JP2000507518A - 蒸着ｅｖｏｈ面を有する遮断フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 多層ポリマーフィルムの製造法は、遮断被覆を、ポリマー基体に接着したエチレンビニルアルコールコポリマー層上に蒸着することによってなし遂げられる。遮断特性を示す多層ポリマーフィルムはまた、エチレンビニルアルコールコポリマー層を蒸着遮断被覆とポリマー基体との間に用いることによって得られる。

Description

【発明の詳細な説明】 蒸着ＥＶＯＨ面を有する遮断フィルム 本発明は、遮断フィルム、特に、遮断被覆材料の蒸着により遮断被覆を受け入 れるための少なくとも１つの露出高エネルギー面を有する遮断フィルムに関する 。 蒸着によって生じる被覆は、被覆基体にある種の遮断特性をもたらすことが知 られている。例えば、非晶質炭素のような有機被覆は、水、酸素および二酸化炭 素のような成分の透過を妨げることができる。従って、基体（例えば、ポリマー フィルム）が示す遮断特性を改善するために、炭素被覆が基体に施されてきた。 これによって、蒸着被覆はしばしば遮断被覆と呼ばれる。 遮断特性を改善するために基体に施される被覆の別の例は、無機酸化物のよう な無機材料の被覆である。珪素およびアルミニウムの酸化物は、基体、特にポリ マー基体の遮断特性の改善に広く用いられてきた。珪素およびアルミニウムの酸 化物はまた、ガラス状性質を有するために耐摩耗性をたらす。 上記の被覆は様々な蒸着技術によって基体上に付着させることができる。典型 的な蒸着技術は物理的蒸着（ＰＶＤ）または化学的蒸着（ＣＶＤ）のいずれかと して分類することができる。ＰＶＤ法の例は、イオンビームスパッタリングおよ び熱蒸発である。ＣＶＤ法の例は、グロー放電およびプラズマ増強化学的蒸着（ ＰＥＣＶＤ）である。 これらの技術の中で、ＰＥＣＶＤは、一部は、ポリマーフィルムのような温度 に敏感な基体の被覆を可能にするという理由で、広く用いられるようになってき ている。特に、この技術では、グロー放電、さらにはイオンビームスパッタリン グのような他の付着法で必要とされる反応室温度と比べて、より低い反応室温度 で被覆材料を付着させることが可能である。反応室温度がより低いため、他の被 覆法で見られるこれより高温の反応室温度によって悪影響を受けるかもしれない 、温度に敏感な基体を被覆することができる。 しかしながら、ＰＥＣＶＤ法は比較的遅く、時間のかかる方法であり、多くの 場合、そのような技術は商業的に実行不可能である。従って、ＰＥＣＶＤを用い る遮断フィルムの製造速度を速め、同時に、被覆基体が示す望ましい遮断特性を 維持する方法が当業界では求められている。 さらにまた、遮断特性を高めた遮断フィルムを提供することが当業界では絶え ず求められている。従って、本発明の目的は、改善された遮断特性を有する遮断 フィルムおよびその製造法を提供することである。 従来技術に不足するものに取り組む本発明は、遮断特性を有するポリマーフィ ルムの製造法を提供するものである。この方法は、ポリマー基体に接着させた工 チレンビニルアルコール層の露出面に遮断被覆を蒸着する工程を含む。 ポリマー基体は、エチレンビニルアルコール層と適合しさえすれば、どのよう なポリマー基体でもよい。好ましいポリマー基体には、ポリプロピレン、ポリエ チレン、２軸ナイロンおよびポリエステルが含まれる。 遮断被覆は有機被覆でも無機被覆でもよい。好ましい無機酸化物被覆には、珪 素およびアルミニウムの酸化物、より具体的にはＳｉＯ_x（ｘは１≦ｘ≦２であ る）、Ａｌ₂Ｏ₃およびそれらの混合物が含まれる。好ましい有機被覆には非晶質 炭素が含まれる。 本発明はまた、遮断フィルムの製造速度を速める方法を提供する。この方法は 、エチレンビニルアルコール層をポリマー基体に接着し、その後、遮断被覆をエ チレンビニルアルコール層の露出面に蒸着する工程を含む。