JP2000502702A - 抗ヘルペスウイルス性を有するフェニルチアゾール誘導体 - Google Patents
抗ヘルペスウイルス性を有するフェニルチアゾール誘導体Info
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 式: の化合物またはその治療上許される酸付加塩。 [式中、 Rは水素、低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ(低級アルキル) アミノ、低級アルカノイルアミノ、(低級アルコキシカルボニル)アミノ、ジ( 低級アルコキシカルボニル)アミノ、{(低級アルキルアミノ)カルボニル}ア ミノ及びピリジニルアミノからなる群から選ばれ、かつ Zは (i)NR2-C(O)-Q-CH(R3)-NR4R5 (式中、 R2 は水素または低級アルキルであり、 Qは不在(即ち、原子価結合)またはメチレンであり、 R3 は水素、低級アルキル、フェニル(低級アルキル)または芳香族部分でハ ロ、ヒドロキシ、低級アルコキシもしくは低級アルキルで一置換されたフェニル (低級アルキル)であり、 R4 は水素、(1-8C)アルキル、{ジ(低級アルキル)アミノ}−(低級アル キル)、フェニル(低級)アルキル、芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アル コキシもしくは低級アルキルで一置換または二置換されたフェニル(低級)アル キル;1−インダニル、2−インダニル、(低級シクロアルキル)−(低級アル キル)、(Het)−(低級アルキル)(Het はN、OまたはSからなる群から選ば れた1個または2個のヘテロ原子を含む未置換、一置換または二置換の5貢また は6員の一価の複素環を表し、夫々の置換基は独立にハロ、ヒドロキシ、低級ア ルコキシ及び低級アルキルからなる群から選ばれる)であり、または R3 及びR4 は一緒になって-(CH2)m-W-基(式中、mは整数2または3であり 、かつWはメチレンまたはカルボニルであり、WはR5 を有する窒素原子に結合 されている)を形成し、かつ R5 は(1-8C)アルキル、フェニル(低級アルキル)、芳香族部分でハロ、ヒ ドロキシ、低級アルコキシもしくは低級アルキルで一置換されたフェニル(低級 アルキル);1−インダニル、2−インダニル、(低級シクロアルキル)−(低 級アルキル)、(Het)−(低級アルキル)(Hetはこの請求の範囲に定義されたとお りである)、フェニルスルホニル、1−または2−ナフチルスルホニル、5−( ジメチルアミノ)−1−ナフチルスルホニル、(低級アルキルアミノ)スルホニ ル、{ジ(低級アルキル)アミノ}スルホニル、(Het)−スルホニル(Hetはこの 請求の範囲に定義されたとおりである)、低級アルカノイル、(低級シクロアル キル)−(低級アルカノイル)、{1−(低級アルキル)−(低級シクロアルキ ル)}カルボニル、(低級アルコキシ)カルボニル、 フェニル−Y−(CH2)nC(O)(式中、Yはオキシ(-O-)またはチオ(-S-)であり、か つnはYがオキシである場合に0、1または2であり、またはYがチオである場 合に1または2である)、一置換または二置換フェニル−Y−(CH2)2C(O)(式中 、Y及びnはこの請求の範囲に定義されたとおりであり、一置換または二置換は ハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシ及び低級アルキルからなる群から選ばれた置 換基でそのフェニル部分に生じる);フェニル低級アルカノイル;独立にアジド 、ハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシ及び低級アルキルからなる群から選ばれた 置換基でフェニル部分で一置換または二置換されたフェニル(低級アルカノイル );(Het)-(CH2)nC(O) (式中、Het及びnは先に定義されたとおりである)、 (Het)-Y-(CH2)nC(O)(式中、Het、Y及びnはこの請求の範囲に定義されたとお りである)、2−{(低級アルコキシカルボニル)アミノ}−1−オキソエチル 、(低級アルキルアミノ)カルボニル、{ジ(低級アルキル)アミノ}カルボニ ルまたは(低級アルキルアミノ)チオカルボニルである); (ii)NR2AC(O)-A-NR3AR4A (式中、 R2A は水素または低級アルキルであり、 Aは不在またはカルボニルであり、 R3A は水素、(1-8C)アルキル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロ ピル、シアノで一置換された(1-3C)アルキル、フェニル(低級アルキル)、芳 香族部分でハロ、ヒドロキシ、ジ(低級アルキル)アミノ、低級アルコキシまた は低級アルキルで一置換または二置換されたフェニル(低級アルキル);(低級 シクロアルキル)−(低級アルキル)、または(Het)−(低級アルキル)(Het はこの請求の範囲に定義されたとおりである)であり、かつ R4A は(1-8C)アルキル、フェニル(低級アルキル)、芳香族部分でハロ、ヒ ドロキシ、ジ(低級アルキル)アミノ、低級アルコキシまたは低級アルキルで一 置換または二置換されたフェニル(低級アルキル);1−インダニル、2−イン ダニル、脂肪族部分でヒドロキシで一置換されたフェニル(低級アルキル);( 低級シクロアルキル)−(低級アルキル)、この請求の範囲に定義されたHet 、 (Het)−(低級アルキル)(Het はこの請求の範囲に定義されたとおりである )または3−1H−インドリルメチルであり、または R3A 及びR4A はそれらが結合されている窒素と一緒になってN、OまたはSか らなる群から選ばれた1個または2個のヘテロ原子を含む未置換、一置換または 二置換の5貢または6員の一価の複素環を形成し、夫々の置換基は独立にハロ、 ヒドロキシ、低級アルコキシ及び低級アルキルからなる群から選ばれ、または R3A 及びR4A は独立に であり、式中、Lは炭素、酸素または窒素であり、但し、Lが酸素である場合、 R6A またはR7A の一つが不在であることを条件とし、R5A 及びR6A は独立にR3A についてこの請求の範囲に定義された基から選ばれ、かつR7A は独立にR4A につ いてこの請求の範囲に定義された基から選ばれる); (iii)C(O)-NR2B R3B (式中 R2B は水素、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、フェニル(低 級アルキル)、芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキル またはトリフルオロメトキシで一置換または二置換されたフェニル(低級アルキ ル);低級シクロアルキル、(低級シクロアルキル)−(低級アルキル)、{1− ヒドロキシ−(低級シクロアルキル}−(低級アルキル)または(Het)−(低級 アルキル)(Het はこの請求の範囲に定義されたとおりである);2−ベンゾイ ミダゾリルであり、かつ R3B は低級アルキル、フェニル(低級アルキル)、芳香族部分でハロ、ヒドロ キシ、低級アルコキシ、低級アルキルまたはトリフルオロメトキシで一置換また は二置換されたフェニル(低級アルキル);1−インダニル、2−インダニル、 低級シクロアルキル、(低級シクロアルキル)−(低級アルキル)、{1−ヒド ロキシ−(低級シクロアルキル)}−(低級アルキル)または(Het)−(低級ア ルキル)(Het はこの請求の範囲に定義されたとおりである)であり、または R3B は であり、式中、R4B は水素、低級アルキル、フェニル(低級アルキル)、芳香族 部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキルまたはトリフルオロメ トキシで一置換または二置換されたフェニル(低級アルキル);(低級シクロア ルキル)−(低級アルキル)または(Het)−(低級アルキル)(Het はこの請求 の範囲に定義されたとおりである)であり、R5B はこの請求の範囲のR2B と同じ 意味を有し、かつR6B はこの請求の範囲のR3B と同じ意味を有し、または R3B は(CH2) t NR5BR6B (式中、tは1または2であり、かつR5B 及びR6B は この請求の範囲に定義されたとおりである)であり、またはR3B はCH(R7)CH2OH (式中、R7B はこの請求の範囲のR4B と同じ意味を有する)であり、またはR2B 及びR3B はそれらが結合されている窒素と一緒になってN、OまたはSからなる 群から選ばれた1個または2個のヘテロ原子を含む未置換、一置換または二置換 の5員または6員の一価の複素環を形成し、夫々の置換基は独立にハロ、ヒドロ キシ、低級アルコキシ、低級アルキル、フェニル(低級アルキル)及び芳香族部 分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシまたは低級アルキルで一置換または二置 換されたフェニル(低級アルキル)からなる群から選ばれる); (iv)OCH2C(O)NR2CR3C (式中、 R2C 及びR3C は独立に水素、低級アルキル、フェニル、フェニル(低級アルキ ル)、芳香族部分で独立にハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシまたは低級アルキ ルからなる群から選ばれた置換基で一置換または二置換されたフェニル(低級ア ルキル);1−インダニル、ジフェニルメチル、低級シクロアルキル、(低級シ クロアルキル)−(低級アルキル)または(Het)−(低級アルキル)(Het はこ の請求の範囲に定義されたとおりである)であり、但し、(a)R2C及びR3C は両方 とも水素ではあり得ず、(b)Rが水素、メチルまたはジメチルアミノである場合 、R2C 及びR3C は両方ともフェニルメチルではあり得ず、かつ(c)Rがアミノで ある場合、R2C 及びR3C は水素と1,1−ジメチルエチルの組み合わせまたはメ チルとフェニルの組み合わせではあり得ないことを条件とする);及び (v)CH2CH2N(R2D)-C(O)R3D (式中、 R2D は水素、低級アルキル、フェニル(低級アルキル)、芳香族部分でハロ、 ヒドロキシ、低級アルコキシまたは低級アルキルで一置換または二置換されたフ ェニル(低級アルキル);(低級シクロアルキル)−(低級アルキル)または(H et)−(低級アルキル)(Het はこの請求の範囲に定義されたとおりである)で あり、かつ R3D は低級アルキル;ハロで一置換、二置換または三置換された低級アルキル ;ハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシまたは低級アルキルで未置換、一置換また は二置換されたフェニル;芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシまた は 低級アルキルで未置換、一置換または二置換されたフェニル(低級アルキル); 低級シクロアルキル、(低級シクロアルキル)−(低級アルキル)、Het(Hetは この請求の範囲に定義されたとおりである)、(Het)−(低級アルキル)(Hetは この請求の範囲に定義されたとおりである);低級アルキルアミノ、ジ(低級ア ルキル)アミノ、または芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシまたは 低級アルキルで未置換、一置換または二置換されたフェニル(低級アルキル)ア ミノである) からなる群から選ばれる] 2.ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼを請求の範囲第1項に記載の化合物と接 触させる工程を含むことを特徴とするヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼの抑制 方法。 3.ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼを請求の範囲第1項に記載の化合物と接 触させる工程を含むことを特徴とするヘルペスウイルスの複製の抑制方法。 4.ヘルペス感染症の治療を要する哺乳類に治療上許される担体及び請求の範囲 第1項に記載の化合物を含む治療有効量の医薬組成物を投与する工程を含むこと を特徴とする哺乳類のヘルペス感染症の治療方法。 5.請求の範囲第1項に記載の化合物が細胞培養中のヘルペスウイルスの複製を 約5μM 未満の濃度で少なくとも約50%抑制する能力を更に特徴とする請求の範 囲第4項に記載の方法。 6.請求の範囲第1項に記載の化合物がヘルペスウイルスの複製を約2μM 未満 の濃度で少なくとも約50%抑制する能力を更に特徴とする請求の範囲第5項に記 載の方法。 7.請求の範囲第1項に記載の化合物がヘルペスウイルスの複製を約1μM 未満 の濃度で少なくとも約50%抑制する能力を更に特徴とする請求の範囲第6項に記 載の方法。 8.請求の範囲第1項に記載の化合物がヘルペスウイルスの複製を約500 nM未満 の濃度で少なくとも約50%抑制する能力を更に特徴とする請求の範囲第7項に記 載の方法。 9.請求の範囲第1項に記載の化合物がヘルペスウイルスの複製を約100 nM未満 の濃度で少なくとも約50%抑制する能力を更に特徴とする請求の範囲第8項に記 載の方法。 10.請求の範囲第1項に記載の化合物がヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼ媒介 RNAプライマー生合成を抑制する能力を更に特徴とする請求の範囲第5項に記 載の方法。 11.ヘルペスウイルスがHSV-1 である請求の範囲第5項に記載の方法。 12.ヘルペスウイルスがHSV-2 である請求の範囲第5項に記載の方法。 13.ヘルペスウイルスがHCMVである請求の範囲第5項に記載の方法。 14.請求の範囲第1項に記載の化合物がHSV-1 ヘリカーゼ−プライマーゼのUL5 サブユニットまたはUL52サブユニットに位置されたアロステリックエフェクター 部位に結合する能力を更に特徴とする請求の範囲第5項に記載の方法。 15.請求の範囲第1項に記載の化合物がHSV-1 ヘリカーゼ−プライマーゼのUL52 サブユニットのA−B配列に結合する能力を更に特徴とする請求の範囲第14項に 記載の方法。 16.ヘルペスウイルスの複製を約100 nM未満の濃度で少なくとも約50%抑制する 能力を更に特徴とする請求の範囲第1項に記載の化合物。 17.ヘルペスウイルスの複製を約50nM未満の濃度で少なくとも約50%抑制する能 力を更に特徴とする請求の範囲第16項に記載の化合物。 18.ヘルペスウイルスの複製を約10nM未満の濃度で少なくとも約50%抑制する能 力を更に特徴とする請求の範囲第17項に記載の化合物。 19.ヘルペスウイルスの複製を約1nM未満の濃度で少なくとも約50%抑制する能 力を更に特徴とする請求の範囲第19項に記載の化合物。 20.HSV-1 ヘリカーゼ−プライマーゼのUL5 サブユニットまたはUL52サブユニッ トに位置されたアロステリックエフェクター部位に結合する能力を更に特徴とす る請求の範囲第1項に記載の化合物。 21.HSV-1 ヘリカーゼ−プライマーゼのUL52サブユニットのA−B配列に結合す る能力を更に特徴とする請求の範囲第20項に記載の化合物。 22.請求の範囲第1項に記載の化合物及び医薬上許される担体を含むことを特徴 とする医薬組成物。 23.組成物が経口投与に適している請求の範囲第22項に記載の医薬組成物。 24.組成物が局所投与に適している請求の範囲第22項に記載の医薬組成物。 25.ヘルペス感染症の治療を要する哺乳類に治療有効量の請求の範囲第22項に記 載の医薬組成物を投与する工程を含むことを特徴とする哺乳類のヘルペス感染症 の治療方法。 26.ヘルペス感染症の治療を要する哺乳類に治療有効量の請求の範囲第23項に記 載の医薬組成物を投与する工程を含むことを特徴とする哺乳類のヘルペス感染症 の治療方法。 27.ヘルペス感染症の治療を要する哺乳類に治療有効量の請求の範囲第24項に記 載の医薬組成物を投与する工程を含むことを特徴とする哺乳類のヘルペス感染症 の治療方法。 28.ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼを (a) ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼのDNA依存性NTPase活性を抑制する 能力、 (b) ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼとDNA基質との間の相互作用を安定 化する能力、 (c) ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼのDNA非依存性NTPase活性を抑制す ることができないこと、 (d) 二本鎖DNAに直接結合することができないこと、及び (e) HSV-1 のUL9 遺伝子によりコードされたヘルペス起源結合タンパク質ヘリ カーゼを抑制することができないこと を特徴とする非ヌクレオシド化合物と接触させる工程を含むことを特徴とするヘ ルペスヘリカーゼ−プライマーゼの抑制方法。 29.ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼを (a) ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼのDNA依存性NTPase活性を抑制する 能力、 (b) ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼとDNA基質との間の相互作用を安定 化する能力、 (c) ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼのDNA非依存性NTPase活性を抑制す ることができないこと、 (d) 二本鎖DNAに直接結合することができないこと、及び (e) HSV-1 のUL9 遺伝子によりコードされたヘルペス起源結合タンパク質ヘリ カーゼを抑制することができないこと を特徴とする非ヌクレオシド化合物と接触させる工程を含むことを特徴とするヘ ルペスウイルスの複製の抑制方法。 30.ヘルペス感染症の治療を要する哺乳類に治療上許される担体と (a) ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼのDNA依存性NTPase活性を抑制する 能力、 (b) ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼとDNA基質との間の相互作用を安定 化する能力、 (c) ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼのDNA非依存性NTPase活性を抑制す ることができないこと、 (d) 二本鎖DNAに直接結合することができないこと、及び (e) HSV-1 のUL9 遺伝子によりコードされたヘルペス起源結合タンパク質ヘリ カーゼを抑制することができないこと を特徴とする非ヌクレオシド化合物とを含む治療有効量の医薬組成物を投与する 工程を含むことを特徴とする哺乳類のヘルペス感染症の治療方法。 31.非ヌクレオシド化合物が細胞培養中のヘルペスウイルスの複製を約5μM 未 満の濃度で少なくとも約50%抑制する能力を更に特徴とする請求の範囲第30項に 記載の方法。 32.非ヌクレオシド化合物がヘルペスウイルスの複製を約2μM 未満の濃度で少 なくとも約50%抑制する能力を更に特徴とする請求の範囲第31項に記載の方法。 33.非ヌクレオシド化合物がヘルペスウイルスの複製を約1μM 未満の濃度で少 なくとも約50%抑制する能力を更に特徴とする請求の範囲第32項に記載の方法。 34.非ヌクレオシド化合物がヘルペスウイルスの複製を約500 nM未満の濃度で少 なくとも約50%抑制する能力を更に特徴とする請求の範囲第33項に記載の方法。 35.非ヌクレオシド化合物がヘルペスウイルスの複製を約100 nM未満の濃度で少 なくとも約50%抑制する能力を更に特徴とする請求の範囲第34項に記載の方法。 36.非ヌクレオシド化合物がヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼ媒介RNAプラ イマー生合成を抑制する能力を更に特徴とする請求の範囲第31項に記載の方法。 37.ヘルペスウイルスがHSV-1 である請求の範囲第31項に記載の方法。 38.ヘルペスウイルスがHSV-2 である請求の範囲第31項に記載の方法。 39.ヘルペスウイルスがHCMVである請求の範囲第31項に記載の方法。 40.