JP2000504832A - 医用画像のためのマルチメディア検出器 - Google Patents

医用画像のためのマルチメディア検出器

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JP2000504832A JP9528707A JP52870797A JP2000504832A JP 2000504832 A JP2000504832 A JP 2000504832A JP 9528707 A JP9528707 A JP 9528707A JP 52870797 A JP52870797 A JP 52870797A JP 2000504832 A JP2000504832 A JP 2000504832A
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Abstract

(57)【要約】 胸部放射線写真法及び乳房造影法のようなデュアルエネルギー検出と定量的オートラジオグラフィーとの両方へのガス検出原理の適用は、ディジタルデュアルエネルギー検出器の画質を大幅に向上させるとともに、汎用のディジタル放射線写真法、コンピュータ補助断層撮影法(CT)、マイクロ断層撮影法及びX線顕微鏡検査法にもおおいに係り、そしてフィルム式オートラジオグラフィーに比べ、高感度、遥かに短い露出時間及び細胞レベルでの画像アクセスのような顕著な利点を呈する。ガスマイクロストリップ検出器(20)は対象物(45)を通して入射放射線(44)を受けて画像を発生する。検出器(20)は、複数の互い違いの陽極(22)及び陰極(24)を第1面に有する基質(26)と、基質に対向し離間した検出器陰極(30)と、基質と検出器陰極との間にガス媒体(34)を配置し且つ対象物を通って入来する入射放射線を受ける区域とを包含する。

Description

【発明の詳細な説明】 医用画像のためのマルチメディア検出器 技術分野 本発明は、デュアルエネルギー画像、コンピュータ化断層撮影法(CT)、マ イクロ断層撮影法及びX線顕微鏡検査法を含むX線ディジタル放射線写真法;定 量的オートラジオグラフィー、単一光子放出断層撮影法(SPECT)及び陽極 子放出断層撮影法(PET)を含む核医学;並びに光学共焦点顕微鏡検査法及び 光学断層撮影法を含む生物光学画像に関する。 発明の背景 画像情報の大きな損失又は品質低下なしで有効な方法で電離放射線を捕らえ検 出することは、医用画像において最も重要である。 医用検出器テクノロジーにおける最近の進歩は、古典的なフィルム−スクリー ン技術に比べ、ディジタル電子技術によって優れた画像を生成することを可能に している。事実、放射線透過画像の新規の方法を開発する過程で相当の努力が払 われており、この方法は、電子及びコンピュータ技術の最近の進歩を利用して診 断技能を改善し且つ患者への少ない投与を伴う新規の診断物理療法を進化させる ものである。 特に、ディジタル放射線写真法は、検出器ダイナミックレンジの機能拡張表示 、素早い画像獲得及び表示、便利な保存、品質低下のない保存画像の伝達及び表 示、データ分析及び画像処理の機能拡張機構及び減少した患者への投与のような 、従来の放射線写真法を超えた多数の利点を有する。 異なる検出器テクノロジー及びビーム形状が、シンチレータ・フォトダイオー ド、高圧ガス充填検出器、シンチレータ・光電子増倍管、運動静的電荷検出器、 近接画像増感器/CCD、蛍光面・フォトダイオード及びダイオードアレーのよ うに分類されたディジタル放射線写真法のために提案されている。当業分野にお いて現在直面している不利益の幾つかは、ディジタル放射線透過システムの高い 初期コスト及び制限された検出器解像度に係る。検出器システムは、十分なサン プル抽出率を維持する一方で、空間的時間的解像度、コントラスト解像度、検出 量子効率(DQE)及び信号対雑音比を高めることを目的とした設計基準によっ て条件付けられるべきである。X線の捕獲及びそれらの電荷キャリアへの有効な 変換に関して有益な影響を与えるために、検出器の注意深い設計及び開発が必要 となる。 発明の概要 本発明では、ガスマイクロストリップ検出器は、微小コレクタ寸法、二重層形 状及び高ゲインから生じる高い空間解像度、コントラスト解像度及びエネルギー 解像度を備える。25ミクロンよりも小さい空間解像度は、107粒子/mm2 よりも高い計数率で達成される。 本発明の1つの目的は、デュアルエネルギー画像を含むディジタルX線放射線 写真法における画質を高めるとともに、フィルム放射線写真法よりも少ない又は 等しい投与で低コントラスト構造の優れた検出を備えるようにした、ディジタル 放射線写真法のための高空間解像度、高コントラスト解像度のデュアルエネルギ ーガスマイクロストリップ検出器を提供することにある。 本発明の他の目的は、フィルムオートラジオグラフィーよりも高い感度及び少 ない露出時間を備えるとともに、細胞レベルでの画像アクセスを備えるようにし たオートラジオグラフィーのための高空間解像度、高コントラスト解像度のガス マイクロストリップ検出器を提供することにある。 本発明によると、胸部放射線写真法及び乳房造影法と定量的オートラジオグラ フィーのためのような両デュアルエネルギー検出へのガス検出原理の適用可能性 は、幾つかの検出器の実施例で採用され得る。全体として、ガスマイクロストリ ップ検出原理は、汎用のディジタル放射線写真法、コンピュータ補助断層撮影法 (CT)、マイクロ断層撮影法及びX線共焦点顕微鏡検査法を含むX線顕微鏡検 査法に適用し得るディジタルデュアルエネルギー検出器の画質を大幅に向上させ ている。 また、同じガス検出原理は、高感度、より短い露出時間及び細胞レベルでの画 像アクセスを備えることによって、フィルムオートラジオグラフィーを超えた顕 著な利点を呈する。従って、細胞レベルでの放射性薬品の分配を決定するために 組織試料の、あるいは、分子量を決定するために電気泳動プレートの、改良した ラジオアイソトーブ画像が可能となっている。それに加え、本発明は、PET及 びSPECTのような核医学の他の領域にも適用できる。 陽電子放出断層撮影法(PET)では、最適な空間及び時間解像度で511 keV消滅ガンマ線を効果的に検出しなければならない。慣習的には、PETで 得た画像は低コントラストを示す。その上、PETは約30分の許容露出時間で は十分なカウント統計値を得られない。 PETに対する最も慣例的な方法は、各NaIまたはBGOシンチレーション クリスタルに結合された光電子増倍管を用いることである。