エチレンビニルアル コール層をポリマー基体へ接着する好ましい技術は、同時押し出しによるもので ある。 本発明はまた、遮断特性を有する多層ポリマーフィルムを提供する。フィルム は、ポリマー基体の一方の側にエチレンビニルアルコール層を有するポリマー基 体を有する。遮断被覆はエチレンビニルアルコール層の外側表面上、すなわち、 ポリマー基体とは反対側に位置する。遮断被覆の厚さは１０〜５０００オングス トロームであるのが好ましい。 本発明の結果、蒸着遮断被覆を有するポリマーフィルムの製造に要する時間は 大きく短縮し、それによってＰＥＣＶＤ法の商業的な実用性は高まる。さらに、 本発明は、被覆時間を同じにしたときの水および大気気体の透過に対する遮断性 が改善されたポリマーフィルムの製造法を提供する。従って、本発明の遮断フィ ルムは、水および大気気体のような成分に対して改善された不透過性を提供する 。 本発明は、遮断特性を有するポリマーフィルムの製造法を提供する。この方法 は、ポリマー基体へ接着した高エネルギー面を提供するポリマー材料の露出面上 に遮断被覆を蒸着する工程を含む。 ”高エネルギー面”と呼ばれるものを提供するポリマー材料の１つの例は、非 晶質ナイロンである。非晶質ナイロン層の表面はこれに蒸着する被覆の接着を促 すと考えられ、つまり、より良質の被覆が生じる。特に、非晶質ナイロン層の露 出面は、他のポリマーと比べて、高い”湿潤性”すなわち表面エネルギーを示す 。ポリマーの湿潤性は、材料が別の材料に緊密に接する能力に影響を及ぼすと考 えられる。従って、非晶質ナイロンスキン層の高湿潤性は、下にあるポリマー基 体を直接被覆することによって得られるものよりも、良質の遮断被覆の蒸着を容 易にすると考えられる。 これに関しては、高エネルギー面（例えば、非晶質ナイロン）を有するポリマ ー層をポリマー基体へ施すと、蒸着、より具体的にはＰＥＣＶＤによる遮断被覆 の付着に要する時間が大きく減少することがここで証明された。高エネルギー面 は、従来技術のフィルムに匹敵する遮断特性を維持しながら、被覆時間の短縮を 可能にする。 被覆時間を同じに維持すると、高エネルギー面（例えば、非晶質ナイロン）を 用いることによって、遮断特性が高められたまた改善された遮断フィルムの製造 が容易にもなる。つまり、当業者であれば被覆時間を一定に保ち、遮断特性の向 上した多層ポリマーフィルムを得ることができる。高エネルギー面を用いる効果 はまた、８フィート／分（ＦＰＭ）対４ＦＴＭの被覆速度のように、短い被覆時 間でより有利になることが観察された。これは、施される被覆材料の量よりも被 覆の質に基づいてフィルムが示す全体遮断特性によると考えられる。 本発明で用いる非晶質ナイロンは、ヘキサメチレンジアミン、およびイソフタ ル酸とテレフタル酸との混合物から合成される非晶質コポリアミドであるのが好 ましい。そのような商業的に入手しうる製品の１つはデュポンＰＡ−３４２６で ある。非晶質ナイロンとは、実質的に１００％非晶質であるナイロンポリマーを 意味する。ポリマーは結晶領域に相当するピークは示さないので、示差走査熱量 計（ＤＳＣ）によって容易に確認することができる。しかしながら、非晶質ナイ ロンと半結晶質ナイロンとのブレンドを、ブレンドが非晶質ナイロンと同程度の 湿潤性を示す限り用いうることも考えられる。 非晶質ナイロン層は当業界で公知の様々な技術によって基体へ接着することが できる。例えば、ナイロン層は接着剤を用いることによってポリマー基体へ積層 することができる。ナイロン層をポリマー基体へ固定する特に好ましい方法の１ つは、ポリマー材料と非晶質ナイロンとを同時押し出しし、これによって、少な くとも一方の側に非晶質ナイロン層を有するポリマー基体を得ることによるもの である。一般に、タイ層を用いて非晶質ナイロンをポリマー基体へ接着させる。 例えば、無水マレイン酸変性ポリプロピレンのような材料をタイ層として用いる ことができる。