非ヌクレオシド化合物がHSV-1 ヘリカーゼ−プライマーゼのUL5 サブユニッ トまたはUL52サブユニットに位置されたアロステリックエフェクター部位に結合 する能力を更に特徴とする請求の範囲第31項に記載の方法。 41.非ヌクレオシド化合物がHSV-1 ヘリカーゼ−プライマーゼのUL52サブユニッ トのA−B配列に結合する能力を更に特徴とする請求の範囲第40項に記載の方法 。 42.(a) ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼのDNA依存性NTPase活性を抑制す る試験化合物の能力を測定し、そして (b) DNA非依存性NTPase活性を抑制する試験化合物の能力を測定する非連続 工程を含むことを特徴とする非ヌクレオシドヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼ インヒビターの同定方法。 43.ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼ媒介RNAプライマー生合成を抑制する 試験化合物の能力を測定する工程を更に含む請求の範囲第42項に記載の方法。 44.ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼとDNA基質の間の相互作用を安定化す る試験化合物の能力を測定する工程を更に含む請求の範囲第42項に記載の方法。 45.二本鎖DNAに直接結合する試験化合物の能力を測定する工程を更に含む請 求の範囲第42項に記載の方法。 46.請求の範囲第42項に記載の方法により同定された非ヌクレオシドヘルペスヘ リカーゼ−プライマーゼインヒビター。 47.前記インヒビターがチアゾリルフェニル誘導体である請求の範囲第46項に記 載のインヒビター。 48.(a) ヘルベスヘリカーゼ−プライマーゼのDNA依存性NTPase活性を抑制す る能力、 (b) ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼとDNA基質との間の相互作用を安定 化する能力、 (c) 細胞培養物中のヘルペスウイルスの複製を約500 nM未満の濃度で少なくと も約50%抑制する能力、 (d) ヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼのDNA非依存性NTPase活性を抑制す ることができないこと、 (e) 二本鎖DNAに直接結合することができないこと、及び (f) HSV-1 のUL9 遺伝子によりコードされたヘルペス起源結合タンパク質ヘリ カーゼを抑制することができないこと を特徴とする非ヌクレオシドヘルペスヘリカーゼ−プライマーゼインヒビター。 49.約100 nM未満の濃度でヘルペスウイルスの複製を少なくとも約50%抑制する 能力を更に特徴とする請求の範囲第48項に記載のインヒビター。 50.約50nM未満の濃度でヘルペスウイルスの複製を少なくとも約50%抑制する能 力を更に特徴とする請求の範囲第49項に記載のインヒビター。 51.約10nM未満の濃度でヘルペスウイルスの複製を少なくとも約50%抑制する能 力を更に特徴とする請求の範囲第50項に記載のインヒビター。 52.非ヌクレオシド化合物が約1nM未満の濃度でヘルペスウイルスの複製を少な くとも約50%抑制する能力を更に特徴とする請求の範囲第51項に記載のインヒビ ター。 53.HSV-1 ヘリカーゼ−プライマーゼのUL5 サブユニットまたはUL52サブユニ ットに位置されたアロステリックエフェクター部位に結合する能力を更に特徴と する請求の範囲第48項に記載のインヒビター。 54.HSV-1 ヘリカーゼ−プライマーゼのUL52サブユニットのA−B配列に結合す る能力を更に特徴とする請求の範囲第53項に記載のインヒビター。 55.請求の範囲第48項〜第54項のいずれか一項に記載の非ヌクレオシドヘルペス ヘリカーゼ−プライマーゼインヒビター及び医薬上許される担体を含むことを特 徴とする医薬組成物。 56.組成物が経口投与に適している請求の範囲第55項に記載の医薬組成物。 57.組成物が局所投与に適している請求の範囲第55項に記載の医薬組成物。 58.ヘルペス感染症の治療を要する哺乳類に治療有効量の請求の範囲第55項に記 載の医薬組成物を投与する工程を含むことを特徴とする哺乳類のヘルペス感染症 の治療方法。 59.ヘルペス感染症の治療を要する哺乳類に治療有効量の請求の範囲第56項に記 載の医薬組成物を投与する工程を含むことを特徴とする哺乳類のヘルペス感染症 の治療方法。 60.ヘルペス感染症の治療を要する哺乳類に治療有効量の請求の範囲第57項に記 載の医薬組成物を投与する工程を含むことを特徴とする哺乳類のヘルペス感染症 の治療方法。 61.哺乳類に抗ヘルペスウイルス有効量の請求の範囲第1項に記載の化合物、ま たはその治療上許される酸付加塩を投与することを特徴とする哺乳類のヘルペス ウイルス感染症の治療方法。 62.式1 により表される請求の範囲第1項に記載の式Gの化合物、またはその治療上許さ れる酸付加塩。 [式中、R1 は水素、低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ(低級ア ルキル)アミノ、低級アルカノイルアミノ、(低級アルコキシカルボニル)アミ ノ及び{(低級アルキルアミノ)カルボニル}アミノからなる群から選ばれ、R2 は水素、メチルまたはエチルであり、Qは不在またはメチレンであり、R3 は 水素、低級アルキル、フェニルメチルまたはフェニル環の4位でハロ、低級アル コキシルまたは低級アルキルで置換されたフェニルメチルであり、R4 は水素、 (1-8C)アルキル、{ジ(低級アルギル)アミノ}−(低級アルキル)、フェニ ル−(1-3C)アルキル、芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシまたは 低級アルキルで一置換されたフェニル−(1-3C)アルキル;1−インダニル、2 −インタニル、(低級シクロアルキル)−(低級アルキル)または(Het)−(低 級アルキル)(Het は先に定義されたとおりである)であり、またはR3 及びR4 は一緒になってCH2CH2-W- 基(Wは先に定義されたとおりである)を形成し、 かつR5 は(1-8C)アルキル、低級シクロヘキシル、1−ピロリジニル−エチル 、フェニル−(1-3C)アルキル、芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキ シまたは低級アルキルで一置換されたフェニル−(1-3C)アルキル;1−インダ ニル、2−インダニル、(低級シクロアルキル)−(1-3C)アルキル、(Het)− (1-3C)アルキル(Het は先に定義されたとおりである)、フェニルスルホニル 、5−(ジメチルアミノ)−1−ナフチルスルホニル、(低級アルキルアミノ) スルホニル、{ジ(低級アルキル)アミノ}スルホニル、(Het)−スルホニル(H et は先に定義されたとおりである)、低級アルカノイル、(低級シクロアルキ ル)−(低級アルカノイル)、(1−メチルシクロヘキシル)カルボニル、(低 級アルコキシ)カルボニル、(フェニルメトキシ)カルボニル、2−フェノキシ アセチル、フェニル環で独立にブロモ、クロロ、フルオロ、ヨード、メトキシ及 びメチルからなる群から選ばれた置換基で一置換または二置換された2−フェノ キシアセチル;フェニル−(1-3C)アルカノイル、独立にアジド、ブロモ、クロ ロ、フルオロ、ヨード、メトキシ及びメチルからなる群から選ばれた置換基で一 置換または二置換されたフェニル−(1-3C)アルカノイル; (Het)−(CH2) n C(O)(Het及びnは先に定義されたとおりである)、 (Het)-Y-(CH2) n C(O)(Het 、Y及びnは先に定義されたとおりである)、2 −{(低級アルコキシカルボニル)アミノ}−1−オキソエチル、(低級アルキ ルアミノ)−カルボニル、{ジ(低級アルキル)アミノ}カルボニルまたは(低 級アルキルアミノ)チオカルボニルである] 63.R1 が水素、アミノ、メチル、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アセチルア ミノ、(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノまたは{(1,1−ジメ チルエチルアミノ)カルボニル}アミノであり、R2 が水素またはメチルであり 、Qが不在またはメチレンであり、R3 が水素、メチルまたはフェニルメチルで あり、R4 が水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、2−メチルプロピル、 2,2−ジメチルプロピル、1−プロピルブチル、2−(ジメチルアミノ)−エ チル、フェニルメチル、1(R)−フェニルエチル、1(S)−フェニルエチル、2− フェ ニルエチル、(4−クロロフェニル)メチル、(2−フルオロフェニル)メチル 、(3−フルオロフェニル)メチル、(4−フルオロフェニル)メチル、(4− メトキシフェニル)メチル、(2−メチルフェニル)メチル、1−インダニル、 2−インダニル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、1(S)−シク ロヘキシル−エチル、2−シクロヘキシルエチル、2−(4−モルホリニル)エ チル、2−ピリジニルメチル、3−ピリジニルメチル、4−ピリジニルメチル、 2−(2−ピリジニル)エチル、2−(3−ピリジニル)エチル、2−(4−ピ リジニル)エチル、2−チエニルメチルまたは3−チエニルメチルであり、かつ R5 がメチル、エチル、プロピル、ブチル、2,2−ジメチルプロピル、1−プ ロピルブチル、シクロヘキシル、1−ピロリジニルエチル、フェニルメチル、1 (R)−フェニルエチル、1(S)−フェニルエチル、2−フェニルエチル、(4−ク ロロフェニル)メチル、(2−フルオロフェニル)メチル、(3−フルオロフェ ニル)メチル、(4−フルオロフェニル)メチル、(2−ヒドロキシフェニル) メチル、(4−メトキシフェニル)メチル、(2−メチルフェニル)メチル、1 −インダニル、2−インダニル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル 、2−シクロヘキシルエチル、2−(4−モルホリニル)エチル、2−ピリジニ ルメチル、3−ピリジニルメチル、4−ピリジニルメチル、2−チエニルメチル 、フェニルスルホニル、5−(ジメチルアミノ)−1−ナフチルスルホニル、( ジメチルアミノ)−スルホニル、4−モルホリニルスルホニル、アセチル、2− メチル−プロピオニル、2,2−ジメチルプロピオニル、3,3−ジメチルブチ リル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘプチル カルボニル、シクロペンチルアセチル、シクロヘキシルアセチル、シクロヘプチ ルアセチル、(1−メチルシクロヘキシル)−カルボニル、(1−メチルエトキ シ)カルボニル、(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル、(2−メチルプロ ポキシ)カルボニル、(フェニルメトキシ)カルボニル、(2−フェノキシ)ア セチル、2−(4,6−ジメチルフェノキシ)アセチル、ベンゾイル、フェニル アセチル、(4−アジドフェニル)カルボニル、(2−フルオロフェニル)カル ボニル、(3−フルオロフェニル)カルボニル、(4−フルオロフェニル)カル ボニル、(2,6−ジメチルフェニル)カルボニル、4−(1−メチルピペリ ジニル)カルボニル、2−(4−イミダゾリル)アセチル、2−ピリジニルカル ボニル、3−ピリジニルカルボニル、4−ピリジニルカルボニル、N−オキサイ ド−4−ピリジニルカルボニル、2−ピリジニルアセチル、4−ピリジニルアセ チル、6−(2,4−ジヒドロキシピリミジニル)カルボニル、2−ピラジニル カルボニル、2−チエニルカルボニル、3−チエニルカルボニル、4−モルホリ ニルカルボニル、4−ピペリジニルカルボニル、2−(2−ピリミジニルチオ) アセチル、2−(4,6−ジメチル−2−ピリミジニルチオ)アセチル、4−{ 1−(1,1−ジメチルエトキシ)ピペリジニル}カルボニル、2−{(1,1 −ジメチルエトキシカルボニル)アミノ}−1−オキソエチル、(1,1−ジメ チルエチルアミノ)カルボニル、(N,N−ジブチルアミノ)−カルボニル、{ N−メチル−N−(1,1−ジメチルエチル)アミノ}−カルボニル、または( 1,1−ジメチルエチルアミノ)チオカルボニルであり、またはR3とR4が一緒 になってCH2CH2CH2 基を形成し、かつR5 がブチル、2,2−ジメチルプロピル 、1−プロピルブチル、ベンジル、1(R)−フェニルエチル、1(S)−フェニルエ チル、2−フェニルエチル、アセチル、2−メチルプロピオニル、2,2−ジメ チルプロピオニル、3,3−ジメチルブチリル、シクロペンチルカルボニル、シ クロヘキシルカルボニル、シクロヘプチルカルボニル、シクロペンチルアセチル 、シクロヘキシルアセチル、シクロヘプチルアセチル、(1−メチルシクロヘキ シル)カルボニル、(1−メチルエトキシ)カルボニル、(1,1−ジメチルエ トキシ)カルボニル、(2−メチルプロポキシ)カルボニルまたはベンゾイルで あり、またはR3 とR4 が一緒になってCH2CH2C(O)基(C(O)は隣接窒素原子に結 合されている)を形成し、かつR5 がブチル、フェニルメチル、1(R)−フェニ ルエチル、1(S)−フェニルエチル、2−フェニルエチル、シクロペンチルメチ ル、シクロヘキシルメチルまたは2−シクロヘキシルエチルである請求の範囲第 62項に記載の式1の化合物、またはその治療上許される酸付加塩。 64.R1 が水素、アミノ、メチルアミノまたはジメチルアミノであり、R2 が水 素またはメチルであり、Qが不在であり、R3 が水素、メチルまたはフェニルメ チルであり、R4 がメチル、フェニルメチル、1(R)−フェニルエチル、1(S)− フェニルエチル、2−フェニルエチル、(4−クロロフェニル)メチル、(2 −フルオロフェニル)メチル、(4−フルオロフェニル)メチル、(4−メトキ シフェニル)メチル、(2−メチルフェニル)メチル、2−ピリジニルメチル、 3−ピリジニルメチル、4−ピリジニルメチル、2−(2−ピリジニル)エチル または2−チエニルメチルであり、かつR5 が2,2−ジメチルプロピオニル、 3,3−ジメチルブチリル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボ ニル、シクロヘプチルカルボニル、シクロペンチルアセチル、シクロヘキシルア セチル、(1−メチルシクロヘキシル)カルボニル、(1,1−ジメチルエトキ シ)カルボニル、(2−メチルプロポキシ)カルボニル、ベンゾイル、(4−フ ルオロフェニル)カルボニル、(2,6−ジメチルフェニル)カルボニル、2− ピリジニルカルボニル、3−ピリジニルカルボニル、4−ピリジニルカルボニル 、4−モルホリニルカルボニルまたは(1,1−ジメチルエチルアミノ)カルボ ニルであり、またR3 がメチルまたはフェニルメチルである場合のR3 基を有す る炭素原子は(R)配置または(S)配置を有し、またはR3 とR4 が一緒になってCH2 CH2CH2 基を形成し、かつR5 がシクロヘキシルカルボニルであり、かつR3 を 有する炭素原子(即ち、CH2CH2CH2 基に結合された炭素原子)は(S)配置または( R)配置を有する請求の範囲第63項に記載の式1の化合物、またはその治療上許さ れる酸付加塩。 65.R1 がアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アセチルアミノ、(1,1 −ジメチルエトキシ)カルボニルアミノまたは{(1,1−ジメチルエチルアミ ノ)カルボニル}アミノであり、R2 が水素であり、Qが不在またはメチレンで あり、R3 が水素またはフェニルメチルであり、R4 が水素、メチル、2,2− ジメチルプロピル、フェニルメチル、1(R)−フェニルエチル、1(S)−フェニル エチル、2−フェニルエチル、(4−クロロフェニル)メチル、(2−メチルフ ェニル)メチル、1−インダニル、2−インダニル、シクロヘキシルメチル、2 −ピリジニルメチル、3−ピリジニルメチル、4−ピリジニルメチル、2−(2 −ピリジニル)エチルまたは2−チエニルメチルであり、かつR5 がメチル、フ ェニルメチル、(2−フルオロフェニル)メチル、(4−フルオロフェニル)メ チル、(2−ヒドロキシフェニル)メチル、4−モルホリニルスルホニル、2, 2−ジメチルプロピオニル、3,3−ジメチルブチリル、シクロペンチルカルボ ニル、 シクロヘキシルカルボニル、シクロヘプチルカルボニル、シクロペンチルアセチ ル、シクロヘキシルアセチル、(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル、(2 −メチルプロポキシ)カルボニル、(2−フェノキシ)アセチル、2−(2,6 −ジメチルフェノキシ)アセチル、ベンゾイル、フェニルアセチル、2−ピリジ ニルカルボニル、3−ピリジニルカルボニル、4−ピリジニルカルボニル、2− ピリジニルアセチル、4−モルホリニルカルボニル、2−チエニルカルボニル、 2−チエニルアセチル、{(1,1−ジメチルエチル)アミノ}カルボニル、{ (1,1−ジメチルエチル)アミノ}チオカルボニルまたは2−(4,6−ジメ チル−2−ピリミジニルチオ)アセチルであり、またR3 がフェニルメチルであ る場合のR3 基を有する炭素原子は(R)配置または(S)配置を有し、またはR3 と R4 が一緒になってCH2CH2CH2 基を形成し、かつR5 がシクロヘキシルカルボニ ルまたはベンゾイルであり、かつCH2CH2CH2 基に結合された炭素原子が(R)配置 または(S)配置を有し、またはR3 とR4 が一緒になってCH2CH2C(O)基 (C(O)は 隣接窒素原子に結合されている)を形成し、かつR5 がフェニルメチルまたはシ クロヘキシルメチルであり、またCH2CH2C(O)基の未端メチレンに結合された炭素 が(R)配置または(S)配置を有する請求の範囲第63項に記載の式1の化合物、また はその治療上許される酸付加塩。 66.(i)R1 がアミノであり、R2 及びR3 が夫々水素であり、Qが不在であり 、かつR4 及びR5 が下記の組み合わせの一つにより定義されるとおりである式 1の化合物 (ii)RL がアミノであり、R2 及びR3 が夫々Hであり、かつQ、R4 及びR5 が下記の組み合わせの一つにより定義されるとおりである式1の化合物 (iii)R3 が水素であり、Qが不在であり、かつR1 、R2 、R4 及びR5 が下 記の組み合わせの一つにより定義されるとおりである式1の化合物 (iv)R2 及びR3 が夫々水素であり、Q-がCH2 であり、かつR1 、R4 及びR5 が下記の組み合わせの一つにより定義されるとおりである式1の化合物 (v)R1 がアミノであり、R2 が水素であり、Qが不在であり、かつR3 、R4 及びR5 が下記の組み合わせの一つにより定義されるとおりである式1の化合物 及び (vi)構造を有する化合物 (式中、-(CH2)W-基に結合された不斉炭素原子(*で示される)の配置は以下の ように示され、かつW及びR5 は下記の組み合わせの一つにより定義される) からなる群から選ばれた請求の範囲第62項に記載の式1の化合物。 67.式1a: を有する請求の範囲第1項に記載の式Gの化合物、またはその治療上許される酸 付加塩。 [式中、R1Aは水素、低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ(低級ア ルキル)アミノ、低級アルカノイルアミノ、(低級アルコキシカルボニル)アミ ノ、{(低級アルキルアミノ)カルボニル}アミノ及び2−、3−または4−ピ リジニルアミノからなる群から選ばれ、R2Aは水素、メチルまたはエチルであり 、Aは不在またはカルボニルであり、R3Aは水素、(1-8C)アルキル、2−ヒドロ キシエチル、3−ヒドロキシプロピル;シアノで一置換された(1-3C)アルキル; フエニル−(1-3C)アルキル;芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、ジ(低級アルキル )アミノ、低級アルコキシまたは低級アルキルで一置換または二置換されたフェ ニル−(1-3C)アルキル;(低級シクロアルキル)−(低級アルキル)または(He t)−(低級アルキル)(式中、Het は請求の範囲第1項に定義されたとおりで ある)であり、かつ R4Aは(1-8C)アルキル;フェニル−(1-3C)アルキル;芳香族部分でハロ、ヒドロ キシ、ジ(低級アルキル)アミノ、低級アルコキシまたは低級アルキルで一置換 または二置換されたフェニル−(1-3C)アルキル;1−インダニル、2−インダニ ル、1−(ヒドロキシメチル)−2−フェニルエチル、(低級シクロアルキル) −(1-3C)アルキル、先に定義されたHet 、(Het)−(1-3C)アルキル)(式中、H et は請求の範囲第1項に定義されたとおりである)または3−1H−インドリ ルエチルであり、またはR4Aは (式中、Lは酸素または窒素であり、但し、Lが酸素である場合、R6AまたはR7A の一つが不在であることを条件とし、R5A及びR6Aは独立にR3Aについて本明 細書に定義された基から選ばれ、かつR7Aは独立にR4Aについて本明細書に定義 された基から選ばれ、またはR3A及びR4Aはそれらが結合されている窒素と一緒 になってN、OまたはSからなる群から選ばれた1個または2個のヘテロ原子を 含む未置換、一置換または二置換の5員または6員の一価の複素環を形成し、夫 々の置換基は独立にハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシ及び低級アルキルからな る群から選ばれる)である] 68.R1Aが水素、アミノ、メチル、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジメチルアミ ノ、アセチルアミノ、(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノ、2−ピ リジニルアミノまたは3−ピリジニルアミノであり、R2Aが水素またはメチルで あり、Aは不在またはカルボニルであり、R3Aが水素、メチル、エチル、プロピ ル、ブチル、2−メチルプロピル、2,2−ジメチルプロピル、1−プロピルブ チル、2−ヒドロキシエチル、シアノメチル、フェニルメチル、2−フェニルエ チル、(4−クロロフェニル)メチル、(2−フルオロフェニル)メチル、(3 −フルオロフェニル)メチル、(4−フルオロフェニル)メチル、{4−(ジメ チルアミノ)フェニル}メチル、(4−メトキシフェニル)メチル、(2−メチ ルフェニル)メチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、2−シク ロヘキシルエチル、2−(4−モルホリニル)エチル、2−ピリジニルメチル、 3−ピリジニルメチル、4−ピリジニルメチル、2−(2−ピリジニル)エチル 、2−(3−ピリジニル)エチル、2−(4−ピリジニル)エチル、2−チエニ ルメチルまたは3−チエニルメチルであり、かつR4Aが1,1−ジメチルエチル 、ブチル、2,2−ジメチルプロピル、1−プロピルブチル、フェニルメチル、 1(R)−フェニルエチル、1(S)−フェニルエチル、2−フェニルエチル、(4− クロロフェニル)メチル、(2−フルオロフェニル)メチル、(3−フルオロフ ェニル)メチル、(4−フルオロフェニル)メチル、4−(メトキシフェニル) メチル、{4−(ジメチルアミノ)フェニル}メチル、(2−メチルフェニル) メチル、1−インダニル、2−インダニル、(SまたはR)−1−(ヒドロキシ メチル)−2−フェニルエチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル 、 1(S)−シクロヘキシルエチル、1(R)−シクロヘキシルエチル、2−シクロへキ シルエチル、1−ピペリジニル、2−(4−モルホリニル)エチル、2−ピリジ ニルメチル、3−ピリジニルメチル、4−ピリジニルメチル、2−(2−ピリジ ニル)エチル、2−(3−ピリジニル)エチル、2−(4−ピリジニル)エチル 、2−チエニルメチル、3−(1H−イミダゾール−1−イル)プロピルまたは 3−1H−インドリルエチルであり、または R4Aが (式中、Lは酸素または窒素であり、但し、Lが酸素である場合、R6AまたはR7A の一つが不在であることを条件とし、R5A及びR5Aは独立にR3Aについて本明 細書に定義された基から選ばれ、かつR7Aは独立にR4Aについて本明細書に定義 された基から選ばれ、またはR3A及びR4Aはそれらが結合されている窒素原子と 一緒になってピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノまたはチオモルホリノを形成 する)である請求の範囲第67項に記載の式1aの化合物、またはその治療上許され る酸付加塩。 69.R1Aがアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノまたは(1,1−ジメチルエ トキシカルボニル)アミノであり、R2Aが水素であり、Aは不在であり、R3Aが 水素、メチルまたはブチルであり、かつR4Aが1,1−ジメチルエチル、ブチル 、1−プロピルブチル、フェニルメチル、2−フェニルエチル、4−フルオロフ ェニルメチル、1−ピペリジニル、2−ピリジニルメチル、2−(2−ピリジニ ル)エチル、4−ピリジニルメチル、3−(1H−イミダゾール−1−イル)プ ロピルであり、または R4Aが (式中、Lは窒素であり、R5Aはフェニルメチルであり、R6Aはメチルであり、 かつR7Aは2−(2−ピリジニル)エチルであり、またはLは酸素であり、R5A はフェニルメチルであり、R6Aは不在であり、かつR7Aは1,1−ジメチルエチ ルである)である請求の範囲第68項に記載の式1aの化合物、またはその治療上許 される酸付加塩。 70.R1Aがアミノ、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジメチルアミノ、(1,1ー ジメチルエトキシカルボニル)アミノ、2−ピリジニルアミノまたは3−ピリジ ニルアミノであり、R2Aが水素であり、Aが不在であり、R3Aが水素、メチル、 エチル、ブチル、2−ヒドロキシエチル、シアノメチルまたはフェニルメチルで あり、かつR4Aがブチル、フェニルメチルまたは2−(4−ピリジニル)エチル である請求の範囲第68項に記載の式laの化合物、またはその治療上許される酸付 加塩。 71.R1Aがアミノであり、R2Aが水素であり、Aがカルボニルであり、R3Aがブ チルまたはフェニルメチルであり、かつR4Aがブチルまたはフェニルメチルであ る請求の範囲第68項に記載の式1aの化合物、またはその治療上許される酸付加塩 。 72.(i)Aが不在であり、R2Aが水素であり、R1A、R3A及びR4Aが下記の組み 合わせの一つにより定義されるとおりである式1aの化合物 及び (ii)Aがカルボニルであり、R1Aがアミノであり、R2Aが水素であり、かつR3A 及びR4Aが下記の組み合わせの一つにより定義されるとおりである式Iaの化合物からなる群から選ばれた請求の範囲第67項に記載の化合物。 73. 式1b: を有する請求の範囲第1項に記載の式Gの化合物、またはその治療上許される酸 付加塩。 [式中、R1Bは水素、低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ(低級ア ルキル)アミノ、低級アルカノイルアミノまたは(低級アルコキシカルボニル) アミノであり、R2Bは水素、(1-8C)アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル 、フェニル−(1-3C)アルキル;芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシ 、低級アルキルまたはトリフルオロメトキシで一置換または二置換されたフェニ ル−(1-3C)アルキル;(低級シクロアルキル)−(1-3C)アルキルまたは(Het)−( 1-3C)アルキル(式中、Hetは請求の範囲第1項に定義されたとおりである);2 −ベンゾイミダゾリルメチルであり、かつR3Bは(1-8C)アルキル、フェニル−(1 -3C)アルキル;芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキル またはトリフルオロメトキシで一置換または二置換されたフェニル−(1-3C)アル キル;1−インダニル、2−インダニル、(低級シクロアルキル)−(1-3C)アル キル、{1−(ヒドロキシ(低級シクロアルキル)}−(1-3C)アルキルまたは(H et)−(1-3C)アルキル(式中、Hetは請求の範囲第1項に定義されたとおりである )であり、または R3Bは であり、式中、R4B及びR5Bは最後の場合にR2Bについて定義されたのと同じ意 味を独立に有し、かつR6Bは最後の場合にR3Bについて定義されたのと同じ意味 を有し、またはR3BはCH2CH2NR5BR6B (式中、R5B及びR6Bはこの請求の範囲に 定義されたとおりである)であり、またはR3BはCH(R7B)CH2OH(式中、R7Bは最 後の場合にR2Bについて定義されたのと同じ意味を有する)であり、またはR2B 及びR3Bはそれらが結合されている窒素原子と一緒にピロリジノ、ピペリジノ、 (4−フェニルメチル)ピペリジニルまたは(4−メチル)ピペリジニルを形成 し、但し、R1Bが(低級アルコキシカルボニル)アミノである場合には、R2Bは 水素であることを条件とする] 74.R1Bが水素、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アセチルアミノまた は(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノであり、R2Bが水素、メチル 、エチル、プロピル、ブチル、1,1−ジメチルエチル、2−メチルプロピル、 2,2−ジメチルプロピル、1−プロペニル、2−プロペニル、2−プロピニル 、フェニルメチル、1(R)−フェニルエチル、1(S)2−フェニルエチル、2−フェ ニルエチル、(4−クロロフェニル)メチル、(2−フルオロフェニル)メチル 、(3−フルオロフェニル)メチル、(A−フルオロフェニル)メチル、(2− ヒドロキシフェニル)メチル、(4−メトキシフェニル)メチル、(2−メチル フェニル)メチル、(4−メチルフェニル)メチル、{(2−トリフルオロメト キシフェニル)メチル}、(2−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)メチル、 シ クロプロピルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、2−シク ロヘキシルエチル、(1−ヒドロキシシクロヘキシル)メチル、2−(4−モル