(可視範囲で放出さ れる)シンチレーション光は、良好な解像度で広い立体角をカバーするために複 数の光電子増倍管によって検出されている。これは、検出器システム及び組合わ された電子機器の複雑さを増している。多数の光電子増倍管に関連する高コスト は、PETマルチヘッドシステムのコストを増大させ、これらの使用をおおいに 妨げていることが明らかである。 画像検出システムでは、低コスト、有効且つ大型の画像検出器読出しも必要で ある。シンチレーションクリスタルを用いるX線又はガンマ線の間接変換に基づ く検出器にフォトダイオード又は光電子増倍管を備えることが知られている。し かしながら、この技術は高価であるか、あるいは、並の画像を生じさせるに過ぎ ない。電荷結合素子(CCD)カメラを用いることが知られているが、これらは 、問合せの面積を大きく制限する小作用面積を有する。さらに、CCDカメラは 、特に低コントラスト適用では低量子シンク及び低信号対雑音比を呈する。 他のテクノロジーにおいて、CdZnTe半導体、無定形セレニウムCdSe 、又は無定形シリコンのような幾つかの半導体媒体を用いることも知られている 。しかしながら、これらの材料は他の問題を生起している。例えば、高量子効率 を 生じさせる高原子番号及び密度を有するCdZnTe検出器は、残念ながら収集 効率が悪い。結果として、検出器が最適な検出器品質要因によって特徴づけられ ている場合であっても、最適化していないコンタクト又は材料の不純物が並の性 能を生じさせることになる。検出器が直線状の電流−電圧特性を呈することが非 常に望ましい。これは、半導体媒体が高抵抗率を有し且つコンタクトがオーミッ クである場合にのみ達成できる。対照的に、非オーミックコンタクト(遮断コン タクト)はショットキ(Schottky)ダイオード検出器の形成につながる。これら の検出器は、非常に望ましくない非直線状の検出器特性を呈する。また、注入コ ンタクトは低印加電界ではオーミックコンタクトとして作用するが、高印加電界 では、検出電流が空間電荷を制限し、望ましくない結果となる。一般に、不動態 化したCdZnTe表面をもつ無電界金及び蒸着金属コンタクト(金、インジウ ム、亜鉛及びプラチナコンタクト)に基づく幾つかのコンタクトの研究が行われ ている。しかしながら、最適なコンタクト構成はいまだ見つかっていない。 シンチレータ・光電子増倍管/マイクロチャネルプレートシステムの高コスト が、多数の検出素子を必要とする医用画像適用におけるそれらの使用を妨げてい ることも知られている。特に、これらの装置は平均以上の量子効率及び又は増幅 率を呈することができるが、多数の光感知素子を必要とするために高コスト又は 禁止的コストを伴う。それに加え、或る適用では、光電子増倍管は、高印加電圧 又は強すぎる磁界のために安定性が望ましくない傾向にある。このような装置は 核医学、X線天文学及び科学の適用に用いられている。 本発明の検出原理はX線又はガンマ線の電荷への直接変換に採用できる。ガス マイクロストリップを半導体基質に結合することによって、いかなる寸法の有効 な電荷キャリア検出及び収集システムが提供できる。この方法は、現在の画像シ ステムよりも低コストで高画像解像度を与えるものである。 本発明の検出原理の他の使用において、光電陰極材料を被覆されたガスマイク ロストリップ基質は、シンチレーションクリスタル又はシンチレーションファイ バーに直接に、あるいはファイバー光学システムを介して間接的に結合され得る 。この形態は、従来の光電子増倍管に代わって低コストそして向上した安定性及 び画像能力を与える。この形態はまた、高量子シンク、大型アレー及び高ゲイン と いうCCDカメラでは得られない特徴を備えることによって、電荷結合素子(C CD)に代わるものである。 本発明の一実施例では、デュアルエネルギー放射線透過検出は、高及び低エネ ルギー画像を同時に生成する単一のX線露光で遂行される。高空間解像度及び高 コントラスト解像度を同時に備えることによって、改善された感度、検出特性及 び組織異常の特徴付けが得られる。それに加え、デュアルエネルギー検出器はオ ープンビーム又は走査ビーム形状のもとで動作できる。 詳細な説明を進めるに従って明らかとなる本発明の上記及び他の目的は、対象 物を通った入射放射線を受けて画像を生成するガスマイクロストリップ検出器で あって、複数の互い違いの第1陽極手段及び第1陰極手段を第1面に有する基質 ;基質の第1面に対向し離間した検出器陰極;及び基質と検出器陰極との間にガ ス媒体を配置し且つ対象物を通って入来する入射放射線を受ける区域を包含して なることを特徴とするガスマイクロストリップ検出器によって、達成される。 本発明はまた、入射放射線に露出された対象物の画像を得る方法であって、試 料を通して投射された入射放射線に検出器を露出し、この検出器が、複数の互い 違いの陽極手段及び陰極手段を第1面に有する基質と、基質の第1面に対向し離 間した検出器陰極と、基質と検出器陰極との間にガス媒体を配置し且つガス媒体 の電離により光子を生成する入射放射線を試料から受ける区域とを包含するガス マイクロストリップ検出器から成り;前記検出器において光子を吸収して画像信 号を形成し;そして画像信号からディジタル画像を生成する工程を包含してなる ことを特徴とする方法を提供している。 本発明の他の目的は本発明の下記の詳細な説明から明らかである。 図面の簡単な説明 図1Aは、ガスマイクロストリップ検出器の概略側面図である。 図1Bは、ガスマイクロストリップ検出器の平面図である。 図1Cは、ガスマイクロストリップ画像システムの概略図である。 図1Dは、X線指向装置を結合したガスマイクロストリップ検出器の概略側面 図である。 図2は、ガスマイクロストリップ構造の陽極−陰極対の間で確立される電界強 さの準双極子形状である。 図3は、デュアルエネルギーガスマイクロストリップ検出器の斜視図である。 図4は、分割ガスマイクロストリップ検出原理に基づくデュアルエネルギーデ ィジタル放射線透過システムの概略図である。 図5は、定量的オートラジオグラフィーのためのガスマイクロストリップ検出 器の分解斜視図である。 図6は、乳房造影法及び定量的オートラジオグラフィーの適用に適するキセノ ン圧力(d=1cm,E=18.6keV)を増加させた場合のエネルギー吸収 効率のグラフである。 図7は、圧力(d=5cm,E=18.6keV)を増加させた場合のエネル ギー吸収効率のグラフである。 図8は、胸部放射線写真法に適するキセノン圧力(d=5cm,E=50keV, フルエンス=220フォトン/mm2)を増加させた場合のエネルギー吸収効率 のグラフである。 