そのような商業的に入手しうる製品の１つはアトマーＱＦ−５０ ０Ａである。 非晶質ナイロンに似た湿潤性を示す他のポリマーも、蒸着による遮断被覆を受 け入れるための高エネルギー面を提供するのに有効である。 非晶質ナイロンに似た湿潤性を示すことが分かっている材料の１つはエチレン ビニルアルコールコポリマー（ＥＶＯＨ）である。ここに示すように、ポリマー 基体上のＥＶＯＨスキン層は、遮断被覆の付着を、非晶質ナイロンスキン層を用 いて製造したものと同程度に容易にする。用いるＥＶＯＨ樹脂は、エチレン対ビ ニルアルコールのモル百分率比が約２９：７１〜約４８：５２の樹脂が好ましい 。より好ましいのは、モル百分率比が約４４：５６〜約４８：５２のＥＶＯＨ樹 脂である。本発明で用いうるＥＶＯＨ樹脂は日本のクラレ社およびニッポン・ゴ ーセイ社から、並びにアメリカのＥＶＡＬ社から容易に入手しうる。そのような 好ましいＥＶＯＨ樹脂の１つは、アメリカのＥＶＡＬ社製造の４８モル％樹脂の ＥＣＧ−１５６Ｂである。 非晶質ナイロン層と同様に、ＥＶＯＨ層は当業界で公知の様々な技術によって 基体へ接着させることができる。例えば、ＥＶＯＨＡ層は接着剤を用いることに よってポリマー基体へ積層することができる。ＥＶＯＨ層をポリマー基体へ固定 する特に好ましい方法は同時押し出しによるものである。従って、一方の側にＥ ＶＯＨ層の露出面を有するポリマー基体を製造する。非晶質ナイロン層と共に用 いたようなタイ層も、ＥＶＯＨ層のポリマー基体への接着に用いることができる 。 本発明で用いるポリマー基体の例は、これらに限定されないが、ポリプロピレ ン、ポリエチレン、２軸ナイロンおよびポリエステルである。他の基体も、その ような基体が高エネルギー面を示す材料と適合しさえすれば用いうると考える。 本発明はまた、遮断フィルムの製造速度を速める方法を提供する。この方法は 、少なくとも１つの露出高エネルギー面を有するポリマー層をポリマー基体へ接 着する工程、および、その後、この露出高エネルギー面に遮断被覆を蒸着する工 程が含まれる。再び、このポリマー層は非晶質ナイロンまたはエチレンビニルア ルコール層であるのが好ましい。 前に記載したように、遮断被覆は遮断材料の蒸着によって形成される。本発明 では、蒸着することができかつ遮断性を提供することができるどのような材料も 遮断被覆として用いることができる。遮断被覆は炭素被覆のような有機被覆でも 、あるいは酸化物被覆のような無機被覆でもよい。好ましい炭素被覆は非晶質炭 素であり、これは一部はその遮断特性および適用の容易さによる。好ましい酸化 物被覆には珪素の酸化物（ＳｉＯ_x、１≦ｘ≦２）およびアルミニウムの酸化物 （Ａｌ₂Ｏ₃）が含まれる。さらに、ＳｉＯ_x（１≦ｘ≦２）およびＡｌ₂Ｏ₃のよ うな各種被覆の混合物も用いることができる。 どのような蒸着法も本発明で用いることができる。但し、反応室温度は被覆す る基体に害を加える温度であってはいけない。ポリマー材料は温度に敏感な性質 を有するので、ＣＶＤ法を用いるのが好ましい。反応室温度が、通常、基体とし て用いることが考えられるポリマー材料の融点よりずっと下であるので、ＰＥＣ ＶＤが最も好ましい。これは、一部は、ＰＥＣＶＤ被覆工程中に形成される低温 プラズマによるものである。 ＰＶＤ法は、考えられるポリマー基体の融点より上の反応室温度を必要とする ので、通常は避けるべきである。しかしながら、反応室温度を、ポリマー基体に 害を加えない温度に保つことができるならば、もちろんＰＶＤ法を本発明で用い てもよい。 当業者には明らかなように、遮断被覆のための源の材料は、用いる蒸着法のタ イプによる。ＰＶＤ法では通常、源材料は遮断被覆として付着させる化学成分と 同じである。例えば、固体ＳｉＯ_x源を反応室に置いて蒸発させ、その後ＳｉＯ_x 被覆として基体上に付着させる。 好ましい方法であるＣＶＤ法では、源材料は被覆として付着させる化学成分と 同じではない。