ホリニル)エチル、2−ピリジニルメチル、3−ピリジニルメチル、4−ピリジ ニルメチル、2−(2−ピリジニル)エチル、2−(3−ピリジニル)エチル、 2−(4−ピリジニル)エチル、2−フラニルメチル、2−チエニルメチル、3 −チエニルメチル、2−チアゾリルメチル、1−(フェニルメチル)ピペリジン −4−イルまたは2−ベンゾイミダゾリルメチルであり、かつR3Bがメチル、エ チル、プロピル、ブチル、1,1−ジメチルエチル、2−メチルプロピル、2, 2−ジメチルプロピル、フェニルメチル、2−フェニルエチル、(4−クロロフ ェニル)メチル、(2−フルオロフェニル)メチル、(3−フルオロフェニル) メチル、(4−フルオロフェニル)メチル、(2−ヒドロキシフェニル)メチル 、(4−メトキシフェニル)メチル、(2−メチルフェニル)メチル、(4−メ チルフェニル)メチル、{(2−トリフルオロメトキシ)フェニル}メチル、( 2−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)メチル、1−インダニル、2−インダ ニル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシルエチ ル、(1−ヒドロキシシクロヘキシル)メチル、2−(4−モルホリニル)エチ ル、2−ピリジニルメチル、3−ピリジニルメチル、4−ピリジニルメチル、2 −(2−ピリジニル)エチル、2−(3−ピリジニル)エチル、2−(4−ピリ ジニル)エチル、2−チエニルメチル、3−チエニルメチル、2−チアゾリルメ チル、1(R)−フェニルエチル、1(S)−フェニルエチル、1(R)−シクロヘキシルエ チルまたは1(S)−シクロヘキシルエチルであり、または R3Bが であり、式中、R4Bは水素、メチル、1−メチルエチル、フェニルメチル、シク ロヘキシルメチル、3−ピリジニルメチルまたは(1H−イミダゾール−4−イ ル)メチルであり、R5Bは最後の場合にR2Bについて定義されたのと同じ意味を 有し、かつR6Bは最後の場合にR3Bについて定義されたのと同じ意味を有し、ま たはR3BはCH2CH2NR5BR6B (式中、R5B及びR6Bはこの請求の範囲に定義されたと おりである)であり、またはR3BはCH(R7B)CH2OH(式中、R7Bは最後の場合にR4 B について定義されたのと同じ意味を有する)である請求の範囲第73項に記載の 式1bの化合物、またはその治療上許される酸付加塩。 75.グループ3−式1bにより表され、式中、R1Bが水素、アミノ、メチルアミノ 、ジメチルアミノ、アセチルアミノまたは(1,1−ジメチルエトキシカルボニ ル)アミノであり、R2Bが水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、1,1− ジメメルエチル、2−メチルプロピルまたは2,2−ジメチルプロピルであり、 R3Bがメチル、エチル、プロピル、ブチル、1,1−ジメチルエチル、2−メチ ルプロピル、2,2−ジメチルプロピル、フェニルメチル、2−フェニルエチル 、(4−クロロフェニル)メチル、(2−フルオロフェニル)メチル、(3−フ ルオロフェニル)メチル、(4−フルオロフェニル)メチル、(2−ヒドロキシ フェニル)メチル、(4−メトキシフェニル)メチル、(2−メチルフェニル) メチル、(4−メチルフェニル)メチル、{(2−トリフルオロメトキシ)フェ ニル}メチル、(2−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)メチル、1−インダ ニル、2−インダニル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、2−シ クロヘキシルエチル、(1−ヒドロキシシクロヘキシル)メチル、2−(4−モ ルホリニル)エチル、2−ピリジニルメチル、3−ピリジニルメチル、4−ピリ ジニルメチル、2−(2−ピリジニル)エチル、2−(3−ピリジニル)エチル 、2−(4−ピリジニル)エチル、2−チエニルメチル、3−チエニルメチル、 2−チアゾリルメチル、1(R)−フェニルエチル、1(S)−フェニルエチル、1(R)− シクロヘキシルエチルまたは1(S)−シクロヘキシルエチルであり、または R3Bが であり、式中、R4Bは水素、メチル、1−メチルエチル、フェニルメチル、シク ロヘキシルメチル、3−ピリジニルメチル、または(1H−イミダゾール−4− イル)メチルであり、R5Bは水素であり、または最後の場合にR3Bについて定義 されたのと同じ意味を有し、かつR6Bは最後の場合にR3Bについて定義されたの と同じ意味を有し、またはR3BはCH(R7B)CH2OH(式中、R7Bは最後の場合にR4B について定義されたのと同じ意味を有する)である請求の範囲第73項に記載の式 1bの化合物、またはその治療上許される酸付加塩。 76.R1Bが水素、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アセチルアミノまた は(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノであり、R2Bが水素、メチル 、エチル、プロピル、ブチル、1,1−ジメチルエチル、2−メチルプロピル、 2,2−ジメチルプロピル、フェニルメチル、2−フェニルエチル、(4−クロ ロフェニル)メチル、(2−フルオロフェニル)メチル、(3−フルオロフェニ ル)メチル、(4−フルオロフェニル)メチル、(2−ヒドロキシフェニル)メ チル、(4−メトキシフェニル)メチル、(2−メチルフェニル)メチル、(4 −メチルフェニル)メチル、{(2−トリフルオロメトキシ)フェニル}メチル 、(2−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)メチル、シクロペンチルメチル、 シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシルエチル、(1−ヒドロキシシクロヘ キシル)メチル、2−(4−モルホリニル)エチル、2−ピリジニルメチル、3 −ピリジニルメチル、4−ピリジニルメチル、2−(2−ピリジニル)エチル、 2−(3−ピリジニル)エチル、2−(4−ピリジニル)エチル、2−チエニル メチル、3−チエニルメチル、2−チアゾリルメチル、1(R)−フェニルエチルま たは1(S)−フェニルエチルであり、かつR3Bが であり、式中、R4Bは水素、メチル、1−メチルエチル、フェニルメチル、シク ロヘキシルメチル、3−ピリジニルメチルまたは(1H−イミダゾール−4−イ ル)メチルであり、R5Bはこの請求の範囲にR2Bについて定義されたのと同じ意 味を有し、かつR6Bは水素を除いてこの請求の範囲にR2Bについて定義されたの と同じ意味を有し、またはR3BはCH(R7B)CH2OH(式中、R7Bは最後の場合にR4B について定義されたのと同じ意味を有する)である請求の範囲第73項に記載の式 1bの化合物、またはその治療上許される酸付加塩。 77.R1Bがアミノであり、R2Bが水素またはフェニルメチルであり、R3Bが であり、式中、R4Bは水素であり、R5Bは水素またはフェニルメチルであり、か つR6Bはフェニルメチル、1(R)−フェニルエチルまたは1(S)−フェニルエチルで あり、またはR3BはCH(R7B)CH2OH(式中、R7Bはフェニルメチルであり、かつR7B を有する炭素原子が(S)配置を有する)である請求の範囲第76項に記載の式1bの 化合物、またはその治療上許される酸付加塩。 78.R1Bがアミノまたは(1,1−ジメチルエチルオキシカルボニル)アミノで あり、R2Bが水素、2−プロピニル、フェニルメチル、2−フェニルエチル、シ クロプロピルメチル、2−ピリジニルメチル、3−ピリジニルメチル、4−ピリ ジニルメチル、2−(2−ピリジニル)エチル、2−フラニルメチル、1−(フ ェニルメチル)ピペリジン−イルまたは2−ベンゾイミダゾリルメチルであり、 R3Bがフェニルメチルまたは(3−フルオロフェニル)メチルであり、またはR3B が であり、式中、R4Bは水素であり、R5Bは水素、メチル、フェニルメチル、(2 −ヒドロキシフェニル)メチル、(2−メチルフェニル)メチル、{(2−トリ フルオロメトキシ)フェニル}メチル、(2−ヒドロキシ−3−メトキシフェニ ル)メチル、(1−ヒドロキシシクロヘキシル)メチル、2−ピリジニルメチル 、3−ピリジニルメチル、4−ピリジニルメチルまたは2−チアゾリルメチルで あり、かつR6Bはフェニルメチルまたは1(S またはR)−フェニルエチルであり、 またはR3BはCH2CH2NR5BR6B (式中、R5Bはフェニルメチルであり、かつR6Bは フェニルメチルまたは1(S またはR)−フェニルエチルである)であり、またはR6B はCH(R7B)CH2OH(式中、R7Bはフェニルメチルであり、かつR7B基を有する炭素 原子は(S) 形態を有する)である請求の範囲第74項に記載の式1bの化合物、また はその治療上許される酸付加塩。 79.(i) R1BがNH2であり、かつR2B及びR3Bが下記の組み合わせの一つにより 定義される式1bの化合物 及び (ii)R1B、R2B及びR3Bが下記の組み合わせの一つにより定義される式1bの化合 物 からなる群から選ばれた請求の範囲第73項に記載の化合物。 80.式1c:を有する請求の範囲第1項に記載の式Gの化合物、またはその治療上許される酸 付加塩。 [式中、R1Cは水素、低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ(低級ア ルキル)アミノ、低級アルカノイルアミノまたは(低級アルコキシカルボニル) アミノであり、R2C及びR3Cは夫々独立に水素、低級アルキル、フェニル、フェ ニル−(1-3C)アルキル;または芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキ シ及び低級アルキルからなる群から独立に選ばれた置換基で一置換または二置換 されたフェニル−(1-3C)アルキル;1−インダニル、ジフェニルメチル、低級シ クロアルキル、(低級シクロアルキル)−(1-3C)アルキルまたは (Het)−(1-3C) アルキル(式中、Het は請求の範囲第1項に定義されたとおりである)である] 81.R1Cがアミノ、メチルアミノ、アセチルアミノまたは(1,1−ジメチルエ トキシカルボニル)アミノであり、R2C及びR3Cが独立に水素、メチル、エチル 、プロピル、ブチル、1,1−ジメチルエチル、2,2−ジメチルプロピル、フ エニル、フェニルメチル、1(R)−または1(S)−フェニルエチル、2−フェニルエ チル、{4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル}メチル、(4−クロロフェ ニル)メチル、(3−フルオロフェニル)メチル、(4−フルオロフェニル)メ チル、(4−メトキシフェニル)メチル、1−インダニル、ジフェニルメチル、 シクロヘキシル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロペンチ ルメチル、2−シクロヘキシルエチル、2−(4−モルホリニル)エチル、2− ピリジニルメチル、3−ピリジニルメチル、4−ピリジニルメチル、2−(2− ピリジニル)エチル、2−(3−ピリジニル)エチル、2−(4−ピリジニル) エチル、2−チエニルメチルまたは3−チエニルメチルである請求の範囲第80項 に記載の式1cの化合物、またはその治療上許される酸付加塩。 82.R1Cアミノであり、R2Cが水素またはフェニルメチルであり、かつR3Cがフ ェニル、フェニルメチル、2−フェニルエチル、{4−(1,1−ジメチルエチ ル)フェニル}メチル、(3−フルオロフェニル)メチル、1−インダニル、シ クロヘキシル、シクロヘキシルメチル、2−ピリジニルメチル、3−ピリジニル メチルまたは4−ピリジニルメチルである請求の範囲第81項に記載の式1cの化合 物、またはその治療上許される酸付加塩。 83.R1Cがアミノ、メチルアミノまたはアセチルアミノであり、R2Cが水素また はフェニルメチルであり、かつR3Cがフェニル、フェニルメチル、シクロヘキシ ルまたはシクロヘキシルメチルである請求の範囲第81項に記載の式1cの化合物、 またはその治療上許される酸付加塩。 84.(i) R1Cがアミノであり、かつR2C及びR3Cが下記の組み合わせの一つによ り定義されるとおりである式1cの化合物及び (ii)R1C、R2C及びR3Cが下記の組み合わせの一つにより定義されるとおりであ る式1cの化合物からなる群から選ばれた請求の範囲第81項に記載の化合物。 85.式1d: を有する請求の範囲第1項に記載の式Gの化合物、またはその治療上許される酸 付加塩。 [式中、 R1Dは水素、低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ(低級アルキル )アミノ、低級アルカノイルアミノ、(低級アルコキシカルボニル)アミノまた はジ(低級アルコキシカルボニル)アミノであり、 R2Dは水素、低級アルキル、フェニル、フェニル−(1-3C)アルキル;芳香族 部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシまたは低級アルキルで一置換または二 置換されたフェニル−(1-3C)アルキル;(低級シクロアルキル)−(1-3C)アルキ ル、または (Het)−(1-3C)アルキル(式中、Het は請求の範囲第1項に定義され たとおりである)であり、かつ R3Dは低級アルキル;ハロで一置換、二置換または三置換された低級アルキル ;ハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシまたは低級アルキルで未置換、一置換また は 二置換されたフェニル;芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシまたは 低級アルキルで未置換、一置換または二置換されたフェニル−(1-3C)アルキル; 低級シクロアルキル、(低級シクロアルキル)−(1-3C)アルキル、Het(式中、He t はこの請求の範囲に定義されたとおりである)、(Het)−(1-3C)アルキル(式 中、Het はこの請求の範囲に定義されたとおりである)、低級アルキルアミノ、 ジ(低級アルキル)アミノ;または芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコ キシまたは低級アルキルで未置換、一置換または二置換されたフェニル−(1-3C) アルキルアミノである] 86.R1Dがアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アセチルアミノ、(1,1 −ジメチルエトキシカルボニル)アミノまたはジ(1,1−ジメチルエトキシカ ルボニル)アミノであり、 R2Dが水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、2−メチルプロピル、2, 2−ジメチルプロピル、フェニルメチル、2−フェニルエチル、(4−クロロフ ェニル)メチル、(2−フルオロフェニル)メチル、(3−フルオロフェニル) メチル、(4−フルオロフェニル)メチル、(4−メトキシフェニル)メチル、 シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシルエチル、2 −(4−モルホリニル)エチル、2−ピリジニルメチル、3−ピリジニルメチル 、4−ピリジニルメチル、2−(2−ピリジニル)エチル、2−(3−ピリジニ ル)エチル、2−(4−ピリジニル)エチル、2−チエニルメチルまたは3−チ エニルメチルであり、かつ R3Dがメチル、エチル、プロピル、ブチル、2−メチルプロピル、2,2−ジ メチルプロピル、トリフルオロメチル、フェニル、4−クロロフェニル、2−フ ルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、4−メトキシ フェニル、5−クロロ−2−メトキシフェニル、フェニルメチル、2−フェニル エチル、(4−クロロフェニル)メチル、(2−フルオロフェニル)メチル、( 3−フルオロフェニル)メチル、(4−フルオロフェニル)メチル、(4−メト キシフェニル)メチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペンチルメチ ル、シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシルエチル、2−ピリジニル、3− ピリジニル、4−ピリジニル、2−チエニル、3−チエニル、2−(4−モ ルホリニル)エチル、2−ピリジニルメチル、3−ピリジニルメチル、4−ピリ ジニルメチル、2−(2−ピリジニル)エチル、2−(3−ピリジニル)エチル 、2−(4−ピリジニル)エチル、2−チエニルメチル、3−チエニルメチル、 メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、(2−メチルプ ロピル)アミノ、(2,2−ジメチルプロピル)アミノ、ジメチルアミノ、ジエ チルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジ(2−メチルプロピル )アミノ、{ジ(2,2−ジメチルプロピル)}アミノ、(フェニルメチル)ア ミノ、(2−フェニルエチル)アミノ、{(4−クロロフェニル)メチル}アミ ノ、{(2−フルオロフェニル)メチル}アミノ、{(3−フルオロフェニル) メチル}アミノ、{(4−フルオロフェニル)メチル}アミノ、{(4−メトキ シフェニル)メチル}アミノである請求の範囲第85項に記載の式1dの化合物、ま たはその治療上許される酸付加塩。 87.R1Dがアミノであり、R2Dが水素またはフェニルメチルであり、かつR3Dが フェニル、フェニルメチル、{(4−フルオロフェニル)メチル}アミノ、シク ロヘキシルまたはジブチルアミノである請求の範囲第86項に記載の式1dの化合物 、またはその治療上許される酸付加塩。 88.R1Dがアミノ、(1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノまたはジ( 1,1−ジメチルエトキシカルボニル)アミノであり、R2Dが水素またはフェニ ルメチルであり、かつR3Dが2,2−ジメチルプロピル、トリフルオロメチル、 フェニル、フェニルメチル、4−ピリジニルまたはジブチルアミノである請求の 範囲第86項に記載の式1dの化合物、またはその治療上許される酸付加塩。 89.R1D、R2D、及びR3Dが 下記の組み合わせ:の一つにより定義されるとおりである請求の範囲第85項に記載の式1dの化合物。 90.下記の方法I〜V: (I)(a)式 (式中、R1及びR2はこの請求の範囲に記載に定義されるとおりである) のチアゾリルアニリンを式(式中、R3、R5及びQはこの請求の範囲に記載に定義されるとおりであり、か つR4AAはアミノ保護基または水素以外の請求の範囲第1項にR4について定義さ れた基である) のアミノ酸誘導体とカップリングして式 の相当するアミノアミドを得、R4AAが水素を除いて請求の範囲第1項に定義さ れたのと同じ意味を有する場合には、こうして得られたアミノアミドは式1(式 中、R4は水素以外である)の相当する化合物であり、また、こうして得られた アミノアミドのR4Aがアミノ保護基である場合には、このアミノアミドを脱保護 して式1(式中、R4は水素である)の相当する化合物を得、または (b)(i)式 (式中、R3、R4AA、R5及びQはこの請求の範囲に記載に定義されるとおりで ある) のメチルケトンをチオ尿素及びヨウ素と反応させて式 の相当するアミノチアゾール誘導体を得、R4AAが水素を除いて請求の範囲第1 項に定義されたR4と同じ意味を有する場合、こうして得られたアミノチアゾー ル誘導体は式1(式中、R1はアミノであり、R2は水素であり、R5及びQはこ の請求の範囲に定義されるとおりであり、かつR4は水素以外である)の相当す る化合物であり、またこうして得られたアミノチアゾール誘導体のR4Aがアミノ 保護基である場合、この誘導体を脱保護して式1(式中、R4は水素である)の 相当する化合物を得、または (b)(ii)前記メチルケトンを低級アルキルブロミド、クロリドまたはヨージド でN−アルキル化して式 (式中、R2Aは低級アルキルである) の相当するN−アルキル化誘導体を得、Nアルキル化誘導体をチオ尿素及びヨウ 素と反応させ、続いて必要によりアミノ保護基を除去して式1(式中、R2は低 級アルキルである)の相当する化合物を得、または (c)式 (式中、PGはアミノ保護基である) のブロモアセトアミドを適当な一級または二級アミンと反応させて式 の相当する中間体を得、そしてこの中間体から保護基PGを除去して式1(式中、 