図9は、定量的オートラジオグラフィーに適するキセノン圧力(d=1cm, E=18.6keV,フルエンス=2200フォトン/mm2)を増加させた場合 に発生する信号のグラフである。 図10は、胸部放射線写真法に適するキセノン圧力(d=5cm,E=50k eV,フルエンス=1.08×105フォトン/mm2)を増加させた場合に発生 する信号のグラフである。 図11は、1気圧で且つ異なる陽極−陰極距離で印加電圧を増加させた場合の アルゴンのゲインのグラフである。 図12は、1気圧で且つ異なる陽極−陰極距離で印加電圧を増加させた場合の キセノンのゲインのグラフである。 図13は、1ミクロンの陽極半径及び10ミクロンの陽極−陰極距離で且つ異 なる印加電圧で圧力を増加させた場合のゲインのグラフである。 図14は、異なる陽極−陰極距離及び400Vの印加電圧で且つ陽極半径を増 加させた場合の陽極の表面の電界のグラフである。 図15は、陽電子放出断層撮影法に用いられるマイクロストリップ検出器の概 略図である。 図16は、ハイブリッド固体−気体マイクロストリップの斜視図である。 図17は、本発明による光増幅器として用いられるシンチレーションクリスタ ルに結合されたガスマイクロストリップの概略図である。 図17Aは、本発明による光増幅器の第1変形例である。 図17Bは、本発明による光増幅器の第2変形例である。 図18は、本発明による光増幅器として用いられるシンチレーションファイバ ーに結合されたガスマイクロストリップの概略図である。 発明の好適な実施例 新規の画像装置は、画像システムのフロントエンド、すなわちガスマイクロス トリップ検出器を包含する。ガスマイクロストリップ検出器は、カウント及び画 像適用のための、超高解像度、高内部ゲイン、低ノイズ及び高速の装置を提供す る。 ガスマイクロストリップ装置の特徴は、 i. ミクロン又はサブミクロンの寸法の画像信号コレクタにより極めて高い空 間解像度を備えること、 ii.必要時に裏側感知電極によりx−y平面において極めて高い位置解像度を 備えること、 iii.適用されたデュアルエネルギー検出原理のために高コントラスト解像度 を備えること、 iv.ガス媒体における信号の非常に高い無雑音の内部増幅により、高検出量子 効率(DQE)を意味する高感度を備えること、 v.ワイヤの代わりにマイクロストリップを利用する適用された光食刻技術に より、静電不安定性を排除すること、 vi.他のマイクロストリップ半導体技術に比べコストを低減すること、 vii.非常に広い感知領域を構築する能力 を含んでいる。 ここに記載された新規の画像装置は、デュアルエネルギー検出技術、定量的オ ートラジオグラフィー、X線及び光線顕微鏡検査法、陽電子放出断層撮影法、固 体装置、並びに、医用画像、生物光学、航空宇宙、産業及び他の関連した適用に 採用される光増幅器と一緒に用いられ得る。 ガスマイクロストリップ検出器 マイクロストリップ検出器の製作は、半導体産業でマスクプレートを製作する のに一般に用いられている光食刻技術を利用している。ガスマイクロストリップ 検出器20の図が図1A及び1Bに示されており、医用画像のためのガスマイク ロストリップ検出器画像システムの概略図が図1Cに示されている。図1Aの構 造は走査ビーム形状に関係しているが、オープンフェース形状も可能である。検 出器20は、陽極−陰極ワイヤを、絶縁又は部分絶縁ガラス基質上に陽極−陰極 パターンを配設した導電ストリップの超微細蒸着に置換されている。 本発明では、複数のマイクロストリップ陽極22が複数のマイクロストリップ 陰極24と互い違いに挿入されている。陽極22及び陰極24は絶縁又は部分絶 縁ガラス基質26に光食刻法で着けられている。基質26は導電性ガラス又はプ ラスチックあるいは半導体の表面上の導電層であってよい。一実施例では、マイ クロストリップマスクは、ミクロン範囲の幅を有し且つミクロン範囲にある幅広 の導電陰極ストリップと互い違いに挿入されている導電陽極ストリップを包含す る。陽極及び陰極は共にクロム、金、他の金属又は同等物を被覆されていてよい 。画像適用に応じて、陽極及び陰極の幅は変化されてよい。電位(図示しない) は交互に陽極22か陰極24になる。陽極及び陰極ストリップ22,24とは反 対の基質26の側には、これらに対して略直角に指向された複数の裏側電極スト リップ28が、検出器の特定の最終利用適用に応じて設けられている。最終利用 に応じて、裏側電極ストリップ28はx−y平面における位置解像度及び画像能 力を備えるように使用される。裏側電極ストリップ28の幅は画像適用に応じて 変化されてよい。当業者にはわかるように、基質26は裏側電極ストリップ28 に 信号を誘起できるに十分薄いものである。誘導信号はまた、適宜の抵抗率を有す る基質を利用することによっても達成され得る。前述したように、基質26は適 宜の導電特性を有する導電性ガラス又はプラスチック基質であってもよいし、あ るいは、基質は、半導体材料の薄フィルムの蒸着又はイオンインプランテーショ ンにより絶縁体の表面に導電層を設けていてもよい。検出器陰極30が基質26 に対向していて、検出器陰極30と複数の裏側電極ストリップ28との間で電界 32が形成され得る。 ガス媒体34が当業分野において周知の方法で検出器陰極30と基質26との 間に封入されている。基質26と検出器陰極30との間の距離は典型的にはミリ メートル範囲にあるが、これ以外の間隔が採用されてよい。ガス媒体34はアル ゴン、キセノン、クリプトン及びこれらの混合物、そしてドーパント集中の有極 又はケンチング化合物と組合わせたこれらの不活性ガス又は混合物を含有してい てよい。ガス媒体34は、画像適用によって高量子効率及び制限されたエレクト ロン範囲を備える必要がある場合には、高圧力で封入されてよい。 矢印36で示された複数の一次電子は、ガス媒体34の直接X線電離によって 生成され、陽極22に向けてドリフトされる。電子36がそれぞれの陽極22と 陰極24との間の電界32に達すると、電子36は適宜の陰極24に向かってド リフトし、そこで、電子は準双極子形状により十分に大きい電界強さでなだれ増 幅を受ける。 明らかとなるように、光食刻技術で達成された高度の正確さは、従来では得ら れなかった広い面積にわたって極めて高いゲインを検出器20が有することを確 実にしている。この技術により、1〜2ミクロン以下のミクロン(1/1000 ミリメートル)又はサブミクロン範囲の、正確にはガラス基質に非常に良く接着 する0.2ミクロンの、非常に精密な薄ストリップ構造(陽極及び陰極)を作る ことを可能にしている。それに加え、適用されたデュアルエネルギー検出原理に より高コントラスト解像度を得ている。 図1Aに示されているように、複数のX線37はストリップビーム形状におい て検出器に平行な平面に当てられる。代わりとして、X線37はオープンビーム 形状において通常陰極30を通して当てられてよい。 検出器20は、図1Dに示されているように、X線37源と基質26/陰極 30との間に配置された毛管光学システム38又はクマコフ(Kumakhov)レンズ 39を設けられ得る。これらの直接X線装置はストリップビーム形状あるいはオ ープンビーム形状に設けてられていてよい。毛管光学システム38は、入射光又 は放射線を平行にする複数の光ファイバーを包含する。反射のための小さい臨界 角のために毛管X線光学の低い角度許容は、極めて十分な拡散拒否のための電位 に比較的高い一次伝達を与えている。クマコフレンズ39はまた、X線又は同等 物を収束しガス媒体34内へ案内する。これらの案内機構の使用は画像信号の鮮 明度を増している。図1Cに示されている本発明のガスマイクロストリップ画像 システム40において、X線管42は複数のX線44を発生し、これらのX線は 、生物又製薬試料あるいは患者のような人間あるいは対象物45に当たり、そし てガスマイクロストリップ検出器20へ通過する。検出器20によって生成され た画像信号は、前置増幅器46に、そしてフィルタ48を介して増幅器49に送 られる。画像信号は実時間ディスプレイのためのオシロスコープ50及び又はデ ータ獲得、分析及び記憶のためのコンピュータワークステーション52に指向さ れる。 図2は、ガスマイクロストリップ構造の陽極−陰極対の間で確立される電界強 さの準双極子形状58を示しており、ここで、電界線が符号56で示され、電位 線が符号58で示されている。 デュアルエネルギー検出技術 デュアルエネルギー放射線透過技術は乳房造影法及び胸部放射線写真法のため の画像に適用されている。デュアルエネルギー放射線写真法は2つの選択された 材料の間での画像コントラストを取り除いている。このような方法で背景構造を 簡略化することによって、目標の検出性又は“顕著性”が増す。 従来の胸部画像技術における大きな制限は、望ましくない干渉構造物の存在で ある。特に、肋骨のような他の身体構造物の重なり突出が肺小結節を不鮮明にし 又はカモフラージュし得る。従って、腫瘍が隣接する構造物から鮮明に区別でき なくなり得る。 デュアルエネルギーディジタル放射線写真法は、骨や軟組織のような2つの材 料の表示されたコントラストを消去でき、単生肺小結節(SPN’s)又は拡散 肺小結節(DPN’s)のような低コントラスト病巣を骨消去画像において強調 した顕著性を通して得ることができる。又、石灰化した病巣も区別でき、従って 、腫瘍が隣接する構造物から鮮明に区別できる。 SPNにおける石灰化の存在は良性の最重要な決定要因であるので、このこと は有用である。それに加え、微細な拡散石灰化はしばしばデュアルエネルギー技 術によってのみ検出可能である。従って、デュアルエネルギーはX線画像の診断 情報内容を最大化する技術として見てよい。 従来の乳房造影技術における大きな制限は、望ましくない干渉構造物の存在で ある。特に、圧縮方法を伴って得られる乳房造影法においては、乳房の通常の軟 組織、腫瘍、カルシウム沈着(石灰化)及び他の影が病巣をマスクするように互 いに重なり得る。従って、腫瘍が隣接する乳房構造物から鮮明に区別できない。 密集した乳房における乳房造影法の使用によっては、癌浸潤の境界を識別するこ とが困難である。 乳房造影法を行っている多数の女性において検出した乳房石灰化は、乳癌の存 在を示す悪性又は良性のいずれかである。悪性石灰化の検出はしばしば癌の早期 診断をなす唯一の方法である。しかしながら、乳房の軟組織の間のコントラスト から生じる“擾乱”背景によって石灰化が不鮮明にされているときには、癌は見 落とされ得る。石灰化の存在が乳癌の診断及び臨床上評価において重要性を有す るので、乳房画像を向上させるための新規技術は非常に重要である。 ディジタルデュアルエネルギー乳房造影法において、石灰化の検出は乳房の周 囲軟組織から構造ノイズを取り除くことによって向上し得る。本発明によると、 デュアルエネルギー放射線透過検出は、単一のX線露光で、高エネルギー及び低 エネルギー画像を同時に生成し、こうして二重のX線露光において存在し得る位 置ずれ問題あるいは患者の運動問題を解消しつつ、遂行される。これら2つの画 像の重りつけ減算は、石灰化あるいは軟組織を取り除いたディジタル画像を生成 することとなる。 ガスマイクロストリップ原理で動作するデュアルエネルギー検出の原理が図3 に示されている。システムのコントラスト解像度は、4.5cmまで圧縮した人 間の乳房と同様な方法でX線を減衰させるように設計された乳房造影影像によっ て実証されている。ガスマイクロストリップ検出器60が基質26の一側に複数 の裏側電極ストリップ28を、また他側に陽極及び陰極を設げている。複数の裏 側電極ストリップ28は、低エネルギーX線光子44の大きい割合を吸収する前 方マイクロストリップ区域62と、高エネルギーX線光子44の大きい割合を吸 収する後方マイクロストリップ区域64とに分離されている。2つのマイクロス トリップ区域62及び64は(接地された)中立区域66によって分離されて、 それぞれの区域で発生された2つの画像信号の平均エネルギー分離を十分に高め ている。これら2つの信号の減算は、周囲軟組織から構造ノイズを取り除くこと によってマイクロ石灰化の検出を向上させる結果となる。従って、完全小フィー ルド視点(SFOV)画像システムがこの形状を通して可能である。 分割ガスマイクロストリップ検出原理に基づくデュアルエネルギーディジタル 放射線透過システムの概略図が図4に示されており、総括的に符号70で表され ている。デュアルエネルギーガスマイクロストリップ検出器70は、検出器内部 の信号収集フィンガを以下の3つの区域、すなわち、前方区域62、非作動中立 区域66及び後方区域64に分割することによって動作する。前方区域62はデ ィジタル低エネルギー画像を生成し、後方区域64はディジタル高エネルギー画 像を生成する。非作動中立区域66の目的はX線を硬化させ、それにより低及び 高エネルギー画像の間のエネルギー分離を強めることである。適宜選択されたk エッジをもつ予備フィルタ材料72がX線管42に隣接して配置されて、対象物 又は影像74に入る2モードX線スペクトルを生成する。デュアルエネルギーガ スマイクロストリップ検出器70はガス媒体34を封入するアルミニウムX線窓 76を包含する。検出信号は増幅され、フィルタをかけられ、それからディジタ ル実時間オシロスコープに表示される。 