例えば、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）および酸素（ Ｏ₂）のような気体反応体を反応室に入れて反応させ、その後、ＳｉＯ_x被覆を基 体上に施す。すなわち、主な気体反応体、例えばＨＭＤＳＯが分解して所望の被 覆を基体上に形成する。 ＣＶＤ被覆法が好ましいので、遮断被覆のための源材料は気体反応体または気 体反応体の混合物が好ましい。あるいは、気体状態に変換する、例えば気化また は昇華することができるならば、非気体源材料を用いてもよい。 非晶質炭素被覆を付着させるには気体反応体として炭素源が必要である。気体 反応体は１〜２０個の炭素原子を有する炭化水素であるのが好ましい。アセチレ ンはそのような好ましい気体反応体の１つである。 同様に、ＳｉＯ_x（１≦ｘ≦２）の付着には、珪素含有化合物および酸化剤が 気体反応体として必要である。これらの珪素含有化合物の例は、シラン、シロキ サンおよびシラノールであるが、これらに限定されない。ヘキサメチルジシロキ サンおよびテトラエトキシルーシラン（ＴＥＯＳ）はそのような好ましい気体反 応体の２つである。酸化剤には、分子酸素（Ｏ₂）および酸化窒素（Ｎ₂Ｏ）が含 まれるが、これらに限定されない。しかしながら、原子酸素のための他の源も容 易に用いることができる。 アルミニウム酸化物被覆の付着には、アルミニウム含有化合物および酸化剤が 必要である。アルミニウム含有化合物の例は塩化アルミニウム（ＡｌＣｌ₃）で ある。酸化剤は、ＳｉＯ_x被覆の付着について前に記載したものと同じでよい。 全般的に、特定の遮断被覆を選択したら、当業者であれば、遮断被覆を蒸着す るのに必要な気体反応体は容易に突きとめることができる。 気体反応体を反応室に導入すると、主な基体反応体は分解するか、あるいは他 の気体反応体と反応し、その後、露出高エネルギー面上に遮断被覆として付着す る。この被覆の厚さは１０〜５０００オングストローム、好ましくは１００〜２ ０００オングストロームである。被覆の厚さは主に付着させる時間による。 本発明で利用するプラズマは、第１電極へ一次高周波を加えることによって発 生させるのが好ましい。この高周波は室を通って流れる気体混合物を励起し、こ れによってプラズマを形成する。この気体混合物は、上記気体反応体、例えばア セチレンまたはＴＥＯＳおよび酸素、並びに不活性または貴ガス、例えばアルゴ ンまたはヘリウムの混合物であるのが好ましい。 蒸着、より具体的にはＰＥＣＶＤに合った装置は周知であり、商業的に入手し うる。そのような装置は一般に、基体を受け入れる大きさの室を含む。装置はさ らに、室の排気を行うための真空ポンプ、制御条件下で気体混合物を室へ導入す るための手段、および室内にプラズマを発生させるための手段を含む。 特に好ましい態様の１つでは、プラズマ発生手段は、反応室に独立した２つの エネルギー源を導入するのに用いうる、間隔をおいた第１および第２電極を含む 。１３．５６ＭＨｚの一次高周波を第１電極に加え、９０〜４５０ＫＨｚの二次 高周波を第２電極へ加える。室は両高周波のための接地用導体として働くのが好 ましい。 一次周波はプラズマを発生し（気体混合物の励起による）、二次周波は、付着 被覆材料の分子の励起によって高エネルギー面上への炭素の付着を容易にすると 考えられる。この理論的根拠は、この二次高周波を加えると、プラズマに目に見 える変化が観察される事実によって確認される。 プラズマを発生する他の手段も考えられる。例えば、２．４５ＧＨｚのような マイクロ波範囲の一次周波も利用することができる。さらに、レーザーのような 光の手段を用いて気体混合物を励起することもできる。磁石を用いて被覆材料を 基体に向かわせる助けをすることもできる。 室は、被覆されるポリマー基体を支持するための基体ホルダープレートも含む 。