項１０ に記載のコポリマー。 １２． ａ）光、酸素および／または熱による損傷を受けやすい有機材料と、お よびｂ）安定剤として、請求項１に記載の式Ｉで表される少なくとも１種の化合 物および／または請求項５並びに／もしくは請求項８に記載のポリマーとからな る組成物。 １３． 成分ａ）は有機ポリマーであるところの、請求項１２に記載の組成物。 １４． 成分ａ）は合成ポリマーであるところの、請求項１２に記載の組成物。 １５． 成分ａ）はポリオレフィン、または、アクリル樹脂、アルキド樹脂、ポ リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂もしくはポリアミド樹脂もしくは対応する変 性樹脂をベースとした塗料バインダである、請求項１２に記載の組成物。 １６． 成分ａ）およびｂ）に加えて他の慣用の添加剤を含む、請求項１２に記 載の組成物。 １７． 組成物の重量に基づいて、０．０１ないし１０重量％の成分ｂ）を含む 、請求項１２に記載の組成物。 １８． 有機材料を光、酸素および／または熱による損傷に対して安定化する方 法であって、請求項１に記載の式Ｉで表される化合物および／または請求項５並 びに／もしくは請求項８に記載のポリマーと前記有機材料を混合することからな る方法。 １９． 有機材料を光、酸素および／または熱による損傷に対して安定化するた めの、請求項１に記載の式Ｉで表される化合物および／または請求項５並びに／ もしくは請求項８に記載のポリマーの使用。 ２０． 付加重合によって製造された有機ポリマーを光、酸素および／または熱 による損傷に対して安定化する方法であって、式Ｉで表される少なくとも１種の 化合物を重合の前では対応するモノマーに、または重合の間では反応混合物に添 加し、そしてこの化合物を共重合によってポリマー構造の中に組み入れることか らなる方法。 ２１． モノマーは、α−オレフィン、スチレン、α−メチルスチレン、アクリ ル酸、メタクリル酸、アクリレート、メタクリレート、アクリルアミド、メタク リルアミド、アクリロニトリル、酢酸ビニルまたは塩化ビニル、またはこれらモ ノマーの混合物であるところの、請求項２０に記載の方法。 ２２． 式Ｉで表される化合物は、モノマー含有量に基づいて、０．０１ないし ５モル％の量で添加されるところの、請求項２０に記載の方法。 ２３． 請求項２０に記載の方法によって光、酸素および／または熱による損傷 に対して保護されたポリマー。