定量的オートラジオグラフィー 核医学における幾つかの生物学的測定及び検出技術は、2次元分離媒体におけ る同位体で置換して識別した物質の定量的評価による。フィルムに基づく技術は 安価であり複写可能であるが、幾つかの生物学的組成のみの研究に制限されてい る。本発明によると、フィルムオートラジオグラフィーよりも、高感度、向上し た検出効率、減少した露出時間及び細胞レベルでの画像アクセスをもつ優れた利 点を呈する新規の検出器が提供される。事実、新規のガスマイクロストリップ装 置は、フィルムに基づく方法よりも1000時間以上も少ない露出時間を呈する とともに、なだれ光検出機構及びワイヤ比例カウンタと比べると高いゲイン及び 安定性を呈する。従って、細胞レベルでの放射性薬品の分配を決定するために組 織試料の、あるいは、分子量を決定するために電気泳動プレートの、改良したラ ジオアイソトープ画像が備えられている。 定量的オートラジオグラフィーのために設計された典型的な検出器が図5に示 されており、総括的に符号80で表されている。検出器80は上記に示した他の 検出器と略同様の方法で動作する。この実施例では、放射性プレート源82が、 プレート源82と基質26との間に閉じ込められたガス媒体34を電離させる弱 い放射線を放出するために採用されている。格子プレート又は検出器陰極83が プレート源82と基質26との間でそれらに平行な平面内に配置されている。好 適な実施例では、格子プレート83はプレート源82から約0.5mmを離され ている。勿論、これ以外の間隔が採用されてよい。発生された電子は、検出器陰 極30及び複数の陽極22によって発生された印加電界の影響のもとでドリフト される。電子増幅及び収集はおおよそ陽極22に対して起こる。 検出器の例 作動ガス圧力対エネルギー吸収効率が図6〜8に示されている。図6及び7で は、キセノン充填検出器のエネルギー吸収効率は18.1keV(乳房造影法及 び定量的オートラジオグラフィー)で且つそれぞれ1cm及び5cmの吸収深さ で評価されている。図8では、キセノン充填検出器のエネルギー吸収効率は50 keV(胸部放射線写真法)で且つ5cmの吸収深さで評価されている。85% までのエネルギー吸収効率は5cmの吸収深さで且つ10気圧まで加圧されたキ セノンガス検出器媒体で得ることができることが観察されている。勿論、より高 い圧力が利用できる。 ガス圧力を増加された場合に発生する信号が図9及び10に示されている。図 9では、1cmの吸収深さ、2200フォトン/mm2の光子フルエンス及び1 8.1keVで103のガスゲインでのキセノンガス充填マイクロストリップ検出 器の発生信号が示されている。5cmの吸収深さ、1.08×105フォトン/m m2の光子フルエンス及び50keVで103のゲインでのキセノンガス充填マイ クロストリップ検出器の発生信号が図10に示されている。103のゲインが仮 定されているが、数段高いゲインがマイクロストリップ検出器で可能である。 事実、1気圧で且つ異なる陽極−陰極距離で印加電圧を増加させた場合でのア ルゴン及びキセノン充填マイクロストリップ検出器のガス増倍率(ゲイン)が、 それぞれ図11及び12に示されている。1ミクロンの陽極半径及び10ミクロ ンの陽極−陰極距離で且つ異なる印加電圧で圧力を増加させた場合でのキセノン 充填マイクロストリップ検出器のガス増倍率が図13に示されている。 異なる陽極−陰極距離及び400Vの印加電圧で且つ陽極半径を増加させた場 合の陽極の表面の電界が図14に示されている。全体的に、陽極−陰極マイクロ ストリップの準双極子形状が比較的低い印加電圧で高い信号ゲインに寄与する高 い電界強さを生じさせることが観察されている。小さい(サブミクロン)ストリ ップ寸法及びイオンの短いクリア時間のため、ガスマイクロストリップテクノロ ジーは高い確率で核医学に関する特異のパルス医用画像適用を提供する。また、 露出検出技術は、現在のデュアルエネルギー検出技術を大幅に向上させ且つX線 ディジタル放射線透過システムの画質に影響を与える特異の画質特性を有する。 陽電子放出断層撮影法 陽電子放出断層撮影法(PET)画像検出装置は、低圧不活性ガス充填管に結 合されたBaF2クリスタルのようなシンチレータを包含し、この低圧不活性ガ ス充填管は励起状態光電離原理で動作する。ガス検出器は、比較的低いバイアス 電圧を用いることによって達成できるプレブレークダウン状態において動作する 。この状態は比較的低い電界の形成の間維持され、励起状態光電離のようなガス 応答を特徴とする、電離された原子よりはむしろ励起された原子を生じさせるこ と となる。UV光子のDC成分はバイアスによって発生される励起に加わり、幾分 低いバイアスでの検出器の動作を許容する。ガス検出器は極めて低いバイアス電 流(nA)で動作できるため、プレブレークダウン状態は起こり易い動力の変化 に非常に敏感となり得る。 本発明によると、総括的に符号100で表したPET装置が図15に示されて いる。装置100は、アルゴン、キセノン又は同等物のようなガス103を充填 され低圧に維持された光電管102を包含する。装置100は主検出区域104 、伝達ギャップ106及び検出器読出し回路108を包含する。 主検出区域104は平行六面体BaF2クリスタル110を備え、このクリス タルはこの実施例では25×8mm2で厚さ8mmである。勿論、クリスタル 110は医用画像適用のために知られている適宜の関連する材料であってよい。 クリスタル110の下側には、ワイヤ格子114から成る逆バイアス区域112 が配置されており、このワイヤ格子は0.5mmピッチで50μmMoワイヤで ある。格子114はクリスタル110から約0.5mm離れて位置されて、クリ スタル表面の電荷増強を防止する。約30Vの電圧源(図示しない)がこの目的 のために格子114に接続されている。区域104は、幅0.5〜3mmの変換 区域116をさらに包含する。この実施例では0.5mmピッチで50μmMo ワイヤである複数の平らなワイヤ118が、変換区域116の下側に配置され、 約+100Vの電圧に維持されている。前置増幅格子119が変換区域116の 下側に約10mm離間されている。ワイヤの金属メッシュ120が前置増幅区域 119の下側に配置されている。メッシュ120は、各ワイヤが約±25V源( 図示しない)に交互に接続された100μm金メッキタングステンである複数の ワイヤを包含していてよい。メッシュ120は検出器読出し回路108の一致ゲ ート122に結合されている。前置増幅格子が装置100の動作にとって必要で ないことは、本発明の範囲内にある。 