この基体ホルダープレートは第２電極と一体になっているのが好ましい。さら に、基体ホルダープレートは平らなまたは弓形の支持面を含んでいてもよい。弓 形支持面を用いると本発明の商業生産が容易になると考えられる。実施例１ ２枚の非晶質炭素被覆対照フィルムを製造した。約２７．９４ｃｍ（１１”） 長さ×３９．３７ｃｍ（１５．５”）幅の厚さ１ミルの延伸ポリプロピレンフィ ルムを、第２電極に取り付けた長さ約２５．４ｃｍ（１０”）×幅３９．３７ｃ ｍ（１５．５”）の基体ホルダープレート上に置いた。基体ホルダープレートは 曲率半径が１０１．６ｃｍ（４０”）の弓形面を含む。フィルムをホルダーに固 定できるように、フィルムはそのようなフィルムの長さに沿って基体ホルダープ レートの上にかかっている。 室はポンプで１ミリトルにした。次に、アセチレン／アルゴン気体混合物を１ ００ｓｃｃｍの流速で室に導入した。混合物の７０％はアセチレンであった。室 内の圧は、真空ポンプの入り口にあるゲート弁を用いることによって、１００ミ リトルの反応圧に高めた。１００ワットの電力レベルで１３．５ＭＨｚの一次周 波を第１電極に加え、２５ワットの電力レベルで９５ｋＨｚの二次周波を第２電 極に加えた。 基体を約３００秒間被覆した。その後、気体混合物を除き、室を再びポンプで １ミリトルにした。次に、乾燥窒素ガスをブリードすることによって室の真空を 破り、各被覆基体を取り出した。 その後、２枚の対照フィルムを試験した。第１の対照フィルムは、酸素透過度 （ＴＯ₂）が２３℃、相対湿度０％で０．４ｃｃＯ₂／６４５．１６ｃｍ²（１０ ０ｉｎ²）／気圧／２４時間、そして水蒸気透過度（ＷＶＴＲ）が３７．８℃（ １００°Ｆ）、相対湿度９０％で０．０２ｇ Ｈ₂Ｏ／６４５．１６ｃｍ²（１０ ０ｉｎ²）／気圧／２４時間であった。第２の対照フィルムは、酸素透過度が２ ３℃、相対湿度０％で０．６ｃｃＯ２／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気 圧／２４時間、そして水蒸気透過度（ＷＶＴＲ）が３７．８℃（１００°Ｆ）、 相対湿度９０％で０．０９ｇ Ｈ₂Ｏ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧 ／２４時間であった。 従って、平均対照酸素透過度は２３℃、相対湿度０％で０．５ｃｃＯ₂／６４ ５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２４時間、そして平均対照水蒸気透過度 は３７．８℃（１００°Ｆ）、相対湿度９０％で０．０５５ｇＨ₂Ｏ／６４５． １６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２４時間であった。実施例２ 本発明の非晶質炭素被覆遮断フィルムを、非晶質ナイロンとポリプロピレンと を同時押し出しし、その後、２軸延伸することによって製造した、ベースシート を利用して製造した。デュポンナイロンＰＡ−３４２６の樹脂ペレットを、アト マーＱＦ−５００Ａのタイ層と共に用いた。延伸フィルムの厚さは約１ミルであ り、非晶質ナイロン層はフィルム全体の厚さの約６％、すなわち０．０６ミルで あった。 約２７．９４ｃｍ（１１”）長さ×３９．３７ｃｍ（１５．５”）幅のポリマ ー試料を、実施例１に記載の第２電極に取り付けた基体ホルダープレート上に置 いた。 室はポンプで１ミリトルにした。次に、アセチレン／アルゴン気体混合物を６ ０ｓｃｃｍの流速で室に導入した。混合物の約８３％はアセチレンであった。室 内の圧は、真空ポンプの入り口にあるゲート弁を用いることによって、１００ミ リトルの反応圧に高めた。１００ワットの電力レベルで１３．５ＭＨｚの一次周 波を第１電極に加え、２５ワットの電力レベルで９５ｋＨｚの二次周波を第２電 極に加えた。 基体を約６０秒間被覆した。その後、気体混合物を除き、室を再びポンプで１ ミリトルにした。