R1はアミノであり、R2及びR3は夫々水素であり、かつR4及びR5はこの請求 の範囲に定義されるとおりであり、かつQは不在である)の相当する化合物を得 、または (d)(i)式 (式中、R4BBは水素を除いてこの請求の範囲に定義されたR4と同じ意味を有し 、かつR5BBはここに定義されたR5と同じ意味を有する) のメチルケトンをチオ尿素及びヨウ素と反応させて式1(式中、R1はアミノで あり、R2及びR3は夫々水素であり、R4は水素を除いてこの請求の範囲に定義 されるとおりであり、R5はこの請求の範囲に定義されるとおりであり、かつQ はメチレンである)の相当する化合物を得、または (d)(ii)先のメチルケトン(式中、R4BBは水素である)の本来二級のアミドを アミノ保護基で保護して式 (式中、R5BB及びPGはこの請求の範囲に定義されるとおりである) の相当するアミノ保護誘導体を得、この誘導体をチオ尿素及びヨウ素と反応させ 、それによりアミノ保護基をその場で開裂し、式1(式中、R1はアミノであり 、R2、R3及びR4は夫々水素であり、R5はこの請求の範囲に定義されるとおり であり、かつQはメチレンである)の相当するアミノチアゾール化合物を得、そ して所望により、方法(b)(i)、(b)(ii)、(c)、(d)(i)または(d)(ii)の生成物の 通常の変換を行って式1のその他の化合物を得、更に、所望により、式1の化合 物を治療上許される酸付加塩に変換することを含む式1(式中、R1は請求の範囲第1項のRと同じ意味を有し、かつR2、R3、R4、R5 及びQは請求の範囲第1項に定義されたとおりである) により表される式Gの化合物の調製方法、 (II) (a)N,N’−カルボニルジイミダゾールの存在下で式 (式中、R1AAは水素、低級アルキル、(アミノ保護基)−アミノ、(アミノ保 護基)−(低級アルキルアミノ)またはジ(低級アルキル)アミノであり、かつ R2Aは水素または低級アルキルである) の化合物を式: (式中、R3A及びR4Aは請求の範囲第1項に定義されたとおりである) のアミンと反応させ、必要により、この生成物から保護基を除去し、通常の変換 を行って式1a(式中、Aは不在であり、かつR1A、R2A、R3A及びR4Aは請求の 範囲第1項に定義されたとおりである)の相当する化合物を得、または (b)式:のイソシアネートを式: (式中、R3A及びR4Aは請求の範囲第1項に定義されたとおりである) のアミンと反応させて式: の相当するウレイド誘導体を得、(i)そのウレイド誘導体を式H2N-C(S)-R1BB( 式中、R1BBはアミノ、低級アルキルアミノまたはジ(低級アルキル)アミノで ある)のチオ尿素誘導体、及びBr2、Cl2またはI2から選ばれたハロゲンと反応さ せて式1a(式中、R1Aはアミノ、低級アルキルアミノまたはジ(低級アルキル) アミノであり、R2Aは水素であり、Aは不在であり、かつR3A及びR4Aは請 求の範囲第1項に定義されたとおりである)の相当する化合物を得、または(ii) このウレイド誘導体をBr2、Cl2またはI2と反応させ、それによりウレイド誘導体 のメチルケトン部分をハロケトン部分に変換して相当するα−ハロケトンを得、 そのα−ハロケトンを式H2N-C(S)-R1CC(式中、R1CCは水素、低級アルキル、ア ミノ、低級アルキルアミノまたはジ(低級アルキル)アミノである)のチオアミ ドと反応させて式1a(式中、R1Aは水素、低級アルキル、アミノ、低級アルキル アミノまたはジ(低級アルキル)アミノであり、R2Aは水素であり、Aは不在で あり、かつR3A及びR4Aは請求の範囲第1項に定義されたとおりである)の相当 する化合物を得、そして必要により、(i)または(ii)の生成物から保護基を除去 し、そして通常の変換を行って式1a(式中、Aは不在であり、R1A、R3A及びR4A は請求の範囲第1項に定義されたとおりであり、かつR2Aは水素である)の相 当する化合物を得、または (c)式: の化合物を式: (式中、R3A及びR4Aは請求の範囲第1項に定義されたとおりである) のアミンと反応させて式1a(式中、R1Aはアミノであり、R2Aは水素であり、A は不在であり、かつR3A及びR4Aは請求の範囲第1項に定義されたとおりである ) の相当する化合物を得、または (d)式: (式中、R1A及びR2Aは請求の範囲第1項に定義されたとおりである) の化合物を式:(式中、R3A及びR4Aは請求の範囲第1項に定義されたとおりである) の試薬と反応させて式1a(式中、Aはカルボニルであり、かつR1A、R2A、R3A 及びR4Aは請求の範囲第1項に定義されたとおりである)の相当する化合物を得 、そして所望により、最後の(a)、(b)、(c)及び(d)と称する方法の生成物につい て通常の変換を行って式1aのその他の化合物を得、更に、所望により、式1aの化 合物を治療上許される酸付加塩に変換することを含む式1a (式中、R1Aは請求の範囲第1項のRと同じ意味を有し、かつR2A、A、R3A及 びR4Aは請求の範囲第1項に定義されたとおりである)により表される式Gの化 合物の調製方法、 (III) (a)式 (式中、R1Bはこの請求の範囲に定義されるとおりである) の化合物を式:(式中、R2B及びR3Bはこの請求の範囲に定義されるとおりである) のアミンとカップリングして式1bの相当する化合物を得、または (b)4−アセチル安息香酸を式: (式中、R2B及びR3Bはこの請求の範囲に定義されるとおりである) のアミンとカップリングして式: の相当するベンズアミド誘導体を得、(i)このベンズアミド誘導体をBr2、Cl2ま たはI2と反応させ、それによりベンズアミド誘導体のメチルケトン部分を相当す るα−ハロケトンに変換し、得られるα−ハロケトンを式H2N-C(S)-R1AAA(式中 、R1AAAは水素、低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノまたはジ(低級ア ルキル)アミノである)のチオアミドまたはチオ尿素と反応させて式1b(式中、 R1Bは水素、低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノまたはジ(低級アルキ ル)アミノであり、かつR2B及びR3Bはこの請求の範囲に定義されるとおりであ る)の相当する化合物を得、または(ii)そのベンズアミド誘導体をBr2、Cl2また はI2の存在下で式H2N-C(S)-R1AAA(式中、R1AAAはアミノ、低級アルキルアミノ またはジ(低級アルキル)アミノである)のチオ尿素誘導体と反応させて式1b( 式中、R1Bはアミノ、低級アルキルアミノまたはジ(低級アルキル)アミノであ り、かつR2B及びR3Bはこの請求の範囲に定義されるとおりである)の相当する 化合物を得、そして所望により、最後の(a) 及び(b) と称される方法の生成物に ついて通常の変換を行って式1bのその他の化合物を得、更に、所望により、式1b の化合物を治療上許される酸付加塩に変換することを含む式1b (式中、R1Bは請求の範囲第1項のRと同じ意味を有し、かつR2B及びR3Bは請 求の範囲第1項に定義されたとおりである)により表される式Gの化合物の調製 方法、 (IV)式 (式中、R1Cはこの請求の範囲に定義されるとおりである) のチアゾリルフェノキシ酢酸を式 (式中、R2C及びR3Cはこの請求の範囲に定義されるとおりである) の一級または二級アミンとカップリングして式1c(式中、R1C、R2C及びR3Cは この請求の範囲に定義されるとおりである)の相当する化合物を得、所望により 、式1cの化合物を治療上許される酸付加塩に変換することを含む式1c (式中、R1Cは請求の範囲第1項のRと同じ意味を有し、かつR2C及びR3Cは請 求の範囲第1項に定義されたとおりである)により表される式Gの化合物の調製 方法、 (V) (a)式 (式中、R1Dはこの請求の範囲に定義されるとおりである) の4−チアゾリルフェニル誘導体を式R3DACOOH(式中、R3DAは低級アルキ ル;ハロで一置換、二置換または三置換された低級アルキル;ハロ、ヒドロキシ 、低級アルコキシまたは低級アルキルで未置換、一置換または二置換されたフェ ニル;芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシまたは低級アルキルで未 置換、一置換または二置換されたフェニル(低級アルキル);低級シクロアルキ ル、(低級シクロアルキル)−(低級アルキル)、Het(Het は請求の範囲第1 項に定義されたとおりである)、または(Het)−(低級アルキル)(Het は請求 の範囲第1項に定義されたとおりである)である)のカルボン酸誘導体とカップ リングして式 の相当するアミド誘導体(これはR1Dがこの請求の範囲に定義されるとおりであ り、R2Dが水素であり、かつR3DAがこの請求の範囲に定義されるとおりである 式1dの化合物である)を得、または (b)式(式中、R1Dはこの請求の範囲に定義されるとおりである) のカルバメート誘導体を式NR4DR5D(式中、R4Dは水素または低級アルキルで あり、かつR5Dは低級アルキル;または芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級ア ルコキシまたは低級アルキルで未置換または二置換されたフェニル低級アルキル である)のアミンと反応させて式 の相当するウレイド誘導体(これはR1Dがこの請求の範囲に定義されるとおりで あり、R2Dが水素であり、かつR3Dが低級アルキルアミノ、ジ(低級アルキル) アミノ、または芳香族部分でハロ、ヒドロキシ、低級アルコキシまたは低級アル キルで未置換、一置換または二置換されたフェニル(低級アルキル)アミノであ る式1dの化合物である)を得、所望により、最後の(a) 及び(b) と称する方法の 生成物について通常の変換を行って式1dのその他の化合物を得、更に所望により 、式1dの化合物を治療上許される酸付加塩に変換することを含む式1d (式中、R1Dは請求の範囲第1項のRと同じ意味を有し、かつR2D及びR3Dは請 求の範囲第1項に定義されたとおりである) により表される式Gの化合物の調製方法 からなる群から選ばれた、請求の範囲第1項に記載の式Gの化合物、またはその 治療上許される酸付加塩の調製方法。
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