厚さ約30mmの伝達ギャップ106は、ここで提示したマイクロストリップ 検出器の実施例のいずれか1つから形成され得るマイクロストリップ検出器12 5を包含する。検出器は、複数の陰極129と互い違いに挿入された複数の陽極 128を有する基質126を包含する。検出器125はメッシュ120の下側に 位置されている。 動作において、PET装置は、BaF2クリスタル110に吸収される消滅放 射線を発生する放射線源130を備えており、このBaF2クリスタルは光電管 102内の予励起ガス103を電離させるためのUVシンチレーション光を発生 する。これは、おおよそ反対方向に放出される2つの511keVガンマ線光子 を生成する。前置増幅格子119は多数の光電子を倍増させて信号131を発生 させ、この信号は伝達ギャップ106に応じて読取る位置のための検出器読出し 回路108によって受信される。高バイアス電圧がメッシュ120に印加される と、メッシュ120と検出器125との間で確立された印加電界の影響のもとで 光電子が加速される。信号一致事象が存在する場合には、電子なだれが一致ゲー ト122で終了する。一致事象が回路108によって記録されると、書込み許可 又は停止パルスが一致ゲート122にフィードバックされる。電子から誘起され たパルスは、前置増幅格子119から前置増幅器132そして固定小数部弁別器 134に供給される。 放射線源130に結合されたシンチレータ・光電子増倍管136からの開始信 号は、時間−振幅変換器138の開始ゲートを動作させる一方、検出器125は 停止パルスを発生する。変換器138は開始時間と後の分析のための停止パルス との時間差を変換する。 ハイブリッド固体−気体マイクロストリップ 次に図16において、ハイブリッド固体−気体マイクロストリップの形状のガ スマイクロストリップ検出器の他の変形例が総括的に符号140で示されている ことがわかる。 検出器140は、矢印142で示されているように、オープンビーム形状にお いてX線又はガンマ線の電荷への直接変換によって動作する。代わりとして、X 線143が検出器140の反対側に当てられてよい。図1に示した実施例に類似 するマイクロストリップ検出器140は、複数の裏側電極146を有する基質 144と、複数のマイクロストリップ陰極150と互い違いに挿入された複数の マイクロストリップ陽極148とを包含する。勿論、検出器140は、大気圧又 は準大気圧のガス圧力における矢印154で示したような印加電界のもとで、希 ガス152を備えたエンクロージャ内に収容されている。基質144に略平行な 平面にプレート156が配置され、これらの間に半導体材料158が収容されて いる。プレート156は高電圧プレート、コンタクト又は他のマイクロストリッ プであってよい。不動態化されていてもいなくてもよい材料158は、マイクロ ストリップ基質144に直接に、又はクマコフレンズを介して間接的に結合され 得る。 動作において、基質144は材料158へのコレクタ接点として働くばかりで なく、増幅器としても働く。プレート156は材料158と直接に接触していて もいなくてもよい。プレート156が材料158に接触していない場合には、こ れらはガス媒体152によって分離されることとなる。印加電界の極性により、 電子又はイオンが収集でき、それぞれ高ゲイン又は低ゲインを伴う。希ガスは金 属のものよりも低い仕事関数ポテンシャルを有するため、より直線的な検出器応 答性が達成できる。それに加え、本実施例は、有害な作用と関係する空間電荷を 大幅に低減又は排除している。他の実施例と同様に、材料158の直接X線電離 によって生成された一次電子は、z方向に高電圧プレート156に向けてドリフ トされる。電子が高電圧プレート156と基質144との間の電界に達すると、 印加電圧が収集されたキャリア(イオン又は電子)に応じて極性を変化させ得る 。例えば、電子は適宜の陽極148に向かってドリフトし、ここで電子が準双極 子陽極−陰極形状により十分に高い電界強さでなだれ増幅を受ける。イオンは隣 接す陰極に急速に収集され、検出された画像信号になる。代わりとして、矢印1 60で示した複数の入射X線又はガンマ線が材料158の垂直軸線に平行な方向 に当てられて、検出器140を走査ビーム形状で動作できるようにしている。 この実施例は、高画像解像度を与えるというX線の電荷への直接変換の利点を 備えている。この実施例は、CCDカメラが呈し得ない特徴、すなわち、高量子 シンク、大寸法アレー及び高ゲインを呈するため、フォトダイオード/CCDカ メラ読出しに対する代案を提供している。 ハイブリッド光増幅器 次に図17において、ハイブリッド光増幅器の形状のガスマイクロストリップ 検出器の他の変形例が総括的に符号170で示されていることがわかる。この実 施例は、X線又はガンマ線、UV、ガスマイクロストリップ光感知基質の直接露 光時の可視赤外線あるいは他の伝播光波媒体を画像に間接的に変換する。 検出器170は、シンチレーションクリスタル176を収容するための窓17 4を備えた検出器ハウジング172を包含する。光感知被覆178を有するマイ クロストリップ基質177は、ハウジング172内に収容されている。通常大気 圧又は準大気圧の操作ガス圧力に設定された希ガスであるガス媒体180は、ハ ウジング172内に閉じ込められている。基質177には、複数の陰極184と 互い違いに挿入されている複数の陽極182が配置されている。陽極182と陰 極184と間で交互に電荷(図示しない)が加えられる。 矢印186で示されているように、複数のX線又はガンマ線が対象物188を 通して指向され、そしてシンチレーションクリスタル176に入射されて、基質 177を照射する光を生成する。それから、光電子が被覆178の光感知領域か ら放出され、基質177上の陽極182のまわりでなだれ増倍を開始する。こう して、イオン信号が陰極184に捕捉される。 第1変形例が図17Aに示されており、ここでは、光感知被覆178は基質 177の代わりにクリスタル176の後面に直接施されている。この変形例では 、被覆178と陽極ストリップ182との間の印加電界は電子を基質177に向 けてドリフトでき、ここで電子増倍が行われ、電子が陽極ストリップ182に収 集される。 第2変形例が図17Bに示されており、ここでは、クリスタルがファイバー光 プレート189に置換され、このプレートはその後面に施された光感知被覆17 8を有する。これに加え、システムは、光感知被覆基質の直接露光が入射光を受 けるようにした適用のために、クリスタル又は光学システムなしで用いることが できる。