次に、乾燥窒素ガスをブリードすることによって室の真空を破 り、各被覆基体を取り出した。 その後、ポリマー試料を試験した。試料フィルムは、酸素透過度が２３℃、相 対湿度０％で０．４２ｃｃＯ₂／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２ ４時間、そして水蒸気透過度が３７．８℃（１００°Ｆ）、相対湿度９０％で０ ．０２４ｇＨ₂Ｏ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２４時間であっ た。 追加ポリマー試料を様々な試験条件下で製造した。全ポリマー試料、すなわち 、試料１〜８の測定結果を表１に示す。 ＴＯ₂： ２３℃、相対湿度０％でのｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ² ）／気圧／２４時間 ＷＶＴＲ： ３７．８℃（１００°Ｆ）、相対湿度９０％でのｇ／６４５．１ ６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２４時間 流れ： 標準立方センチメートル（ｓｃｃｍ） 上の試験データから、炭素を非晶質ナイロン層の露出高エネルギー面上に付着 させることによって、遮断フィルムを製造しうることは容易に明らかである。そ のような遮断フィルムの製造速度を約１０倍速めることができること、すなわち 、被覆時間が約３００秒から１５〜６０秒に短縮されることは特に有意である。 得られるフィルムの酸素透過度を著しく下げ、同時に水透過レベルを改善または 最小限に維持することも有意である。実施例３ 実施例１に記載の素材１ミルＯＰＰフィルム材料を用いて、ＳｉＯ_x（１≦ｘ ≦２）対照フィルムを製造した。被覆工程の後、フィルム試料を酸素および水蒸 気透過について試験した。ＳｉＯ_x被覆フィルムは、酸素透過度が２３℃、相対 湿度０％で１．５４ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２４時間 （以後、温度および湿度条件を省いて、ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ² ）／気圧／２４時間と記す）、そして水蒸気透過度が３７．８℃（１００°Ｆ） 、相対湿度９０％で０．０６ｇ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２ ４時間（以後、温度および湿度条件を省いて、ｇ／６４５．１６ｃｍ² （１００ｉｎ²）／気圧／２４時間と記す）であった。実施例４ 実施例２に記載の素材非晶質ナイロン−ＯＰＰフィルム材料を用いて、本発明 のＳｉＯ_x（１≦ｘ≦２）被覆フィルムを製造した。反応パラメーターおよび被 覆時間は実施例３と同じであった。被覆工程の後、フィルム試料を酸素および水 蒸気透過について試験した。ＳｉＯ_x被覆フィルムは、酸素透過度が０．１３ｃ ｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２４時間、そして水蒸気透過度 が０．０７ｇ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２４時間であった。 実施例３および４の結果から、非晶質ナイロン層によってもたらされるような 高エネルギー面を用いると、無機酸化物のような他の蒸着被覆に適用しうること は容易に明らかである。特に、遮断フィルムの酸素透過性は非晶質ナイロンスキ ンの使用により１０倍低下する。実施例３におけるＳｉＯ_x被覆ＯＰＰフィルム の酸素透過度は１．５４ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２４ 時間であった。他方、実施例４におけるＳｉＯ_x被覆非晶質ナイロン−ＯＰＰフ ィルムの酸素透過度は０．１３ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧 ／２４時間であった。従って、実施例３および４は、反応パラメーターが一定の とき、高い遮断特性を有する遮断フィルムが得られることを示している。 実施例３および４の結果はまた、非晶質ナイロン相の高エネルギー面によって 生じる相乗効果も示している。この効果は、ＯＰＰフィルム対非晶質ナイロン− ＯＰＰフィルムの酸素透過度の減少の大きさを比較すると分かる。素材ＯＰＰフ ィルムの酸素透過度は１００ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／ ２４時間であり、ＳｉＯ_x被覆を施した後は１．５４ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（ １００ｉｎ²）／気圧／２４時間に減少した。素材非晶質ナイロン−ＯＰＰフィ ルムの酸素透過度は５０．５ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／ ２４時間であり、ＳｉＯ_x被覆を施した後は０．１３ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（ １００ｉｎ²）／気圧／２４時間に減少した。つまり、ＯＰＰフィルムは約６５ 倍の酸素透過度の減少を示した。非晶質ナイロン−ＯＰＰフィルムは約３８８倍 の酸素透過度の減少を示した。すなわち、非晶質ナイロン層の高エネルギ ー面は、下にあるポリマー材料を直接被覆することによって得られるよりも、透 過性が約６００％少ない遮断被覆の付着を容易にした。実施例５ 非晶質炭素被覆対照フィルムを、実施例２に記載の素材非晶質ナイロン−ＯＰ Ｐ材料を用いて製造して、本発明のＥＶＯＨ態様に対する標準とした。全般的に 、４枚のフィルム試料からなる２組を、実施例２の手順に従って非晶質炭素被覆 で被覆した。１組の非晶質ナイロン−ＯＰＰ試料は約２２．５秒間被覆した。他 の組の非晶質ナイロン−ＯＰＰ試料は約１１．２５秒間被覆した。 その後、試料を酸素および水蒸気透過性について試験した。平均２２．５秒間 被覆した試料の平均酸素透過度は０．０７０ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ ｉｎ²）／気圧／２４時間、平均水蒸気透過度は０．０１５ｇ／６４５．１６ｃ ｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２４時間であった。１１．２５秒間被覆した試料の 平均酸素透過度は０．２１０ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／ ２４時間、平均水蒸気透過度は０．１００ｇ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ² ）／気圧／２４時間であった。実施例６ 本発明のＥＶＯＨ態様による非晶質炭素被覆フィルムを、ＥＶＯＨ樹脂とポリ プロピレンとを同時押し出ししてベースシートを形成し、その後、２軸延伸する ことによって製造した。ＥＶＡＬ ＥＶＯＨ樹脂、ＥＣＧ−１５６ｂの樹脂ペレ ットを、アトマーＱＦ−５００Ａのタイ層と共に用いた。延伸フィルムの厚さは 約１ミルであり、そのうちＥＶＯＨ層はフィルム全体の厚さの約６％、すなわち ０．０６ミルであった。全般的に、ＥＶＯＨ−ＯＰＰフィルムの４枚のフィルム 試料からなる２組を、非晶質炭素被覆で被覆した。反応パラメーターは実施例５ で用いたのと同じであった。実施例５におけるように、２組の試料を各々２２． ５および１１．２５秒間被覆した。 その後、ポリマー試料を試験した。２２．５秒間被覆した試料の平均酸素透過 度は０．０２０ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２４時間、平 均水蒸気透過度は０．