これが起こる適用は、共焦点形顕微鏡検査法を含む顕微鏡検査法及び他 の光波適用を包含する。 これらの実施例に対する変形例が図18に示されており、ここでは、複数のシ ンチレーションファイバー190が被覆178に直接に結合されている。被覆 178と陽極182との間の印加電位差は、生成された光電子を陽極に向けてド リフトでき、ここでなだれ増倍が行われ、画像信号が陰極184で検出される。 レンズが光ファイバーの代わり被覆178に直接に結合されてよいことがわかる であろう。 従って、ガスマイクロストリップ検出原理のX線医用画像及び核医学への適用 可能性が、向上した検出器及び画像性能要因を有する画像システムを生じさせて いることが明らかである。本発明の検出器の利点は、微細なコレクタ寸法、二重 層形状及び高ゲインから生じる高い空間解像度、コントラスト解像度及びエネル ギー解像度を含む。また、i)陽極に近接して発生された高局部電界により高ゲ インが低印加電圧で達成されること;ii)高ゲイン及び高量子効率による大きい 生成信号;iii)小さい陽極−陰極分離、高電界により生じる高ドリフト速度及 びマイクロストリップキャパシタンスの小さい値による極めて短い信号収集時間 ;iv)高ゲイン及び低マイクロストリップキャパシタンスによる高い信号対雑音 比;v)高い機械的安定性、低コスト及び大きい設計寸法、という利点が得られ ている。 このように、本発明の目的は上記に提示した構造及び方法によって達成されて いることがわかる。特許法に従って本発明の最良の形態及び好適な実施例につい てのみ詳細に説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。従って、 本発明の真の範囲を認識するために、以下の請求の範囲が参照されるべきである 。
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  1. 【特許請求の範囲】 1 対象物を通った入射放射線を受けて画像を生成するガスマイクロストリップ 検出器であって、 複数の互い違いの第1陽極手段及び第1陰極手段を第1面に有する基質; 基質の第1面に対向し離間した検出器陰極;及び 基質と検出器陰極との間にガス媒体を配置し且つ対象物を通って入来する入射 放射線を受ける区域 を包含してなることを特徴とするガスマイクロストリップ検出器。 2 前記基質の反対側の面に配置され第1陽極手段及び第1陰極手段に対して略 直角に位置された複数の電極手段をさらに包含することを特徴とする請求項1記 載の検出器。 3 ガス媒体が、アルゴン、キセノン、クリプトン及びこれらの混合物、並びに 、有極及びケンチング化合物の少なくとも1つと組合わせたアルゴン、キセノン 、クリプトン及びこれらの混合物の少なくとも1つから成る群から選択されるこ とを特徴とする請求項1記載の検出器。 4 ガス媒体が直接電離モードにおいて所定の圧力に維持されて高量子効率及び 減少した電子範囲を備えていることを特徴とする請求項3記載の検出器。 5 検出器陰極と複数の電極手段との間で電界が形成されて、複数の互い違いの 第1陽極及び陰極手段によって検出される画像信号を生成することを特徴とする 請求項1記載の検出器。 6 入射放射線が走査ビーム形状又はオープンビーム形状から与えられることを 特徴とする請求項5記載の検出器。 7 画像信号を受信し処理する画像システムをさらに包含することを特徴とする 請求項5記載の検出器。 8 複数の互い違いの第1陽極及び陰極手段が基質に光食刻法で配設されている ことを特徴とする請求項1記載の検出器。 9 前記基質が少なくとも部分的に絶縁され、クマコフレンズ又は複数の毛管光 学素子が前記基質に結合されて強調した画像を与えることを特徴とする請求項8 記載の検出器。 10 基質の第1面に配置された複数の互い違いの第2陽極手段及び第2陰極手段 をさらに包含し、複数の第1陽極及び陰極手段が第1画像信号を発生し、複数の 第2陽極及び陰極手段が第1画像信号に対して比較するための第2画像信号を発 生することを特徴とする請求項1記載の検出器。 11 第1及び第2画像信号の間の区別を容易にする複数の第1及び第2陽極及び 陰極手段の間の中立区域をさらに包含することを特徴とする請求項11記載の検 出器。 12 対象物を通過した2モードX線スペクトルを生成する予備フィルタ;及び 基質が収容され、2モードX線スペクトルを通過させる窓をもつ検出器ハウジ ング をさらに包含することを特徴とする請求項10記載の検出器。 13 検出器陰極が放射性プレート源と基質との間に配置されて定量的オートラジ オグラフィーのための手段を与えることを特徴とする請求項1記載の検出器。 14 前記放射性プレート源が所定レベルの放射線を放出して前記ガス検出媒体を 電離させることを特徴とする請求項13記載の検出器。 15 基質を収容し、陽極子放出断層撮影法、ガンマカメラ、コンピュータ断層撮 影法又は単一光子放出断層撮影法を実施するためにガス媒体を充填されている光 電管をさらに包含することを特徴とする請求項1記載の検出器。 16 光電管内の主検出区域と伝達ギャップ;及び 光電管に結合されて画像を発生する読出し回路 をさらに包含することを特徴とする請求項15記載の検出器。 17 前記光電管に近接して放射線を発生し、前記読出し回路に開始パルスを与え る放射線源; 前記放射線源からの放射線を吸収し、隣接する変換区域に複数の光電子を発生 するガス媒体を電離させるためのシンチレーション光を発生するクリスタル; 前記変換区域に隣接して前記複数の電子を増倍させる前置増幅格子; 前記前置増幅格子と前記基質との間にあり、前記読出し回路で受信される停止 パルスを発生するメッシュ をさらに包含し、前記検出器が位置読取りを発生し、前記読出し回路が前記位置 読取りと組合わされる前記開始及び停止パルスの間の差を決定することを特徴と する請求項16記載の検出器。 18 基質とプレートとの間に配置された半導体基質をさらに包含し、プレートと 複数の電極手段との間で電圧が印加され、前記ガス媒体が所定の圧力で封入され ていることを特徴とする請求項1記載の検出器。 19 電子が半導体基質の直接X線電離によって生成され、複数の第1陽極ストリ ップに向けてドリフトされて画像を発生し、入射放射線が走査ビーム形状及びオ ープンビーム形状の一方から与えられることを特徴とする請求項18記載の検出 器。 20 基質に光感知被覆が配設され、前記基質が、入射放射線に露出される光を発 生する手段に結合され、前記ガス媒体が所定の圧力で封入されていることを特徴 とする請求項1記載の検出器。 21 前記光を発生する手段が検出器ハウジングの窓に支持されたシンチレーショ ンクリスタルであることを特徴とする請求項20記載の検出器。 22 シンチレーションクリスタル及びファイバー光プレートの一方を収容する窓 を備え、前記基質を収容する検出器ハウジング;及び 前記シンチレーションクリスタル及び前記ファイバー光プレートの一方の表面 に配設された光感知被覆 をさらに包含することを特徴とする請求項1記載の検出器。 23 前記光を発生する手段が、光感知被覆に結合され検出器ハウジング内に支持 された複数のシンチレーションファイバーであることを特徴とする請求項20記 載の検出器。 24 入射放射線に露出された対象物の画像を得る方法であって、 試料を通して投射された入射放射線に検出器を露出し、この検出器が、 複数の互い違いの陽極手段及び陰極手段を第1面に有する基質と、 基質の第1面に対向し離間した検出器陰極と、 基質と検出器陰極との間にガス媒体を配置し且つガス媒体の電離により光子 を生成する入射放射線を試料から受ける区域とを包含するガスマイクロスト リップ検出器から成り; 前記検出器において光子を吸収して画像信号を形成し;そして 画像信号からディジタル画像を生成する 工程を包含してなることを特徴とする方法。 25 検出器が、前記基質の反対側の面に第1陽極手段及び第1陰極手段に対して 略直角に位置された複数の電極手段をさらに包含することを特徴とする請求項2 4記載の方法。 26 ガス媒体が、アルゴン、キセノン、クリプトン及びこれらの混合物、並びに 、有極及びケンチング化合物の少なくとも1つと組合わせたアルゴン、キセノン 、クリプトン及びこれらの混合物の少なくとも1つから成る群から選択されるこ とを特徴とする請求項24記載の方法。 27 ガス媒体が直接電離モードにおいて所定の圧力に維持されて高量子効率及び 減少した電子範囲を備えていることを特徴とする請求項26記載の方法。 28 検出器陰極と複数の電極手段との間で電界を形成して、複数の互い違いの第 1陽極及び陰極手段によって検出される前記画像信号を生成する工程をさらに包 含することを特徴とする請求項24記載の方法。 29 画像信号を受信し処理する画像システムを備える工程をさらに包含すること を特徴とする請求項28記載の方法。 30 前記露出する工程が、入射放射線を走査ビーム形状又はオープンビーム形状 から与える工程を包含することを特徴とする請求項29記載の方法。 31 複数の互い違いの第1陽極及び陰極手段を基質に光食刻法で配設する工程を さらに包含することを特徴とする請求項24記載の方法。 32 前記基質を少なくとも部分的に絶縁し、クマコフレンズ及び複数の毛管光学 素子の一方を前記基質に結合して強調した画像を与える工程をさらに包含するこ とを特徴とする請求項31記載の方法。 33 基質の第1面に複数の互い違いの第2陽極手段及び第2陰極手段を配置し; 複数の第1陽極及び陰極手段から第1画像信号を発生し; 複数の第2陽極及び陰極手段から第2画像信号を発生し;そして 第1画像信号を第2画像信号に対して比較して対象物内部の物体の検出を向上 させる 工程をさらに包含することを特徴とする請求項24記載の方法。 34 第1及び第2画像信号の間の区別を容易にする複数の第1及び第2陽極及び 陰極手段の間の中立区域を備える工程をさらに包含することを特徴とする請求項 33記載の方法。 35 入射放射線と対象物との間に予備フィルタを挿設して対象物を通過した2モ ードX線スペクトルを生成し;そして 基質を収容し2モードX線スペクトルを通過させる窓をもつ検出器ハウジング を通して2モードX線スペクトルを指向する 工程をさらに包含することを特徴とする請求項33記載の方法。 36 検出器陰極を放射性プレート源と基質との間に配置して定量的オートラジオ グラフィーのための手段を与える工程をさらに包含することを特徴とする請求項 24記載の方法。 37 所定レベルの放射線を放出して前記ガス検出媒体を電離させる工程をさらに 包含することを特徴とする請求項36記載の方法。 38 ガス媒体を充填されている光電管に基質を挿設して、陽極子放出断層撮影法 、ガンマカメラ、コンピュータ断層撮影法又は単一光子放出断層撮影法のための 手段を与える工程をさらに包含することを特徴とする請求項24記載の方法。 39 光電管内に主検出区域と伝達ギャップを備え;そして 読出し回路を光電管に結合して画像信号を発生する 工程をさらに包含することを特徴とする請求項38記載の方法。 40 前記光電管に近接して前記読出し回路で受信される開始パルスを与える放射 線源からの放射線を吸収するためのクリスタルを前記主検出区域に備え; 複数の光電子を発生するガス媒体を電離させるためのシンチレーション光をク リスタルから発生させ; 前置増幅格子において前記複数の電子を増倍させて前記読出し回路で受信され る信号を発生し;そして 前記前置増幅格子と前記基質との間にメッシュを備えて、一致事象を記録し前 記読出し回路で受信される停止パルスを発生する 工程をさらに包含し、前記検出器が位置読取りを発生し、前記読出し回路が前記 位置読取りと組合わされる前記開始及び停止パルスの間の差を決定することを特 徴とする請求項39記載の方法。 41 基質とプレートとの間に半導体基質を配置し、プレートと複数の電極手段と の間で電圧を印加し;そして 前記ガス媒体を所定の圧力で加圧する 工程をさらに包含することを特徴とする請求項24記載の方法。 42 走査ビーム形状及びオープンビーム形状の一方から入射放射線を与え;そし て 半導体基質の直接X線電離によって電子を生成し、電子を複数の第1陽極スト リップに向けてドリフトして画像信号を発生する 工程をさらに包含することを特徴とする請求項41記載の方法。 43 基質に光感知被覆を配設し;そして 入射放射線に露出される光を発生する手段に基質を結合する 工程をさらに包含することを特徴とする請求項24記載の方法。 44 検出器ハウジングの窓に支持されたシンチレーションクリスタルを備える工 程をさらに包含することを特徴とする請求項43記載の方法。 45 シンチレーションクリスタル及びファイバー光プレートの一方を収容する窓 を、前記基質を収容する検出器ハウジングに備え;そして 前記シンチレーションクリスタル及び前記ファイバー光プレートの一方の表面 に光感知被覆を配設する 工程ををさらに包含することを特徴とする請求項44記載の方法。 46 光感知被覆に結合され検出器ハウジング内に支持された複数のシンチレーシ ョンファイバーを備える工程をさらに包含することを特徴とする請求項43記載 の方法。
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