０１３ｇ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２ ４時間であった。１１．２５秒間被覆した試料の平均酸素透過度は０．１９ ０ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２４時間、平均水蒸気透過 度は０．１６０ｇ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ²）／気圧／２４時間であっ た。 実施例５および６の結果から分かるように、非晶質炭素で被覆したＥＶＯＨ− ＯＰＰフィルムの遮断性は、非晶質ナイロン−ＯＰＰ試料より良好でなければ、 これと同等であった。例えば、被覆ＥＶＯＨ−ＯＰＰフィルムの酸素透過度は、 事実、非晶質ナイロン−ＯＰＰ試料の酸素透過度より良好であった。２２．５お よび１１．２５秒間被覆した後の非晶質ナイロン−ＯＰＰ試料の平均酸素透過度 は、各々、０．０７０および０．２１０ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（１００ｉｎ² ）／気圧／２４時間であった。 ２２．５および１１．２５秒間被覆した後のＥＶＯＨ−ＯＰＰフィルムの平均 酸素透過度は、各々、０．０２０および０．１９０ｃｃ／６４５．１６ｃｍ²（ １００ｉｎ²）／気圧／２４時間であった。従って、実施例５および６の結果は 、ＥＶＯＨ樹脂も本発明で用いうることを示している。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 遮断特性を有するポリマーフィルムの製造方法であって、 有機被覆および無機被覆よりなる群から選択される遮断被覆を、エチレンビニ ルアルコールコポリマー層の露出面上に蒸着させること、ここで、エチレンビニ ルアルコールコポリマー層は、ポリプロピレン、２軸ナイロン、ポリエステルお よびポリエチレンよりなる群から選択される材料で形成されるポリマー基体に接 着させる を含む上記の方法。 ２． 有機被覆が非晶質炭素被覆であり、無機被覆がＳｉＯ_x（ｘは１≦ｘ≦２ である）、Ａｌ₂Ｏ₃およびそれらの混合物よりなる群から選択される、請求項１ に記載の方法。 ３． 遮断特性を有するポリマーフィルムの製造速度を速める方法であって、 少なくとも１つの露出面を有するエチレンビニルアルコールコポリマー層を、 ポリプロピレン、２軸ナイロン、ポリエステルおよびポリエチレンよりなる群か ら選択される材料で形成されるポリマー基体に接着すること、 有機被覆および無機被覆よりなる群から選択される遮断被覆を、エチレンビニ ルアルコールコポリマー層の露出面上に蒸着させること を含む上記の方法。 ４． 有機被覆が非晶質炭素被覆であり、無機被覆が無機酸化物被覆としてのＳ ｉＯ_x（ｘは１≦ｘ≦２である）、Ａｌ₂Ｏ₃およびそれらの混合物よりなる群か ら選択される、請求項３に記載の方法。 ５． ポリマー基体；基体の一方の側にあるエチレンビニルアルコールコポリマ ー層；およびポリマー基体とは反対のエチレンビニルアルコールコポリマー層の 側上の蒸着遮断被覆を含む、遮断特性を有する多層ポリマーフィルム。 ６． ポリマー基体が、ポリプロピレン、２軸ナイロン、ポリエステルおよびポ リエチレンよりなる群から選択される材料で形成されている、請求項５に記載の 多層ポリマーフィルム。 ７． 遮断被覆が有機被覆および無機被覆よりなる群から選択されている、請求 項５または６に記載の多層ポリマーフィルム。 ８． 有機被覆が非晶質炭素被覆であり、無機被覆がＳｉＯ_x（ｘは１≦ｘ≦２ である）、Ａｌ₂Ｏ₃およびそれらの混合物よりなる群から選択されている、請求 項７に記載の多層ポリマーフィルム。 ９． 遮断被覆の厚さが１０〜５０００オングストロームである、請求項５、６ 、７または８に記載の多層ポリマーフィルム。